JP5740234B2 - Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor - Google Patents
Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor Download PDFInfo
- Publication number
- JP5740234B2 JP5740234B2 JP2011163682A JP2011163682A JP5740234B2 JP 5740234 B2 JP5740234 B2 JP 5740234B2 JP 2011163682 A JP2011163682 A JP 2011163682A JP 2011163682 A JP2011163682 A JP 2011163682A JP 5740234 B2 JP5740234 B2 JP 5740234B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- printing plate
- lithographic printing
- plate precursor
- independently
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 184
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 153
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims description 104
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 title claims 3
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 25
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 title description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 107
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 95
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 83
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 70
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 49
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 47
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 44
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 39
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 36
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 23
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical group C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 12
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 9
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 claims description 5
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 143
- -1 alkyldithio group Chemical group 0.000 description 138
- 238000011161 development Methods 0.000 description 58
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 41
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 30
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 description 27
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 24
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 19
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 18
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 14
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 12
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 12
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 9
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 9
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 9
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 9
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 8
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 8
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 7
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 6
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 5
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 5
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 5
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical class S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical group CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 3
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 3
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004028 organic sulfates Chemical class 0.000 description 3
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 125000000394 phosphonato group Chemical group [O-]P([O-])(*)=O 0.000 description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(CC(C)C)C=C1 UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJZXWSSKVOMLIP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylhexoxy)-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](OCC(CC)CCCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GJZXWSSKVOMLIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940100555 2-methyl-4-isothiazolin-3-one Drugs 0.000 description 2
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N Bronopol Chemical compound OCC(Br)(CO)[N+]([O-])=O LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Chemical class 0.000 description 2
- 239000004368 Modified starch Chemical class 0.000 description 2
- 229920000881 Modified starch Chemical class 0.000 description 2
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical group OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 2
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Natural products C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Chemical class 0.000 description 2
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003695 hair diameter Effects 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 2
- BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N methylisothiazolinone Chemical compound CN1SC=CC1=O BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 2
- ZNXOOYUEXQOMNK-UHFFFAOYSA-N n,n-bis[3-(dimethylamino)propyl]prop-2-enamide Chemical compound CN(C)CCCN(C(=O)C=C)CCCN(C)C ZNXOOYUEXQOMNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SGCOOLQXTVQUQF-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ol;oxirane Chemical compound C1CO1.C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 SGCOOLQXTVQUQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N octan-2-ol Chemical compound CCCCCCC(C)O SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N oxathiane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)CCCCO1 MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSXGXPNADZQTGQ-UHFFFAOYSA-N oxirane;phenol Chemical compound C1CO1.OC1=CC=CC=C1 VSXGXPNADZQTGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical group OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical group [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical group 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 2
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 2
- RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N tris(4-chlorophenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940038773 trisodium citrate Drugs 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 2
- LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N (2,4-diethoxyphenyl)-(4-hexoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(OCC)C=C1OCC LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N (4-hexoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C)C=C1 CIZFAASMIWNDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQYOVYWFXHQYOP-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathiane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCCCO1 OQYOVYWFXHQYOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPFAVCIQZKRBGF-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathiolane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCCO1 ZPFAVCIQZKRBGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKFXGCGBFXTOPL-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohexylmethoxy)pyridin-1-ium Chemical compound C1CCCCC1CO[N+]1=CC=CC=C1 BKFXGCGBFXTOPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- QXWFMEQTYGBXOX-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1CCCCC1O[N+]1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 QXWFMEQTYGBXOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGNQYDAFROOFBQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-4-phenylpyridin-1-ium Chemical compound C1=C[N+](OCC)=CC=C1C1=CC=CC=C1 CGNQYDAFROOFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFKRVMAGRRLYNC-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypyridin-1-ium-4-carbonitrile Chemical compound CCO[N+]1=CC=C(C#N)C=C1 FFKRVMAGRRLYNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC1=CC=CC=C1 OAAZUWWNSYWWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-bromophenyl)-2-[2-(2-bromophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound BrC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Br)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 BQDBORJXHYJUIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-2-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GBOJZXLCJZDBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C(C)=C DAVVKEZTUOGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenyl)-2-[2-(2-methylphenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)C)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 GYQVIILSLSOFDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 2-(morpholin-4-yl)ethanol Chemical compound OCCN1CCOCC1 KKFDCBRMNNSAAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSHETPTCXWJQQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4,5-diphenyl-2-[2-(trifluoromethyl)phenyl]imidazol-2-yl]-4,5-diphenyl-2-[2-(trifluoromethyl)phenyl]imidazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C1(C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)C(F)(F)F)N=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 XZSHETPTCXWJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 2-anilinoethanol Chemical compound OCCNC1=CC=CC=C1 MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZRLNYVDCIYXPG-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-yloxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)=CC=C21 DZRLNYVDCIYXPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNOGPDJMQWBGSH-UHFFFAOYSA-N 3,4-dichloro-1-(2-ethylhexoxy)pyridin-1-ium Chemical compound CCCCC(CC)CO[N+]1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 VNOGPDJMQWBGSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate Chemical group COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical class CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHJPEPMMKXNBKV-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1,3,2-dioxasilolane Chemical compound CC1(C)CO[SiH2]O1 BHJPEPMMKXNBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[2-(2-ethylhexoxy)ethoxy]ethoxy]butane-1-sulfonic acid Chemical group CCCCC(CC)COCCOCCOCCCCS(O)(=O)=O WBNGPOUEPYVEQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURYLJUJBFGONU-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-1-(cyclohexylmethoxy)pyridin-1-ium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=[N+]1OCC1CCCCC1 SURYLJUJBFGONU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJRVOJKLQNSNDB-UHFFFAOYSA-N 4-dodecan-3-ylbenzenesulfonic acid Chemical class CCCCCCCCCC(CC)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 QJRVOJKLQNSNDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQXNUCOGMMHHNA-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1,3,2-dioxathiolane 2,2-dioxide Chemical compound CC1COS(=O)(=O)O1 OQXNUCOGMMHHNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBHBYIPAMRAVDQ-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1-phenylmethoxypyridin-1-ium Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[N+](C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 OBHBYIPAMRAVDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004254 Ammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGZYMHSXROJTRX-UHFFFAOYSA-N C1(CCCCC1)[N+]1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=C1)OCC(CCCC)CC Chemical compound C1(CCCCC1)[N+]1=C(C=C(C=C1)C1=CC=CC=C1)OCC(CCCC)CC IGZYMHSXROJTRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Chemical class 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Chemical class 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 240000003183 Manihot esculenta Species 0.000 description 1
- 235000016735 Manihot esculenta subsp esculenta Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N N-ethyldiethanolamine Chemical compound OCCN(CC)CCO AKNUHUCEWALCOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN Chemical compound NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 1
- 244000098338 Triticum aestivum Species 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 1
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 1
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000001785 acacia senegal l. willd gum Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000320 amidine group Chemical group 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000148 ammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019289 ammonium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 235000015278 beef Nutrition 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000008107 benzenesulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethyl)azanium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 VBQDSLGFSUGBBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dimethyl-octylazanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SHFLYPPECXRCFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTXUQEBTYUTJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)-phenylsulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=CC=C1 JIYWWLGWGUWAIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229940063013 borate ion Drugs 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000005591 charge neutralization Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003635 deoxygenating effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FYUWIEKAVLOHSE-UHFFFAOYSA-N ethenyl acetate;1-ethenylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC(=O)OC=C.C=CN1CCCC1=O FYUWIEKAVLOHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOCC.COC(=O)C(C)=C DUDCYUDPBRJVLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N guanidine group Chemical group NC(=N)N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical class C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L isophthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC(C([O-])=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002632 lipids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000005527 methyl sulfate group Chemical group 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMOWKUTXPNPTEN-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C)C VMOWKUTXPNPTEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VILFVXYKHXVYAB-UHFFFAOYSA-L naphthalene-2,7-disulfonate(2-) Chemical group C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 VILFVXYKHXVYAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000001209 o-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006316 polyvinylpyrrolidine Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001592 potato starch Polymers 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical class [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethylhexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)CS([O-])(=O)=O KNOGXLBAOQDKTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKCDDKBKEBVTKX-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O ZKCDDKBKEBVTKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCOBZRXMFLVGLG-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-(2-hexoxyethoxy)ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O KCOBZRXMFLVGLG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M sodium;4-hydroxynaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(O)=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M sodium;butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCS([O-])(=O)=O XQCHMGAOAWZUPI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M sodium;cyclohexanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1CCCCC1 DIIKAKPJAGLSOD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M sodium;hexane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCS([O-])(=O)=O QWSZRRAAFHGKCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M sodium;octane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCS([O-])(=O)=O HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000001256 steam distillation Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid group Chemical class S(N)(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008053 sultones Chemical class 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000005424 tosyloxy group Chemical group S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)O* 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- FBOJXFNZDVRYQZ-UHFFFAOYSA-L triphenyl(7-triphenylphosphaniumylheptyl)phosphanium;sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CCCCCCC[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FBOJXFNZDVRYQZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZELVAMAIJBWLCX-UHFFFAOYSA-N triphenyl(9-triphenylphosphaniumylnonyl)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CCCCCCCCC[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZELVAMAIJBWLCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,2,3-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(S([O-])(=O)=O)C(S(=O)(=O)[O-])=CC2=C1 RHZZVWTVJHZKAH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002888 zwitterionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
本発明は、平版印刷版原版及びそれに用いる新規なベタイン含有ポリマーに関する。詳しくは、レーザーによる画像露光により直接製版可能な平版印刷版原版に関する。 The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a novel betaine-containing polymer used therefor. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be directly made by laser image exposure.
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられていた。通常、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層を溶解除去するアルカリ性現像液などによる現像処理を行って、平版印刷版を得ていた。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lithographic film, then the image recording layer that becomes the image portion remains, and the alkaline development that dissolves and removes the unnecessary image recording layer corresponding to the non-image portion A lithographic printing plate was obtained by developing with a liquid or the like.
この分野の最近の進歩によって、現在、平版印刷版は、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術によって得られるようになっている。すなわち、レーザーやレーザーダイオードを用いて、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版原版を走査露光し、現像して平版印刷版が得られる。 Due to recent advances in this field, lithographic printing plates are now available with CTP (computer to plate) technology. That is, a lithographic printing plate can be obtained by scanning and exposing a lithographic printing plate precursor directly using a laser or a laser diode without a lith film, and developing it.
そのような中で、平版印刷版原版に関わる開発課題は、このCTPに対応した画像形成特性、印刷特性、物理特性などの改良に集中している。
また、平版印刷版原版に関わるもう一つの開発課題としては、近年、地球環境への配慮から当該産業界の大きな関心事となっている、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がある。
Under such circumstances, development issues related to the lithographic printing plate precursor are concentrated on improvements in image formation characteristics, printing characteristics, physical characteristics and the like corresponding to the CTP.
Another development issue related to lithographic printing plate precursors is an environmental issue related to waste liquids associated with wet processing such as development processing, which has become a major concern of the industry in recent years due to consideration for the global environment. .
上記の環境課題に対して、現像又は製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な製版方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
また、簡易現像の方法として、画像記録層の不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液の代わりに、現像後の処理に用いられていたpHが中性に近いフィニッシャー又はガム液によって行う「ガム現像」と呼ばれる方法も行われている。
For the environmental problems described above, simplification and no processing of development or plate making are directed. As one simple plate making method, a method called “on-press development” is performed. That is, after the exposure of the lithographic printing plate precursor, conventional development is not performed, but it is mounted on a printing machine as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of a normal printing process.
Further, as a simple development method, the unnecessary portion of the image recording layer is removed by a finisher or gum solution having a pH close to neutrality used in the post-development processing instead of the conventional highly alkaline developer. A method called “gum development” is also performed.
上述のような製版作業の簡易化においては、作業のしやすさの点から明室又は黄色灯下で取り扱い可能な画像記録層及び光源を用いるシステムが好ましく、そのような光源としては、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー及びYAGレーザー等の固体レーザーが用いられる。また、UVレーザーも用いることができる。 In the simplification of the plate making operation as described above, a system using an image recording layer and a light source that can be handled in a bright room or under a yellow light is preferable from the viewpoint of ease of work, and such a light source has a wavelength of 760. A solid-state laser such as a semiconductor laser that emits infrared light of up to 1200 nm and a YAG laser is used. A UV laser can also be used.
機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば特許文献1には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている。また、ガム現像可能な平版印刷版原版としては、例えば、特許文献2,3のような、pHが中性に近いフィニッシャー又はガム液によって現像を行う方式の平版印刷版原版が知られている。 As a lithographic printing plate precursor that can be developed on the machine, for example, in Patent Document 1, an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support. A planographic printing plate precursor is described. Further, as a lithographic printing plate precursor capable of gum development, for example, a lithographic printing plate precursor of a type in which development is performed with a finisher or gum solution having a pH close to neutral as in Patent Documents 2 and 3 is known.
機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば特許文献1及び2には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版が記載されている。また、特許文献3には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている。更に、特許文献4には、支持体上に、重合性化合物と、ポリエチレンオキシド鎖を側鎖に有するグラフトポリマー又はポリエチレンオキシドブロックを有するブロックポリマーを含有する画像記録層を設けた機上現像可能な平版印刷版原版が記載されている。 As a lithographic printing plate precursor capable of on-machine development, for example, in Patent Documents 1 and 2, a lithographic printing plate having an image recording layer (thermosensitive layer) containing a microcapsule containing a polymerizable compound on a hydrophilic support. The original edition is listed. Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support. Further, in Patent Document 4, on-press development is possible in which an image recording layer containing a polymerizable compound and a graft polymer having a polyethylene oxide chain in the side chain or a block polymer having a polyethylene oxide block is provided on a support. A planographic printing plate precursor is described.
しかしながら、これら簡易処理型の平版印刷版原版においては、従来、低pHの現像液や印刷機上の湿し水(通常はほぼ中性)による現像を可能にするため画像記録層に親水性の高い成分を使用し、そのため耐刷性が不十分となり、逆に高耐刷化するため親水性を低下させると現像性が劣化するという両立が難しい課題があった。 However, these simple processing type lithographic printing plate precursors are conventionally hydrophilic in the image recording layer in order to enable development with a low pH developer or a dampening solution (usually almost neutral) on a printing press. There is a problem that it is difficult to achieve both coexistence of using a high component, so that the printing durability becomes insufficient, and conversely, if the hydrophilicity is lowered to improve the printing durability, the developing property deteriorates.
この課題を改良するため種々の検討がなされている。例えば特許文献5には、低分子の親水性化合物、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、あるいはベタイン類を画像記録層に含有させることが記載されている。また、特許文献6にはスルホベタイン構造を有する重合性化合物を含有する組成物が記載されている。しかしながら、これらの技術を用いても現像性と耐刷性の両立は未だ十分ではなく、さらなる改良が望まれた。 Various studies have been made to improve this problem. For example, Patent Document 5 describes that an image recording layer contains a low molecular weight hydrophilic compound, polyols, organic sulfates, organic sulfonates, or betaines. Patent Document 6 describes a composition containing a polymerizable compound having a sulfobetaine structure. However, even if these techniques are used, the compatibility between developability and printing durability is not yet sufficient, and further improvements have been desired.
本発明の目的は、レーザー露光による画像記録が可能であり、現像性及び汚れ性に優れ、かつ十分な耐刷性を有する簡易現像型及び機上現像型の平版印刷版原版を提供すること、及びそれに用いられる新規なベタイン含有ポリマーを提供することである。 An object of the present invention is to provide a simple development type and on-press development type lithographic printing plate precursor capable of image recording by laser exposure, excellent in developability and stain resistance, and having sufficient printing durability, And a novel betaine-containing polymer used therein.
