JP2012071557A - Lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and organic clay composite - Google Patents

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    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing pate precursor that can efficiently form images using laser exposure without having coagulation precipitation in a protective layer coating liquid although a protective layer includes an inorganic layer compound, and is excellent in plate wear, receptivity and on-press development, and to provide a lithographic printing method using the lithographic printing plate precursor.SOLUTION: The lithographic printing plate precursor includes, on a support: an image recording layer including a polymeric initiator and a radically polymerizable compound; and the protective layer including the inorganic laminar compound. Also the lithographic printing plate precursor includes a specific functional group having ammonium or phosphonium, and a polymer having specific (meth)acrylamide unit in at least the image recording layer or the protective layer.

Description

本発明は、平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法に関する。詳しくは、レーザーによる画像露光により直接製版可能な平版印刷版原版、及び、前記平版印刷版原版を機上現像する製版方法(印刷方法)に関する。また、同平版印刷版原版を作製するために必要な有機粘土複合体に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method using the same. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be directly made by laser image exposure and a plate making method (printing method) for developing the lithographic printing plate precursor on-press. The present invention also relates to an organoclay complex necessary for producing the lithographic printing plate precursor.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来は、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)を用い、PS版にリスフィルムなどのマスクを通した露光を行った後、アルカリ性現像液などによる現像処理を行い、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層を溶解除去して、平版印刷版を得ていた。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support is used. After exposure through a mask such as a film, development with an alkaline developer is performed to leave the image recording layer corresponding to the image area, and dissolve and remove the unnecessary image recording layer corresponding to the non-image area. And obtained a lithographic printing plate.

この分野の最近の進歩によって、現在、平版印刷版は、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術によって得られるようになっている。すなわち、レーザーやレーザーダイオードを用いて、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版原版を走査露光し、現像して平版印刷版が得られる。   Due to recent advances in this field, lithographic printing plates are now available with CTP (computer to plate) technology. That is, a lithographic printing plate can be obtained by scanning and exposing a lithographic printing plate precursor directly using a laser or a laser diode without a lith film, and developing it.

上記進歩に伴って、平版印刷版原版に関わる課題は、CTP技術に対応した画像形成特性、印刷特性、物理特性などの改良へと変化してきている。また、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版に関わるもう一つの課題として、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。   Along with the above progress, problems related to the lithographic printing plate precursor have been changed to improvements in image formation characteristics, printing characteristics, physical characteristics and the like corresponding to the CTP technology. In addition, due to increasing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet processing such as development processing have been highlighted as another issue related to lithographic printing plate precursors.

上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な製版方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
また、簡易現像の方法としては、画像記録層の不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液ではなく、pHが中性に近いフィニッシャー又はガム液によって行う「ガム現像」と呼ばれる方法も行われている。
For the above environmental problems, simplification and no processing of development or plate making are directed. As one simple plate making method, a method called “on-press development” is performed. That is, after the exposure of the lithographic printing plate precursor, conventional development is not performed, but it is mounted on a printing machine as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of a normal printing process.
In addition, as a simple development method, a method called “gum development” in which unnecessary portions of the image recording layer are removed with a finisher or gum solution having a pH close to neutral instead of a conventional highly alkaline developer is also performed. ing.

上述のような製版作業の簡易化においては、作業のしやすさの点から明室又は黄色灯下で取り扱い可能な平版印刷版原版及び光源を用いるシステムが好ましいので、光源としては、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー及びYAGレーザー等の固体レーザーが用いられる。また、UVレーザーを用いることができる。   In the simplification of the plate making operation as described above, a system using a lithographic printing plate precursor and a light source that can be handled in a bright room or under a yellow light is preferable in terms of ease of work. A solid-state laser such as a semiconductor laser or a YAG laser emitting an infrared ray of 1200 nm is used. Further, a UV laser can be used.

機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば特許文献1及び2には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版が記載されている。また、特許文献3には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている。更に、特許文献4には、支持体上に、重合性化合物と、ポリエチレンオキシド鎖を側鎖に有するグラフトポリマー又はポリエチレンオキシドブロックを有するブロックポリマーを含有する画像記録層を設けた機上現像可能な平版印刷版原版が記載されている。   As a lithographic printing plate precursor capable of on-machine development, for example, in Patent Documents 1 and 2, a lithographic printing plate having an image recording layer (thermosensitive layer) containing a microcapsule containing a polymerizable compound on a hydrophilic support. The original edition is listed. Patent Document 3 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support. Further, in Patent Document 4, on-press development is possible in which an image recording layer containing a polymerizable compound and a graft polymer having a polyethylene oxide chain in the side chain or a block polymer having a polyethylene oxide block is provided on a support. A planographic printing plate precursor is described.

特許文献5には、機上現像可能な平版印刷版の機上現像性、細線再現性、耐刷性及び機上現像ランニング性を向上させるために、オーバーコート層に、特定の無機質の層状化合物を含有させることが記載されている。これらの平版印刷版は、印刷時のインキ付着性(着肉性)が十分に満足できるものではなかった。   In Patent Document 5, in order to improve on-press developability, fine line reproducibility, printing durability and on-press development running property of an on-press developable lithographic printing plate, a specific inorganic layered compound is included in the overcoat layer. It is described to contain. These lithographic printing plates were not sufficiently satisfactory in ink adhesion (thickness) during printing.

特許文献6には、有機カチオンにより変性された無機層状化合物を含有する保護層を有する平版印刷版原版が記載されている。これらの平版印刷版原版は、印刷時に十分な着肉性を示すものの、平版印刷版原版を作製するときに、保護層を形成するための塗布液中において時間の経過と共に無機層状化合物が凝集沈降することがあった。   Patent Document 6 describes a lithographic printing plate precursor having a protective layer containing an inorganic layered compound modified with an organic cation. Although these lithographic printing plate precursors exhibit sufficient thickness at the time of printing, when preparing the lithographic printing plate precursor, the inorganic layered compound aggregates and settles over time in the coating solution for forming the protective layer. There was something to do.

特許文献7には、層状化合物を保護層に含有し、かつ、繰り返し単位としてアンモニウム構造を有する構造単位を含むポリマーを、画像記録層及び保護層の少なくとも一方に含有する平版印刷版原版が記載されている。これらの平版印刷版原版は、印刷時に十分なインキ付着性を示すものの、平版印刷版原版を作製時に保護層に繰り返し単位としてアンモニウム構造を有する構造単位を含むポリマーを添加する実施例が記載されていない。   Patent Document 7 describes a lithographic printing plate precursor containing a layered compound in a protective layer and containing a polymer containing a structural unit having an ammonium structure as a repeating unit in at least one of the image recording layer and the protective layer. ing. Although these lithographic printing plate precursors exhibit sufficient ink adhesion at the time of printing, examples in which a polymer containing a structural unit having an ammonium structure as a repeating unit is added to the protective layer when a lithographic printing plate precursor is prepared are described. Absent.

特許文献8には、膨潤性層状ケイ酸塩の層間に、第四級アンモニウムイオンが導入された有機粘土複合体が記載されている。   Patent Document 8 describes an organoclay complex in which quaternary ammonium ions are introduced between layers of a swellable layered silicate.

特開2001−277740号公報JP 2001-277740 A 特開2001−277742号公報JP 2001-277742 A 特開2002−287334号公報JP 2002-287334 A 米国特許出願公開第2003/0064318号明細書US Patent Application Publication No. 2003/0064318 特開2005−119273号公報JP 2005-119273 A 特開2006−297907号公報JP 2006-297907 A 特開2009−208458号公報JP 2009-208458 A 特開平6−287014号公報JP-A-6-287014

本発明の目的は、保護層塗布液中での無機層状化合物の凝集沈降が無く、保護層に層状化合物を含有し、レーザー露光により効率よく画像を形成することができ、しかも耐刷性と、着肉性及び機上現像性に優れる平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供することにある。また、本発明のもう一つの目的は、同平版印刷版原版に用いられる有機粘土複合体を提供することにある。   The object of the present invention is that there is no aggregation and precipitation of the inorganic layered compound in the protective layer coating solution, the layered compound is contained in the protective layer, an image can be formed efficiently by laser exposure, and the printing durability is improved. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having excellent inking properties and on-press developability, and a lithographic printing method using the same. Another object of the present invention is to provide an organoclay composite used in the lithographic printing plate precursor.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、特定のカチオン基と特定の構造単位を有する特定化合物を用いることによって、平版印刷版原版を作製するための保護層塗布液中での保存安定性と、耐刷性と、着肉性及び機上現像性のいずれも優れた平版印刷版原版が得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventors have used a specific compound having a specific cationic group and a specific structural unit, thereby producing a lithographic printing plate precursor in a protective layer coating solution. The present inventors have found that a lithographic printing plate precursor excellent in all of the storage stability, printing durability, inking property and on-press development property can be obtained.
That is, the present invention is as follows.

1.支持体上に、重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有する画像記録層、並びに無機層状化合物を含有する保護層を有する平版印刷版原版であって、下記一般式(1)で示される官能基と下記一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを画像記録層及び保護層の少なくともいずれかに含有することを特徴とする平版印刷版原版。 1. A lithographic printing plate precursor having, on a support, an image recording layer containing a polymerization initiator and a radical polymerizable compound, and a protective layer containing an inorganic layered compound, the functional group represented by the following general formula (1) And a polymer having a structural unit represented by the following general formula (2) in at least one of the image recording layer and the protective layer.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

式中、R〜Rは各々独立に炭素原子数1〜7のアルキル基又はアリール基を表し、R〜Rの任意の2つで環を形成してもよく、XはN又はPを表し、Lは2価の連結基を表し、Yはカウンターアニオンを表し、Rは水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表すか、RとRは連結して−CHCHCH−、−CHCHCHCH−、−CHCHCHCHCH−若しくは−CHCHOCHCH−を表す。 In the formula, R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 7 carbon atoms, and any two of R 1 to R 3 may form a ring, and X is N or P represents L 1 represents a divalent linking group, Y represents a counter anion, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 5 to R 6 each independently Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R 5 and R 6 are connected to each other to represent —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2. CH 2 CH 2 CH 2 — or —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 — is represented.

2.一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを画像記録層に含有することを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。
3.一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを保護層に含有することを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。
4.無機層状化合物に存在する陽イオンを、一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーで置換し、有機粘土複合体を形成した後、保護層塗布液に添加し、画像記録層上に塗布することにより保護層を形成してなることを特徴とする前記3記載の平版印刷版原版。
5.一般式(1)で示される官能基が、ポリマーの主鎖末端に存在することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
6.一般式(1)において、RとRが各々独立にメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基及びフェニル基から選択され、Rがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基及びフェニル基から選択されることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
7.一般式(2)において、Rが水素原子及びメチル基から選択され、RとRが、各々独立に水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基及びtert−ブチル基から選択されるか、又はRとRが連結して形成する−CHCHOCHCH−であるかのいずれかであることを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
8.無機層状化合物が、スメクタイト及び雲母から選択される少なくともいずれかであることを特徴とする前記1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
9.保護層が更に一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマー以外の水溶性ポリマーを含有することを特徴とする前記1又は3に記載の平版印刷版原版。
10.画像記録層が更に一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマー以外のポリマーを含有することを特徴とする前記1又は2に記載の平版印刷版原版。
11.画像記録層が更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。
12.前記1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版をレーザーにより画像様に露光した後、印刷機に装着してインキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより現像し、印刷することを特徴とする平版印刷方法。
2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the image recording layer contains a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2).
3. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the protective layer contains a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2).
4). After replacing the cation present in the inorganic layered compound with a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2) to form an organoclay complex, coating with a protective layer 4. The lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein a protective layer is formed by adding to a liquid and coating on the image recording layer.
5. 5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the functional group represented by the general formula (1) is present at the end of the main chain of the polymer.
6). In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a phenyl group, and R 3 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a benzyl group The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5 above, which is selected from a group and a phenyl group.
7). In the general formula (2), R 4 is selected from a hydrogen atom and a methyl group, and R 5 and R 6 are each independently selected from a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. Or the lithographic printing according to any one of 1 to 6 above, wherein R 5 and R 6 are connected to form —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —. Version original edition.
8). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7 above, wherein the inorganic layered compound is at least one selected from smectite and mica.
9. The lithographic printing according to 1 or 3 above, wherein the protective layer further contains a water-soluble polymer other than the polymer having the functional group represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2). Version original edition.
10. 3. The lithographic printing plate as described in 1 or 2 above, wherein the image recording layer further contains a polymer other than the polymer having the functional group represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2). Original edition.
11. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the image recording layer further contains an infrared absorber.
12 The lithographic printing plate precursor according to any one of 1 to 11 above is imagewise exposed with a laser, and then mounted on a printing machine and developed by supplying at least one of ink and fountain solution, and printing A lithographic printing method comprising:

13.無機層状化合物に存在する陽イオンを、一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーで置換して得られる有機粘土複合体。
14.一般式(1)で示される官能基が、ポリマーの主鎖末端に存在することを特徴とする前記13に記載の有機粘土複合体。
15.一般式(1)において、RとRが各々独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基及びフェニル基から選択され、Rがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基及びフェニル基から選択されることを特徴とする前記13又は14に記載の有機粘土複合体。
16.一般式(2)において、Rが水素原子及びメチル基から選択され、RとRが、各々独立して水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、及びtert−ブチル基から選択される基であるか、又はRとRが連結して形成する−CHCHOCHCH−であるかのいずれかであることを特徴とする前記13〜15のいずれか1項に記載の有機粘土複合体。
17.無機層状化合物が、スメクタイト及び雲母から選択される少なくともいずれかであることを特徴とする前記13〜16のいずれか1項に記載の有機粘土複合体。
13. An organoclay composite obtained by replacing a cation present in an inorganic layered compound with a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2).
14 14. The organoclay composite as described in 13 above, wherein the functional group represented by the general formula (1) is present at the end of the main chain of the polymer.
15. In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a phenyl group, and R 3 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, 15. The organoclay complex as described in 13 or 14 above, which is selected from a benzyl group and a phenyl group.
16. In the general formula (2), R 4 is selected from a hydrogen atom and a methyl group, and R 5 and R 6 are each independently selected from a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. Any one of the above 13 to 15, wherein R 5 and R 6 are linked together to form —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 —. The organoclay complex described in 1.
17. 17. The organoclay composite according to any one of 13 to 16, wherein the inorganic layered compound is at least one selected from smectite and mica.

本発明によれば、平版印刷版原版を作製するための保護層塗布液中での無機層状化合物の凝集沈降が無く、レーザー露光により効率よく画像を形成することができ、しかも耐刷性を優れたレベルに維持しつつ、着肉性及び機上現像性に優れる平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供できる。   According to the present invention, there is no aggregation and sedimentation of the inorganic layered compound in the protective layer coating solution for preparing a lithographic printing plate precursor, an image can be formed efficiently by laser exposure, and excellent in printing durability. A lithographic printing plate precursor having excellent inking properties and on-press developability, and a lithographic printing method using the same.

自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に重合開始剤とラジカル重合性化合物を含有する画像記録層と無機層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、特定のカチオン基と特定の構造単位を有するポリマー(以下特定化合物と略する)を画像記録層及び/又は保護層に含有することを特徴とする。以下、本発明を詳細に説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor of the present invention is a lithographic printing plate precursor having an image recording layer containing a polymerization initiator and a radically polymerizable compound on a support and a protective layer containing an inorganic layered compound in this order, A polymer having a cationic group and a specific structural unit (hereinafter abbreviated as a specific compound) is contained in the image recording layer and / or the protective layer. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<特定化合物>
本発明に用いられる特定化合物とは、下記一般式(1)で示される官能基と下記一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーであり、質量平均モル質量(Mw)が500以上50000以下のポリマーが好ましい。
<Specific compounds>
The specific compound used in the present invention is a polymer having a functional group represented by the following general formula (1) and a structural unit represented by the following general formula (2), and has a mass average molar mass (Mw) of 500 or more and 50000. The following polymers are preferred.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

式中、R〜Rは各々独立に炭素原子数1〜7のアルキル基又はアリール基を表し、任意の2つで環を形成してもよく、XはN又はPを表し、Lは2価の連結基を表し、Yはカウンターアニオンを表し、Rは水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表すか、RとRは連結して−CHCHCH−、−CHCHCHCH−、−CHCHCHCHCH−若しくは−CHCHOCHCH−を表す。 In the formula, R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 7 carbon atoms, and any two may form a ring, X represents N or P, and L 1 Represents a divalent linking group, Y represents a counter anion, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 5 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a carbon atom number. Represents an alkyl group of 1 to 4, or R 5 and R 6 are connected to each other to represent —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2. - or -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 - represents a.

〜Rで表される炭素原子数1〜7のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、ベンジル基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、ベンジル基、フェニル基が好ましい。また、R、R、Rの組み合わせとしては、以下に示す組み合わせがより好ましい。
(R、R、R)=(メチル基、メチル基、メチル基)、(メチル基、メチル基、エチル基)、(メチル基、メチル基、プロピル基)、(メチル基、メチル基、ブチル基)、(エチル基、エチル基、エチル基)、(ブチル基、ブチル基、ブチル基)、(フェニル基、フェニル基、フェニル基)。
Specific examples of the alkyl group having 1 to 7 carbon atoms represented by R 1 to R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl. Group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, benzyl group and the like. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a tolyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isobutyl group, a benzyl group, and a phenyl group are preferable. As the combination of R 1, R 2, R 3 , and more preferably combinations shown below.
(R 1 , R 2 , R 3 ) = (methyl group, methyl group, methyl group), (methyl group, methyl group, ethyl group), (methyl group, methyl group, propyl group), (methyl group, methyl group) , Butyl group), (ethyl group, ethyl group, ethyl group), (butyl group, butyl group, butyl group), (phenyl group, phenyl group, phenyl group).

XはN又はPのいずれでもよいが、原料の入手性からNが特に好ましい。
で表される2価の連結基としては、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子から構成されるものであることが好ましい。
より具体的には、下記の2価の基、又は、これらが適宜組み合わされて構成される基を挙げることができる。
X may be either N or P, but N is particularly preferred from the availability of raw materials.
The divalent linking group represented by L 1 includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 carbon atoms. It is preferably composed of hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms.
More specifically, the following divalent groups or groups formed by appropriately combining these groups can be exemplified.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

で表されるカウンターアニオンとしては、ClやBrやI等のハロゲン化物アニオン、硝酸アニオン、硫酸アニオン、硫酸水素アニオン、硫酸モノメチルや硫酸モノエチル等の硫酸モノエステルアニオン、リン酸アニオン、リン酸水素アニオン、リン酸二水素アニオン、リン酸モノメチル等のリン酸モノエステルアニオン、リン酸ジメチル等のリン酸ジエステルアニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、テトラフルオロホウ酸アニオン、p−トルエンスルホン酸やメタンスルホン酸やトリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸アニオン、酢酸や安息香酸やトリフルオロ酢酸等のカルボン酸アニオン等が挙げられる。中でもハロゲン化物アニオン、硫酸モノエステルアニオン、スルホン酸アニオンが特に好ましい。 Counter anions represented by Y include halide anions such as Cl , Br and I , nitrate anions, sulfate anions, hydrogen sulfate anions, monoester sulfate anions such as monomethyl sulfate and monoethyl sulfate, phosphate anions , Hydrogen phosphate anion, phosphate dihydrogen anion, phosphate monoester anion such as monomethyl phosphate, phosphate diester anion such as dimethyl phosphate, hexafluorophosphate anion, tetrafluoroborate anion, p-toluenesulfonic acid And sulfonic acid anions such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, and carboxylic acid anions such as acetic acid, benzoic acid, and trifluoroacetic acid. Of these, halide anions, sulfuric monoester anions, and sulfonate anions are particularly preferred.

