JP5745371B2 - Preparation of lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate - Google Patents

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本発明は、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法、特に簡易処理に適した平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate preparation method capable of direct plate making using various lasers from a digital signal of a computer or the like, and particularly a lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate suitable for simple processing. It relates to a manufacturing method.

波長300nm〜1200nmの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザー、半導体レーザー、ガスレーザーは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっており、これらのレーザーはコンピューター等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として、非常に有用である。これら各種レーザー光に感応する記録材料については種々研究されており、代表的なものとして、第一に、画像記録波長760nm以上の赤外線レーザーで記録可能な材料として特許文献1に記載のポジ型記録材料、特許文献2に記載の酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。第二に、300nm〜700nmの紫外光または可視光レーザー対応型の記録材料として特許文献3および特許文献4に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等がある。   Solid lasers, semiconductor lasers, and gas lasers that emit ultraviolet light, visible light, and infrared light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm are easily available in high output and small size. It is very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data. Various studies have been made on recording materials that are sensitive to these various laser beams. As a typical example, firstly, positive recording described in Patent Document 1 as a material that can be recorded with an infrared laser having an image recording wavelength of 760 nm or more. Materials, acid-catalyzed cross-linking negative recording materials described in Patent Document 2, and the like. Secondly, there is a radical polymerization type negative recording material described in Patent Document 3 and Patent Document 4 as a recording material for 300 nm to 700 nm ultraviolet light or visible light laser.

また、従来の平版印刷版原版(以下、PS版ともいう)では、画像露光の後、強アルカリ性水溶液を用いて非画像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可欠であり、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のPS版の大きな検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像露光)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっており、環境への配慮からも、より中性域に近い現像液での処理や廃液の低減が課題として挙げられている。特に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
In addition, in a conventional lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as PS plate), after image exposure, a step (development treatment) of dissolving and removing a non-image portion using a strong alkaline aqueous solution is indispensable and developed. A post-treatment step is also necessary in which the printing plate is washed with water, treated with a rinse solution containing a surfactant, or treated with a desensitizing solution containing gum arabic or starch derivatives. The point that these additional wet treatments are indispensable is a big problem for the conventional PS plate. Even if the first half (image exposure) of the plate making process is simplified by the digital processing, the effect of the simplification is insufficient in the wet processing in which the second half (development processing) is complicated.
Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry, and from consideration for the environment, processing with a developing solution closer to the neutral range and reduction of waste liquid have been raised as issues. Yes. In particular, it is desirable that the wet post-treatment is simplified or changed to a dry treatment.

このような観点から、処理工程を簡略化する方法として、現像とガム液処理を同時に行う1液処理あるいは1浴処理による方法がある。すなわち、前水洗工程を行わずに印刷版原版を画像露光後、保護層の除去、非画像部の除去、ガム液処理を1液あるいは1浴で同時に行い、後水洗工程を行わずに乾燥し、印刷工程に入る簡易現像方式である。このような簡易現像に適した平版印刷版原版は、後水洗工程を省略するため、強アルカリ性でない処理液に可溶な感光層を有し、しかも非画像部の耐汚れ性を良化するために、親水性の支持体表面が必要とされる。しかしながら従来のPS版では、このような要求を満たしながら高い耐刷性、耐薬品性を実現することは実質的に不可能であった。   From such a viewpoint, as a method for simplifying the processing step, there is a one-liquid process or a one-bath process in which development and gum solution processing are performed simultaneously. That is, after image exposure of the printing plate precursor without performing the pre-water washing step, the protective layer is removed, the non-image area is removed, and the gum solution treatment is simultaneously performed in one liquid or one bath, and the post-water washing step is not performed. This is a simple development method that enters the printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such simple development has a photosensitive layer that is soluble in a processing solution that is not strongly alkaline, and further improves the stain resistance of non-image areas, because the post-washing step is omitted. In addition, a hydrophilic support surface is required. However, with conventional PS plates, it has been virtually impossible to achieve high printing durability and chemical resistance while satisfying such requirements.

そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマーとしてポリビニルホスホン酸を有する層を支持体表面に形成した平版印刷版原版が提案されている(例えば特許文献5参照)。その製版に際しては、紫外線レーザーで画像露光した後に、pH9.8の処理液によって現像を行っている。   Therefore, in order to satisfy such a requirement, a lithographic printing plate precursor in which a layer having polyvinylphosphonic acid as a hydrophilic binder polymer is formed on the support surface has been proposed (see, for example, Patent Document 5). In making the plate, after image exposure with an ultraviolet laser, development is performed with a processing solution having a pH of 9.8.

そこで、このような要求を満足するためにポリビニルホスホン酸によって支持体を親水化処理した平版印刷版原版が提案されている(例えば特許文献5参照)。その製版に関しては、紫外線レーザーで画像露光した後に、pH9.8の処理液によって現像を行っている。   Therefore, a lithographic printing plate precursor in which the support is hydrophilized with polyvinylphosphonic acid has been proposed in order to satisfy such requirements (see, for example, Patent Document 5). Regarding the plate making, after image exposure with an ultraviolet laser, development is performed with a processing solution having a pH of 9.8.

しかしながらポリビニルホスホン酸のような親水化処理では、耐汚れ性を良化させるための親水性が不足しており、印刷版としての耐汚れ性に問題がある。
またポリビニルホスホン酸に変えて、スルホン酸基を持ったモノマーと、支持体吸着性基を共重合させたバインダーポリマーを有する層を支持体表面に形成した平版印刷版原版が提案されている(例えば特許文献6参照)が、耐刷性を発現するための疎水性重合性基を導入するにはいまだ親水性が不足している。このように耐刷性と耐汚れ性の両立は極めて難しく、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する簡易処理型の平版印刷版はこれまでに知られていない。
However, a hydrophilic treatment such as polyvinylphosphonic acid has insufficient hydrophilicity for improving the stain resistance, and there is a problem in the stain resistance as a printing plate.
Further, a lithographic printing plate precursor in which a layer having a monomer having a sulfonic acid group and a binder polymer obtained by copolymerizing a support adsorptive group is formed on the support surface in place of polyvinylphosphonic acid has been proposed (for example, However, hydrophilicity is still insufficient to introduce a hydrophobic polymerizable group for expressing printing durability. Thus, it is extremely difficult to satisfy both printing durability and stain resistance, a simple processing type lithographic printing plate having good stain resistance and sufficient printing durability has not been known so far.

また処理工程を簡易化する方法の一つに、露光済みの平版印刷版原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、平版印刷版原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である。
このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。しかしながら、従来のPS版では、このような要求を充分に満足することは、実質的に不可能であった。
そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献7参照)。その製版に際しては、赤外線レーザーで画像露光して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて画像形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水およびインキの少なくともいずれかを供給することにより機上現像される。この平版印刷版原版は画像記録域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
One method of simplifying the processing process is to mount the exposed lithographic printing plate precursor on the cylinder of the printing machine, and supply dampening water and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development that removes non-image areas. That is, the lithographic printing plate precursor is image-exposed and then mounted on a printing machine as it is, and the development process is completed in a normal printing process.
Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image forming layer soluble in dampening water or an ink solvent, and is suitable for development on a printing press placed in a bright room. It is necessary to have good light room handling. However, with the conventional PS plate, it is practically impossible to sufficiently satisfy such a requirement.
Therefore, in order to satisfy such requirements, a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support has been proposed ( For example, see Patent Document 7). In making the plate, image exposure is performed with an infrared laser, and the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are combined (fused) with heat generated by photothermal conversion to form an image. On-press development is performed by supplying at least one of fountain solution and ink. This lithographic printing plate precursor has handleability in a bright room because the image recording area is an infrared region.

しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて形成する画像は、強度が不充分で、平版印刷版としての耐刷性に問題がある。
また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献8〜13参照)。このような提案にかかる平版印刷版原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形成される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法が多く提案されている。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを使用することが提案されている。
However, an image formed by coalescence (fusion) of thermoplastic hydrophobic polymer fine particles has insufficient strength and has a problem in printing durability as a lithographic printing plate.
In addition, a lithographic printing plate precursor including microcapsules encapsulating a polymerizable compound in place of the thermoplastic fine particles has been proposed (see, for example, Patent Documents 8 to 13). The lithographic printing plate precursor according to such a proposal has an advantage that the polymer image formed by the reaction of the polymerizable compound is superior in strength to the image formed by fusing fine particles.
In addition, since the polymerizable compound has high reactivity, many methods for isolating it using microcapsules have been proposed. It has been proposed to use a thermally decomposable polymer for the shell of the microcapsule.

しかしながら、上記特許文献7〜13に記載の従来の平版印刷版原版では、レーザー露光により形成される画像の耐刷性が十分ではなく、更なる改良が求められている。即ち、これら簡易処理型の平版印刷版原版においては、親水性の高い表面を有する支持体を使用しており、その結果、印刷中の湿し水により画像部が支持体から剥離しやすく十分な耐刷性が得られなかった。逆に、支持体表面を疎水性にすると、印刷中に非画像部にもインクが付着するようになり、印刷汚れが発生してしまう。このように、耐刷性と耐汚れ性の両立は極めて難しく、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版はこれまでに知られていない。   However, in the conventional lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 7 to 13, the printing durability of images formed by laser exposure is not sufficient, and further improvements are required. That is, in these simple processing type lithographic printing plate precursors, a support having a highly hydrophilic surface is used, and as a result, the image portion is easily peeled off from the support by dampening water during printing. Printing durability was not obtained. On the contrary, if the support surface is made hydrophobic, the ink also adheres to the non-image area during printing, and printing stains occur. Thus, it is extremely difficult to achieve both printing durability and stain resistance, an on-press development type lithographic printing plate precursor having good stain resistance and sufficient printing durability has not been known so far. .

これに対し、支持体表面との密着性を高めた親水性層を設け、耐刷性と耐汚れ性をともに改善しようとした平板印刷版原版が知られている。例えば、特許文献14には、支持体上に、支持体表面と直接化学的に結合しかつ親水性官能基を有する高分子化合物からなる親水性層を有する平版印刷版用支持体が開示されている。特許文献15、16には、アルミニウム支持体またはシリケート処理されたアルミニウム支持体上に、当該支持体表面に直接若しくは架橋構造を有する構成成分を介して化学結合し得る反応性基を有する親水性ポリマーが化学結合してなる親水性表面を備える平版印刷版用支持体が開示されている。特許文献17には、支持体上に、重合開始剤、重合性化合物、および水またはアルカリ水溶液に溶解あるいは膨潤するバインダーポリマーを含有する感光層を有し、感光層またはその他の層に、エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを含む共重合体を含有する平版印刷版原版が開示されている。特許文献18には、支持体上に、該支持体表面と直接化学結合しうる反応性基、および、該支持体表面と架橋構造を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも1種の反応性基と、正電荷および負電荷を有する部分構造と、を有する親水性ポリマーが前記支持体表面に化学結合してなる親水性層と、画像形成層と、をこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版が開示されている。   On the other hand, there is known a lithographic printing plate precursor which is provided with a hydrophilic layer having improved adhesion to the surface of a support to improve both printing durability and stain resistance. For example, Patent Document 14 discloses a support for a lithographic printing plate having a hydrophilic layer made of a polymer compound that is chemically bonded directly to the support surface and has a hydrophilic functional group on the support. Yes. Patent Documents 15 and 16 disclose a hydrophilic polymer having a reactive group that can be chemically bonded to an aluminum support or a silicate-treated aluminum support directly or via a component having a crosslinked structure on the surface of the support. A support for a lithographic printing plate having a hydrophilic surface formed by chemically bonding is disclosed. Patent Document 17 has a photosensitive layer containing a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer that dissolves or swells in water or an aqueous alkali solution on a support, and the photosensitive layer or other layers have an ethylenic property. A lithographic printing plate precursor containing a copolymer comprising a repeating unit having at least one unsaturated bond and a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface is disclosed. Patent Document 18 discloses, on a support, at least one of a reactive group that can be chemically bonded directly to the surface of the support and a reactive group that can be chemically bonded to the support surface via a crosslinked structure. A hydrophilic layer formed by chemically bonding a hydrophilic polymer having a reactive group and a partial structure having a positive charge and a negative charge to the surface of the support, and an image forming layer in this order. A characteristic lithographic printing plate precursor is disclosed.

一方、近年では、耐刷性と耐汚れ性をともに改善することことに加え、平版印刷版を製造してから時間が経過した後に印刷を行ったときの耐汚れ性についても改善することが、印刷工程における平版印刷版の取扱容易性の観点から求められてきている。そのため、耐刷性と耐汚れ性に加え、経時後の耐汚れ性についても改善し、高いレベルでバランスをとることが求められてきている。   On the other hand, in recent years, in addition to improving both printing durability and stain resistance, it is also possible to improve stain resistance when printing is performed after a lapse of time since the production of a lithographic printing plate, It has been demanded from the viewpoint of easy handling of lithographic printing plates in the printing process. Therefore, in addition to the printing durability and stain resistance, it has been demanded to improve the stain resistance after aging and achieve a high level of balance.

米国特許4708925号明細書US Pat. No. 4,708,925 特開平8−276558号公報JP-A-8-276558 米国特許2850445号明細書U.S. Pat. No. 2,850,445 特公昭44−20189号公報Japanese Patent Publication No. 44-20189 特開2009−98590JP2009-98590 特開2009−216926JP2009-216926 日本国特許2938397号明細書Japanese Patent No. 2938397 特開2000−211262号公報JP 2000-2111262 A 特開2001−277740号公報JP 2001-277740 A 特開2002−29162号公報JP 2002-29162 A 特開2002−46361号公報JP 2002-46361 A 特開2002−137562号公報JP 2002-137562 A 特開2002−326470号公報JP 2002-326470 A 特開2001−166491号公報JP 2001-166491 A 特開2003−63166号公報JP 2003-63166 A 特開2004−276603号公報JP 2004-276603 A 特開2008−213177号公報JP 2008-213177 A 特開2007−118579号公報JP 2007-118579 A

このような状況のもと、本発明者らが、特許文献14〜18に記載の平版印刷版原版を検討したところ、耐汚れ性が未だ不十分であることがわかった。特に、平版印刷版を製造してから時間が経過した後に印刷を行うと、特に耐汚れ性が低下する問題を有していたことがわかった。   Under these circumstances, the present inventors examined the lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 14 to 18, and found that the stain resistance was still insufficient. In particular, it was found that when printing was carried out after a lapse of time since the lithographic printing plate was produced, there was a problem that particularly the stain resistance was lowered.

耐汚れ性や耐刷性が低下した要因として、従来の平版印刷版原版では中間層に用いている親水化剤(特定高分子化合物)の基板への塗布乾燥後の被覆面状悪化が要因の1つであることがわかった。さらに塗布面状は乾燥速度を高めるとさらに悪化するため、特許文献14〜18の平版印刷版原版は生産時に、乾燥速度の低下、ライン長の増加が強いられており生産性の悪化という問題も有していた。   As a factor that the stain resistance and printing durability have decreased, the deterioration of the coated surface after coating and drying of the hydrophilic agent (specific polymer compound) used for the intermediate layer in the conventional lithographic printing plate precursor is a factor. It turned out to be one. Furthermore, since the coated surface shape is further deteriorated when the drying speed is increased, the lithographic printing plate precursors of Patent Documents 14 to 18 are forced to decrease the drying speed and increase the line length during production, and there is a problem that the productivity deteriorates. Had.

従って、本発明が解決しようとする課題は、耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性に優れる平版印刷版を提供できる平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法を提供することにある。   Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate production method capable of providing a lithographic printing plate excellent in printing durability, stain resistance and aging resistance after aging. is there.

本発明者らは鋭意検討した結果、下塗り層に、a2)支持体吸着基と(a3)親水性基とを有する、分子量5000以上の共重合体と、双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を併用することにより、耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性を同時に改善できることがわかった。すなわち、以下の構成の平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法を用いることにより、上記課題を解決できることを見出した。
本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the undercoat layer has a copolymer having a molecular weight of 5000 or more having a2) support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group, and a molecular weight of less than 5000 having a zwitterionic group. It has been found that the combined use of the components can simultaneously improve the printing durability, stain resistance and stain resistance after aging. That is, it has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate preparation method having the following configuration.
The present invention is as follows.

<1>支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に設けられた中間層を含み、該中間層が(A)重量平均分子量5000以上の共重合体と、(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を含み、前記(A)共重合体が、(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基とを有する、平版印刷版原版。
<2>前記(A)共重合体が、下記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造の少なくとも1つの支持体吸着基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、<1>に記載の平版印刷版原版。
(一般式(a2−1)〜(a2−6)中、M1〜M8は、それぞれ、水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子、またはアンモニウムを表す。R41〜R46は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表す。Y21〜Y26は、それぞれ、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。)
<3>前記(A)共重合体が、下記一般式(a2−1)および(a2−2)で表される構造の少なくとも1つの支持体吸着基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、<2>に記載の平版印刷版原版。
<4> 前記(A)共重合体が、下記一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される構造の少なくとも1つの親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(a3−1)中、R31およびR32は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−2)中、L32は連結基を表し、E+は、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−3)中、Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。Mは水素原子、または一価の金属原子を表す。)
(一般式(a3−4)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−5)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。A-はアニオンを有する構造を表す。)
<5> 前記(A)共重合体が、下記一般式(a3−1)で表される構造の少なくとも1つの親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、<4>に記載の平版印刷版原版。
<6>前記(A)共重合体が、さらに(a1)架橋性基を側鎖に有する、<1>〜<5>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<7>前記(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分が下記一般式(b1−1)〜(b1−8)で表される構造を少なくとも1つ以上有する、<1>〜<6>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(b1−1)〜(b1−8)中、Rは、水素原子または置換基を有してもよく、飽和でも不飽和でもよく、直鎖または環状または分岐でもよい炭素数1〜15のアルキル基を表し、Lは2価の連結基を表し、Qはn価の連結基を表し、nは2以上の整数を表し、A-はアニオンを有する構造を表し、E+はカチオンを有する構造を表す。)
<8>Rが水素原子または置換基を有してもよく、飽和でも不飽和でもよく、直鎖または環状または分岐でもよい炭素数1〜5のアルキル基である、<7>に記載の平版印刷版原版。
<9>前記(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分が一般式(b1−1)、(b1−2)、(b1−5)または(b1−6)で表される構造を少なくとも1つ以上有する、<7>または<8>に記載の平版印刷版原版。
<10>前記(A)共重合体が、下記一般式(A2)で表される繰り返し単位および一般式(A3)で表される繰り返し単位を含む、<1>〜<9>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(A2)中、Ra’〜Rc’は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。(a2)は前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造を表し、一般式(a2−1)〜(a2−6)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。)
(一般式(A3)中、R201〜R203は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される構造のいずれかを表し、一般式(a3−1)〜(a3−5)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。)
(一般式(a2−1)〜(a2−6)中、M1〜M8は、それぞれ、水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子、またはアンモニウムを表す。R41〜R46は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表す。Y21〜Y26は、それぞれ、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−1)中、R31およびR32は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−2)中、L32は連結基を表し、E+は、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−3)中、Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。Mは水素原子、または一価の金属原子を表す。)
(一般式(a3−4)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−5)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。A-はアニオンを有する構造を表す。)
<11>前記架橋性基が、下記一般式(i)〜(iii)のいずれかで表される、<6〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(i)中、R1〜R3は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。)
(一般式(ii)中、R4〜R8は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。)
(一般式(iii)中、R9〜R11は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基である。)
<12>前記感光層が(C)重合開始剤、(D)重合性化合物、(E)バインダー、および(F)色素を含む、<1>〜<11>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<13>前記(E)バインダーが、(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂の少なくとも1種である、<12>に記載の平版印刷版原版。
<14>前記(D)重合性化合物がウレタン構造を有する、<12>または<13>に記載の平版印刷版原版。
<15><1>〜<14>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液の存在下で、非露光部の前記感光層を除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
<16>前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を形成する工程を含み;
前記現像工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)、ことを特徴とする<15>に記載の平版印刷版の製造方法。
<17>前記現像液のpHを、2.0〜10.0に制御する工程を含むことを特徴とする<15>または<16>に記載の平版印刷版の製造方法。
<18><1>〜<14>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
<1> A support, a photosensitive layer provided on the support, and an intermediate layer provided between the support and the photosensitive layer, wherein the intermediate layer (A) has a weight average molecular weight of 5000 or more. And (B) a component having a zwitterionic group and a molecular weight of less than 5000, and the (A) copolymer has (a2) a support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group. A lithographic printing plate precursor.
<2> The copolymer (A) includes a repeating unit having at least one support-adsorbing group having a structure represented by the following general formulas (a2-1) to (a2-6) in a side chain. The lithographic printing plate precursor as described in 1>.
(In the general formulas (a2-1) to (a2-6), M 1 to M 8 each represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or ammonium. R 41 to R 46 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 21 to Y 26 each represent a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, or a divalent aromatic group. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of group groups or combinations thereof. * Represents a site linked to the main chain of the polymer compound.)
<3> The copolymer (A) includes a repeating unit having at least one support adsorbing group having a structure represented by the following general formulas (a2-1) and (a2-2) in the side chain, 2. A lithographic printing plate precursor as described in 2>.
<4> The copolymer (A) includes a repeating unit having at least one hydrophilic group having a structure represented by the following general formulas (a3-1) to (a3-5) in a side chain. The lithographic printing plate precursor as described in any one of> to <3>.
(In General Formula (a3-1), R 31 and R 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 31 and R 32 are linked to each other. , Which may form a ring structure, L 31 represents a linking group, A represents a structure having an anion, Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, 2 A divalent linking group selected from the group consisting of a valent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.)
(In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, and E + represents a structure having a cation. Y 4 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, divalent. A divalent linking group selected from the group consisting of an aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.
(In General Formula (a3-3), Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of: * represents a site linked to the main chain of the copolymer, M represents a hydrogen atom or a monovalent metal atom.)
(In General Formula (a3-4), R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. Represents.)
(In General Formula (a3-5), R 33 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. A represents a structure having an anion.)
<5> The lithographic printing according to <4>, wherein the (A) copolymer includes a repeating unit having at least one hydrophilic group having a structure represented by the following general formula (a3-1) in a side chain. Version original edition.
<6> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <5>, wherein the (A) copolymer further has (a1) a crosslinkable group in the side chain.
<7> The component (B) having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000 has at least one structure represented by the following general formulas (b1-1) to (b1-8), <1> to <1. 6. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 6>.
(In the general formulas (b1-1) to (b1-8), R may have a hydrogen atom or a substituent, may be saturated or unsaturated, and may be linear, cyclic or branched. 15 represents an alkyl group, L represents a divalent linking group, Q represents an n-valent linking group, n represents an integer of 2 or more, A represents a structure having an anion, E + represents a cation Represents a structure having
<8> The lithographic plate according to <7>, wherein R may have a hydrogen atom or a substituent, may be saturated or unsaturated, and may be a linear, cyclic, or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms A printing plate master.
<9> A structure in which the component (B) having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000 is represented by the general formula (b1-1), (b1-2), (b1-5) or (b1-6). The lithographic printing plate precursor as described in <7> or <8>, having at least one.
<10> Any one of <1> to <9>, wherein the copolymer (A) includes a repeating unit represented by the following general formula (A2) and a repeating unit represented by the general formula (A3). The lithographic printing plate precursor as described in the paragraph.
(In the general formula (A2), R a ′ to R c ′ each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. (A2) represents the above general formulas (a2-1) to ( It represents the structure represented by a2-6), and is linked to the carbon atom at the site represented by * in general formulas (a2-1) to (a2-6).
(In the general formula (A3), R 201 ~R 203 are respectively represented by a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 6 carbon atoms. Formula (a3-1) ~ (a3-5) And is linked to a carbon atom at a site represented by * in the general formulas (a3-1) to (a3-5).
(In the general formulas (a2-1) to (a2-6), M 1 to M 8 each represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or ammonium. R 41 to R 46 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 21 to Y 26 each represent a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, or a divalent aromatic group. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of group groups or combinations thereof. * Represents a site linked to the main chain of the polymer compound.)
(In General Formula (a3-1), R 31 and R 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 31 and R 32 are linked to each other. , Which may form a ring structure, L 31 represents a linking group, A represents a structure having an anion, Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, 2 A divalent linking group selected from the group consisting of a valent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.)
(In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, and E + represents a structure having a cation. Y 4 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, divalent. A divalent linking group selected from the group consisting of an aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.
(In General Formula (a3-3), Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of: * represents a site linked to the main chain of the copolymer, M represents a hydrogen atom or a monovalent metal atom.)
(In General Formula (a3-4), R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. Represents.)
(In General Formula (a3-5), R 33 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. A represents a structure having an anion.)
<11> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <6 to 10, wherein the crosslinkable group is represented by any one of the following general formulas (i) to (iii).
(In General Formula (i), R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)
(In General Formula (ii), R 4 to R 8 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)
(In general formula (iii), R 9 to R 11 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Z has an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) — or a substituent. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group that may have a substituent.
<12> The lithographic plate according to any one of <1> to <11>, wherein the photosensitive layer contains (C) a polymerization initiator, (D) a polymerizable compound, (E) a binder, and (F) a dye. A printing plate master.
<13> The lithographic printing plate precursor as described in <12>, wherein the (E) binder is at least one of a (meth) acrylic resin, a polyurethane resin, and a polyvinyl butyral resin.
<14> The lithographic printing plate precursor as described in <12> or <13>, wherein the polymerizable compound (D) has a urethane structure.
<15><1> to the step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <14> imagewise,
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of removing the exposed lithographic printing plate precursor in the presence of a developer having a pH of 2 to 14 in the non-exposed portion of the photosensitive layer.
<16> including a step of forming a protective layer on the surface of the photosensitive layer opposite to the support;
The developing step further includes a step of removing the photosensitive layer in the non-exposed area and the protective layer at the same time in the presence of the developer containing a surfactant (but not including a washing step). <15> The manufacturing method of the lithographic printing plate as described in <15>.
<17> The method for producing a lithographic printing plate as described in <15> or <16>, comprising a step of controlling the pH of the developer to 2.0 to 10.0.
<18> The step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <14>imagewise;
A method for producing a lithographic printing plate, comprising: supplying printing ink and fountain solution on a printing machine to remove the photosensitive layer in the non-exposed portion.