<1> 支持体上に、(B)重合開始剤、及び(C)重合性化合物を少なくとも含有する画像記録層と、必要に応じて下塗り層を有し、画像記録層又は下塗り層の少なくともいずれかに(A)ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位を含むエチレン性ポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版原版。
<2> 前記ベタイン構造が、スルホベタイン又はカルボベタインであることを特徴とする<1>記載の平版印刷版原版。
<3> 前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(1)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする<2>記載の平版印刷版原版。
(一般式(1)中、R 1 〜R 4 は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR 1 、R 2 、R 3 、R 4 の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W 1 、Y 1 、Y 2 は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。Vは各々独立にSO 3 − 又はCOO − のいずれかを表す。
ただし、R 1 〜R 4 、W 1 、Y 1 、Y 2 のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
<4> 前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(2)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする<3>記載の平版印刷版原版。
(一般式(2)中、R 1 〜R 4 は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR 1 、R 2 、R 3 、R 4 の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W 1 、Y 1 、Y 2 は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
ただし、R 1 〜R 4 、W 1 、Y 1 、Y 2 のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
<5> 前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(3)及び(4)で表されるモノマー単位の少なくともいずれかを含むポリマーであることを特徴とする<4>記載の平版印刷版原版。
(一般式(3)中、R 10 〜R 13 は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR 10 〜R 13 の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。R 9 は水素原子又はメチル基を表し、Z 1 は−CO−、−O−、−CH 2 O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。W 3 は炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、Y 5 、Y 6 は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。)(式(4)中、R 15 〜R 17 は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR 15 〜R 17 の任意の2つが互いに結合して複素環を形成しても良い。R 14 は水素原子又はメチル基を表し、Z 2 は−CO−、−O−、−CH 2 O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。X 1 、X 2 は各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y 7 、Y 8 は各々独立に置換基を有しても良い炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。)
<6> 前記一般式(3)及び(4)のR 10 〜R 13 、R 15 〜R 17 が各々独立にメチル基、エチル基、又は(R 10 、R 11 、R 12 、R 13 )若しくは(R 15 、R 16 、R 17 )の群の任意の2つが互いに結合した5員若しくは6員の複素環を含有する基を表し、Z 1 、Z 2 が各々独立に−CO−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表し、W 3 が炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、X 1 、X 2 が各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y 5 〜Y 8 が各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表すことを特徴とする<5>記載の平版印刷版原版。
<7> 前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(5)で表されるモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする<6>記載の平版印刷版原版。
(一般式(5)中、R 19 〜R 22 は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R 18 は水素原子又はメチル基を表し、L 1 、L 2 は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y 9 、Y 10 は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。)
<8> 前記エチレン性ポリマーが、更に(1)支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有するモノマー単位、及び(2)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位を含み、かつ下塗り層に含有されることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
<9> 前記エチレン性ポリマーが、更に(2)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位、及び(3)親水性基を有するモノマー単位を含み、かつ画像記録層に含有されることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
<10> 前記エチレン性ポリマーが、更に(3)親水性基を有するモノマー単位、及び(4)アクリロニトリル単位を含むポリマー微粒子であり、かつ画像記録層に含有されることを特徴とする<1>〜<7>のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
<11> 前記画像記録層が、画像様露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより未露光部分の除去が可能な画像記録層であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
<12> 下記一般式(5)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むことを特徴とするポリマー。
(一般式(5)中、R 19 〜R 22 は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R 18 は水素原子又はメチル基を表し、L 1 、L 2 は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y 9 、Y 10 は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。)
本発明は、上記<1>〜<12>に記載の平版印刷版原版及びポリマーに関するものであるが、その他の事項についても参考のために記載する。
1.支持体上に、画像記録層と、必要に応じて下塗り層を有し、画像記録層又は下塗り層の少なくともいずれかに(A)ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位を含むエチレン性ポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版原版。
2.前記ベタイン構造が、スルホベタイン又はカルボベタインであることを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。
3.前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(1)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする前記2記載の平版印刷版原版。
<1> On the support, it has an image recording layer containing at least (B) a polymerization initiator and (C) a polymerizable compound, and, if necessary, an undercoat layer, and is at least either of the image recording layer or the undercoat layer. (A) A lithographic printing plate precursor comprising an ethylenic polymer containing a monomer unit having at least two betaine structures.
<2> The lithographic printing plate precursor as described in <1>, wherein the betaine structure is sulfobetaine or carbobetaine.
<3> The lithographic printing plate precursor as described in <2>, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (1).
(In General Formula (1), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C10 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively , any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group, and each V independently represents either SO 3 — or COO — .
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
<4> The lithographic printing plate precursor as described in <3>, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (2).
(In General Formula (2), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively , any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group.
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
<5> The lithographic printing plate precursor as described in <4>, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least one of monomer units represented by the following general formulas (3) and (4).
(In General Formula (3), R 10 to R 13 each independently represents an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or aryl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Alternatively , any two of R 10 to R 13 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 represents —CO— , —O— , —CH 2 O. -Represents a phenylene group that may have a substituent, W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 5 and Y 6 may each independently have a substituent. Represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.) (In formula (4), R 15 to R 17 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, which may have a substituent, alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. Alternatively R 15 to R Any two of which may form a heterocyclic ring bonded to each other .R 14 of 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, Z 2 is -CO -, - O -, - CH 2 O-, or a substituent X 1 and X 2 each independently represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 7 and Y 8 may each independently have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.)
<6> R 10 to R 13 and R 15 to R 17 in the general formulas (3) and (4) are each independently a methyl group, an ethyl group, or (R 10 , R 11 , R 12 , R 13 ) or Any two members of the group (R 15 , R 16 , R 17 ) represent a group containing a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring bonded to each other, and Z 1 and Z 2 are each independently —CO— or a substituent. Represents a phenylene group that may have, W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, and X 1 and X 2 each independently represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms. characterized by representing the Y 5 to Y 8 are each independently an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms <5> the lithographic printing plate precursor as described.
<7> The lithographic printing plate precursor as described in <6>, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit represented by the following general formula (5).
(In General Formula (5), R 19 to R 22 each independently represent a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent 5 or less carbon atoms. Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
<8> The ethylenic polymer further includes (1) a monomer unit having a structure that interacts with the support surface in the side chain, and (2) a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain, The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <7>, which is contained in an undercoat layer.
<9> The ethylenic polymer further includes (2) a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain, and (3) a monomer unit having a hydrophilic group, and is contained in the image recording layer. The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <7>, wherein
<10> The ethylenic polymer is a polymer fine particle further comprising (3) a monomer unit having a hydrophilic group and (4) an acrylonitrile unit, and is contained in the image recording layer <1> The lithographic printing plate precursor as described in any one of-<7>.
<11> The image recording layer is an image recording layer in which an unexposed portion can be removed by supplying at least one of printing ink and fountain solution on a printing machine after imagewise exposure. The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <10>.
<12> A polymer comprising at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (5).
(In General Formula (5), R 19 to R 22 each independently represent a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent 5 or less carbon atoms. Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
The present invention relates to the lithographic printing plate precursor and polymer described in <1> to <12> above, but other matters are also described for reference.
1. Containing an ethylenic polymer comprising an image recording layer and, if necessary, an undercoat layer on a support, and (A) at least one of the monomer units having at least two betaine structures in at least one of the image recording layer and the undercoat layer A lithographic printing plate precursor characterized by:
2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the betaine structure is sulfobetaine or carbobetaine.
3. 3. The lithographic printing plate precursor as described in 2 above, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (1).
(一般式(1)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。Vは各々独立にSO3 −又はCOO−のいずれかを表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
(In General Formula (1), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C10 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group, and each V independently represents either SO 3 — or COO — .
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
4.前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(2)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする前記3記載の平版印刷版原版。 4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (2).
(一般式(2)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
(In General Formula (2), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group.
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
5.前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(3)及び(4)で表されるモノマー単位の少なくともいずれかを含むポリマーであることを特徴とする前記4記載の平版印刷版原版。 5. 5. The lithographic printing plate precursor as described in 4 above, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least one of monomer units represented by the following general formulas (3) and (4).
(一般式(3)中、R10〜R13は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR10〜R13の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。R9は水素原子又はメチル基を表し、Z1は−CO−、−O−、−CH2O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。W3は炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、Y5、Y6は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。)(一般式(4)中、R15〜R17は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR15〜R17の任意の2つが互いに結合して複素環を形成しても良い。R14は水素原子又はメチル基を表し、Z2は−CO−、−O−、−CH2O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。X1、X2は各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y7、Y8は各々独立に置換基を有しても良い炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。) (In General Formula (3), R 10 to R 13 each independently represents an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or aryl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Alternatively, any two of R 10 to R 13 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 represents —CO—, —O—, —CH 2 O. -Represents a phenylene group that may have a substituent, W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 5 and Y 6 may each independently have a substituent. Represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.) (In general formula (4), R 15 to R 17 are each independently an alkyl group or alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Represents an alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group, or R 15 to Any two of R 17 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 2 represents —CO—, —O—, —CH 2 O—, or a substituted group. X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 7 and Y 8 each independently have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.)
6.前記一般式(3)及び(4)のR10〜R13、R15〜R17が各々独立にメチル基、エチル基、又は(R10、R11、R12、R13)若しくは(R15、R16、R17)の群の任意の2つが互いに結合した5員若しくは6員の複素環を含有する基を表し、Z1、Z2が各々独立に−CO−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表し、W3が炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、X1、X2が各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y5〜Y8が各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表すことを特徴とする前記5記載の平版印刷版原版。
7.前記エチレン性ポリマーが、下記一般式(5)で表されるモノマー単位を少なくとも含むポリマーであることを特徴とする、前記6記載の平版印刷版原版。
6). In the general formulas (3) and (4), R 10 to R 13 and R 15 to R 17 are each independently a methyl group, an ethyl group, or (R 10 , R 11 , R 12 , R 13 ) or (R 15 , R 16 , R 17 ) represents a group containing a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring bonded to each other, and Z 1 and Z 2 each independently have —CO— or a substituent. A phenylene group that may be, W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, X 1 and X 2 each independently represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 5 the lithographic printing plate precursor of the 5 wherein to Y 8, characterized in that the each independently represent an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.
7). The lithographic printing plate precursor as described in 6 above, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit represented by the following general formula (5).
(式中、R19〜R22は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R18は水素原子又はメチル基を表し、L1、L2は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y9、Y10は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。) (In the formula, R 19 to R 22 each independently represents a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent a divalent group having 5 or less carbon atoms. Represents a linking group, Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
8.前記エチレン性ポリマーが、更に(1)支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有するモノマー単位、及び(2)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位を含み、かつ下塗り層に含有されることを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。
9.前記エチレン性ポリマーが、更に(2)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位、及び(3)親水性基を有するモノマー単位を含み、かつ画像記録層に含有されることを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。
10.前記エチレン性ポリマーが、更に(3)親水性基を有するモノマー単位、及び(4)アクリロニトリル単位を含むポリマー微粒子であり、かつ画像記録層に含有されることを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。
11.前記画像記録層が、更に(B)重合開始剤、及び(C)重合性化合物を少なくとも含有する前記1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
12.前記画像記録層が、画像様露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより未露光部分の除去が可能な画像記録層であることを特徴とする前記1〜11のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
13.一般式(5)で表される構造を有するモノマー単位を少なくとも含むことを特徴とするポリマー。
8). The ethylenic polymer further comprises (1) a monomer unit having a structure interacting with the support surface in the side chain, and (2) a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain, and an undercoat layer The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7 above, which is contained in
9. The ethylenic polymer further contains (2) a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain, and (3) a monomer unit having a hydrophilic group, and is contained in the image recording layer. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7 above.
10. Any of the above 1 to 7, wherein the ethylenic polymer is (3) a polymer fine particle containing a monomer unit having a hydrophilic group and (4) an acrylonitrile unit, and is contained in an image recording layer. The lithographic printing plate precursor described in Crab.
11. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 10, wherein the image recording layer further contains at least (B) a polymerization initiator and (C) a polymerizable compound.
12 The image recording layer is an image recording layer capable of removing an unexposed portion by supplying at least one of printing ink and fountain solution on a printing press after imagewise exposure. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 11 above.
13. A polymer comprising at least a monomer unit having a structure represented by the general formula (5).
(式中、R19〜R22は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R18は水素原子又はメチル基を表し、L1、L2は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y9、Y10は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。) (In the formula, R 19 to R 22 each independently represents a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent a divalent group having 5 or less carbon atoms. Represents a linking group, Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
本発明によれば、レーザー露光による画像記録が可能であり、現像性及び汚れ性に優れ、かつ十分な耐刷性を有する簡易現像型及び機上現像型の平版印刷版原版を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a simple development type and on-press development type lithographic printing plate precursor capable of image recording by laser exposure, having excellent developability and stain resistance, and having sufficient printing durability. it can.
〔平版印刷版原版〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、画像記録層と、必要に応じて下塗り層を有し、画像記録層又は下塗り層の少なくともいずれかに(A)ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位を含むエチレン性ポリマーを含有することを特徴とする。以下、本発明の平版印刷版原版の要素及び構成成分について詳細に説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention has an image recording layer and, if necessary, an undercoat layer on a support, and (A) at least two betaine structures in at least one of the image recording layer and the undercoat layer. It is characterized by containing an ethylenic polymer containing monomer units. Hereinafter, elements and components of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
(画像記録層)
(A)ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位を含むエチレン性ポリマー
本発明のエチレン性ポリマーは、ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位を含むことを特徴とする。
エチレン性ポリマーとは、エチレン性不飽和二重結合の重合により得られるポリマーであり、エチレン性不飽和二重結合を有する官能基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基のような基を挙げることができる。
(Image recording layer)
(A) Ethylene polymer containing monomer units having at least two betaine structures The ethylenic polymer of the present invention is characterized by containing monomer units having at least two betaine structures.
The ethylenic polymer is a polymer obtained by polymerization of an ethylenically unsaturated double bond, and examples of the functional group having an ethylenically unsaturated double bond include groups such as a vinyl group and a (meth) acryloyl group. be able to.
〔I〕ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位
本発明のエチレン性ポリマーにおけるベタイン構造としては、スルホベタイン構造、カルボベタイン構造、ホスホベタイン構造などを挙げることができるが、好ましくはスルホベタイン構造及びカルボベタイン構造であり、より好ましくはスルホベタイン構造である。スルホベタイン構造及びカルボベタイン構造としては、例えば以下の一般式(1)で示される構造が挙げられる。
[I] Monomer unit having at least two betaine structures Examples of the betaine structure in the ethylenic polymer of the present invention include a sulfobetaine structure, a carbobetaine structure, a phosphobetaine structure, and the like, and preferably a sulfobetaine structure and a carbobetaine structure. It is a betaine structure, more preferably a sulfobetaine structure. Examples of the sulfobetaine structure and carbobetaine structure include structures represented by the following general formula (1).
(一般式(1)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。Vは各々独立にSO3 −又はCOO−のいずれかを表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
(In General Formula (1), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C10 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group, and each V independently represents either SO 3 — or COO — .
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
上式における好ましい態様を以下に示す。
一般式(1)中、R1〜R4は、各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。
導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホナト基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換オキシ基、置換スルホニル基、置換カルボニル基、置換スルフィニル基、スルホ基、ホスホノ基、ホスホナト基、シリル基、複素環基、等が挙げられる。
Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表し、導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホナト基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換オキシ基、置換スルホニル基、置換カルボニル基、置換スルフィニル基、スルホ基、ホスホノ基、ホスホナト基、シリル基、複素環基、等が挙げられる。
W1は各々独立に3〜10価の非金属原子から構成される有機基であり、例えば、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から選ばれる少なくとも1種以上の元素から構成される有機基が挙げられる。
より具体的な例としては、下記の構造が単独又は複数組み合わさって構成される有機基を挙げることができる。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
In general formula (1), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring.
Examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, hydroxy group, carboxy group, sulfonate group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, substituted oxy group, Examples thereof include a substituted sulfonyl group, a substituted carbonyl group, a substituted sulfinyl group, a sulfo group, a phosphono group, a phosphonato group, a silyl group, and a heterocyclic group.
Y 1 and Y 2 each independently represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, and a sulfonate group. Nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, substituted oxy group, substituted sulfonyl group, substituted carbonyl group, substituted sulfinyl group, sulfo group, phosphono group, phosphonate group, A silyl group, a heterocyclic group, etc. are mentioned.
W 1 is an organic group composed of 3 to 10 non-metallic atoms each independently, for example, 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 atoms Organic groups composed of at least one element selected from oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms.
More specific examples include organic groups composed of the following structures singly or in combination.
W1で表される有機基は、更に置換基を有してもよく、導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホナト基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換オキシ基、置換スルホニル基、置換カルボニル基、置換スルフィニル基、スルホ基、ホスホノ基、ホスホナト基、シリル基、複素環基、等が挙げられる。またW1で表される有機基は、エーテル結合、エステル結合、ウレイド結合を含んでいてもよい。 The organic group represented by W 1 may further have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a halogen atom, a hydroxy group, a carboxy group, a sulfonate group, a nitro group, a cyano group, and an amide group. Amino group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, substituted oxy group, substituted sulfonyl group, substituted carbonyl group, substituted sulfinyl group, sulfo group, phosphono group, phosphonato group, silyl group, heterocyclic group, etc. Can be mentioned. The organic group represented by W 1 may contain an ether bond, an ester bond, or a ureido bond.
本発明のエチレン性ポリマーにおけるベタイン構造としては、下記一般式(2)で表されるスルホベタイン構造であることがより好ましい。 The betaine structure in the ethylenic polymer of the present invention is more preferably a sulfobetaine structure represented by the following general formula (2).