一般式(1)で表される官能基は、ポリマー中の主鎖末端、又は側鎖に存在するが、主鎖末端に存在することが特に好ましい。
一般式(1)で表される官能基は、ポリマー中に、0.01mmol/g以上10mmol/g以下で存在することが好ましく、0.02mmol/g以上5mmol/g以下で存在することが特に好ましい。この範囲において良好な塗布液安定性と着肉性が得られる。
The functional group represented by the general formula (1) is present at the end of the main chain or the side chain in the polymer, but is particularly preferably present at the end of the main chain.
The functional group represented by the general formula (1) is preferably present in the polymer at 0.01 mmol / g or more and 10 mmol / g or less, particularly preferably 0.02 mmol / g or more and 5 mmol / g or less. preferable. Within this range, good coating solution stability and wearability can be obtained.

〜Rで表される炭素原子数1〜4のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基が挙げられる。Rとしては、水素原子、メチル基が好ましい。R、Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、及びRとRが連結した−CHCHOCHCH−が好ましい。R、Rの組み合わせとしては、以下に示す組み合わせが好ましい。
(R、R)=(水素原子、水素原子)、(水素原子、メチル基)、(水素原子、エチル基)、(水素原子、イソプロピル基)、(水素原子、プロピル基)、(メチル基、メチル基)、(エチル基、エチル基)、(RとRが連結した−CHCHOCHCH−)
Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 4 to R 6 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and isobutyl. Groups. R 4 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, or —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 — in which R 5 and R 6 are linked. As combinations of R 5 and R 6, the combinations shown below are preferable.
(R 5 , R 6 ) = (hydrogen atom, hydrogen atom), (hydrogen atom, methyl group), (hydrogen atom, ethyl group), (hydrogen atom, isopropyl group), (hydrogen atom, propyl group), (methyl Group, methyl group), (ethyl group, ethyl group), (—CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 — in which R 5 and R 6 are linked)

一般式(2)で表される構造単位は、特定化合物を形成する構造単位を100モル%とした場合、30モル%以上100モル%以下であることが好ましく、40モル%以上100モル%以下であることがより好ましく、50モル%以上100モル%以下であることが特に好ましい。この範囲において良好な塗布液安定性と着肉性が得られる。
一般式(2)で表される構造単位は、特定化合物中に、2種類以上含有していてもよい。
The structural unit represented by the general formula (2) is preferably 30 mol% or more and 100 mol% or less, and 40 mol% or more and 100 mol% or less, assuming that the structural unit forming the specific compound is 100 mol%. More preferably, it is 50 mol% or more and 100 mol% or less. Within this range, good coating solution stability and wearability can be obtained.
Two or more kinds of structural units represented by the general formula (2) may be contained in the specific compound.

本発明に用いられる特定化合物は、一般式(2)で表される構造単位の他に、以下の一般式(3)で示される構造単位を有していてもよい。   The specific compound used in the present invention may have a structural unit represented by the following general formula (3) in addition to the structural unit represented by the general formula (2).

Figure 2012071557
Figure 2012071557

式中、Rは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、Lは2価の連結基を表し、Rは炭素原子数1〜18のアルキル基又はアリール基を表す。
で示される炭素原子数1〜4のアルキル基の具体例としては、前記Rで示したアルキル基が挙げられる。Rとしては、水素原子、メチル基が好ましい。
で示される2価の連結基の具体例としては、単結合及び前記Lで示した連結基が挙げられる。Lとしては、以下に示される連結基か単結合が好ましい。
In the formula, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, L 2 represents a divalent linking group, and R 8 represents an alkyl group or aryl group having 1 to 18 carbon atoms.
Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 7 include the alkyl group represented by R 4 . R 7 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Specific examples of the divalent linking group represented by L 2 include a single bond and the linking group represented by L 1 . L 2 is preferably a linking group or a single bond shown below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

式中、*は一般式(3)で示される構造単位のCとRに対する連結位置を表し、Rは水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基又はアリール基を表す。 In the formula, * represents a linking position for C and R 8 in the structural unit represented by the general formula (3), and R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group.

、Rで示される炭素原子数1〜18のアルキル基、アリール基の具体例としては、Rで示したアルキル基とオクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、フェニル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、イソボルニル基、アダマンチル基、ナフチル基、2−エチルヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エチル基、4−tert−ブチルフェニル基等が挙げられる。これらの中でも、Rとしてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、イソボルニル基、ドデシル基、オクタデシル基が好ましく、Rとしては水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基が好ましい。 Specific examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and aryl group represented by R 8 and R 9 include alkyl group and octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, phenyl represented by R 1. Group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, isobornyl group, adamantyl group, naphthyl group, 2-ethylhexyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl group, 4-tert-butyl A phenyl group etc. are mentioned. Among these, as R 8 , methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 2-ethylhexyl group, pentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenyl group , Isobornyl group, dodecyl group and octadecyl group are preferable, and R 9 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group or an isobutyl group.

一般式(3)で表される構造単位は、特定化合物を形成する構造単位を100モル%とした場合、0モル%以上70モル%以下であることが好ましく、0モル%以上60モル%以下であることがより好ましく、0モル%以上50モル%以下であることが特に好ましい。この範囲において良好な塗布液安定性と着肉性が得られる。
一般式(3)で表される構造単位は、特定化合物中に2種類以上含有していてもよい。
The structural unit represented by the general formula (3) is preferably 0 mol% or more and 70 mol% or less, and 0 mol% or more and 60 mol% or less, assuming that the structural unit forming the specific compound is 100 mol%. It is more preferable that it is 0 mol% or more and 50 mol% or less. Within this range, good coating solution stability and wearability can be obtained.
Two or more types of structural units represented by the general formula (3) may be contained in the specific compound.

以下に本発明に用いられる特定化合物の具体例を示す。本発明はこれらに限定されるものではない。なお、P−1〜P−17は、実施例中に、各合成例及びMwを示す。   Specific examples of the specific compound used in the present invention are shown below. The present invention is not limited to these. In addition, P-1-P-17 show each synthesis example and Mw in an Example.

Figure 2012071557
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Figure 2012071557
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Figure 2012071557
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Figure 2012071557
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Figure 2012071557
Figure 2012071557

Figure 2012071557
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本発明に用いられる特定化合物の質量平均モル質量(ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)・ポリスチレン換算値)は、500以上50000以下が好ましく、700以上40000以下がより好ましく、900以上30000以下が特に好ましい。   The mass average molar mass (gel permeation chromatography (GPC) / polystyrene equivalent value) of the specific compound used in the present invention is preferably 500 or more and 50000 or less, more preferably 700 or more and 40000 or less, and particularly preferably 900 or more and 30000 or less.

本発明に用いられる特定化合物は、画像記録層及び/又は保護層に含有されるが、保護層に含有されることが特に好ましい。保護層に含有される場合、以下に説明する無機層状化合物と特定化合物を保護層塗布液調製時に混合してもよく、また、無機層状化合物に含まれる陽イオンを特定化合物により置換することにより有機粘土複合体を形成し、有機粘土複合体を保護層塗布液調製時に混合してもよいが、有機粘土複合体を形成してから混合することが特に好ましい。保護層に含有することでインキ着肉性と耐刷性と現像性が良好になる。特定化合物を画像記録層に含有させても同様の効果がある。これは、保護層塗布液を塗布する際、又は塗布後に画像記録層中の特定化合物が保護層に移動し、有機複合体を形成したものと推定される。
画像記録層に含有される場合、その含有率は、画像記録層の全固形分を100質量%とした場合、0.01〜30質量%が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。特定化合物が保護層に含有される場合、その含有率は、保護層の全固形分を100質量%とした場合、5〜98質量%が好ましく、10〜95質量%がより好ましく、15〜90質量%が特に好ましい。
The specific compound used in the present invention is contained in the image recording layer and / or the protective layer, but is particularly preferably contained in the protective layer. When contained in the protective layer, the inorganic layered compound described below and the specific compound may be mixed at the time of preparing the protective layer coating solution, and the cation contained in the inorganic layered compound is replaced with the specific compound to form an organic layer. A clay complex may be formed, and the organoclay complex may be mixed at the time of preparing the protective layer coating solution, but it is particularly preferable to mix after forming the organoclay complex. By containing it in the protective layer, ink fillability, printing durability and developability are improved. The same effect can be obtained even if a specific compound is contained in the image recording layer. This is presumed that the specific compound in the image recording layer moved to the protective layer when the protective layer coating solution was applied or after the coating, thereby forming an organic composite.
When contained in the image recording layer, the content is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, when the total solid content of the image recording layer is 100% by mass. 1-10 mass% is especially preferable. When the specific compound is contained in the protective layer, the content is preferably from 5 to 98 mass%, more preferably from 10 to 95 mass%, more preferably from 15 to 90 mass% when the total solid content of the protective layer is 100 mass%. Mass% is particularly preferred.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる保護層は、無機層状化合物を必須成分として含有する。該無機層状化合物は、そのまま保護層に添加されるか、特定化合物により陽イオン置換された有機粘土複合体として添加される。また、その他の任意成分としてポリマー、可塑剤、界面活性剤、無機微粒子等を含有してもよい。以下、それぞれの成分について説明する。
[Protective layer]
The protective layer used in the lithographic printing plate precursor according to the invention contains an inorganic layered compound as an essential component. The inorganic layered compound is added to the protective layer as it is, or is added as an organic clay complex that is cation-substituted with a specific compound. Moreover, you may contain a polymer, a plasticizer, surfactant, an inorganic fine particle, etc. as another arbitrary component. Hereinafter, each component will be described.

<無機層状化合物>
本発明に用いられる無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子で、陽イオン交換能を有する無機層状化合物であり、スメクタイト、バーミキュライト、雲母等を挙げることができる。中でもスメクタイト、雲母が好ましい。
<Inorganic layered compound>
The inorganic layered compound used in the present invention is an inorganic layered compound having a cation exchange ability, which is a particle having a thin flat plate shape, and examples thereof include smectite, vermiculite, and mica. Of these, smectite and mica are preferable.

スメクタイトとしては、例えば、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、バイデライト、モンモリロナイト、ノントロナイト、ベントナイト等の天然又は化学的に合成したもの、又はこれらの置換体、誘導体、あるいはこれらの混合物を挙げることができる。
雲母としてはたとえば、白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母等の天然雲母や、フッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及びNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等の合成雲母が挙げられる。
これら層状化合物のなかでも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。
As the smectite, for example, natural or chemically synthesized materials such as hectorite, saponite, stevensite, beidellite, montmorillonite, nontronite, bentonite, etc., or substituted products, derivatives thereof, or mixtures thereof can be exemplified. .
Examples of the mica include natural mica such as muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and mica, fluorine phlogopite KMg 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potash tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10) non-swellable mica 2 such F, and Na tetrasilylic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10) F 2, Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10) F 2 And synthetic mica such as swellable mica such as montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2/5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 .
Among these layered compounds, fluorine-based swellable mica which is a synthetic layered compound is particularly useful.

雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi+、Na+、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Swelling clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, and the substitution of metal atoms in the lattice is another viscosity mineral It is significantly larger. As a result, the lattice layer suffers from a shortage of positive charge, and in order to compensate for this, the layers such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts Adsorbs organic cation cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swelling synthetic mica have this tendency.

層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the planar size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。粒子径が0.3μm以上であれば酸素や水分の透過の抑制がより向上し、効果をより発揮できるため好ましい。また20μm以下であれば塗布液中での分散安定性がより向上し、より安定的な塗布を行うことができるため好ましい。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the layered compound, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. A particle diameter of 0.3 μm or more is preferable because the suppression of permeation of oxygen and moisture can be further improved and the effect can be further exhibited. Moreover, if it is 20 micrometers or less, since the dispersion stability in a coating liquid improves more and can apply | coat more stably, it is preferable. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

<有機粘土複合体>
本発明の平版印刷版原版に用いられる有機粘土複合体とは、上記無機層状化合物の陽イオンを特定化合物により置換して得られる有機粘土複合体である。
本発明の有機粘土複合体を製造するのに使用される無機層状化合物は、膨潤性層状ケイ酸塩の場合、陽イオン交換容量は、粘土100g 当り10ミリ当量以上、好ましくは60ミリ当量以上であり、合成スメクタイトの場合は85〜130ミリ当量であり、交換容量が大きいほどよい。膨潤性層状ケイ酸塩は、50質量%以下の非粘土不純物を含有していてもよいが、非粘土不純物の量は10質量%以下が望ましい。
<Organic clay complex>
The organoclay complex used in the lithographic printing plate precursor according to the invention is an organoclay complex obtained by substituting the cation of the inorganic layered compound with a specific compound.
When the inorganic layered compound used for producing the organoclay composite of the present invention is a swellable layered silicate, the cation exchange capacity is 10 milliequivalents or more, preferably 60 milliequivalents or more per 100 g of clay. In the case of synthetic smectite, it is 85 to 130 milliequivalents, and the larger the exchange capacity, the better. The swellable layered silicate may contain 50% by mass or less of non-clay impurities, but the amount of non-clay impurities is preferably 10% by mass or less.

本発明の有機粘土複合体は、層間の陽イオン交換により得られるが、例えば以下の方法で製造することができる。第1工程では無機層状化合物を水中に分散させ、その固体分散濃度は通常1〜15質量%が望ましいが、無機層状化合物が充分分散可能な濃度の範囲ならば自由に設定することが可能である。この場合、あらかじめ凍結乾燥処理した無機層状化合物を用いることは、有機粘土複合体を容易に製造するために有効である。第2工程ではこの無機層状化合物懸濁液に前述の特定化合物溶液を添加するか、又は逆に、前述の特定化合物溶液に無機層状化合物懸濁液を添加することによっても有機粘土複合体を製造することが可能である。   The organoclay composite of the present invention is obtained by cation exchange between layers, and can be produced, for example, by the following method. In the first step, the inorganic stratiform compound is dispersed in water, and the solid dispersion concentration is usually preferably 1 to 15% by mass, but can be freely set as long as the concentration of the inorganic stratiform compound is sufficiently dispersible. . In this case, using an inorganic layered compound that has been freeze-dried in advance is effective for easily producing an organoclay composite. In the second step, the above-mentioned specific compound solution is added to this inorganic layered compound suspension, or conversely, the organic clay complex is also produced by adding the inorganic layered compound suspension to the above-mentioned specific compound solution. Is possible.

特定化合物の添加量は、一般式(1)で表される官能基として、無機層状化合物の陽イオン交換容量と当量用いることが望ましいが、これより少ない量でも製造は可能である。また陽イオン交換容量に対して過剰量添加しても差し支えはない。その量は無機層状化合物の陽イオン交換容量の0.5〜1.5倍量(ミリ当量換算)、とくに0.8〜1.4倍量であることが望ましい。   The specific compound is preferably added in an amount equivalent to the cation exchange capacity of the inorganic layered compound as the functional group represented by the general formula (1), but can be produced even in an amount smaller than this. Moreover, there is no problem even if an excessive amount is added to the cation exchange capacity. The amount is preferably 0.5 to 1.5 times (milli equivalent equivalent), particularly 0.8 to 1.4 times the cation exchange capacity of the inorganic layered compound.

反応は室温で充分進行するが、加温してもよい。加温の最高温度は用いる特定化合物の耐熱性に支配され、その分解点以下であれば任意に設定が可能であるが、室温〜80℃の範囲で実施することが好ましい。次いで懸濁液を必要に応じて遠心分離等を行い、固体と液体を分離し、生成した有機粘土複合体を水洗浄して、副生電解質を充分に除去する。これを乾燥、必要に応じて粉砕して最終物とする。また、陽イオン交換をより完全にするために、固体と液体を分離した後に、更に特定化合物の溶液を添加して、同様の反応・分離・精製・乾燥を行ってもよい。   The reaction proceeds sufficiently at room temperature, but may be warmed. The maximum temperature of the heating is governed by the heat resistance of the specific compound used, and can be arbitrarily set as long as it is below the decomposition point, but it is preferably carried out in the range of room temperature to 80 ° C. Next, the suspension is centrifuged as necessary to separate the solid and the liquid, and the produced organic clay complex is washed with water to sufficiently remove the by-product electrolyte. This is dried and pulverized as necessary to obtain a final product. In order to make cation exchange more complete, after the solid and the liquid are separated, a solution of the specific compound may be further added to perform the same reaction, separation, purification, and drying.

本発明の有機粘土複合体の生成は、例えばX線回析で(001)底面反射の位置を測定することにより容易に確認することができる。原料の合成スメクタイトは、脱水状態で10Å、通常の温度、湿度下では12〜15Åの底面間隔を有するが、本発明の有機粘土複合体は、特定化合物の構造に依存するが、15Å以上であることから、有機粘土複合体が生成していることが分かる。また、熱重量分析(TGA)により特定化合物の分解温度以上に加熱し、重量減少率によっても容易に確認することができる。   The formation of the organoclay complex of the present invention can be easily confirmed by measuring the position of (001) bottom reflection, for example, by X-ray diffraction. Synthetic smectite as a raw material has a bottom surface interval of 10 to 15% in a dehydrated state and 12 to 15 tons under normal temperature and humidity, but the organoclay complex of the present invention is 15 to more than 15Å depending on the structure of the specific compound. From this, it can be seen that an organoclay complex is formed. Moreover, it can heat easily more than the decomposition temperature of a specific compound by thermogravimetric analysis (TGA), and can confirm easily also by the weight reduction rate.

次に、層状化合物を保護層に用いる場合の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に前述の無機層状化合物又は有機粘土複合体を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機層状化合物又は有機粘土複合体の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、任意に他の成分を含む溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method when a layered compound is used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the above-mentioned inorganic layered compound or organoclay complex is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly blended with water and swollen, and then dispersed using a disperser. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. The dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic layered compound or organoclay complex dispersed by the above method is highly viscous or gelled, and the storage stability is very good. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then optionally blending with a solution containing other components.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用される全固形分の量に対し、1質量%以上95質量%以下であることが好ましく、2質量%以上90質量%以下であることがより好ましく、3質量%以上85質量%以下であることが特に好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の範囲であることが好ましい。   The content of the inorganic stratiform compound in the protective layer is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, and preferably 2% by mass or more and 90% by mass or less with respect to the total solid content used in the protective layer. More preferably, the content is 3% by mass or more and 85% by mass or less. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably within the above range.

<その他成分>
本発明の平版印刷版原版において、保護層は、上記化合物以外の任意成分として、ポリマーを含有することができる。かかるポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリアクリルアミド、ポリN−イソプロピルアクリルアミド、ポリジメチルアクリルアミド、アクリルアミド−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号公報記載の変性ポリビニルアルコールが好適に挙げられる。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。
<Other ingredients>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the protective layer may contain a polymer as an optional component other than the above compounds. As such a polymer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more kinds can be mixed and used as necessary. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivative, poly (meth) acrylonitrile, polyacrylamide, poly N-isopropylacrylamide, polydimethylacrylamide, acrylamide-acrylic acid ester copolymer, etc. Is mentioned.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group is preferably used. Specifically, modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137 are preferable.
Further, the protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coating properties, and inorganic fine particles for controlling surface slipperiness.