本発明の構成によれば、耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性に優れる平版印刷版および平版印刷版の製造方法を提供することができる。   According to the configuration of the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate and a lithographic printing plate production method that are excellent in printing durability, stain resistance, and stain resistance after aging.

自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor. 自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書中、一般式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、一般式において、「Rはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルアミドは、メタクリルアミドとアクリルアミドを共に含む概念を表す。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In the present specification, regarding the notation of the group in the compound represented by the general formula, when there is no substitution or no substitution, there is no other special provision when the group can further have a substituent. As long as it includes not only an unsubstituted group but also a group having a substituent. For example, in the general formula, if there is a description that “R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group”, “R represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an Represents a substituted heterocyclic group or a substituted heterocyclic group. Moreover, in this specification, (meth) acrylamide represents the concept containing both methacrylamide and acrylamide.

[平版印刷版原版]
以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に設けられた中間層を含み、該中間層が(A)分子量5000以上の共重合体と、(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を含み、前記(A)共重合体が、(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基とを有することを特徴とする。なお前記(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基を有する(A)共重合体を、以下特定高分子化合物とも称する。また前記(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を、以下特定低分子化合物とも称する。
[Lithographic printing plate precursor]
Hereinafter, the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention includes a support, a photosensitive layer provided on the support, and an intermediate layer provided between the support and the photosensitive layer. A copolymer having a molecular weight of 5000 or more, and (B) a component having a molecular weight of less than 5000 having a zwitterionic group, wherein the (A) copolymer comprises (a2) a support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group. It is characterized by having. The (A2) copolymer having (a2) support adsorbing group and (a3) hydrophilic group is also referred to as a specific polymer compound hereinafter. The component (B) having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000 is also referred to as a specific low molecular compound hereinafter.

いかなる理由に拘泥するものでもないが、本発明の平板印刷版原版は(A)共重合体および(B)特定低分子化合物を下塗り層に含有することで、以下の理由により本発明の効果が発現できていると推測している。親水性基を持った(A)共重合体は、極性が高いことから、塗布液中でポリマーが凝集し糸まり状になっていると想定される。そこに(B)特定低分子化合物を添加することで、溶液中のイオン濃度が上昇しポリマーが溶媒和することでの安定化が促進され、凝集が解除される。そのため凝集した状態で、基板への塗布・乾燥をすることで発生する(A)共重合体が糸まりのままに基板を被覆した塗布面状不良を抑えた支持体表面を得ることができる。(A)共重合体の凝集を解除することにより、様々な乾燥条件においても塗布面状を悪化させること無く均一に基板表面を被覆することができる。これにより、本発明の目的である耐汚れ性および経時安定性に非常に優れ、さらに耐刷性優れ(より好ましくは現像性にも優れた)、生産性の向上した平版印刷版を提供できる平版印刷版原版および平版印刷版の作成方法を提供することが可能になった。   Although not limited to any reason, the lithographic printing plate precursor according to the present invention contains (A) a copolymer and (B) a specific low molecular weight compound in the undercoat layer, so that the effects of the present invention are achieved for the following reasons. Presumed to have been expressed. Since the copolymer (A) having a hydrophilic group has high polarity, it is assumed that the polymer aggregates in a coating solution to form a string. By adding the specific low molecular weight compound (B) there, the ion concentration in the solution is increased, the stabilization by the solvation of the polymer is promoted, and the aggregation is released. Therefore, it is possible to obtain a support surface that suppresses defective coating surface conditions in which the copolymer (A) generated by coating and drying the substrate in an aggregated state coats the substrate while being a string. (A) By releasing the aggregation of the copolymer, the substrate surface can be uniformly coated without deteriorating the coated surface state even under various drying conditions. As a result, the lithographic printing plate can provide a lithographic printing plate that is very excellent in stain resistance and stability over time, which is the object of the present invention, further excellent in printing durability (preferably excellent in developability), and improved in productivity. It has become possible to provide a method for producing a printing plate precursor and a lithographic printing plate.

本発明の平板印刷版原版は、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能であることが好ましい。また、特に、pH2.0〜10.0以下の水溶液や印刷機上においても現像可能であることが好ましい。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably capable of so-called direct plate making, which can be directly made using various lasers from a digital signal from a computer or the like. In particular, it is preferable that development is possible even in an aqueous solution having a pH of 2.0 to 10.0 or a printing press.

以下、本発明の平版印刷版原版の好ましい態様について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に設けられた感光層を含む。さらに、本発明の平版印刷版原版は、前記支持体と前記感光層との間に、中間層としての下塗り層が設けられている。さらに、本発明の平版印刷版原版は、他の構成層を有していてもよい。本発明では、支持体と中間層が互いに接していることが好ましく、支持体と、中間層と、感光層が該順に互いに接していることがより好ましい。しかしながら、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、支持体と中間層の間、中間層と感光層の間に、さらに中間層(下塗り層)が設けられていてもよい。本発明の平版印刷版原版は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含むことが好ましい。また、本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
以下、本発明の平版印刷版原版を構成する中間層、感光層、その他の層、保護層、バックコート層について順に説明し、本発明の平版印刷版原版を形成する方法を説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention includes a support and a photosensitive layer provided on the support. Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with an undercoat layer as an intermediate layer between the support and the photosensitive layer. Furthermore, the lithographic printing plate precursor according to the invention may have other constituent layers. In the present invention, the support and the intermediate layer are preferably in contact with each other, and the support, the intermediate layer, and the photosensitive layer are more preferably in contact with each other in this order. However, an intermediate layer (undercoat layer) may be further provided between the support and the intermediate layer and between the intermediate layer and the photosensitive layer without departing from the spirit of the present invention. The lithographic printing plate precursor according to the invention preferably includes a protective layer on the surface of the photosensitive layer opposite to the support. Moreover, the lithographic printing plate precursor according to the invention can be provided with a backcoat layer on the back surface of the support, if necessary.
Hereinafter, the intermediate layer, photosensitive layer, other layers, protective layer, and backcoat layer constituting the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in order, and the method for forming the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.

<中間層>
本発明の平版印刷版原版において、中間層は、(A)分子量5000以上の共重合体と、(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を含み、前記(A)共重合体が、(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基とを有することを特徴とする。また、前記中間層は、必要に応じて、さらにその他の成分を含有することができる。
以下、説明のため前記中間層において(A)共重合体(特定高分子化合物)と(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分(特定低分子化合物)について詳細に説明する。
<Intermediate layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the intermediate layer includes (A) a copolymer having a molecular weight of 5000 or more and (B) a component having a zwitterionic group and a molecular weight of less than 5000, and the copolymer (A) (A2) It has a support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group. Moreover, the said intermediate | middle layer can contain another component further as needed.
Hereinafter, for the sake of explanation, in the intermediate layer, (A) a copolymer (specific polymer compound) and (B) a component having a molecular weight of less than 5000 (specific low molecular compound) having a zwitterionic group will be described in detail.

(A)共重合体(特定高分子化合物)
本発明における共重合体は、(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基とを有することを特徴し、主鎖の95モル%以上が炭素−炭素結合からなり、かつ、側鎖に(a2)支持体吸着基と(a3)親水性基を有することが好ましい。
(A) Copolymer (specific polymer compound)
The copolymer in the present invention is characterized in that it has (a2) a support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group, 95 mol% or more of the main chain is composed of carbon-carbon bonds, and the side chain has (A2) It preferably has a support adsorbing group and (a3) a hydrophilic group.

(a2)支持体吸着基
特定高分子化合物は(a2)支持体吸着基を有することを特徴とする。支持体吸着基とは、特定高分子化合物と支持体とをファンデルワールス相互作用力、静電相互作用力、共有結合力、イオン結合力、配位結合力を用いて密着させる機能を有する基を表す。
(A2) Support Adsorbing Group The specific polymer compound is characterized by having (a2) a support adsorbing group. The support adsorbing group is a group having a function of bringing a specific polymer compound and a support into close contact with each other using van der Waals interaction force, electrostatic interaction force, covalent bond force, ionic bond force, or coordination bond force. Represents.

支持体種に合わせて、好適な官能基は異なるが平版印刷版原版に一般的に用いられる金属支持体に対しては、酸性基やヒドロキシ基が好ましく、さらにキレート配位できるような構造様であることがより好ましい。特に下記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造の少なくとも1つを側鎖に有する繰り返し単位であることが好ましい。
(一般式(a2−1)〜(a2−6)中、M1〜M8は、それぞれ、水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子、またはアンモニウムを表す。R41〜R46は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表す。Y21〜Y26は、それぞれ、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。)
Depending on the type of support, suitable functional groups differ, but for metal supports generally used in lithographic printing plate precursors, acidic groups and hydroxy groups are preferred, and the structure is such that chelate coordination is possible. More preferably. In particular, it is preferably a repeating unit having at least one of structures represented by the following general formulas (a2-1) to (a2-6) in the side chain.
(In the general formulas (a2-1) to (a2-6), M 1 to M 8 each represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or ammonium. R 41 to R 46 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Y 21 to Y 26 each represent a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, or a divalent aromatic group. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of group groups or combinations thereof. * Represents a site linked to the main chain of the polymer compound.)

上記式中、R41〜R46は、それぞれ、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。R41〜R46で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。 In the above formula, each of R 41 to R 46 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group represented by R 41 to R 46 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an octyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, and a cyclopentyl group. Etc.

上記式中、Y21〜Y26の組み合わせとしては、以下のものが例示される。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。
L1:−CO−O−2価の脂肪族基−
L2:−CO−O−2価の芳香族基−
L3:−CO−NH−2価の脂肪族基−
L4:−CO−NH−2価の芳香族基−
In the above formula, examples of the combination of Y 21 to Y 26 include the following. In the following examples, the left side is bonded to the main chain.
L1: -CO-O-2 valent aliphatic group-
L2: -CO-O-2 valent aromatic group-
L3: -CO-NH-2 valent aliphatic group-
L4: -CO-NH-2 valent aromatic group-

ここで前記2価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。
2価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。2価の脂肪族基の炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜12であることがさらに好ましく、1〜10であることがさらにまた好ましく、1〜8であることがさらに好ましい。
2価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
Here, the divalent aliphatic group means an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group or a polyalkyleneoxy group. Of these, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group are preferable, and an alkylene group and a substituted alkylene group are more preferable.
The divalent aliphatic group preferably has a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably has a straight chain structure than a branched chain structure. The number of carbon atoms of the divalent aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 12, and further preferably 1 to 10. Preferably, it is 1-8.
Examples of the substituent of the divalent aliphatic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group. An acyloxy group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a diarylamino group, and the like.

前記2価の芳香族基とは、2価の単環式または多環式芳香族炭化水素基を意味する。前記2価の芳香族基の具体例としては、例えば、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、ビフェニル−4,4’−ジイル基、ジフェニルメタン−4,4’−ジイル基、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイル基、1,2−ナフタレン基、1,5−ナフタレン基、2,6−ナフタレン基などが挙げられる。
前記2価の芳香族基の置換基の例としては、上記2価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
The divalent aromatic group means a divalent monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group. Specific examples of the divalent aromatic group include, for example, 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, biphenyl-4,4′-diyl group, diphenylmethane-4, Examples thereof include 4′-diyl group, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diyl group, 1,2-naphthalene group, 1,5-naphthalene group, 2,6-naphthalene group and the like.
Examples of the substituent of the divalent aromatic group include an alkyl group in addition to the examples of the substituent of the divalent aliphatic group.

21〜Y26としては、単結合、2価の芳香族基、L1、L2、L3およびL4が好ましく、単結合、L1およびL2がより好ましい。 Y 21 to Y 26 are preferably a single bond, a divalent aromatic group, L1, L2, L3 and L4, and more preferably a single bond, L1 and L2.

1〜M8は、それぞれ、水素原子、アルカリ金属に含まれる金属原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。アルカリ金属としては、ナトリウムが好ましい。 M 1 to M 8 are each preferably a hydrogen atom or a metal atom contained in an alkali metal, and more preferably a hydrogen atom. As the alkali metal, sodium is preferable.

前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造の中でも、耐汚れ性および耐刷性の観点から、支持体表面と相互作用する構造は、前記一般式(a2−1)、(a2−2)および(a2−6)で表される構造であることが好ましく、前記一般式(a2−1)または(a2−2)で表される構造であることがより好ましい。
また、前記一般式(a2−1)で表される構造、前記一般式(a2−2)で表される構造ともにそれぞれ、M1およびM2と、M3およびM4が水素原子であることが好ましい。
また、耐汚れ性および耐刷性の観点から、前記支持体表面と相互作用する官能基は、上記カルボン酸を含有する基、スルホン酸基、リン酸エステル基もしくはその塩、ホスホン酸基もしくはその塩であることが好ましい。
Among the structures represented by the general formulas (a2-1) to (a2-6), from the viewpoint of stain resistance and printing durability, the structure that interacts with the surface of the support is represented by the general formula (a2-1). ), (A2-2) and (a2-6) are preferable, and a structure represented by the general formula (a2-1) or (a2-2) is more preferable.
Further, in both the structure represented by the general formula (a2-1) and the structure represented by the general formula (a2-2), M 1 and M 2 and M 3 and M 4 are hydrogen atoms, respectively. Is preferred.
Further, from the viewpoint of stain resistance and printing durability, the functional group that interacts with the support surface is a group containing the above carboxylic acid, a sulfonic acid group, a phosphate ester group or a salt thereof, a phosphonic acid group or a salt thereof. A salt is preferred.

前記(a2)支持体表面と相互作用する構造を少なくとも1つ有する繰り返し単位は、下記一般式(A2)で表される繰り返し単位が好ましい。
(一般式(A2)中、Ra’〜Rc’は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。(a2)は前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造を表し、一般式(a2−1)〜(a2−6)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。)
a’〜Rc’は、それぞれ、水素原子またはメチル基が好ましい。Ra’およびRb’は、水素原子がより好ましい。
The repeating unit (a2) having at least one structure that interacts with the support surface is preferably a repeating unit represented by the following general formula (A2).
(In the general formula (A2), R a ′ to R c ′ each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. (A2) represents the above general formulas (a2-1) to ( It represents the structure represented by a2-6), and is linked to the carbon atom at the site represented by * in general formulas (a2-1) to (a2-6).
R a ′ to R c ′ are each preferably a hydrogen atom or a methyl group. R a ′ and R b ′ are more preferably a hydrogen atom.

前記(A)共重合体において前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造を有する繰り返し単位(a2)の割合は、耐汚れ性および現像性の観点から、全繰り返し単位の1〜99重量%の範囲であることが好ましく、10〜90重量%の範囲であることがより好ましく、20〜70重量%の範囲であることがさらに好ましい。   In the copolymer (A), the ratio of the repeating unit (a2) having the structure represented by the general formulas (a2-1) to (a2-6) is all repeated from the viewpoint of stain resistance and developability. The range is preferably from 1 to 99% by weight of the unit, more preferably from 10 to 90% by weight, and even more preferably from 20 to 70% by weight.

前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造としては、具体的には、下記の構造を挙げることができるが、本発明は以下の具体例に限定されるものではない。   Specific examples of the structure represented by the general formulas (a2-1) to (a2-6) include the following structures, but the present invention is not limited to the following specific examples. Absent.

(a3)親水性基を側鎖に有する繰り返し単位:
本発明で用いる(A)共重合体は、非画像部の支持体表面を高親水性にするために、(a3)親水性基を少なくとも1つ側鎖に含有する繰り返し単位を有することが好ましい。親水性基としては水分子との間に水素結合・ファンデルワールス結合・イオン結合を形成しやすいものを指し、一価または2価以上の親水性基から選ばれ、具体的にはヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、スルホ基、正電荷または負電荷を有する基、双性イオン基やその金属塩等が挙げられる。その中でも、例えば、ヒドロキシ基、スルホン酸基、エチレンオキシ基やプロピレンオキシ基等のアルキレンオキシ基、第四級アンモニウム基、アミド基、エーテル基結合を含む基、またはカルボン酸、スルホン酸、リン酸などの酸基を中和した塩、正に帯電した窒素原子を含有する複素環基などが好ましい。またこれら親水基は(a2)支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有する繰り返し単位と兼ねてもよい。
(A3) Repeating unit having hydrophilic group in side chain:
The copolymer (A) used in the present invention preferably has (a3) a repeating unit containing at least one hydrophilic group in the side chain in order to make the support surface of the non-image area highly hydrophilic. . The hydrophilic group refers to one that easily forms a hydrogen bond, van der Waals bond, or ionic bond with a water molecule, and is selected from monovalent or divalent or more hydrophilic groups, specifically a hydroxy group, Examples thereof include a carboxyl group, an amino group, a sulfo group, a group having a positive charge or a negative charge, a zwitterionic group or a metal salt thereof. Among them, for example, hydroxy group, sulfonic acid group, alkyleneoxy group such as ethyleneoxy group and propyleneoxy group, quaternary ammonium group, amide group, group containing ether group bond, or carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid A salt obtained by neutralizing an acid group such as a heterocyclic group containing a positively charged nitrogen atom is preferred. These hydrophilic groups may also serve as a repeating unit (a2) having in the side chain a structure that interacts with the support surface.

本発明においては、前記(a3)親水性基を側鎖に有する繰り返し単位が酸基、アミノ基、第四級基であることが好ましく、双性イオン構造を側鎖に有する繰り返し単位である場合が、非画像部の支持体表面を高親水性にする観点から、特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版は、前記共重合体(A)に含まれる親水性基が、下記一般式(a3−1)〜(a3−5)で表されることが好ましく、一般式(a3−1)または(a3−2)で表されることがより好ましく、一般式(a3−1)で表されることがさらに好ましい。
In the present invention, the repeating unit (a3) having a hydrophilic group in the side chain is preferably an acid group, an amino group, or a quaternary group, and is a repeating unit having a zwitterionic structure in the side chain. However, it is particularly preferable from the viewpoint of making the support surface of the non-image area highly hydrophilic.
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the hydrophilic group contained in the copolymer (A) is preferably represented by the following general formulas (a3-1) to (a3-5). -1) or (a3-2) is more preferable, and the general formula (a3-1) is more preferable.

(一般式(a3−1)中、R31およびR32は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−2)中、L32は連結基を表し、E+は、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−3)中、Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。Mは水素原子、または一価の金属原子を表す。)
(一般式(a3−4)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−5)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。A-はアニオンを有する構造を表す。)
(In General Formula (a3-1), R 31 and R 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 31 and R 32 are linked to each other. , Which may form a ring structure, L 31 represents a linking group, A represents a structure having an anion, Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, 2 A divalent linking group selected from the group consisting of a valent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.)
(In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, and E + represents a structure having a cation. Y 4 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, divalent. A divalent linking group selected from the group consisting of an aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.
(In General Formula (a3-3), Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of: * represents a site linked to the main chain of the copolymer, M represents a hydrogen atom or a monovalent metal atom.)
(In General Formula (a3-4), R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. Represents.)
(In General Formula (a3-5), R 33 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. A represents a structure having an anion.)

上記一般式(a3−1)中、R31およびR32が互いに連結して形成する環構造は、酸素原子などのヘテロ原子を有していてもよく、好ましくは5〜10員環、より好ましくは5または6員環である。
31およびR32の炭素数は、後述の有していてもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数1〜30が好ましく、炭素数1〜20がより好ましく、炭素数1〜15が特に好ましく、炭素数1〜8が最も好ましい。
In the general formula (a3-1), the ring structure formed by connecting R 31 and R 32 to each other may have a heteroatom such as an oxygen atom, preferably a 5- to 10-membered ring, more preferably Is a 5- or 6-membered ring.
The carbon number of R 31 and R 32 is preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 15 carbon atoms, including the carbon number of the substituent which may be described later. Particularly preferred, C1-C8 is most preferred.

31およびR32で表されるアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。
31およびR32で表されるアルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられる。
31およびR32で表されるアルキニル基の例としては、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
31およびR32で表されるアリール基の例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基などが挙げられる。さらに、ヘテロ環基としては、フラニル基、チオフェニル基、ピリジニル基などが挙げられる。
Examples of the alkyl group represented by R 31 and R 32 include methyl group, ethyl group, propyl group, octyl group, isopropyl group, tert-butyl group, isopentyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, A cyclopentyl group etc. are mentioned.
Examples of the alkenyl group represented by R 31 and R 32 include a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, and an oleyl group.
Examples of alkynyl groups represented by R 31 and R 32 include ethynyl group, propargyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.
Examples of the aryl group represented by R 31 and R 32 include a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group. Furthermore, examples of the heterocyclic group include a furanyl group, a thiophenyl group, and a pyridinyl group.

31およびR32で表されるこれらの基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。 These groups represented by R 31 and R 32 may further have a substituent. Examples of the substituent include halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxy group, carboxy group, amino group, cyano group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy Examples include a carbonyl group, an acyloxy group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, a monoarylamino group, and a diarylamino group.

31およびR32として、効果および入手容易性の観点から、特に好ましい例としては、水素原子、メチル基、またはエチル基を挙げることができる。 As R 31 and R 32 , from the viewpoints of effects and availability, particularly preferred examples include a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.

3で表される2価の連結基としては、単結合、または、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、2価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。 The divalent linking group represented by Y 3 consists of a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group;

上記の組み合わせからなるY3の具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。
L101:−CO−O−2価の脂肪族基−
L102:−CO−O−2価の芳香族基−
L103:−CO−NH−2価の脂肪族基−
L104:−CO−NH−2価の芳香族基−
L105:−CO−2価の脂肪族基−
L106:−CO−2価の芳香族基−
L107:−CO−2価の脂肪族基−CO−O−2価の脂肪族基−
L108:−CO−2価の脂肪族基−O−CO−2価の脂肪族基−
L109:−CO−2価の芳香族基−CO−O−2価の脂肪族基−
L110:−CO−2価の芳香族基−O−CO−2価の脂肪族基−
L111:−CO−2価の脂肪族基−CO−O−2価の芳香族基−
L112:−CO−2価の脂肪族基−O−CO−2価の芳香族基−
L113:−CO−2価の芳香族基−CO−O−2価の芳香族基−
L114:−CO−2価の芳香族基−O−CO−2価の芳香族基−
L115:−CO−O−2価の芳香族基−O−CO−NH−2価の脂肪族基−
L116:−CO−O−2価の脂肪族基−O−CO−NH−2価の脂肪族基−
Specific examples of Y 3 comprising the above combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain.
L101: -CO-O-2 valent aliphatic group-
L102: -CO-O-2 valent aromatic group-
L103: -CO-NH-2 valent aliphatic group-
L104: -CO-NH-2 valent aromatic group-
L105: -CO-2 valent aliphatic group-
L106: -CO-2 valent aromatic group-
L107: -CO-2 valent aliphatic group -CO-O-2 valent aliphatic group-
L108: -CO-2 valent aliphatic group -O-CO-2 valent aliphatic group-
L109: -CO-2 valent aromatic group -CO-O-2 valent aliphatic group-
L110: -CO-2 valent aromatic group -O-CO-2 valent aliphatic group-
L111: -CO-2 valent aliphatic group -CO-O-2 valent aromatic group-
L112: -CO-2 valent aliphatic group -O-CO-2 valent aromatic group-
L113: -CO-2 valent aromatic group -CO-O-2 valent aromatic group-
L114: -CO-2 valent aromatic group -O-CO-2 valent aromatic group-
L115: -CO-O-2 valent aromatic group -O-CO-NH-2 valent aliphatic group-
L116: -CO-O-2 valent aliphatic group -O-CO-NH-2 valent aliphatic group-

ここで前記2価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基が更に好ましい。
2価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、更に分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。2価の脂肪族基の炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、1〜15であることがより好ましく、1〜12であることが更に好ましく、1〜10であることが更にまた好ましく、1〜8であることが最も好ましい。
2価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
Here, the divalent aliphatic group means an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group or a polyalkyleneoxy group. Of these, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group are preferable, and an alkylene group and a substituted alkylene group are more preferable.
The divalent aliphatic group is preferably a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably a linear structure than a branched chain structure. The number of carbon atoms of the divalent aliphatic group is preferably 1-20, more preferably 1-15, still more preferably 1-12, and still more preferably 1-10. Preferably, it is 1-8.
Examples of the substituent of the divalent aliphatic group include halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxy group, carboxy group, amino group, cyano group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, monoalkyl Examples thereof include an amino group, a dialkylamino group, an arylamino group, and a diarylamino group.

