JP5750401B2 - 液流式布帛処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、布帛に対して各種処理を行うための液流式布帛処理装置に関する。

従来から、布帛に対して染色や洗浄等の各種処理を行うための布帛処理装置として、液流式布帛処理装置が公知である（例えば、特許文献１参照）。

かかる液流式布帛処理装置は、図１０に示す如く、入口部５００と出口部５０１とを有する滞留槽５０と、滞留槽５０の入口部５００と出口部５０１とを繋ぐ移送管５１であって、滞留槽５０とともに循環経路を構成する移送管５１とを備える。

滞留槽５０は、横長に形成された槽本体５０２であって、長手方向に第一端部と反対側の第二端部とを有する槽本体５０２と、槽本体５０２の第一端部に連設される入口部５００と、槽本体５０２の第二端部に連設される出口部５０１とを有する。

槽本体５０２の第一端部と第二端部との間には、染色液や洗浄液等の処理液Ｗを滞留させる処理液滞留領域Ａが形成される。処理液Ｗは、処理の内容に応じた必要な成分が水等の液体で希釈されることで作製される。かかる成分の総量（総成分量）は、処理の対象となる布帛Ｃの量に対応して決定される。

入口部５００及び出口部５０１は、槽本体５０２の下部側に設けられ、下方に向けて開放している。出口部５０１には、処理液Ｗ（染色液や洗浄液）を吐出させるノズル５０３が内装されている。

これに伴い、液流式布帛処理装置５は、ノズル５０３に処理液Ｗを供給する給液系統５２を備える。給液系統５２は、槽本体５０２の処理液滞留領域Ａと対応する位置と出口部５０１のノズル５０３と対応する位置とを繋いでいる。給液系統５２は、滞留槽５０内の処理液Ｗをノズル５０３に向けて送り出すポンプＰや、流通する処理液Ｗを加熱又は冷却するための熱交換器ＨＥを備える。これにより、給液系統５２は、処理液Ｗを熱交換（加熱又は冷却）した上でノズル５０３に供給する。

そして、布帛Ｃを処理するに当り、長尺な布帛Ｃが滞留槽５０及び移送管５１に挿通された上で、該布帛Ｃの両端が連結される。これにより、長尺な布帛Ｃが循環経路を辿ってループ状にされる。なお、槽本体５０２の第二端部には、布帛Ｃを移送及び誘導するためのリール５０４が内装されており、槽本体５０２に挿通される長尺な布帛Ｃは、槽本体５０２の第二端部内においてリール５０４に掛けられている。

そして、液流式布帛処理装置５は、処理液滞留領域Ａ（処理液Ｗ中）の布帛Ｃをリール５０４によって引き上げつつ、リール５０４から出口部５０１に向けて垂れ下がる布帛Ｃに向けてノズル５０３から処理液Ｗを吐出させることで、処理液滞留領域Ａ内の布帛Ｃを順々に移送管５１に送り込むようになっている。また、液流式布帛処理装置５は、移送管５１を流通する処理液Ｗ（ノズル５０３からの処理液Ｗ）の流れによって、移送管５１内の布帛Ｃを順々に滞留槽５０へ送り込むようになっている。そして、液流式布帛処理装置５は、処理液滞留領域Ａの処理液Ｗが所定の液位ＷＬを保つことで、布帛Ｃが滞留槽５０内の処理液Ｗに浮遊しつつ（滞留しつつ）下流側（リール５０４側）に移送されるようになっている。

これにより、上記構成の液流式布帛処理装置５は、滞留槽５０及び移送管５１（循環経路）でループ状の布帛Ｃを循環させる。このように、布帛Ｃが滞留槽５０内の処理液Ｗ中で滞留するため、この種の液流式布帛処理装置５は、布帛Ｃに対して滞留槽５０内の処理液Ｗを付着させる機会が十分に得られ、染色や洗浄等の布帛処理を効率的に行うことができる。

そして、この種の液流式布帛処理装置５は、布帛Ｃに対して染色や洗浄以外の加工を施す際にも用いられる。すなわち、この種の液流式布帛処理装置５は、布帛Ｃに対する処理に応じた処理液Ｗを用いることで、ユーザーニーズに応じた処理が可能である。

特開２００２−１０５８４２号公報

ところで、処理液Ｗには、成分濃度が高濃度にされると、処理中に布帛Ｃを汚してしまうものがある。特に、防炎加工を目的とする処理液Ｗは、含有成分（薬品）の特性上、布帛Ｃの汚れの発生を顕著にしてしまう。

そのため、この種の処理液Ｗを用いる場合、成分濃度を低濃度にする必要がある。しかしながら、必要な成分の総量を変えることなく成分濃度を低濃度にすると、成分を希釈する水等の液体量が多くなる。そのため、処理液Ｗの総量が多くなってしまい、槽本体５０２内（処理液滞留領域Ａ）内での布帛Ｃの移送が阻害されてしまう。

すなわち、上記構成の液流式布帛処理装置５は、処理液滞留領域Ａの液位ＷＬが所定の液位であるときに、布帛Ｃが処理液Ｗに浮遊しつつ順々に下流側に移送される。しかしながら、処理液Ｗの総量が多くなって処理液滞留領域Ａの液位ＷＬが高くなると、移送管５１から順々に送り込まれる布帛Ｃが先行する布帛Ｃに対して乗り越えたり、処理液Ｗ中で絡み付いたりする傾向にある。そのため、上述の如く、処理液Ｗを低濃度にすることで処理液Ｗの総量が多くなると、滞留槽５０内での布帛Ｃの移動が阻害され、適正な処理を行うことができなくなってしまう。

このような観点から、処理液Ｗの総量を少なくし、処理液滞留領域Ａの液位ＷＬを適正な液位にすることで、布帛Ｃの移動を円滑にすることも考えられる。しかしながら、上述の如く、処理液Ｗの含有する成分の総量は、処理の対象となる布帛Ｃの総量に対応して決定される。そのため、処理液Ｗの総量を少なくすると、処理液Ｗに含まれる成分の総量が少なくなる結果、布帛Ｃの処理量が減ってしまい、生産性が悪くなってしまう。

そこで、本発明は、斯かる実情に鑑み、成分濃度が低濃度の処理液で処理を行っても、布帛の処理量を減らすことなく、布帛に対して適正な処理を行うことのできる液流式布帛処理装置を提供することを課題とする。

本発明に係る液流式布帛処理装置は、第一端部と反端側の第二端部とを有する槽本体であって、第一端部と第二端部との間に処理液を滞留させる処理液滞留領域を有する槽本体と、該槽本体の第一端部に連設された入口部と、前記槽本体の第二端部に連設された出口部であって、処理液を吐出させるノズルが内装された出口部とを有する滞留槽と、該滞留槽の前記入口部と前記出口部とを繋ぐ移送管と、前記処理液滞留領域内の処理液を前記ノズルに供給する給液系統であって、前記槽本体と前記ノズルとを繋ぐ給液系統とを備え、前記ノズルから吐出された処理液によって前記槽本体及び前記移送管に挿通された布帛を循環移送させるように構成された液流式布帛処理装置において、前記給液系統は、処理液を貯める貯液部であって、前記槽本体から前記ノズルに至る流体の流通経路上に設けられた貯液部を備えていることを特徴とする。

上記構成の液流式布帛処理装置によれば、ノズルから処理液を吐出させることで、処理液滞留領域内の布帛が出口部から移送管に送り込まれ、移送管を流通する処理液（ノズルからの処理液）の流れによって、移送管内の布帛が入口部から槽本体に送り込まれる。そして、槽本体に送り込まれた布帛は、滞留槽内（処理液滞留領域）の処理液に浮遊しつつ下流側に移送される。すなわち、布帛は、滞留槽内の処理液で滞留しつつも順々に下流側に移送される。従って、上記構成の液流式布帛処理装置は、布帛が滞留槽内の処理液中で滞留することになるため、布帛に対して処理液を付着させる機会が十分に得られ、各種処理を効率的に行える。

そして、上記構成の液流式布帛処理装置の給液系統は、貯液部を備えているため、貯液部に貯められる処理液が、処理に使用可能な処理液（布帛の処理時に装置内で循環する処理液）の総量を多くする。すなわち、貯液部に処理液が貯められる分、従来のものに比して、布帛の処理に使用可能な処理液が多くなる。従って、上記構成の液流式布帛処理装置は、貯液部に貯められる処理液の液量（増量分）に対応して含有成分が希釈された処理液を使用できる。すなわち、上記構成の液流式布帛処理装置は、布帛の処理量に応じて決定される処理液の含有成分の総量を減らすことなく、含有成分の濃度を低濃度にした処理液を使用することができる。これにより、上記構成の液流式布帛処理装置は、低濃度の処理液を使用しても、処理液の総量に含まれる含有成分の総量を減らす必要がないため、処理の対象となる布帛の総量を減らす必要もない。