(式(2)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。)
(In Formula (2), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Any two of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 , and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a valent linking group.
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
上式における好ましい態様を以下に示す。
一般式(2)中、R1〜R4は、メチル基又はエチル基であるか、(R1〜R4)の各任意の2つが互いに結合した5員若しくは6員の複素環を含有する基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、メチル基であることが最も好ましい。
Y1、Y2は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数3〜5のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数3又は4のアルキレン基であることが最も好ましい。
W1は炭素原子数10以下の有機基であることが好ましく、炭素原子数8以下の有機基であることがより好ましい。
また、(R1、R2、R3、R4、W1)のうち任意の2以上が互いに結合して複素環を形成してもよい。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介して、ポリマー主鎖に結合する基である。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
In the general formula (2), R 1 to R 4 are a methyl group or an ethyl group, or contain a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring in which any two of (R 1 to R 4 ) are bonded to each other. It is preferably a group, more preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.
Y 1 and Y 2 are preferably each independently an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, and an alkylene group having 3 or 4 carbon atoms. Most preferably it is.
W 1 is preferably an organic group having 10 or less carbon atoms, and more preferably an organic group having 8 or less carbon atoms.
Further, any two or more of (R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , W 1 ) may be bonded to each other to form a heterocyclic ring.
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain through a linking group.
本発明のベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位は、スルホベタイン構造を含むものが好ましく、より好ましくは以下の一般式(3)又は(4)で示されるモノマー単位である。 The monomer unit having at least two betaine structures of the present invention preferably includes a sulfobetaine structure, and more preferably a monomer unit represented by the following general formula (3) or (4).
一般式(3)中、R10〜R13は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR10、R11、R12、R13の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。R9は水素原子又はメチル基を表し、Z1は−CO−、−O−、−CH2O−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。W3は炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、Y5、Y6は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。
一般式(4)中、R15〜R17は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR15、R16、R17の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。R14は水素原子又はメチル基を表し、Z2は−CO−、−O−、−CH2O−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。X1、X2は各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y7、Y8は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。
In General Formula (3), R 10 to R 13 each independently represent an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group having 1 to 6 carbon atoms that may have a substituent. Alternatively, any two of R 10 , R 11 , R 12 and R 13 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring. R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 represents —CO—, —O—, —CH 2 O— or a phenylene group which may have a substituent. W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 5 and Y 6 each independently represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.
In the general formula (4), R 15 to R 17 each independently represent a C 1-6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or aryl group which may have a substituent. Alternatively, any two of R 15 , R 16 and R 17 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring. R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 2 represents —CO—, —O—, —CH 2 O—, or an optionally substituted phenylene group. X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 7 and Y 8 each independently represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Represent.
上記置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホキシ基、ウレイド基、オキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基(-SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、スルフィナモイル基、ホスフォノ基(-PO3H2)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(-OPO3H2)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。 Examples of the substituent include alkyl group, aryl group, heteroaryl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, Amino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, sulfoxy group, ureido group, oxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carbonyl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfinyl group, sulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H ) And conjugated base groups (hereinafter referred to as sulfonate groups), sulfinamoyl groups, phosphono groups (—PO 3 H 2 ) and conjugated base groups (hereinafter referred to as phosphonate groups), phosphonooxy groups (—OPO 3 H). 2) and its conjugated base group (hereinafter, phosphonato Referred to as carboxymethyl group), a cyano group, a nitro group, and the like.
上式における好ましい態様を以下に示す。
R10、R11、R12、R13、R15、R16、R17は各々独立にメチル基又はエチル基であるか、(R10〜R13)、(R15〜R17)の各群中の任意の2つが互いに結合した5員若しくは6員の複素環を含有する基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることがより好ましく、メチル基であることが最も好ましい。
Z1、Z2は各々独立に−CO−又は置換基を有してもよいフェニレン基であることが好ましく、−CO−であることがより好ましい。
W3は炭素原子数8以下の3価の連結基であることが好ましく、炭素原子数6以下の連結基であることがより好ましい。また、Z1が−CO−の場合、W3はZ1とアミド結合を形成することが可能な連結基であることが特に好ましい。
W3の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 15 , R 16 , R 17 are each independently a methyl group or an ethyl group, or each of (R 10 to R 13 ) and (R 15 to R 17 ) Any two members in the group are preferably groups containing 5-membered or 6-membered heterocycles bonded to each other, more preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.
Z 1 and Z 2 are each independently preferably —CO— or a phenylene group which may have a substituent, and more preferably —CO—.
W 3 is preferably a trivalent linking group having 8 or less carbon atoms, and more preferably a linking group having 6 or less carbon atoms. Further, when Z 1 is —CO—, W 3 is particularly preferably a linking group capable of forming an amide bond with Z 1 .
Specific examples of W 3 include the following structures.
X1、X2は、各々独立に炭素原子数8以下の2価の連結基であることが好ましく、炭素原子数6以下の2価の連結基であることがより好ましく、炭素原子数4以下のアルキレン基であることが最も好ましい。
Y5〜Y8は、各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数3〜5のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数3又は4のアルキレン基であることが最も好ましい。
X 1 and X 2 are each independently preferably a divalent linking group having 8 or less carbon atoms, more preferably a divalent linking group having 6 or less carbon atoms, and more preferably 4 or less carbon atoms. Most preferred is an alkylene group.
Y 5 to Y 8 are preferably each independently an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, and an alkylene group having 3 or 4 carbon atoms. Most preferably.
本発明のエチレン性ポリマーに含まれるベタイン構造を含有するモノマー単位の具体例を以下に示す。構造式(A1)〜(K1)、(A2)〜(K2)、(L)〜(S)に対応する具体例は、表に示す。各表中の第一列は化合物番号を表し、化合物番号の最初の記号、例えばA1は、構造式(A1)に対応することを示す。各表中の第二列以降は、構造式中の記号の内容を示す。
なお、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
Specific examples of monomer units containing a betaine structure contained in the ethylenic polymer of the present invention are shown below. Specific examples corresponding to the structural formulas (A1) to (K1), (A2) to (K2), and (L) to (S) are shown in the table. The first column in each table represents the compound number, and the first symbol of the compound number, for example A1, indicates that it corresponds to the structural formula (A1). The second and subsequent columns in each table indicate the contents of symbols in the structural formula.
The present invention is not limited to these compounds.
ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位は、本発明に係るエチレン性ポリマーに、1種のみが用いられていてもよく、2種以上を含んでいてもよい。これらのベタイン構造を含むモノマー単位は、現像性及び汚れ性の観点から、エチレン性ポリマー中に、5〜70質量%含まれていることが好ましく、5〜60質量%含有されていることがより好ましく、最も好ましくは8〜50質量%の範囲である。 As for the monomer unit having at least two betaine structures, only one type may be used in the ethylenic polymer according to the present invention, or two or more types may be included. The monomer units containing these betaine structures are preferably contained in the ethylenic polymer in an amount of 5 to 70% by mass, more preferably 5 to 60% by mass, from the viewpoint of developability and stain resistance. Preferably, it is the range of 8-50 mass% most preferably.
なお、本発明で用いられるベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマー単位は、3級アミノ基を少なくとも2つ有する(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド又はスチレン誘導体などのモノマーと、1,2−エタンスルトン、1,3−プロパンスルトン、1,4−ブタンスルトンなどのスルトン又はエチレンサルフェート、1−メチル−エチレンサルフェート、1,3−プロピレンサルフェレートなどの環状サルフェートとを反応させる方法などによって得ることができる。 The monomer unit having at least two betaine structures used in the present invention is a monomer such as (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylamide or styrene derivative having at least two tertiary amino groups, and 1,2- It can be obtained by a method of reacting sultone such as ethane sultone, 1,3-propane sultone, 1,4-butane sultone, or cyclic sulfate such as ethylene sulfate, 1-methyl-ethylene sulfate, 1,3-propylene sulfate, etc. it can.
〔II〕エチレン性ポリマーを構成するその他のモノマー単位
本発明のエチレン性ポリマーは、上記ベタイン構造を有するモノマー単位に加えて、その他のモノマー単位を含むことができる。その他のモノマー単位は、本発明のエチレン性ポリマーの用途、すなわち、画像記録層に用いるのか、あるいは下塗り層に用いるのかによって、選択して用いることができる。
[II] Other monomer units constituting the ethylenic polymer The ethylenic polymer of the present invention may contain other monomer units in addition to the monomer unit having the betaine structure. Other monomer units can be selected and used depending on the use of the ethylenic polymer of the present invention, that is, whether it is used for an image recording layer or an undercoat layer.
《画像記録層に用いる場合のその他のモノマー単位》
本発明のエチレン性ポリマーを画像記録層に用いる場合のその他のモノマー単位として下記一般式(6)で表されるモノマー単位が挙げられる。
<< Other monomer units for use in the image recording layer >>
Examples of other monomer units when the ethylenic polymer of the present invention is used for the image recording layer include monomer units represented by the following general formula (6).
上式中、R23は水素原子、ハロゲン原子、又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、R24は、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基又はアリール基を有する基を表す。 In the above formula, R 23 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and R 24 represents a group having an ester group, an amide group, a cyano group, a hydroxy group, or an aryl group.
上式における好ましい態様を以下に示す。
R23は、水素原子又は炭素原子数が1〜6のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが最も好ましい。
R24は、エステル結合又はアミド結合を有する基、置換基を有してよいフェニル基、又はシアノ基であることが好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホキシ基、ウレイド基、オキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、スルフィナモイル基、ホスフォノ基(−PO3H2)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO3H2)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
R 23 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and a hydrogen atom or a methyl group. Is most preferred.
R 24 is preferably a group having an ester bond or an amide bond, a phenyl group which may have a substituent, or a cyano group. Substituents include alkyl groups, aryl groups, heteroaryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups, halogen atoms, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, amino groups. Group, acyloxy group, carbamoyloxy group, sulfoxy group, ureido group, oxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carbonyl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfinyl group, sulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) And its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), sulfinamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2). ) And its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphine) Referred to as Natookishi group), a cyano group, a nitro group, and the like.
一般式(6)のモノマー単位に対応するモノマーの具体例としては、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどを挙げることができる。その中でも、スチレン、アクリロニトリル及びメタクリル酸メチルが特に好ましい。
本発明のエチレン性ポリマーは、これらからのモノマー単位を複数種含んでもよい。
これらのモノマー単位は、現像性及び汚れ性と耐刷性のバランスをとるために、上記エチレン性ポリマー中に、30〜95質量%含まれていることが好ましく、40〜95質量%含有されていることがより好ましく、最も好ましくは50〜92質量%の範囲である。
Specific examples of the monomer corresponding to the monomer unit of the general formula (6) include styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl carbazole. And acrylate or methacrylate having a polyalkylene structure. Among these, styrene, acrylonitrile and methyl methacrylate are particularly preferable.
The ethylenic polymer of the present invention may contain a plurality of monomer units derived therefrom.
These monomer units are preferably contained in the ethylenic polymer in an amount of 30 to 95% by mass, and in an amount of 40 to 95% by mass in order to balance developability, stain resistance and printing durability. More preferably, it is the range of 50-92 mass%.
本発明のエチレン性ポリマーは、一般式(6)のR24がポリアルキレンオキシ基を含有するモノマー単位を有することで、機上現像型平版印刷版原版に良好な機上現像性を付与することができる。ポリアルキレンオキシ基としては、ポリエチレンオキシ基又はポリプロピレンオキシ基であることが好ましく、ポリエチレンオキシ基であることが特に好ましい。ここで、アルキレンオキシ基の繰り返しユニット数は、好ましくは1〜100であり、より好ましくは2〜80であり、特に好ましくは4〜50の数を示す。
このようなモノマー単位の好ましい例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The ethylenic polymer of the present invention imparts good on-press developability to an on-press development type lithographic printing plate precursor by having R 24 in the general formula (6) having a monomer unit containing a polyalkyleneoxy group. Can do. The polyalkyleneoxy group is preferably a polyethyleneoxy group or a polypropyleneoxy group, and particularly preferably a polyethyleneoxy group. Here, the number of repeating units of the alkyleneoxy group is preferably 1 to 100, more preferably 2 to 80, and particularly preferably 4 to 50.
Although the preferable example of such a monomer unit is shown below, this invention is not limited to these.
(式中、nは1〜100の整数を表し、R1及びR2は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。) (In the formula, n represents an integer of 1 to 100, and R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.)
更に具体的には以下の構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 More specific examples include the following structures, but the present invention is not limited to these.
ポリアルキレンオキシ基を含有する側鎖を有するモノマー単位は、エチレン性ポリマー中に約1〜約70質量%含まれていることが好ましく、約2〜約50質量%含まれていることがより好ましく、約3〜約40質量%含まれていることが特に好ましい。 The monomer unit having a side chain containing a polyalkyleneoxy group is preferably contained in the ethylenic polymer in an amount of about 1 to about 70% by mass, more preferably about 2 to about 50% by mass. About 3 to about 40% by mass is particularly preferable.
現像液処理方式の平版印刷版原版の場合には、現像液による除去の観点から、エチレン性ポリマー中に酸基を含有するモノマー単位を含むことが好ましい。酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等が挙げられるが、特にカルボン酸基が好ましく、アクリル酸及びメタクリル酸由来のモノマー単位や下記一般式(c)で表されるモノマー単位が好ましく用いられる。 In the case of a lithographic printing plate precursor of a developer processing system, it is preferable that a monomer unit containing an acid group is contained in the ethylenic polymer from the viewpoint of removal with a developer. Examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonamide group, but a carboxylic acid group is particularly preferable, and a monomer unit derived from acrylic acid and methacrylic acid or the following general formula The monomer unit represented by (c) is preferably used.
(一般式(c)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は単結合又はn+1価の連結基を表す。Aは酸素原子又はNR3を表し、R3は水素原子又は炭素原子数1〜10の1価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In General Formula (c), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a single bond or an n + 1 valent linking group, A represents an oxygen atom or NR 3 , and R 3 represents a hydrogen atom or carbon. Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 atoms, and n represents an integer of 1 to 5.)
一般式(c)におけるR2で表される連結基は、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子の少なくとも一つから構成されるもので、その原子数は好ましくは1〜80である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。R2としては、単結合、アルキレン基、又は置換アルキレン基であることが好ましく、単結合、炭素原子数1〜5のアルキレン基、又は炭素原子数1〜5の置換アルキレン基であることが特に好ましく、単結合、炭素原子数1〜3のアルキレン基、又は炭素原子数1〜3の置換アルキレン基であることが最も好ましい。
置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
The linking group represented by R 2 in the general formula (c) is composed of at least one of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms is preferably 1-80. Specific examples include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, and a substituted arylene group. The divalent group may have a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond. R 2 is preferably a single bond, an alkylene group, or a substituted alkylene group, and particularly preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. A single bond, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, or a substituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms is most preferable.
Examples of the substituent include a monovalent non-metallic atomic group excluding a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, An acyl group, a carboxyl group and its conjugate base group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group and the like can be mentioned.
R3は水素原子又は炭素原子数1〜5の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜3の炭化水素基が特に好ましく、水素原子又はメチル基が最も好ましい。nは1〜3であることが好ましく、1又は2であることが特に好ましく、1であることが最も好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, particularly preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom or a methyl group. n is preferably 1 to 3, particularly preferably 1 or 2, and most preferably 1.
エチレン性ポリマー中に占めるカルボン酸基を有するモノマー単位の割合は、現像性の観点から、1〜70質量%が好ましい。現像性と耐刷性の両立を考慮すると、1〜50質量%がより好ましく、1〜30質量%が特に好ましい。 The proportion of the monomer unit having a carboxylic acid group in the ethylenic polymer is preferably 1 to 70% by mass from the viewpoint of developability. Considering compatibility between developability and printing durability, 1 to 50% by mass is more preferable, and 1 to 30% by mass is particularly preferable.
なお、酸基を含有するエチレン性ポリマーの酸基は、塩基性化合物で中和されていても良く、特に、アミノ基、アミジン基、グアニジン基等の塩基性窒素を含有する化合物で中和されていることが好ましい。更に、塩基性窒素を含有する化合物がエチレン性不飽和基を有することも好ましい。具体的な化合物としては、国際公開第2007/057442号パンフレット記載の化合物が挙げられる。 The acid group of the ethylenic polymer containing an acid group may be neutralized with a basic compound, and in particular, neutralized with a compound containing basic nitrogen such as an amino group, an amidine group, or a guanidine group. It is preferable. Furthermore, it is also preferred that the compound containing basic nitrogen has an ethylenically unsaturated group. Specific examples of the compound include those described in International Publication No. 2007/057442 pamphlet.