前記2価の芳香族基とは、二価の単環式又は多環式芳香族炭化水素基を意味する。前記二価の芳香族基の具体例としては、例えば、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、ビフェニル−4,4’−ジイル基、ジフェニルメタン−4,4’−ジイル基、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイル基、1,2−ナフタレン基、1,5−ナフタレン基、2,6−ナフタレン基などが挙げられる。
前記2価の芳香族基の置換基の例としては、上記2価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
The divalent aromatic group means a divalent monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group. Specific examples of the divalent aromatic group include, for example, 1,2-phenylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, biphenyl-4,4′-diyl group, diphenylmethane-4, Examples thereof include 4′-diyl group, 3,3′-dimethylbiphenyl-4,4′-diyl group, 1,2-naphthalene group, 1,5-naphthalene group, 2,6-naphthalene group and the like.
Examples of the substituent of the divalent aromatic group include an alkyl group in addition to the examples of the substituent of the divalent aliphatic group.

なかでもY3として好ましくは、単結合、−CO−、2価の脂肪族基、2価の芳香族基、前記L101〜L104である。さらに耐汚れ性の観点から、Y3は、前記L101またはL103であることが好ましく、L103であることがさらに好ましい。さらにL103の2価の脂肪族基が、炭素数2〜4の直鎖アルキレン基であることが好ましく、合成上、炭素数3の直鎖アルキレン基であることが最も好ましい。 Among them, Y 3 is preferably a single bond, —CO—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or L101 to L104. Further, from the viewpoint of stain resistance, Y 3 is preferably L101 or L103, and more preferably L103. Further, the divalent aliphatic group of L103 is preferably a linear alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and most preferably a linear alkylene group having 3 carbon atoms in terms of synthesis.

31は連結基を表し、好ましくは、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、2価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる連結基であり、好ましくは、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10)、および、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基(好ましくは炭素数5〜15、より好ましくは炭素数6〜10)が挙げられる。なかでも耐汚れ性の観点から、L31は、炭素数3〜5の直鎖アルキレン基が好ましく、さらに炭素数4もしくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。
31の具体例として、例えば、以下の連結基が挙げられる。
L 31 represents a linking group, preferably a linking group composed of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and a combination thereof, The carbon number is 30 or less including the carbon number of the substituent which may be described later. Specific examples thereof include an alkylene group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms) and an arylene group such as phenylene and xylylene (preferably having 5 to 15 carbon atoms, more preferably having a carbon number). 6 to 10). Among these, from the viewpoint of stain resistance, L 31 is preferably a linear alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, more preferably a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms, and most preferably a linear alkylene group having 4 carbon atoms. preferable.
Specific examples of L 31 include the following linking groups.

なお、これらの連結基は、置換基をさらに有していてもよい。
置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
In addition, these coupling groups may further have a substituent.
Examples of the substituent include halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxy group, carboxy group, amino group, cyano group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxy Examples include a carbonyl group, an acyloxy group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, a monoarylamino group, and a diarylamino group.

前記一般式(a3−1)において、A-は、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスフェート、ホスホナート、またはホスフィナートを表す。
具体的には、以下の陰イオンが挙げられる。
In the general formula (a3-1), A preferably represents a carboxylate, a sulfonate, a phosphate, a phosphonate, or a phosphinate.
Specific examples include the following anions.

耐汚れ性の観点から、A-はスルホナートであることが最も好ましい。さらに、前記一般式(a1−1)において、L31が、炭素数4もしくは5の直鎖アルキレン基であり、かつA-がスルホナートの組み合わせが好ましく、L31が、炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつA-がスルホナートの組み合わせが最も好ましい。 From the standpoint of stain resistance, A - and most preferably is sulfonate. Further, in the general formula (a1-1), L 31 is a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms, and A is a combination of sulfonate, and L 31 is a linear alkylene having 4 carbon atoms. Most preferred is a combination of the groups and A - is sulfonate.

3は前記L101またはL103であり、R31およびR32がエチル基またはメチル基であり、L31が、炭素数4もしくは5の直鎖アルキレン基であり、A-がスルホナート基である組み合わせが好ましい。
さらにY3は前記L103であり、R31、R32がメチル基であり、L31が、炭素数4の直鎖アルキレン基であり、かつA-がスルホナートの組み合わせがより好ましい。
Y 3 is L101 or L103, R 31 and R 32 are ethyl groups or methyl groups, L 31 is a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms, and A is a sulfonate group. preferable.
More preferably, Y 3 is L103, R 31 and R 32 are methyl groups, L 31 is a linear alkylene group having 4 carbon atoms, and A is sulfonate.

次に、下記一般式(a3−2)で表される双性イオン構造について説明する。
前記一般式(a3−2)において、L32は連結基を表し、好ましくは、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、2価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる。その具体的な例および好ましい例については、前述のL31で表される連結基と同様である。
4は、前記一般式(a3−2)のY3と同義であり、好ましい例も同じである。
+は、カチオンを有する構造を表し、好ましくはアンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、またはスルホニウムを有する構造を表す。より好ましくは、アンモニウムまたはホスホニウムを有する構造であり、特に好ましくはアンモニウムを有する構造である。カチオンを有する構造の例としては、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、N−メチルイミダゾリオ基、N−アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、トリフェニルホスホニオ基などが挙げられる。
32、Y4、E+の最も好ましい組み合わせは、L32が炭素数2〜4のアルキレン基であり、Y4は、前記L101またはL103であり、E+は、トリメチルアンモニオ基またはトリエチルアンモニオ基、である。
Next, the zwitterionic structure represented by the following general formula (a3-2) will be described.
In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, preferably —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Selected from the group consisting of Specific examples and preferred examples thereof are the same as the linking group represented by L 31 described above.
Y 4 has the same meaning as Y 3 in formula (a3-2), and preferred examples are also the same.
E + represents a structure having a cation, and preferably represents a structure having ammonium, phosphonium, iodonium, or sulfonium. A structure having ammonium or phosphonium is more preferable, and a structure having ammonium is particularly preferable. Examples of structures having a cation include trimethylammonio group, triethylammonio group, tributylammonio group, benzyldimethylammonio group, diethylhexylammonio group, (2-hydroxyethyl) dimethylammonio group, pyridinio group, N-methylimidazolio group, N-acridinio group, trimethylphosphonio group, triethylphosphonio group, triphenylphosphonio group and the like can be mentioned.
In the most preferable combination of L 32 , Y 4 and E + , L 32 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, Y 4 is L101 or L103, and E + is a trimethylammonio group or triethylammoni. Oh group.

一般式(a3−3)〜(a3−5)中、Y3は、上記一般式(a3−1)におけるY3と同義であり、好ましい範囲も同義である。Mは、水素原子またはナトリウム原子が好ましい。
33は水素原子又はメチル基が好ましい。
In the general formula (a3-3) ~ (a3-5), Y 3 has the same meaning as Y 3 in the general formula (a3-1), the preferred range is also the same. M is preferably a hydrogen atom or a sodium atom.
R 33 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

本発明では、(a3)親水性基を含む繰り返し単位として、下記一般式(A3)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。   In this invention, it is preferable to have a repeating unit represented by the following general formula (A3) as a repeating unit containing a hydrophilic group (a3).

(一般式(A3)中、R201〜R203は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Gは、一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される構造のいずれかを表し、一般式(a3−1)〜(a3−5)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。)
201〜R203は、それぞれ、水素原子またはメチル基が好ましい。R201およびR202は、水素原子がさらに好ましい。
(In the general formula (A3), R 201 ~R 203, respectively, .G represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 6 carbon atoms, the general formula (a3-1) ~ (a3-5) And is linked to a carbon atom at a site represented by * in the general formulas (a3-1) to (a3-5).
R 201 to R 203 are each preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 201 and R 202 are more preferably a hydrogen atom.

前記一般式(A3)において側鎖Gは、一般式(a3−1)または(a3−2)が好ましく、一般式(a3−1)がさらに好ましい。   In the general formula (A3), the side chain G is preferably the general formula (a3-1) or (a3-2), and more preferably the general formula (a3-1).

本発明において、(A)共重合体を構成する全繰り返し単位に対して(a3)親水性基を側鎖に有する繰り返し単位が含まれる割合は、耐汚れ性および現像性の観点から、全繰り返し単位の1〜80重量%の範囲であることが好ましく、5〜60重量%の範囲であることがより好ましく、10〜50重量%の範囲であることがさらに好ましい。   In the present invention, the ratio of (a3) the repeating unit having a hydrophilic group in the side chain to the total repeating unit constituting the copolymer (A) is determined from the viewpoint of stain resistance and developability. The range is preferably 1 to 80% by weight of the unit, more preferably 5 to 60% by weight, and still more preferably 10 to 50% by weight.

一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される親水基構造として、具体的には、下記の構造を挙げることができる。   Specific examples of the hydrophilic group structure represented by the general formulas (a3-1) to (a3-5) include the following structures.

さらに、本発明における特定高分子化合物には、画像部の被膜強度を向上させるために架橋性を持たせることができる。特定高分子化合物に架橋性を持たせるためには、架橋性官能基を高分子化合物の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。   Furthermore, the specific polymer compound in the present invention can be provided with crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to give the specific polymer compound crosslinkability, a crosslinkable functional group may be introduced into the main chain or side chain of the polymer compound. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性官能基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像記録層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる機能を有する基のことである。このような機能を有する基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性官能基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(i)〜(iii)で表される官能基が特に好ましい。   Here, the crosslinkable functional group is a group having a function of crosslinking the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the image recording layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is group which has such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an epoxy group, etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable functional group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (i)-(iii) is especially preferable.

(一般式(i)中、R1〜R3は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。) (In General Formula (i), R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)

1は、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
2、R3は、それぞれ、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity.
R 2 and R 3 are each preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent Arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent may be mentioned. An alkyl group that may have an aryl group that may have a substituent is preferable because of high radical reactivity.

1価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。親水性と架橋性の双方を兼ね備えることからXは、−N(R12)−が好ましく、−NH−であることが特に好ましい。
12は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基が、ラジカル反応性が高いことから好ましい。
Examples of the monovalent organic group include an alkyl group which may have a substituent. Since X has both hydrophilicity and crosslinkability, X is preferably —N (R 12 ) —, particularly preferably —NH—.
R 12 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group because of high radical reactivity.

導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   Examples of substituents that can be introduced include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, sulfo groups, A nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

(一般式(ii)中、R4〜R8は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。) (In General Formula (ii), R 4 to R 8 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)

4〜R8は、それぞれ、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。 R 4 to R 8 are each preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent Arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent may be mentioned. The alkyl group which may have and the aryl group which may have a substituent are preferable.

導入し得る置換基としては、一般式(i)で記載した置換基と同様のものが挙げられる。
Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表す。R12は、一般式(i)のR12と同義であり、好ましい例も同様である。
Examples of the substituent that can be introduced include the same substituents as those described in formula (i).
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in formula (i), and preferred examples thereof are also the same.

(一般式(iii)中、R9〜R11は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基である。) (In general formula (iii), R 9 to R 11 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Z has an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) — or a substituent. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group that may have a substituent.

9は、好ましくは、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
10、R11は、それぞれ、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity.
R 10 and R 11 are each preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent Arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent may be mentioned. An alkyl group that may have an aryl group that may have a substituent is preferable because of high radical reactivity.

導入し得る置換基としては、一般式(i)で記載した置換基と同様のものが挙げられる。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Examples of the substituent that can be introduced include the same substituents as those described in formula (i).
Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) — or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

これら架橋性基の構造としては一般式(i)〜(iii)中でも、一般式(i)が特に好ましい。   As the structure of these crosslinkable groups, the general formula (i) is particularly preferable among the general formulas (i) to (iii).

架橋性を有する特定高分子化合物(A)は、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、架橋性官能基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The specific polymer compound (A) having crosslinkability has, for example, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group, and is directly or polymerizable between polymers. Addition polymerization is performed through the polymerization chain of the compound, and a crosslink is formed between the polymer molecules to be cured. Alternatively, atoms in the polymer (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the crosslinkable functional group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other, thereby causing crosslinking between polymer molecules. Forms and cures.

前記(a1)架橋性基を側鎖に有する繰り返し単位としては、(メタ)アクリル系重合体、スチリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。特に(メタ)アクリル系重合体、スチリル系重合体が好ましく、さらに(メタ)アクリル系重合体が好ましい。前記(a1)架橋性基を側鎖に有する繰り返し単位としては下記一般式(A1)で表される繰り返し単位が好ましい。   Examples of the repeating unit (a1) having a crosslinkable group in the side chain include (meth) acrylic polymers, styryl polymers, polyurethane resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl formal resins, polyamide resins, polyester resins, and epoxy resins. Is mentioned. In particular, (meth) acrylic polymers and styryl polymers are preferable, and (meth) acrylic polymers are more preferable. As the repeating unit (a1) having a crosslinkable group in the side chain, a repeating unit represented by the following general formula (A1) is preferable.

(一般式(A1)中、Ra〜Rcは、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Lは、単結合または2価の連結基を表す。前記(a1)は、一般式(i)〜(iii)で表される構造のいずれかが、直接に、または、2価の連結基を介して結合している状態を表す。)
a〜Rcは、それぞれ、水素原子またはメチル基が好ましい。RaおよびRbは、水素原子がさらに好ましい。
Lとしての、2価の置換基は、一般式(a3−1)におけるY3と同義であり、好ましい範囲も同義である。
(In General Formula (A1), R a to R c each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. L represents a single bond or a divalent linking group. a1) represents a state in which any of the structures represented by the general formulas (i) to (iii) is bonded directly or via a divalent linking group.
R a to R c are each preferably a hydrogen atom or a methyl group. R a and R b are more preferably a hydrogen atom.
The bivalent substituent as L is synonymous with Y < 3 > in general formula (a3-1), and its preferable range is also synonymous.

本発明の特定高分子化合物において一般式(i)〜(iii)で表される構造のいずれかを有する繰り返し単位(a1)の割合は、耐汚れ性および現像性の観点から、全繰り返し単位の1〜99重量%の範囲であることが好ましく、10〜80重量%の範囲であることがより好ましく、10〜70重量%の範囲であることがさらに好ましい。   In the specific polymer compound of the present invention, the ratio of the repeating unit (a1) having any one of the structures represented by the general formulas (i) to (iii) is the total repeating unit from the viewpoint of stain resistance and developability. The range is preferably 1 to 99% by weight, more preferably 10 to 80% by weight, and still more preferably 10 to 70% by weight.

(a1)で表される架橋性基を有する繰り返し単位として、具体的には、下記の構造を挙げることができる。 Specific examples of the repeating unit having a crosslinkable group represented by (a1) include the following structures.

他の繰り返し単位:
また、本発明で用いる(A)共重合体は、上述のくり返し単位以外の他の繰り返し単位(以下、他の繰り返し単位とも称する)を共重合体成分として含有していてもよい。そのような繰り返し単位として含有していてもよい他の繰り返し単位としては、既知の種々のモノマーに由来する繰り返し単位を挙げることができる。
好ましい例としては、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する繰り返し単位などが挙げられる。前記他の繰り返し単位を前記(A)共重合体に導入することで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等層の諸物性を適宜改善あるいは制御することができる。
その中でも、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、N,N−2置換アクリルアミド類、N,N−2置換メタクリルアミド類、スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類などから選ばれるモノマーが挙げられる。
Other repeating units:
Moreover, the (A) copolymer used by this invention may contain other repeating units (henceforth other repeating units) other than the above-mentioned repeating unit as a copolymer component. Examples of other repeating units that may be contained as such repeating units include repeating units derived from various known monomers.
Preferred examples are derived from known monomers such as acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, etc. And repeating units. By introducing the other repeating units into the copolymer (A), various physical properties of the layer such as film-forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity, and stability are appropriately improved or controlled. can do.
Among them, monomers selected from acrylic acid esters, methacrylic acid esters, N, N-2 substituted acrylamides, N, N-2 substituted methacrylamides, styrenes, acrylonitriles, methacrylonitriles and the like can be mentioned. .

具体的には、例えば、アルキルアクリレート(該アルキル基の炭素原子数は1〜20のものが好ましい)等のアクリル酸エステル類、(具体的には、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロロエチルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリヌリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど)、アリールアクリレート(例えば、フェニルアクリレートなど)、アルキルメタクリレート(該アルキル基の炭素原子は1〜20のものが好ましい)等のメタクリル酸エステル類(例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど)、スチレン、アルキルスチレン等のスチレン(例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど)、ハロゲン含有スチレン(例えばクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、プロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、2−ブロム−4−トリフルオルメチルスチレン、4−フルオル−3−トリフルオルメチルスチレンなど)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリル酸、アクリル酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。   Specifically, for example, acrylic esters such as alkyl acrylate (the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms) (specifically, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, ethyl hexyl acrylate, octyl acrylate, tert-octyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate , Pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc.), aryl acrylate (for example, Methacrylic acid esters (e.g., methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, Cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate , Furfuryl methacrylate, tetrahydrofur Silyl methacrylate), aryl methacrylate (for example, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, etc.), styrene such as styrene, alkyl styrene (for example, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, Butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, etc.), alkoxy styrene (eg, methoxy styrene, 4-methoxy-3-methyl styrene, Dimethoxystyrene), halogen-containing styrene (eg, chlorostyrene, dichlorostyrene, trimethyl) Low styrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, prom styrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene, etc. ), Acrylonitrile, methacrylonitrile, methacrylic acid, acrylic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and the like.

前記(A)共重合体において、前記他の繰り返し単位の割合は、0〜60モル%が好ましく、0〜40モル%がより好ましく、0〜30%がさらに好ましい。   In the copolymer (A), the proportion of the other repeating units is preferably 0 to 60 mol%, more preferably 0 to 40 mol%, and still more preferably 0 to 30%.

<<本発明の共重合体>>
これらの本発明の平板印刷版原版に用いることができる前記(A)共重合体の中でも、本発明の共重合体は、以下の特徴的な構造を有する高分子化合物である。
<< Copolymer of the Present Invention >>
Among the copolymers (A) that can be used for the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the copolymer according to the present invention is a polymer compound having the following characteristic structure.

(1)上記一般式(A2)で表される繰り返し単位および上記一般式(A3)で表される繰り返し単位を含む共重合体。
(2)前記(1)において、さらに、上記一般式(A1)で表される繰り返し単位を含む、共重合体。
(3)前記(1)または(2)において、前記一般式(A2)の(a2)が一般式(a2−1)または(a2−2)で表される構造である、共重合体。
(4)前記(1)〜(3)のいずれかにおいて、前記一般式(A3)のGが一般式(a3−1)または(a3−2)で表される構造である、共重合体。
(4)前記(1)〜(3)のいずれかにおいて、前記一般式(A3)のGが一般式(a3−1)で表される構造である、共重合体。
(5)前記(1)〜(4)において、一般式(A2)、(A3)、(A1)以外の繰り返し単位の含有量が、20重量%である、共重合体。
(6)前記(1)〜(4)において、一般式(A2)、(A3)、(A1)以外の繰り返し単位の含有量が、5重量%以下である、共重合体。
(1) A copolymer comprising the repeating unit represented by the general formula (A2) and the repeating unit represented by the general formula (A3).
(2) The copolymer according to (1), further comprising a repeating unit represented by the general formula (A1).
(3) The copolymer according to (1) or (2), wherein (a2) in the general formula (A2) is a structure represented by the general formula (a2-1) or (a2-2).
(4) The copolymer according to any one of (1) to (3), wherein G in the general formula (A3) is a structure represented by the general formula (a3-1) or (a3-2).
(4) The copolymer according to any one of (1) to (3), wherein G in the general formula (A3) is a structure represented by the general formula (a3-1).
(5) The copolymer in which the content of the repeating unit other than the general formulas (A2), (A3), and (A1) in the above (1) to (4) is 20% by weight.
(6) The copolymer according to (1) to (4), wherein the content of repeating units other than the general formulas (A2), (A3), and (A1) is 5% by weight or less.

(重量平均分子量)
前記共重合体(A)の重量平均分子量(Mw)は、平版印刷版原版の性能設計により任意に設定できる。耐刷性および耐汚れ性の観点からは、重量平均分子量として、5,000以上であり、5000〜1,000,000が好ましく、5,000〜500,000であることがより好ましく、5,000〜300,000であることが最も好ましい。
(Weight average molecular weight)
The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer (A) can be arbitrarily set depending on the performance design of the lithographic printing plate precursor. From the viewpoint of printing durability and stain resistance, the weight average molecular weight is 5,000 or more, preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000, Most preferably, it is from 000 to 300,000.

以下に、前記共重合体(A)の具体例を、その重量平均分子量と共に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、なお、ポリマー構造の組成比は質量百分率を表す。
Although the specific example of the said copolymer (A) is shown with the weight average molecular weight below, this invention is not limited to these. In addition, the composition ratio of the polymer structure represents a mass percentage.

<(B)特定低分子化合物>
本発明の特定低分子化合物は、重量平均分子量5000未満で、分子内に双性イオン基を有する化合物であれば、いずれも好適に使用することができる。また双性イオンを形成する異性体を有する化合物も使用することができる。例えば具体的に、カルボベタイン類、スルホベタイン類、ホスホベタイン類、アミノ酸類、N−モノメチルアミノ酸類、N,N−ジメチルアミノ酸類、N,N,N−トリメチルアミノ酸類、スルファミン酸等である。
<(B) Specific low molecular weight compound>
The specific low molecular weight compound of the present invention can be preferably used as long as it is a compound having a weight average molecular weight of less than 5000 and having a zwitterionic group in the molecule. A compound having an isomer that forms a zwitterion can also be used. Specific examples include carbobetaines, sulfobetaines, phosphobetaines, amino acids, N-monomethyl amino acids, N, N-dimethyl amino acids, N, N, N-trimethyl amino acids, sulfamic acid and the like.

双性イオン化合物としては、下記一般式(b1−1)〜(b1−8)で表される化合物が好ましく、(b1−1)、(b1−2)、(b1−5)、(b1−6)が特に好ましい。
(一般式(b1−1)〜(b1−8)中、Rは、水素原子または置換基を有してもよく、飽和でも不飽和でもよく、直鎖または環状または分岐でもよい炭素数1〜15のアルキル基を表し、Lは2価の連結基を表し、Qはn価の連結基を表し、nは2以上の整数を表し、A-はアニオンを有する構造を表し、E+はカチオンを有する構造を表す。)
As the zwitterionic compound, compounds represented by the following general formulas (b1-1) to (b1-8) are preferable, and (b1-1), (b1-2), (b1-5), (b1- 6) is particularly preferred.
(In the general formulas (b1-1) to (b1-8), R may have a hydrogen atom or a substituent, may be saturated or unsaturated, and may be linear, cyclic or branched. 15 represents an alkyl group, L represents a divalent linking group, Q represents an n-valent linking group, n represents an integer of 2 or more, A represents a structure having an anion, E + represents a cation Represents a structure having

Rは炭素数1〜15のアルキル基が好ましく、1〜10のアルキル基がより好ましく、1〜5のアルキル基が特に好ましい。   R is preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

Qは、n価の連結基であり、n個のカッコでくくられる基に結合する。Qで表される連結基としては、−CO−、−O−、−NH−、3価の連結基としての3級アミノ基、2価以上の脂肪族基、2価以上の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる連結基であることが好ましい。   Q is an n-valent linking group and binds to n parenthesized groups. As the linking group represented by Q, —CO—, —O—, —NH—, a tertiary amino group as a trivalent linking group, a divalent or higher aliphatic group, a divalent or higher aromatic group, and It is preferable that it is a coupling group which consists of those combinations.