そして、多くなった分の処理液が滞留槽から離れた貯留部に貯められるため、滞留槽（処理液滞留領域）内の処理液の液位は、処理液の総量（増量）に影響を受けることなく布帛の移送に適した液位に保たれる。これにより、成分濃度を低濃度にすることで総量が多くなった処理液で布帛を処理する場合であっても、処理液滞留領域内の処理液に浮遊する布帛がスムーズに下流側に移送される。

従って、上記構成の液流式布帛処理装置は、布帛に対する処理に応じた処理液（低濃度の処理液）を用いてユーザーニーズに応じた処理を行う場合であっても、布帛の処理量を減らすことなく適正に処理を行うことができる。

本発明の一態様として、前記給液系統は、前記槽本体の前記処理液滞留領域と対応する位置と前記出口部の前記ノズルと対応する位置とを繋ぐ主配管と、該主配管における前記出口部側の一箇所と前記槽本体側の一箇所とを繋ぐバイパス配管とを備え、前記バイパス配管の少なくとも一箇所に前記貯液部が設けられ、前記バイパス配管での処理液の流通を遮断した状態と、前記主配管の前記二箇所の間を遮断する一方で、前記バイパス配管での処理液の流通を許容した状態とに切り替え可能に構成される、ようにし得る。

このようにすれば、処理液の総量を異にする処理を行うことができる。より具体的には、バイパス配管での処理液の流通を遮断した状態になると、処理液滞留領域の処理液は給液系統のうちの主配管のみを流通してノズルに供給される。従って、この状態において、処理液の総量は、滞留槽（処理液滞留領域）、移送管、及び給液系統のうちの主配管で流通する量となる。これに対し、主配管の前記二箇所の間を遮断する一方で、バイパス配管での処理液の流通を許容した状態になると、処理液滞留領域の処理液は給液系統のうちの主配管、及び貯液部を備えたバイパス配管を流通してノズルに供給される。従って、この状態において、処理液の総量は、滞留槽（処理液滞留領域）、移送管、及び給液系統のうちの主配管で流通する液量に対して、貯液部に貯められる処理液を含めたバイパス配管で流通する液量を加えた量となる。従って、多量の処理液を必要とする処理と、それよりも少ない量の処理液で行う処理とを行うことができる。これにより、少ない量の処理液による処理を行うときに、必要以上の処理液を投入する必要がない。従って、処理液にかかるコストを抑えることができる。

この場合、前記バイパス配管が一系統で構成されるとともに、該バイパス配管の二箇所以上に前記貯液部が設けられ、前記給液系統は、前記貯液部の数に応じた数で設けられる分岐配管であって、前記バイパス配管における前記貯液部間と、前記バイパス配管における前記貯液部よりも前記主配管の前記出口部側に繋がる側の部位とを繋ぐ分岐配管を備え、前記処理液の流通経路を、前記バイパス配管及び前記分岐配管を通る経路と、前記バイパス配管のみを通る経路とに切り替え可能に構成される、ようにしてもよい。

このようにすれば、主配管の前記二箇所の間を遮断し、バイパス配管での処理液の流通を許容した状態で、処理液の流通経路を、バイパス配管及び分岐配管を通る経路と、バイパス配管のみを通る経路とに切り替えることで、バイパス配管に流れ込んだ処理液が流通する貯液部の数を変えることができる。これにより、処理液が通過する貯液部の数に応じて、布帛に対する処理を行うときの処理液の総量を変えることができる。すなわち、多量の処理液で処理する場合においても、そのうちの少ない量の処理液による処理と、多い量の処理液による処理とを行うことができる。

本発明の他態様として、前記貯液部よりも上流側にある前記バイパス配管に接続された排液管路であって、途中位置に開閉弁が設けられた排液管路を備え、前記給液系統は、前記排液管路との接続位置よりも上流側にある前記バイパス配管上に開閉弁が設けられるとともに、前記主配管の前記バイパス配管の接続位置よりも下流側に別の開閉弁が設けられる、ようにしてもよい。

このようにすれば、バイパス配管上の開閉弁及び主配管上の別の開閉弁を閉じた上で、排液配管の開閉弁を開いた状態にすると、処理液滞留領域からの処理液が布帛に対して処理を行うときとは逆向きにバイパス配管を流通して排液管路から排出される。従って、布帛に対する処理の完了後に、このようにすることで使用済みの処理液でバイパス配管（貯液部）を洗浄することができる。

本発明の別の態様として、前記貯液部は、横長に形成され、長手方向に前記バイパス配管の上流側に繋がる第一端部と、前記バイパス配管の下流側に繋がる第二端部とを有し、第二端部を第一端部よりも高い位置にして配置されている、ようにし得る。

このようにすれば、貯液部の第一端部側から処理液が供給され、貯液部内の液位が高くなるにつれて貯液部内の気体が高い位置にある第二端部に向けて移動する。従って、供給される処理液によって貯液部内の気体を追い出すことができ、貯液部内を処理液で充満させることができる。これにより、貯液部が汚れにくくなる。また、上述のように、処理液を逆流させて貯液部内を洗浄するようにした場合には、貯液槽の第二端部側に流れ込んだ処理液が第一端部と第二端部の高低差によって第一端部側に流れる。従って、貯液部内に付着した不純物等を液体とともに効率的に流し出すことができる。

以上のように、本発明によれば、成分濃度が低濃度の処理液で処理を行っても、布帛の処理量を減らすことなく、布帛に対して適正な処理を行うことができるという優れた効果を奏し得る。

図１は、本発明の一実施形態に係る液流式布帛処理装置の概要図である。 図２は、同実施形態の液流式布帛処理装置による標準処理、第一増液処理、及び第二増液処理の前段階の状態であって、滞留槽（槽本体）に処理液を供給する際の状態概要図である。 図３は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、標準処理中の状態概要図である。 図４は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第一増液処理を行うために処理液を液流式布帛処理装置に供給する際の状態概要図である。 図５は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第一増液処理中の状態概要図である。 図６は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第一増液処理後の排液中の状態概要図である。 図７は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第二増液処理を行うために処理液を液流式布帛処理装置に供給する際の状態概要図である。 図８は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第二増液処理中の状態概要図である。 図９は、同実施形態の液流式布帛処理装置の概要図に対して処理液の流れとして矢印を付加した状態概要図であって、第二増液処理後の排液中の状態概要図である。 図１０は、従来の液流式布帛処理装置で布帛の処理を行う際の処理液の流れを矢印で示した概要図である。

以下、本発明の一実施形態に係る液流式布帛処理装置について、添付図面を参照しつつ説明する。

本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、図１に示す如く、滞留槽１と、移送管２と、給液系統３とを備える。

滞留槽１は、第一端部と該第一端部の反端側の第二端部とを有する槽本体１０であって、第一端部と第二端部との間に処理液Ｗを滞留させる処理液滞留領域Ａを有する槽本体１０と、槽本体１０の第一端部に連設された入口部１１と、槽本体１０の第二端部に連設された出口部１２とを備える。

槽本体１０は、一方向に長手をなす胴部１００であって、長手方向に第一端部と該第一端部の反対側の第二端部とを有する筒状の胴部１００と、胴部１００の第一端部を閉塞する閉塞部１０１と、胴部１００の第二端部を閉塞可能な開閉扉１０２とを備える。

本実施形態において、胴部１００は、第一端と該第一端部の反端側の第二端とを有する筒状の本体部１００ａと、第一端と該第一端部の反端側の第二端とを有し、第一端から第二端に向けて縮径した接続部１００ｂであって、本体部１００ａに対して傾斜した状態で、第一端が本体部１００ａの第一端に連結された接続部１００ｂと、第一端と該第一端部の反端側の第二端とを有する筒状のヘッド部１００ｃであって、接続部１００ｂと同心又は略同心になるように、第一端が接続部１００ｂの第二端に連結されたヘッド部１００ｃとを備える。