更に、本発明で用いるエチレン性ポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するためにエチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位を有することが好ましい。特に一般式(6)のR24が、下記一般式(7)〜(9)から選ばれるエチレン性不飽和重合性基を含有する基であることがより好ましい。
これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
Furthermore, the ethylenic polymer used in the present invention preferably has a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain in order to improve the film strength of the image area. In particular, R 24 in the general formula (6) is more preferably a group containing an ethylenically unsaturated polymerizable group selected from the following general formulas (7) to (9).
These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between an acrylic polymer having a carboxy group in the side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.
(式中、X、Yはそれぞれ独立に、酸素原子又は−N(R36)−を表す。Zは酸素原子、−N(R36)−又はフェニレン基を表す。R25〜R36はそれぞれ独立に水素原子又は1価の置換基を表す。) (In the formula, X and Y each independently represent an oxygen atom or —N (R 36 ) —. Z represents an oxygen atom, —N (R 36 ) — or a phenylene group. R 25 to R 36 each represent Independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.)
エチレン性ポリマーのエチレン性不飽和重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、エチレン性ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。 The content of the ethylenically unsaturated polymerizable group of the ethylenic polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per 1 g of the ethylenic polymer. Preferably it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.
エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位の具体例として、例えば以下に示す構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain include, for example, the structures shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明のエチレン性ポリマーには、UVインキ使用時における、現像性、非画像部細線再現性、カス発生の抑制、耐刷性を満足させるために、側鎖にスルホンアミド基を有するモノマー単位を共重合してもよい。このようなモノマー単位のためのモノマーの具体例としては、特開2009−241258号公報の段落番号[0024]〜[0027]に記載の化合物が挙げられる。 The ethylenic polymer of the present invention has a monomer unit having a sulfonamide group in the side chain in order to satisfy developability, non-image portion fine line reproducibility, suppression of residue generation, and printing durability when using UV ink. It may be copolymerized. Specific examples of the monomer for such a monomer unit include compounds described in paragraph numbers [0024] to [0027] of JP-A No. 2009-241258.
また、本発明のエチレン性ポリマーには、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。 In addition, an lipophilic group such as an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an alkenyl group can be introduced into the ethylenic polymer of the present invention in order to control the inking property. Specifically, a lipophilic group-containing monomer such as an alkyl methacrylate may be copolymerized.
本発明のエチレン性ポリマーは、画像記録層中の存在形態としては、バインダーとして存在してもよいし、ポリマー微粒子として存在してもよい。微粒子として存在する場合の平均粒径は0.01〜3.0μmであることが好ましい。
画像記録層中のエチレン性ポリマー含有量は、画像記録層全固形分に対して5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。
The ethylenic polymer of the present invention may be present in the image recording layer as a binder or may be present as polymer fine particles. When present as fine particles, the average particle size is preferably 0.01 to 3.0 μm.
The ethylenic polymer content in the image recording layer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. preferable.
本発明におけるエチレン性ポリマーの具体例を以下の表に挙げるが、これらに限定されるものではない。表中の質量平均モル質量(Mw)はポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定したものである。 Although the specific example of the ethylenic polymer in this invention is given to the following table | surfaces, it is not limited to these. The mass average molar mass (Mw) in the table is measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.
《下塗り層に用いる場合のその他のモノマー単位》
本発明のエチレン性ポリマーは、画像記録層だけでなく、必要に応じて画像記録層と支持体との間に設けられる下塗り層に用いることができる。下塗り層用のエチレン性ポリマーには、その他のモノマー単位として、(1)支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有するモノマー単位、(2)親水性基を有するモノマー単位、及び(3)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位を含有することが好ましい。
<< Other monomer units for use in the undercoat layer >>
The ethylenic polymer of the present invention can be used not only for the image recording layer but also for an undercoat layer provided between the image recording layer and the support, if necessary. The ethylenic polymer for the undercoat layer includes, as other monomer units, (1) a monomer unit having a structure that interacts with the support surface in the side chain, (2) a monomer unit having a hydrophilic group, and (3) It is preferable to contain a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain.
(1) 支持体表面と相互作用する構造を側鎖に有するモノマー単位
本発明のエチレン性ポリマーは、支持体との密着性を高めるために、下記一般式(a2−1)、(a2−2)、(a2−3)、(a2−4)、(a2−5)及び(a2−6)で表される支持体表面と相互作用する構造のいずれかを側鎖に有するモノマー単位を含有することが好ましい。
(1) Monomer unit having a structure that interacts with the surface of the support in the side chain The ethylenic polymer of the present invention has the following general formulas (a2-1) and (a2-2) in order to improve the adhesion to the support. ), (A2-3), (a2-4), (a2-5), and (a2-6) containing a monomer unit having any of the structures interacting with the support surface in the side chain. It is preferable.
〔上記一般式(a2−1)〜(a2−6)中、M21、M22はそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウムを表す。R21〜R23はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。Y2は、単結合、又は、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。*は高分子化合物の主鎖と連結する部位を表す。〕 [In the general formulas (a2-1) to (a2-6), M 21 and M 22 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or ammonium. R 21 to R 23 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Y 2 represents a single bond or a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Represent. * Represents a site connected to the main chain of the polymer compound. ]
R21〜R23で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、イソペンチル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。
Y2は、単結合、又は、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。
Examples of the alkyl group represented by R 21 to R 23 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an octyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an isopentyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, and a cyclopentyl group. Etc.
Y 2 represents a single bond or a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Represent.
上記の組み合わせからなるY2の具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合する。
L1:−CO−O−二価の脂肪族基−
L2:−CO−O−二価の芳香族基−
L3:−CO−NH−二価の脂肪族基−
L4:−CO−NH−二価の芳香族基−
Specific examples of Y 2 composed of the above combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain.
L1: -CO-O-divalent aliphatic group-
L2: —CO—O—divalent aromatic group—
L3: -CO-NH-divalent aliphatic group-
L4: —CO—NH—divalent aromatic group—
上記の二価の脂肪族基及び二価の芳香族基は、前記Y1における二価の脂肪族基及び二価の芳香族基と同じであり、二価の脂肪族基及び二価の芳香族基の置換基の例もY1の場合と同じもの挙げられる。 The divalent aliphatic group and the divalent aromatic group are the same as the divalent aliphatic group and the divalent aromatic group in Y 1, and the divalent aliphatic group and the divalent aromatic group are the same. Examples of the substituent of the group are the same as in Y 1 .
Y2としては、単結合、−CO−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、前記L1〜L4が好ましく、単結合、二価の芳香族基、L1〜L4がより好ましく、単結合、L1が最も好ましい。 Y 2 is preferably a single bond, —CO—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or the above L1 to L4, more preferably a single bond, a divalent aromatic group, or L1 to L4. A single bond, L1, is most preferred.
耐汚れ性及び耐刷性の観点から、支持体表面と相互作用する構造は、一般式(a2−1)、(a2−2)又は(a2−6)であることが好ましく、一般式(a2−1)又は(a2−2)であることがより好ましく、一般式(a2−2)であることが最も好ましい。一般式(a2−1)、(a2−2)ともにM21、M22は水素原子であることが好ましい。
具体的には、下記の構造を挙げることができる。
From the viewpoint of stain resistance and printing durability, the structure that interacts with the support surface is preferably the general formula (a2-1), (a2-2), or (a2-6), and the general formula (a2) -1) or (a2-2) is more preferable, and general formula (a2-2) is most preferable. In both general formulas (a2-1) and (a2-2), M 21 and M 22 are preferably hydrogen atoms.
Specifically, the following structures can be mentioned.
支持体表面と相互作用する構造を少なくとも1つ有するモノマー単位は、下記一般式(A2)で表されるモノマー単位が好ましい。 The monomer unit having at least one structure that interacts with the support surface is preferably a monomer unit represented by the following general formula (A2).
一般式(A2)において、R201〜R203はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Qは上述の一般式(a2−1)〜(a2−6)から選ばれる支持体表面と相互作用する構造を表し、好ましい態様も上述の一般式(a2−1)〜(a2−6)の好ましい態様と同じである。 In General Formula (A2), R 201 to R 203 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. Q represents a structure that interacts with the surface of the support selected from the above general formulas (a2-1) to (a2-6), and preferred embodiments are also represented by the above general formulas (a2-1) to (a2-6). This is the same as the preferred embodiment.
本発明のエチレン性ポリマー中の支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも一つ有するモノマー単位の割合は、耐汚れ性及び耐刷性の観点から、全モノマー単位の2〜95質量%の範囲であることが好ましく、3〜50質量%の範囲であることがより好ましく、5〜25質量%の範囲であることが最も好ましい。 The proportion of monomer units having at least one functional group that interacts with the support surface in the ethylenic polymer of the present invention is in the range of 2 to 95% by mass of the total monomer units from the viewpoint of stain resistance and printing durability. Preferably, the range is 3 to 50% by mass, and most preferably 5 to 25% by mass.
(2)親水性基を有するモノマー単位
親水性基としてはスルホン酸又はその塩、及びポリオキシアルキレン構造を挙げることができる。
スルホン酸又はその塩を親水性基とするモノマー単位の導入には2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸又はその塩を共重合することが好ましい。
ポリオキシアルキレン構造は、下記一般式(a4−1)で表されるポリオキシアルキレン構造であることが好ましい。
(2) Monomer unit having hydrophilic group Examples of the hydrophilic group include sulfonic acid or a salt thereof, and a polyoxyalkylene structure.
To introduce a monomer unit having a sulfonic acid or a salt thereof as a hydrophilic group, it is preferable to copolymerize 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid or a salt thereof.
The polyoxyalkylene structure is preferably a polyoxyalkylene structure represented by the following general formula (a4-1).
一般式(a4−1)中、R41は水素原子又はアルキル基を表す。R42は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。aは1〜5の整数を表す。lは2〜150の整数を表す。Y4は、単結合、又は、−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。*はポリマー主鎖と連結する部位を表す。ここで、二価の脂肪族基及び二価の芳香族基は前述のY1の場合と同義である。 In the general formula (a4-1), R 41 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R42 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. a represents an integer of 1 to 5. l represents an integer of 2 to 150. Y 4 represents a single bond or a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Represent. * Represents a site linked to the polymer main chain. Here, the divalent aliphatic group and the divalent aromatic group have the same meaning as in the case of Y 1 described above.
一般式(a4−1)中、R41及びR42のアルキル基の例としては、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基、オクチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、イソペンチル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。R42のアリール基の例としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基などが挙げられる。
R41としては、水素原子が最も好ましく、R42としては、水素原子及びメチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
aは、汚れ性の観点から、好ましくは1又は2を表し、最も好ましくは1を表す。lは、2〜150の整数を表し、汚れ性の観点から、好ましくは9〜150、より好ましくは、9〜100、更に好ましくは20〜100であり、特に好ましくは50〜100である。
In the general formula (a4-1), examples of the alkyl group represented by R 41 and R 42 are each independently a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an octyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an isopentyl group, 2 -An ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, a cyclopentyl group, etc. are mentioned. Examples of the aryl group R 42 include phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group.
R 41 is most preferably a hydrogen atom, and R 42 is preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.
a represents preferably 1 or 2 and most preferably 1 from the viewpoint of soiling properties. l represents an integer of 2 to 150, and is preferably 9 to 150, more preferably 9 to 100, still more preferably 20 to 100, and particularly preferably 50 to 100, from the viewpoint of soiling properties.
Y4としては、下記L17で表される連結基であることが最も好ましい。
L17:−CO−O−
なお、L17は左側が主鎖に結合する。
Y4、R41、R42の最も好ましい組み合わせは、Y4がL17であり、R41が水素原子であり、R42がメチル基である。
Y 4 is most preferably a linking group represented by the following L17.
L17: -CO-O-
L17 is bonded to the main chain on the left side.
In the most preferred combination of Y 4 , R 41 and R 42 , Y 4 is L17, R 41 is a hydrogen atom, and R 42 is a methyl group.
ポリオキシアルキレン構造としては、下記の具体例を挙げることができる。
具体例中、小数を含むn値は、オキシアルキレン繰り返し数の異なる混合物における繰り返し数の平均値を示す。
Examples of the polyoxyalkylene structure include the following specific examples.
In specific examples, the n value including a decimal number indicates an average value of the number of repetitions in a mixture having a different number of oxyalkylene repetitions.
本発明において、ポリオキシアルキレン構造を有するモノマー単位は、具体的には下記(A4)で表されることが好ましい。 In the present invention, the monomer unit having a polyoxyalkylene structure is preferably represented by the following (A4).
上式中、R401〜R403はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。Jは上述した一般式(a4−1)で表されるポリオキシアルキレン構造であり、好ましい態様も一般式(a4−1)の態様と同じである。 In the above formula, R 401 to R 403 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. J is the polyoxyalkylene structure represented by the general formula (a4-1) described above, and the preferred embodiment is the same as the embodiment of the general formula (a4-1).
本発明におけるエチレン性ポリマー中のポリオキシアルキレン構造を有するモノマー単位の割合は、機上現像性及び汚れ性の観点から、エチレン性ポリマーを構成する全モノマー単位に対して、5〜95質量%の範囲であることが好ましく、20〜80質量%の範囲であることがより好ましく、20〜49質量%の範囲であることが最も好ましい。 The proportion of the monomer unit having a polyoxyalkylene structure in the ethylenic polymer in the present invention is 5 to 95% by mass with respect to all monomer units constituting the ethylenic polymer from the viewpoint of on-press development property and stain resistance. The range is preferable, the range of 20 to 80% by mass is more preferable, and the range of 20 to 49% by mass is most preferable.
(3)エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位
下塗り層用エチレン性ポリマーは、耐刷性の観点から、エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位を有することが好ましい。エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位としては、前述の画像記録層用エチレン性ポリマーに導入可能なエチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位と同じものを挙げることができる。
下塗り層用エチレン性ポリマー中の不飽和二重結合の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは0.2〜5.5mmolである。
(3) Monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain The ethylenic polymer for the undercoat layer may have a monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain from the viewpoint of printing durability. preferable. Examples of the monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain include the same monomer units having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain that can be introduced into the above-described ethylenic polymer for an image recording layer. Can do.
The content of the unsaturated double bond in the ethylenic polymer for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, most preferably 0.2 to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
(4)更にその他のモノマー単位
本発明の下塗り層用エチレン性ポリマーは、上記のモノマー単位の他に、必要に応じて一般式(6)で表されるモノマー単位を有してもよい。
(4) Still other monomer units The ethylenic polymer for the undercoat layer of the present invention may have a monomer unit represented by the general formula (6), if necessary, in addition to the above monomer units.
本発明の下塗り層用エチレン性ポリマーは、下塗り層中に2種以上の下塗り層用エチレン性ポリマーを用いることもできる。
下塗り層へのエチレン性ポリマーの含有量は、下塗り層全質量の10〜100質量%が好ましく、20〜100質量%がより好ましく、50〜100質量%が最も好ましい。
As the ethylenic polymer for undercoat layer of the present invention, two or more types of ethylenic polymer for undercoat layer can be used in the undercoat layer.
The content of the ethylenic polymer in the undercoat layer is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 20 to 100% by mass, and most preferably 50 to 100% by mass based on the total mass of the undercoat layer.
本発明におけるエチレン性ポリマーは質量平均モル質量(Mw)が2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万〜30万であるのが更に好ましい。
以下の表6〜9に本発明のエチレン性ポリマーの具体例を示す。表6と8には、機上現像処理型平版印刷版原版の画像記録層用を、表7には、現像液処理を行う平版印刷版原版の画像記録層用を、表9には、平版印刷版原版の下塗り層用に好適なものを示した。なお、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
The ethylenic polymer in the present invention preferably has a mass average molar mass (Mw) of 2000 or more, more preferably 5000 or more, and still more preferably 10,000 to 300,000.
Specific examples of the ethylenic polymer of the present invention are shown in Tables 6 to 9 below. Tables 6 and 8 are for the image recording layer of the on-press development type lithographic printing plate precursor, Table 7 is for the image recording layer of the lithographic printing plate precursor subjected to the developer treatment, and Table 9 is the planographic plate Those suitable for the undercoat layer of the printing plate precursor were shown. The present invention is not limited to these compounds.
(B)重合開始剤
本発明に用いられる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。
ラジカル重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物及びメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩が好ましい。重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。
(B) Polymerization initiator As the polymerization initiator used in the present invention, a radical polymerization initiator is preferably used.
As the radical polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically include, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarynes. Examples include rubiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salts, and iron arene complexes. Among these, at least one selected from the group consisting of hexaarylbiimidazole compounds, onium salts, trihalomethyl compounds and metallocene compounds is preferable, and hexaarylbiimidazole compounds and onium salts are particularly preferable. Two or more polymerization initiators may be used in combination as appropriate.