保護層は、公知の方法で塗布される。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/mの範囲であることが好ましく、0.02〜3g/mの範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/mの範囲である。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. in the range of 02~1g / m 2.

〔画像記録層〕
本発明の平版印刷版原版において、画像記録層は、印刷画像を形成するための化合物として重合開始剤、ラジカル重合性化合物を含有している。
(Image recording layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the image recording layer contains a polymerization initiator and a radical polymerizable compound as compounds for forming a printed image.

<重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤とは、ラジカル重合性化合物の重合を開始、促進する化合物である。本発明において使用しうる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。これらの中でも光重合開始剤が好ましい。
本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ホウ酸塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、が挙げられる。
<Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that initiates and accelerates the polymerization of a radical polymerizable compound. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a radical polymerization initiator is preferable, and a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, and the like can be used. Among these, a photopolymerization initiator is preferable.
Examples of the radical polymerization initiator in the present invention include (a) an organic halide, (b) a carbonyl compound, (c) an azo compound, (d) an organic peroxide, (e) a metallocene compound, and (f) an azide compound. (G) hexaarylbiimidazole compound, (h) organic borate compound, (i) disulfone compound, (j) oxime ester compound, (k) onium salt compound.

(a)有機ハロゲン化物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0022]〜[0023]に記載の化合物が好ましい。
(b)カルボニル化合物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。
(A) As the organic halide, compounds described in paragraph numbers [0022] to [0023] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(B) As the carbonyl compound, compounds described in paragraph [0024] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(C) As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(D) As the organic peroxide, for example, compounds described in paragraph [0025] of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the (e) metallocene compound, for example, the compound described in paragraph [0026] of JP-A-2008-195018 is preferable.

(f)アジド化合物としては、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
(h)有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。
(i)ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号に記載の化合物が挙げられる。
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]〜[0030]に記載の化合物が好ましい。
(F) Examples of the azide compound include 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, a compound described in paragraph [0027] of JP-A-2008-195018 is preferable.
(H) As the organic borate compound, for example, a compound described in paragraph [0028] of JP-A-2008-195018 is preferable.
(I) Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A No. 61-166544.
(J) As the oxime ester compound, for example, compounds described in paragraph numbers [0028] to [0030] of JP-A-2008-195018 are preferable.

(k)オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報、又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   (K) Examples of the onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. 18, 387 (1974), T .; S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, ammonium described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, and the like. Salt, phosphonium salts described in U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, EP 104,143, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0311520 JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018, or J.P. V. Ivonium salt described in Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,904,626, 3,604,580 Sulphonium salts described in the respective specifications of U.S. Pat. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as azinium salts described in JP-A-2008-195018.

上記の中でもより好ましいものとして、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩が好ましく、オニウム塩のなかではヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が好ましい。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。   Among these, more preferred are hexaarylbiimidazole compounds and onium salts, and among onium salts, iodonium salts, sulfonium salts and azinium salts are preferred. Specific examples of these compounds are shown below, but are not limited thereto.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物の例としては、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。   Examples of hexaarylbiimidazole compounds include 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl)- 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (O-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 ' -Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-te La biimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl biimidazole. The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region of 300 to 450 nm.

ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。   As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is more preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.

スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。   Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Examples thereof include tetrafluoroborate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, and tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate.

アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。   Examples of azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyl (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3,4 -Dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethylo Ci-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.

オニウム塩は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。   The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm.

重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。   The polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. Can be added. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained.

<ラジカル重合性化合物>
本発明における画像記録層に用いるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報、を含む参照文献に記載されている。
<Radically polymerizable compound>
The radical polymerizable compound used for the image recording layer in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Selected from compounds. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and a polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent amine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in references including Kaihei 10-333321.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of the monomer of the ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) -modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl ] Dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708. A vinyl containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. A urethane compound etc. are mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、US7153632号公報、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethanes described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210. Acrylates, JP-B 58-49860, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62-39418, JP-A 2000-250211, JP-A 2007-94138 Urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in the publication, and urethane compounds having a hydrophilic group described in US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223. Are also suitable.

上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。   Among them, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, etc. are excellent in the balance between the hydrophilicity involved in on-press developability and the polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide modified acrylates are particularly preferred.

これらの重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。上記の重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは10〜70質量%、特に好ましくは15〜60質量%の範囲で使用される。   Details of the usage method such as the structure of these polymerizable compounds, whether they are used alone or in combination, and the amount added can be arbitrarily set in accordance with the performance design of the final lithographic printing plate precursor. The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 15 to 60% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<その他の添加剤>
また、その他の添加剤として以下の化合物を含むこともできる。
<Other additives>
Moreover, the following compounds can also be included as another additive.

<バインダーポリマー>
本発明の画像記録層に含有されるバインダーポリマーは、画像記録層成分を支持体上に担持可能であり、現像液によりあるいは印刷機上において除去可能であるものが用いられる。バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が好ましく用いられ、より好ましくは(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂である。
本発明において、「(メタ)アクリル系重合体」とは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル(アルキルエステル、アリールエステル、アリルエステルなど)、(メタ)アクリルアミド及び(メタ)アクリルアミド誘導体などの(メタ)アクリル酸誘導体を重合成分として有する共重合体のことを云う。「ポリウレタン樹脂」とは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とヒドロキシ基を2つ以上有する化合物の縮合反応により生成されるポリマーのことを云う。「ポリビニルブチラール樹脂」とは、ポリ酢酸ビニルを一部又は全て鹸化して得られるポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件下で反応(アセタール化反応)させて合成されるポリマーのことを云い、更に、残存したヒドロキシ基と酸基等有する化合物を反応させる方法等により酸基等を導入したポリマーも含まれる。
<Binder polymer>
As the binder polymer contained in the image recording layer of the present invention, those capable of supporting the image recording layer component on the support and being removable by a developer or on a printing machine are used. As the binder polymer, (meth) acrylic polymer, polyurethane resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin and the like are used. In particular, (meth) acrylic polymers, polyurethane resins, and polyvinyl butyral resins are preferably used, and (meth) acrylic polymers, polyurethane resins, and polyvinyl butyral resins are more preferable.
In the present invention, “(meth) acrylic polymer” means (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester (alkyl ester, aryl ester, allyl ester, etc.), (meth) acrylamide and (meth) acrylamide derivatives. This refers to a copolymer having a (meth) acrylic acid derivative as a polymerization component. “Polyurethane resin” refers to a polymer produced by a condensation reaction of a compound having two or more isocyanate groups and a compound having two or more hydroxy groups. “Polyvinyl butyral resin” refers to a polymer synthesized by reacting polyvinyl alcohol and butyraldehyde obtained by saponifying part or all of polyvinyl acetate under an acidic condition (acetalization reaction). A polymer having an acid group or the like introduced by a method of reacting a compound having a remaining hydroxy group and an acid group or the like is also included.

本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体の好適な一例としては、架橋性基を有する共重合体が挙げられる。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像記録層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、スチリル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基が好ましい。
バインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
(メタ)アクリル系重合体中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.01〜10.0mmol、より好ましくは0.05〜9.0mmol、特に好ましくは0.1〜8.0mmolである。
A suitable example of the (meth) acrylic polymer used in the present invention includes a copolymer having a crosslinkable group. Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the image recording layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, and as such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, etc. are mentioned, for example. Of these, an ethylenically unsaturated bond group is preferable. As the ethylenically unsaturated bond group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, and an allyl group are preferable.
In the binder polymer, for example, free radicals (polymerization initiating radicals or growth radicals in the polymerization process of the polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and the addition polymerization is performed directly between the polymers or through the polymerization chain of the polymerizable compound. As a result, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together, thereby causing cross-linking between polymer molecules. Forms and cures.
The content of the crosslinkable group in the (meth) acrylic polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.01 to 10.0 mmol per 1 g of the binder polymer. Preferably it is 0.05-9.0 mmol, Most preferably, it is 0.1-8.0 mmol.

本発明における(メタ)アクリル系重合体は、酸基及び/又は親水性基を有する共重合体であることが好ましい。酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等が挙げられるが、特にカルボン酸基が好ましい。酸基を含有する繰り返し単位としては、(メタ)アクリル酸由来の繰り返し単位や下記一般式(I)で表されるものが好ましく用いられる。   The (meth) acrylic polymer in the present invention is preferably a copolymer having an acid group and / or a hydrophilic group. Examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonamide group, and a carboxylic acid group is particularly preferable. As the repeating unit containing an acid group, a repeating unit derived from (meth) acrylic acid or one represented by the following general formula (I) is preferably used.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

一般式(I)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又はn+1価の連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR−を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。 In general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a single bond or an n + 1 valent linking group. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 5.

一般式(I)におけるRで表される連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から選ばれる原子団によって構成されるもので、その原子数は好ましくは1〜80である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の何れかで複数連結された構造を有していてもよい。Rとしては、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、並びにアルキレン基及び/又は置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることが好ましく、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数1〜5の置換アルキレン基、並びに炭素数1〜5のアルキレン基及び/又は炭素数1〜5の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることがより好ましく、単結合、炭素数1〜3のアルキレン基、炭素数1〜3の置換アルキレン基、並びに炭素数1〜3のアルキレン基及び/又は炭素数1〜3の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の少なくともいずれかで複数連結された構造であることが特に好ましい。 The linking group represented by R 2 in the general formula (I) is composed of an atomic group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms is preferably Is 1-80. Specifically, an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group, and the like can be mentioned. These divalent groups are linked in multiples by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, and an ester bond. You may have the structure made. R 2 is a structure in which a single bond, an alkylene group, a substituted alkylene group, and an alkylene group and / or a substituted alkylene group are linked together by any one of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, and an ester bond. Preferably, a single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and / or a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is an amide bond. , An ether bond, a urethane bond, a urea bond, or an ester bond, and more preferably a structure in which a single bond, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, And an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms and / or a substituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms is an amide bond, ether bond, urethane bond, urea A structure in which a plurality of bonds and / or ester bonds are linked together is particularly preferable.

置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシ基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。   Examples of the substituent include a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group, Examples include a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a carboxy group and its conjugated base group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

は水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。nは1〜3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. n is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

(メタ)アクリル系重合体の全重合成分に占めるカルボン酸基を有する重合成分の割合(モル%)は、現像性の観点から、1〜70%が好ましい。現像性と耐刷性の両立を考慮すると、1〜50%がより好ましく、1〜30%が特に好ましい。   The proportion (mol%) of the polymerization component having a carboxylic acid group in the total polymerization components of the (meth) acrylic polymer is preferably 1 to 70% from the viewpoint of developability. Considering compatibility between developability and printing durability, 1 to 50% is more preferable, and 1 to 30% is particularly preferable.

親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには、例えば、親水性基を有するモノマーを共重合することにより行われる。   Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxy group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, an amide group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. Among them, an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms An alkylene oxide structure having 1 to 9 is preferable. For imparting a hydrophilic group to the binder polymer, for example, copolymerization of a monomer having a hydrophilic group is performed.

本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体は、上記酸基及び/又は親水性基を有する重合単位、架橋性基を有する重合単位の他に、(メタ)アクリル酸アルキル又はアラルキルエステルの重合単位、(メタ)アクリルアミド又はその誘導体の重合単位、α-ヒドロキシメチルアクリレートの重合単位、スチレン誘導体の重合単位を有していてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜8の前述の置換基を有するアルキル基であり、メチル基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられる。(メタ)アクリルアミド誘導体としては、N−イソプロピルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−(4-メトキシカルボニルフェニル)メタアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、モルホリノアクリルアミド等が挙げられる。α-ヒドロキシメチルアクリレートとしては、α-ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α-ヒドロキシメチルアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。スチレン誘導体としては、スチレン、4−tertブチルスチレン等が挙げられる。   The (meth) acrylic polymer used in the present invention is a polymer of an alkyl (meth) acrylate or an aralkyl ester in addition to the above-described polymer unit having an acid group and / or hydrophilic group and a polymer unit having a crosslinkable group. It may have a unit, a polymer unit of (meth) acrylamide or a derivative thereof, a polymer unit of α-hydroxymethyl acrylate, or a polymer unit of a styrene derivative. The alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkyl group having the above-described substituent having 2 to 8 carbon atoms, and a methyl group is more preferable. Examples of (meth) acrylic acid aralkyl esters include benzyl (meth) acrylate. Examples of (meth) acrylamide derivatives include N-isopropylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N- (4-methoxycarbonylphenyl) methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, morpholinoacrylamide and the like. Examples of the α-hydroxymethyl acrylate include ethyl α-hydroxymethyl acrylate and cyclohexyl α-hydroxymethyl acrylate. Examples of styrene derivatives include styrene and 4-tertbutylstyrene.

本発明におけるポリウレタン樹脂の好適な一例としては、特開2007−187836号公報の段落番号〔0099〕〜〔0210〕、特開2008−276155号公報の段落番号〔0019〕〜〔0100〕、特開2005−250438号公報の段落番号〔0018〕〜〔0107〕、特開2005−250158号公報の段落番号〔0021〕〜〔0083〕に記載のポリウレタン樹脂を挙げることが出来る。
本発明におけるポリビニルブチラール樹脂の好適な一例としては、特開2001−75279号公報の段落番号〔0006〕〜〔0013〕に記載のポリビニルブチラール樹脂を挙げることができる。
As preferable examples of the polyurethane resin in the present invention, paragraph numbers [00099] to [0210] of JP-A No. 2007-187836, paragraph numbers [0019] to [0100] of JP-A No. 2008-276155, JP-A No. Examples include polyurethane resins described in paragraph numbers [0018] to [0107] of JP-A-2005-250438 and paragraph numbers [0021] to [0083] of JP-A-2005-250158.
As a suitable example of the polyvinyl butyral resin in this invention, the polyvinyl butyral resin as described in Paragraph Nos. [0006]-[0013] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-75279 can be mentioned.

バインダーポリマー中の酸基の一部が、塩基性化合物で中和されていてもよい。塩基性化合物としては、塩基性窒素を含有する化合物やアルカリ金属水酸化物、4級アンモニウム塩や4級ホスホニウム塩の水酸化物などが挙げられる。   A part of the acid groups in the binder polymer may be neutralized with a basic compound. Examples of basic compounds include basic nitrogen-containing compounds, alkali metal hydroxides, quaternary ammonium salts, and quaternary phosphonium salt hydroxides.

本発明に用いられるバインダーポリマーは、平版印刷版原版の使用形態によって異なる。pHが8以上のアルカリ現像液を用いる平版印刷版原版の場合には、酸基を有するバインダーが好ましく、印刷機上において現像する平版印刷版原版の場合には、親水基を有するバインダーが好ましい。   The binder polymer used in the present invention varies depending on the use form of the lithographic printing plate precursor. In the case of a lithographic printing plate precursor using an alkaline developer having a pH of 8 or more, a binder having an acid group is preferred, and in the case of a lithographic printing plate precursor to be developed on a printing machine, a binder having a hydrophilic group is preferred.

バインダーポリマーは、質量平均モル質量(Mw)が5000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましく、また、数平均モル質量(Mn)が1000以上が好ましく、2000〜25万がより好ましい。多分散度(Mw/Mn)は、1.1〜10が好ましい。
バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
The binder polymer has a mass average molar mass (Mw) of preferably 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molar mass (Mn) of preferably 1000 or more, and more preferably 2000 to 250,000. The polydispersity (Mw / Mn) is preferably 1.1-10.
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の観点から、画像記録層の全固形分に対して、5〜75質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%が更に好ましい。
また、重合性化合物及びバインダーポリマーの合計含有量は、画像記録層の全固形分に対して、90質量%以下が好ましい。90質量%以下であれば、感度、現像性がより向上するため好ましい場合がある。より好ましくは35〜80質量%である。
The content of the binder polymer is preferably 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer, from the viewpoint of good image area strength and image formability. -60 mass% is still more preferable.
The total content of the polymerizable compound and the binder polymer is preferably 90% by mass or less with respect to the total solid content of the image recording layer. If it is 90 mass% or less, since a sensitivity and developability improve more, it may be preferable. More preferably, it is 35-80 mass%.

<増感色素>
画像記録層に用いる増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、前記重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
<Sensitizing dye>
The sensitizing dye used in the image recording layer is in an excited state by absorbing light at the time of image exposure, and imparts energy to the polymerization initiator by electron transfer, energy transfer or heat generation, and improves the polymerization initiation function. If there is no particular limitation, it can be used. In particular, a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength range of 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm is preferably used.

350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、スチリル類、オキサゾール類等の色素を挙げることができる。
350〜450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(IX)で表される色素である。
Examples of the sensitizing dye having the maximum absorption in the wavelength range of 350 to 450 nm include merocyanines, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, styryls, and oxazoles.
Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IX).

Figure 2012071557
Figure 2012071557

一般式(IX)中、Aは置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又は=N(R)を表す。R、R及びRは、それぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、AとR又はRとRは、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。
一般式(IX)について更に詳しく説明する。R、R又はRで表される1価の非金属原子団は、好ましくは、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を表す。
Aで表される置換基を有してもよいアリール基及びヘテロアリール基は、各々R、R及びRで記載した置換若しくは非置換のアリール基及び置換若しくは非置換のヘテロアリール基と同様である。
In General Formula (IX), A represents an aryl group or a heteroaryl group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or ═N (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and A and R 1 or R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic group. A ring may be formed.
General formula (IX) will be described in more detail. The monovalent nonmetallic atomic group represented by R 1 , R 2 or R 3 is preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxy group, or a halogen atom.
The aryl group and heteroaryl group which may have a substituent represented by A are each a substituted or unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted heteroaryl group represented by R 1 , R 2 and R 3 , respectively. It is the same.

このような増感色素の具体例としては、特開2007−58170号公報の段落番号〔0047〕〜〔0053〕、特開2007−93866号の段落番号〔0036〕〜〔0037〕、特開2007−72816号公報の段落番号〔0042〕〜〔0047〕に記載の化合物が好ましく用いられる。
また、特開2006−189604号、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号の各公報に記載の増感色素も好ましく用いることができる。
Specific examples of such a sensitizing dye include paragraph numbers [0047] to [0053] of JP-A No. 2007-58170, paragraph numbers [0036] to [0037] of JP-A No. 2007-93866, and JP-A No. 2007. The compounds described in paragraph Nos. [0042] to [0047] of JP-72816 are preferably used.
JP-A-2006-189604, JP-A-2007-171406, JP-A-2007-206216, JP-A-2007-206217, JP-A-2007-225701, JP-A-2007-225702, JP-A-2007-316582 The sensitizing dyes described in JP-A-2007-328243 are also preferably used.

続いて、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素(以降、赤外線吸収剤と称することもある)について記載する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。
染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
Then, it describes about the sensitizing dye (henceforth an infrared absorber) which has maximum absorption in the wavelength range of 750-1400 nm. As the infrared absorber, a dye or a pigment is preferably used.
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2012071557
Figure 2012071557

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、−NL−又は硫黄原子を示し、L、Lは炭素原子数1〜12の炭化水素基、アリール基、ヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を有するアリール基、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。Xaは後述するZaと同義である。Rは、水素原子又はアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, —NL 2 — or a sulfur atom, and L 1 and L 2 represent a hydrocarbon group, aryl group, hetero atom (N, S, O, halogen atom having 1 to 12 carbon atoms). , Se), an aryl group, and a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Xa - is Za - described later is synonymous with. R a represents a hydrogen atom or a substituent selected from an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR及びRは互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
Ar、Arは、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なってもよく、硫黄原子又は炭素数12以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を示す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Zaは、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZaは必要ない。好ましいZaは、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms. R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring, and when a ring is formed, it is particularly preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Preferred aryl groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxy group, and a sulfo group. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. In view of easy availability of the raw material, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.