本体部１００ａ、接続部１００ｂ及びヘッド部１００ｃは、連続した内部空間を形成する。槽本体１０は、ヘッド部１００ｃが斜め上方に延出するように、本体部１００ａを横臥させた状態で配置される。これにより、本体部１００ａ内の下部の領域に処理液Ｗを貯留（滞留）可能な処理液滞留領域Ａが形成されている。

閉塞部１０１は、プレート状に形成され、胴部１００の第一端（本体部１００ａの第二端）を液密に閉塞している。開閉扉１０２は、胴部１００の第二端（ヘッド部１００ｃの第二端）を開放させた状態と、胴部１００の第二端（ヘッド部１００ｃの第二端）を封止した状態とに切り替え可能に設けられる。

そして、槽本体１０の第二端部（ヘッド部１００ｃ）内には、布帛Ｃを移送及び誘導するためのリール１０３が内装されている。リール１０３は、ヘッド部１００ｃの軸線と直交して横方向に延びる軸回りで回転可能に構成される。リール１０３は、図示しない電動モータによって回転駆動するようになっている。

槽本体１０は、布帛Ｃを案内するためのガイド部材１０４，１０５，１０６を備える。より具体的に説明すると、槽本体１０は、本体部１００ａの第二端側に配置される第一ガイド部材１０４であって、入口部１１近傍から出口部１２側に向けて先下りに傾斜した状態で配置される第一ガイド部材１０４と、本体部１００ａと接続部１００ｂとに跨って配置された第二ガイド部材１０５であって、本体部１００ａ側から接続部１００ｂ側に向けて先上がりに傾斜した状態で配置される第二ガイド部材１０５と、第一ガイド部材１０４の上方側に配置された第三ガイド部材１０６とを備える。

第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５は、槽本体１０内の下部に配置される。第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５は、板状に形成される。第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５は、処理液Ｗの流通を許容するために多数の貫通穴を有する。すなわち、第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５は、処理液Ｗが通過可能となるように、パンチングメタルや網材で構成される。なお、第三ガイド部材１０６は、入口部１１から進入してくる布帛Ｃの移動方向を矯正し、布帛Ｃを処理液滞留領域Ａに誘導するようになっている。

槽本体１０における本体部１００ａの下部には、給液系統３が流体的に接続されている。本実施形態においては、槽本体１０における本体部１００ａの下部の二箇所に対し、給液系統３の後述する集液配管３２０が流体的に接続されている。すなわち、本体部１００ａの下部の二箇所であって、第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５の配置に対応する二箇所に対し、集液配管３２０が接続される。このように、第一ガイド部材１０４及び第二ガイド部材１０５の配置に対応させて集液配管３２０が接続されることで、処理液滞留領域Ａの処理液Ｗが集液配管３２０に流れ込むときに、布帛Ｃが処理液Ｗと一緒に集液配管３２０に流れ込むことが防止される。

入口部１１及び出口部１２のそれぞれは、筒状に形成される。入口部１１は、槽本体１０の第一端部（本体部１００ａの第二端部）の下部から外方に延出している。より具体的には、入口部１１は、第一端部及び第二端部を有し、本体部１００ａを内外に貫通している。これにより、入口部１１は、第一端部を本体部１００ａ内に位置させるとともに、第二端部を本体部１００ａの外部に位置させている。

出口部１２は、槽本体１０の第二端部（ヘッド部１００ｃ）の下部から外方に延出している。より具体的には、出口部１２は、第一端及び第二端を有し、第一端がヘッド部１００ｃの下面に接続されている。これにより、出口部１２はヘッド部１００ｃから下方側に延出している。

出口部１２には、ノズル１０７が内装されている。これに伴い、出口部１２の外周上に、給液系統３が接続されている。ノズル１０７は、給液系統３から出口部１２内に供給された処理液Ｗを出口部１２内の中央斜め下方に向けて高速で吐出させるように構成される。すなわち、ノズル１０７は、出口部１２の中心回りの略全周から、出口部１２の第二端側の中央に向けて高速で吐出させるように構成されている。

移送管２は、槽本体１０の下方に配置される。より具体的には、移送管２は、槽本体１０（本体部１００ａ）の下方で横方向に延びる主管部２０であって、長手方向に第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する主管部２０と、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する第一起立管部２１であって、第一端が主管部２０の第一端に接続されるとともに、第二端が入口部１１に接続された第一起立管部２１と、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する第二起立管部２２であって、第一端が主管部２０の第二端に接続されるとともに、第二端が出口部１２に接続された第二起立管部２２とを含む。主管部２０と第一起立管部２１との接続部分、及び主管部２０と第二起立管部２２との接続部分は、丸みをもって形成される。すなわち、移送管２は、布帛Ｃを移送する管路であるため、途中位置に角部を形成することなく入口部１１と出口部１２とを繋いでいる。

本実施形態に係る給液系統３は、処理液滞留領域Ａからの処理液Ｗであって、ノズル１０７に向けて供給される処理液Ｗを貯める貯液部３０，３１を備えている。より具体的に説明すると、給液系統３は、槽本体１０の処理液滞留領域Ａと対応する位置と出口部１２のノズル１０７と対応する位置とを繋ぐ主配管３２と、主配管３２における出口部１２側の一箇所と槽本体１０側の一箇所とを繋ぐバイパス配管３３とを備える。

主配管３２は、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する集液配管３２０であって、第一端が本体部１００ａの第一端側の下部に流体的に接続されるとともに、第二端が本体部１００ａの第二端側の下部に流体的に接続された集液配管３２０と、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する給液配管３２１であって、第一端が集液配管３２０の第一端と第二端との間に流体的に接続されるとともに、第二端が出口部１２に対して流体的に接続された給液配管３２１とを備える。

集液配管３２０は、槽本体１０内の処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗを両端から流入可能に設けられる。すなわち、集液配管３２０は、第一端から処理液滞留領域Ａのうちの第二ガイド部材１０５の存在する上流領域から処理液Ｗが流入し、第二端から処理液滞留領域Ａのうちの第一ガイド部材１０４の存在する下流領域から処理液Ｗが流入するように設けられる。

給液配管３２１の途中位置には、ポンプＰと、熱交換器ＨＥとが設けられる。より具体的には、給液配管３２１は、ポンプＰ又は熱交換器ＨＥの何れか一方（本実施形態においてはポンプＰ）と集液配管３２０とを接続した一次配管３２１ａと、ポンプＰと熱交換器ＨＥとを接続する接続配管３２１ｂと、ポンプＰ又は熱交換器ＨＥの何れか他方（本実施形態においては熱交換器ＨＥ）と出口部１２とを接続した二次配管３２１ｃとを備える。
これにより、給液系統３において、集液配管３２０を介して一次配管３２１ａに流入する処理液ＷがポンプＰによって二次配管３２１ｃ（出口部１２）側に向けて圧送されるとともに、二次配管３２１ｃに向けて圧送される処理液Ｗが熱交換器ＨＥによって加熱又は冷却されるようになっている。

バイパス配管３３は、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する。バイパス配管３３の第一端は、給液配管３２１のポンプＰ及び熱交換器ＨＥの下流側に流体的に接続されている。また、本実施形態に係るバイパス配管３３の第二端は、給液配管３２１のポンプＰ及び熱交換器ＨＥの下流側であって、給液配管３２１におけるバイパス配管３３の第一端の接続位置（以下、第一接続位置という）ＪＰ１よりも下流側の位置（以下、第二接続位置という）ＪＰ２に接続されている。すなわち、バイパス配管３３の第一端は、二次配管３２１ｃの途中位置に設定された第一接続位置ＪＰ１に接続され、バイパス配管３３の第二端は、二次配管３２１ｃの途中位置に設定された第二接続位置ＪＰ２であって、第一接続位置ＪＰ１よりも下流側の第二接続位置ＪＰ２に接続されている。

これに伴い、給液系統３は、バイパス配管３３での処理液Ｗの流通を遮断した状態と、主配管３２の二箇所（第一接続位置ＪＰ１及び第二接続位置ＪＰ２）の間を遮断する一方で、バイパス配管３３での処理液Ｗの流通を許容した状態とに切り替え可能に構成される。

より具体的には、二次配管３２１ｃの第一接続位置ＪＰ１と第二接続位置ＪＰ２との間に開閉弁（以下、第一開閉弁という）Ｖ１が設けられている。また、バイパス配管３３の最上流位置及び最下流位置にも開閉弁Ｖ２，Ｖ３が設けられている。なお、以下の説明において、バイパス配管３３の最上流位置に設けられる開閉弁を第二開閉弁Ｖ２といい、バイパス配管３３の最下流位置に設けられる開閉弁を第三開閉弁Ｖ３ということとする。