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、欧州特許第24629号、欧州特許第107792号、米国特許第4、410、621号の各明細書に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。 Examples of the hexaarylbiimidazole compound include lophine dimers described in the specifications of European Patent No. 24629, European Patent No. 107792, and US Pat. No. 4,410,621, such as 2,2′-bis (o- Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ' -Bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m -Methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) Nil) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ' -Bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like. The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region of 300 to 450 nm.
オニウム塩としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等が挙げられる。 Examples of onium salts include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, ammonium described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, and the like. Salt, phosphonium salts described in U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, EP 104,143, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0311520 JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018, or J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, Sulfonium salts described in each specification of JP-A-3,604,581; V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), azinium salts described in JP-A-2008-195018, and the like.
上記の中でもより好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。 Of these, more preferred are iodonium salts, sulfonium salts, and azinium salts. Although the specific example of these compounds is shown below, it is not limited to this.
ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is more preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.
スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Examples thereof include tetrafluoroborate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, and tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate.
アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyl (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3,4 -Dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethylo Ci-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm.
その他、特開2007−206217号公報の段落番号〔0071〕〜〔0129〕に記載の重合開始剤も好ましく用いることができる。 In addition, polymerization initiators described in paragraph numbers [0071] to [0129] of JP-A-2007-206217 can also be preferably used.
重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。 The polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. Can be added. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained.
(C)重合性化合物
本発明の画像記録層には、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、特に末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する重合性化合物を含むことが好ましい。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報等に記載されている。
(C) Polymerizable compound The image-recording layer of the invention has at least one addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, particularly at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. It preferably contains a polymerizable compound. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. Esters of an acid and a polyhydric alcohol compound and amides of an unsaturated carboxylic acid and a polyamine compound are used. Also, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxy group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, addition products of monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, thiols, halogen groups, A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. It is also possible to use a compound group in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-333321.
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Specific examples of the monomer of the ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) -modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl ] Dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(b)で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 In addition, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708. A vinyl containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following general formula (b) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. A urethane compound etc. are mentioned.
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (b)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (b)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )
また、特表2007−506125号公報に記載の光−酸化可能な重合性化合物も好適であり、少なくとも1個のウレア基及び/又は第三級アミノ基を含有する重合可能な化合物が特に好ましい。具体的には、下記の化合物が挙げられる。 Also, photo-oxidizable polymerizable compounds described in JP-T-2007-506125 are suitable, and polymerizable compounds containing at least one urea group and / or tertiary amino group are particularly preferred. Specific examples include the following compounds.
また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、米国特許第7、153、632号明細書、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 Also, urethanes described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210. Acrylates, JP-B 58-49860, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62-39418, JP-A 2000-250211, JP-A 2007-94138 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in the publication, US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223. Urethane compounds having a hydrophilic group described in (2) are also suitable.
上記の中でも、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合は、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。 Among the above, in the case of a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, tris (acryloyloxyethyl) isocyanate is excellent in that it has a good balance of hydrophilicity involved in on-press developability and polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide-modified acrylates such as nurate and bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate are particularly preferred.
重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは10〜70質量%、特に好ましくは15〜60質量%の範囲で使用される。 Details of the method of use, such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added, can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 15 to 60% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.
<その他の成分>
本発明における画像記録層には、必要に応じて、更に他の成分を含有することができる。
<Other ingredients>
The image recording layer in the invention may further contain other components as required.
(D)増感色素
画像記録層に用いる増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、前記重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
(D) Sensitizing dye The sensitizing dye used in the image recording layer absorbs light at the time of image exposure to an excited state, supplies energy to the polymerization initiator by electron transfer, energy transfer or heat generation, and initiates polymerization. Any device that improves the function can be used without particular limitation. In particular, a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength range of 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm is preferably used.
350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、スチリル類、オキサゾール類等の色素を挙げることができる。 Examples of the sensitizing dye having the maximum absorption in the wavelength range of 350 to 450 nm include merocyanines, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, styryls, and oxazoles.
350〜450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(I)で表される色素である。 Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (I).
一般式(I)中、Aは置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又はN(R3)を表す。R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、AとR1又はR2とR3は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。 In general formula (I), A represents an aryl group or heteroaryl group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or N (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and A and R 1 or R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic group. A ring may be formed.
一般式(I)について更に詳しく説明する。R1、R2又はR3で表される1価の非金属原子団は、好ましくは、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を表す。 The general formula (I) will be described in more detail. The monovalent nonmetallic atomic group represented by R 1 , R 2 or R 3 is preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxy group, or a halogen atom.
Aで表される置換基を有してもよいアリール基及びヘテロアリール基は、各々R1、R2及びR3で記載した置換若しくは非置換のアリール基及び置換若しくは非置換のヘテロアリール基と同様である。 The aryl group and heteroaryl group which may have a substituent represented by A are each a substituted or unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted heteroaryl group represented by R 1 , R 2 and R 3 , respectively. It is the same.
このような増感色素の具体例としては、特開2007−58170号公報の段落番号〔0047〕〜〔0053〕に記載の化合物が好ましく用いられる。 As specific examples of such a sensitizing dye, compounds described in paragraph numbers [0047] to [0053] of JP-A-2007-58170 are preferably used.
更に、下記一般式(II)又は(III)で示される増感色素も用いることができる。 Furthermore, sensitizing dyes represented by the following general formula (II) or (III) can also be used.
式(II)中、R1〜R14は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは炭素原子数2以上のアルコキシ基を表す。
式(III)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素原子数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (II), R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In the formula (III), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
このような増感色素の具体例としては、欧州特許出願公開第1349006号明細書や国際公開第2005/029187号パンフレットに記載の化合物が好ましく用いられる。 As specific examples of such sensitizing dyes, compounds described in European Patent Application Publication No. 1349006 and International Publication No. 2005/029187 are preferably used.
また、特開2006−189604号、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号の各公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。 JP-A-2006-189604, JP-A-2007-171406, JP-A-2007-206216, JP-A-2007-206217, JP-A-2007-225701, JP-A-2007-225702, JP-A-2007-316582 The sensitizing dyes described in JP-A-2007-328243 are also preferably used.
続いて、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素(以降、赤外線吸収剤と称することもある)について記載する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。 Then, it describes about the sensitizing dye (henceforth an infrared absorber) which has maximum absorption in the wavelength range of 750-1400 nm. As the infrared absorber, a dye or a pigment is preferably used.
染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−N(R9)(R10)、−X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基、炭素原子数1〜8のアルキル基、水素原子を表し、またR9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。なかでもフェニル基が好ましい。X2は酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。下記式のXa −は後述するZa −と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —N (R 9 ) (R 10 ), —X 2 -L 1 or a group shown below. Here, R 9 and R 10 may be the same or different, and may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Represents a hydrogen atom, and R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. Of these, a phenyl group is preferred. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 includes a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom (N, S, O, halogen atom, Se), or a hetero atom. A hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms is shown. It is Z a to be described later - - formula X a of the same definition, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.
一般式(a)のR1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR1及びR2は互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 in the general formula (a) each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms. R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring, and when a ring is formed, it is particularly preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なってもよく、硫黄原子又は炭素原子数12以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素原子数12以下の炭化水素基を示す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Za −は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa −は必要ない。好ましいZa −は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Preferred aryl groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxy group, and a sulfo group. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. In view of easy availability of the raw material, a hydrogen atom is preferred. Z a − represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a − is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.
一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号〔0017〕〜〔0019〕に記載の化合物、特開2002−023360号公報の段落番号〔0016〕〜〔0021〕、特開2002−040638号公報の段落番号〔0012〕〜〔0037〕に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号公報の段落番号〔0034〕〜〔0041〕、特開2008−195018号公報の段落番号〔0080〕〜〔0086〕に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号公報の段落番号〔0035〕〜〔0043〕に記載の化合物が挙げられる。 Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) include compounds described in paragraph Nos. [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, paragraph Nos. [0016] of JP-A No. 2002-023360. ] To [0021], compounds described in paragraphs [0012] to [0037] of JP 2002-040638 A, preferably paragraphs [0034] to [0041] of JP 2002-278057 A, JP The compounds described in paragraphs [0080] to [0086] of 2008-195018, particularly preferably the compounds described in paragraphs [0035] to [0043] of JP-A-2007-90850 are exemplified.
また特開平5−5005号公報の段落番号〔0008〕〜〔0009〕、特開2001−222101号公報の段落番号〔0022〕〜〔0025〕に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。 In addition, compounds described in paragraph Nos. [0008] to [0009] of JP-A No. 5-5005 and paragraph numbers [0022] to [0025] of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.
赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落番号〔0072〕〜〔0076〕に記載の化合物が好ましい。 Only 1 type may be used for an infrared absorption dye, 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, the compounds described in JP-A-2008-195018, paragraphs [0072] to [0076] are preferable.
増感色素の含有量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、特に好ましくは0.2〜10質量部である。 The content of the sensitizing dye is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and particularly preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. Part by mass.
(E)有機微粒子
本発明においては、特に機上現像を適用する平版印刷版原版において、機上現像性を向上させるため、画像記録層に有機微粒子を含有することができる。本発明における有機微粒子は、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。本発明における有機微粒子は、上記本発明のエチレン性ポリマーの離散粒子であってもよく、特に好ましい実施形態では、この有機微粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このような有機微粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
(E) Organic fine particles In the present invention, in particular, in a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, in order to improve on-press developability, organic fine particles can be contained in the image recording layer. The organic fine particles in the present invention are at least selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, thermoreactive polymer fine particles, polymer fine particles having a polymerizable group, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). One is preferable. Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable. The organic fine particles in the present invention may be discrete particles of the ethylenic polymer of the present invention. In a particularly preferred embodiment, the organic fine particles include at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. Due to the presence of such organic fine particles, an effect of improving the printing durability of the exposed portion and the on-press developability of the unexposed portion can be obtained.
疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.333003、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜3.0μmが好ましい。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include Research Disclosure No. 1 of January 1992. 331,003, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 and European Patent No. 931647 are suitable. Can be cited as
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.
The average particle size of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 3.0 μm.
本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by cross-linking by a heat reaction and a functional group change at that time.
本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。 The thermoreactive group in the polymer fine particles having a thermoreactive group used in the present invention may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, Examples include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (eg, acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (eg, vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) ), An isocyanate group that performs an addition reaction or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a condensation reaction Carboxy group to be carried out and reaction partner hydroxy group or amino group, acid anhydride to carry out ring-opening addition reaction and reaction An amino group or a hydroxyl group a manual may be mentioned as suitable.
本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。 As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. Is. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, it is preferable that the image recording layer containing the microcapsule includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中又は表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。 In this invention, the aspect containing a crosslinked resin particle, ie, a microgel, may be sufficient. This microgel can contain a part of the constituent components of the image recording layer in at least one of the inside and the surface thereof, and in particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radical polymerizable group on the surface thereof, This is particularly preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability.
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、若しくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。 As a method for microencapsulating or microgelling the constituent components of the image recording layer, known methods can be applied.
上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。 The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is still more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
有機微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5〜90質量%の範囲であることが好ましい。 The organic fine particle content is preferably in the range of 5 to 90% by mass of the total solid content of the image recording layer.
(F)低分子親水性化合物
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、等が挙げられる。
(F) Low molecular weight hydrophilic compound The image-recording layer in the invention may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve the on-press developability without reducing the printing durability.
As the low molecular weight hydrophilic compound, for example, as the water-soluble organic compound, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like glycols and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphonic acid Organic phosphonic acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, and the like.
本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類の群から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。 Among these, in the present invention, it is preferable to contain at least one selected from the group of polyols, organic sulfates, and organic sulfonates.
有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラデコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454〔0026〕〜〔0031〕、特開2009−154525〔0020〕〜〔0047〕に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate. Sodium 5,8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1; Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium sulfonate, 5,8,11,14-tetraoxatetradecosane-1-sodium sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxy Benzenesulfo Acid sodium, sodium p-styrenesulfonate, sodium dimethyl-5-sulfonate isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6 -Aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, compounds described in JP-A 2007-276454 [0026] to [0031], JP-A 2009-154525 [0020] to [0047], and the like. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.
有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454〔0034〕〜〔0038〕に記載の化合物が挙げられる。 Organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples thereof include compounds described in JP-A-2007-276454 [0034] to [0038].
上記の低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。 The above low molecular weight hydrophilic compound has a small hydrophobic part structure and almost no surface-active action, so that dampening water penetrates into the exposed part of the image recording layer (image part) and the hydrophobicity and film strength of the image part. Ink acceptability and printing durability of the image recording layer can be maintained satisfactorily.
これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、本発明の(a)重合性ベタイン化合物の添加量と合わせて、画像記録層全固形分量の0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上15質量%以下であり、更に好ましくは2質量%以上10質量%以下である。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The addition amount of these low molecular weight hydrophilic compounds to the image recording layer is 0.5% by mass or more and 20% by mass or less of the total solid content of the image recording layer, together with the addition amount of the polymerizable betaine compound (a) of the present invention. It is preferable that More preferably, they are 1 mass% or more and 15 mass% or less, More preferably, they are 2 mass% or more and 10 mass% or less. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.
(G)感脂化剤
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
(G) Grease Sensitizer In the image recording layer of the present invention, a lipid sensitizer such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, or an ammonium group-containing polymer is used for the image recording layer in order to improve the inking property. be able to. In particular, when an inorganic layered compound is contained in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and prevent a decrease in the inking property during printing by the inorganic layered compound.
好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。 Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.
上記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類、及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号公報〔0021〕〜〔0037〕、特開2009−90645号公報〔0030〕〜〔0057〕に記載の化合物などが挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. And the compounds described in JP-A 2008-284858 [0021] to [0037], JP-A 2009-90645 [0030] to [0057], and the like.
上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号公報[0089]〜[0105]に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may be any polymer as long as it has an ammonium group in its structure, but a polymer containing 5 to 80 mol% of a (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. . Specific examples include the polymers described in JP-A-2009-208458 [0089] to [0105].
上記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値で、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を質量平均モル質量(Mw)に換算すると、10000〜150000が好ましく、17000〜140000がより好ましく、20000〜130000が特に好ましい。 The ammonium salt-containing polymer has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) determined by the following measurement method, preferably in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, 15 Those in the range of ~ 100 are particularly preferred. When the said reduced specific viscosity is converted into a mass mean molar mass (Mw), 10,000-150,000 are preferable, 17000-140000 are more preferable, 20000-130000 are especially preferable.
<還元比粘度の測定方法>
ポリマー固形分1gを、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップした。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元比粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出した。
<Measurement method of reduced specific viscosity>
1 g of polymer solid content was weighed into a 20 ml volumetric flask and diluted with N-methylpyrrolidone. This solution is allowed to stand for 30 minutes in a thermostatic bath at 30 ° C., put in an Ubbelohde reduced specific viscosity tube (viscosity constant = 0.010 cSt / s), and the time for flowing down at 30 ° C. is measured. The measurement is performed twice with the same sample, and the average value is calculated. Similarly, in the case of a blank (only N-methylpyrrolidone), the reduced specific viscosity (ml / g) was calculated from the following formula.
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 質量平均モル質量(Mw)4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw:6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 Mw:4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw:6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 Mw:7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 Mw:6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw:6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw:7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 Mw:6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90 mass average molar mass (Mw) 45,000)
(2) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 Mw: 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70 Mw: 45,000)
(4) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 Mw: 60,000)
(5) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60 Mw: 7 million)
(6) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75 Mw: 65,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 Mw: 65,000)
(8) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 (Mw: 75,000)
(9) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5 (Mw: 65,000)
上記感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15.0質量%、1〜10質量%が更に好ましい。 The content of the sensitizer is preferably 0.01 to 30.0% by mass, more preferably 0.1 to 15.0% by mass and 1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Is more preferable.
(H)その他
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
(H) Others As other components, surfactants, colorants, baking-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, inorganic layered compounds, and co-sensitizers or chain transfer agents, etc. Can be added. Specifically, paragraph numbers [0114] to [0159] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-284817, paragraph numbers [0023] to [0027] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-091479, and US Patent Publication No. 2008/0311520. [0060] The compounds and addition amounts described in [0060] are preferred.
(I)画像記録層の形成
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
(I) Formation of Image Recording Layer The image recording layer in the present invention is prepared by using the necessary components described above in known solvents as described in, for example, paragraphs [0142] to [0143] of JP-A-2008-195018. A coating solution is prepared by dispersing or dissolving in a coating solution, which is coated on a support by a known method such as bar coater coating and dried. The image recording layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.