一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号〔0017〕〜〔0019〕に記載の化合物、特開2002−023360号公報の段落番号〔0016〕〜〔0021〕、特開2002−040638号公報の段落番号〔0012〕〜〔0037〕に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号公報の段落番号〔0034〕〜〔0041〕、特開2008−195018号公報の段落番号〔0080〕〜〔0086〕に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号公報の段落番号〔0035〕〜〔0043〕に記載の化合物が挙げられる。
また特開平5−5005号公報の段落番号〔0008〕〜〔0009〕、特開2001−222101号公報の段落番号〔0022〕〜〔0025〕に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) include compounds described in paragraph Nos. [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, paragraph Nos. [0016] of JP-A No. 2002-023360. ] To [0021], compounds described in paragraphs [0012] to [0037] of JP 2002-040638 A, preferably paragraphs [0034] to [0041] of JP 2002-278057 A, JP The compounds described in paragraphs [0080] to [0086] of 2008-195018, particularly preferably the compounds described in paragraphs [0035] to [0043] of JP-A-2007-90850 are exemplified.
In addition, compounds described in paragraph Nos. [0008] to [0009] of JP-A No. 5-5005 and paragraph numbers [0022] to [0025] of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.

赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落番号〔0072〕〜〔0076〕に記載の化合物が好ましい。
増感色素の含有量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、特に好ましくは0.2〜10質量部である。
Only 1 type may be used for an infrared absorption dye, 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, the compounds described in JP-A-2008-195018, paragraphs [0072] to [0076] are preferable.
The content of the sensitizing dye is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and particularly preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. Part by mass.

<疎水化前駆体>
画像記録層には、現像性又は機上現像性を向上させるため、疎水化前駆体を含有させることができる。疎水化前駆体とは、熱及び/又は光が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
<Hydrophobic precursor>
The image recording layer may contain a hydrophobizing precursor in order to improve developability or on-press developability. The hydrophobized precursor means fine particles capable of converting the image recording layer to hydrophobic when heat and / or light is applied. The fine particles are at least one selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, heat-reactive polymer fine particles, polymer fine particles having a polymerizable group, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). It is preferable. Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable.

疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure、No.333003、特開平9−123387号公報、特開平9−131850号公報、特開平9−171249号公報、特開平9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include those disclosed in Research Disclosure, No. 1, January 1992. 333003, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647, etc. A fine particle can be mentioned as a suitable thing.
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.
The average particle diameter of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm.

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。
Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by cross-linking by a heat reaction and a functional group change at that time.
The thermoreactive group in the polymer fine particles having a thermoreactive group used in the present invention may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, Examples include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (eg, acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (eg, vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) ), An isocyanato group that performs an addition reaction or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), and a condensation reaction Carboxy group and reaction partner hydroxy group or amino group, acid anhydride and reaction phase for ring-opening addition reaction , And the like as a preferable amino group or a hydroxy group is.

本発明に用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
本発明に用いられるミクロゲルは、その中又は表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. Is. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, it is preferable that the image recording layer containing the microcapsule includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
The microgel used in the present invention can contain a part of the constituent components of the image recording layer in at least one of the inside and the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radical polymerizable group on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化若しくはミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。
マイクロカプセルあるいはミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましく、0.05〜2.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
疎水化前駆体の含有量は、画像記録層全固形分の5〜90質量%が好ましい。
A known method can be applied to microencapsulate or microgel the constituent components of the image recording layer.
The average particle size of the microcapsule or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
The content of the hydrophobizing precursor is preferably 5 to 90% by mass based on the total solid content of the image recording layer.

<感脂化剤>
本発明の画像記録層には、着肉性を更に向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物等の低分子感脂化剤を含有させることができる。
ホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。
<Grease sensitizer>
The image recording layer of the present invention can contain a low molecular weight sensitizer such as a phosphonium compound and a nitrogen-containing low molecular weight compound in order to further improve the inking property.
Examples of the phosphonium compound include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号公報の段落番号〔0021〕〜〔0037〕、特開2009−90645号公報の段落番号〔0030〕〜〔0057〕に記載の化合物などが挙げられる。   Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. Fert, benzyldimethyldodecyl ammonium = hexafluorophosphate, paragraph numbers [0021] to [0037] of JP 2008-284858 A, paragraph numbers [0030] to [0057] of JP 2009-90645 A Compound etc. are mentioned.

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、0.1〜15.0質量%がより好ましく、1〜10.0質量%が更に好ましい。   The content of the sensitizing agent is preferably 0.01 to 30.0% by mass, more preferably 0.1 to 15.0% by mass, and more preferably 1 to 10.0% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. % Is more preferable.

<低分子親水性化合物>
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。
<Low molecular hydrophilic compound>
The image recording layer in the invention may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve the on-press developability without reducing the printing durability.
As the low molecular weight hydrophilic compound, for example, as the water-soluble organic compound, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like glycols and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphonic acid Organic phosphonic acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, betaines, and the like.
Among these, in the present invention, it is preferable to contain at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates, and betaines.

有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、ブチルスルホン酸ナトリウム、ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラデコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号公報の段落番号〔0026〕〜〔0031〕、特開2009−154525号公報の段落番号〔0020〕〜〔0047〕に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。   Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium butyl sulfonate, sodium hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium octyl sulfonate; 5, 8, 11 -Sodium trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, sodium 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 5 , 8,11,14-tetraoxatetradecosane-1-alkyl sulfonate containing an ethylene oxide chain such as sodium sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, sodium p-hydroxybenzenesulfonate , Sodium p-styrenesulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6-naphthalene Aryl sulfonates such as trisodium trisulfonate, described in paragraph numbers [0026] to [0031] of JP 2007-276454 A, and paragraph numbers [0020] to [0047] of JP 2009-154525 A Compound etc. are mentioned. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.

有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454号公報の段落番号〔0034〕〜〔0038〕に記載の化合物が挙げられる。
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナートなどが挙げられる。
Organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0034] to [0038] of JP-A-2007-276454.
As the betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable. Specific examples include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethyl. Ammonioobylate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, Examples include 3- (1-pyridinio) -1-propanesulfonate.

低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。
低分子親水性化合物の画像記録層中の含有量は、画像記録層全固形分に対して0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、2〜10質量%が更に好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。低分子親水性化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Since low molecular weight hydrophilic compounds have a small hydrophobic part structure and almost no surface activity, dampening water penetrates into the exposed part of the image recording layer (image part), reducing the hydrophobicity and film strength of the image part. The ink receptivity and printing durability of the image recording layer can be maintained well.
The content of the low molecular weight hydrophilic compound in the image recording layer is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and further preferably 2 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. preferable. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained. A low molecular weight hydrophilic compound may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types.

<その他の成分>
画像記録層は、連鎖移動剤を含有することが好ましい。連鎖移動剤は、例えば高分子辞典第三版(高分子学会編、2005年)683−684頁に定義されている。連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、若しくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。本発明の画像記録層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を好ましく用いることができる。
連鎖移動剤の好ましい含有量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.01〜20質量部、更に好ましくは1〜10質量部、特に好ましくは1〜5質量部である。
<Other ingredients>
The image recording layer preferably contains a chain transfer agent. The chain transfer agent is defined, for example, in Polymer Dictionary 3rd Edition (Edition of Polymer Society, 2005), pages 683-684. As the chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. In the image recording layer of the present invention, in particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) Can be preferably used.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. is there.

画像記録層には、更に、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進や塗布面状の向上のための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性向上のための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、画像記録層の製造中又は保存中における重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体などの疎水性低分子化合物、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、有機微粒子、感度の向上の為の共増感剤、可塑性の向上のための可塑剤等を挙げることができる。これの化合物はいずれも公知のもの、例えば、特開2007−206217号公報の段落番号〔0161〕〜〔0215〕、特表2005−509192号公報の段落番号〔0067〕、特開2004−310000号公報の段落番号〔0023〕〜〔0026〕及び〔0059〕〜〔0066〕に記載の化合物を使用することができる。界面活性剤については、後述の現像液に添加してもよい界面活性剤を使用することもできる。   The image recording layer can further contain various additives as required. Additives include surfactants for promoting developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas. Colorants and print-out agents, polymerization inhibitors for preventing unnecessary thermal polymerization of polymerizable compounds during production or storage of image recording layers, higher fat derivatives for preventing polymerization inhibition by oxygen, etc. Hydrophobic low molecular weight compounds, inorganic fine particles for improving the strength of the cured film in the image area, organic fine particles, co-sensitizers for improving sensitivity, plasticizers for improving plasticity, and the like. All of these compounds are known, for example, paragraph numbers [0161] to [0215] of JP-A-2007-206217, paragraph number [0067] of JP-T-2005-509192, and JP-A-2004-310000. The compounds described in paragraph numbers [0023] to [0026] and [0059] to [0066] of the gazette can be used. As for the surfactant, a surfactant which may be added to the developer described later can also be used.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各画像記録層成分を溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。使用する溶剤としては、2−ブタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、γ−ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is formed by preparing and applying a coating solution by dispersing or dissolving each of the necessary image recording layer components in a solvent. Examples of the solvent used include 2-butanone, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, and γ-butyllactone. It is not limited to this. A solvent is used individually or in mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

画像記録層の塗布量(固形分)は、0.3〜3.0g/mが好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。 The coating amount (solid content) of the image recording layer is preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<下塗り層>
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) is preferably provided between the image recording layer and the support. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and easily peels off the image recording layer from the support in the unexposed area. Contributes to improvement. In the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.

下塗り層に用いる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基、及び画像記録層と密着性を向上させるために架橋性基を有するものが好ましい。更に、スルホ基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。これらの化合物は、低分子でも高分子ポリマーであってもよい。又、これらの化合物は必要に応じて2種以上を混合して使用してもよい。   As the compound used for the undercoat layer, those having an adsorptive group capable of being adsorbed on the surface of the support and a crosslinkable group for improving the adhesion to the image recording layer are preferable. Furthermore, compounds having a hydrophilicity-imparting group such as a sulfo group can also be mentioned as suitable compounds. These compounds may be low molecular weight or high molecular weight polymers. Moreover, you may use these compounds in mixture of 2 or more types as needed.

高分子ポリマーである場合は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO32、−OPO32、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3が好ましい。親水基としては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。
この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
In the case of a high molecular polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable. The adsorbable adsorptive group to the surface of the support, a phenolic hydroxy group, a carboxy group, -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 Is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group is preferable. The crosslinkable group is preferably a methacryl group or an allyl group.
This polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between the polar substituent of the polymer, a substituent having a counter charge and a compound having an ethylenically unsaturated bond, Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.

具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816、特開2005−125749、特開2006−239867、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and an ethylenic compound described in JP-A-2-304441. The phosphorus compound which has a heavy bond reactive group is mentioned suitably. Crosslinkable groups (preferably ethylenically unsaturated bond groups) described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125649, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263 interact with the support surface. Those containing a low molecular or high molecular compound having a functional group and a hydrophilic group are also preferably used.
More preferable are polymer polymers having an adsorbable group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group that can be adsorbed on the support surface described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.

下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは0.2〜5.5mmolである。
下塗り層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜100万であるのがより好ましい。
The content of unsaturated double bonds in the polymer resin for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, and most preferably 0.2 to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The polymer for the undercoat layer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 1,000,000.

本発明の下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)を含有することができる。   The undercoat layer of the present invention comprises, in addition to the above undercoat compound, a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group, or a functional group having a polymerization inhibiting ability, in order to prevent contamination over time. Compounds having a group that interacts with the surface of an aluminum support (for example, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil , Sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and the like.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

<支持体>
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
<Support>
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known support is used. Of these, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferred.
In addition, the above aluminum plate is optionally subjected to micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365, and US Pat. 714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734, or alkali metal silicates as described in U.S. Pat. Surface hydrophilization treatment with polyvinylphosphonic acid or the like as described in each specification of 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is appropriately performed and performed. be able to.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
また、支持体の色濃度は、反射濃度値で0.15〜0.65が好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm.
The color density of the support is preferably from 0.15 to 0.65 in terms of the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

本発明の支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。   If necessary, the support of the present invention includes an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a silicon alkoxy compound described in JP-A-6-35174 on the back surface. A backcoat layer can be provided.

[平版印刷版の作製方法]
本発明における平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行う又は印刷機上で現像することで平版印刷版を作製することができる。
[Preparation method of lithographic printing plate]
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the invention to image exposure and development or development on a printing machine.

<画像露光>
平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
光源の波長は300〜450nm又は750〜1400nmが好ましく用いられる。300〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Image exposure>
The lithographic printing plate precursor is imagewise exposed by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
The wavelength of the light source is preferably 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm. In the case of a light source of 300 to 450 nm, a lithographic printing plate precursor having a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and in the case of a light source of 750 to 1400 nm, absorption is performed in this wavelength region. A lithographic printing plate precursor containing an infrared absorbing agent, which is a sensitizing dye, in the image recording layer is preferably used. As the light source of 300 to 450 nm, a semiconductor laser is suitable. As a light source of 750 to 1400 nm, a solid laser and a semiconductor laser emitting infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be performed on the printing press.

<現像処理>
現像処理は、(1)pHが2〜14の現像液にて現像する方法(現像液処理方式)、又は(2)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像方式)で行うことができる。
<Development processing>
The development processing is (1) a method of developing with a developer having a pH of 2 to 14 (developer processing method), or (2) a method of developing on a printing press while adding dampening water and / or ink ( (On-press development system).

<現像液処理方式>
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
高アルカリ性現像液(pH14以上)を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。
本発明の好ましい態様によれば、pHが8〜12の現像液が使用される。この態様においては、現像液中に界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが可能となる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像−ガム液処理を行うことができる。更に、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像−ガム液処理と同時に行うことができる。現像−ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developer processing method>
In the developer processing method, the lithographic printing plate precursor subjected to image exposure is processed with a developer having a pH of 2 to 14, and the image recording layer in the non-exposed portion is removed to prepare a lithographic printing plate.
In development processing using a highly alkaline developer (pH 14 or higher), the protective layer is usually removed by a pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is washed and removed by a post-water washing step, gum treatment is performed, and drying is performed. A lithographic printing plate is produced by drying in the process.
According to a preferred embodiment of the present invention, a developer having a pH of 8 to 12 is used. In this embodiment, it is preferable that a surfactant or a water-soluble polymer compound is contained in the developer, whereby the development and the gum solution treatment can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and the development-gum solution treatment can be performed with one solution. Further, no pre-water washing step is required, and the protective layer can be removed simultaneously with the development-gum solution treatment. After the development-gum treatment, for example, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller.

本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンアルキルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−アルキル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。この中で、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   The anionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts. Branched alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether (di) sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene alkyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-alkyl-N-oleyl taurine Sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonate, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate ester salt, alkyl Acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphates Ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, saponified saponified styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, etc. Is mentioned. Of these, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.

本発明の現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a cationic surfactant used for the developing solution of this invention, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkyl imidazolinium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明の現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中で、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。   The nonionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but is a polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, alkyl naphthol ethylene oxide adduct, phenol ethylene oxide adduct. , Naphthol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide addition Dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Id) block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol type glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ether of polyhydric alcohol, fatty acid amide of alkanolamines, etc. It is done. Among these, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.

本発明の現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。具体的には、特開2008−203359号公報の段落番号〔0256〕の式(2)で示される化合物、特開2008−276166号公報の段落番号〔0028〕の式(I)、式(II)、式(VI)で示される化合物、特開2009−47927号公報の段落番号〔0022〕〜〔0029〕で示される化合物を用いることができる。   The zwitterionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaine, and amino acids such as sodium alkylamino fatty acid. . In particular, alkyldimethylamine oxide which may have a substituent, alkylcarboxybetaine which may have a substituent, and alkylsulfobetaine which may have a substituent are preferably used. Specifically, the compound represented by the formula (2) in paragraph [0256] of JP-A-2008-203359, the formula (I) and the formula (II) in paragraph [0028] of JP-A-2008-276166 are disclosed. ), A compound represented by the formula (VI), and compounds represented by paragraph numbers [0022] to [0029] of JP-A-2009-47927 can be used.

界面活性剤は現像液中に2種以上用いてもよい。現像液中に含有される界面活性剤の量は、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。   Two or more surfactants may be used in the developer. 0.01-20 mass% is preferable and, as for the quantity of surfactant contained in a developing solution, 0.1-10 mass% is more preferable.

本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩などが挙げられる。
上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、例えば、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸又は酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivatives (eg, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl Alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl sulfonic acid and The salt, polystyrene sulfonic acid, its salt, etc. are mentioned.
A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.
As the modified starch, known ones can be used. For example, starch such as corn, potato, tapioca, rice, wheat etc. is decomposed with acid or enzyme in the range of 5-30 glucose residues per molecule, and further alkali It can be made by a method of adding oxypropylene in the inside.

水溶性高分子化合物は現像液中に2種以上併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。   Two or more water-soluble polymer compounds may be used in combination in the developer. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

本発明で使用する現像液には、pH緩衝剤を含ませることができる。本発明の現像液には、pH2〜14に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン-炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物-そのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、従ってpHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。
炭酸イオン及び炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。アルカリ金属は単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、現像液に対して0.05〜5mol/Lが好ましく、0.07〜2mol/Lがより好ましく、0.1〜1mol/Lが特に好ましい。
The developer used in the present invention may contain a pH buffer. The developer of the present invention can be used without particular limitation as long as it is a buffering agent that exhibits a buffering action at a pH of 2 to 14. In the present invention, weakly alkaline buffering agents are preferably used. For example, (a) carbonate ions and hydrogen carbonate ions, (b) borate ions, (c) water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds, and their Combination use etc. are mentioned. That is, for example, a combination of (a) carbonate ion-bicarbonate ion, (b) borate ion, or (c) water-soluble amine compound-amine compound ion exhibits pH buffering action in the developer. Even when the developer is used for a long period of time, fluctuations in pH can be suppressed, and therefore, development loss due to fluctuations in pH, development debris generation, and the like can be suppressed. Particularly preferred is a combination of carbonate ions and bicarbonate ions.
In order for carbonate ions and bicarbonate ions to be present in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or by adjusting the pH after adding carbonate or bicarbonate, Ions and bicarbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. Alkali metals may be used alone or in combination of two or more.
The total amount of carbonate ions and bicarbonate ions is preferably 0.05 to 5 mol / L, more preferably 0.07 to 2 mol / L, and particularly preferably 0.1 to 1 mol / L with respect to the developer.

本発明の現像液は、有機溶剤を含有してもよい。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、G(エッソ化学(株)製)等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、1−デカノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、2−ブタノン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)等が挙げられる。   The developer of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.)), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogens, and the like. Hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents. Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1 -Nonanol, 1-decanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl Ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether Ter, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.), ketones (acetone, 2-butanone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone) , Cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate Etc.), other (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyl) Alkenyl diethanolamine, N- methyldiethanolamine, N- ethyldiethanolamine, 4- (2-hydroxyethyl) morpholine, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone and the like) and the like.