これにより、第一開閉弁Ｖ１を開状態にした上で、第二開閉弁Ｖ２及び第三開閉弁Ｖ３を閉状態にすることで、処理液滞留領域Ａからの処理液Ｗが二次配管３２１ｃを通って出口部１２（ノズル１０７）に向けて流通する。これに対し、第一開閉弁Ｖ１を閉状態にした上で、第二開閉弁Ｖ２及び第三開閉弁Ｖ３を開状態にすることで、処理液滞留領域Ａからの処理液Ｗは、二次配管３２１ｃの第一接続位置ＪＰ１からバイパス配管３３に流入し、第二接続位置ＪＰ２から二次配管３２１ｃに流れ込んで出口部１２（ノズル１０７）に向けて流通する。

バイパス配管３３の少なくとも一箇所には、処理液Ｗを貯留可能な貯液部３０，３１が設けられる。本実施形態に係るバイパス配管３３は、一系統で構成される。そして、バイパス配管３３の二箇所以上に貯液部３０，３１が設けられる。これに伴い、給液系統３は、貯液部３０，３１の数に応じた数で設けられる分岐配管３４を備える。分岐配管３４は、バイパス配管３３における貯液部３０，３１間と、バイパス配管３３における貯液部３０，３１よりも下流側とを繋いでいる。そして、給液系統３は、処理液Ｗの流通経路を、分岐配管３４を通る経路と、分岐配管３４を通ることのない経路とに切り替え可能に構成される。

より具体的に説明する。本実施形態において、バイパス配管３３上には、二つの貯液部３０，３１が設けられている。これに伴い、バイパス配管３３は、第一接続位置ＪＰ１と一方の貯液部（以下、第一貯液部という）３０とを接続する第一配管部３３０と、第一貯液部３０と他方の貯液部（以下、第二貯液部という）３１とを繋ぐ第二配管部３３１と、第二貯液部３１と第二接続位置ＪＰ２とを接続する第三配管部３３２とを含む。

そして、第一貯液部３０及び第二貯液部３１が設けられるに伴い、給液系統３は、一本の分岐配管３４を備える。分岐配管３４は、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する。本実施形態において、分岐配管３４の第一端は、第二配管部３３１に対して流体的に接続される。これに対し、分岐配管３４の第二端は、第三配管部３３２に対して流体的に接続される。

そして、第二配管部３３１に分岐配管３４が接続されるに伴い、第二配管部３３１には、開閉弁（以下、第四開閉弁という）Ｖ４が設けられる。また、第三配管部３３２の分岐配管３４との接続位置よりも上流側に開閉弁（以下、第五開閉弁という）Ｖ５が設けられ、分岐配管３４にも、開閉弁（以下、第六開閉弁という）Ｖ６が設けられる。

これにより、第四開閉弁Ｖ４及び第五開閉弁Ｖ５を閉状態にするとともに、第六開閉弁Ｖ６を開状態にすることで、第一貯液部３０の処理液Ｗが、第二貯液部３１に流れることなく分岐配管３４に向けて流れる。これに対し、第四開閉弁Ｖ４及び第五開閉弁Ｖ５を開状態にするとともに、第六開閉弁Ｖ６を閉状態にすることで、第一貯液部３０の処理液Ｗが、分岐配管３４に流れることなく第二貯液部３１を通過して第二接続位置ＪＰ２に向けて流れる。

本実施形態において、第一貯液部３０及び第二貯液部３１は、同一の構成にされている。本実施形態において、第一貯液部３０及び第二貯液部３１は、何れも横長に形成されている。第一貯液部３０及び第二貯液部３１のそれぞれは、長手方向にバイパス配管３３の上流側に繋がる第一端部と、バイパス配管３３の下流側に繋がる第二端部とを有する。すなわち、第一貯液部３０は、バイパス配管３３における自己の上流側である第一配管部３３０が接続される第一端部と、バイパス配管３３における自己の下流側である第二配管部３３１が接続される第二端部とを長手方向に有する。また、第二貯液部３１は、バイパス配管３３における自己の上流側である第二配管部３３１が接続される第一端部と、バイパス配管３３における自己の下流側である第三配管部３３２が接続される第二端部とを長手方向に有する。

第一貯液部３０及び第二貯液部３１のそれぞれは、下流側にある第二端部を上流側にある第一端部よりも高い位置にして配置される。これに伴い、第一貯液部３０の第一端部の下部に第一配管部３３０が流体的に接続され、第一貯液部３０の第二端部の上部に第二配管部３３１が流体的に接続されている。また、第二貯液部３１の第一端部の下部に第二配管部３３１が流体的に接続され、第二貯液部３１の第二端部の上部に第三配管部３３２が流体的に接続されている。

そして、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、貯液部３０，３１よりも上流側にあるバイパス配管３３に接続された排液管路３５を備える。本実施形態において、上述の如く、バイパス配管３３には、二つの貯液部３０，３１（第一貯液部３０及び第二貯液部３１）が設けられるため、排液管路３５は、パイパス配管３３における二つの貯液部３０，３１（第一貯液部３０及び第二貯液部３１）のそれぞれに対して上流側になる第一配管部３３０に接続されている。具体的には、排液管路３５は、第一端と該第一端の反対側の第二端とを有する。そして、排液管路３５の第一端は、第一配管部３３０に流体的に接続され、排液管路３５の第二端は、当該液流式布帛処理装置の設置される施設内に設けられる排液路に向けて処理液Ｗを排出可能に配置される。そして、排液管路３５の途中位置に開閉弁（以下、第七開閉弁という）Ｖ７が設けられている。すなわち、排液管路３５の第一端と第二端との間には、第七開閉弁Ｖ７が設けられている。

本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、バイパス配管３３での処理液Ｗの流通を促進すべく空気を流通させる通気系統４を備える。これに伴い、槽本体１０には、バルブヘッダ１３が取り付けられている。より具体的に説明すると、通気系統４は、第三配管部３３２に接続された第一通気管４０と、第二配管部３３１に接続された第二通気管４１と、第一通気管４０及び第二通気管４１とを合流させてバルブヘッダ１３に接続する合流通気管４２とを備える。第一通気管４０には、開閉弁（以下、第八開閉弁という）Ｖ８が設けられ、また、第二通気管４１にも、開閉弁（以下、第九開閉弁という）Ｖ９が設けられている。なお、バルブヘッダ１３には、開閉弁（以下、第十開閉弁という）Ｖ１０が設けられている。そして、バルブヘッダ１３は、第十開閉弁Ｖ１０を開放することにより、外気を取り込めるようになっている。なお、バルブヘッダ１３は、槽本体１０内にも連通している。本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、処理液Ｗを用いてバイパス配管３３内を洗浄するために、二次配管３２１ｃの第二接続位置ＪＰ２よりも下流側に開閉弁（以下、第十一開閉弁という）Ｖ１１が設けられている。

そして、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、布帛Ｃの処理を行うために、必要量の処理液Ｗを槽本体１０に対して供給する処理液供給系統（図示しない）を備える。また、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、電気的な制御を行う制御部（図示しない）を備える。これに伴い、本実施形態において、第一乃至第十一開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１は、自動弁が採用されている。また、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、制御部に対して電気的な信号を与えるセンサとして、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）の処理液Ｗの液位を計測する液位センサや、処理液Ｗの温度を計測する温度センサ、布帛Ｃの処理時間を計測するタイマ、布帛Ｃの循環回数を測定するためのセンサ等を備える。そして、制御部は、液位センサ等からの信号（情報）に基づいて各開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉や、ポンプＰのＯＮ・ＯＦＦの切り替え等を行う。

本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、上述の如く、第一乃至第十一開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉を制御することで、処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗの液位ＷＬを布帛Ｃの移送に適した液位に維持させつつ、異なる液量の処理液Ｗでの処理が可能である。すなわち、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、槽本体１０（処理液滞留領域Ａ）、給液系統３、及び移送管２による処理液Ｗの収容許容量と同量又は略同量の処理液Ｗによる処理（以下、標準処理という）と、標準処理時の処理液Ｗの総量に対し、バイパス配管３３上にある第一貯液部３０及び第二貯液部３１のうちの第一貯液部３０のみを通る経路の内部容積に対応した液量を加えた量の処理液Ｗによる処理（以下、第一増液処理という）と、標準処理時の処理液Ｗの総量に対し、バイパス配管３３の内部容積（第一貯液部３０及び第二貯液部３１を通る経路の内部容積）に対応する液量を加えた量の処理液Ｗによる処理（以下、第二増液処理という）とを行うことが可能である。

ここで、図２〜図９を参照しつつ、標準処理、第一増液処理、及び第二増液処理について具体的に説明する。なお、図２〜図９において、閉状態の開閉弁Ｖ１〜Ｖ１０を黒塗りにして図示している。

標準処理、第一増液処理、及び第二増液処理の何れかの処理を行うにあたり、まず、図２に示す如く、開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられる。具体的には、予め第二開閉弁Ｖ２及び第三開閉弁Ｖ３が閉状態にされ、第一開閉弁Ｖ１及び第十一開閉弁Ｖ１１が開状態にされる。なお、第四乃至第十開閉弁Ｖ４〜Ｖ１０は、処理液Ｗの流れに影響のない経路上にあるため、開状態又は閉状態の何れの状態であってもよい。

そして、上述のように開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられた状態で、処理液供給系統から滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内に処理に必要な処理液Ｗが必要量供給される。すなわち、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）、給液系統３、及び移送管２による処理液Ｗの収容許容量と同量又は略同量（以下、この量を標準液量という）の処理液Ｗが槽本体１０（処置液滞留領域Ａ）に供給される。このとき、槽本体１０に対して所定量の処理液Ｗが供給されると、給液系統３のポンプＰが駆動される。これにより、槽本体１０内の処理液Ｗが、主配管３２及び移送管２を流れて装置内を循環する。そして、槽本体１０（処理液滞留領域Ａ）に標準液量の処理液Ｗが供給されると、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内の処理液Ｗの液位ＷＬが布帛Ｃの移送に適した液位になる。

この状態で、図３に示す如く、布帛Ｃが液流式布帛処理装置内に投入される。より具体的には、上述の如く、ポンプＰが駆動されることで、槽本体１０内の処理液Ｗが給液系統３の主配管３２を介してノズル１０７に供給されている。従って、この状態で長尺な布帛Ｃがヘッド部１００ｃから投入されることで、ノズル１０７から吐出される処理液Ｗの液圧及び流れによって、布帛Ｃが滞留槽１及び移送管２に挿通される。そして、布帛Ｃが滞留槽１及び移送管２に挿通されると、一時的にポンプＰが停止され、布帛Ｃの両端が連結される。これにより、布帛Ｃは、装置内でループ状にされ、移送管２内で真っ直ぐ又は略真っ直ぐに延びる一方で、槽本体１０の処理液滞留領域Ａ内で余裕をもった状態（折り返された状態）で配置される。

この状態から、標準処理、第一増液処理、又は第二増液処理が行われる。具体的に説明する。標準処理を行う場合、上述の如く、布帛Ｃがループ状にされると、給液系統３のポンプＰが再度駆動され、処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗが給液系統３を介して出口部１２（ノズル１０７）に供給される。そうすると、布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れ（液圧）によって、順々に移送管２内に送り込まれる。移送管２を経て入口部１１に到達した布帛Ｃは、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）の処理液Ｗに入り込み、その処理液Ｗに浮遊しつつヘッド部１００ｃ側に移送される。そして、布帛Ｃは、リール１０３によって処理液滞留領域Ａの処理液Ｗから引き上げられ、再度出口部１２に供給される。従って、出口部１２に戻った布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れによって、移送管２に送られた後に、再度処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗに浮遊しつつ移動する。すなわち、布帛Ｃは、滞留槽１及び移送管２によって構成される循環経路内で循環する。

標準処理においては、上述の如く、標準液量（滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）、移送管２、及び給液系統３による処理液Ｗの収容許容量と同量又は略同量）の処理液Ｗが使用される。そのため、布帛Ｃを処理する間、処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗの液位ＷＬが布帛Ｃの移送に適した液位で維持される。これにより、布帛Ｃは、処理液滞留領域Ａ内で絡まり等を発生させることなく移動し、滞留槽１及び移送管２で構成される循環経路内で円滑に循環する。従って、布帛Ｃは、処理液Ｗ（含有する成分）に必要十分触れることになり、適正な処理が施される。なお、滞留槽１（槽本体１０）の下部には、図示しない排液弁が設けられており、標準処理が完了した後に、排液弁が開放されて使用済み処理液Ｗが外部に排出される。

第一増液処理を行う場合、布帛Ｃが投入された後（布帛Ｃがループ状にされた後）に、所定の開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられる。具体的には、第一増液処理を行う場合、布帛Ｃの投入後に、図４に示す如く、第一開閉弁Ｖ１、第三開閉弁Ｖ３、第四開閉弁Ｖ４、第五開閉弁Ｖ５、第六開閉弁Ｖ６、第七開閉弁Ｖ７、第八開閉弁Ｖ８、及び第十一開閉弁Ｖ１１が閉状態にされ、第二開閉弁Ｖ２、第九開閉弁Ｖ９、及び第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされる。なお、第三開放弁Ｖ３、第十開閉弁Ｖ１０、及び第十一開閉弁Ｖ１１は、処理液Ｗの流れに影響のない経路上にあるため、開状態又は閉状態の何れであってもよい。

このように開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられた状態で、処理液供給系統から滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内に処理に必要な処理液Ｗが必要量供給される。より具体的に説明する。第一増液処理において、標準処理時の処理液Ｗの総量（標準液量）に対し、バイパス配管３３上にある第一貯液部３０及び第二貯液部３１のうちの第一貯液部３０のみを通る経路の内部容積に対応した液量を加えた量（以下、この量を第一液量という）の処理液Ｗが使用される。上述の如く、布帛Ｃが投入された状態において、標準液量の処理液Ｗが既に供給されている。そのため、第一増液処理を行う場合、装置内の処理液Ｗの総量が第一液量になるように、不足する量（第一液量から標準液量を差し引いた液量）の処理液Ｗが供給される。

そして、処理液供給系統からの処理液Ｗの供給に併せて給液系統３のポンプＰが駆動される。これにより、槽本体１０の処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗは、集液配管３２０及び給液配管３２１を通って第一接続位置ＪＰ１からバイパス配管３３（第一配管部３３０）に送り込まれる。

バイパス配管３３（第一配管部３３０）に送り込まれた処理液Ｗは、第一貯液部３０に対して連続的に送り込まれる。これにより、第一貯液部３０内における処理液Ｗの液位が上昇する。これに伴い、第一貯液部３０内の気体（空気）は、第一貯液部３０の高位置にある第二端側に集まり、第二通気管４１に押し出される。その結果、第一貯液部３０内にあった気体（空気）は、バルブヘッダ１３から滞留槽１（槽本体１０）内に排出される。

そして、第一貯液部３０内が処理液Ｗで充満すると、図５に示す如く、第九開閉弁Ｖ９、及び第十開閉弁Ｖ１０が閉状態にされ、第三開閉弁Ｖ３、第六開閉弁Ｖ６、及び第十一開閉弁Ｖ１１が開状態にされる。このとき、第一開閉弁Ｖ１は、閉状態で維持してよいが、半開状態であってもよい。すなわち、第二開閉弁Ｖ２及び第三開閉弁Ｖ３の開度（口径）が小さくてもノズル１０７に多くの処理液Ｗが供給されるように、半開状態にされてもよい。また、第十開閉弁Ｖ１０は、処理液Ｗの流れに影響のない経路上にあるため、開状態で維持してもよい。これにより、第一貯液部３０内の処理液Ｗは、分岐配管３４及び第三配管部３３２を介して給液配管３２１（二次配管３２１ｃ）に送り出され、出口部１２（ノズル１０７）に供給される。そして、出口部１２（ノズル１０７）に供給された処理液Ｗは、移送管２を流れて槽本体１０に戻ることになる。すなわち、第一増液処理においては、槽本体１０内の処理液Ｗが、給液系統３においてバイパス配管３３を経由するように流れて装置内を循環する。

これに伴い、布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れ（液圧）によって、順々に移送管２内に送り込まれる。移送管２を経て入口部１１に到達した布帛Ｃは、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）の処理液Ｗに入り込み、その処理液Ｗに浮遊しつつヘッド部１００ｃ側に移送される。そして、布帛Ｃは、リール１０３によって処理液滞留領域Ａの処理液Ｗから引き上げられ、再度出口部１２に供給される。従って、出口部１２に戻った布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れによって、移送管２に送られた後に、再度処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗに浮遊しつつ移動する。すなわち、布帛Ｃは、滞留槽１及び移送管２によって構成される循環経路内で循環する。

第一増液処理においては、上述の如く、第一液量（標準液量よりも多い液量）の処理液Ｗが使用されるが、滞留槽１に繋がる給液系統３（処理液Ｗを流通させる経路）上に、所定量の処理液Ｗ（標準処理時の処理液Ｗの液量に対する増量分の処理液Ｗ）を貯液可能な第一貯液部３０が設けられているため、増量分の処理液Ｗが処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗの液位ＷＬに影響を与えることがなく、処理液滞留領域Ａの液位が布帛Ｃの移送に適した液位で維持される。これにより、布帛Ｃは、処理液滞留領域Ａ内で絡まり等を発生させることなく移動し、滞留槽１及び移送管２で構成される循環経路内で円滑に循環する。従って、布帛Ｃは、処理液Ｗ（含有する成分）に必要十分触れることになり、適正な処理が施される。

そして、布帛Ｃに対する処理が完了すると、ポンプＰの駆動が停止され、布帛Ｃが作業者によってヘッド部１００ｃから取り出される。その後に、使用済みの処理液Ｗが排出される。本実施形態においては、第一増液処理後において、使用済みの処理液Ｗによって給液系統３内の洗浄を行いつつ、該使用済みの処理液Ｗを排出する。より具体的に説明する。布帛Ｃが取り出された後に、図６に示す如く、第二開閉弁Ｖ２、第四開閉弁Ｖ４、第五開閉弁Ｖ５、第八開閉弁Ｖ８、第九開閉弁Ｖ９、及び第十一開閉弁Ｖ１１が閉状態にされ、第一開閉弁Ｖ１、第三開閉弁Ｖ３、第六開閉弁Ｖ６、第七開閉弁Ｖ７、及び第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされる。なお、第八開閉弁Ｖ８は、処理液Ｗの流れに影響のない経路上にあるため、開状態にされてもよい。

このように開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられた状態で、給液系統３のポンプＰが駆動される。そうすると、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内の処理液Ｗが集液配管３２０及び給液配管３２１（二次配管３２１ｃ）を通って第二接続位置ＪＰ２からバイパス配管３３に流れ込む。このように、滞留槽１内の処理液Ｗがバイパス配管３３内に流入することで、バイパス配管３３に残留していた処理液Ｗがバイパス配管３３の第一端側（処理時の上流端側）に押される。このとき、第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされているため、第十開閉弁Ｖ１０から通気系統４内に外気が入り込み、バイパス配管３３内の処理液Ｗの流通が円滑に行われる。そして、第二開閉弁Ｖ２が閉状態にされているため、処理液Ｗが給液系統３に戻ることなく、排液管路３５に流れ込んで、排液路に排出される。このように、布帛Ｃに対する処理を行う場合とは逆方向に処理液Ｗが流れることで、バイパス配管３３内に存在する残渣等の不純物等が洗い流される。

このとき、処理液Ｗがバイパス配管３３上の第一貯液部３０の第二端部から流入するが、第一貯液部３０は、上述の如く、第二端部を第一端部よりも高い位置にして配置されるため、処理液Ｗが円滑に第一端部側に流れる。すなわち、第一貯液部３０は、第一端部側に先下りに傾斜して配置されるため、第一貯液部３０の第二端部側から流入した処理液Ｗは、第一貯液部３０の傾斜によって第一端部に向けて流れる。従って、第一貯液部３０内に残存する不純物が処理液Ｗとともに洗い流され、最終的に排液管路３５を通って排液路に排出される。

第二増液処理を行う場合、布帛Ｃが投入された後（布帛Ｃがループ状にされた後）に、所定の開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられる。具体的には、第二増液処理を行う場合、布帛Ｃの投入後に、図７に示す如く、第一開閉弁Ｖ１、第三開閉弁Ｖ３、第五開閉弁Ｖ５、第六開閉弁Ｖ６、第七開閉弁Ｖ７、第九開閉弁Ｖ９、及び第十一開閉弁Ｖ１１が閉状態にされ、第二開閉弁Ｖ２、第四開閉弁Ｖ４、及び第八開閉弁Ｖ８、第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされる。なお、第三開閉弁Ｖ３、第十開閉弁１０、及び第十一開閉弁Ｖ１１は、処理液Ｗの流れの影響のない位置にあるため、開状態又は閉状態の何れであってもよい。

このように開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられた状態で、処理液供給系統から滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内に処理に必要な処理液Ｗが必要量供給される。より具体的に説明する。第二増液処理において、標準処理時の処理液Ｗの総量に対し、バイパス配管３３の内部容積（第一貯液部３０及び第二貯液部３１を通る経路の内部容積）に対応する液量を加えた量（以下、この量を第二液量という）の処理液Ｗが使用される。上述の如く、布帛Ｃが投入された状態において、標準液量の処理液Ｗが既に供給されている。そのため、第二増液処理を行う場合、装置内の処理液Ｗの総量が第二液量になるように、不足する量（第二液量から標準液量を差し引いた液量）の処理液Ｗが供給される。

そして、処理液供給系統からの処理液Ｗの供給に併せて給液系統３のポンプＰが駆動される。これにより、槽本体１０の処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗは、集液配管３２０及び給液配管３２１を通って第一接続位置ＪＰ１からバイパス配管３３（第一配管部３３０）に送り込まれる。

バイパス配管３３（第一配管部３３０）に送り込まれた処理液Ｗは、第一貯液部３０に対して連続的に送り込まれる。これにより、第一貯液部３０内における処理液Ｗの液位が上昇する。これに伴い、第一貯液部３０内の気体（空気）は、第一貯液部３０の高位置にある第二端側に集まり、第二配管部３３１に押し出される。

第一貯液部３０内が処理液Ｗで充満すると、第一貯液部３０内の処理液Ｗが第二配管部３３１を介して第二貯液部３１に送り込まれる。これにより、第二貯液部３１内における処理液Ｗの液位ＷＬが上昇する。これに伴い、第二貯液部３１内の気体（空気）は、第二貯液部３１の高位置にある第二端側に集まり、第一通気管４０に押し出される。その結果、第二貯液部３１内にあった気体（空気）は、バルブヘッダ１３から滞留槽１（槽本体１０）内に排出される。

第二貯液部３１内が処理液Ｗで充満すると、図８に示す如く、第八開閉弁Ｖ８及び第十開閉弁Ｖ１０が閉状態にされ、第三開閉弁Ｖ３、第五開閉弁Ｖ５、及び第十一開閉弁Ｖ１１が開状態にされる。このとき、第一開閉弁Ｖ１は、閉状態で維持してもよいが、半開状態であってもよい。すなわち、第二開閉弁Ｖ２及び第三開閉弁Ｖ３の開度（口径）が小さくてもノズル１０７に多くの処理液Ｗが供給されるように、半開状態にされてもよい。なお、第十開閉弁Ｖ１０は、処理液Ｗの流れの影響のない位置にあるため、開状態で維持させてもよい。これにより、第二貯液部３１内の処理液Ｗは、第三配管部３３２を介して給液配管３２１（二次配管３２１ｃ）に送り出され、出口部１２（ノズル１０７）に供給される。そして、出口部１２（ノズル１０７）に供給された処理液Ｗは、移送管２を流れて槽本体１０に戻ることになる。すなわち、第二増液処理においても、槽本体１０内の処理液Ｗが、給液系統３においてバイパス配管３３を経由するように流れて装置内を循環する。

これに伴い、布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れ（液圧）によって、順々に移送管２内に送り込まれる。移送管２を経て入口部１１に到達した布帛Ｃは、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）の処理液Ｗに入り込み、その処理液Ｗに浮遊しつつヘッド部１００ｃ側に移送される。そして、布帛Ｃは、リール１０３によって処理液滞留領域Ａの処理液Ｗから引き上げられ、再度出口部１２に供給される。従って、出口部１２に戻った布帛Ｃは、ノズル１０７から吐出された処理液Ｗの流れによって、移送管２に送られた後に、再度処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗに浮遊しつつ移動する。すなわち、布帛Ｃは、滞留槽１及び移送管２によって構成される循環経路内で循環する。

第二増液処理においては、上述の如く、第二液量（第一増液処理時の液量よりも多い液量）の処理液Ｗが使用されるが、滞留槽１に繋がる給液系統３（処理液Ｗを流通させる経路）上に、所定量の処理液Ｗ（標準処理時の処理液Ｗの液量に対する増量分の処理液Ｗ）を貯液可能な第一貯液部３０及び第二貯液部３１が設けられているため、増量分の処理液Ｗが処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗの液位ＷＬに影響を与えることがなく、処理液滞留領域Ａの液位が布帛Ｃの移送に適した液位で維持される。これにより、布帛Ｃは、処理液滞留領域Ａ内で絡まり等を発生させることなく移動し、滞留槽１及び移送管２で構成される循環経路内で円滑に循環する。従って、布帛Ｃは、処理液Ｗ（含有する成分）に必要十分触れることになり、適正な処理が施される。

そして、布帛Ｃに対する処理が完了すると、ポンプＰの駆動が停止され、布帛Ｃが作業者によってヘッド部１００ｃから取り出される。その後に、使用済みの処理液Ｗが排出される。本実施形態においては、第二増液処理後においても、使用済みの処理液Ｗによって給液系統３内の洗浄を行いつつ、該使用済みの処理液Ｗを排出する。より具体的に説明する。布帛Ｃが取り出された後に、図９に示す如く、第二開閉弁Ｖ２、第六開閉弁Ｖ６、第八開閉弁Ｖ８、第九開閉弁Ｖ９、及び第十一開閉弁Ｖ１１が閉状態にされ、第一開閉弁Ｖ１、第三開閉弁Ｖ３、第四開閉弁Ｖ４、第五開閉弁Ｖ５、第七開閉弁Ｖ７、及び第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされる。

このように開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉が切り替えられた状態で、給液系統３のポンプＰが駆動される。そうすると、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内の処理液Ｗが集液配管３２０及び給液配管３２１（二次配管３２１ｃ）を通って第二接続位置ＪＰ２からバイパス配管３３に流れ込む。このように、槽本体１０内の処理液Ｗがバイパス配管３３内に流入することで、バイパス配管３３内に残留していた処理液Ｗがバイパス配管３３の第一端側（処理時の上流端側）に押される。このとき、第十開閉弁Ｖ１０が開状態にされているため、第十開閉弁Ｖ１０から通気系統４内に外気が入り込み、バイパス配管３３内の処理液Ｗの流通が円滑に行われる。そして、第二開閉弁Ｖ２が閉状態にされているため、処理液Ｗが給液系統３に戻ることなく、排液管路３５に流れ込んで、排液路に放出される。このように、布帛Ｃに対する処理を行う場合とは逆方向に処理液Ｗが流れることで、バイパス配管３３内に存在する残渣等の不純物等が洗い流される。

このとき、バイパス配管３３上の第一貯液部３０及び第二貯液部３１のそれぞれに処理液Ｗが流入するが、第一貯液部３０及び第二貯液部３１のそれぞれは、上述の如く、第二端部を第一端部よりも高い位置にして配置されるため、流入した処理液Ｗが円滑に第一端部側に流れる。すなわち、第一貯液部３０及び第二貯液部３１のそれぞれは、第一端部側に先下りに傾斜して配置されるため、第一貯液部３０の第二端部から流入した処理液Ｗは、第一貯液部３０の傾斜によって第一端部に向けて流れ、第二貯液部３１の第二端部から流入した処理液Ｗは、第二貯液部３１の傾斜によって第一端部に向けて流れる。従って、第一貯液部３０及び第二貯液部３１内に残存する不純物が処理液Ｗとともに洗い流され、最終的に排液管路３５を通って排液路に排出される。

以上のように、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、滞留槽１内の処理液滞留領域Ａにある処理液Ｗをノズル１０７に供給する給液系統３が処理液Ｗを貯める貯液部３０，３１を備えているため、含有成分の総量を減らすことなく処理液Ｗを低濃度にすることで処理液Ｗの総量が多くなっても、滞留槽１（処理液滞留領域Ａ）内の処理液Ｗの液位ＷＬが布帛Ｃの移送に適した液位に保たれる。従って、低濃度にされた処理液Ｗ（総量の多い処理液Ｗ）を使用する場合であっても、処理液滞留領域Ａ内の処理液Ｗに浮遊する布帛Ｃをスムーズに下流側に移送することができる。これにより、上記構成の液流式布帛処理装置は、低濃度の処理液Ｗを使用しても、布帛Ｃの処理量を減らすことなく、布帛Ｃに対して適正な処理を行うことができるという優れた効果を奏し得る。

また、本実施形態の液流式布帛処理装置においては、給液系統３が槽本体１０の処理液滞留領域Ａと対応する位置と出口部１２のノズル１０７と対応する位置とを繋ぐ主配管３２と、主配管３２における出口部１２側の一箇所と槽本体１０側の一箇所とを繋ぐバイパス配管３３とを備え、バイパス配管３３に貯液部３０，３１が設けられ、バイパス配管３３での処理液Ｗの流通を遮断した状態と、主配管３２の二箇所の間を遮断する一方で、バイパス配管３３での処理液Ｗの流通を許容した状態とに切り替え可能に構成されるため、処理液Ｗの総量を異にする処理を行うことができる。すなわち、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、標準処理と、標準の処理を行うときの処理液Ｗの液量よりも多い液量の処理液Ｗによる処理（第一増液処理、第二増液処理）とを行うことができる。これにより、少ない量の処理液Ｗによる処理（標準処理）を行うときに、必要以上の処理液Ｗを供給する必要がなく、処理液Ｗにかかるコストを抑えることができる。

特に、本実施形態においては、バイパス配管３３が一系統で構成されるとともに、バイパス配管３３の二箇所に貯液部３０，３１が設けられ、給液系統３は、貯液部３０，３１の数に応じた数で設けられる分岐配管３４であって、バイパス配管３３における貯液部３０，３１間と、バイパス配管３３における貯液部３０，３１よりも主配管３２の出口部１２側に繋がる側の部位とを繋ぐ分岐配管３４を備え、処理液Ｗの流通経路を、バイパス配管３３及び分岐配管３４を通る経路と、バイパス配管３３のみを通る経路とに切り替え可能に構成されるため、標準処理を行うときの処理液Ｗの液量よりも多い液量の処理液Ｗを必要とする処理においても、処理液滞留領域Ａの液位ＷＬを適正な液位で保ちつつ、そのうちの少ない量の処理液Ｗによる処理と、多い量の処理液Ｗによる処理とを行うことができる。また、多量の処理液Ｗによる処理を行うときに、必要以上の処理液Ｗを投入する必要がなく、処理液Ｗにかかるコストを抑えることができる。

また、本実施形態に係る液流式布帛処理装置は、貯液部３０，３１よりも上流側にあるバイパス配管３３に接続された排液管路３５であって、途中位置に開閉弁（第七開閉弁）Ｖ７が設けられた排液管路３５を備え、給液系統３は、排液管路３５との接続位置よりも上流側にあるバイパス配管３３上に開閉弁（第二開閉弁）Ｖ２が設けられるとともに、主配管３２のバイパス配管３３の接続位置よりも下流側に別の開閉弁（第十一開閉弁）Ｖ１１が設けられるため、開閉弁Ｖ２，Ｖ１０，Ｖ１１の開閉を切り替えることで、布帛Ｃに対する処理の完了後に、使用済みの処理液Ｗでバイパス配管３３（貯液部３０，３１）を洗浄することができる。

そして、本実施形態に係る液流式布帛処理装置の貯液部３０，３１は、横長に形成され、長手方向にバイパス配管３３の上流側に繋がる第一端部と、バイパス配管３３の下流側に繋がる第二端部とを有し、第二端部を第一端部よりも高い位置にして配置されているため、槽本体１０、給液系統３、バイパス配管３３に処理液Ｗを供給するに当り、貯液部３０，３１内に気体（空気）溜まりを形成することなく、貯液部３０，３１内に処理液Ｗを円滑に充満させることができる。これにより、貯液部３０，３１を汚れにくくすることができる。また、バイパス配管３３で処理液Ｗを逆流させる（貯液部３０，３１を洗浄する）に当り、処理液Ｗが貯液部３０，３１の第一端部と第二端部の高低差によって第一端部側に流れるため、貯液部３０，３１内の不純物等を処理液Ｗとともに効率的に流し出すことができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更加え得ることは勿論のことである。

上記実施形態において、給液系統３に貯液部３０，３１が介設されたバイパス配管３３を設けたが、これに限定されない。例えば、給液系統３にバイパス配管３３が設けられることなく、給液系統３が主配管３２のみで構成され、その主配管３２に貯液部３０，３１が設けられるようにしてもよい。このようにすることで、貯液部３０，３１に貯留される処理液Ｗの液量分、標準処理に必要な処理液Ｗの液量よりも多くなる。従って、処理液Ｗの含有成分の総量を減らすことなく低濃度にされた処理液（標準処理時よりも増量した処理液）Ｗを用いて布帛Ｃの処理を行うことができる。また、処理液Ｗの総量が多くなっても、処理液Ｗの増量分は槽本体１０から離れた給液系統３上の貯液部３０，３１に貯められるため、槽本体１０（処理液滞留領域Ａ）の液位ＷＬを布帛Ｃの移送に適して液位ＷＬで維持させることができる。従って、この場合においても、処理液滞留領域Ａ内で布帛Ｃが浮遊しつつ円滑に移送されるため、布帛Ｃに対して適正な処理を行うことができる。

上記実施形態において、貯留部として、第一貯液部３０と第二貯液部３１とを設けたが、これに限定されない。例えば、貯留部は、少なくとも一つ設けられればよい。なお、貯留部が三つ以上設けられる場合には、それに応じて分岐配管３４を増やすとともに、処理液Ｗの流通経路を切り替えるために、適宜箇所に開閉弁を設ければよい。

上記実施形態において、貯液部３０，３１が横長に形成されたが、これに限定されない。貯液部３０，３１は、必要量の処理液Ｗ（標準処理する増加量の処理液Ｗ）を貯留（滞留）可能に構成されれば、形態を種々変更し得る。また、上記実施形態において、第二端が第一端よりも高い位置になるように貯液部３０，３１が配置されたが、これに限定されない。例えば、第一端と第二端とが同じ高さになるように貯液部３０，３１が配置されてもよい。但し、処理液Ｗの供給に伴って内部に空気溜まりが形成されることを防止したり、洗浄時に処理液Ｗが排出側に流れることを促進したりするには、上記実施形態と同様にすることが好ましい。

上記実施形態において、第一貯液部３０及び第二貯液部３１を同一構成にしたが、これに限定されない。例えば、貯液部３０，３１を複数設ける場合には、それぞれ異なるサイズ及び形態にしてもよいし、所定数の貯液部３０，３１（一群の貯液部３０，３１）が、他の貯液部３０，３１に対してサイズ及び形態を異にしたものであってもよい。

上記実施形態において、排液管路３５がバイパス配管３３（第一配管部３３０）に接続されたが、これに限定されない。例えば、主配管３２に排液管路３５が接続されたり、槽本体１０に排液管路３５が接続されたりしてもよい。すなわち、排液管路３５は、布帛Ｃに対する処理が完了した後に、滞留槽１、移送管２、給液系統３の何れかから処理液Ｗを排出可能に設けられればよい。

上記実施形態において、第一乃至第十一開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉やポンプＰのＯＮ・ＯＦＦの切り替えが自動的に行われたが、これに限定されない。例えば、第一乃至第十一開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉やポンプＰのＯＮ・ＯＦＦの切り替え等は、作業者によって手動で行われてもよい。また、第一乃至第十一開閉弁Ｖ１〜Ｖ１１の開閉やポンプＰのＯＮ・ＯＦＦの切り替え等において、一部が作業者によって手動で行われ、残りの一部が電気的な制御で自動的に行われてもよい。

上記実施形態において、横長に形成された槽本体１０を有する滞留槽１を備えたものについて説明したが、これに限定されない。例えば、槽本体１０（本体部１００ａ）が途中位置で屈曲又は湾曲したタイプのものであってもよい。すなわち、滞留槽１（槽本体１０）内に処理液滞留領域Ａが形成されるタイプのものであればよい。

上記実施形態において、必要量の処理液Ｗを槽本体１０に対して供給する処理液供給系統を備えたが、これに限定されない。例えば、液流式布帛処理装置は、必要量の処理液Ｗを給液系統３に供給する処理液供給系統を備えてもよい。

１…滞留槽、２…移送管、３…給液系統、４…通気系統、１０…槽本体、１１…入口部、１２…出口部、１３…バルブヘッダ、２０…主管部、２１…第一起立管部、２２…第二起立管部、３０…第一貯液部（貯液部）、３１…第二貯液部（貯液部）、３２…主配管、３３…バイパス配管、３４…分岐配管、３５…排液管路、４０…第一通気管、４１…第二通気管、４２…合流通気管、１００…胴部、１００ａ…本体部、１００ｂ…接続部、１００ｃ…ヘッド部、１０１，１０２…閉塞部、１０３…リール、１０４…第一ガイド部材（ガイド部材）、１０５…第二ガイド部材（ガイド部材）、１０６…第三ガイド部材（ガイド部材）、１０７…ノズル、３２０…集液配管、３２１…給液配管、３２１ａ…一次配管、３２１ｂ…接続配管、３２１ｃ…二次配管、３３０…第一配管部、３３１…第二配管部、３３２…第三配管部、Ａ…処理液滞留領域、Ｃ…布帛、ＨＥ…熱交換器、Ｐ…ポンプ、Ｖ１…第一開閉弁（開閉弁）、Ｖ２…第二開閉弁（開閉弁）、Ｖ３…第三開閉弁（開閉弁）、Ｖ４…第四開閉弁（開閉弁）、Ｖ５…第五開閉弁（開閉弁）、Ｖ６…第六開閉弁（開閉弁）、Ｖ７…第七開閉弁（開閉弁）、Ｖ８…第八開閉弁（開閉弁）、Ｖ９…第九開閉弁（開閉弁）、Ｖ１０…第十開閉弁（開閉弁）、Ｖ１１…第十一開閉弁（開閉弁）、Ｗ…処理液、ＷＬ…液位、ＪＰ１…第一接続位置、ＪＰ２…第二接続位置

Claims (5)

1. 第一端部と反端側の第二端部とを有する槽本体であって、第一端部と第二端部との間に処理液を滞留させる処理液滞留領域を有する槽本体と、該槽本体の第一端部に連設された入口部と、前記槽本体の第二端部に連設された出口部であって、処理液を吐出させるノズルが内装された出口部とを有する滞留槽と、該滞留槽の前記入口部と前記出口部とを繋ぐ移送管と、前記処理液滞留領域内の処理液を前記ノズルに供給する給液系統であって、前記槽本体と前記ノズルとを繋ぐ給液系統とを備え、前記ノズルから吐出された処理液によって前記槽本体及び前記移送管に挿通された布帛を循環移送させるように構成された液流式布帛処理装置において、前記給液系統は、処理液を貯める貯液部であって、前記槽本体から前記ノズルに至る流体の流通経路上に設けられた貯液部を備えていることを特徴とする液流式布帛処理装置。
2. 前記給液系統は、前記槽本体の前記処理液滞留領域と対応する位置と前記出口部の前記ノズルと対応する位置とを繋ぐ主配管と、該主配管における前記出口部側の一箇所と前記槽本体側の一箇所とを繋ぐバイパス配管とを備え、前記バイパス配管の少なくとも一箇所に前記貯液部が設けられ、前記バイパス配管での処理液の流通を遮断した状態と、前記主配管の前記二箇所の間を遮断する一方で、前記バイパス配管での処理液の流通を許容した状態とに切り替え可能に構成される請求項１に記載の液流式布帛処理装置。
3. 前記バイパス配管が一系統で構成されるとともに、該バイパス配管の二箇所以上に前記貯液部が設けられ、前記給液系統は、前記貯液部の数に応じた数で設けられる分岐配管であって、前記バイパス配管における前記貯液部間と、前記バイパス配管における前記貯液部よりも前記主配管の前記出口部側に繋がる側の部位とを繋ぐ分岐配管を備え、前記処理液の流通経路を、前記バイパス配管及び前記分岐配管を通る経路と、前記バイパス配管のみを通る経路とに切り替え可能に構成される請求項２に記載の液流式布帛処理装置。
4. 前記貯液部よりも上流側にある前記バイパス配管に接続された排液管路であって、途中位置に開閉弁が設けられた排液管路を備え、前記給液系統は、前記排液管路との接続位置よりも上流側にある前記バイパス配管上に開閉弁が設けられるとともに、前記主配管の前記バイパス配管の接続位置よりも下流側に別の開閉弁が設けられる請求項２又は請求項３に記載の液流式布帛処理装置。
5. 前記貯液部は、横長に形成され、長手方向に前記バイパス配管の上流側に繋がる第一端部と、前記バイパス配管の下流側に繋がる第二端部とを有し、第二端部を第一端部よりも高い位置にして配置されている請求項１乃至４の何れか１項に記載の液流式布帛処理装置。
   

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