(下塗り層)
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer is preferably provided between the image recording layer and the support. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and easily peels off the image recording layer from the support in the unexposed area. Contributes to improvement. In the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.
本発明の下塗り層は、上記エチレン性ポリマーが用いられる。また、画像記録層に上記エチレン性ポリマーが用いられる場合は、公知の下塗り層用化合物を用いてもよい。
公知の下塗り用化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基、及び画像記録層と密着性を向上させるために架橋性基を有するものが好ましい。更に、スルホ基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。これらの化合物は、低分子でも高分子ポリマーであってもよい。又、これらの化合物は必要に応じて2種以上を混合して使用してもよい。
高分子ポリマーである場合は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO3H2、−OPO3H2、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3が好ましい。親水基としては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。
この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005−125749号、特開2006−239867号、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
The above-mentioned ethylenic polymer is used for the undercoat layer of the present invention. Further, when the ethylenic polymer is used for the image recording layer, a known undercoat layer compound may be used.
As the known undercoat compound, those having an adsorptive group capable of being adsorbed on the surface of the support and a crosslinkable group for improving the adhesion to the image recording layer are preferable. Furthermore, compounds having a hydrophilicity-imparting group such as a sulfo group can also be mentioned as suitable compounds. These compounds may be low molecular weight or high molecular weight polymers. Moreover, you may use these compounds in mixture of 2 or more types as needed.
In the case of a high molecular polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable. The adsorbable adsorptive group to the surface of the support, a phenolic hydroxy group, a carboxy group, -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 Is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group is preferable. The crosslinkable group is preferably a methacryl group or an allyl group.
This polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between the polar substituent of the polymer, a substituent having a counter charge and a compound having an ethylenically unsaturated bond, Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and an ethylenic compound described in JP-A-2-304441. The phosphorus compound which has a heavy bond reactive group is mentioned suitably. Crosslinkable group (preferably ethylenically unsaturated bond group) described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-12549, JP-A-2006-239867, JP-A-2006-215263, surface of support Those containing a low-molecular or high-molecular compound having a functional group that interacts with each other and a hydrophilic group are also preferably used. More preferable are polymer polymers having an adsorbable group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group that can be adsorbed on the support surface described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.
下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは0.2〜5.5mmolである。
下塗り層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
The content of unsaturated double bonds in the polymer resin for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, and most preferably 0.2 to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The polymer for the undercoat layer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.
本発明の下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)を含有することができる。 The undercoat layer of the present invention comprises, in addition to the above undercoat compound, a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group, or a functional group having a polymerization inhibiting ability, in order to prevent contamination over time. Compounds having a group that interacts with the surface of an aluminum support (for example, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil , Sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and the like.
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.
(支持体)
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
(Support)
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known support is used. Of these, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferred.
In addition, the above aluminum plate is optionally subjected to micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365, and US Pat. 714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734, or alkali metal silicates as described in U.S. Pat. Surface hydrophilization treatment with polyvinylphosphonic acid or the like as described in each specification of 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is appropriately performed and performed. be able to.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm.
本発明の支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。 If necessary, the support of the present invention includes an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174 on the back surface. A backcoat layer can be provided.
(保護層)
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることができる。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
(Protective layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (overcoat layer) can be provided on the image recording layer as necessary. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号の各公報記載の変性ポリビニルアルコールが好適に挙げられる。
The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. it can. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used. Specifically, modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137 are preferable.
また、保護層には酸素遮断性を高めるため、特開2005−119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することが好ましい。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を保護層に含有させることもできる。
Further, in order to enhance the oxygen barrier property, the protective layer preferably contains an inorganic layered compound such as natural mica and synthetic mica as described in JP-A-2005-119273.
Further, the protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coating properties, and inorganic fine particles for controlling surface slipperiness. Further, the protective layer can contain the sensitizer described in the description of the image recording layer.
保護層は、公知の方法で塗布される。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. in the range of 02~1g / m 2.
〔平版印刷版の作製方法〕
本発明における平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
[Preparation method of planographic printing plate]
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the invention to image exposure and development.
<画像露光>
平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
光源の波長は300〜450nm又は750〜1400nmが好ましく用いられる。300〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Image exposure>
The lithographic printing plate precursor is imagewise exposed by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
The wavelength of the light source is preferably 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm. In the case of a light source of 300 to 450 nm, a lithographic printing plate precursor containing a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and in the case of a light source of 750 to 1400 nm, it absorbs in this wavelength region. A lithographic printing plate precursor containing an infrared absorbing agent, which is a sensitizing dye having a colorant, in an image recording layer is preferably used. As the light source of 300 to 450 nm, a semiconductor laser is suitable. As a light source of 750 to 1400 nm, a solid laser and a semiconductor laser emitting infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be performed on the printing press.
<現像処理>
現像処理は、(1)pHが2〜14の現像液にて現像する方法(現像液処理方式)、又は、(2)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像方式)で行うことができる。
<Development processing>
Development processing is (1) a method of developing with a developer having a pH of 2 to 14 (developer processing method), or (2) a method of developing while adding dampening water and / or ink on a printing press. (On-press development method).
<現像液処理方式>
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
高アルカリ性現像液(pH12以上)を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。
本発明の好ましい態様によれば、pHが2〜14の現像液が使用される。この態様においては、現像液中に界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが可能となる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像−ガム液処理を行うことができる。更に、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像−ガム液処理と同時に行うことができる。現像−ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developer processing method>
In the developer processing method, the lithographic printing plate precursor subjected to image exposure is processed with a developer having a pH of 2 to 14, and the image recording layer in the non-exposed portion is removed to prepare a lithographic printing plate.
In the development processing using a highly alkaline developer (pH 12 or more), usually, the protective layer is removed by a pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is washed away by water in the post-water washing step, gum solution treatment is performed, and drying is performed. A lithographic printing plate is produced by drying in the process.
According to a preferred embodiment of the present invention, a developer having a pH of 2 to 14 is used. In this embodiment, it is preferable that a surfactant or a water-soluble polymer compound is contained in the developer, whereby the development and the gum solution treatment can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and the development-gum solution treatment can be performed with one solution. Further, no pre-water washing step is required, and the protective layer can be removed simultaneously with the development-gum solution treatment. After the development-gum treatment, for example, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller.
本発明における平版印刷版原版の現像液処理は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、画像露光した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。 The developer treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out in accordance with a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably 15 to 40 ° C. It can be carried out by a method of rubbing with a brush, a method of spraying a developer by spraying and rubbing with a brush.
本発明におけるpH2〜14の現像液による現像処理は、現像液の供給手段及び擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。また、自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。更に、自動現像処理機は現像処理手段の前に、画像露光後の平版印刷版原版を加熱処理するための前加熱手段を備えていてもよい。 In the present invention, the development treatment with a developer having a pH of 2 to 14 can be preferably carried out by an automatic development processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. An automatic developing processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. Further, the automatic processor preferably includes a means for removing excess developer such as a squeeze roller and a drying means such as a warm air device after the development processing means. Further, the automatic development processor may be provided with a preheating means for heat-treating the lithographic printing plate precursor after image exposure before the development processing means.
本発明において現像液処理に用いられる現像液は、pHが2〜14の水溶液である。水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液も好ましい。現像液のpHは、より好ましくは3.5〜13、更に好ましくは6〜13、特に好ましくは6.5〜10.5である。 In the present invention, the developer used for the developer processing is an aqueous solution having a pH of 2 to 14. An aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. In particular, an aqueous solution containing a surfactant (anionic, nonionic, cationic, amphoteric ion, etc.) or a water-soluble polymer compound. An aqueous solution containing is preferred. An aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is also preferred. The pH of the developer is more preferably 3.5 to 13, further preferably 6 to 13, and particularly preferably 6.5 to 10.5.
本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンアルキルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−アルキル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。この中で、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。 The anionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts. Branched alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether (di) sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene alkyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-alkyl-N-oleyl taurine Sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonate, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate ester salt, alkyl Acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphates Ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, saponified saponified styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, etc. Is mentioned. Of these, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.
本発明の現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。 Although it does not specifically limit as a cationic surfactant used for the developing solution of this invention, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkyl imidazolinium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
本発明の現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中で、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。 The nonionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but is a polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, alkyl naphthol ethylene oxide adduct, phenol ethylene oxide adduct. , Naphthol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide addition Dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Id) block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol type glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ether of polyhydric alcohol, fatty acid amide of alkanolamines, etc. It is done. Among these, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.
本発明の現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。具体的には、特開2008−203359号の段落番号〔0256〕の式(2)で示される化合物、特開2008−276166号の段落番号〔0028〕の式(I)、式(II)、式(VI)で示される化合物、特開2009−47927号の段落番号〔0022〕〜〔0029〕で示される化合物を用いることができる。 The zwitterionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaine, and amino acids such as sodium alkylamino fatty acid. . In particular, alkyldimethylamine oxide which may have a substituent, alkylcarboxybetaine which may have a substituent, and alkylsulfobetaine which may have a substituent are preferably used. Specifically, a compound represented by the formula (2) in paragraph No. [0256] of JP-A-2008-203359, a formula (I), a formula (II) in paragraph No. [0028] of JP-A-2008-276166, A compound represented by the formula (VI) or a compound represented by paragraph numbers [0022] to [0029] of JP-A-2009-47927 can be used.
界面活性剤は現像液中に2種以上用いてもよい。現像液中に含有される界面活性剤の量は、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。 Two or more surfactants may be used in the developer. 0.01-20 mass% is preferable and, as for the quantity of surfactant contained in a developing solution, 0.1-10 mass% is more preferable.
本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩などが挙げられる。 Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivatives (eg, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl Alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl sulfonic acid and The salt, polystyrene sulfonic acid, its salt, etc. are mentioned.
上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。 A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、例えば、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸又は酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。 As the modified starch, known ones can be used. For example, starch such as corn, potato, tapioca, rice, wheat etc. is decomposed with acid or enzyme in the range of 5-30 glucose residues per molecule, and further alkali It can be made by a method of adding oxypropylene in the inside.
水溶性高分子化合物は現像液中に2種以上併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。 Two or more water-soluble polymer compounds may be used in combination in the developer. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.
本発明で使用する現像液には、pH緩衝剤を含ませることができる。本発明の現像液には、pH2〜14に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン-炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物-そのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、従ってpHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。 The developer used in the present invention may contain a pH buffer. The developer of the present invention can be used without particular limitation as long as it is a buffering agent that exhibits a buffering action at a pH of 2 to 14. In the present invention, weakly alkaline buffering agents are preferably used. For example, (a) carbonate ions and hydrogen carbonate ions, (b) borate ions, (c) water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds, and their Combination use etc. are mentioned. That is, for example, a combination of (a) carbonate ion-bicarbonate ion, (b) borate ion, or (c) water-soluble amine compound-amine compound ion exhibits pH buffering action in the developer. Even when the developer is used for a long period of time, fluctuations in pH can be suppressed, and therefore, development loss due to fluctuations in pH, development debris generation, and the like can be suppressed. Particularly preferred is a combination of carbonate ions and bicarbonate ions.
炭酸イオン及び炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。アルカリ金属は単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 In order for carbonate ions and bicarbonate ions to be present in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. Alkali metals may be used alone or in combination of two or more.
炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、現像液に対して0.05〜5mol/Lが好ましく、0.07〜2mol/Lがより好ましく、0.1〜1mol/Lが特に好ましい。 The total amount of carbonate ions and bicarbonate ions is preferably 0.05 to 5 mol / L, more preferably 0.07 to 2 mol / L, and particularly preferably 0.1 to 1 mol / L with respect to the developer.
本発明の現像液は、有機溶剤を含有してもよい。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、G(エッソ化学(株)製)等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、1−デカノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、2−ブタノン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)等が挙げられる。 The developer of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.)), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogens, and the like. Hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents. Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1 -Nonanol, 1-decanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl Ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether Ter, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.), ketones (acetone, 2-butanone, ethyl butyl ketone, methyl) Isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.) Esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, levulin Acid butyl, etc.), other (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N Phenyl diethanolamine, N- methyldiethanolamine, N- ethyldiethanolamine, 4- (2-hydroxyethyl) morpholine, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone and the like) and the like.
現像液に含有される有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合、安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。 Two or more organic solvents can be used in combination in the developer. When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the organic solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.
本発明の現像液には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007−206217号の段落番号〔0266〕〜〔0270〕に記載の化合物を好ましく用いることができる。 In addition to the above components, the developer of the present invention may contain preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, inorganic acids, inorganic salts, and the like. Specifically, compounds described in paragraph numbers [0266] to [0270] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.
本発明の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができる。また、前述のような自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。 The developer of the present invention can be used as a developer and a development replenisher for an exposed lithographic printing plate precursor. Further, the present invention can be preferably applied to the automatic developing processor as described above. When developing using an automatic developing processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution.
<機上現像方式>
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、未露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、未露光部においては、供給された油性インキ及び/又は水性成分によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が好適に用いられる。
<On-press development method>
In the on-press development system, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on a printing machine, and an unexposed image recording layer is removed to produce a lithographic printing plate.
In other words, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine without any development processing, or after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, image exposure is performed on the printing machine. When printing is performed by supplying the oil-based ink and the aqueous component, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed by the supplied oil-based ink and / or the aqueous component in the unexposed area at an early stage of printing. And a hydrophilic surface is exposed at the portion. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Oil-based ink or water-based component may be first supplied to the plate surface, but oil-based ink is supplied first in order to prevent the water-based component from being contaminated by the removed image recording layer component. Is preferred. In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are preferably used.
本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。この様な加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。また、現像液処理方式の場合、画像強度や耐刷性の向上を目的として、現像処理後の画像に対し、全面後加熱若しくは全面露光を行うことも有効である。通常、現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、未露光部が硬化してしまう等の問題を生じることがある。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じることがある。 In the method of preparing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire lithographic printing plate precursor is exposed before exposure, during exposure, and from exposure to development, regardless of the development method. You may heat. By such heating, an image forming reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. In the case of the developer processing method, it is also effective to perform whole surface post-heating or whole surface exposure on the image after the development processing for the purpose of improving the image strength and printing durability. Usually, heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as curing of the unexposed area may occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 100-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image reinforcing action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、分子量は質量平均モル質量(Mw)であり、繰り返し単位の比率は、特別に規定したもの以外は、モル百分率である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. In addition, in a high molecular compound, molecular weight is a mass mean molar mass (Mw), and the ratio of a repeating unit is a mole percentage except what was specially prescribed | regulated.
[本発明のエチレン性ポリマーの合成例] [Synthesis Example of Ethylene Polymer of the Present Invention]
ベタイン構造を少なくとも2つ有するモノマーの合成
ステップ1
攪拌機、温度計を備えた300ml三口フラスコに3,3’−イミノビス(N,N−ジメチルイソプロピルアミン)25.10g、炭酸カリウム31.02g、酢酸エチル100g及び水50gを秤取し、氷浴中でアクリル酸クロリド11.76gを30分かけて滴下した。0℃で更に30分攪拌し、生成する白色沈殿をろ別した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた黄色の粗生成物をアルミナカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/メタノール展開)で精製して、N,N−ビス(3−(ジメチルアミノ)プロピル)アクリルアミド7.73gを得た。
Step 1 for synthesizing a monomer having at least two betaine structures
In a 300 ml three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, weigh 25.10 g of 3,3′-iminobis (N, N-dimethylisopropylamine), 31.02 g of potassium carbonate, 100 g of ethyl acetate and 50 g of water, and put them in an ice bath. Then, 11.76 g of acrylic acid chloride was added dropwise over 30 minutes. The mixture was further stirred at 0 ° C. for 30 minutes, and the resulting white precipitate was filtered off. The organic phase was dried over anhydrous magnesium sulfate and the solvent was distilled off under reduced pressure. The obtained yellow crude product was purified by alumina column chromatography (development with ethyl acetate / methanol) to obtain 7.73 g of N, N-bis (3- (dimethylamino) propyl) acrylamide.
ステップ2
攪拌機、温度計及び還流管を備えた200ml三口フラスコに、ステップ1で得られたN,N−ビス(3−(ジメチルアミノ)プロピル)アクリルアミド7.73g、p-メトキシフェノール3.0mg、アセトニトリル40gを秤取した。室温で1,4−ブタンスルトン8.77gを滴下し、80℃に昇温して4時間反応させた。放冷後、デカンテーションにより上澄みを除去し、精製した白色沈殿をメタノール20ml/酢酸エチル800mlでリスラリーした後、沈殿物を窒素雰囲気下での吸引ろ過により回収した。40℃の減圧オーブンにて乾燥し、白色固体のビス型スルホベタイン化合物15.30gを得た。
上記白色固体の化合物のNMR測定結果を下に示す。
Step 2
In a 200 ml three-necked flask equipped with a stirrer, thermometer and reflux tube, 7.73 g of N, N-bis (3- (dimethylamino) propyl) acrylamide obtained in Step 1, 3.0 mg of p-methoxyphenol, 40 g of acetonitrile. Was weighed. 8.77 g of 1,4-butane sultone was added dropwise at room temperature, and the mixture was heated to 80 ° C. and reacted for 4 hours. After allowing to cool, the supernatant was removed by decantation, and the purified white precipitate was reslurried with 20 ml of methanol / 800 ml of ethyl acetate, and then the precipitate was collected by suction filtration under a nitrogen atmosphere. The solid was dried in a vacuum oven at 40 ° C. to obtain 15.30 g of a bis-type sulfobetaine compound as a white solid.