現像液に含有される有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合、安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   Two or more organic solvents can be used in combination in the developer. When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the organic solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

本発明の現像液には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007−206217号公報の段落番号〔0266〕〜〔0270〕に記載の化合物を好ましく用いることができる。   In addition to the above components, the developer of the present invention may contain preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, inorganic acids, inorganic salts, and the like. Specifically, compounds described in paragraph numbers [0266] to [0270] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.

本発明における平版印刷版原版の現像液処理は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。   The developer treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out in accordance with a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in a developer and brushing It can be carried out by a method of rubbing with a brush, a method of spraying a developer by spraying and rubbing with a brush.

本発明におけるpH2〜14の現像液による現像処理は、現像液の供給手段及び擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。また、自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。更に、自動現像処理機は現像処理手段の前に、画像露光後の平版印刷版原版を加熱処理するための前加熱手段を備えていてもよい。   In the present invention, the development treatment with a developer having a pH of 2 to 14 can be preferably carried out by an automatic development processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. An automatic developing processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. Further, the automatic processor preferably includes a means for removing excess developer such as a squeeze roller and a drying means such as a warm air device after the development processing means. Further, the automatic development processor may be provided with a preheating means for heat-treating the lithographic printing plate precursor after image exposure before the development processing means.

本発明の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができる。また、前述のような自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。   The developer of the present invention can be used as a developer and a development replenisher for an exposed lithographic printing plate precursor. Further, the present invention can be preferably applied to the automatic developing processor as described above. When developing using an automatic developing processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution.

<機上現像方式>
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び/又は水性成分によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が好適に用いられる。
<On-press development method>
In the on-press development system, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on a printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate.
In other words, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine without any development processing, or after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, image exposure is performed on the printing machine. When printing is performed by supplying the oil-based ink and the aqueous component, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed in the non-image area by the supplied oil-based ink and / or the aqueous component in the initial stage of printing. And a hydrophilic surface is exposed at the portion. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Oil-based ink or water-based component may be first supplied to the plate surface, but oil-based ink is supplied first in order to prevent the water-based component from being contaminated by the removed image recording layer component. Is preferred. In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are preferably used.

本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。この様な加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。また、現像液処理方式の場合、画像強度や耐刷性の向上を目的として、現像処理後の画像に対し、全面後加熱若しくは全面露光を行うことも有効である。通常、現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部が硬化してしまう等の問題を生じることがある。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じることがある。   In the method of preparing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire lithographic printing plate precursor is exposed before exposure, during exposure, and from exposure to development, regardless of the development method. You may heat. By such heating, an image forming reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. In the case of the developer processing method, it is also effective to perform whole surface post-heating or whole surface exposure on the image after the development processing for the purpose of improving the image strength and printing durability. Usually, heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as curing of the non-image area may occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 100-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image reinforcing action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は質量平均モル質量(Mw)であり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. In the polymer compound, the molecular weight is a mass average molar mass (Mw), and the ratio of repeating units is a mole percentage, except for those specifically defined.

[特定化合物の合成例] [Synthesis examples of specific compounds]

特定化合物(P−1)Aの合成
300mLの三口フラスコに、メタノール/水(80/20質量比)混合液:71.1gを秤取り、50℃に加熱した。反応容器に窒素を流し(流速:100mL/分)、30分間攪拌を続けた。この反応容器に、アクリルアミド:35.54gをメタノール/水(80/20質量比)混合液:35.55gに溶かした溶液AとVA−046B(和光純薬工業(株)製 水溶性アゾ系重合開始剤):1.93gと2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩:4.25gをメタノール/水(80/20質量比)混合液:35.55gに溶かした溶液Bを同時に滴下した。滴下速度は、溶液A、溶液Bそれぞれの全量が2.5時間で滴下されるように設定した。滴下終了後、そのまま2時間攪拌を実施した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、よく攪拌した酢酸エチル:1Lに反応液を滴下した。滴下終了後、30分間攪拌を続けた後、静置して析出した固体を沈殿させた。上澄み液を廃棄して、残渣に酢酸エチル:500mLを加え、30分間攪拌した。静置して析出した固体を沈殿させ、上澄み液を廃棄した。得られた固体を減圧下にて室温で乾燥した。
こうして得られた固体:30gを200mLの三口フラスコに秤取り、メタノール:60gに溶解させた。この溶液に、ナトリウムメトキシドの28質量%メタノール溶液:4.36gを加えて10分間攪拌を続けた。更に、p−トルエンスルホン酸メチル:5.48gを加えて、反応液のアミンが塩酸滴定により検出されなくなるまでメタノール還流下で攪拌を続けた。なお、反応が停止した場合は、p−トルエンスルホン酸メチルを追加して反応を続けた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、よく攪拌した酢酸エチル:1Lに反応液を滴下した。滴下終了後、30分間攪拌を続けた後、静置して析出した固体を沈殿させた。上澄み液を廃棄して、残渣に酢酸エチル:500mLを加え、30分間攪拌した。静置して析出した固体を沈殿させ、上澄み液を廃棄した。得られた固体を減圧下にて室温で乾燥し、特定化合物(P−1)Aを得た。
こうして得られた特定化合物(P−1)Aは、Mw:1200であった。
(*VA−046B: 2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジスルファート 二水和物)
Synthesis of Specific Compound (P-1) A In a 300 mL three-necked flask, 71.1 g of a methanol / water (80/20 mass ratio) mixed solution was weighed and heated to 50 ° C. Nitrogen was allowed to flow through the reaction vessel (flow rate: 100 mL / min), and stirring was continued for 30 minutes. In this reaction vessel, acrylamide: 35.54 g dissolved in methanol / water (80/20 mass ratio): 35.55 g solution A and VA-046B (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., water-soluble azo polymerization) Initiator): Solution B prepared by dissolving 1.93 g and 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride: 4.25 g in a methanol / water (80/20 mass ratio) mixed solution: 35.55 g was added dropwise at the same time. The dropping speed was set so that the total amount of each of the solution A and the solution B was dropped in 2.5 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 1 L of well-stirred ethyl acetate. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 30 minutes, and then allowed to stand to precipitate the precipitated solid. The supernatant was discarded, and 500 mL of ethyl acetate was added to the residue and stirred for 30 minutes. The solid deposited upon standing was precipitated, and the supernatant was discarded. The resulting solid was dried at room temperature under reduced pressure.
The solid thus obtained: 30 g was weighed into a 200 mL three-necked flask and dissolved in methanol: 60 g. To this solution, 4.36 g of a 28 mass% methanol solution of sodium methoxide was added and stirring was continued for 10 minutes. Furthermore, 5.48 g of methyl p-toluenesulfonate was added, and stirring was continued under methanol reflux until no amine in the reaction solution was detected by hydrochloric acid titration. When the reaction was stopped, methyl p-toluenesulfonate was added to continue the reaction. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 1 L of well-stirred ethyl acetate. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 30 minutes, and then allowed to stand to precipitate the precipitated solid. The supernatant was discarded, and 500 mL of ethyl acetate was added to the residue and stirred for 30 minutes. The solid deposited upon standing was precipitated, and the supernatant was discarded. The obtained solid was dried at room temperature under reduced pressure to obtain the specific compound (P-1) A.
The specific compound (P-1) A thus obtained was Mw: 1200.
(* VA-046B: 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] disulfate dihydrate)

特定化合物(P−1)B〜Hの合成
2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量、VA−046Bの量、重合時のメタノール/水混合液量及び重合温度を適宜変更することにより、上記と同様にして特定化合物(P−1)B〜Hを合成した。得られた特定化合物(P−1)B〜HのMwは以下の表1に示す。
Synthesis of Specific Compound (P-1) B to H By appropriately changing the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride, the amount of VA-046B, the amount of methanol / water mixture during polymerization and the polymerization temperature, Similarly, specific compounds (P-1) B to H were synthesized. Mw of the obtained specific compounds (P-1) B to H is shown in Table 1 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

特定化合物(P−2)の合成
アクリルアミドをジメチルアクリルアミドに変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−2)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-2) A specific compound (P-2) (Mw: 1200) was obtained in the same manner as the specific compound (P-1) A except that acrylamide was changed to dimethylacrylamide.

特定化合物(P−3)の合成
300mLの三口フラスコに、メタノール/水(80/20質量比)混合液:79.22gを秤取り、50℃に加熱した。反応容器に窒素を流し(流速:100mL/分)、30分間攪拌を続けた。この反応容器に、アクリルアミド:33.41gとアクリルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド:6.20gをメタノール/水(80/20質量比)混合液:39.61gに溶かした溶液AとVA−046B(和光純薬製):1.93gとイソブチルメルカプタン:2.71gをメタノール/水(80/20質量比)混合液:39.61gに溶かした溶液Bを同時に滴下した。滴下速度は、溶液A、溶液Bそれぞれの全量が2.5時間で滴下されるように設定した。滴下終了後、そのまま2時間攪拌を実施した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、よく攪拌した酢酸エチル:1Lに反応液を滴下した。滴下終了後、30分間攪拌を続けた後、静置して析出した固体を沈殿させた。上澄み液を廃棄して、残渣に酢酸エチル:500mLを加え、30分間攪拌した。静置して析出した固体を沈殿させ、上澄み液を廃棄した。得られた固体を減圧下にて室温で乾燥し、特定化合物(P−3)を得た。
こうして得られた特定化合物(P−3)は、Mw:1300であった。
Synthesis of Specific Compound (P-3) In a 300 mL three-necked flask, 79.22 g of a methanol / water (80/20 mass ratio) mixed solution was weighed and heated to 50 ° C. Nitrogen was allowed to flow through the reaction vessel (flow rate: 100 mL / min), and stirring was continued for 30 minutes. In this reaction vessel, A and VA-046B (Wako Pure) were prepared by dissolving 33.41 g of acrylamide and 6.20 g of acrylaminopropyltrimethylammonium chloride in 39.61 g of a methanol / water (80/20 mass ratio) mixed solution. (Manufactured by Yakuhin) Solution B prepared by dissolving 1.93 g and isobutyl mercaptan: 2.71 g in a methanol / water (80/20 mass ratio) mixed solution: 39.61 g was added dropwise at the same time. The dropping speed was set so that the total amount of each of the solution A and the solution B was dropped in 2.5 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 1 L of well-stirred ethyl acetate. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 30 minutes, and then allowed to stand to precipitate the precipitated solid. The supernatant was discarded, and 500 mL of ethyl acetate was added to the residue and stirred for 30 minutes. The solid deposited upon standing was precipitated, and the supernatant was discarded. The obtained solid was dried at room temperature under reduced pressure to obtain the specific compound (P-3).
The specific compound (P-3) thus obtained was Mw: 1300.

特定化合物(P−4)の合成
アクリルアミドをジメチルアクリルアミドに変更し、イソブチルメルカプタンの量を変更した以外は、特定化合物(P−3)と同様にして特定化合物(P−4)(Mw:1300)を得た。
Synthesis of specific compound (P-4) The specific compound (P-4) (Mw: 1300) is the same as the specific compound (P-3) except that acrylamide is changed to dimethylacrylamide and the amount of isobutyl mercaptan is changed. Got.

特定化合物(P−5)の合成
アクリルアミドをN−イソプロピルアクリルアミドに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−5)(Mw:1300)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-5) The specific compound (P-1) A was prepared in the same manner as the specific compound (P-1) A except that acrylamide was changed to N-isopropylacrylamide and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. P-5) (Mw: 1300) was obtained.

特定化合物(P−6)の合成
アクリルアミドをN−アクリロイルモルホリンに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−6)(Mw:1300)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-6) The specific compound (P-1) A was prepared in the same manner as the specific compound (P-1) A except that acrylamide was changed to N-acryloylmorpholine and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. P-6) (Mw: 1300) was obtained.

特定化合物(P−7)の合成
アクリルアミドをN−イソプロピルアクリルアミドに変更し、イソブチルメルカプタンの量を変更した以外は、特定化合物(P−3)と同様にして特定化合物(P−7)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-7) Specific Compound (P-7) (Mw: Mw :) except that acrylamide was changed to N-isopropylacrylamide and the amount of isobutyl mercaptan was changed. 1200).

特定化合物(P−8)の合成
アクリルアミドをN−アクリロイルモルホリンに変更し、イソブチルメルカプタンの量を変更した以外は、特定化合物(P−3)と同様にして特定化合物(P−8)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-8) Specific Compound (P-8) (Mw: Mw :) except that acrylamide was changed to N-acryloylmorpholine and the amount of isobutyl mercaptan was changed. 1200).

特定化合物(P−9)の合成
2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩を3−ジメチルアミノプロパンチオール塩酸塩に変更した以外は、特定化合物(P−2)と同様にして特定化合物(P−9)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of specific compound (P-9) The specific compound (P-9) is the same as the specific compound (P-2) except that 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride is changed to 3-dimethylaminopropanethiol hydrochloride. (Mw: 1200) was obtained.

特定化合物(P−10)の合成
p−トルエンスルホン酸メチルをp−トルエンスルホン酸プロピルに変更した以外は、特定化合物(P−2)と同様にして特定化合物(P−10)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of specific compound (P-10) The specific compound (P-10) (Mw: 1200) was the same as the specific compound (P-2) except that methyl p-toluenesulfonate was changed to propyl p-toluenesulfonate. )

特定化合物(P−11)の合成
p−トルエンスルホン酸メチルをp−トルエンスルホン酸ペンチルに変更した以外は、特定化合物(P−2)と同様にして特定化合物(P−1211)(Mw:1300)を得た。
Synthesis of specific compound (P-11) The specific compound (P-1211) (Mw: 1300) was the same as the specific compound (P-2) except that methyl p-toluenesulfonate was changed to pentyl p-toluenesulfonate. )

特定化合物(P−12)の合成
p−トルエンスルホン酸メチルをベンジルブロミドに変更した以外は、特定化合物(P−2)と同様にして特定化合物(P−12)(Mw:1300)を得た。
Synthesis of specific compound (P-12) A specific compound (P-12) (Mw: 1300) was obtained in the same manner as the specific compound (P-2) except that methyl p-toluenesulfonate was changed to benzyl bromide. .

特定化合物(P−13)の合成
アクリルアミドをアクリルアミド:17.77gとアクリル酸メチル:21.52gに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−13)(Mw:1100)を得た。
Synthesis of specific compound (P-13) The specific compound (P-1) except that acrylamide was changed to 17.77 g and methyl acrylate: 21.52 g, and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. ) A specific compound (P-13) (Mw: 1100) was obtained in the same manner as A.

特定化合物(P−14)の合成
アクリルアミドをアクリルアミド:28.43gとアクリル酸t-ブチル:12.82gに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−14)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of specific compound (P-14) The specific compound (P-14) except that acrylamide was changed to 28.43 g and t-butyl acrylate: 12.82 g, and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. -1) In the same manner as A, the specific compound (P-14) (Mw: 1200) was obtained.

特定化合物(P−15)の合成
アクリルアミドをアクリルアミド:33.76gとアクリル酸2−エチルヘキシル:4.61gに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−15)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of specific compound (P-15) The specific compound (P-15) except that acrylamide was changed to 33.76 g of acrylamide and 4.61 g of 2-ethylhexyl acrylate, and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. -1) The specific compound (P-15) (Mw: 1200) was obtained in the same manner as A.

特定化合物(P−16)の合成
アクリルアミドをジメチルアクリルアミド:44.61gとアクリル酸メチル:4.30gに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−16)(Mw:1200)を得た。
Synthesis of specific compound (P-16) Acrylamide was changed to 44.61 g and methyl acrylate: 4.30 g, and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. 1) In the same manner as A, the specific compound (P-16) (Mw: 1200) was obtained.

特定化合物(P−17)の合成
アクリルアミドをN−アクリロイルモルホリン:56.47gとアクリル酸メチル:8.61gに変更し、2−ジメチルアミノエタンチオール塩酸塩の量を変更した以外は、特定化合物(P−1)Aと同様にして特定化合物(P−17)(Mw:1100)を得た。
Synthesis of Specific Compound (P-17) The specific compound (P) except that acrylamide was changed to N-acryloylmorpholine: 56.47 g and methyl acrylate: 8.61 g, and the amount of 2-dimethylaminoethanethiol hydrochloride was changed. P-1) In the same manner as A, the specific compound (P-17) (Mw: 1100) was obtained.

[有機粘土複合体の合成例] [Synthesis example of organoclay complex]

有機粘土複合体(1)Aの合成
ソマシフME−100(コープケミカル製):1gをイオン交換水:20gに加えて、50℃に加熱した。この溶液に、特定化合物(P−1)A:1.79gをイオン交換水:20gに溶かした溶液を加えた。反応液を遠心分離にかけて固体を沈降させ、上澄み液を除去した後、イオン交換水:20gで残渣をよく洗浄した。残渣を減圧下にて乾燥させ、有機粘土複合体(1)Aを得た。得られた有機粘土複合体(1)Aを熱重量分析(TGA)により分析した結果、有機粘土複合体(1)A中の特定化合物(P−1)A含率は62.0質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (1) A Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical): 1 g was added to 20 g of ion-exchanged water and heated to 50 ° C. A solution prepared by dissolving 1.79 g of the specific compound (P-1) A in 20 g of ion-exchanged water was added to this solution. The reaction solution was centrifuged to precipitate the solid, the supernatant was removed, and the residue was thoroughly washed with 20 g of ion exchange water. The residue was dried under reduced pressure to obtain an organoclay complex (1) A. As a result of analyzing the obtained organoclay composite (1) A by thermogravimetric analysis (TGA), the specific compound (P-1) A content in the organoclay composite (1) A is 62.0% by mass. there were.

有機粘土複合体(1)B〜Hの合成
特定化合物(P−1)Aを特定化合物(P−1)B〜Hに変更した以外は、有機粘土複合体(1)Aと同様にして有機粘土複合体(1)B〜Hを合成した。得られた有機粘土複合体(1)B〜Hの特定化合物(P−1)B〜H含率は以下の表2に示す通りであった。
Synthesis of organoclay complex (1) B to H Organics similar to organoclay complex (1) A except that specific compound (P-1) A was changed to specific compounds (P-1) B to H Clay composites (1) B to H were synthesized. The specific compound (P-1) B to H content of the obtained organoclay composite (1) B to H was as shown in Table 2 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

有機粘土複合体(2)〜(17)の合成
特定化合物(P−1)Aを特定化合物(P−2)〜(P−17)に変更した以外は、有機粘土複合体(1)と同様にして有機粘土複合体(2)〜(17)を合成した。得られた有機粘土複合体をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(2)〜(17)の特定化合物含率は下表3に示す通りであった。
Synthesis of organoclay complex (2) to (17) Same as organoclay complex (1) except that specific compound (P-1) A was changed to specific compounds (P-2) to (P-17) Thus, organoclay composites (2) to (17) were synthesized. As a result of analyzing the obtained organoclay complex by TGA, the specific compound contents of the organoclay complexes (2) to (17) were as shown in Table 3 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

有機粘土複合体(18)の合成
ソマシフME−100をルーセンタイトSWN(コープケミカル製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(18)を合成した。得られた有機粘土複合体(18)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(18)の特定化合物(P−2)含率は57.4質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (18) An organoclay complex (18) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to Lucentite SWN (Coop Chemical). As a result of analyzing the obtained organoclay composite (18) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay composite (18) was 57.4% by mass.

有機粘土複合体(19)の合成
ソマシフME−100をクニピアF(クニミネ工業製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(19)を合成した。得られた有機粘土複合体(19)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(19)の特定化合物(P−2)含率は59.5質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (19) An organoclay complex (19) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to Kunipia F (Kunimine Industries). As a result of analyzing the obtained organoclay complex (19) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay complex (19) was 59.5% by mass.

有機粘土複合体(20)の合成
ソマシフME−100をクニピアW(クニミネ工業製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(20)を合成した。得られた有機粘土複合体(20)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(20)の特定化合物(P−2)含率は55.1質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (20) An organoclay complex (20) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to Kunipia W (Kunimine Industries). As a result of analyzing the obtained organoclay composite (20) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay composite (20) was 55.1% by mass.

有機粘土複合体(21)の合成
ソマシフME−100をスメクトンSA(クニミネ工業製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(21)を合成した。得られた有機粘土複合体(21)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(21)の特定化合物(P−2)含率は49.0質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (21) An organoclay complex (21) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to Smecton SA (manufactured by Kunimine Industries). As a result of analyzing the obtained organoclay composite (21) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay composite (21) was 49.0% by mass.

有機粘土複合体(22)の合成
ソマシフME−100をNTS−10(トピー工業製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(22)を合成した。得られた有機粘土複合体(22)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(22)の特定化合物(P−2)含率は61.9質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (22) An organoclay complex (22) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to NTS-10 (manufactured by Topy Industries). As a result of analyzing the obtained organoclay complex (22) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay complex (22) was 61.9% by mass.

有機粘土複合体(23)の合成
ソマシフME−100をNHT−ゾルB2(トピー工業製)に変更した以外は、有機粘土複合体(2)と同様にして有機粘土複合体(23)を合成した。得られた有機粘土複合体(23)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(23)の特定化合物(P−2)含率は57.5質量%であった。
Synthesis of the organoclay complex (23) The organoclay complex (23) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (2) except that Somasif ME-100 was changed to NHT-sol B2 (Topy Industries). . As a result of analyzing the obtained organoclay composite (23) by TGA, the specific compound (P-2) content of the organoclay composite (23) was 57.5% by mass.

有機粘土複合体(24)の合成
以下に示す方法で合成した合成膨潤性雲母15g をイオン交換水500mlに分散させて懸濁液とした。前記特定化合物(P−2):16gを溶解した水溶液300mlを、前記膨潤性雲母懸濁液に添加し、撹拌しながら室温で2時間反応させた。生成物を固液分離、洗浄して副生塩類を除去した後、乾燥して有機粘土複合体(24)を得た。得られた有機粘土複合体の特定化合物(P−2)含率は48.6質量%であった。
Synthesis of organoclay complex (24) 15 g of synthetic swellable mica synthesized by the following method was dispersed in 500 ml of ion-exchanged water to prepare a suspension. 300 ml of an aqueous solution in which 16 g of the specific compound (P-2) was dissolved was added to the swellable mica suspension and reacted at room temperature for 2 hours with stirring. The product was subjected to solid-liquid separation and washing to remove by-product salts, and then dried to obtain an organoclay complex (24). The specific organic compound (P-2) content of the obtained organoclay composite was 48.6% by mass.

膨潤性雲母の合成
特開平2−149415号公報に記載された方法に準じて、タルク13.5gとケイフッ化ナトリウム2.5g の微粉砕物を混合し、800℃で加熱処理して合成膨潤性雲母15.0g を得た。この合成膨潤性雲母の陽イオン交換容量は70ミリ当量/100g であった。
Synthesis of swellable mica According to the method described in JP-A-2-149415, pulverized product of 13.5 g of talc and 2.5 g of sodium silicofluoride is mixed and heat-treated at 800 ° C. to swell the compound. 15.0 g of mica was obtained. The synthetic swellable mica had a cation exchange capacity of 70 meq / 100 g.

有機粘土複合体(25)
特定化合物(P−2)を下記化合物(C)〔特許文献8に記載の化合物〕に変更した以外は、有機粘土複合体(24)と同様にして有機粘土複合体(25)を合成した。得られた有機粘土複合体(25)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(25)の化合物(C)含率は52.1質量%であった。
Organic clay complex (25)
An organic clay complex (25) was synthesized in the same manner as the organic clay complex (24) except that the specific compound (P-2) was changed to the following compound (C) [compound described in Patent Document 8]. As a result of analyzing the obtained organoclay composite (25) by TGA, the content of the compound (C) in the organoclay composite (25) was 52.1% by mass.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

有機粘土複合体(26)
特定化合物(P−2)を下記化合物(D)〔特許文献8に記載の化合物〕に変更した以外は、有機粘土複合体(24)と同様にして有機粘土複合体(26)を合成した。得られた有機粘土複合体(26)をTGAにより分析した結果、有機粘土複合体(26)の化合物(C)含率は31.1質量%であった。
Organic clay complex (26)
An organoclay complex (26) was synthesized in the same manner as the organoclay complex (24) except that the specific compound (P-2) was changed to the following compound (D) [compound described in Patent Document 8]. As a result of analyzing the obtained organoclay composite (26) by TGA, the content of the compound (C) in the organoclay composite (26) was 31.1% by mass.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

[平版印刷版原版の作製と評価] [Preparation and evaluation of lithographic printing plate precursor]

[実施例1〜8及び比較例1〜2] [Examples 1-8 and Comparative Examples 1-2]

(支持体の作製)
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム板表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し支持体とした。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
(Production of support)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was 0.3 mm. The surface of the aluminum plate was grained using three bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. A support was used. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(平版印刷版原版1の作製)
上記支持体に、下記の下塗り層塗布液(1)を乾燥塗布量が10mg/m2になるよう塗布し、下塗り層を有する支持体を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 1)
The following undercoat layer coating solution (1) was applied to the above support so that the dry coating amount was 10 mg / m 2 to prepare a support having an undercoat layer.

下塗り層塗布液(1)
・下塗り層用化合物(1)(Mw:60,000) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat layer coating solution (1)
・ Undercoat layer compound (1) (Mw: 60,000) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 2012071557
Figure 2012071557

上記下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。引き続き、以下の組成を有する保護層塗布液(1)を前記画像記録層上にバー塗布し、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成することにより平版印刷版原版1(比較例1用)を得た。 On the undercoat layer, an image recording layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . Subsequently, a protective layer coating solution (1) having the following composition is bar-coated on the image recording layer and oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. Thus, a lithographic printing plate precursor 1 (for Comparative Example 1) was obtained.

画像記録層塗布液(1)
・バインダーポリマー(1) 下記構造 (Mw 9万) 0.162g
・重合開始剤I−13 下記構造 0.100g
・赤外線吸収剤(1) 下記構造 0.020g
・重合性化合物、アロニックスM−215
(東亜合成(株)製、イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート) 0.385g
・フッ素系界面活性剤(1)下記構造(Mw:10,000) 0.044g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
・水 2.425g
・下記の通り合成したミクロゲル水分散液(1) 2.640g
Image recording layer coating solution (1)
-Binder polymer (1) The following structure (Mw 90,000) 0.162g
-Polymerization initiator I-13 The following structure 0.100g
・ Infrared absorber (1) 0.020 g of the following structure
Polymerizable compound, Aronix M-215
(Toa Gosei Co., Ltd., isocyanuric acid EO-modified diacrylate) 0.385 g
Fluorosurfactant (1) The following structure (Mw: 10,000) 0.044 g
・ 2-butanone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g
・ Water 2.425g
-Microgel aqueous dispersion (1) synthesized as follows: 2.640 g

Figure 2012071557
Figure 2012071557

ミクロゲル水分散液(1)の合成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10g、アロニックスM−215(東亞合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル水分散液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.23μmであった。
Synthesis of Microgel Water Dispersion (1) As an oil phase component, 10 g of trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemicals, Takenate D-110N, 75 mass% ethyl acetate solution), Aronix M-215 6.00 g (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 0.12 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 16.67 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-205 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. Distilled water was used to dilute the solid content concentration of the microgel aqueous dispersion thus obtained to 15% by mass. The average particle size was 0.23 μm.

保護層塗布液(1)
・下記無機層状化合物分散液(1) 1.5g
・テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩 0.04g
(特許文献6に記載の有機カチオン性化合物)
・ポリビニルアルコール 0.06g
((株)クラレ製PVA105、ケン化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドンK30 0.01g
(東京化成工業(株)製、Mw=4万)
・ビニルピロリドンと酢酸ビニルの共重合体LUVITEC VA64W
(ICP社製、共重合比=6/4) 0.01g
・界面活性剤エマレックス710 0.01g
日本エマルジョン(株)製
・イオン交換水 6.0g
Protective layer coating solution (1)
-1.5 g of the following inorganic layered compound dispersion (1)
・ Tetramethylammonium tetrafluoroborate salt 0.04g
(Organic cationic compound described in Patent Document 6)
・ Polyvinyl alcohol 0.06g
(Pura 105 manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)
・ Polyvinylpyrrolidone K30 0.01g
(Made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Mw = 40,000)
・ Vinyl pyrrolidone and vinyl acetate copolymer LUVITEC VA64W
(ICP, copolymerization ratio = 6/4) 0.01 g
・ Surfactant Emarex 710 0.01g
Made by Nippon Emulsion Co., Ltd. ・ Ion-exchanged water 6.0g

無機層状化合物分散液(1)の調製
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル社製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた無機層状化合物分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
Preparation of Inorganic Layered Compound Dispersion (1) 6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co.) is added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the average particle size (laser scattering method) is 3 μm using a homogenizer. Dispersed until. The aspect ratio of the obtained inorganic layered compound dispersed particles was 100 or more.

(平版印刷版原版2の作製)
保護層塗布液(1)からテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を除去した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版2(比較例2用)を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 2)
A lithographic printing plate precursor 2 (for Comparative Example 2) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor 1, except that the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt was removed from the protective layer coating solution (1).

(平版印刷版原版3の作製)
保護層塗布液(1)のテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、特定化合物(P−1)Aに変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版3を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 3)
A lithographic printing plate precursor 3 was produced in the same manner as the lithographic printing plate precursor 1, except that the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt of the protective layer coating solution (1) was changed to the specific compound (P-1) A.

(平版印刷版原版4の作製)
保護層塗布液(1)のテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、特定化合物(P−2)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版4を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 4)
A lithographic printing plate precursor 4 was produced in the same manner as the lithographic printing plate precursor 1, except that the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt of the protective layer coating solution (1) was changed to the specific compound (P-2).

(平版印刷版原版5の作製)
保護層塗布液(1)のテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、特定化合物(P−3)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版5を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 5)
A lithographic printing plate precursor 5 was produced in the same manner as the lithographic printing plate precursor 1, except that the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt of the protective layer coating solution (1) was changed to the specific compound (P-3).

(平版印刷版原版6の作製)
保護層塗布液(1)のテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、特定化合物(P−4)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版6を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 6)
A lithographic printing plate precursor 6 was produced in the same manner as the lithographic printing plate precursor 1, except that the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt in the protective layer coating solution (1) was changed to the specific compound (P-4).

(平版印刷版原版7の作製)
保護層塗布液(1)の無機層状化合物分散液(1)とテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、下記有機粘土複合体分散液(1)Aに変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版7を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 7)
The same as lithographic printing plate precursor 1 except that the inorganic layered compound dispersion (1) and tetramethylammonium tetrafluoroborate salt in the protective layer coating liquid (1) were changed to the following organoclay complex dispersion (1) A. Thus, a lithographic printing plate precursor 7 was prepared.

有機粘土複合体分散液(1)Aの調製
イオン交換水183.2gに有機粘土複合体(1)A16.8gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion liquid (1) A 16.8 g of organoclay complex (1) A is added to 183.2 g of ion-exchanged water, and the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less using a homogenizer. Dispersed.

(平版印刷版原版8の作製)
保護層塗布液(1)の無機層状化合物分散液(1)とテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、下記有機粘土複合体分散液(2)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版8を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 8)
Except that the inorganic layered compound dispersion (1) and tetramethylammonium tetrafluoroborate salt in the protective layer coating liquid (1) were changed to the following organoclay complex dispersion (2), the same as the planographic printing plate precursor 1 A lithographic printing plate precursor 8 was prepared.

有機粘土複合体分散液(2)の調製
イオン交換水183.2gに有機粘土複合体(2)16.8gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (2) Add 16.8 g of organoclay complex (2) to 183.2 g of ion-exchanged water and use an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less. Distributed.

(平版印刷版原版9の作製)
保護層塗布液(1)の無機層状化合物分散液(1)とテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、下記有機粘土複合体分散液(3)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版9を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 9)
Except that the inorganic layered compound dispersion (1) and tetramethylammonium tetrafluoroborate salt in the protective layer coating solution (1) were changed to the following organoclay complex dispersion (3), the same as the planographic printing plate precursor 1 A lithographic printing plate precursor 9 was prepared.

有機粘土複合体分散液(3)の調製
イオン交換水182.9gに有機粘土複合体(3)17.1gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (3) 17.1 g of organoclay complex (3) is added to 182.9 g of ion-exchanged water, and the average particle size (laser scattering method) is reduced to 10 μm or less using a homogenizer. Distributed.

(平版印刷版原版10の作製)
保護層塗布液(1)の無機層状化合物分散液(1)とテトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート塩を、下記有機粘土複合体分散液(4)に変更した以外は、平版印刷版原版1と同様にして平版印刷版原版10を作製した。
(Preparation of planographic printing plate precursor 10)
Except that the inorganic layered compound dispersion (1) and the tetramethylammonium tetrafluoroborate salt in the protective layer coating liquid (1) were changed to the following organoclay complex dispersion (4), the same as the planographic printing plate precursor 1 A lithographic printing plate precursor 10 was prepared.

有機粘土複合体分散液(4)の調製
イオン交換水183.6gに有機粘土複合体(4)16.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (4) Add 16.4 g of organoclay complex (4) to 183.6 g of ion-exchanged water and use an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less. Distributed.

(平版印刷版原版と保護層塗布液の評価)
得られた平版印刷版原版と保護層塗布液について以下のように評価を実施した。
結果を表4に示す。
(Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution)
The obtained lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution were evaluated as follows.
The results are shown in Table 4.

<保護層塗布液安定性>
上記平版印刷版原版1〜10の作製に使用した保護層塗布液を、作製完了後に直径2cmの試験管に深さが10cmとなる様に液を取り静置すると、無機微粒子分散液が沈降し、保護層塗布液が上部の透明な部分と、下部の無機微粒子により濁った部分とに分離した。上部の透明な部分が1cmとなるまでにかかった時間を測定し、保護層塗布液安定性として評価した。時間が長いほど安定性が高いことを示す。
<Stability of protective layer coating solution>
When the protective layer coating solution used in the preparation of the above lithographic printing plate precursors 1 to 10 is placed in a test tube having a diameter of 2 cm so as to have a depth of 10 cm after completion of the preparation, the inorganic fine particle dispersion liquid settles. The protective layer coating solution was separated into an upper transparent portion and a lower portion that was clouded by inorganic fine particles. The time taken for the upper transparent part to reach 1 cm was measured and evaluated as the protective layer coating solution stability. The longer the time, the higher the stability.

<機上現像性>
得られた平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(東京インキ(株)製CDS803を水道水で50倍に希釈したもの)とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を開始した。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、100枚以内で非画像部に汚れのない印刷物が得られた。
<On-press developability>
The resulting lithographic printing plate precursor was exposed with a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Dampening water and ink using dampening water (CDS803 manufactured by Tokyo Ink Co., Ltd. diluted 50 times with tap water) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Was started at a printing speed of 6000 sheets per hour.
The number of print sheets required until the on-press development on the printing press of the unexposed portion of the image recording layer was completed and no ink was transferred to the print paper was measured as on-press developability. When any lithographic printing plate precursor was used, a printed matter having no stain on the non-image area was obtained within 100 sheets.

<インキ着肉性>
印刷開始後、平版印刷版の画像部に徐々にインキが付着し、結果として紙上でのインキ濃度が徐々に高まる。インキ濃度が標準的印刷物濃度に達したときの印刷枚数をインキ着肉性として計測した。
<Ink fillability>
After printing starts, ink gradually adheres to the image area of the lithographic printing plate, and as a result, the ink density on the paper gradually increases. The number of printed sheets when the ink density reached the standard printed matter density was measured as the ink fillability.

<耐刷性>
インキ着肉後、更に印刷を継続すると徐々に画像記録層が磨耗する。画像記録層の磨耗が進行し、インキ受容性が低下したため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下し始める。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
<Print durability>
If the printing is further continued after ink deposition, the image recording layer gradually wears. Since the wear of the image recording layer has progressed and the ink receptivity has decreased, the ink density on the printing paper begins to decrease. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

上記の表4から分かるように、本発明の平版印刷版原版を用いれば、機上現像性と耐刷性を維持したまま高いインキ着肉性が得られ、しかも高い保護層塗布液安定性も得られる。   As can be seen from Table 4 above, when the lithographic printing plate precursor of the present invention is used, high ink setting properties can be obtained while maintaining on-press developability and printing durability, and the stability of the coating solution for the protective layer is also high. can get.

[実施例9〜20及び比較例3〜5] [Examples 9 to 20 and Comparative Examples 3 to 5]

(平版印刷版原版11の作製)
上記支持体に、上記の下塗り液(1)を乾燥塗布量が6mg/m2になるよう塗布し、下塗り層を有する支持体を作製した。
上記下塗り層形成済みの支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。引き続き、下記組成の保護層塗布液(2)を前記画像記録層上にバー塗布し、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.160g/m2の保護層を形成することで平版印刷版原版11(比較例3用)を得た。
なお、画像記録層塗布液(2)は、下記感光液及びミクロゲル液を塗布直前に混合し、攪拌することにより得た。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 11)
The undercoat liquid (1) was applied to the support so that the dry coating amount was 6 mg / m 2 to prepare a support having an undercoat layer.
An image recording layer coating liquid (2) having the following composition is bar-coated on the support on which the undercoat layer has been formed, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2. Formed. Subsequently, a protective layer coating solution (2) having the following composition is bar-coated on the image recording layer and oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.160 g / m 2. A lithographic printing plate precursor 11 (for Comparative Example 3) was obtained.
The image recording layer coating solution (2) was obtained by mixing the following photosensitive solution and microgel solution immediately before coating and stirring.

<感光液>
前記バインダーポリマー(1) 0.177g
重合開始剤I−28 下記構造 0.142g
赤外線吸収剤(2) 下記構造 0.0308g
重合性化合物(アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 0.319g
特定ポリマー(11)(還元粘度40.7CSt/g/ml) 下記構造 0.035g
(特許文献7記載のアンモニウム基含有ポリマー)
前記フッ素系界面活性剤(1) 0.004g
イオン系界面活性剤 0.125g
(パイオニンA−24−EA(竹本油脂(株)製、40質量%水溶液)
2−ブタノン 2.554g
1−メトキシ−2−プロパノール 7.023g
<Photosensitive solution>
0.177 g of the binder polymer (1)
Polymerization initiator I-28 The following structure 0.142g
Infrared absorber (2) 0.0308 g of the following structure
Polymerizable compound (Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)) 0.319 g
Specific polymer (11) (Reduced viscosity 40.7CSt / g / ml) 0.035g of the following structure
(Ammonium group-containing polymer described in Patent Document 7)
Fluorosurfactant (1) 0.004g
Ionic surfactant 0.125g
(Pionine A-24-EA (Takemoto Yushi Co., Ltd., 40% by mass aqueous solution)
2-butanone 2.554g
1-methoxy-2-propanol 7.023 g

<ミクロゲル液>
ミクロゲル水分散液(2) 1.800g
水 1.678g
<Microgel solution>
Microgel aqueous dispersion (2) 1.800 g
1.678 g of water

Figure 2012071557
Figure 2012071557

<ミクロゲル水分散液(2)の合成>
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10.0g、重合性化合物としてアロニックスM−215(東亜合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル分散液の固形分濃度を、21質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、ミクロゲル分散液(2)を得た。平均粒径は0.23μmであった。
<Synthesis of aqueous microgel dispersion (2)>
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemicals, Takenate D-110N, 75% by mass ethyl acetate solution) 10.0 g, and Aronix M-215 (Toagosei Co., Ltd.) as a polymerizable compound 6.00 g of Pionine A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 16.67 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-205 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microgel dispersion thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 21% by mass to obtain a microgel dispersion (2). The average particle size was 0.23 μm.

<保護層塗布液(2)>
・下記無機層状化合物分散液(2) 1.5g
・ポリビニルアルコール 0.06g
(PVA105、(株)クラレ製、けん化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 0.01g
(ポリビニルピロリドンK30、東京化成工業(株)製、Mw=4万)
・ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体 0.01g
(LUVITEC VA64W、ISP社製、共重合比=6/4)
・ノニオン系界面活性剤 0.013g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution (2)>
-1.5 g of the following inorganic layered compound dispersion (2)
・ Polyvinyl alcohol 0.06g
(PVA105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)
・ Polyvinylpyrrolidone 0.01g
(Polyvinylpyrrolidone K30, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., Mw = 40,000)
・ Vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer 0.01g
(LUVITEC VA64W, manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4)
・ Nonionic surfactant 0.013g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Ion-exchanged water 6.0g

<無機層状化合物分散液(2)の調製>
イオン交換水193.6gに対して、合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)を6.4gの割合で添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散無機粒子のアスペクト比は100以上であった。
<Preparation of inorganic layered compound dispersion (2)>
Synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added at a ratio of 6.4 g to 193.6 g of ion-exchanged water, and the average particle diameter (laser scattering method) is 3 μm using a homogenizer. Dispersed. The aspect ratio of the obtained dispersed inorganic particles was 100 or more.

(平版印刷版原版12の作製)
上記感光液中の特定ポリマー(11)を以下に示す特定ポリマー(2)(特許文献7に記載のアンモニウム基含有ポリマー、還元粘度25.5CSt/g/ml)に変更した以外は、平版印刷版原版11と同様にして平版印刷版原版12(比較例4用)を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 12)
The lithographic printing plate except that the specific polymer (11) in the photosensitive solution is changed to the following specific polymer (2) (ammonium group-containing polymer described in Patent Document 7, reduced viscosity 25.5 CSt / g / ml) A lithographic printing plate precursor 12 (for Comparative Example 4) was produced in the same manner as the precursor 11.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

(平版印刷版原版13の作製)
上記感光液中の特定ポリマー(11)を、保護層塗布液(2)に添加(0.035g)した以外は、平版印刷版原版11と同様にして平版印刷版原版13(比較例5用)を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursor 13)
The lithographic printing plate precursor 13 (for Comparative Example 5) is the same as the lithographic printing plate precursor 11 except that the specific polymer (11) in the photosensitive solution is added (0.035 g) to the protective layer coating solution (2). Was made.

(平版印刷版原版14〜17の作製)
上記感光液中の特定ポリマー(11)を、それぞれ特定化合物(P−5)〜(P−8)に変更した以外は、平版印刷版原版11と同様にして平版印刷版原版14〜17を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 14 to 17)
The lithographic printing plate precursors 14 to 17 are produced in the same manner as the lithographic printing plate precursor 11 except that the specific polymer (11) in the photosensitive solution is changed to the specific compounds (P-5) to (P-8), respectively. did.

(平版印刷版原版18〜21の作製)
上記感光液中の特定ポリマー(11)を、特定化合物(P−5)〜(P−8)に変更した以外は、平版印刷版原版13と同様にして平版印刷版原版18〜21を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 18 to 21)
The lithographic printing plate precursors 18 to 21 were prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor 13 except that the specific polymer (11) in the photosensitive solution was changed to the specific compounds (P-5) to (P-8). .

(平版印刷版原版22〜25の作製)
上記感光液中の特定ポリマー(11)を除去し、保護層塗布液(2)中の層状化合物分散液(2)を下記有機粘土複合体分散液(5)〜(8)に変更した以外は、平版印刷版原版11と同様にして平版印刷版原版22〜25を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 22 to 25)
The specific polymer (11) in the photosensitive solution was removed, and the layered compound dispersion (2) in the protective layer coating solution (2) was changed to the following organoclay complex dispersions (5) to (8). The lithographic printing plate precursors 22 to 25 were prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor 11.

有機粘土複合体分散液(5)の調製
イオン交換水183.0gに有機粘土複合体(5)17.0gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (5) Add 17.0 g of organoclay complex (5) to 183.0 g of ion-exchanged water, and use a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less. Distributed.

有機粘土複合体分散液(6)の調製
イオン交換水182.7gに有機粘土複合体(6)17.3gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (6) Add 17.3 g of organoclay complex (6) to 182.7 g of ion-exchanged water and use a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less. Distributed.

有機粘土複合体分散液(7)の調製
イオン交換水183.8gに有機粘土複合体(7)16.2gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (7) 16.2 g of organoclay complex (7) is added to 183.8 g of ion-exchanged water, and the average particle size (laser scattering method) is reduced to 10 μm or less using a homogenizer. Distributed.

有機粘土複合体分散液(8)の調製
イオン交換水182.9gに有機粘土複合体(8)17.1gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が10μm以下になるまで分散した。
Preparation of organoclay complex dispersion (8) Add 17.1 g of organoclay complex (8) to 182.9 g of ion-exchanged water and use an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 10 μm or less. Distributed.

(平版印刷版原版及び保護層塗布液の評価) (Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution)

<保護層塗布液安定性>
上記平版印刷版原版11〜25の作製に使用した保護層塗布液を、前述の方法によって評価した。結果を表5に示す。
<Stability of protective layer coating solution>
The protective layer coating solution used for the production of the lithographic printing plate precursors 11 to 25 was evaluated by the method described above. The results are shown in Table 5.

<機上現像性の評価>
水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力11.7W、外面ドラム回転数250rpm、解像度2400dpiの条件で露光した後、露光済みの平版印刷版原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。この時、画像記録層の未露光部(非画像部)に、インキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として評価した。枚数が少ないほど、機上現像性に優れると評価する。結果を表5に示す。
<Evaluation of on-press developability>
After exposure on a Trend setter 3244VX manufactured by Creo with a water-cooled 40W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 11.7 W, an outer drum rotation speed of 250 rpm, and a resolution of 2400 dpi, the exposed lithographic printing plate precursor is not developed and processed by Heidelberg. Attached to the cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by the company, dampening water (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G ( N) Using black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), after supplying dampening water and ink, printing was performed at a printing speed of 6,000 sheets per hour. At this time, the number of print sheets required until the ink was not transferred to the unexposed portion (non-image portion) of the image recording layer was evaluated as on-press developability. The smaller the number, the better the on-press developability. The results are shown in Table 5.

<インキ着肉性の評価>
機上現像性評価と同様にして露光した平版印刷版原版を用いて印刷を行い、印刷枚数を増やしていくなかで、徐々に画像記録層のインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.01低下したときの印刷枚数を着肉性として評価した。枚数が多いほど、着肉性に優れると評価する。結果を表5に示す。
<Evaluation of ink fillability>
Ink density on the printing paper is reduced as printing is performed using the lithographic printing plate precursor exposed in the same way as on-press developability evaluation, and the ink receptivity of the image recording layer gradually decreases as the number of printed sheets increases. Decreases. The number of printed sheets when the ink density (reflection density) was decreased by 0.01 from the start of printing was evaluated as the inking property. It is evaluated that the larger the number, the better the inking property. The results are shown in Table 5.

<耐刷性の評価>
機上現像性評価と同様にして露光した平版印刷版原版を用いて印刷を行い、更に印刷を続け、印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。枚数が多いほど、耐刷性に優れると評価する。結果を表5に示す。
<Evaluation of printing durability>
Printing is performed using the exposed lithographic printing plate precursor in the same manner as on-machine developability evaluation, and further printing is continued.If the number of printed sheets is increased, the image recording layer gradually wears and the ink acceptability decreases. Ink density in printing paper decreases. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The larger the number of sheets, the better the printing durability. The results are shown in Table 5.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

表5から分かるように、本発明の平版印刷版原版は、比較例のものに対して、耐刷性が同等で保護層塗布液安定性と現像性と着肉性に優れる。   As can be seen from Table 5, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has the same printing durability as that of the comparative example and is excellent in the stability of the protective layer coating solution, the developability and the inking property.

[実施例21〜28] [Examples 21 to 28]

(平版印刷版原版26〜33の作製)
(1)支持体(2)の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム板表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
続いて、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、この板に15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/mであった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
(Preparation of planographic printing plate precursors 26 to 33)
(1) Production of support (2) In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material JIS A 1050) having a thickness of 0.3 mm, degreasing is carried out at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution. After the treatment, the surface of the aluminum plate was grained using three bundled nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension having a median diameter of 25 μm (specific gravity: 1.1 g / cm 3 ). Washed well with. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
Subsequently, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying.
Next, a 2.5 g / m 2 direct current anodic oxide film having a current density of 15 A / dm 2 was provided on the plate as a 15% by weight sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ions) as an electrolyte, followed by washing with water. And dried to prepare a support (1).
Thereafter, in order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, the support (1) was subjected to a silicate treatment at 60 ° C. for 10 seconds using an aqueous 2.5 mass% No. 3 sodium silicate solution, and then washed with water for support. Body (2) was obtained. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

(2)下塗り層の形成
次に、上記支持体(2)上に、下記下塗り層用塗布液(2)を乾燥塗布量が20mg/mになるよう塗布して、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。
(2) Formation of undercoat layer Next, the following undercoat layer coating solution (2) is applied onto the support (2) so that the dry coating amount is 20 mg / m 2 , and used in the following experiments. A support having a layer was prepared.

<下塗り層用塗布液(2)>
・下記構造の下塗り層用化合物(2) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
<Coating liquid for undercoat layer (2)>
-Undercoat layer compound (2) having the following structure: 0.18 g
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g

Figure 2012071557
Figure 2012071557

(3)画像記録層の形成
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(3)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(3)は下記感光液(2)及び下記ミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
(3) Formation of image recording layer The image recording layer coating solution (3) having the following composition was bar coated on the undercoat layer formed as described above, and then oven-dried at 100 ° C for 60 seconds to obtain a dry coating amount. An image recording layer of 1.0 g / m 2 was formed.
The image recording layer coating solution (3) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (2) and the following microgel solution immediately before coating.

<感光液(2)>
・バインダーポリマー(2)〔下記構造〕 0.240g
・赤外線吸収剤(2)〔上記構造〕 0.030g
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.162g
・重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・表6に記載の特定化合物 0.035g
・前記フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution (2)>
-Binder polymer (2) [the following structure] 0.240 g
Infrared absorber (2) [above structure] 0.030 g
・ Polymerization initiator (1) [the following structure] 0.162 g
Polymerizable compound tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.192 g
・ Low molecular weight hydrophilic compound Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate 0.062g
・ Low molecular weight hydrophilic compound (1) [the following structure] 0.050 g
-Sensitizing agent Phosphonium compound (1) [the following structure] 0.055 g
・ Sensitizer Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt 0.018g
-Specific compounds listed in Table 6 0.035 g
-Fluorine-based surfactant (1) 0.008 g
・ 2-butanone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

<ミクロゲル液>
・ミクロゲル水分散液(3) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Microgel solution>
-Microgel aqueous dispersion (3) 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

上記の、バインダーポリマー(2)、重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物(1)の構造は、以下に示す通りである。   The structures of the binder polymer (2), the polymerization initiator (1), the phosphonium compound (1), and the low molecular weight hydrophilic compound (1) are as shown below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

−ミクロゲル水分散液(3)の合成−
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これをミクロゲル水分散液(3)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
-Synthesis of aqueous microgel dispersion (3)-
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, And 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-205 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The microgel solution thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and this was used as a microgel aqueous dispersion (3). When the average particle size of the microgel was measured by a light scattering method, the average particle size was 0.2 μm.

(3)保護層の形成
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液(3)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成して平版印刷版原版26〜33を得た。
(3) Formation of Protective Layer After the bar coating of the protective layer coating solution (3) having the following composition was further applied on the image recording layer, it was oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount was 0.15 g / m 2. A lithographic printing plate precursor 26 to 33 was obtained.

<保護層塗布液(3)>
・前記無機層状化合物分散液(2) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution (3)>
・ 1.5 g of the inorganic layered compound dispersion (2)
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

得られた平版印刷版原版を、実施例1と同様にして機上現像性、耐刷性、インキ着肉性を評価した。結果を以下の表6に示す。   The resulting lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for on-press developability, printing durability, and ink deposition. The results are shown in Table 6 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

表6に示すように、本発明の平版印刷版原版は、機上現像性、耐刷性、インキ着肉性のいずれも良好であるが、特定化合物がMw500以下であるとインキ着肉性が若干低下し、Mw50000以上であると現像性が若干低下する。   As shown in Table 6, the lithographic printing plate precursor of the present invention has good on-press developability, printing durability, and ink setting property, but the ink setting property when the specific compound is Mw 500 or less. When it is Mw 50000 or more, developability is slightly lowered.

[実施例29〜36] [Examples 29 to 36]

(平版印刷版原版34〜41の作製)
感光液(2)から特定化合物を除去し、保護層塗布液(3)を以下の保護層塗布液(4)に変更した以外は、平版印刷版原版26と同様にして平版印刷版原版34〜41を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 34 to 41)
The planographic printing plate precursors 34 to 34 are the same as the planographic printing plate precursor 26 except that the specific compound is removed from the photosensitive solution (2) and the protective layer coating solution (3) is changed to the following protective layer coating solution (4). 41 was produced.

<保護層塗布液(4)>
・表7に記載の有機粘土複合体 1.5g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution (4)>
・ 1.5 g of organoclay composites listed in Table 7
・ Ion-exchanged water 6.0g

(平版印刷版原版及び保護層塗布液の評価)
得られた平版印刷版原版について、実施例1と同様にして保護層塗布液安定性、機上現像性、耐刷性、インキ着肉性を評価した。結果を以下の表7に示す。
(Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution)
The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protective layer coating solution stability, on-press developability, printing durability, and ink landing property. The results are shown in Table 7 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

表7に示すように、本発明の平版印刷版原版は、保護層塗布液安定性、機上現像性、耐刷性、インキ着肉性のいずれも良好であるが、本発明の特定化合物がMw500以下であると保護層塗布液安定性とインキ着肉性が若干低下し、Mw50000以上で現像性と耐刷性が若干低下する。   As shown in Table 7, the lithographic printing plate precursor of the present invention is good in all of the protective layer coating solution stability, on-press developability, printing durability, and ink landing property. When the Mw is 500 or less, the stability of the protective layer coating solution and the ink deposition property are slightly lowered, and when the Mw is 50000 or more, the developability and the printing durability are slightly lowered.

[実施例37〜40] [Examples 37 to 40]

(平版印刷版原版42〜45の作製)
ブラシ研磨されリン酸陽極酸化された、ポリアクリル酸後処理済のアルミニウム基板に、以下に示す画像記録層塗布液(4)を、巻線ロッドを使用して適用し、次いで、90℃で設定されたRanarコンベヤ炉内で約90秒にわたって乾燥させた。得られた乾燥塗布量は1.5g/mであった。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 42 to 45)
The following image recording layer coating solution (4) was applied to a brush-polished and phosphoric acid-anodized polyacrylic acid post-treated aluminum substrate using a winding rod and then set at 90 ° C. And dried in a Ranar conveyor furnace for about 90 seconds. The dry coating amount obtained was 1.5 g / m 2 .

<画像記録層塗布液(4)>
・ウレタンアクリレート 2.48g
・コポリマー1 13.53g
・コポリマー2 3.97g
・赤外線吸収剤(3)[下記構造] 0.13g
・重合開始剤 Irgacure250(チバスペシャリティケミカルズ製) 0.42g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.18g
・Byk336(Byk Chimie社製) 0.60g
・KlucelM(Hercules社製) 3.31g
・プロパノール 61.97g
・イオン交換水 13.41g
<Image recording layer coating solution (4)>
・ Urethane acrylate 2.48g
・ Copolymer 1 13.53 g
・ Copolymer 2 3.97 g
・ Infrared absorber (3) [the following structure] 0.13 g
・ Polymerization initiator Irgacure250 (Ciba Specialty Chemicals) 0.42g
・ Mercapto-3-triazole 0.18g
・ Byk336 (Byk Chimie) 0.60g
・ KlucelM (Hercules) 3.31g
・ Propanol 61.97g
・ Ion-exchanged water 13.41g

上記処方中の化合物は以下の通りである。
*ウレタンアクリレート: DESMODUR N100と、ヒドロキシエチルアクリレート及びペンタエリトリトールトリアクリレートとの反応により得られるウレタンアクリレートの、80質量% 2−ブタノン溶液
*コポリマー1: 54gのプロパノールと16gの脱イオン水との混合物を250mLフラスコ内に装入し、これを70℃まで加熱し、窒素ガスの定常流でパージし、そして機械的撹拌器で撹拌した。54gのプロパノール、16gの脱イオン水、10gのPEGMA、4.5gのスチレン、40.5gのアクリロニトリル、及び0.32gのVAZO−64の混合物を別個のビーカー内に準備し、次いでこれを30分間にわたって250mLフラスコに液滴状に添加した。2.5時間後、反応混合物に0.16gのVAZO−64を添加した。重合反応は更に2時間続いた。結果として生じたポリマー溶液は、21質量%固形分のコポリマー1を含有した。
*コポリマー2: 2−ブタノン(384.1g)及び8.5gのPEGMAを、窒素雰囲気下で1L四口フラスコ内に装入し、そして80℃まで加熱した。アリルメタクリレート(38.0g)とVAZO−64(0.3g)との予混合物を、90分間にわたって80℃で添加した。添加が完了した後、VAZO−64を更に0.13g添加した。その後、0.13gのVAZO−64を更に2回添加した。不揮発分パーセントに基づくポリマー変換率は、>98%であった。
*PEGMA: Sigma−Aldrich Corp.(St. Louis, Missouri)から入手可能なポリ(エチレングリコール)メチルエーテルメタクリレート;50質量%水溶液として、平均Mn〜2080。
*VAZO−64: E. I. du Pont de Nemours and Co. (Wilmington, Delaware)から入手可能な2,2’−アゾビスイソブチロニトリル。
*赤外線吸収剤(3): 下記構造
The compounds in the above formulation are as follows.
* Urethane acrylate: 80% by weight 2-butanone solution of urethane acrylate obtained by reaction of DESMODUR N100 with hydroxyethyl acrylate and pentaerythritol triacrylate * Copolymer 1: a mixture of 54 g of propanol and 16 g of deionized water. Charged into a 250 mL flask, which was heated to 70 ° C., purged with a steady stream of nitrogen gas, and stirred with a mechanical stirrer. A mixture of 54 g propanol, 16 g deionized water, 10 g PEGMA, 4.5 g styrene, 40.5 g acrylonitrile, and 0.32 g VAZO-64 was prepared in a separate beaker, which was then added for 30 minutes. Over a 250 mL flask. After 2.5 hours, 0.16 g of VAZO-64 was added to the reaction mixture. The polymerization reaction lasted for another 2 hours. The resulting polymer solution contained 21% solids by weight of copolymer 1.
* Copolymer 2: 2-butanone (384.1 g) and 8.5 g of PEGMA were charged into a 1 L four neck flask under a nitrogen atmosphere and heated to 80 ° C. A premix of allyl methacrylate (38.0 g) and VAZO-64 (0.3 g) was added at 80 ° C. over 90 minutes. After the addition was complete, an additional 0.13 g of VAZO-64 was added. Thereafter, 0.13 g of VAZO-64 was added twice more. The polymer conversion based on percent nonvolatiles was> 98%.
* PEGMA: Sigma-Aldrich Corp. Poly (ethylene glycol) methyl ether methacrylate available from (St. Louis, Missouri); average Mn-2080 as a 50 wt% aqueous solution.
* VAZO-64: E.E. I. du Pont de Nemours and Co. 2,2′-Azobisisobutyronitrile available from (Wilmington, Delaware).
* Infrared absorber (3): The following structure

Figure 2012071557
Figure 2012071557

*IRGACURE 250: Ciba Specialty Chemicals(Tarrytown, New York)から入手可能な、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートの75質量%プロピレンカーボネート溶液
*Byk 336: Byk−Chemie USA Inc.(Wallingford, Connecticut)から入手可能な、25質量% キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液中の改質ジメチルポリシロキサンコポリマー
*KLUCEL M: Hercules Inc., Aqualon Division(Wilmington, Delaware)から入手可能な、ヒドロキシプロピルセルロースの2質量%水溶液(粘度:5.000 mPa・s)
* IRGACURE 250: 75 wt% propylene carbonate solution of (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium hexafluorophosphate available from Ciba Specialty Chemicals (Tarrytown, New York) * Byk 336: Byk-Chemie USA Inc. (Wallingford, Connecticut), a modified dimethylpolysiloxane copolymer in a 25 wt% xylene / methoxypropyl acetate solution * KLUCEL M: Hercules Inc. , Aqualon Division (Wilmington, Delaware), 2% by weight aqueous solution of hydroxypropylcellulose (viscosity: 5.000 mPa · s)

得られた画像記録層上に、以下の組成を有する保護層塗布液(5)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.35g/mの保護層を形成して平版印刷版原版を得た。 A protective layer coating solution (5) having the following composition was bar coated on the obtained image recording layer, and then oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.35 g / m 2. This was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

<保護層塗布液(5)>
・表8に記載の有機粘土複合体分散液 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution (5)>
・ 1.5 g of organoclay composite dispersion described in Table 8
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(平版印刷版原版及び保護層塗布液の評価)
得られた平版印刷版原版について、実施例1と同様にして保護層塗布液安定性、機上現像性、耐刷性、インキ着肉性を評価した。結果を以下の表8に示す。
(Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution)
The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protective layer coating solution stability, on-press developability, printing durability, and ink landing property. The results are shown in Table 8 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

[実施例41〜45] [Examples 41 to 45]

(平版印刷版原版46〜50の作製)
ブラシ研磨されリン酸陽極酸化された、ポリアクリル酸後処理済のアルミニウム基板に、以下に示す画像記録層塗布液(5)を、巻線ロッドを使用して適用し、次いで、90℃で設定されたRanarコンベヤ炉内で約90秒にわたって乾燥させた。得られた乾燥塗布質量は0.88g/m であった。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 46-50)
The following image recording layer coating solution (5) was applied to a brush-polished and phosphoric acid-anodized polyacrylic acid post-treated aluminum substrate using a winding rod and then set at 90 ° C. And dried in a Ranar conveyor furnace for about 90 seconds. The dry coating mass obtained was 0.88 g / m 2 .

画像記録層塗布液(5)
・ポリマーA 3.56g
・オリゴマーA 1.21g
・赤外線吸収剤(4) 0.16g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.11g
・SR−399 2.43g
・Klucel E 3.89g
・NaBPh4 0.08g
・Byk336 0.35g
・Blue 63 1.79g
・2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン 0.09g
・Irganox 1035 0.19g
・Irgacure 250(前記) 0.37g
・プロパノール 63.05g
・イオン交換水 5.38g
・2−ブタノン 17.34g
Image recording layer coating solution (5)
・ Polymer A 3.56g
・ Oligomer A 1.21 g
・ Infrared absorber (4) 0.16g
・ Mercapto-3-triazole 0.11g
・ SR-399 2.43g
・ Klucel E 3.89g
・ NaBPh 4 0.08g
・ Byk336 0.35g
・ Blue 63 1.79g
・ 2,4-Dihydroxybenzophenone 0.09g
・ Irganox 1035 0.19g
・ Irgacure 250 (above) 0.37g
・ Propanol 63.05 g
・ Ion exchange water 5.38g
・ 2-butanone 17.34g

上記処方中の化合物は以下の通りである。
*オリゴマーA: 上記ウレタンアクリレート。
*ポリマーA: PEGMA/スチレン/アクリロニトリル=10/20/70(質量比)共重合体(24質量%のプロパノール溶液)。
*赤外線吸収剤(4): (下記構造)
The compounds in the above formulation are as follows.
* Oligomer A: The above urethane acrylate.
* Polymer A: PEGMA / styrene / acrylonitrile = 10/20/70 (mass ratio) copolymer (24 mass% propanol solution).
* Infrared absorber (4): (Structure below)

Figure 2012071557
Figure 2012071557

*SR−399: ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社製)(40質量%の2−ブタノン溶液として使用)。
*Klucel E: ヒドロキシプロピルセルロースの5質量%水溶液(Hercules製)
*Blue 63: 下記構造
* SR-399: Dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Sartomer) (used as a 40% by weight 2-butanone solution).
* Klucel E: 5% by mass aqueous solution of hydroxypropylcellulose (Hercules)
* Blue 63: The following structure

Figure 2012071557
Figure 2012071557

*Irganox 1035: チオジエチレンビス(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシヒドロシンナメートの5質量%の2-ブタノン溶液(Ciba Specialty Chemicals製)。 * Irganox 1035: Thiodiethylene bis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate 5 mass% 2-butanone solution (Ciba Specialty Chemicals).

得られた画像記録層上に、前記保護層塗布液(5)(ただし、有機粘土複合体水分散液は、表9に記載のものを使用。)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.35g/mの保護層を形成して平版印刷版原版を得た。 On the obtained image recording layer, the protective layer coating liquid (5) (however, the organic clay composite aqueous dispersion used is the one described in Table 9) was bar coated, and then 120 ° C., 60 seconds. And a protective layer having a dry coating amount of 0.35 g / m 2 was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

(平版印刷版原版及び保護層塗布液の評価)
得られた平版印刷版原版について、実施例1と同様にして保護層塗布液安定性、機上現像性、耐刷性、インキ着肉性を評価した。結果を以下の表9に示す。
(Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution)
The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for the protective layer coating solution stability, on-press developability, printing durability, and ink landing property. The results are shown in Table 9 below.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

[実施例46〜52及び比較例6〜7] [Examples 46 to 52 and Comparative Examples 6 to 7]

(平版印刷版原版51〜59の作製)
画像記録層塗布液(1)を以下の画像記録層塗布液(6)に変更し、保護層塗布液(1)を以下の保護層塗布液(6)に変更した以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版51〜59を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors 51-59)
Example 1 except that the image recording layer coating liquid (1) was changed to the following image recording layer coating liquid (6) and the protective layer coating liquid (1) was changed to the following protective layer coating liquid (6). Similarly, lithographic printing plate precursors 51 to 59 were prepared.

画像記録層塗布液(6)
・下記バインダーポリマー(3) (Mw:80、000) 0.34g
・下記重合性化合物(2) 0.68g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(2) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.02g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸
共重合体(Mw:6万、共重合モル比:83/17)):
10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・熱重合禁止剤
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 0.01g
・前記フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.02g
((株)ADEKA製、プルロニックL44)
・黄色顔料の分散物 0.04g
(黄色顔料Novoperm Yellow H2G(クラリアント製):15質量部、
分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (Mw:6万、
共重合モル比83/17)):10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・2−ブタノン 8.0g
Image recording layer coating solution (6)
-The following binder polymer (3) (Mw: 80,000) 0.34 g
・ The following polymerizable compound (2) 0.68 g
(PLEX6661-O, manufactured by Degussa Japan)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (2) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.02 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (Mw: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17)):
(10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
-Thermal polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.01 g
-Fluorine-based surfactant (1) 0.001 g
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.02g
(Pluronic L44, manufactured by ADEKA Corporation)
・ Dispersion of yellow pigment 0.04g
(Yellow pigment Novoperm Yellow H2G (manufactured by Clariant): 15 parts by mass,
Dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (Mw: 60,000,
Copolymerization molar ratio 83/17)): 10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ 2-butanone 8.0g

Figure 2012071557
Figure 2012071557

<保護層塗布液(6)>
・表10に記載の有機粘土複合体分散液 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Protective layer coating solution (6)>
・ 1.5 g of organoclay composite dispersion described in Table 10
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(平版印刷版原版の露光、現像及び印刷)
表10に示す各平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd.(FFEI社)製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー(発光波長405nm±10nm/出力30mW)を搭載)により画像露光した。画像露光は、解像度2,438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、網点面積率が50%となるように、版面露光量0.05mJ/cmで行った。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを行った後、下記の現像液1を用い、図1に示すような構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。自動現像処理機は、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを1本有し、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。現像液の温度は30℃であった。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。現像処理後、乾燥部にて乾燥を行った。乾燥温度は80℃であった。
(Exposure, development and printing of planographic printing plate precursor)
Each lithographic printing plate precursor shown in Table 10 was obtained from FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was performed with a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (InGaN-based semiconductor laser (with an emission wavelength of 405 nm ± 10 nm / output 30 mW) mounted) manufactured by (FFEI). Image exposure was performed at a plate surface exposure of 0.05 mJ / cm 2 with a resolution of 2,438 dpi and an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by FUJIFILM Corporation so that the dot area ratio was 50%.
Next, after preheating at 100 ° C. for 30 seconds, the following developing solution 1 was used, and development processing was performed with an automatic developing processor having a structure as shown in FIG. The automatic processor has one brush roll with an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted, and rotates 200 times per minute in the same direction as the conveying direction ( The peripheral speed of the brush tip was 0.52 m / sec). The temperature of the developer was 30 ° C. The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min. After the development processing, drying was performed in a drying section. The drying temperature was 80 ° C.

<現像液1>
・炭酸ナトリウム 13.0g
・炭酸水素ナトリウム 7.0g
・ニューコールB13(日本乳化剤(株)製、ポリオキシエチレン
β−ナフチルエーテル(オキシエチレン平均数n=13) 50.0g
・リン酸第一アンモニウム 2.0g
・2−ブロモ−2−ニトロプロパンー1、3−ジオール 0.01g
・2−メチル−4−イソチアゾリンー3−オン 0.01g
・クエン酸三ナトリウム 15.0g
・蒸留水 913.98g
(現像液1のpH:9.8)
<Developer 1>
・ Sodium carbonate 13.0g
・ 7.0g sodium bicarbonate
・ New Coal B13 (Nippon Emulsifier Co., Ltd., polyoxyethylene β-naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13) 50.0 g
・ Primary ammonium phosphate 2.0g
・ 2-Bromo-2-nitropropane-1,3-diol 0.01 g
・ 0.01 g of 2-methyl-4-isothiazolin-3-one
・ Trisodium citrate 15.0g
・ Distilled water 913.98 g
(PH of developer 1: 9.8)

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

(平版印刷版原版及び保護層塗布液安定性の評価)
各平版印刷版原版について、保護層塗布液安定性、耐刷性、インキ着肉性、現像性を下記のように評価した。結果を表10に示す。
(Evaluation of lithographic printing plate precursor and protective layer coating solution stability)
For each lithographic printing plate precursor, the protective layer coating solution stability, printing durability, ink landing property, and developability were evaluated as follows. The results are shown in Table 10.

<保護層塗布液安定性>
前述の手法に従って評価した。
<Stability of protective layer coating solution>
Evaluation was performed according to the method described above.

<耐刷性>
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
<Print durability>
As the number of printed sheets increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink acceptance decreased, so that the ink density in the printing paper decreased. In the printing plate exposed with the same exposure amount, the printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.

<インキ着肉性>
実施例1と同様の手法に従って評価した。
<Ink fillability>
Evaluation was performed according to the same method as in Example 1.

<現像性>
種々の搬送速度で上記の現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度(cm/min)を求め、現像性とした。
<Developability>
The above development processing was performed at various conveying speeds, and the cyan density of the non-image area of the obtained lithographic printing plate was measured with a Macbeth densitometer. The transport speed (cm / min) at which the cyan density of the non-image area became equal to the cyan density of the aluminum support was determined and defined as developability.

Figure 2012071557
Figure 2012071557

4 平版印刷版原版(PS版)
6 現像部
10 乾燥部
16 搬入ローラ
20 現像槽
22 搬送ローラ
24 ブラシローラ
26 スクイズローラ(搬出ローラ)
28 バックアップローラ
36 ガイドローラ
38 串ローラ
4 Planographic printing plate precursor (PS version)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 6 Developing part 10 Drying part 16 Carry-in roller 20 Developing tank 22 Carrying roller 24 Brush roller 26 Squeeze roller (unloading roller)
28 Backup roller 36 Guide roller 38 Skewer roller

Claims (17)

支持体上に、重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有する画像記録層、並びに無機層状化合物を含有する保護層を有する平版印刷版原版であって、下記一般式(1)で示される官能基と下記一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを画像記録層及び保護層の少なくともいずれかに含有することを特徴とする平版印刷版原版。
Figure 2012071557
式中、R〜Rは各々独立に炭素原子数1〜7のアルキル基又はアリール基を表し、R〜Rの任意の2つで環を形成してもよく、XはN又はPを表し、Lは2価の連結基を表し、Yはカウンターアニオンを表し、Rは水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、R〜Rは各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を表すか、RとRは連結して−CHCHCH−、−CHCHCHCH−、−CHCHCHCHCH−もしくは−CHCHOCHCH−を表す。
A lithographic printing plate precursor having, on a support, an image recording layer containing a polymerization initiator and a radical polymerizable compound, and a protective layer containing an inorganic layered compound, the functional group represented by the following general formula (1) And a polymer having a structural unit represented by the following general formula (2) in at least one of the image recording layer and the protective layer.
Figure 2012071557
In the formula, R 1 to R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 7 carbon atoms, and any two of R 1 to R 3 may form a ring, and X is N or P represents L 1 represents a divalent linking group, Y represents a counter anion, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 5 to R 6 each independently Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R 5 and R 6 are connected to each other to represent —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2. CH 2 CH 2 CH 2 — or —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 — is represented.
一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを画像記録層に含有することを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the image recording layer contains a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2). 一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーを保護層に含有することを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the protective layer contains a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2). 無機層状化合物に存在する陽イオンを、一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーで置換し、有機粘土複合体を形成した後、保護層塗布液に添加し、画像記録層上に塗布することにより保護層を形成してなることを特徴とする請求項3記載の平版印刷版原版。   After replacing the cation present in the inorganic layered compound with a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2) to form an organoclay complex, coating with a protective layer 4. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 3, wherein a protective layer is formed by adding to the liquid and coating the image recording layer. 一般式(1)で示される官能基が、ポリマーの主鎖末端に存在することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the functional group represented by the general formula (1) is present at the end of the main chain of the polymer. 一般式(1)において、RとRが各々独立にメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基及びフェニル基から選択され、Rがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基及びフェニル基から選択されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a phenyl group, and R 3 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a benzyl group The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor is selected from a group and a phenyl group. 一般式(2)において、Rが水素原子及びメチル基から選択され、RとRが、各々独立に水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基及びtert−ブチル基から選択されるか、又はRとRが連結して形成する−CHCHOCHCH−であるかのいずれかであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 In the general formula (2), R 4 is selected from a hydrogen atom and a methyl group, and R 5 and R 6 are each independently selected from a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. or R 5 and R 6 are -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 formed by connecting - lithographic according to any one of claims 1 to 6, characterized in that either a A printing plate master. 無機層状化合物が、スメクタイト及び雲母から選択されるいずれかであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the inorganic layered compound is any one selected from smectite and mica. 保護層が更に一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマー以外の水溶性ポリマーを含有することを特徴とする請求項1又は3に記載の平版印刷版原版。   The lithographic plate according to claim 1 or 3, wherein the protective layer further contains a water-soluble polymer other than the polymer having the functional group represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2). A printing plate master. 画像記録層が更に一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマー以外のポリマーを含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing according to claim 1 or 2, wherein the image recording layer further contains a polymer other than the polymer having the functional group represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2). Version original edition. 画像記録層が更に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。   2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the image recording layer further contains an infrared absorber. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版をレーザーにより画像様に露光した後、印刷機に装着してインキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給することにより現像し、印刷することを特徴とする平版印刷方法。   After the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 is imagewise exposed with a laser, it is mounted on a printing press and developed by supplying at least one of ink and fountain solution, A lithographic printing method characterized by printing. 無機層状化合物に存在する陽イオンを、一般式(1)で示される官能基と一般式(2)で示される構造単位を有するポリマーで置換して得られる有機粘土複合体。   An organoclay composite obtained by replacing a cation present in an inorganic layered compound with a polymer having a functional group represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2). 一般式(1)で示される官能基が、ポリマーの主鎖末端に存在することを特徴とする請求項13に記載の有機粘土複合体。   The organoclay composite according to claim 13, wherein the functional group represented by the general formula (1) is present at the end of the main chain of the polymer. 一般式(1)において、RとRが各々独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基及びフェニル基から選択され、Rがメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基及びフェニル基から選択されることを特徴とする請求項13又は14に記載の有機粘土複合体。 In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently selected from a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a phenyl group, and R 3 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, The organoclay complex according to claim 13 or 14, wherein the organoclay complex is selected from a benzyl group and a phenyl group. 一般式(2)において、Rが水素原子及びメチル基から選択され、RとRが、各々独立して水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、及びtert−ブチル基から選択される基であるか、又はRとRが連結して形成する−CHCHOCHCH−であるかのいずれかであることを特徴とする請求項13〜15のいずれか1項に記載の有機粘土複合体。 In the general formula (2), R 4 is selected from a hydrogen atom and a methyl group, and R 5 and R 6 are each independently selected from a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group. The group according to any one of claims 13 to 15, wherein the group is -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2- formed by linking R 5 and R 6 together. The organoclay composite according to Item. 無機層状化合物が、スメクタイト及び雲母から選択される少なくともいずれかであることを特徴とする請求項13〜16のいずれか1項に記載の有機粘土複合体。   The organoclay composite according to any one of claims 13 to 16, wherein the inorganic layered compound is at least one selected from smectite and mica.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPWO2013172434A1 (en) * 2012-05-17 2016-01-12 太陽インキ製造株式会社 Liquid development type maleimide composition, printed wiring board
JPWO2014002835A1 (en) * 2012-06-29 2016-05-30 富士フイルム株式会社 Development waste liquid concentration method and development waste liquid recycling method

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