Lは連結基を表し、好ましくは、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、2価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる連結基であり、好ましくは、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数30以下である。その具体例としては、アルキレン基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜10)、および、フェニレン、キシリレンなどのアリーレン基(好ましくは炭素数5〜15、より好ましくは炭素数6〜10)が挙げられる。なかでも耐汚れ性の観点から、L31は、炭素数3〜5の直鎖アルキレン基が好ましく、さらに炭素数4もしくは5の直鎖アルキレン基が好ましく、炭素数4の直鎖アルキレン基が最も好ましい。
-は、好ましくは、カルボキシラート、スルホナート、ホスフェート、ホスホナート、またはホスフィナートを表す。
具体的には、以下の陰イオンが挙げられる。
L represents a linking group, preferably a —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, preferably described later. Including the number of carbon atoms of the substituent that may have, the number of carbon atoms is 30 or less. Specific examples thereof include an alkylene group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms) and an arylene group such as phenylene and xylylene (preferably having 5 to 15 carbon atoms, more preferably having a carbon number). 6 to 10). Among these, from the viewpoint of stain resistance, L 31 is preferably a linear alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, more preferably a linear alkylene group having 4 or 5 carbon atoms, and most preferably a linear alkylene group having 4 carbon atoms. preferable.
A - preferably represents a carboxylate, sulfonate, phosphate, phosphonate or phosphinate.
Specific examples include the following anions.

耐汚れ性の観点から、A-はスルホナートであることが最も好ましい。 From the standpoint of stain resistance, A - and most preferably is sulfonate.

本発明では、一般式(b1−1)、(b1−2)、(b1−5)および(b1−6)のいずれかで表される化合物がより好ましい。   In the present invention, a compound represented by any one of the general formulas (b1-1), (b1-2), (b1-5) and (b1-6) is more preferable.

特定低分子化合物の添加量は、塗布性に与える影響から、特定高分子化合物の重量に対して1〜50重量%が好ましく、1〜40重量%がより好ましく、1〜25重量%が特に好ましい。   The addition amount of the specific low molecular weight compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 1 to 40% by weight, and particularly preferably 1 to 25% by weight with respect to the weight of the specific high molecular compound because of the influence on the coating property. .

特定低分子化合物の分子量(分子量分布がある場合は重量平均分子量)は、特定低分子化合物自身の凝集抑制の観点から、5000未満であり、4000未満であることがより好ましく、3000未満であることがさらに好ましく、1500未満であることが特に好ましい。下限値は特に定めるものではないが、例えば、100以上とすることができる。   The molecular weight of the specific low molecular compound (weight average molecular weight when there is a molecular weight distribution) is less than 5000, more preferably less than 4000, more preferably less than 3000 from the viewpoint of suppressing aggregation of the specific low molecular compound itself. Is more preferable, and it is especially preferable that it is less than 1500. The lower limit is not particularly defined, but can be set to 100 or more, for example.

特定低分子化合物として、具体的には、下記の構造を挙げることができる。
Specific examples of the specific low molecular weight compound include the following structures.

<中間層の形成方法>
中間層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥する方法、又は、水、あるいは、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度0.005〜10質量%の溶液を種々の方法で塗布できる。
例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
前記中間層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
<Method for forming intermediate layer>
The intermediate layer is formed by applying water on a support and drying a solution prepared by dissolving the above compound in water, an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone. The above compound can be adsorbed by immersing the support in a solution obtained by dissolving the above compound in an organic solvent such as the above or a mixed solvent thereof, and then washed and dried with water or the like. In the former method, a solution of the above compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods.
For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
The coating amount of the intermediate layer (solid content) is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

<感光層>
本発明における感光層は、(C)重合開始剤、(D)重合性化合物、(E)バインダーおよび(F)色素を含むことが好ましい。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer in the invention preferably contains (C) a polymerization initiator, (D) a polymerizable compound, (E) a binder, and (F) a dye.

(C)重合開始剤
本発明の感光層は重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)を含有することが好ましい。本発明においては、ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。
(C) Polymerization initiator The photosensitive layer of the invention preferably contains a polymerization initiator (hereinafter also referred to as an initiator compound). In the present invention, a radical polymerization initiator is preferably used.

前記開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩が好ましい。重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。   As the initiator compound, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically include, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarynes. Examples include rubiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salts, and iron arene complexes. Of these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds, and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds and onium salts are particularly preferable. Two or more polymerization initiators may be used in combination as appropriate.

前記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、欧州特許24629号、欧州特許107792号、米国特許4、410、621号に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include lophine dimers described in European Patent No. 24629, European Patent No. 107792, US Pat. No. 4,410,621, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4. ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o- Trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like. The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region of 300 to 450 nm.

前記オニウム塩としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, ammonium described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, and the like. Salt, phosphonium salts described in U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, EP 104,143, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0311520 JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018, or J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, Sulfonium salts described in each specification of JP-A-3,604,581; V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), azinium salts described in JP-A-2008-195018, and the like.

上記の中でもより好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。   Of these, more preferred are iodonium salts, sulfonium salts, and azinium salts. Although the specific example of these compounds is shown below, it is not limited to this.

前記ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基またはアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、さらに好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。   An example of the iodonium salt is a diphenyl iodonium salt, particularly a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group, and more preferably an asymmetric diphenyl iodonium salt. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.

前記スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。   Examples of the sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Tetrafluoroborate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate.

前記アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of the azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1 -(2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3, 4-dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethyl Oxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm.

その他、特開2007−206217号の段落番号〔0071〕〜〔0129〕に記載の重合開始剤も好ましく用いることができる。   In addition, polymerization initiators described in paragraph numbers [0071] to [0129] of JP-A-2007-206217 can also be preferably used.

前記重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
前記感光層中の重合開始剤の含有量は、前記感光層全固形分に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%、さらに好ましくは1.0〜10質量%である。
The polymerization initiator is suitably used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator in the photosensitive layer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and still more preferably 1.0 to 0.1% by mass relative to the total solid content of the photosensitive layer. 10% by mass.

(D)重合性化合物
前記感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報等に記載されている。
(D) Polymerizable Compound The polymerizable compound used in the photosensitive layer is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably 2 It is selected from compounds having at least one. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. Esters of an acid and a polyhydric alcohol compound and amides of an unsaturated carboxylic acid and a polyamine compound are used. Further, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group and an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group, A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. It is also possible to use a compound group in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-333321.

前記多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of the ester monomer of the polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diacrylate. , Trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) modified triacrylate, polyester acrylate oligomer, and the like. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl ] Dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適である。このような化合物を採用することにより、未露光部感光層は高い現像性を維持しながら露光部感光層の強度が高まり、現像性と耐刷性を両立した印刷版が得られる。
そのようなウレタン構造を有する化合物の具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(P)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
Also suitable are urethane-based addition polymerizable compounds produced using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl groups. By employing such a compound, the strength of the exposed photosensitive layer is increased while maintaining high developability of the unexposed photosensitive layer, and a printing plate having both developability and printing durability can be obtained.
Specific examples of the compound having such a urethane structure include, for example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule described in JP-B-48-41708, and the following general formula (P) And vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the formula (1) is added.

CH2=C(R104)COOCH2CH(R105)OH (P)
(ただし、R104およびR105は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 104) COOCH 2 CH (R 105) OH (P)
(However, R 104 and R 105 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、米国特許7、153、632号明細書、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethanes described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210. Acrylates, JP-B 58-49860, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62-39418, JP-A 2000-250211, JP-A 2007-94138 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in the publication, US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223. Urethane compounds having the described hydrophilic group are also suitable.

上記の中でも、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合は、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。   Among the above, in the case of a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, tris (acryloyloxyethyl) isocyanate is excellent in that it has a good balance of hydrophilicity involved in on-press developability and polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide-modified acrylates such as nurate and bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate are particularly preferred.

前記(D)重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。前記(D)重合性化合物は、前記感光層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは25〜70質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で使用される。   Details of the method of use such as the structure of the polymerizable compound (D), single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set in accordance with the performance design of the final lithographic printing plate precursor. The polymerizable compound (D) is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 25 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive layer. The

(E)バインダー
本発明の平板印刷版原版の前記感光層に含有される(E)バインダーは、前記感光層成分を支持体上に担持可能であり、現像液により除去可能であるものが用いられる。前記(E)バインダーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が好ましく用いられ、より好ましくは(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂である。(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂またはポリビニルブチラール樹脂を用いることにより、露光部感光層が磨耗・剥離に強い膜となり高耐刷な印刷版になる。
(E) Binder The (E) binder contained in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention is one that can carry the photosensitive layer component on a support and can be removed by a developer. . As the (E) binder, (meth) acrylic resin, polyurethane resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin and the like are used. In particular, (meth) acrylic resin, polyurethane resin, and polyvinyl butyral resin are preferably used, and (meth) acrylic resin, polyurethane resin, and polyvinyl butyral resin are more preferable. By using (meth) acrylic resin, polyurethane resin or polyvinyl butyral resin, the exposed portion photosensitive layer becomes a film resistant to abrasion and peeling, and a printing plate with high printing durability is obtained.

本発明において、「(メタ)アクリル系重合体」とは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル(アルキルエステル、アリールエステル、アリルエステルなど)、(メタ)アクリルアミド及び(メタ)アクリルアミド誘導体などの(メタ)アクリル酸誘導体を重合成分として有する共重合体のことをいう。「ポリウレタン樹脂」とは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の縮合反応により生成されるポリマーのことをいう。「ポリビニルブチラール樹脂」とは、ポリ酢酸ビニルを一部又は全て鹸化して得られるポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件下で反応(アセタール化反応)させて合成されるポリマーのことをいい、さらに、残存したヒドロキシ基と酸基等有する化合物を反応させる方法等により酸基等を導入したポリマーも含まれる。
前記(メタ)アクリル系重合体の好適な一例としては、酸基を含有する繰り返し単位を有する共重合体が挙げられる。酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等が挙げられるが、特にカルボン酸基が好ましい。酸基を含有する繰り返し単位としては、(メタ)アクリル酸由来の繰り返し単位や下記一般式(I)で表されるものが好ましく用いられる。
In the present invention, “(meth) acrylic polymer” means (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester (alkyl ester, aryl ester, allyl ester, etc.), (meth) acrylamide and (meth) acrylamide derivatives. It refers to a copolymer having a (meth) acrylic acid derivative such as “Polyurethane resin” refers to a polymer produced by a condensation reaction of a compound having two or more isocyanate groups and a compound having two or more hydroxyl groups. “Polyvinyl butyral resin” refers to a polymer synthesized by reacting polyvinyl alcohol and butyraldehyde obtained by saponifying a part or all of polyvinyl acetate under an acidic condition (acetalization reaction). A polymer having an acid group or the like introduced by a method of reacting a compound having a remaining hydroxy group and an acid group or the like is also included.
A suitable example of the (meth) acrylic polymer is a copolymer having a repeating unit containing an acid group. Examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonamide group, and a carboxylic acid group is particularly preferable. As the repeating unit containing an acid group, a repeating unit derived from (meth) acrylic acid or one represented by the following general formula (I) is preferably used.

前記一般式(I)中、R211は水素原子又はメチル基を表し、R212は単結合又はn211+1価の連結基を表す。A211は酸素原子又は−NR213−を表し、R213は水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表す。n211は1〜5の整数を表す。 In the general formula (I), R 211 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 212 represents a single bond or an n 211 +1 valent linking group. A 211 represents an oxygen atom or —NR 213 —, and R 213 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n 211 represents an integer of 1 to 5.

前記一般式(I)におけるR212で表される連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から構成されるもので、その原子数は好ましくは1〜80である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の何れかで複数連結された構造を有していてもよい。R212としては、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基及びアルキレン基及び/又は置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることが好ましく、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数1〜5の置換アルキレン基及び炭素数1〜5のアルキレン基及び/又は炭素数1〜5の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることがより好ましく、単結合、炭素数1〜3のアルキレン基、炭素数1〜3の置換アルキレン基、及び炭素数1〜3のアルキレン基及び/又は炭素数1〜3の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の少なくともいずれかで複数連結された構造であることが特に好ましい。
前記R212で表される連結基が有していてもよい置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
The linking group represented by R 212 in the general formula (I) is composed of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms is preferably 1 to 80. It is. Specifically, an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group, and the like can be mentioned. These divalent groups are linked in multiples by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, and an ester bond. You may have the structure made. R 212 has a structure in which a single bond, an alkylene group, a substituted alkylene group, and an alkylene group and / or a substituted alkylene group are connected in plural by an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, or an ester bond. A single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and / or a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is an amide bond, an ether More preferably, it is a structure in which a plurality of bonds, urethane bonds, urea bonds, or ester bonds are connected, and a single bond, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and carbon. An alkylene group of 1 to 3 and / or a substituted alkylene group of 1 to 3 carbon atoms is an amide bond, ether bond, urethane bond, urea bond, It is particularly preferable that the structure is a structure in which a plurality of ter bonds are connected.
Examples of the substituent that the linking group represented by R 212 may have include a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom, and a halogen atom (—F, —Br, —Cl, -I), hydroxyl group, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, carboxyl group and its conjugate base group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, A carbamoyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group and the like can be mentioned.

213は水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
211は1〜3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。
R213 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
n211 is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

(メタ)アクリル系重合体の全重合成分に占めるカルボン酸基を有する重合成分の割合(モル%)は、現像性の観点から、1〜70%が好ましい。現像性と耐刷性の両立を考慮すると、1〜50%がより好ましく、1〜30%が特に好ましい。
本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体はさらに架橋性基を有することが好ましい。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に感光層中で起こるラジカル重合反応の過程で前記(E)バインダーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、スチリル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基が好ましい。
The proportion (mol%) of the polymerization component having a carboxylic acid group in the total polymerization components of the (meth) acrylic polymer is preferably 1 to 70% from the viewpoint of developability. In consideration of compatibility between developability and printing durability, 1 to 50% is more preferable, and 1 to 30% is particularly preferable.
The (meth) acrylic polymer used in the present invention preferably further has a crosslinkable group. Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the (E) binder in the course of a radical polymerization reaction that occurs in the photosensitive layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, etc. are mentioned, for example. Of these, an ethylenically unsaturated bond group is preferable. As the ethylenically unsaturated bond group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, and an allyl group are preferable.

前記(E)バインダーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the binder (E), for example, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of a polymerizable compound) is added to the crosslinkable functional group, and the polymer is directly or via a polymerization chain of the polymerizable compound. Then, addition polymerization is performed, and a crosslink is formed between the polymer molecules to be cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

(メタ)アクリル系重合体中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、前記(E)バインダー1g当たり、好ましくは0.01〜10.0mmol、より好ましくは0.05〜9.0mmol、特に好ましくは0.1〜8.0mmolである。   The content of the crosslinkable group in the (meth) acrylic polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.01 to 10 per 1 g of the (E) binder. 0 mmol, more preferably 0.05 to 9.0 mmol, particularly preferably 0.1 to 8.0 mmol.

本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体は、上記酸基を有する重合単位、架橋性基を有する重合単位の他に、(メタ)アクリル酸アルキルまたはアラルキルエステルの重合単位、(メタ)アクリルアミドまたはその誘導体の重合単位、α-ヒドロキシメチルアクリレートの重合単位、スチレン誘導体の重合単位を有していてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜8の前述の置換基を有するアルキル基であり、メチル基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられる。(メタ)アクリルアミド誘導体としては、N−イソプロピルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−(4−メトキシカルボニルフェニル)メタアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、モルホリノアクリルアミド等が挙げられる。α−ヒドロキシメチルアクリレートとしては、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。スチレン誘導体としては、スチレン、4−tertブチルスチレン等が挙げられる。   The (meth) acrylic polymer used in the present invention includes, in addition to the above-described polymer unit having an acid group and polymer unit having a crosslinkable group, a polymer unit of (meth) acrylic acid alkyl or aralkyl ester, (meth) acrylamide. Alternatively, it may have a polymer unit of a derivative thereof, a polymer unit of α-hydroxymethyl acrylate, and a polymer unit of a styrene derivative. The alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkyl group having the aforementioned substituent having 2 to 8 carbon atoms, and a methyl group is more preferable. Examples of the (meth) acrylic acid aralkyl ester include benzyl (meth) acrylate. Examples of (meth) acrylamide derivatives include N-isopropylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N- (4-methoxycarbonylphenyl) methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, morpholinoacrylamide and the like. Examples of the α-hydroxymethyl acrylate include ethyl α-hydroxymethyl acrylate and cyclohexyl α-hydroxymethyl acrylate. Examples of styrene derivatives include styrene and 4-tertbutylstyrene.

また、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合、前記(E)バインダーは親水性基を有することが好ましい。親水性基は前記感光層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と機上現像性の両立が可能になる。   In the case of a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, the (E) binder preferably has a hydrophilic group. The hydrophilic group contributes to imparting on-press developability to the photosensitive layer. In particular, the coexistence of the crosslinkable group and the hydrophilic group makes it possible to achieve both printing durability and on-press developability.

前記(E)バインダーが有していてもよい前記親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2または3のアルキレンオキシド単位を1〜9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。バインダーに親水性基を付与するには、例えば、親水性基を有するモノマーを共重合することにより行われる。   Examples of the hydrophilic group that the (E) binder may have include a hydroxy group, a carboxyl group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, an amide group, a sulfo group, and a phosphate group. Of these, an alkylene oxide structure having 1 to 9 alkylene oxide units having 2 or 3 carbon atoms is preferred. For imparting a hydrophilic group to the binder, for example, copolymerization of a monomer having a hydrophilic group is performed.

前記ポリウレタン樹脂の好適な一例としては、特開2007−187836号の段落番号〔0099〕〜〔0210〕、特開2008−276155号の段落番号〔0019〕〜〔0100〕、特開2005−250438号の段落番号〔0018〕〜〔0107〕、特開2005−250158号の段落番号〔0021〕〜〔0083〕に記載のポリウレタン樹脂を挙げることが出来る。   As preferable examples of the polyurethane resin, paragraph numbers [0099] to [0210] of JP-A No. 2007-187836, paragraph numbers [0019] to [0100] of JP-A No. 2008-276155, JP-A No. 2005-250438. And the polyurethane resins described in JP-A-2005-250158, paragraphs [0021] to [0083].

前記ポリビニルブチラール樹脂の好適な一例としては、特開2001−75279号の段落番号〔0006〕〜〔0013〕に記載のポリビニルブチラール樹脂を挙げることができる。
前記(E)バインダー中の酸基の一部が、塩基性化合物で中和されていてもよい。塩基性化合物としては、塩基性窒素を含有する化合物やアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の4級アンモニウム塩などが挙げられる。
As a suitable example of the said polyvinyl butyral resin, the polyvinyl butyral resin as described in paragraph number [0006]-[0013] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-75279 can be mentioned.
A part of the acid group in the (E) binder may be neutralized with a basic compound. Examples of basic compounds include compounds containing basic nitrogen, alkali metal hydroxides, and quaternary ammonium salts of alkali metals.

前記(E)バインダーは、重量平均分子量5000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましく、また、数平均分子量1000以上が好ましく、2000〜25万がより好ましい。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10が好ましい。
前記(E)バインダーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
前記(E)バインダーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の観点から、前記感光層の全固形分に対して、5〜75質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%が更に好ましい。
また、前記(D)重合性化合物及び前記(E)バインダーの合計含有量は、前記感光層の全固形分に対して、90質量%以下が好ましい。90質量%を超えると、感度の低下、現像性の低下を引き起こす場合がある。より好ましくは35〜80質量%である。
The (E) binder preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, a number average molecular weight of 1,000 or more, and more preferably 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The (E) binder may be used alone or in combination of two or more.
The content of the binder (E) is preferably 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, based on the total solid content of the photosensitive layer, from the viewpoint of good image area strength and image formability. Preferably, 10 to 60% by mass is more preferable.
The total content of the polymerizable compound (D) and the binder (E) is preferably 90% by mass or less based on the total solid content of the photosensitive layer. If it exceeds 90% by mass, the sensitivity and developability may be lowered. More preferably, it is 35-80 mass%.

(F)色素
前記感光層は、(F)色素を含むことが好ましい。前記色素は、増感色素であることがより好ましい。
本発明の平板印刷版原版の前記感光層に用いられる増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、前記重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
(F) Dye The photosensitive layer preferably contains (F) a dye. More preferably, the dye is a sensitizing dye.
The sensitizing dye used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention absorbs light at the time of image exposure and becomes excited, and supplies energy to the polymerization initiator by electron transfer, energy transfer, or heat generation. Any polymer that can improve the polymerization initiation function can be used without particular limitation. In particular, a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength range of 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm is preferably used.

前記350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、スチリル類、オキサゾール類等の色素を挙げることができる。   Examples of the sensitizing dye having maximum absorption in the wavelength range of 350 to 450 nm include merocyanines, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, styryls, oxazoles and the like.

前記350〜450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(IX)で表される色素である。   Among the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IX).

一般式(IX)中、A221は置換基を有してもよいアリール基またはヘテロアリール基を表し、X221は酸素原子、硫黄原子または=N(R223)を表す。R221、R222およびR223は、それぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、A221とR221またはR222とR223は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。 In General Formula (IX), A 221 represents an aryl group or a heteroaryl group which may have a substituent, and X 221 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or ═N (R 223 ). R 221 , R 222 and R 223 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, and A 221 and R 221 or R 222 and R 223 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic group. The ring may be formed.

一般式(IX)について更に詳しく説明する。R221、R222またはR223で表される1価の非金属原子団は、好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。 General formula (IX) will be described in more detail. The monovalent nonmetallic atomic group represented by R 221 , R 222 or R 223 is preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

221で表される置換基を有してもよいアリール基およびヘテロアリール基は、各々R221、R222およびR223で記載した置換もしくは非置換のアリール基および置換もしくは非置換のヘテロアリール基と同様である。 The aryl group and heteroaryl group which may have a substituent represented by A 221 are the substituted or unsubstituted aryl group and substituted or unsubstituted heteroaryl group respectively represented by R 221 , R 222 and R 223 It is the same.

このような増感色素の具体例としては、特開2007−58170号の段落番号〔0047〕〜〔0053〕、特開2007−93866号の段落番号〔0036〕〜〔0037〕、特開2007−72816号の段落番号〔0042〕〜〔0047〕に記載の化合物が好ましく用いられる。   Specific examples of such a sensitizing dye include paragraph numbers [0047] to [0053] of JP-A No. 2007-58170, paragraph numbers [0036] to [0037] of JP-A No. 2007-93866, and JP-A No. 2007-. The compounds described in paragraph Nos. [0042] to [0047] of No. 72816 are preferably used.

また、特開2006−189604号、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号に記載の増感色素も好ましく用いることができる。   JP-A-2006-189604, JP-A-2007-171406, JP-A-2007-206216, JP-A-2007-206217, JP-A-2007-225701, JP-A-2007-225702, JP-A-2007-316582 Sensitizing dyes described in JP-A-2007-328243 can also be preferably used.

続いて、前記750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素(以降、赤外線吸収剤と称することもある)について記載する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。   Then, it describes about the sensitizing dye (henceforth an infrared absorber) which has maximum absorption in the said 750-1400 nm wavelength range. As the infrared absorber, a dye or a pigment is preferably used.

前記染料としては、市販の染料および例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

一般式(a)中、X131は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、−X132−L131または以下に示す基を表す。なお、Phはフェニル基を表す。 In the general formula (a), X 131 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , -X 132 -L 131 or a group shown below. Ph represents a phenyl group.

ここで、X132は酸素原子、窒素原子または硫黄原子を示し、L131は炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を有するアリール基、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。Xa -は後述するZa -と同義である。R141は、水素原子またはアルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 Here, X 132 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, L 131 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having a hetero atom (N, S, O, halogen atom, Se), The C1-C12 hydrocarbon group containing a hetero atom is shown. X a - is Z a to be described later - which is synonymous with. R 141 represents a hydrogen atom or a substituent selected from an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

131およびR132は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安定性から、R131およびR132は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR131およびR132は互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 131 and R 132 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 131 and R 132 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms. R 131 and R 132 may be connected to each other to form a ring, and when the ring is formed, it is particularly preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

Ar131、Ar132は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環基およびナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y131、Y132は、それぞれ同じでも異なってもよく、硫黄原子または炭素数12以下のジアルキルメチレン基を示す。R133、R134は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R135、R136、R137およびR138は、それぞれ同じでも異なってもよく、水素原子または炭素数12以下の炭化水素基を示す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Za -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa -は必要ない。好ましいZa -は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオンおよびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオンおよびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 131 and Ar 132 may be the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Preferred aryl groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 131 and Y 132 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 133 and R 134 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 135 , R 136 , R 137 and R 138 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. In view of easy availability of the raw material, a hydrogen atom is preferred. Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of the storage stability of the photosensitive layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

前記一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号の段落番号〔0017〕〜〔0019〕に記載の化合物、特開2002−023360号の段落番号〔0016〕〜〔0021〕、特開2002−040638号の段落番号〔0012〕〜〔0037〕に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号の段落番号〔0034〕〜〔0041〕、特開2008−195018号の段落番号〔0080〕〜〔0086〕に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号の段落番号〔0035〕〜〔0043〕に記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) include compounds described in JP-A No. 2001-133969, paragraph numbers [0017] to [0019], and JP-A No. 2002-023360, paragraph number [0016]. To [0021], compounds described in paragraph numbers [0012] to [0037] of JP-A No. 2002-040638, preferably paragraph numbers [0034] to [0041] of JP-A No. 2002-278057, JP-A No. 2008-195018. And the compounds described in paragraphs [0035] to [0043] of JP-A-2007-90850 are particularly preferable.

また特開平5−5005号の段落番号〔0008〕〜〔0009〕、特開2001−222101号の段落番号〔0022〕〜〔0025〕に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。   In addition, compounds described in paragraph numbers [0008] to [0009] of JP-A No. 5-5005 and paragraph numbers [0022] to [0025] of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.

前記赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落番号〔0072〕〜〔0076〕に記載の化合物が好ましい。   Only 1 type may be used for the said infrared absorption dye, 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, the compounds described in JP-A-2008-195018, paragraphs [0072] to [0076] are preferable.

前記(F)色素の含有量は、前記感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、特に好ましくは0.2〜10質量部である。   The content of the (F) dye is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and particularly preferably 0.2 to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. -10 parts by mass.

(G)低分子親水性化合物
前記感光層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
前記低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
(G) Low molecular weight hydrophilic compound The photosensitive layer may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve the on-press developability without reducing the printing durability.
Examples of the low molecular weight hydrophilic compound include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin. , Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, and organic such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Sulfonic acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphine Organic phosphonic acids and their salts such as phosphate, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, betaines, and the like.

本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。   Among these, in the present invention, it is preferable to contain at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates, and betaines.

前記有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラデコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号の段落番号〔0026〕〜〔0031〕、特開2009−154525号の段落番号〔0020〕〜〔0047〕に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。   Specific examples of the organic sulfonate include alkyl sulfonic acids such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate. Salt; sodium 5,8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane- Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium 1-sulfonate, 5,8,11,14-tetraoxatetradecosan-1-sodium sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p- Hydroxybenzenes Sodium fonate, sodium p-styrenesulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3, Aryl sulfonates such as trisodium 6-naphthalene trisulfonate, paragraph numbers [0026] to [0031] of JP-A No. 2007-276454, paragraph numbers [0020] to [0047] of JP-A No. 2009-154525 And the like. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.

前記有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリールまたは複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454号の段落番号〔0034〕〜〔0038〕に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the organic sulfate include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The ethylene oxide unit is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0034] to [0038] of JP-A-2007-276454.

前記ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナートなどが挙げられる。   As said betaines, the compound whose carbon atom number of the hydrocarbon substituent to a nitrogen atom is 1-5 is preferable, As a specific example, a trimethylammonium acetate, a dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4- Trimethylammoniobutylate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate , 3- (1-pyridinio) -1-propanesulfonate and the like.

前記低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が感光層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、感光層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。   Since the low molecular weight hydrophilic compound has a small hydrophobic portion structure and almost no surface-active action, the dampening solution penetrates into the exposed portion of the photosensitive layer (image portion) and decreases the hydrophobicity and film strength of the image portion. The ink acceptability and printing durability of the photosensitive layer can be maintained well.

前記低分子親水性化合物の、前記感光層中の含有量は、前記感光層全固形分に対して0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、2〜10質量%がさらに好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。低分子親水性化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   The content of the low molecular weight hydrophilic compound in the photosensitive layer is preferably from 0.5 to 20 mass%, more preferably from 1 to 15 mass%, more preferably from 2 to 10 mass%, based on the total solid content of the photosensitive layer. Is more preferable. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained. A low molecular weight hydrophilic compound may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types.

(H)感脂化剤
前記感光層には、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を含有させることができる。特に、保護層が無機質の層状化合物を含有する場合、感脂化剤は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
(H) Grease Sensitizer The photosensitive layer may contain a oil sensitizer such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, or an ammonium group-containing polymer in order to improve the inking property. In particular, when the protective layer contains an inorganic stratiform compound, the sensitizer functions as a surface coating agent for the inorganic stratiform compound, and prevents a decrease in the inking property during printing by the inorganic stratiform compound.

好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。   Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.

前記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号の段落番号〔0021〕〜〔0037〕、特開2009−90645号の段落番号〔0030〕〜〔0057〕に記載の化合物などが挙げられる。   Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. Fert, benzyldimethyldodecyl ammonium = hexafluorophosphate, compounds described in JP-A No. 2008-284858, paragraph numbers [0021] to [0037], JP-A No. 2009-90645, paragraphs [0030] to [0057], etc. Is mentioned.

前記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号の段落番号〔0089〕〜〔0105〕に記載のポリマーが挙げられる。   The ammonium group-containing polymer may be any polymer as long as it has an ammonium group in its structure, but a polymer containing 5 to 80 mol% of a (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. . Specific examples include the polymers described in paragraph numbers [0089] to [0105] of JP-A-2009-208458.

前記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量に換算すると、10000〜150000が好ましく、17000〜140000がより好ましく、20000〜130000が特に好ましい。   The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) determined by the following measurement method in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, 15 Those in the range of ~ 100 are particularly preferred. When the said reduced specific viscosity is converted into a weight average molecular weight, 10,000-150,000 are preferable, 17000-140000 are more preferable, 20000-130000 are especially preferable.

<<還元比粘度の測定方法>>
30%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出する。
<< Measurement Method of Reduced Specific Viscosity >>
Weigh 3.33 g of 30% polymer solution (1 g as solid content) into a 20 ml volumetric flask and make up with N-methylpyrrolidone. This solution is allowed to stand for 30 minutes in a thermostatic bath at 30 ° C., put in an Ubbelohde reduced viscosity tube (viscosity constant = 0.010 cSt / s), and the time for flowing down at 30 ° C. is measured. The measurement is performed twice with the same sample, and the average value is calculated. Similarly, in the case of a blank (only N-methylpyrrolidone), the reduced specific viscosity (ml / g) is calculated from the following formula.

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 重量平均分子量4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 重量平均分子量6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 重量平均分子量4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 重量平均分子量6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 重量平均分子量7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 重量平均分子量6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 重量平均分子量6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 重量平均分子量7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 重量平均分子量6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90 weight average molecular weight 45,000)
(2) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 weight average molecular weight 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70 weight average molecular weight 45,000)
(4) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 weight average molecular weight 60,000)
(5) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60 weight average molecular weight 7 million)
(6) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75 weight average molecular weight 650,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 weight average molecular weight 650,000)
(8) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 (Weight average molecular weight 75,000)
(9) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5 (Weight average molecular weight 65,000)

前記感脂化剤の含有量は、感光層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、0.1〜15.0質量%がより好ましく、1〜5質量%がさらに好ましい。   The content of the sensitizer is preferably 0.01 to 30.0 mass%, more preferably 0.1 to 15.0 mass%, and more preferably 1 to 5 mass% with respect to the total solid content of the photosensitive layer. Further preferred.

(I)疎水化前駆体
前記感光層には、機上現像性を向上させるため、疎水化前駆体を含有させることができる。疎水化前駆体とは、熱が加えられたときに前記感光層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
(I) Hydrophobized precursor The photosensitive layer may contain a hydrophobized precursor in order to improve on-press developability. The hydrophobized precursor means fine particles that can convert the photosensitive layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are at least one selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, heat-reactive polymer fine particles, polymer fine particles having a polymerizable group, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). It is preferable. Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable.

前記疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure、No.333003、特開平9−123387号公報、特開平9−131850号公報、特開平9−171249号公報、特開平9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレートまたはメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
Examples of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include Research Disclosure, No. 1, January 1992. 333003, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647, etc. A fine particle can be mentioned as a suitable thing.
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.

本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。   The average particle diameter of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm.

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。   Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by cross-linking by a heat reaction and a functional group change at that time.

本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基またはそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基またはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基またはヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。   The thermoreactive group in the polymer fine particles having a thermoreactive group used in the present invention may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, Examples include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (eg, acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (eg, vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) ), An isocyanato group that performs an addition reaction or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), and a condensation reaction Carboxy group and hydroxy or amino group as reaction partner, acid anhydride and reaction to perform ring-opening addition reaction An amino group or a hydroxyl group with whom may be mentioned as suitable.

本発明に用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、感光層の構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、感光層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。さらに、マイクロカプセルを含有する感光層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。   As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the photosensitive layer are encapsulated in microcapsules. It is. The constituent components of the photosensitive layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, it is preferable that the photosensitive layer containing the microcapsule includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.

本発明に用いられるミクロゲルは、その中または表面の少なくとも一方に、感光層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。   The microgel used in the present invention can contain a part of the constituent components of the photosensitive layer in at least one of the inside and the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radical polymerizable group on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.

前記感光層の構成成分をマイクロカプセル化もしくはミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。   A known method can be applied to microencapsulate or microgel the constituent components of the photosensitive layer.

マイクロカプセルあるいはミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましく、0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsule or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

前記疎水化前駆体の含有量は、前記感光層全固形分の5〜90質量%が好ましい。   The content of the hydrophobizing precursor is preferably 5 to 90% by mass of the total solid content of the photosensitive layer.

(J)その他の感光層成分
前記感光層は、連鎖移動剤を含有することが好ましい。連鎖移動剤は、例えば高分子辞典第三版(高分子学会編、2005年)683−684頁に定義されている。連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。前記感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を好ましく用いることができる。
(J) Other photosensitive layer components The photosensitive layer preferably contains a chain transfer agent. The chain transfer agent is defined, for example, in Polymer Dictionary 3rd Edition (edited by Polymer Society, 2005) pages 683-684. As the chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. In particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) are preferably used for the photosensitive layer. be able to.

連鎖移動剤の好ましい含有量は、前記感光層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.01〜20質量部、更に好ましくは1〜10質量部、特に好ましくは1〜5質量部である。   The content of the chain transfer agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the photosensitive layer. is there.

前記感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進や塗布面状の向上のための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性の向上のための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、前記感光層の製造中または保存中における重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体などの疎水性低分子化合物、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、有機微粒子、感度の向上の為の共増感剤、可塑性の向上のための可塑剤等を挙げることができる。これの化合物はいずれも公知のもの、例えば、特開2007−206217号の段落番号〔0161〕〜〔0215〕、特表2005−509192号の段落番号〔0067〕、特開2004−310000号の段落番号〔0023〕〜〔0026〕及び〔0059〕〜〔0066〕に記載の化合物を使用することができる。界面活性剤については、後述の現像液に添加してもよい界面活性剤を使用することもできる。   The photosensitive layer may further contain various additives as necessary. Additives include surfactants for promoting developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas visible Colorants and print-out agents for polymerization, polymerization inhibitors for preventing unnecessary thermal polymerization of polymerizable compounds during production or storage of the photosensitive layer, higher fat derivatives for preventing polymerization inhibition by oxygen, etc. Hydrophobic low molecular weight compounds, inorganic fine particles for improving the strength of the cured film in the image area, organic fine particles, co-sensitizers for improving sensitivity, plasticizers for improving plasticity, and the like. All of these compounds are known, for example, paragraph numbers [0161] to [0215] of JP-A-2007-206217, paragraph number [0067] of JP-T-2005-509192, paragraphs of JP-A-2004-310000. The compounds described in the numbers [0023] to [0026] and [0059] to [0066] can be used. As for the surfactant, a surfactant which may be added to the developer described later can also be used.

(感光層の形成)
本発明の平板印刷版原版における前記感光層は、形成方法に特に制限はなく、公知の方法で形成されることができる。前記感光層は、必要な上記各感光層成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。使用する溶剤としては、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、γ−ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
(Formation of photosensitive layer)
The photosensitive layer in the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited in the formation method, and can be formed by a known method. The photosensitive layer is formed by dispersing or dissolving each of the necessary photosensitive layer components in a solvent to prepare and apply a coating solution. Examples of the solvent used include methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, and γ-butyllactone. It is not limited. A solvent is used individually or in mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

前記感光層の塗布量(固形分)は、0.3〜3.0g/m2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
前記(A)共重合体を感光層又は下塗り層に含有させるには、前記(A)共重合体を感光層用塗布液又は下塗り層用塗布液に添加することにより行うことができる。前記(A)共重合体が前記感光層に含まれる場合、前記(A)共重合体の含有量(固形分)は、0.1〜100mg/m2が好ましく、1〜30mg/m2がより好ましく、5〜24mg/m2がさらに好ましい。
The coating amount (solid content) of the photosensitive layer is preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
In order to contain the (A) copolymer in the photosensitive layer or the undercoat layer, the (A) copolymer can be added to the photosensitive layer coating solution or the undercoat layer coating solution. If the the (A) copolymer is contained in the photosensitive layer, wherein the copolymer (A) content of the (solid) is preferably 0.1~100mg / m 2, 1~30mg / m 2 is More preferably, 5 to 24 mg / m 2 is even more preferable.

<支持体>
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状の親水性支持体であればよい。支持体としては、特に、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すことが好ましい。アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理( 電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理) 、化学的粗面化処理( 化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理) が挙げられる。これらの処理については、特開2007−206217号の段落番号〔0241〕〜〔0245〕に記載された方法を好ましく用いることができる。
前記支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであることが好ましい。この範囲で、前記感光層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、前記支持体の色濃度は、反射濃度値で0.15〜0.65が好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
前記支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。
<Support>
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. As the support, an aluminum plate is particularly preferable. Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. The surface roughening treatment of the aluminum plate is carried out by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment to dissolve the surface electrochemically), chemical Surface roughening treatment (roughening treatment that selectively dissolves the surface chemically). For these treatments, the methods described in paragraph numbers [0241] to [0245] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photosensitive layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 in terms of reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

<親水化処理>
本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体表面の親水化処理を行うことも好適である。
支持体表面の親水化処理としては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液に浸漬処理又は電解処理するアルカリ金属シリケート処理、フッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられるが、ポリビニルホスホン酸水溶液に浸漬処理する方法が好ましく用いられる。
<Hydrophilic treatment>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is also preferable to perform a hydrophilic treatment on the surface of the support in order to improve the hydrophilicity of the non-image area and prevent printing stains.
Examples of the hydrophilization treatment of the support surface include alkali metal silicate treatment in which the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytic treatment, a method of treatment with potassium zirconate fluoride, a method of treatment with polyvinylphosphonic acid, and the like. Although mentioned, the method of immersing in the polyvinylphosphonic acid aqueous solution is used preferably.

[前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層]
本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体と感光層との間に下塗り層を設けることも好適である。
[Other layers optionally provided between the support and the photosensitive layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is also preferable to provide an undercoat layer between the support and the photosensitive layer in order to improve the hydrophilicity of the non-image area and prevent printing stains.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、前記感光層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。前記保護層の材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。これらの中で、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましい。具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に特に良好な結果を与える。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the photosensitive layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. As the material for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more kinds can be mixed and used as necessary. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like. Among these, it is preferable to use a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity. Specifically, using polyvinyl alcohol as a main component gives particularly good results in terms of basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability.

前記保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するために必要な未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルあるいはアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールはポリ酢酸ビニルを加水分解することにより得られる。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が69.0〜100モル%、重合繰り返し単位数が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−403、PVA−405、PVA−420、PVA−424H、PVA−505、PVA−617、PVA−613、PVA−706、L−8等が挙げられる。ポリビニルアルコールは単独または混合して使用できる。ポリビニルアルコールの保護層中の含有量は、好ましくは20〜95質量%、より好ましくは30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used in the protective layer may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains the unsubstituted vinyl alcohol units necessary for having the necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Polyvinyl alcohol is obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 69.0 to 100 mol% and a number of polymerization repeating units in the range of 300 to 2400. Specifically, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235, PVA-217EE, PVA-217E, PVA- 220E, PVA-224E, PVA-403, PVA-405, PVA-420, PVA-424H, PVA-505, PVA-617, PVA-613, PVA-706, L-8 and the like. Polyvinyl alcohol can be used alone or in combination. Content in the protective layer of polyvinyl alcohol becomes like this. Preferably it is 20-95 mass%, More preferably, it is 30-90 mass%.

また、変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。特に、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号に記載のポリビニルアルコールが好適に挙げられる。   Also, modified polyvinyl alcohol can be preferably used. In particular, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group is preferably used. Specific examples include polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

ポリビニルアルコールと他の材料を混合して使用する場合、混合する成分としては、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンまたはその変性物が、酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中その含有率は3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、さらに好ましくは15〜30質量%である。 In the case of using a mixture of polyvinyl alcohol and other materials, the component to be mixed is preferably modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof from the viewpoint of oxygen barrier properties, development removability, and the content in the protective layer. Is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 15 to 30% by mass.

前記保護層には、グリセリン、ジプロピレングリコール等を上記ポリマーに対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができる。また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤、アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を上記ポリマーに対して数質量%相当量添加することができる。   The protective layer can be provided with flexibility by adding glycerin, dipropylene glycol or the like in an amount corresponding to several mass% with respect to the polymer. In addition, anionic surfactants such as sodium alkyl sulfate and sodium alkyl sulfonate, amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylate and alkylaminodicarboxylate, and nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ether An amount corresponding to several mass% can be added to the polymer.

さらに、前記保護層には、酸素遮断性や感光層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。具体的には、特開2005−119273号に記載の無機質の層状化合物が好適に挙げられる。   Further, the protective layer preferably contains an inorganic layered compound for the purpose of improving the oxygen barrier property and the photosensitive layer surface protective property. Among inorganic layered compounds, fluorine-based swellable synthetic mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. Specifically, inorganic layered compounds described in JP-A No. 2005-119273 are preferable.

前記保護層の塗布量は、0.05〜10g/m2が好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜5g/m2がさらに好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/m2がさらに好ましい。 The coating amount of the protective layer is preferably 0.05 to 10 g / m 2, when the protective layer contains the inorganic stratiform compound, if still more preferably 0.1-5 g / m 2, not containing an inorganic layered compound Is more preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

<バックコート層>
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、前記支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。前記バックコート層としては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH34 、Si(OC254 、Si(OC374 、Si(OC494等のケイ素のアルコキシ化合物を用いることが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
<Back coat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a backcoat layer can be provided on the back surface of the support, if necessary. As the back coat layer, for example, an organic polymer compound described in JP-A-5-45885, an organometallic compound or an inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is hydrolyzed and polymerized. Preferable examples include a coating layer made of a metal oxide obtained by condensation. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

[平版印刷版の製造方法]
本発明の平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を製造することができる。
本発明の平版印刷版の製造方法は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と;露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液で現像する現像工程を含み;前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含むことを特徴とする。
本発明の平版印刷版の製造方法は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を形成する工程を含み;前記現像工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)、ことが好ましい
本発明の平版印刷版の製造方法の第二の態様は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする。
以下、本発明の平版印刷版の製造方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本発明の平版印刷版の製造方法によれば、本発明の平版印刷版原版は前記現像工程において水洗工程を含む場合も平板印刷版を製造することができる。
[Method for producing planographic printing plate]
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the lithographic printing plate precursor of the present invention to image exposure and development.
The method for producing a lithographic printing plate according to the present invention comprises an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present invention; and developing the exposed lithographic printing plate precursor with a developer having a pH of 2 to 14 A step of removing the non-exposed portion of the photosensitive layer and the protective layer simultaneously in the presence of the developer.
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention comprises a step of forming a protective layer on the surface of the photosensitive layer opposite to the support; the development further comprising a surfactant in the development step It is preferable to include a step of simultaneously removing the photosensitive layer in the non-exposed area and the protective layer in the presence of the liquid (however, it does not include a water washing step). Comprises a step of exposing the planographic printing plate precursor of the present invention imagewise and a step of supplying printing ink and dampening water on a printing machine to remove the photosensitive layer in the non-exposed area. And
Hereinafter, the preferable aspect of each process is demonstrated in order about the manufacturing method of the lithographic printing plate of this invention. According to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, the lithographic printing plate precursor of the present invention can produce a lithographic printing plate even when the development step includes a water washing step.

<露光工程> <Exposure process>

本発明の平版印刷版の製造方法は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程を含む。本発明の平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
光源の波長は300〜450nm又は750〜1400nmが好ましく用いられる。300〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を感光層に有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を感光層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor of the present invention. The planographic printing plate precursor of the present invention is imagewise exposed by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
The wavelength of the light source is preferably 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm. In the case of a light source of 300 to 450 nm, a lithographic printing plate precursor having a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the photosensitive layer is preferably used, and in the case of a light source of 750 to 1400 nm, it has absorption in this wavelength region. A lithographic printing plate precursor containing an infrared absorber as a sensitizing dye in the photosensitive layer is preferably used. As the light source of 300 to 450 nm, a semiconductor laser is suitable. As a light source of 750 to 1400 nm, a solid laser and a semiconductor laser emitting infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be performed on the printing press.

<現像工程>
現像処理は、(1)pHが2〜14の現像液にて現像する方法(現像液処理方式)、又は(2)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像方式)で行うことができる。
<Development process>
Development processing is (1) a method of developing with a developer having a pH of 2 to 14 (developer processing method), or (2) a method of developing while adding dampening water and / or ink on a printing press ( (On-press development system).

(現像液処理方式)
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の感光層が除去されて平版印刷版が作製される。
高アルカリ性現像液(pH12以上)を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。
本発明の第一の好ましい態様によれば、pHが2〜14の現像液が使用される。この態様においては、現像液中に界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが可能となる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像−ガム液処理を行うことができる。
さらに、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像−ガム液処理と同時に行うことができる。本発明の平板印刷版の製造方法では、現像−ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
(Developer processing method)
In the developer processing system, the image-exposed lithographic printing plate precursor is processed with a developer having a pH of 2 to 14, and the photosensitive layer in the non-exposed area is removed to prepare a lithographic printing plate.
In the development processing using a highly alkaline developer (pH 12 or more), usually, the protective layer is removed by a pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is washed away by water in the post-water washing step, gum solution treatment is performed, and drying is performed. A lithographic printing plate is produced by drying in the process.
According to a first preferred embodiment of the present invention, a developer having a pH of 2-14 is used. In this embodiment, it is preferable that a surfactant or a water-soluble polymer compound is contained in the developer, whereby the development and the gum solution treatment can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and the development-gum solution treatment can be performed with one solution.
Further, the pre-water washing step is not particularly required, and the protective layer can be removed simultaneously with the development-gum solution treatment. In the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, after the development-gum treatment, for example, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller.

本発明における平版印刷版原版の現像液処理は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。   The developer treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out in accordance with a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in a developer and brushing It can be performed by a method of rubbing with a brush, a method of spraying a developer by spraying and rubbing with a brush.

前記現像液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。また、自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。さらに、自動現像処理機は現像処理手段の前に、画像露光後の平版印刷版原版を加熱処理するための前加熱手段を備えていてもよい。   The development processing with the developer can be preferably performed by an automatic development processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. An automatic developing processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. Further, the automatic processor preferably includes a means for removing excess developer such as a squeeze roller and a drying means such as a warm air device after the development processing means. Furthermore, the automatic development processor may be provided with a preheating means for heat-treating the lithographic printing plate precursor after image exposure before the development processing means.

本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の1例について、図1を参照しながら簡単に説明する。
図1に示す自動現像処理機100は、機枠202により外形が形成されたチャンバーからなり、平版印刷版原版の搬送路11の搬送方向(矢印A)に沿って連続して形成された前加熱(プレヒート)部200、現像部300及び乾燥部400を有している。
前加熱部200は、搬入口212及び搬出口218を有する加熱室208を有し、その内部には串型ローラー210とヒーター214と循環ファン216とが配置されている。
An example of an automatic developing processor used in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present invention will be briefly described with reference to FIG.
An automatic development processor 100 shown in FIG. 1 includes a chamber having an outer shape formed by a machine frame 202, and is preheated continuously formed along the transport direction (arrow A) of the transport path 11 of the planographic printing plate precursor. It has a (preheat) unit 200, a developing unit 300, and a drying unit 400.
The preheating unit 200 includes a heating chamber 208 having a carry-in port 212 and a carry-out port 218, and a skewer roller 210, a heater 214, and a circulation fan 216 are disposed therein.

現像部300は、外板パネル310により前加熱部200と仕切られており、外板パネル310にはスリット状挿入口312が設けられている。
現像部300の内部には、現像液で満たされている現像槽308を有する処理タンク306と、平版印刷版原版を処理タンク306内部へ案内する挿入ローラー対304が設けられている。現像槽308の上部は遮蔽蓋324で覆われている。
The developing unit 300 is separated from the preheating unit 200 by an outer panel 310, and the outer panel 310 is provided with a slit-shaped insertion port 312.
Inside the developing unit 300, a processing tank 306 having a developing tank 308 filled with a developer and an insertion roller pair 304 for guiding the planographic printing plate precursor into the processing tank 306 are provided. The upper part of the developing tank 308 is covered with a shielding lid 324.

現像槽308の内部には、搬送方向上流側から順に、ガイドローラー344及びガイド部材342、液中ローラー対316、ブラシローラー対322、ブラシローラー対326、搬出ローラー対318が並設されている。現像槽308内部に搬送された平版印刷版原版は、現像液中に浸漬され、回転するブラシローラー対322、326の間を通過することにより非画像部が除去される。
ブラシローラー対322、326の下部には、スプレーパイプ330が設けられている。スプレーパイプ330はポンプ(不図示)が接続されており、ポンプによって吸引された現像槽308内の現像液がスプレーパイプ330から現像槽308内へ噴出するようになっている。
Inside the developing tank 308, a guide roller 344 and a guide member 342, a submerged roller pair 316, a brush roller pair 322, a brush roller pair 326, and a carry-out roller pair 318 are arranged in parallel from the upstream side in the transport direction. The lithographic printing plate precursor conveyed into the developing tank 308 is immersed in the developer and passes between rotating brush roller pairs 322 and 326 to remove non-image portions.
A spray pipe 330 is provided below the pair of brush rollers 322 and 326. The spray pipe 330 is connected to a pump (not shown), and the developer in the developing tank 308 sucked by the pump is ejected from the spray pipe 330 into the developing tank 308.

現像槽308側壁には、第1の循環用配管C1の上端部に形成されたオーバーフロー口51が設けられており、超過分の現像液がオーバーフロー口51に流入し、第1の循環用配管C1を通って現像部300の外部に設けられた外部タンク50に排出される。
外部タンク50は第2の循環用配管C2が接続され、第2の循環用配管C2中には、フィルター部54及び現像液供給ポンプ55が設けられている。現像液供給ポンプ55によって、現像液が外部タンク50から現像槽308へ供給される。また、外部タンク50内には上限液レベル計52、下限液レベル計53が設けられている。
現像槽308は、第3の循環用配管C3を介して補充用水タンク71に接続されている。第3の循環用配管C3中には水補充ポンプ72が設けられており、この水補充ポンプ72によって補充用水タンク71中に貯留される水が現像槽308へ供給される。
液中ローラー対316の上流側には液温センサ336が設置されており、搬出ローラー対318の上流側には液面レベル計338が設置されている。
An overflow port 51 formed at the upper end of the first circulation pipe C1 is provided on the side wall of the developing tank 308, and excess developer flows into the overflow port 51, and the first circulation pipe C1. And is discharged to an external tank 50 provided outside the developing unit 300.
A second circulation pipe C2 is connected to the external tank 50, and a filter portion 54 and a developer supply pump 55 are provided in the second circulation pipe C2. The developer is supplied from the external tank 50 to the developer tank 308 by the developer supply pump 55. In the external tank 50, an upper limit liquid level meter 52 and a lower limit liquid level meter 53 are provided.
The developing tank 308 is connected to the replenishment water tank 71 via the third circulation pipe C3. A water replenishment pump 72 is provided in the third circulation pipe C 3, and water stored in the replenishment water tank 71 is supplied to the developing tank 308 by the water replenishment pump 72.
A liquid temperature sensor 336 is installed on the upstream side of the submerged roller pair 316, and a liquid level meter 338 is installed on the upstream side of the carry-out roller pair 318.

現像300と乾燥部400との間に配置された仕切り板332にはスリット状挿通口334が設けられている。また、現像部300と乾燥部400との間の通路にはシャッター(不図示)が設けられ、平版印刷版原版11が通路を通過していないとき、通路はシャッターにより閉じられている。
乾燥部400は、支持ローラー402、ダクト410、412、搬送ローラー対406、ダクト410、412、搬送ローラー対408がこの順に設けられている。ダクト410、412の先端にはスリット孔414が設けられている。また、乾燥部400には図示しない温風供給手段、発熱手段等の乾燥手段が設けられている。乾燥部400には排出口404が設けられ、乾燥手段により乾燥された平版印刷版は排出口404から排出される。
The partition plate 332 disposed between the developing unit 300 and the drying unit 400 is provided with a slit-shaped insertion port 334. A shutter (not shown) is provided in the passage between the developing unit 300 and the drying unit 400, and when the planographic printing plate precursor 11 does not pass through the passage, the passage is closed by the shutter.
The drying unit 400 includes a support roller 402, ducts 410 and 412, a transport roller pair 406, ducts 410 and 412, and a transport roller pair 408 in this order. A slit hole 414 is provided at the tip of the ducts 410 and 412. The drying unit 400 is provided with drying means such as hot air supply means and heat generation means (not shown). The drying unit 400 is provided with a discharge port 404, and the planographic printing plate dried by the drying means is discharged from the discharge port 404.

本発明において現像液処理に用いられる現像液は、pHが2〜14の水溶液、または界面活性剤を含む。前記現像液は、水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液も好ましい。現像液のpHは、より好ましくは3.5〜13、さらに好ましくは6〜13、特に好ましくは6.5〜10.5である。特に、pH2.0〜10.0の現像液を使用する方式において、耐汚れ性、耐刷性、経時での耐汚れ性低下の抑制を共に満足させることは極めて難しい。この理由は以下のように説明できる。すなわち、同一の平版印刷版原版用素材を用いて現像液の種類を変更する場合、pH2.0〜10.0の現像液では、従来用いられてきたpH12〜13のアルカリ現像液に比べ、未露光部の耐汚れ性が悪化する。そこでpH2.0〜10.0の現像液の耐汚れ性を良化させようとして素材の親水性を上げると、耐刷性が悪化する傾向にあるためである。本発明の平板印刷版原版を用いることで、このようなpH2.0〜10.0の現像液を好ましく用いることができる。   The developer used for the developer processing in the present invention contains an aqueous solution having a pH of 2 to 14, or a surfactant. The developer is preferably an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water), in particular, an aqueous solution containing a surfactant (anionic, nonionic, cationic, zwitterionic, etc.) An aqueous solution containing a water-soluble polymer compound is preferred. An aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is also preferred. The pH of the developer is more preferably 3.5 to 13, further preferably 6 to 13, and particularly preferably 6.5 to 10.5. In particular, in a method using a developer having a pH of 2.0 to 10.0, it is extremely difficult to satisfy both stain resistance, printing durability, and suppression of deterioration of stain resistance with time. The reason for this can be explained as follows. That is, when changing the type of the developer using the same lithographic printing plate precursor material, the developer having a pH of 2.0 to 10.0 is less than the conventionally used alkaline developer having a pH of 12 to 13. The stain resistance of the exposed part is deteriorated. Therefore, if the hydrophilicity of the material is increased in order to improve the stain resistance of the developer having a pH of 2.0 to 10.0, the printing durability tends to deteriorate. By using the lithographic printing plate precursor according to the invention, such a developer having a pH of 2.0 to 10.0 can be preferably used.

本発明において前記現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンアルキルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−アルキル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。この中で、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   The anionic surfactant used in the developer in the present invention is not particularly limited, but fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid Salts, branched alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether (di) sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene alkyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-alkyl-N-oleyl Sodium taurine, disodium N-alkylsulfosuccinic acid monoamide, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef oil, sulfate esters of fatty acid alkyl esters Alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ethers Phosphoric acid ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphoric acid ester salts, partial saponification products of styrene-maleic anhydride copolymer, partial saponification products of olefin-maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates Etc. Of these, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.

本発明において前記現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   In the present invention, the cationic surfactant used in the developer is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkyl imidazolinium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明において前記現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中で、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。   The nonionic surfactant used in the developer in the present invention is not particularly limited, but is a polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, alkyl naphthol ethylene oxide adduct, phenol ethylene oxide addition. , Naphthol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide Adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene Lenoxide) block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol type glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ether of polyhydric alcohol, fatty acid amide of alkanolamines, etc. Can be mentioned. Among these, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.

本発明において前記現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。具体的には、特開2008−203359号の段落番号〔0256〕の式(2)で示される化合物、特開2008−276166号の段落番号〔0028〕の式(I)、式(II)、式(VI)で示される化合物、特開2009−47927号の段落番号〔0022〕〜〔0029〕で示される化合物を用いることができる。   In the present invention, the zwitterionic surfactant used in the developer is not particularly limited, and examples thereof include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaines, and amino acids such as alkylamino fatty acid sodium. It is done. In particular, alkyldimethylamine oxide which may have a substituent, alkylcarboxybetaine which may have a substituent, and alkylsulfobetaine which may have a substituent are preferably used. Specifically, a compound represented by the formula (2) in paragraph No. [0256] of JP-A-2008-203359, a formula (I), a formula (II) in paragraph No. [0028] of JP-A-2008-276166, A compound represented by the formula (VI) or a compound represented by paragraph numbers [0022] to [0029] of JP-A-2009-47927 can be used.

前記界面活性剤は現像液中に2種以上用いてもよい。前記現像液中に含有される前記界面活性剤の量は、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。   Two or more surfactants may be used in the developer. The amount of the surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass.

本発明において前記現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルスルホン酸およびその塩、ポリスチレンスルホン酸およびその塩などが挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer in the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fibrin derivatives (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, Polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl sulfonic acid And salts thereof, polystyrenesulfonic acid and salts thereof, and the like.

前記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

前記変性澱粉も、公知のものが使用でき、例えば、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。   As the modified starch, known ones can be used. For example, starch such as corn, potato, tapioca, rice, wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, It can be made by a method of adding oxypropylene in the inside.

前記水溶性高分子化合物は前記現像液中に2種以上併用することもできる。前記水溶性高分子化合物の前記現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。   Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination in the developer. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

本発明で使用する現像液には、pH緩衝剤を含ませることができる。本発明の現像液には、pH2〜14に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン-炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物-そのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、従ってpHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。本発明の平版印刷版の製造方法では、特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。   The developer used in the present invention may contain a pH buffer. The developer of the present invention can be used without particular limitation as long as it is a buffering agent that exhibits a buffering action at a pH of 2 to 14. In the present invention, weakly alkaline buffering agents are preferably used. For example, (a) carbonate ions and hydrogen carbonate ions, (b) borate ions, (c) water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds, and their Combination use etc. are mentioned. That is, for example, a combination of (a) carbonate ion-bicarbonate ion, (b) borate ion, or (c) water-soluble amine compound-ion of the amine compound exhibits pH buffering action in the developer. Even when the developer is used for a long period of time, fluctuations in pH can be suppressed, and therefore, development loss due to fluctuations in pH, development debris generation and the like can be suppressed. In the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, a combination of carbonate ions and hydrogen carbonate ions is particularly preferable.

炭酸イオン及び炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。アルカリ金属は単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   In order for carbonate ions and bicarbonate ions to be present in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. Alkali metals may be used alone or in combination of two or more.

炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、現像液に対して0.05〜5mol/Lが好ましく、0.07〜2mol/Lがより好ましく、0.1〜1mol/Lが特に好ましい。   The total amount of carbonate ions and bicarbonate ions is preferably 0.05 to 5 mol / L, more preferably 0.07 to 2 mol / L, and particularly preferably 0.1 to 1 mol / L with respect to the developer.

本発明において現像液は、有機溶剤を含有してもよい。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、G(エッソ化学(株)製)等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、1−デカノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)等が挙げられる。   In the present invention, the developer may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.)), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogens, and the like. Hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents. Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1 -Nonanol, 1-decanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl Ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether Ter, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone) , Cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate Etc.), others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine) , N- phenyldiethanolamine, N- methyldiethanolamine, N- ethyldiethanolamine, 4- (2-hydroxyethyl) morpholine, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone and the like) and the like.

前記現像液に含有される前記有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。前記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合、安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   Two or more of the organic solvents contained in the developer may be used in combination. When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the organic solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

本発明において前記現像液には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007−206217号の段落番号〔0266〕〜〔0270〕に記載の化合物を好ましく用いることができる。   In the present invention, in addition to the above components, the developer may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent, an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, and the like. Specifically, compounds described in paragraph numbers [0266] to [0270] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.

本発明において前記現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液および現像補充液として用いることができる。また、前述のような自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。   In the present invention, the developer can be used as a developer and a development replenisher for the exposed lithographic printing plate precursor. Further, the present invention can be preferably applied to the automatic developing processor as described above. When developing using an automatic developing processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, and therefore the replenishing solution or fresh developing solution may be used to restore the processing capability.

<機上現像方式>
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の感光層が除去されて平版印刷版が作製される。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び/または水性成分によって、未硬化の感光層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した感光層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された感光層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が好適に用いられる。
<On-press development method>
In the on-press development system, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on a printing machine, and the photosensitive layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate.
In other words, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine without any development processing, or after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, image exposure is performed on the printing machine. When printing is performed by supplying an oil-based ink and an aqueous component, an uncured photosensitive layer is dissolved or dispersed by an supplied oil-based ink and / or aqueous component in a non-image area at an early stage of printing. And the hydrophilic surface is exposed in that portion. On the other hand, in the exposed portion, the photosensitive layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Oil-based ink or water-based component may be first supplied to the plate surface, but oil-based ink may be supplied first in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the removed photosensitive layer component. preferable. In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are preferably used.

本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製造方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。この様な加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。また、現像液処理方式の場合、画像強度や耐刷性の向上を目的として、現像処理後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行うことも有効である。通常、現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部が硬化してしまう等の問題を生じることがある。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じることがある。   In the method for producing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire lithographic printing plate precursor is exposed before exposure, during exposure, and from exposure to development, regardless of the development method. You may heat. Such heating promotes the image forming reaction in the photosensitive layer, and may bring about advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity. In the case of the developer processing method, it is also effective to perform whole surface post-heating or whole surface exposure on the image after the development processing for the purpose of improving the image strength and printing durability. Usually, heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as curing of the non-image area may occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 100-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image reinforcing action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以下、実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。本実施例において、配合量を示す「部」は特に述べない限り、「質量部」を示す。   Hereinafter, the features of the present invention will be described more specifically with reference to examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below. In this example, “part” indicating the blending amount indicates “part by mass” unless otherwise specified.

[実施例A] 共重合体の合成
<特定高分子化合物P−48の合成>
500mlの三口フラスコに、ジメチル−N−メタクリロイルオキシエチル−N−カルボキシメチル−アンモニウムベタイン(大阪有機化学工業社製)(12.5g)、ビニルホスホン酸(東京化成(株)製)(22.5g)、2−メタクリルアミドエチルアミン塩酸塩(合成品)(12.58g)、蒸留水(150g)を加え、窒素気流下、10分間60℃で加熱攪拌した。その後重合開始剤VA−046B(和光純薬工業(株)製)(0.9g)を蒸留水(40g)に溶解し、3時間かけて滴下した。その後、再び、VA−046B(0.9g)を加え、80℃で3時間加熱、加熱終了後冷却した。
得られたポリマー溶液に対してNaOHを添加し、pHを10に調整した。その後、4−OH−TEMPO(東京化成工業(株)製)(0.2g)を加え、55℃に加熱し、メタクリル酸無水物(アルドリッチ社製)(45g)を1時間かけて滴下した。滴下終了後、55℃を6時間維持した。その後、酢酸エチル(500g)を加え、下層を回収した。回収した下層にイオン交換樹脂としてAmberlyst R15(アルドリッチ社製)(50g)を加え、室温で2時間攪拌した後に、Amberlyst R15をろ過で除去することで特定高分子化合物P−4の水溶液を得た。得られた特定高分子化合物P−48を、ポリエチレングリコールを標準物質としたゲルバミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量(Mw)を測定した結果、21,000であった。
また、本発明の他の特定高分子化合物についても同様にして、上記合成例の繰り返し単位のモノマー成分を変更すること、アミノ基の置換反応に用いる反応性試薬の種類と添加量を変更すること、さらに必要により既存の合成手法により合成した。
[Example A] Synthesis of copolymer <Synthesis of specific polymer compound P-48>
In a 500 ml three-necked flask, dimethyl-N-methacryloyloxyethyl-N-carboxymethyl-ammonium betaine (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry) (12.5 g), vinylphosphonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (22.5 g) ), 2-methacrylamidoethylamine hydrochloride (synthetic product) (12.58 g) and distilled water (150 g) were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 10 minutes in a nitrogen stream. Thereafter, polymerization initiator VA-046B (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (0.9 g) was dissolved in distilled water (40 g) and added dropwise over 3 hours. Thereafter, VA-046B (0.9 g) was added again, and the mixture was heated at 80 ° C. for 3 hours and cooled after the heating was completed.
NaOH was added to the resulting polymer solution to adjust the pH to 10. Thereafter, 4-OH-TEMPO (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (0.2 g) was added and heated to 55 ° C., and methacrylic anhydride (manufactured by Aldrich) (45 g) was added dropwise over 1 hour. After completion of dropping, the temperature was maintained at 55 ° C. for 6 hours. Thereafter, ethyl acetate (500 g) was added to recover the lower layer. Amberlyst R15 (manufactured by Aldrich) (50 g) was added as an ion exchange resin to the recovered lower layer, and after stirring at room temperature for 2 hours, Amberlyst R15 was removed by filtration to obtain an aqueous solution of the specific polymer compound P-4. . It was 21,000 as a result of measuring the weight average molecular weight (Mw) of the obtained specific high molecular compound P-48 by the gel-battery chromatography method (GPC) which used polyethyleneglycol as the standard substance.
In the same manner for other specific polymer compounds of the present invention, the monomer component of the repeating unit in the above synthesis example is changed, and the type and amount of the reactive reagent used for the amino group substitution reaction are changed. Further, if necessary, it was synthesized by an existing synthesis method.

[実施例B]特定低分子化合物の合成
<特定低分子化合物b−124の合成>
300mlの3口フラスコに、トリエチルアミン(和光純薬製)(10g)と、1,4−ブタンスルトン(和光純薬製)(13.46g)と、アセトニトリル(100ml)を加え80℃で2時間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し、析出した白色固体をメチルイソブチルケトンで洗浄し乾燥することで、特定低分子化合物b−124「(21g)を得た。 また、本発明の他の特定高分子化合物についても同様にして、上記合成例の繰り返し単位のモノマー成分を変更すること、さらに必要により既存の合成手法により合成した。
[Example B] Synthesis of specific low molecular compound <Synthesis of specific low molecular compound b-124>
Triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (10 g), 1,4-butane sultone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (13.46 g) and acetonitrile (100 ml) were added to a 300 ml three-necked flask and stirred at 80 ° C. for 2 hours. . Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the precipitated white solid was washed with methyl isobutyl ketone and dried to obtain a specific low molecular compound b-124 “(21 g). In addition, another specific polymer of the present invention. The compounds were synthesized in the same manner by changing the monomer component of the repeating unit in the above synthesis example, and if necessary, by an existing synthesis method.

<特定低分子化合物b−102の合成>
300mlの3口フラスコに、トリエチルアミン(和光純薬製)(10g)と、ブロモ酢酸エチル(東京化成製)(16.39g)と、アセトニトリル(100ml)を加え50℃で6時間攪拌した。その後、溶媒を減圧留去し、得られた黄色オイルをメタノール50g/水50g混液に溶解し、酸化銀(和光純薬製)(1g)を加え30分攪拌後に溶媒を減圧留去した。得られた褐色オイルをアセトン洗浄し減圧乾燥することで、b−102(16.4g)を得た。
<Synthesis of Specific Low Molecular Compound b-102>
Triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (10 g), ethyl bromoacetate (manufactured by Tokyo Chemical Industry) (16.39 g) and acetonitrile (100 ml) were added to a 300 ml three-necked flask and stirred at 50 ° C. for 6 hours. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained yellow oil was dissolved in a mixed solution of 50 g of methanol / 50 g of water. Silver oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (1 g) was added and stirred for 30 minutes, and then the solvent was distilled off under reduced pressure. The resulting brown oil was washed with acetone and dried under reduced pressure to obtain b-102 (16.4 g).

<特定低分子化合物b−142の合成>
300mlの3口フラスコに、エタノール(和光純薬製)(10g)とトリエチルアミン(5g)、と、脱水テトラヒドロフラン(100ml)を加え−10℃まで冷却した後、2−クロロ−2−オキソ−1,3,2−ジオキサホスホラン(東京化成製)(30.92g)を1時間かけて滴下した。その後3時間、−10℃を維持し、析出した沈殿を濾過した後、溶媒を減圧留去することで黄色液体を32g得た。得られた黄色液体を脱水アセトニトリルに溶解し、トリエチルアミン(18g)を加え80℃で6時間反応させた。溶媒を減圧留去し、酢酸エチル洗浄/減圧乾燥することでb−142(15g)を得た。
<Synthesis of Specific Low Molecular Compound b-142>
Ethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (10 g), triethylamine (5 g), and dehydrated tetrahydrofuran (100 ml) were added to a 300 ml three-necked flask and cooled to −10 ° C., and then 2-chloro-2-oxo-1, 3,2-Dioxaphosphorane (manufactured by Tokyo Chemical Industry) (30.92 g) was added dropwise over 1 hour. Thereafter, the temperature was maintained at −10 ° C. for 3 hours, the deposited precipitate was filtered, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 32 g of a yellow liquid. The obtained yellow liquid was dissolved in dehydrated acetonitrile, triethylamine (18 g) was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 6 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure and washed with ethyl acetate / dried under reduced pressure to obtain b-142 (15 g).

(B)平版印刷版
(1)平版印刷版原版の作成
(B) Planographic printing plate (1) Preparation of lithographic printing plate precursor

下記のいずれかの支持体上に、下塗り層(中間層)を形成し、下塗り層の上に、下記のいずれかの感光層を形成し、さらに、下記のいずれかの保護層を形成して、平板印刷版原版を作成した。   An undercoat layer (intermediate layer) is formed on any of the following supports, and any of the following photosensitive layers is formed on the undercoat layer, and further, any of the following protective layers is formed. A lithographic printing plate precursor was prepared.

〔アルミニウム支持体1の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
[Preparation of Aluminum Support 1]
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material: JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, the hair diameter is 0.3 mm. The aluminum surface was grained using 3 bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板アルミニウムに対して、15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2の条件で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体1を作製した。
このようにして得られた支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. A DC anodized film of 2.5 g / m 2 was provided on the plate aluminum using a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte under a current density of 15 A / dm 2 . Thereafter, it was washed with water and dried to produce an aluminum support 1.
The center line average roughness (Ra) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

〔アルミニウム支持体2の作製〕
アルミニウム支持体1を、珪酸ナトリウム1質量%水溶液にて20℃で10秒処理し、アルミニウム支持体2を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.54μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Preparation of aluminum support 2]
The aluminum support 1 was treated with a 1% by mass aqueous solution of sodium silicate at 20 ° C. for 10 seconds to produce an aluminum support 2. When the surface roughness was measured, it was 0.54 μm (Ra display according to JIS B0601).

〔アルミニウム支持体3の作製〕
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。このアルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3質量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間デスマット処理を行った。このアルミニウム板を、15%硫酸水溶液溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.44μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Preparation of Aluminum Support 3]
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution kept at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. The aluminum plate was neutralized by immersion in a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Next, this aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current for 60 seconds under conditions of 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 in a 0.3 mass% hydrochloric acid aqueous solution, and then kept at 60 ° C. In addition, desmutting treatment was performed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution for 10 seconds. This aluminum plate was anodized in a 15% sulfuric acid aqueous solution at 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a voltage of 15 V for 1 minute to produce an aluminum support. When the surface roughness was measured, it was 0.44 μm (Ra display according to JIS B0601).

〔アルミニウム支持体4の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10重量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25重量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20重量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
[Preparation of Aluminum Support 4]
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 wt% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was adjusted to 0. The aluminum surface was grained using three 3 mm bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 wt% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 wt% nitric acid aqueous solution at 60 ° C. for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。続いて、2.5Mリン酸を電解液として、電圧50V、最大電流密度2A/dm2で1.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。
続いて、100℃の水蒸気を1.033×105Paの圧力で上記の陽極酸化皮膜に15秒間吹き付けて、封孔処理を行った。その後、液温50℃、0.4重量%のポリビニルホスホン酸水溶液に10秒間浸漬し、水洗、乾燥して支持体(4)を得た。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed. Subsequently, a 2.5 M phosphoric acid was used as an electrolyte solution, and a direct current anodic oxide film having a voltage of 50 V and a maximum current density of 2 A / dm 2 was provided at 1.5 g / m 2 , followed by washing and drying.
Then, 100 degreeC water vapor | steam was sprayed on said anodic oxide film for 15 second with the pressure of 1.033 * 10 < 5 > Pa, and the sealing process was performed. Then, it was immersed in a polyvinyl phosphonic acid aqueous solution with a liquid temperature of 50 ° C. and 0.4 wt% for 10 seconds, washed with water and dried to obtain a support (4).

〔下塗り層の形成〕
上記アルミニウム支持体1〜3それぞれに、以下の組成を有する下塗り層塗布液をバーコーターで塗布し、100℃にて1分間乾燥して下塗り層を形成した。下塗り層の乾燥塗布量は12mg/m2であった。
(Formation of undercoat layer)
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied to each of the aluminum supports 1 to 3 with a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 12 mg / m 2 .

<下塗り層塗布液>
・下記表に記載の特定高分子化合物または下記比較用高分子化合物
0.50g
・下記表に記載の特定低分子化合物または下記比較用低分子化合物
表中記載
・メタノール 90.0g
・純水 10.0g
<Undercoat layer coating solution>
-The specific polymer compounds listed in the table below or the following polymer compounds for comparison
0.50g
・ Specific low molecular weight compounds listed in the table below or comparative low molecular weight compounds listed below
In the table, methanol 90.0g
・ Pure water 10.0g

〔感光層1の形成〕
下記組成の感光層塗布液1を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層1を形成した。
[Formation of photosensitive layer 1]
Photosensitive layer coating solution 1 having the following composition was bar coated on the undercoat layer and then oven-dried at 90 ° C. for 60 seconds to form photosensitive layer 1 having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .

<感光層塗布液1>
・下記バインダーポリマー(1)(重量平均分子量:80,000)0.34g
・下記重合性化合物(1) 0.68g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.02g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料(東洋インキ製、No.700-10 FG CY BLUE)(15質量部)、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(重量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17))(10質量部)、シクロヘキサノン(15質量部))
・熱重合禁止剤
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩) 0.01g
・下記フッ素系界面活性剤(1)(重量平均分子量:10,000)
0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.02g
((株)ADEKA製、プルロニックL44)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Photosensitive layer coating solution 1>
-The following binder polymer (1) (weight average molecular weight: 80,000) 0.34 g
・ The following polymerizable compound (1) 0.68 g
(PLEX6661-O, manufactured by Degussa Japan)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.02 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment (manufactured by Toyo Ink, No. 700-10 FG CY BLUE) (15 parts by mass), dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17) ) (10 parts by mass), cyclohexanone (15 parts by mass))
-Thermal polymerization inhibitor (N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt) 0.01 g
-The following fluorosurfactant (1) (weight average molecular weight: 10,000)
0.001g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.02g
(Pluronic L44, manufactured by ADEKA Corporation)
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔感光層2の形成〕
下記成分の感光層塗布液2を乾燥塗布質量が1.4g/mとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥させて感光層2を形成した。
[Formation of photosensitive layer 2]
The photosensitive layer coating solution 2 having the following components was applied so that the dry coating mass was 1.4 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 1 minute to form the photosensitive layer 2.

<感光層塗布液2>
重合性化合物(上記重合性化合物1) 4.0 質量部
バインダーポリマー(下記バインダーB)(重量平均分子量:3.5万)
2.0 質量部
増感色素(1) 0.32質量部
重合開始剤(1) 0.61質量部
連鎖移動剤(1) 0.57質量部
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 0.020質量部
ε−フタロシアニン顔料分散物 0.71質量部
(顔料(15質量%)、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(重量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17)(10質量%)、溶剤(シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量%/20質量%/40質量%))
フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF780、DIC(株)製)
0.016質量部
メチルエチルケトン 47質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 45質量部
<Photosensitive layer coating solution 2>
Polymerizable compound (polymerizable compound 1) 4.0 parts by mass Binder polymer (Binder B below) (weight average molecular weight: 35,000)
2.0 parts by weight Sensitizing dye (1) 0.32 parts by weight Polymerization initiator (1) 0.61 parts by weight Chain transfer agent (1) 0.57 parts by weight N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.020 parts by weight Part ε-phthalocyanine pigment dispersion 0.71 part by mass (pigment (15% by mass), dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17) (10 Mass%), solvent (cyclohexanone / methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15 mass% / 20 mass% / 40 mass%))
Fluorine-based nonionic surfactant (Megafac F780, manufactured by DIC Corporation)
0.016 parts by mass Methyl ethyl ketone 47 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 45 parts by mass

〔感光層3の形成〕
下記組成の感光層塗布液3を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層3を形成した。
<感光層塗布液3>
・上記バインダーポリマー(1)(重量平均分子量:5万) 0.04g
・下記バインダーポリマー(2)(重量平均分子量:8万) 0.30g
・上記重合性化合物(1) 0.17g
・下記重合性化合物(2) 0.51g
・下記増感色素(2) 0.03g
・下記増感色素(3) 0.015g
・下記増感色素(4) 0.015g
・上記重合開始剤(1) 0.13g
・連鎖移動剤:メルカプトベンゾチアゾール 0.01g
・ε−フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料(15質量部)、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(重量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17))(10質量部)、シクロヘキサノン(15質量部))
・熱重合禁止剤 0.01g
(N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩)
・上記フッ素系界面活性剤(1)(重量平均分子量:1万) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
[Formation of photosensitive layer 3]
A photosensitive layer coating solution 3 having the following composition was bar-coated on the undercoat layer and then oven-dried at 90 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive layer 3 having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .
<Photosensitive layer coating solution 3>
-Binder polymer (1) (weight average molecular weight: 50,000) 0.04 g
-The following binder polymer (2) (weight average molecular weight: 80,000) 0.30 g
・ Polymerizable compound (1) 0.17 g
-0.51 g of the following polymerizable compound (2)
・ The following sensitizing dye (2) 0.03 g
・ The following sensitizing dye (3) 0.015 g
・ The following sensitizing dye (4) 0.015 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.13 g
・ Chain transfer agent: Mercaptobenzothiazole 0.01g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment (15 parts by mass), dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17)) (10 parts by mass), cyclohexanone (15 parts by mass))
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
(N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt)
-Fluorosurfactant (1) (weight average molecular weight: 10,000) 0.001 g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

〔感光層4の形成〕
下記組成の感光層塗布液4を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層4を形成した。感光層塗布液4は下記感光液(1)および疎水化前駆体液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
[Formation of photosensitive layer 4]
Photosensitive layer coating solution 4 having the following composition was bar coated on the undercoat layer and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form photosensitive layer 4 having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . The photosensitive layer coating solution 4 was prepared by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and hydrophobized precursor solution (1) immediately before coating.

<感光液(1)>
・下記バインダーポリマー(3) 0.162g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.030g
・下記重合開始剤(3) 0.162g
・重合性化合物(アロニックスM215、東亞合成(株)製)0.385g
・パイオニンA−20(竹本油脂(株)製) 0.055g
・下記感脂化剤(1) 0.044g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution (1)>
・ The following binder polymer (3) 0.162 g
・ The following infrared absorber (1) 0.030 g
-The following polymerization initiator (3) 0.162g
・ Polymerizable compound (Aronix M215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.385 g
・ Pionine A-20 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.055g
・ The following oil sensitizer (1) 0.044 g
・ 0.008 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

<疎水化前駆体液(1)>
・下記疎水化前駆体水分散液(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Hydrophobic precursor liquid (1)>
-Hydrophobic precursor aqueous dispersion (1) below 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

(疎水化前駆体水分散液(1)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水(350mL)を加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム(1.5g)添加し、さらに開始剤として過硫化アンモニウム(0.45g)を添加し、次いでグリシジルメタクリレート(45.0g)とスチレン(45.0g)との混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加してポリマー微粒子からなる疎水化前駆体水分散液(1)を得た。このポリマー微粒子の粒子サイズ分布は、粒子サイズ60nmに極大値を有していた。
(Production of hydrophobized precursor aqueous dispersion (1))
A 1000 ml four-necked flask is equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube and reflux condenser, and distilled water (350 mL) is added while deoxygenating by introducing nitrogen gas, and the internal temperature is 80 ° C. Heated until Sodium dodecyl sulfate (1.5 g) was added as a dispersant, ammonium persulfide (0.45 g) was added as an initiator, and then a mixture of glycidyl methacrylate (45.0 g) and styrene (45.0 g) was added dropwise. It dropped from the funnel over about 1 hour. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued as it was for 5 hours, and then the unreacted monomer was removed by steam distillation. Thereafter, the mixture was cooled and adjusted to pH 6 with ammonia water, and finally purified water was added so that the nonvolatile content was 15% by mass to obtain a hydrophobized precursor aqueous dispersion (1) composed of polymer fine particles. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 60 nm.

粒子サイズ分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒子サイズを総計で5000個測定し、得られた粒子サイズ測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒子サイズの出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒子サイズ値を粒子サイズとした。   The particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring the total particle size of 5000 particles on the photograph, and dividing the obtained particle size measured value from 0 to 0 on a logarithmic scale by 50. Then, the frequency of appearance of each particle size was plotted and determined. For non-spherical particles, the particle size value of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.

〔感光層(5)の形成〕
下記組成の感光層塗布液(5)をバー塗布し、82℃90秒オーブン乾燥して乾燥塗布量1.2g/m2の感光層を形成した。
[Formation of photosensitive layer (5)]
A photosensitive layer coating solution (5) having the following composition was coated on a bar and oven dried at 82 ° C. for 90 seconds to form a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.2 g / m 2 .

<感光層塗布液(5)>
・バインダーポリマー(4) 1.75部
・Hybridur580(Air Products and Chemicals社製、ウレタン−アクリルハイブリッドポリマー分散液(40%)) 固形分として2.34部
・SR399 (サートマー・ジャパン(株)から入手可能なジペンタエリスリトールペンタアクリレート) 2.66部
・NK−Ester A−DPH (中村合成化学工業(株)から入手可能なジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 2.66部
・CD9053(サートマー・ジャパン(株)から入手可能な3官能有機酸のエステル化合物) 0.53部
・ビス−tert−ブチルフェニルヨードニウム テトラフェニルボレート
0.96部
・Fluor N2900 (Cytnix社より入手可能な界面活性剤) 0.11部
・Pigment1 0.73部
・下記赤外線吸収剤(2) 0.27部
・イオン交換水 13.77部
・1−メトキシ−2−プロパノール 48.18部
・2−ブチロラクトン 13.77部
・2−ブタノン 1.94部
<Photosensitive layer coating solution (5)>
-Binder polymer (4) 1.75 parts-Hybridur 580 (manufactured by Air Products and Chemicals, urethane-acrylic hybrid polymer dispersion (40%)) 2.34 parts as solids-SR399 (available from Sartomer Japan, Inc.) Possible dipentaerythritol pentaacrylate) 2.66 parts NK-Ester A-DPH (dipentaerythritol hexaacrylate available from Nakamura Synthetic Chemical Co., Ltd.) 2.66 parts CD9053 (Sartomer Japan, Inc.) 0.53 parts bis-tert-butylphenyliodonium tetraphenylborate
0.96 parts · Fluor N2900 (surfactant available from Cytnix) 0.11 parts · Pigment1 0.73 parts · Infrared absorbent (2) 0.27 parts · Ion-exchanged water 13.77 parts · 1 -Methoxy-2-propanol 48.18 parts 2-butyrolactone 13.77 parts 2-butanone 1.94 parts

バインダーポリマー(4)
Binder polymer (4)

上記、Disperbyk167は、Byk Chemie社より入手可能な分散剤である。   The above Disperbyk167 is a dispersant available from Byk Chemie.

〔感光層(6)の形成〕
感光層塗布液2において、重合性化合物1を下記重合性化合物に変更し、他は同様に行って感光層(6)を作製した。
[Formation of photosensitive layer (6)]
In the photosensitive layer coating solution 2, the polymerizable compound 1 was changed to the following polymerizable compound, and others were carried out in the same manner to prepare a photosensitive layer (6).

〔保護層1の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液1を乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層1を形成した。
[Formation of Protective Layer 1]
The protective layer coating solution 1 having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form the protective layer 1.

<保護層塗布液1>
・ポリビニルアルコール(ケン化度:98モル%、重合度:500) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量:5万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1)〕(分子量:7万) 0.5g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.5g
・水 950g
<Protective layer coating solution 1>
Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight: 50,000) 5g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)] (molecular weight: 70,000) 0.5 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
・ 950g of water

〔保護層2の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液2を乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層2を形成した。
[Formation of Protective Layer 2]
The protective layer coating solution 2 having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form the protective layer 2.

<保護層塗布液2>
・下記の無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・スルホン酸変性ポリビニルアルコールの6質量%水溶液 0.55g
(日本合成化学工業(株)製CKS50、ケン化度99モル%以上、重合度300)
・ポリビニルアルコール6質量%水溶液 0.03g
((株)クラレ製PVA−405、ケン化度81.5モル%、重合度500、6質量%水溶液)
・界面活性剤の1質量%水溶液
(日本エマルジョン(株)製エマレックス710) 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution 2>
-1.5 g of the following inorganic layered compound dispersion (1)
・ 0.55 g of 6% by weight aqueous solution of sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol
(Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300)
・ Polyvinyl alcohol 6 mass% aqueous solution 0.03g
(Kuraray Co., Ltd. PVA-405, saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500, 6 mass% aqueous solution)
-1% by weight aqueous solution of surfactant (Emulex 710 manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、混合物を、ホモジナイザーを用いて平均粒子サイズ(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散し、無機質層状化合物分散液(1)を調製した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the mixture is dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 3 μm. An inorganic layered compound dispersion (1) was prepared. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

〔保護層3の形成〕
下記保護層塗布液(3)を下記の保護層塗布液(3)に変更してバー塗布し、乾燥塗布量2.1g/m2の保護層を形成した。
〔保護層用塗布液(3)〕
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−105、ケン化度98モル%以上、
重合度500)6重量%水溶液 66.33部
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1重量%水溶液 0.86部
・イオン交換水 12.60部
[Formation of Protective Layer 3]
The following protective layer coating solution (3) was changed to the following protective layer coating solution (3) and bar-coated to form a protective layer having a dry coating amount of 2.1 g / m 2 .
[Coating liquid for protective layer (3)]
-Polyvinyl alcohol (PVA-105 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree of 98 mol% or more,
Degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 66.33 parts Surfactant manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd. (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86 parts ion-exchanged water 12.60 parts

表1〜4中、特定高分子化合物は本発明の(A)共重合体の具体例に示したものである。なお、平版印刷版原版H−1〜20に用いた比較例用の高分子化合物E−1〜Eー3は比較用の化合物であり、その構造を以下に示す。
In Tables 1 to 4, specific polymer compounds are those shown in the specific examples of the copolymer (A) of the present invention. In addition, the high molecular compounds E-1 to E-3 for comparative examples used in the lithographic printing plate precursors H-1 to 20 are comparative compounds, and their structures are shown below.

(2)平版印刷版原版の評価
〔露光、現像および印刷〕
下記表に示す各平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd.(FFEI社)製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー(発光波長405nm±10nm/出力30mW)を搭載)により画像露光した。画像露光は、解像度2、438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、網点面積率が50%となるように、版面露光量0.05mJ/cm2で行った。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを行った後、下記の各現像液を用い、図1に示すような構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。自動現像処理機は、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを1本有し、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。現像液の温度は30℃であった。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。現像処理後、乾燥部にて乾燥を行った。乾燥温度は80℃であった。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
(2) Evaluation of planographic printing plate precursor [exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown in the following table is attached to FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was performed with a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (InGaN-based semiconductor laser (with an emission wavelength of 405 nm ± 10 nm / output 30 mW) mounted) manufactured by (FFEI). Image exposure was performed at a resolution of 2,438 dpi using an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., with a plate surface exposure of 0.05 mJ / cm 2 so that the dot area ratio was 50%.
Next, after preheating at 100 ° C. for 30 seconds, development processing was carried out using an automatic developing processor having a structure as shown in FIG. The automatic processor has one brush roll with an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted, and rotates 200 times per minute in the same direction as the conveying direction ( The peripheral speed of the brush tip was 0.52 m / sec). The temperature of the developer was 30 ° C. The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min. After the development processing, drying was performed in a drying section. The drying temperature was 80 ° C. However, when the developer 2 was used, it was washed with water before the post-development drying step.

<現像液1>
・界面活性剤−1(川研ファインケミカル(株)製:ソフタゾリンLPB−R) 15g
・界面活性剤−2(川研ファインケミカル(株)製:ソフタゾリンLAO) 4g
・キレート剤 エチレンジアミンコハク酸 三ナトリウム
(InnoSpec specialty chemicals社製:オクタクエストE30)
0.68g
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール 0.025g
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.025g
・シリコーン系消泡剤(GE東芝シリコーン(株)社製:TSA739) 0.15g
・グルコン酸ナトリウム 1.5g
・炭酸ナトリウム 1.06g
・炭酸水素ナトリウム 0.52g
・水 77.04g
(pH:9.8)
<Developer 1>
・ Surfactant-1 (manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd .: Softazoline LPB-R) 15 g
・ Surfactant-2 (Kawaken Fine Chemical Co., Ltd .: Softazoline LAO) 4g
-Chelating agent Ethylenediamine succinic acid trisodium (InnoSpec special chemicals: Octaquest E30)
0.68g
・ 2-Bromo-2-nitropropane-1,3diol 0.025g
・ 2-Methyl-4-isothiazolin-3-one 0.025g
・ Silicone-based antifoaming agent (GE Toshiba Silicones Co., Ltd .: TSA739) 0.15 g
・ Sodium gluconate 1.5g
・ Sodium carbonate 1.06g
・ Sodium bicarbonate 0.52g
・ Water 77.04g
(PH: 9.8)

<現像液2>
・水酸化カリウム 0.15g
・ニューコールB13(日本乳化剤製) 5.0g
・キレスト400(キレート剤)(キレスト(株)製) 0.1g
・蒸留水 94.75g
(pH:12.05)
<Developer 2>
・ Potassium hydroxide 0.15g
・ New Coal B13 (Nippon Emulsifier) 5.0g
・ Chillest 400 (chelating agent) (manufactured by Kirest Co., Ltd.) 0.1g
・ Distilled water 94.75g
(PH: 12.05)

<現像液3>
・アラビアガム 25.0g
・酵素変性馬鈴薯澱粉(日澱化学製) 70.0g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 5.0g
・第一リン酸アンモニウム 1.0g
・クエン酸 1.0g
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.01g
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.01g
・下記両性界面活性剤(化合物W−1) 70.0g
・下記アニオン性界面活性剤(化合物AN−1) 3.0g
・蒸留水 824.98g
(リン酸および水酸化ナトリウムを添加し、pHを4.5に調整)
<Developer 3>
・ Gum Arabic 25.0g
・ Enzyme-modified potato starch (manufactured by Nissho Chemical) 70.0 g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 5.0 g
・ Primary ammonium phosphate 1.0g
・ Citric acid 1.0g
・ 0.01 g of 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol
-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01 g
-70.0 g of the following amphoteric surfactant (Compound W-1)
-3.0 g of the following anionic surfactant (compound AN-1)
・ Distilled water 824.98 g
(Phosphoric acid and sodium hydroxide added to adjust pH to 4.5)

<現像液4>
・水 937.2g
・下記アニオン系界面活性剤(化合物W−2) 23.8g
・リン酸 3g
・フェノキシプロパノール 5g
・トリエタノールアミン 6g
・ポテトデキストリン 25g
<Developer 4>
・ Water 937.2g
-23.8 g of the following anionic surfactant (Compound W-2)
・ Phosphoric acid 3g
・ Phenoxypropanol 5g
・ Triethanolamine 6g
・ Potatodextrin 25g

<現像液5>
・水 88.6g
・下記ノニオン系界面活性剤(W−3) 2.4g
・下記ノニオン系界面活性剤(W−4) 2.4g
・ノニオン系界面活性剤 1.0g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・フェノキシプロパノール 1.0g
・オクタノール 0.6g
・N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン 1.0g
・トリエタノールアミン 0.5g
・グルコン酸ナトリウム 1.0g
・クエン酸3ナトリウム 0.5g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム 0.05g
・ポリスチレンスルホン酸 1.0g
(Versa TL77(30%溶液)、Alco Chemical社製)
(リン酸を添加し、pHを7.0に調整)
<Developer 5>
・ Water 88.6g
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-3)
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-4)
・ Nonionic surfactant 1.0g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Phenoxypropanol 1.0g
・ Octanol 0.6g
・ N- (2-hydroxyethyl) morpholine 1.0 g
・ Triethanolamine 0.5g
・ Sodium gluconate 1.0g
・ Trisodium citrate 0.5g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium 0.05g
・ Polystyrenesulfonic acid 1.0g
(Versa TL77 (30% solution), manufactured by Alco Chemical)
(Add phosphoric acid and adjust pH to 7.0)

<現像液6(pH:7.0)>
・水 他成分と合わせ10,000部となる量
・エチレングリコール モノ−n−ヘキシルエーテル 80部
(オクタノール/水分配係数=1.86、水に対する溶解度=1.0g/水100ml)
・下記ノニオン系界面活性剤(W−5) 500部
<Developer 6 (pH: 7.0)>
・ Water: 10,000 parts combined with other ingredients ・ Ethylene glycol mono-n-hexyl ether 80 parts (octanol / water partition coefficient = 1.86, solubility in water = 1.0 g / 100 ml water)
・ 500 parts of the following nonionic surfactant (W-5)

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

〔評価〕
各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性および現像性を下記のように評価した。結果を下記表に示す。
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for printing durability, stain resistance, stain resistance after aging and developability as follows. The results are shown in the table below.

<耐刷性>
印刷枚数の増加にともない、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性評価は実施例1〜52、比較例1〜5については、比較例3を、実施例53〜67および比較例6〜10については、比較例8を基準(100)として、以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の耐刷性)/(基準平版印刷版原版の耐刷性)
<Print durability>
As the number of printed sheets increased, the photosensitive layer gradually worn out and the ink acceptance decreased, so the ink density on the printing paper decreased. In the printing plate exposed with the same exposure amount, the printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. Evaluation of printing durability was carried out using Examples 1 to 52, Comparative Examples 1 to 5 as Comparative Example 3, and Examples 53 to 67 and Comparative Examples 6 to 10 as Comparative Example 8 as a reference (100). The relative printing durability is defined as follows. The larger the relative printing durability number, the higher the printing durability.
Relative printing durability = (printing durability of the target lithographic printing plate precursor) / (printing durability of the standard lithographic printing plate precursor)

<耐汚れ性>
印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。非画像部のインキ付着は、必ずしも均一に発生するわけではないため、75cm2当りの目視評価の点数で表示した。目視評価の点数は、非画像部のインキ付着面積率が0%の場合を10点、0%を超え10%以下を9点、10%を超え20%以下を8点、20%を超え30%以下を7点、30%を超え40%以下を6点、40%を超え50%以下を5点、50%を超え60%以下を4点、60%を超え70%以下を3点、70%を超え80%以下を2点、80%を超え90%以下を1点、90%を超えるものを0点とした。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。
<Stain resistance>
The printed material on the 20th sheet was taken out after the start of printing, and the stain resistance was evaluated based on the ink density adhered to the non-image area. Ink adhesion on the non-image area does not always occur uniformly, and thus was indicated by a visual evaluation score per 75 cm 2 . The score of the visual evaluation is 10 points when the ink adhesion area ratio of the non-image area is 0%, 9 points exceeding 0% and 9 points or less, 8 points exceeding 20% and 10 points exceeding 20%, and 30 points exceeding 30%. %, 7 points below 30%, 6 points below 40% and below, 5 points above 40% and below 50%, 4 points above 50% and below 60%, 3 points above 60% and below 70%, Over 70% and 80% or less were assigned 2 points, over 80% and 90% or less were assigned 1 point, and over 90% were assigned 0 points. The higher the score, the better the stain resistance.

<経時後の耐汚れ性>
平版印刷版を作製した後、60℃相対湿度60%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した。この印刷版を用いて、上記耐汚れ性の評価と同様にして経時後の耐汚れ性を評価した。点数の高い程、経時後の耐汚れ性が良好であることを表す。
<Stain resistance after aging>
After preparing a lithographic printing plate, it was left for 3 days in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and a relative humidity of 60%. Using this printing plate, the stain resistance after the elapse of time was evaluated in the same manner as the above-described stain resistance evaluation. The higher the score, the better the stain resistance after aging.

<現像性>
種々の搬送速度に変更して上記現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性とした。現像性評価は実施例1〜52、比較例1〜5については、比較例3を、実施例53〜67および比較例6〜10については、比較例8を基準(100)として、以下のように定義した相対現像性で表した。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを表す。
相対現像性=(対象平版印刷版原版の搬送速度)/(基準平版印刷版原版の搬送速度)
<Developability>
The development processing was performed while changing to various transport speeds, and the cyan density of the non-image portion of the obtained lithographic printing plate was measured with a Macbeth densitometer. The transport speed at which the cyan density of the non-image area was equal to the cyan density of the aluminum support was determined and used as developability. The evaluation of developability is as follows, with Examples 1 to 52, Comparative Examples 1 to 5 as Comparative Example 3 and Examples 53 to 67 and Comparative Examples 6 to 10 as Comparative Example 8 as a reference (100). It was represented by the relative developability defined in 1. The larger the value of the relative developability, the higher the developability and the better the performance.
Relative developability = (transport speed of target lithographic printing plate precursor) / (transport speed of reference lithographic printing plate precursor)

<塗布面状>
保護層まで塗布した露光前の平版印刷版原版の表面状態において、目視にて表面を観察し、下記評価条件で評価した。
○ :シアン濃度にムラが確認されない
○△:スジ状のシアン濃度ムラが発生している
△ :スジ状のシアン濃度ムラ発生に加え、シアン濃度が低下した直径5mm未満のポツが発生している
× :直径5mm以上のシアン濃度が低下した円状ポツが発生している。
<Applied surface>
In the surface state of the lithographic printing plate precursor before exposure, which was applied to the protective layer, the surface was visually observed and evaluated under the following evaluation conditions.
○: Unevenness in cyan density is not confirmed. ○ △: Streaky cyan density unevenness has occurred. △: In addition to the occurrence of streaky cyan density unevenness, spots with a diameter of less than 5 mm with reduced cyan density have occurred. X: Circular spots with a cyan density of 5 mm or more in diameter are reduced.

上記表から明らかなように、(A)特定高分子化合物と(B)特定低分子化合物を用いた実施例は、塗布面状が良化すると共に、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に優れることがわかった。
一方、(A)特定高分子化合物を下塗り層に有していても(B)特定低分子化合物を有しない比較例3および8では塗布面状が非常に悪化し、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性のバランスが劣ることがわかった。
また、比較例2および6から、(A)特定高分子化合物が特定構造の親水基を有しない場合、(B)特定低分子化合物を加えても、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に良化効果がほとんど確認できないことがわかった。
また支持体吸着基を有さず、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−2を用いた比較例4および9では、耐刷性に大幅な劣化が確認されることがわかった。
また分子量が5000未満であり、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−3を用いた比較例5および10では、分子量が低いことによる性能低下に加え、(B)特定低分子化合物を加えた効果もほぼ確認できず、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性の性能バランスが低いことがわかった。
なお、本発明では、特に、耐刷性に優れている場合に、高い評価であると言える。
As is apparent from the above table, the examples using the (A) specific high molecular compound and the (B) specific low molecular compound improve the coating surface condition, and improve the printing durability, stain resistance, and time. It was found to be excellent in stain resistance and developability.
On the other hand, even when (A) the specific high molecular compound is included in the undercoat layer, the coated surface shape is very deteriorated in Comparative Examples 3 and 8 where (B) the specific low molecular compound is not included, and the printing durability and stain resistance are deteriorated. It was found that the balance between stain resistance and developability after aging was poor.
Further, from Comparative Examples 2 and 6, when (A) the specific high molecular compound does not have a hydrophilic group having a specific structure, (B) even if a specific low molecular compound is added, the coated surface state, printing durability, and stain resistance It was found that the effect of improving the stain resistance and developability after aging could hardly be confirmed.
In Comparative Examples 4 and 9 using the polymer compound E-2 for Comparative Example, which does not have a support adsorbing group and does not satisfy the requirements of (A) the specific polymer compound, the printing durability is greatly deteriorated. Was found to be confirmed.
Further, in Comparative Examples 5 and 10 using the polymer compound E-3 for Comparative Example, which has a molecular weight of less than 5000 and does not satisfy the requirements of (A) the specific polymer compound, in addition to the performance degradation due to the low molecular weight (B) The effect of adding the specific low molecular weight compound was hardly confirmed, and it was found that the performance balance of the coated surface state, printing durability, stain resistance, stain resistance after aging and developability was low.
In the present invention, it can be said that the evaluation is particularly high when the printing durability is excellent.

〔露光、現像および印刷〕
下記に示す各平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter3244VX(水冷式40W赤外線半導体レーザー(830nm)搭載)にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2、400dpiの条件で50%平網の画像露光を行った。次いで、各現像液を用い、図2に示す構造の自動現像処理機にて、プレヒート部での版面到達温度が100℃となるヒーター設定、現像液中への浸漬時間(現像時間)が20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
[Exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown below was subjected to a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo (equipped with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser (830 nm)) under the conditions of an output of 9 W, outer drum rotation speed of 210 rpm, resolution of 2, and 400 dpi. Image exposure was performed. Next, using each developer, in an automatic development processor having the structure shown in FIG. 2, a heater setting at which the plate surface temperature at the preheating portion becomes 100 ° C., and the immersion time (development time) in the developer is 20 seconds. Development processing was carried out at a conveying speed of However, when the developer 2 was used, it was washed with water before the post-development drying step.

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

各平版印刷版原版について、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性を実施例1と同様にして評価した。耐刷性および現像性の評価は、実施例68〜85、比較例11〜15においては比較例13を、実施例82〜実施例95および比較例16〜20については、比較例18を基準(100)として行った。結果を下記表に示す。   Each lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for the coated surface, printing durability, stain resistance, stain resistance after aging, and developability. For evaluation of printing durability and developability, Examples 68 to 85 and Comparative Examples 11 to 15 are based on Comparative Example 13, and Examples 82 to 95 and Comparative Examples 16 to 20 are based on Comparative Example 18 ( 100). The results are shown in the table below.

上記表から明らかなように、(A)特定高分子化合物と(B)特定低分子化合物を用いた実施例は、塗布面状が良化すると共に、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に優れることがわかった。
一方、(A)特定高分子化合物を下塗り層に有していても(B)特定低分子化合物を有しない比較例13および18では塗布面状が非常に悪化し、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性のバランスが劣ることがわかった。
また比較例12および17から、(A)特定高分子化合物が特定構造の親水基を有しない場合、(B)特定低分子化合物を加えても、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に良化効果がほとんど確認できないことがわかった。
また支持体吸着基を有さず、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−2を用いた比較例14および19では、耐刷性に大幅な劣化が確認されることがわかった。
また分子量が5000未満であり、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−3を用いた比較例15および20では、分子量が低いことによる性能低下に加え、(B)特定低分子化合物を加えた効果もほぼ確認できず、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性の性能バランスが低いことがわかった。
As is apparent from the above table, the examples using the (A) specific high molecular compound and the (B) specific low molecular compound improve the coating surface condition, and improve the printing durability, stain resistance, and time. It was found to be excellent in stain resistance and developability.
On the other hand, even when (A) the specific high molecular compound is included in the undercoat layer, the coated surface shape is very deteriorated in Comparative Examples 13 and 18 where (B) the specific low molecular compound is not included, and the printing durability and stain resistance are deteriorated. It was found that the balance between stain resistance and developability after aging was poor.
Further, from Comparative Examples 12 and 17, when (A) the specific polymer compound does not have a hydrophilic group having a specific structure, (B) even when the specific low molecular compound is added, the coated surface state, printing durability, stain resistance, It was found that the effect of improving the stain resistance and developability after time could hardly be confirmed.
Further, in Comparative Examples 14 and 19 using the polymer compound E-2 for Comparative Example, which does not have a support adsorbing group and does not satisfy the requirements of (A) the specific polymer compound, the printing durability is greatly deteriorated. Was found to be confirmed.
Further, in Comparative Examples 15 and 20 using the polymer compound E-3 for Comparative Example, which has a molecular weight of less than 5000 and does not satisfy the requirements for (A) the specific polymer compound, in addition to the performance degradation due to the low molecular weight (B) The effect of adding the specific low molecular weight compound was hardly confirmed, and it was found that the performance balance of the coated surface state, printing durability, stain resistance, stain resistance after aging and developability was low.

〔露光、現像および印刷〕
下記表に示す各平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った
[Exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown in the following table was exposed under the conditions of an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi with a Luxel PLANETSETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure image includes a solid image and a 50% dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate precursor was mounted on the plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After supplying on the machine with dampening water and ink using the standard automatic printing start method of LITHRONE 26, printing was performed on Tohishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.

〔評価〕
各平版印刷版原版について、機上現像性および耐刷性を下記のように評価した。塗布面状、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性については実施例1と同様にして評価した。結果を下記表に示す。
<機上現像性>
感光層の非画像部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for on-press developability and printing durability as follows. The coated surface, stain resistance, and stain resistance after aging were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in the table below.
<On-press developability>
The number of print sheets required until the on-press development of the non-image portion of the photosensitive layer on the printing press was completed and no ink was transferred to the non-image portion was measured as on-press developability.

<耐刷性>
上記機上現像性の評価を行った後、さらに印刷を続けた。印刷枚数の増加にともない、徐々に感光層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が、印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。耐刷性評価は、実施例96〜106、比較例21〜25については、比較例23を基準(100)として以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の耐刷性)/(基準平版印刷版原版の耐刷性)
<Print durability>
After the on-press development property was evaluated, printing was further continued. As the number of printed sheets increased, the photosensitive layer gradually worn out, and the ink density on the printed material decreased. The printing durability is evaluated by assuming that the number of printed copies is the number of printed copies when the dot area ratio of the 50% halftone dot on the printed matter is 5% lower than the measured value of the 100th printed sheet. did. Evaluation of printing durability was expressed in terms of relative printing durability as defined below for Examples 96 to 106 and Comparative Examples 21 to 25, with Comparative Example 23 as a reference (100). The larger the relative printing durability number, the higher the printing durability.
Relative printing durability = (printing durability of the target lithographic printing plate precursor) / (printing durability of the standard lithographic printing plate precursor)

上記表から明らかなように、(A)特定高分子化合物と(B)特定低分子化合物を用いた実施例は、塗布面状が良化すると共に、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に優れることがわかった。
一方、(A)特定高分子化合物を下塗り層に有していても(B)特定低分子化合物を有しない比較例23では塗布面状が非常に悪化し、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性のバランスが劣ることがわかった。
また比較例22から、(A)特定高分子化合物が特定構造の親水基を有しない場合、(B)特定低分子化合物を加えても、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に良化効果がほとんど確認できないことがわかった。
また支持体吸着基を有さず、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−2を用いた比較例24では、耐刷性に大幅な劣化が確認されることがわかった。
また分子量が5000未満であり、(A)特定高分子化合物の要件を満たさない、比較例用の高分子化合物E−3を用いた比較例25では、分子量が低いことによる性能低下に加え、(B)特定低分子化合物を加えた効果もほぼ確認できず、塗布面状、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性の性能バランスが低いことがわかった。
As is apparent from the above table, the examples using the (A) specific high molecular compound and the (B) specific low molecular compound improve the coating surface condition, and improve the printing durability, stain resistance, and time. It was found to be excellent in stain resistance and developability.
On the other hand, even when (A) the specific high molecular compound is included in the undercoat layer, the coated surface state is very deteriorated in Comparative Example 23 where (B) the specific low molecular compound is not included, and the printing durability, stain resistance, It turned out that the balance of later stain resistance and developability is inferior.
Further, from Comparative Example 22, when (A) the specific polymer compound does not have a hydrophilic group having a specific structure, even when (B) the specific low molecular compound is added, the coated surface state, printing durability, stain resistance, after time It was found that almost no improvement effect was observed in the stain resistance and developability.
Further, in Comparative Example 24 using the polymer compound E-2 for Comparative Example, which does not have a support adsorbing group and does not satisfy the requirements of the specific polymer compound (A), significant deterioration in printing durability was confirmed. I found out that
Moreover, in the comparative example 25 using the high molecular compound E-3 for a comparative example whose molecular weight is less than 5000 and does not satisfy the requirements of (A) specific high molecular compound, in addition to the performance fall by low molecular weight, ( B) The effect of adding the specific low molecular weight compound was hardly confirmed, and it was found that the performance balance of the coated surface state, printing durability, stain resistance, stain resistance after aging and developability was low.

上記アルミニウム支持体1に、以下の組成を有する下塗り層塗布液をバーコーターで塗布し、表10の条件にて乾燥して下塗り層を形成した。下塗り層の乾燥塗布量は12mg/m2であった。 An undercoat layer coating solution having the following composition was applied to the aluminum support 1 with a bar coater and dried under the conditions shown in Table 10 to form an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 12 mg / m 2 .

<下塗り層塗布液>
・下記表に記載の特定高分子化合物または下記比較用高分子化合物
0.50g
・下記表に記載の特定低分子化合物または下記比較用低分子化合物
表中記載
・メタノール 90.0g
・純水 10.0g
<Undercoat layer coating solution>
-The specific polymer compounds listed in the table below or the following polymer compounds for comparison
0.50g
・ Specific low molecular weight compounds listed in the table below or comparative low molecular weight compounds listed below
In the table, methanol 90.0g
・ Pure water 10.0g

〔感光層の形成〕
前記感光層塗布液1を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の感光層を形成した。
[Formation of photosensitive layer]
The photosensitive layer coating solution 1 was bar coated on the undercoat layer and then oven dried at 90 ° C. for 60 seconds to form a photosensitive layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .

〔保護層の形成〕
前記保護層塗布液1を乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層を形成した。
(Formation of protective layer)
The protective layer coating solution 1 was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer.

作成した平版印刷版の塗布面状を実施例1と同様にして評価した。結果を表10に示す。   The coated surface of the prepared lithographic printing plate was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 10.

上記表からわかるように、(a)特定高分子化合物に対して、(b)特定低分子化合物を加えた平版印刷版原版は、より高速度の塗布条件においても塗布面状が悪化することがなく、より生産性を向上できることがわかった。   As can be seen from the above table, the lithographic printing plate precursor in which (b) the specific low molecular weight compound is added to (a) the specific high molecular compound, the coated surface condition may deteriorate even under higher speed coating conditions. It was found that productivity could be improved.

Claims (16)

支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に設けられた中間層を含み、該中間層が(A)重量平均分子量5000以上の共重合体と、(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分を含み、
前記(A)共重合体が、下記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造の少なくとも1つの支持体吸着基を側鎖に有する繰り返し単位と(a3)親水性基とを有し、前記親水性基は、双性イオン構造であり、
前記(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分が下記一般式(b1−1)〜(b1−8)で表される構造を少なくとも1つ以上有する、平版印刷版原版。
(一般式(a2−1)〜(a2−6)中、M 1 〜M 8 は、それぞれ、水素原子、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子、またはアンモニウムを表す。R 41 〜R 46 は、それぞれ、水素原子またはアルキル基を表す。Y 21 〜Y 26 は、それぞれ、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(b1−1)中、Rは、置換基を有しており、飽和でも不飽和でもよく、直鎖または環状または分岐でもよい炭素数1〜15のアルキル基を表し、
一般式(b1−2)〜(b1−8)中、Rは、水素原子または置換基を有してもよく、飽和でも不飽和でもよく、直鎖または環状または分岐でもよい炭素数1〜15のアルキル基を表し、
一般式(b1−1)〜(b1−8)中、Lは2価の連結基を表し、Qはn価の連結基を表し、nは2以上の整数を表し、A - はアニオンを有する構造を表し、E + はカチオンを有する構造を表す。)
A support, a photosensitive layer provided on the support, and an intermediate layer provided between the support and the photosensitive layer, wherein the intermediate layer (A) has a weight average molecular weight of 5000 or more. And (B) a component having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000,
The (A) copolymer is a repeating unit having at least one support adsorbing group having a structure represented by the following general formulas (a2-1) to (a2-6) in a side chain and (a3) a hydrophilic group possess the door, the hydrophilic group is a zwitterionic structure,
(B) A lithographic printing plate precursor wherein the component having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000 has at least one structure represented by the following general formulas (b1-1) to (b1-8) .
(In the general formulas (a2-1) to (a2-6), M 1 to M 8 each represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or ammonium. R 41 to R 46, respectively, .Y 21 to Y 26 represents a hydrogen atom or an alkyl group, respectively, a single bond, -CO -, - O -, - NH-, 2 divalent aliphatic group or a divalent aromatic Represents a divalent linking group selected from the group consisting of group groups or combinations thereof. * Represents a site linked to the main chain of the polymer compound.)
(In General Formula (b1-1), R represents a C 1-15 alkyl group having a substituent, which may be saturated or unsaturated, and may be linear, cyclic or branched,
In general formulas (b1-2) to (b1-8), R may have a hydrogen atom or a substituent, may be saturated or unsaturated, and may be linear, cyclic or branched, and has 1 to 15 carbon atoms. Represents an alkyl group of
In general formulas (b1-1) to (b1-8), L represents a divalent linking group, Q represents an n-valent linking group, n represents an integer of 2 or more, and A has an anion. Represents a structure , and E + represents a structure having a cation. )
前記(A)共重合体が、下記一般式(a2−1)および(a2−2)で表される構造の少なくとも1つの支持体吸着基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、請求項に記載の平版印刷版原版。 Wherein (A) copolymer comprises a repeating unit having at least one support-adsorbing group having a structure represented by the following general formula (a2-1) and (a2-2) in the side chain, to claim 1 The lithographic printing plate precursor described. 前記(A)共重合体が、下記一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される構造の少なくとも1つの親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、請求項1または2に記載の平版印刷版原版。
(一般式(a3−1)中、R31およびR32は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−2)中、L32は連結基を表し、E+は、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−3)中、Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。Mは水素原子、または一価の金属原子を表す。)
(一般式(a3−4)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−5)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。A-はアニオンを有する構造を表す。)
(A) the copolymer comprises a repeating unit having at least one hydrophilic group having a structure represented by the following general formula (a3-1) ~ (a3-5) in the side chain, according to claim 1 or 2 The lithographic printing plate precursor described in 1.
(In General Formula (a3-1), R 31 and R 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 31 and R 32 are linked to each other. , Which may form a ring structure, L 31 represents a linking group, A represents a structure having an anion, Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, 2 A divalent linking group selected from the group consisting of a valent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.)
(In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, and E + represents a structure having a cation. Y 4 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, divalent. A divalent linking group selected from the group consisting of an aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.
(In General Formula (a3-3), Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of: * represents a site linked to the main chain of the copolymer, M represents a hydrogen atom or a monovalent metal atom.)
(In General Formula (a3-4), R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. Represents.)
(In General Formula (a3-5), R 33 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. A represents a structure having an anion.)
前記(A)共重合体が、下記一般式(a3−1)で表される構造の少なくとも1つの親水性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む、請求項記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 3 , wherein the copolymer (A) comprises a repeating unit having at least one hydrophilic group having a structure represented by the following general formula (a3-1) in the side chain. 前記(A)共重合体が、さらに(a1)架橋性基を側鎖に有する、請求項1〜のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4 , wherein the (A) copolymer further has (a1) a crosslinkable group in the side chain. 前記架橋性基が、下記一般式(i)〜(iii)のいずれかで表される、請求項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(i)中、R1〜R3は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。)
(一般式(ii)中、R4〜R8は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Yは、酸素原子、硫黄原子、または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または1価の有機基を表す。)
(一般式(iii)中、R9〜R11は、それぞれ、水素原子または1価の有機基を表す。Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−または置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基である。)
The lithographic printing plate precursor according to claim 5 , wherein the crosslinkable group is represented by any one of the following general formulas (i) to (iii).
(In General Formula (i), R 1 to R 3 each represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)
(In General Formula (ii), R 4 to R 8 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 Represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)
(In general formula (iii), R 9 to R 11 each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. Z has an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) — or a substituent. R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group that may have a substituent.
一般式(b1−1)〜(b1−8)におけるとしてのアルキル基の炭素数が1〜5である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of Claims 1 to 6 , wherein the alkyl group as R in formulas (b1-1) to (b1-8) has 1 to 5 carbon atoms . 前記(B)双性イオン基を有する分子量5000未満の成分が一般式(b1−1)、(b1−2)、(b1−5)または(b1−6)で表される構造を少なくとも1つ以上有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The component (B) having a zwitterionic group and having a molecular weight of less than 5000 has at least one structure represented by the general formula (b1-1), (b1-2), (b1-5) or (b1-6) The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, having the above. 前記(A)共重合体が、下記一般式(A2)で表される繰り返し単位および一般式(A3)で表される繰り返し単位を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(一般式(A2)中、Ra’〜Rc’は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。(a2)は前記一般式(a2−1)〜(a2−6)で表される構造を表し、一般式(a2−1)〜(a2−6)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。)
(一般式(A3)中、R201〜R203は、それぞれ、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Gは、一般式(a3−1)〜(a3−5)で表される構造のいずれかを表し、一般式(a3−1)〜(a3−5)中の*で表される部位で炭素原子に連結する。
(一般式(a3−1)中、R31およびR32は、それぞれ、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、R31とR32は互いに連結し、環構造を形成してもよく、L31は、連結基を表し、A-は、アニオンを有する構造を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−2)中、L32は連結基を表し、E+は、カチオンを有する構造を表す。Y4は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−3)中、Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。Mは水素原子、または一価の金属原子を表す。)
(一般式(a3−4)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。)
(一般式(a3−5)中、R33は、水素原子、または炭素数1〜10の置換されてもよいアルキル基を表す。Y3は、単結合、−CO−、−O−、−NH−、2価の脂肪族基、若しくは、2価の芳香族基、または、これらの組み合わせからなる群より選ばれる2価の連結基を表す。*は共重合体の主鎖と連結する部位を表す。A-はアニオンを有する構造を表す。)
The lithographic plate according to any one of claims 1 to 8 , wherein the (A) copolymer comprises a repeating unit represented by the following general formula (A2) and a repeating unit represented by the general formula (A3). A printing plate master.
(In the general formula (A2), R a ′ to R c ′ each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. (A2) represents the above general formulas (a2-1) to ( It represents the structure represented by a2-6), and is linked to the carbon atom at the site represented by * in general formulas (a2-1) to (a2-6).
(In the general formula (A3), R 201 ~R 203, respectively, .G represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 6 carbon atoms, the general formula (a3-1) ~ (a3-5) in represents any represented by structural formula (a3-1) at a site represented by ~ (a3-5) in the * linked to carbon atoms.)
(In General Formula (a3-1), R 31 and R 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and R 31 and R 32 are linked to each other. , Which may form a ring structure, L 31 represents a linking group, A represents a structure having an anion, Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, 2 A divalent linking group selected from the group consisting of a valent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.)
(In the general formula (a3-2), L 32 represents a linking group, and E + represents a structure having a cation. Y 4 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, divalent. A divalent linking group selected from the group consisting of an aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, * represents a site linked to the main chain of the copolymer.
(In General Formula (a3-3), Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof. Represents a divalent linking group selected from the group consisting of: * represents a site linked to the main chain of the copolymer, M represents a hydrogen atom or a monovalent metal atom.)
(In General Formula (a3-4), R 33 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. Represents.)
(In General Formula (a3-5), R 33 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Y 3 represents a single bond, —CO—, —O—, — NH— represents a divalent linking group selected from the group consisting of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination thereof, where * represents a site linked to the main chain of the copolymer. A represents a structure having an anion.)
前記感光層が(C)重合開始剤、(D)重合性化合物、(E)バインダー、および(F)色素を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 9 , wherein the photosensitive layer comprises (C) a polymerization initiator, (D) a polymerizable compound, (E) a binder, and (F) a dye. 前記(E)バインダーが、(メタ)アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂の少なくとも1種である、請求項10に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 10 , wherein the (E) binder is at least one of a (meth) acrylic resin, a polyurethane resin, and a polyvinyl butyral resin. 前記(D)重合性化合物がウレタン構造を有する、請求項10または11に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 10 or 11 , wherein the polymerizable compound (D) has a urethane structure. 請求項1〜1のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液の存在下で、非露光部の前記感光層を除去する工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 1 2, a step of exposing imagewise,
A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of removing the exposed lithographic printing plate precursor in the presence of a developer having a pH of 2 to 14 in the non-exposed portion of the photosensitive layer.
前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を形成する工程を含み;
前記現像工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)、ことを特徴とする請求項13に記載の平版印刷版の製造方法。
Forming a protective layer on the surface of the photosensitive layer opposite to the support;
The developing step further includes a step of removing the photosensitive layer in the non-exposed area and the protective layer at the same time in the presence of the developer containing a surfactant (but not including a washing step). The method for producing a lithographic printing plate according to claim 13 .
前記現像液のpHを、2.0〜10.0に制御する工程を含むことを特徴とする請求項13または14に記載の平版印刷版の製造方法。 Process for producing a lithographic printing plate according to claim 13 or 14 wherein the pH of the developing solution, characterized in that it comprises a step of controlling the 2.0 to 10.0. 請求項1〜12のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
A step of exposing the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 12 imagewise,
A method for producing a lithographic printing plate, comprising: supplying printing ink and fountain solution on a printing machine to remove the photosensitive layer in the non-exposed portion.
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JP6133261B2 (en) * 2014-09-30 2017-05-24 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method
WO2018008663A1 (en) * 2016-07-08 2018-01-11 国立大学法人東京大学 Surface treatment agent, surface treatment method, surface treatment base material, and surface treatment base material production method
CN113024700B (en) * 2021-03-08 2022-10-14 常州时创能源股份有限公司 Sprayable boron source for silicon wafer boron diffusion and application thereof
WO2023145971A1 (en) * 2022-01-31 2023-08-03 富士フイルム株式会社 On-press-developing planographic printing plate original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4040476B2 (en) * 2003-01-14 2008-01-30 富士フイルム株式会社 Photosensitive planographic printing plate
JP2006349901A (en) * 2005-06-15 2006-12-28 Fujifilm Holdings Corp Lithographic printing original plate
JP5155677B2 (en) * 2008-01-22 2013-03-06 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and its plate making method
JP5581078B2 (en) * 2009-03-02 2014-08-27 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method
JP5299909B2 (en) * 2009-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method
JP2011154367A (en) * 2009-12-28 2011-08-11 Fujifilm Corp Method of preparing lithographic printing plate
EP2339402A1 (en) * 2009-12-28 2011-06-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate
JP5537980B2 (en) * 2010-02-12 2014-07-02 富士フイルム株式会社 Planographic printing plate precursor and plate making method

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