The NMR measurement results of the white solid compound are shown below.
1H−NMR(400MHz、D2O): δ= 6.62 ppm (a:1H、t)、6 .16 ppm 、5.79 ppm (b、c:2H、2d)、3.40-3.15 ppm(d+e+f:12H、m)、2.96 ppm(g:12H、s)、2.84ppm(h:4H、t)、1.96-1.69 ppm(i+j+k:12H、m) 1H-NMR (400 MHz, D2O): δ = 6.62 ppm (a: 1H, t), 6.16 ppm, 5.79 ppm (b, c: 2H, 2d), 3.40-3.15 ppm (d + e + f: 12H, m), 2.96 ppm (g: 12H, s), 2.84 ppm (h: 4H, t), 1.96-1.69 ppm (i + j + k: 12H, m)
エチレン性ポリマー(P−80)の合成
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)10g、上記で合成したビス型スルホベタインモノマー5g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)75g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、得られたポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
Synthesis of ethylenic polymer (P-80) A 1000 ml four-necked flask is equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and introduced with nitrogen gas to deoxygenate, while polyethylene glycol 10 g of methyl ether methacrylate (the average repeating unit of PEGMA ethylene glycol is 45), 5 g of the bis-type sulfobetaine monomer synthesized above, 200 g of distilled water and 200 g of n-propanol were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, 10 g of premixed styrene (St), 75 g of acrylonitrile (AN) and 0.8 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile were added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization proceeded at 98% or more at the stage of reaction for a total of 20 hours, and the particle size distribution of the obtained polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
[平版印刷版原版の作製]
下記仕様の、アルミニウム支持体、下塗り層、画像記録層、保護層を表10−1〜表10−3に示すように組み合わせて本発明の平版印刷版原版A−1〜A−89及び比較用の平版印刷版原版B−1〜B−10を作製した。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursors A-1 to A-89 of the present invention and comparative examples are combined by combining an aluminum support, an undercoat layer, an image recording layer, and a protective layer having the following specifications as shown in Tables 10-1 to 10-3. Lithographic printing plate precursors B-1 to B-10 were prepared.
〔アルミニウム支持体1の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
[Preparation of Aluminum Support 1]
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material: JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, the hair diameter is 0.3 mm. The aluminum surface was grained using 3 bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体1を作製した。
このようにして得られた支持体の中心線平均粗さ(JIS B0601によるRa表示)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. An aluminum support 1 was prepared.
The center line average roughness (Ra indication according to JIS B0601) of the support thus obtained was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
〔アルミニウム支持体2の作製〕
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5質量%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。このアルミニウム板を、25℃に保たれた10質量%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3質量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5質量%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間デスマット処理を行った。このアルミニウム板を、15質量%硫酸水溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、アルミニウム支持体2を作製した。その中心線表面粗さ(Ra)を測定したところ、0.44μmであった。
[Preparation of aluminum support 2]
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% by mass aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. The aluminum plate was neutralized by immersing it in a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Subsequently, this aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current for 60 seconds under conditions of 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 in a 0.3 mass% hydrochloric acid aqueous solution, and then kept at 60 ° C. In addition, the desmut treatment was performed for 10 seconds in a 5% by mass aqueous sodium hydroxide solution. This aluminum plate was anodized in a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution at 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a voltage of 15 V for 1 minute to produce an aluminum support 2. The centerline surface roughness (Ra) was measured and found to be 0.44 μm.
〔下塗り層の形成〕
以下の組成を有する下塗り層塗布液を支持体にバーコーターで塗布し、100℃にて1分間乾燥して下塗り層を形成した。下塗り層の乾燥塗布量は20mg/m2であった。
(Formation of undercoat layer)
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied to a support with a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 20 mg / m 2 .
<下塗り層用塗布液(1)>
・表10記載の下塗りポリマー又は下記下塗り層用化合物(Z−1)
若しくは下記比較用下塗り層用化合物(Z−2) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
<Coating liquid for undercoat layer (1)>
-Undercoat polymer described in Table 10 or the following undercoat compound (Z-1)
Or 0.18 g of the compound for comparative undercoat (Z-2) shown below
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g
〔画像記録層1の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の画像記録層1を形成した。
[Formation of Image Recording Layer 1]
The image recording layer coating solution 1 having the following composition was bar coated and then oven dried at 90 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer 1 having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .
<画像記録層塗布液1>
・表10記載のバインダーポリマー又は下記バインダーポリマー(Z−3)(Mw:8万)若しくは下記比較用バインダーポリマー(Z−4)(Mw:8万) 0.34g
・下記重合性化合物(1)(PLEX6661−O、デグサジャパン製) 0.58g
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.02g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸
共重合体(Mw:6万、共重合モル比:83/17)):
10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・熱重合禁止剤
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 0.01g
・下記フッ素系界面活性剤(1) (Mw:10、000) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.02g
((株)ADEKA製、プルロニックL44)
・黄色顔料の分散物 0.04g
(黄色顔料Novoperm Yellow H2G(クラリアント製):15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (Mw:6万、共重合モル比83/17)):10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・2−ブタノン 8.0g
<Image recording layer coating solution 1>
-The binder polymer described in Table 10 or the following binder polymer (Z-3) (Mw: 80,000) or the following comparative binder polymer (Z-4) (Mw: 80,000) 0.34 g
・ The following polymerizable compound (1) (PLEX6661-O, manufactured by Degussa Japan) 0.58 g
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.02 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (Mw: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17)):
(10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
-Thermal polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.01 g
-The following fluorosurfactant (1) (Mw: 10,000) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.02g
(Pluronic L44, manufactured by ADEKA Corporation)
・ Dispersion of yellow pigment 0.04g
(Yellow pigment Novoperm Yellow H2G (manufactured by Clariant): 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (Mw: 60,000, copolymer molar ratio 83/17)): 10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass Part)
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ 2-butanone 8.0g
〔画像記録層2の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液2をバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層2を形成した。画像記録層塗布液2は下記感光液(1)及び疎水化前駆体液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
[Formation of Image Recording Layer 2]
The image recording layer coating solution 2 having the following composition was bar coated and then oven dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer 2 having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . The image recording layer coating solution 2 was prepared by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and hydrophobic precursor solution (1) immediately before coating.
<感光液(1)>
・表10記載のバインダーポリマー又は下記バインダーポリマー(Z−5)
若しくは下記比較用バインダーポリマー(Z−6) 0.162g
・下記赤外線吸収染料(1) 0.030g
・下記重合開始剤(3) 0.162g
・重合性化合物(アロニックスM215、東亞合成(株)製) 0.285g
・パイオニンA−20(竹本油脂(株)製) 0.055g
・下記感脂化剤(1) 0.044g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution (1)>
-The binder polymer described in Table 10 or the following binder polymer (Z-5)
Alternatively, the following comparative binder polymer (Z-6) 0.162 g
・ The following infrared absorbing dye (1) 0.030 g
-The following polymerization initiator (3) 0.162g
・ Polymerizable compound (Aronix M215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.285 g
・ Pionine A-20 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.055g
・ The following oil sensitizer (1) 0.044 g
・ 0.008 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ 2-butanone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g
<疎水化前駆体液(1)>
・下記疎水化前駆体水分散液(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Hydrophobic precursor liquid (1)>
-Hydrophobic precursor aqueous dispersion (1) below 2.640 g
・ Distilled water 2.425g
(疎水化前駆体水分散液(1)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウムを1.5g添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでグリシジルメタクリレート45.0gとスチレン45.0gとの混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加してポリマー微粒子からなる疎水化前駆体水分散液(1)を得た。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。
(Production of hydrophobized precursor aqueous dispersion (1))
A stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser is applied to a 1000 ml four-necked flask, and 350 mL of distilled water is added while deoxygenating by introducing nitrogen gas, and the internal temperature becomes 80 ° C. Until heated. 1.5 g of sodium dodecyl sulfate was added as a dispersant, 0.45 g of ammonium persulfide was added as an initiator, and then a mixture of 45.0 g of glycidyl methacrylate and 45.0 g of styrene was added from the dropping funnel over about 1 hour. It was dripped. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued as it was for 5 hours, and then the unreacted monomer was removed by steam distillation. Thereafter, the mixture was cooled and adjusted to pH 6 with ammonia water, and finally purified water was added so that the nonvolatile content was 15% by mass to obtain a hydrophobized precursor aqueous dispersion (1) composed of polymer fine particles. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 60 nm.
粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。 The particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring the total particle size of 5000 particles on the photograph, and dividing the obtained particle size measurement value from the maximum value to 0 on a logarithmic scale by 50. Then, the appearance frequency of each particle size was plotted and determined. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.
〔画像記録層3の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液3をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層3を作製した。
[Formation of Image Recording Layer 3]
The image recording layer coating solution 3 having the following composition was coated with a bar and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds to prepare an image recording layer 3 having a dry coating amount of 0.6 g / m 2 .
<画像記録層塗布液3>
・ポリマー微粒子水分散液[下記(1)〜(5)] 20.0g
・赤外線吸収染料(2)[下記構造] 0.2g
・重合開始剤 Irgacure250(チバスペシャリティケミカルズ製) 0.5g
・重合性化合物 SR-399(サートマー社製) 1.50g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・Byk336(Byk Chimie社製) 0.4g
・KlucelM(Hercules社製) 4.8g
・ELVACITE4026(Ineos Acrylica社製) 2.5g
・n−プロパノール 55.0g
・2−ブタノン 17.0g
<Image recording layer coating solution 3>
-Polymer fine particle water dispersion [following (1)-(5)] 20.0g
・ Infrared absorbing dye (2) [The following structure] 0.2g
・ Polymerization initiator Irgacure250 (Ciba Specialty Chemicals) 0.5g
-Polymerizable compound SR-399 (Sartomer) 1.50 g
・ Mercapto-3-triazole 0.2g
・ Byk336 (Byk Chimie) 0.4g
・ KlucelM (Hercules) 4.8g
・ ELVACITE4026 (Ineos Acrylica) 2.5g
・ N-propanol 55.0g
・ 2-butanone 17.0g
なお、上記組成中の商品名で記載の化合物は下記の通りである。
・Irgacure250:(4−メトキシフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート(75質量%プロピレンカーボナート溶液)
・SR-399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・Byk336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体(25質量%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液)
・KlucelM:ヒドロキシプロピルセルロース(2質量%水溶液)
・ELVACITE 4026:高分岐ポリメチルメタクリレート(10質量%2−ブタノン溶液)
In addition, the compounds described by trade names in the above composition are as follows.
Irgacure 250: (4-methoxyphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium = hexafluorophosphate (75% by mass propylene carbonate solution)
SR-399: Dipentaerythritol pentaacrylate Byk336: Modified dimethylpolysiloxane copolymer (25% by mass xylene / methoxypropyl acetate solution)
・ KlucelM: Hydroxypropyl cellulose (2 mass% aqueous solution)
ELVACITE 4026: Hyperbranched polymethyl methacrylate (10% by mass 2-butanone solution)
(ポリマー微粒子水分散液(1)〜(4)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は50)10g、下記構造より選択されるベタイン化合物(1)〜(4)5g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)75g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、得られたポリマー微粒子の粒径分布は、(1)〜(4)いずれも粒子径150nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle aqueous dispersions (1) to (4))
A 1000 ml four-necked flask is equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas is introduced to perform deoxygenation, while polyethylene glycol methyl ether methacrylate (average of PEGMA ethylene glycol) The repeating unit was 50) 10 g, betaine compounds (1) to (4) 5 g selected from the following structure, 200 g of distilled water and 200 g of n-propanol were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, 10 g of premixed styrene (St), 75 g of acrylonitrile (AN) and 0.8 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile were added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization has progressed 98% or more at the stage of reaction for a total of 20 hours, and the particle size distribution of the obtained polymer fine particles (1) to (4) all have a maximum value at a particle size of 150 nm. It was.
(ポリマー微粒子水分散液(5)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は50)10g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)80g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、得られたポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle aqueous dispersion (5))
A 1000 ml four-necked flask is equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas is introduced to perform deoxygenation, while polyethylene glycol methyl ether methacrylate (average of PEGMA ethylene glycol) The repeating unit was 50) 10 g, distilled water 200 g and n-propanol 200 g were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, a premixed mixture of 10 g of styrene (St), 80 g of acrylonitrile (AN) and 0.8 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization proceeded at 98% or more at the stage of reaction for a total of 20 hours, and the particle size distribution of the obtained polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。 Here, the particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring a total of 5000 fine particle sizes on the photograph, and a logarithmic scale between 0 and the maximum value of the obtained particle size measurement values. And the frequency of appearance of each particle size was plotted and obtained. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.
〔保護層1の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液1を乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層を形成した。
[Formation of Protective Layer 1]
A protective layer coating solution 1 having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer.
<保護層塗布液1>
・ポリビニルアルコールPVA105
((株)クラレ製、ケンカ度98.5モル%、重合度500) 40g
・ポリビニルピロリドンK30(分子量:5万)
(東京化成工業(株)製、分子量Mw=4万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル〕LUVITEC VA64W
(ISP社製、共重合比=6/4) 0.5g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.5g
・水 950g
<Protective layer coating solution 1>
・ Polyvinyl alcohol PVA105
(Kuraray Co., Ltd., fighting degree 98.5 mol%, polymerization degree 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone K30 (molecular weight: 50,000)
(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight Mw = 40,000) 5g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate] LUVITEC VA64W
(Manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4) 0.5 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
・ 950g of water
〔保護層2の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液2を乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層を形成した。
[Formation of Protective Layer 2]
A protective layer coating solution 2 having the following composition was applied using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer.
<保護層塗布液2>
・下記の無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・スルホン酸変性ポリビニルアルコールの6質量%水溶液 0.55g
(日本合成化学工業(株)製CKS50、けん化度99モル%以上、重合度300)
・ポリビニルアルコール6質量%水溶液 0.03g
((株)クラレ製PVA−405、けん化度81.5モル%、重合度500)
・界面活性剤の1質量%水溶液
(日本エマルジョン(株)製エマレックス710) 8.60g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution 2>
-1.5 g of the following inorganic layered compound dispersion (1)
・ 0.55 g of 6% by weight aqueous solution of sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol
(Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. CKS50, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300)
・ Polyvinyl alcohol 6 mass% aqueous solution 0.03g
(Kuraray Co., Ltd. PVA-405, saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500)
-1% by weight aqueous solution of surfactant (Emulex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 8.60 g
・ Ion-exchanged water 6.0g
(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、混合物をホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散し、無機質層状化合物分散液(1)を調製した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the mixture is dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 3 μm. An inorganic layered compound dispersion (1) was prepared. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.
[実施例1〜40及び比較例1〜9] 平版印刷版原版の評価(その1) [Examples 1 to 40 and Comparative Examples 1 to 9] Evaluation of planographic printing plate precursor (Part 1)
〔露光、現像及び印刷〕
平版印刷版原版(A−1)〜(A−34)及び(B−1)〜(B−3)を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd.(FFEI社)製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー(発光波長405nm±10nm/出力30mW)を搭載)により画像露光した。画像露光は、解像度2、438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、網点面積率が50%となるように、版面露光量0.05mJ/cm2で行った。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを行った後、下記の各現像液を用い、図1に示すような構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。自動現像処理機は、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを1本有し、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。現像液の温度は30℃であった。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。現像処理後、乾燥部にて乾燥を行った。乾燥温度は80℃であった。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
[Exposure, development and printing]
The lithographic printing plate precursors (A-1) to (A-34) and (B-1) to (B-3) were obtained from FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was performed with a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (InGaN-based semiconductor laser (with an emission wavelength of 405 nm ± 10 nm / output 30 mW) mounted) manufactured by (FFEI). Image exposure was performed at a resolution of 2,438 dpi, using an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., with a plate surface exposure of 0.05 mJ / cm 2 so that the dot area ratio was 50%.
Next, after preheating at 100 ° C. for 30 seconds, development processing was carried out using an automatic developing processor having a structure as shown in FIG. The automatic processor has one brush roll with an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted, and rotates 200 times per minute in the same direction as the conveying direction ( The peripheral speed of the brush tip was 0.52 m / sec). The temperature of the developer was 30 ° C. The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min. After the development processing, drying was performed in a drying section. The drying temperature was 80 ° C. However, when the developer 2 was used, it was washed with water before the post-development drying step.
以下に、現像液1〜4の組成を示す。下記組成においてニューコールB13(日本乳化剤(株)製)は、ポリオキシエチレン β−ナフチルエーテル(オキシエチレン平均数n=13)であり、アラビアガムは、Mwが20万のものである。 Below, the composition of developer 1-4 is shown. In the following composition, New Coal B13 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) is polyoxyethylene β-naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13), and gum arabic has Mw of 200,000.
<現像液1>
・ 炭酸ナトリウム 13.0g
・ 炭酸水素ナトリウム 7.0g
・ ニューコールB13 50.0g
・ リン酸第一アンモニウム 2.0g
・ 2−ブロモ−2−ニトロプロパンー1、3−ジオール 0.01g
・ 2−メチル−4−イソチアゾリンー3−オン 0.01g
・ クエン酸三ナトリウム 15.0g
・ 蒸留水 913.98g
<Developer 1>
・ 13.0 g of sodium carbonate
・ Sodium bicarbonate 7.0g
・ New call B13 50.0g
・ Ammonium phosphate 2.0g
2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.01 g
・ 2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01 g
・ Trisodium citrate 15.0g
・ 913.98 g of distilled water
この現像液のpHは9.9であった。 The pH of this developer was 9.9.
<現像液2>
・ 水酸化カリウム 0.15g
・ ニューコールB13 5.0g
・ キレスト400(キレート剤) 0.1g
・ 蒸留水 94.75g
<Developer 2>
・ Potassium hydroxide 0.15g
・ New Call B13 5.0g
・ Kirest 400 (chelating agent) 0.1g
・ 94.75g of distilled water
この現像液のpHは11.5であった。 The pH of this developer was 11.5.
<現像液3>
・ アラビアガム 25.0g
・ 酵素変性馬鈴薯澱粉 70.0g
・ ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 5.0g
・ 第一リン酸アンモニウム 1.0g
・ クエン酸 1.0g
・ 2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.01g
・ 2−メチル−4−イソチアゾリンー3−オン 0.01g
・ 下記両性界面活性剤(W−1) 2.5g
・ 下記アニオン性界面活性剤(AN−1) 2.5g
・ 蒸留水 824.98g
(リン酸及び水酸化ナトリウムを添加し、pHを4.5に調整)
<Developer 3>
・ Arabic gum 25.0g
・ Enzyme-modified potato starch 70.0g
・ Sodium salt of dioctylsulfosuccinate 5.0g
・ Primary ammonium phosphate 1.0g
・ Citric acid 1.0g
・ 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.01 g
・ 2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01 g
・ The following amphoteric surfactant (W-1) 2.5 g
・ 2.5 g of the following anionic surfactant (AN-1)
・ 824.98 g of distilled water
(Phosphoric acid and sodium hydroxide are added to adjust the pH to 4.5)
<現像液4>
・ 水 88.6g
・ 下記ノニオン系界面活性剤(W−2) 2.4g
・ 下記ノニオン系界面活性剤(W−3) 2.4g
・ ノニオン系界面活性剤 1.0g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・ フェノキシプロパノール 1.0g
・ オクタノール 0.6g
・ N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン 1.0g
・ トリエタノールアミン 0.5g
・ グルコン酸ナトリウム 1.0g
・ クエン酸3ナトリウム 0.5g
・ エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム 0.05g
・ ポリスチレンスルホン酸 1.0g
(Versa TL77(30%溶液)、Alco Chemical社製)
(リン酸を添加し、pHを7.0に調整)
<Developer 4>
・ Water 88.6g
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-2)
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-3)
・ Nonionic surfactant 1.0g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Phenoxypropanol 1.0g
・ Octanol 0.6g
-N- (2-hydroxyethyl) morpholine 1.0 g
・ Triethanolamine 0.5g
・ Sodium gluconate 1.0g
・ Trisodium citrate 0.5g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium 0.05g
・ 1.0 g of polystyrene sulfonic acid
(Versa TL77 (30% solution), manufactured by Alco Chemical)
(Add phosphoric acid and adjust pH to 7.0)
得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。 The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.
〔評価〕
各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、現像性を下記のように評価した。結果を表13に示す。
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for printing durability, stain resistance, and developability as follows. The results are shown in Table 13.
<耐刷性>
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
<Print durability>
As the number of printed sheets increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink acceptance decreased, so that the ink density in the printing paper decreased. In the printing plate exposed with the same exposure amount, the printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.
<耐汚れ性>
印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。目視評価で、10点満点で点数をつけた。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。
<Stain resistance>
The printed material on the 20th sheet was taken out after the start of printing, and the stain resistance was evaluated based on the ink density adhered to the non-image area. In visual evaluation, a score of 10 was assigned. The higher the score, the better the stain resistance.
<現像性>
種々の搬送速度にて現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性とした。現像性評価は、比較例1を基準(1.0)として、各々、以下のように定義した相対現像性で表した。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを表す。
相対現像性=(対象平版印刷版原版の搬送速度)/(基準平版印刷版原版の搬送速度)
<Developability>
Development processing was performed at various transport speeds, and the cyan density of the non-image area of the obtained lithographic printing plate was measured with a Macbeth densitometer. The transport speed at which the cyan density of the non-image area was equal to the cyan density of the aluminum support was determined and used as developability. The evaluation of developability was represented by the relative developability defined as follows, with Comparative Example 1 as the standard (1.0). The larger the value of the relative developability, the higher the developability and the better the performance.
Relative developability = (transport speed of target lithographic printing plate precursor) / (transport speed of reference lithographic printing plate precursor)
[実施例41〜95及び比較例10〜16] 平版印刷版原版の評価(その2) [Examples 41 to 95 and Comparative Examples 10 to 16] Evaluation of planographic printing plate precursor (Part 2)
〔露光、機上現像及び印刷〕
平版印刷版原版(A−35)〜(A−89)及び(B−4)〜(B−10)を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙を用いて印刷を行った。
[Exposure, on-press development and printing]
The lithographic printing plate precursors (A-35) to (A-89) and (B-4) to (B-10) were placed on an external drum using a Luxel PLANETSETTER T-6000III manufactured by Fuji Film Co., Ltd. equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure was performed under the conditions of a rotational speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a plate cylinder of a
〔評価〕
各平版印刷版原版について、機上現像性、耐汚れ性、耐刷性を下記のように評価した。結果を表14と表15に示す。
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for on-press developability, stain resistance, and printing durability as follows. The results are shown in Tables 14 and 15.
(1)機上現像性
上記のように印刷を開始し、画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。
(1) On-press developability Necessary to start printing as described above, complete on-press development on the printing press in the unexposed area of the image recording layer, and no ink is transferred to the non-image area. The number of printed sheets was measured as on-press developability.
(2)耐刷性
上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
(2) Printing durability After the above-described evaluation of on-press developability, the printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Printing durability was evaluated using the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer for the 50% halftone dot area ratio of the FM screen in the printed material was 5% lower than the measured value for the 100th printed sheet. .
(3)耐汚れ性
機上現像完了後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。目視評価で、10点満点で点数をつけた。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。
(3) Stain resistance After the on-press development was completed, the printed material on the 20th sheet was taken out, and the stain resistance was evaluated based on the ink concentration adhered to the non-image area. In visual evaluation, a score of 10 was assigned. The higher the score, the better the stain resistance.
表13〜15からわかるように、本発明によれば、良好な耐汚れ性を発揮しつつ、良好な現像性と耐刷性が両立した平版印刷版原版を提供可能である。本発明の作用機構は明確ではないが、以下のことが推測される。未露光部においては、高親水性のスルホベタイン構造を複数有する本発明の化合物によって湿し水の浸透性が向上し、良好な現像性を示すものと推定している。また、スルホベタイン構造を2つ有するモノマー構造とすることで耐刷性が予想外に向上したが、これは露光部においては、スルホベタイン構造を有するモノマー単位が熱分解して疎水化することにより湿し水の浸透性を低下させ、更に熱分解物がラジカル性化学種を含むことでラジカル重合を促進し、画像の硬化性がより増大するためではないかと推定している。 As can be seen from Tables 13 to 15, according to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor exhibiting good stain resistance and having both good developability and printing durability. Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the following is presumed. In the unexposed area, it is presumed that the compound of the present invention having a plurality of highly hydrophilic sulfobetaine structures improves the permeability of the fountain solution and exhibits good developability. In addition, the printing durability was unexpectedly improved by adopting a monomer structure having two sulfobetaine structures, but this is because the monomer unit having the sulfobetaine structure is thermally decomposed and hydrophobized in the exposed area. It is presumed that the permeability of the fountain solution is lowered and the thermal decomposition product contains radical chemical species to promote radical polymerization, thereby further increasing the curability of the image.
4 平版印刷版原版(PS版)
6 現像部
10 乾燥部
16 搬入ローラ
20 現像槽
22 搬送ローラ
24 ブラシローラ
26 スクイズローラ(搬出ローラ)
28 バックアップローラ
36 ガイドローラ
38 串ローラ
4 Planographic printing plate precursor (PS version)
6 Developing Unit 10
28 Backup roller 36
Claims (12)
(一般式(1)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。Vは各々独立にSO3 − 又はCOO−のいずれかを表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。) The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (1).
(In General Formula (1), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C10 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group, and each V independently represents either SO 3 — or COO — .
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
(一般式(2)中、R1〜R4は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR1、R2、R3、R4の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。W1、Y1、Y2は各々独立に置換基を有してもよい2価の連結基を表す。
ただし、R1〜R4、W1、Y1、Y2のうち少なくとも1つは、連結基を介してポリマー主鎖に結合する基である。) The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (2).
(In General Formula (2), R < 1 > -R < 4 > represents the C1-C6 alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, or aryl group which may have a substituent each independently. Alternatively, any two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, and W 1 , Y 1 and Y 2 may each independently have a substituent. Represents a divalent linking group.
However, at least one of R 1 to R 4 , W 1 , Y 1 and Y 2 is a group bonded to the polymer main chain via a linking group. )
(一般式(3)中、R10〜R13は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR10〜R13の任意の2つが互いに結合して複素環を形成してもよい。R9は水素原子又はメチル基を表し、Z1は−CO−、−O−、−CH2O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。W3は炭素原子数10以下の3価の連結基を表し、Y5、Y6は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。)(式(4)中、R15〜R17は各々独立に置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。あるいはR15〜R17の任意の2つが互いに結合して複素環を形成しても良い。R14は水素原子又はメチル基を表し、Z2は−CO−、−O−、−CH2O−、又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。X1、X2は各々独立に炭素原子数10以下の2価の連結基を表し、Y7、Y8は各々独立に置換基を有しても良い炭素原子数1〜6のアルキレン基を表す。) The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 4, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least one of monomer units represented by the following general formulas (3) and (4).
(In General Formula (3), R 10 to R 13 each independently represents an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or aryl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Alternatively, any two of R 10 to R 13 may be bonded to each other to form a heterocyclic ring, R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z 1 represents —CO—, —O—, —CH 2 O. -Represents a phenylene group that may have a substituent, W 3 represents a trivalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 5 and Y 6 may each independently have a substituent. Represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.) (In formula (4), R 15 to R 17 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, which may have a substituent, alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. Alternatively R 15 to R Any two of which may form a heterocyclic ring bonded to each other .R 14 of 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, Z 2 is -CO -, - O -, - CH 2 O-, or a substituent X 1 and X 2 each independently represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, and Y 7 and Y 8 may each independently have a substituent. Represents a good alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.)
(一般式(5)中、R19〜R22は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R18は水素原子又はメチル基を表し、L1、L2は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y9、Y10は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。) The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 6, wherein the ethylenic polymer is a polymer containing at least a monomer unit represented by the following general formula (5).
(In General Formula (5), R 19 to R 22 each independently represent a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent 5 or less carbon atoms. Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
(一般式(5)中、R19〜R22は各々独立にメチル基又はエチル基を表し、R18は水素原子又はメチル基を表し、L1、L2は各々独立に炭素原子数5以下の2価の連結基を表す。Y9、Y10は各々独立に炭素原子数2〜5のアルキレン基を表す。) A polymer comprising at least a monomer unit having a structure represented by the following general formula (5).
(In General Formula (5), R 19 to R 22 each independently represent a methyl group or an ethyl group, R 18 represents a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent 5 or less carbon atoms. Y 9 and Y 10 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011163682A JP5740234B2 (en) | 2010-07-30 | 2011-07-26 | Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010173186 | 2010-07-30 | ||
JP2010173186 | 2010-07-30 | ||
JP2011163682A JP5740234B2 (en) | 2010-07-30 | 2011-07-26 | Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012048224A JP2012048224A (en) | 2012-03-08 |
JP5740234B2 true JP5740234B2 (en) | 2015-06-24 |
Family
ID=45903099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011163682A Active JP5740234B2 (en) | 2010-07-30 | 2011-07-26 | Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5740234B2 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104053662A (en) | 2011-09-01 | 2014-09-17 | 弗特鲁斯专业公司 | Biocompatible material |
WO2016123806A1 (en) | 2015-02-06 | 2016-08-11 | 深圳大学 | Reactive anti-microbial, anti-contamination compound and preparation method therefor |
WO2016127352A1 (en) | 2015-02-12 | 2016-08-18 | 深圳大学 | Durably antibacterial antifouling textile and preparation method thereof |
JP2018140618A (en) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 富士フイルム株式会社 | Lithographic printing original plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and printing method |
WO2020066377A1 (en) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 富士フイルム株式会社 | Lithographic-printing-plate original and lithographic-printing-plate manufacturing method |
CN114375421A (en) * | 2019-08-28 | 2022-04-19 | 富士胶片株式会社 | Actinic-ray-or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, method for producing electronic device, compound, and resin |
WO2024127808A1 (en) * | 2022-12-13 | 2024-06-20 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition and method for forming resist pattern |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5593068B2 (en) * | 2006-08-24 | 2014-09-17 | アメリカン・ダイ・ソース・インコーポレーテッド | Reactive near-infrared absorbing polymer particles, method for their preparation and use thereof |
JP5448882B2 (en) * | 2010-01-27 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate precursor and plate making method |
JP5690671B2 (en) * | 2010-06-30 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | NOVEL POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND USED FOR THE SAME, IMAGE-FORMING MATERIAL USING NOVEL POLYMERIZABLE COMPOSITION, AND lithographic printing plate precursor |
-
2011
- 2011-07-26 JP JP2011163682A patent/JP5740234B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012048224A (en) | 2012-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5690671B2 (en) | NOVEL POLYMERIZABLE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND USED FOR THE SAME, IMAGE-FORMING MATERIAL USING NOVEL POLYMERIZABLE COMPOSITION, AND lithographic printing plate precursor | |
JP5690645B2 (en) | Planographic printing plate precursor, plate making method thereof, and novel polymer compound. | |
JP5205505B2 (en) | Planographic printing plate precursor and its planographic printing method | |
JP5715936B2 (en) | Planographic printing plate precursor and planographic printing method | |
JP5740234B2 (en) | Planographic printing plate precursor and novel betaine-containing polymer used therefor | |
JP5786099B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method | |
JP5624880B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method | |
JP5432960B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method | |
JP5579217B2 (en) | Planographic printing plate precursor | |
JP5448882B2 (en) | Planographic printing plate precursor and plate making method | |
JP5745371B2 (en) | Preparation of lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate | |
JP5572576B2 (en) | Planographic printing plate precursor and plate making method | |
JP5964935B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method | |
JP2012211938A (en) | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor | |
JP5602195B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method | |
JP5787811B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method | |
JP5514781B2 (en) | Planographic printing plate precursor and method for producing a lithographic printing plate using the same | |
JP5834082B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method | |
JP5656784B2 (en) | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor using the same, and lithographic printing method | |
JP2017132227A (en) | Original plate for negative lithographic printing plate, and method of making lithographic printing plate | |
WO2012117882A1 (en) | Lithographic printing master plate and method for manufacturing lithographic printing plate | |
JPWO2017018262A1 (en) | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing plate preparation method, and organic-inorganic hybrid particles | |
JP5299909B2 (en) | Planographic printing plate precursor and lithographic printing plate making method | |
JP2012071557A (en) | Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and organic clay composite | |
JP2017032804A (en) | Lithographic printing original plate, method for manufacturing lithographic printing plate, and polymer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20121005 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141008 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141028 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141224 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150427 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5740234 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |