JP2012048176A - Lithographic printing plate precursor and method for forming lithographic printing plate - Google Patents

Lithographic printing plate precursor and method for forming lithographic printing plate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate excellent in developability and antifouling property without deterioration in printing durability, by which a plate can be made up directly from digital data by performing recording using laser light and can be developed on a printing machine by solution with pH 11 or less.SOLUTION: A lithographic printing plate precursor includes a support body and at least one or more layers including an image recording layer where one of the at least one or more layers contacting the support layer contains polymer formed from a repeating unit including partial structures expressed by following general formulas (I) or (II).

Description

本発明は、コンピュータ等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法、特に簡易処理に適した平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate preparation method that can be directly made from a digital signal from a computer or the like using various lasers, and a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate that are particularly suitable for simple processing. It relates to a manufacturing method.

波長300nm〜1200nmの紫外光、可視光、赤外光を放射する固体レーザー、半導体レーザー、ガスレーザーは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになっており、これらのレーザーはコンピューター等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源として、非常に有用である。これら各種レーザー光に感応する記録材料については種々研究されており、代表的なものとして、第一に、画像記録波長760nm以上の赤外線レーザーで記録可能な材料として特許文献1に記載のポジ型記録材料、特許文献2に記載の酸触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。第二に、300nm〜700nmの紫外光又は可視光レーザー対応型の記録材料として特許文献3に記載されているラジカル重合型のネガ型記録材料等がある。   Solid lasers, semiconductor lasers, and gas lasers that emit ultraviolet light, visible light, and infrared light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm are easily available in high output and small size. It is very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data. Various studies have been made on recording materials that are sensitive to these various laser beams. As a typical example, firstly, positive recording described in Patent Document 1 as a material that can be recorded with an infrared laser having an image recording wavelength of 760 nm or more. Materials, acid-catalyzed cross-linking negative recording materials described in Patent Document 2, and the like. Secondly, there is a radical polymerization type negative recording material described in Patent Document 3 as a recording material compatible with ultraviolet light or visible light laser of 300 nm to 700 nm.

また、従来の平版印刷版原版(以下、PS版ともいう)では、画像露光の後、強アルカリ性水溶液を用いて非画像部を溶解除去する工程(現像処理)が不可欠であり、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のPS版の大きな検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工程の前半(画像露光)が簡素化されても、後半(現像処理)が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっており、環境への配慮からも、より中性域に近い現像液での処理や廃液の低減が課題として挙げられている。特に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
In addition, in a conventional lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as PS plate), after image exposure, a step (development treatment) of dissolving and removing a non-image portion using a strong alkaline aqueous solution is indispensable and developed. A post-treatment step is also necessary in which the printing plate is washed with water, treated with a rinse solution containing a surfactant, or treated with a desensitizing solution containing gum arabic or starch derivatives. The point that these additional wet treatments are indispensable is a big problem for the conventional PS plate. Even if the first half (image exposure) of the plate making process is simplified by the digital processing, the effect of the simplification is insufficient in the wet processing in which the second half (development processing) is complicated.
Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern for the entire industry, and from consideration for the environment, processing with a developing solution closer to the neutral range and reduction of waste liquid have been raised as issues. Yes. In particular, it is desirable that the wet post-treatment is simplified or changed to a dry treatment.

このような観点から、処理工程を簡略化する方法として、現像とガム液処理を同時に行う1液処理あるいは1浴処理による方法がある。すなわち、前水洗工程を行わずに印刷版原版を画像露光後、保護層の除去、非画像部の除去、ガム液処理を1液あるいは1浴で同時に行い、後水洗工程を行わずに乾燥し、印刷工程に入る簡易現像方式である。このような簡易現像に適した平版印刷版原版は、後水洗工程を省略するため、強アルカリ性でない現像液に可溶な画像記録層を有し、しかも非画像部の耐汚れ性を良化するために、親水性の支持体表面が必要とされる。しかしながら従来のPS版では、このような要求を満たしながら高い耐刷性を実現することは実質的に不可能であった。   From such a viewpoint, as a method for simplifying the processing step, there is a one-liquid process or a one-bath process in which development and gum solution processing are performed simultaneously. That is, after image exposure of the printing plate precursor without performing the pre-water washing step, the protective layer is removed, the non-image area is removed, and the gum solution treatment is simultaneously performed in one liquid or one bath, and the post-water washing step is not performed. This is a simple development method that enters the printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for such simple development has an image recording layer that is soluble in a non-strongly alkaline developer, and further improves the stain resistance of non-image areas, because the post-washing step is omitted. Therefore, a hydrophilic support surface is required. However, with conventional PS plates, it has been virtually impossible to achieve high printing durability while satisfying such requirements.

そこで、このような要求を満足するためにポリビニルホスホン酸によって支持体を親水化処理した平版印刷版原版が提案されている(例えば特許文献4参照)。その製版に関しては、紫外線レーザーで画像露光した後に、pH9.8の現像液によって現像を行っている。   Therefore, a lithographic printing plate precursor in which the support is hydrophilized with polyvinylphosphonic acid has been proposed in order to satisfy such requirements (for example, see Patent Document 4). Regarding the plate making, after image exposure with an ultraviolet laser, development is performed with a developer having a pH of 9.8.

しかしながらポリビニルホスホン酸のような親水化処理では、耐汚れ性を良化させるための親水性が不足しており、印刷版としての耐汚れ性に問題がある。
またポリビニルホスホン酸に変えて、スルホン酸基を持ったモノマーと、支持体吸着性基を共重合させたバインダーポリマーを有する層を支持体表面に形成した平版印刷版原版が提案されている(例えば特許文献5参照)が、耐刷性を発現するための疎水性重合性基を導入するにはいまだ親水性が不足している。このように耐刷性と耐汚れ性の両立は極めて難しく、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する簡易処理型の平版印刷版はこれまでに知られていない。
However, a hydrophilic treatment such as polyvinylphosphonic acid has insufficient hydrophilicity for improving the stain resistance, and there is a problem in the stain resistance as a printing plate.
Further, a lithographic printing plate precursor in which a layer having a monomer having a sulfonic acid group and a binder polymer obtained by copolymerizing a support adsorptive group is formed on the support surface in place of polyvinylphosphonic acid has been proposed (for example, However, hydrophilicity is still insufficient to introduce a hydrophobic polymerizable group for developing printing durability. Thus, it is extremely difficult to satisfy both printing durability and stain resistance, a simple processing type lithographic printing plate having good stain resistance and sufficient printing durability has not been known so far.

また処理工程を簡易化する方法の一つに、露光済みの平版印刷版原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、平版印刷版原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である。
このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。しかしながら、従来のPS版では、このような要求を充分に満足することは、実質的に不可能であった。
そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた画像記録層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献6参照)。その製版に際しては、赤外線レーザーで画像露光して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて画像形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水及びインキの少なくともいずれかを供給することにより機上現像される。この平版印刷版原版は画像記録域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
One method of simplifying the processing process is to mount the exposed lithographic printing plate precursor on the cylinder of the printing machine, and supply dampening water and ink while rotating the cylinder. There is a method called on-press development that removes non-image areas. That is, the lithographic printing plate precursor is image-exposed and then mounted on a printing machine as it is, and the development process is completed in a normal printing process.
Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image forming layer soluble in dampening water or an ink solvent, and is suitable for development on a printing press placed in a bright room. It is necessary to have good light room handling. However, with the conventional PS plate, it is practically impossible to sufficiently satisfy such a requirement.
Therefore, in order to satisfy such requirements, a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support has been proposed. (For example, refer to Patent Document 6). In making the plate, image exposure is performed with an infrared laser, and the thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are combined (fused) with heat generated by photothermal conversion to form an image, and then the plate is mounted on a cylinder of a printing press, On-press development is performed by supplying at least one of fountain solution and ink. This lithographic printing plate precursor has handleability in a bright room because the image recording area is an infrared region.

しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて形成する画像は、強度が不充分で、平版印刷版としての耐刷性に問題がある。
また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献7参照)。このような提案にかかる平版印刷版原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形成される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法が多く提案されている。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを使用することが提案されている。
However, an image formed by coalescence (fusion) of thermoplastic hydrophobic polymer fine particles has insufficient strength and has a problem in printing durability as a lithographic printing plate.
In addition, a lithographic printing plate precursor including microcapsules containing a polymerizable compound in place of the thermoplastic fine particles has been proposed (see, for example, Patent Document 7). The lithographic printing plate precursor according to such a proposal has an advantage that the polymer image formed by the reaction of the polymerizable compound is superior in strength to the image formed by fusing fine particles.
In addition, since the polymerizable compound has high reactivity, many methods for isolating it using microcapsules have been proposed. It has been proposed to use a thermally decomposable polymer for the shell of the microcapsule.

しかしながら、上記特許文献6、7等に記載の従来の平版印刷版原版では、レーザー露光により形成される画像の耐刷性が十分ではなく、更なる改良が求められている。即ち、これら簡易処理型の平版印刷版原版においては、親水性の高い表面を有する支持体を使用しており、その結果、印刷中の湿し水により画像部が支持体から剥離しやすく十分な耐刷が得られなかった。逆に、支持体表面を疎水性にすると、印刷中に非画像部にもインクが付着するようになり、印刷汚れが発生してしまう。このように、耐刷性と耐汚れ性の両立は極めて難しく、耐汚れ性が良好であり、且つ充分な耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版はこれまでに知られていない。   However, the conventional lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 6 and 7 and the like are not sufficient in printing durability of images formed by laser exposure, and further improvements are required. That is, in these simple processing type lithographic printing plate precursors, a support having a highly hydrophilic surface is used, and as a result, the image portion is easily peeled off from the support by dampening water during printing. Printing durability was not obtained. On the contrary, if the support surface is made hydrophobic, the ink also adheres to the non-image area during printing, and printing stains occur. Thus, it is extremely difficult to achieve both printing durability and stain resistance, an on-press development type lithographic printing plate precursor having good stain resistance and sufficient printing durability has not been known so far. .

また、特許文献8には、支持体上に、支持体表面と直接化学的に結合しかつ親水性官能基を有する高分子化合物からなる親水性層を有する平版印刷版用支持体が開示されている。特許文献9及び10には、アルミニウム支持体又はシリケート処理されたアルミニウム支持体上に、当該支持体表面に直接若しくは架橋構造を有する構成成分を介して化学結合し得る反応性基を有する親水性ポリマーが化学結合してなる親水性表面を備える平版印刷版用支持体が開示されている。特許文献11には、支持体上に、重合開始剤、重合性化合物、及び水又はアルカリ水溶液に溶解あるいは膨潤するバインダーポリマーを含有する画像記録層を有し、画像記録層又はその他の層に、エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを含む共重合体を含有する平版印刷版原版が開示されている。しかしながら、上記特許文献8等に記載の平版印刷版原版では、耐汚れ性が未だ不十分であるという問題点を有していた。特に、印刷版を作製してから時間が経過した後に印刷をおこなうと、耐汚れ性が低下する問題を有していた。   Further, Patent Document 8 discloses a lithographic printing plate support having a hydrophilic layer made of a polymer compound that is chemically bonded directly to the support surface and has a hydrophilic functional group on the support. Yes. Patent Documents 9 and 10 disclose a hydrophilic polymer having a reactive group that can be chemically bonded to an aluminum support or a silicate-treated aluminum support directly or via a component having a crosslinked structure on the surface of the support. A support for a lithographic printing plate having a hydrophilic surface formed by chemically bonding is disclosed. Patent Document 11 has, on a support, an image recording layer containing a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a binder polymer that dissolves or swells in water or an aqueous alkali solution. In the image recording layer or other layers, A lithographic printing plate precursor containing a copolymer comprising a repeating unit having at least one ethylenically unsaturated bond and a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface is disclosed. However, the lithographic printing plate precursor described in Patent Document 8 and the like has a problem that the stain resistance is still insufficient. In particular, when printing is performed after a lapse of time since the printing plate is produced, there is a problem that the stain resistance decreases.

米国特許4708925号明細書US Pat. No. 4,708,925 特開平8−276558号公報JP-A-8-276558 米国特許2850445号明細書U.S. Pat. No. 2,850,445 特開2009−98590号公報JP 2009-98590 A 特開2009−216926号公報JP 2009-216926 A 日本国特許2938397号明細書Japanese Patent No. 2938397 特開2002−326470号公報JP 2002-326470 A 特開2001−166491号公報JP 2001-166491 A 特開2008−213177号公報JP 2008-213177 A 特開2009−47754号公報JP 2009-47754 A 特開2006−78999号公報JP 2006-78999 A

従って、本発明の目的は、各種レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で、特に、pH11以下の水溶液や印刷機上においても現像可能であり、耐刷性を損なうことなく、現像性に優れ、耐汚れ性(経時後の耐汚れ性も含む)が特に良好な平版印刷版を提供できる平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to make plate making directly from digital data such as a computer by recording using various laser beams, and in particular, it can be developed on an aqueous solution having a pH of 11 or less or on a printing machine, and the printing durability is improved. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor and a method for preparing the lithographic printing plate, which can provide a lithographic printing plate having excellent developability and excellent stain resistance (including stain resistance after aging) without loss.

本発明者らは鋭意検討した結果、以下の平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法を用いることにより上記課題を解決できることを見出した。即ち本発明は以下の通りである。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using the following lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate preparation method. That is, the present invention is as follows.

<1>支持体と、画像記録層を含む少なくとも1つの層とを有する平版印刷版原版であって、前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体(A)を含有する平版印刷版原版。 <1> A lithographic printing plate precursor having a support and at least one layer including an image recording layer, wherein the layer in contact with the support among the at least one layer is represented by the following general formula (I) or A lithographic printing plate precursor comprising a polymer (A) having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by (II).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(一般式(I)又は(II)において、
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。
’は主鎖と直接連結する部位を表す。)
<2>前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、前記画像記録層、又は前記支持体と前記画像記録層の間に設けられている下塗り層である、<1>に記載の平版印刷版原版。
<3>前記重合体(A)が前記一般式(I)で表される部分構造を有する繰り返し単位を有する重合体である、<1>又は<2>に記載の平版印刷版原版。
<4>前記一般式(I)中のAが、−SO 又は−CO である、<1>〜<3>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<5>前記一般式(I)中のXが−N−を表し、一般式(II)中のYが−Nを表す、<1>又は<2>に記載の平版印刷版原版。
<6> 前記一般式(I)のL12及び前記一般式(II)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、<1>〜<5>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
(In general formula (I) or (II),
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represents a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group. To express.
'Represents a site directly connected to the main chain. )
<2> The layer in contact with the support among the at least one layer is the image recording layer or an undercoat layer provided between the support and the image recording layer. Lithographic printing plate precursor.
<3> The lithographic printing plate precursor as described in <1> or <2>, wherein the polymer (A) is a polymer having a repeating unit having a partial structure represented by the general formula (I).
<4> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <3>, wherein A in the general formula (I) is —SO 3 or —CO 2 .
<5> X + in the general formula (I) represents -N + R 1 R 2- , Y + in the general formula (II) represents -N + R 3 R 4 R 5 , <1> Or the lithographic printing plate precursor as described in <2>.
<6> L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II) each independently include a hetero atom in the linking group, and are selected from the following group. The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <5>, which is a divalent linking group containing at least one group.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
<7>前記一般式(I)のL12及び前記一般式(II)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、<6>に記載の平版印刷版原版。
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
<7> L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II) each independently include a hetero atom in the linking group, and are selected from the following group. The lithographic printing plate precursor as described in <6>, which is a divalent linking group containing at least one group.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
<8>前記一般式(I)中のL12及び前記一般式(II)中のL22において、XとA又はリン酸エステルのL22に直結する酸素原子とYを連結するために使われる最短の原子数の合計が4〜8である、<1>〜<7>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<9>前記重合体(A)が、更に、前記支持体の表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(a2)を有する、<1>〜<8>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<10>前記画像記録層が、更に、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)増感色素及び(E)バインダーポリマーを含有する、<1>〜<9>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
<11> 前記(E)バインダーポリマーが、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂又はポリビニルブチラール樹脂である、<10>に記載の平版印刷版原版。
<12>前記<1>〜<11>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、pHが2〜14の現像液の存在下で非画像部の画像記録層を除去する工程を有する、平版印刷版の作製方法。
<13>前記<1>〜<11>のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非画像部の画像記録層分を除去する工程を有する、平版印刷版の作製方法。
<14>下記一般式(III)又は(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
<8> In L 22 in the general formula (I) L 12 and Formula in in (II), X + and A - or an oxygen atom directly linked to L 22 of phosphoric acid ester and for coupling Y + The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <7>, wherein the total of the shortest number of atoms used in is from 4 to 8.
<9> In any one of <1> to <8>, the polymer (A) further includes a repeating unit (a2) having at least one functional group that interacts with the surface of the support. The lithographic printing plate precursor described.
<10> Any of <1> to <9>, wherein the image recording layer further contains (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a sensitizing dye, and (E) a binder polymer. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above.
<11> The lithographic printing plate precursor as described in <10>, wherein the (E) binder polymer is a (meth) acrylic polymer, a polyurethane resin or a polyvinyl butyral resin.
<12> The image recording layer in the non-image area in the presence of a developer having a pH of 2 to 14 after imagewise exposure of the lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <11> A method for producing a lithographic printing plate, comprising the step of removing
<13> The lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <11> above is imagewise exposed, and then printing ink and fountain solution are supplied on the printing press to form an image in a non-image area. A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step of removing a recording layer.
<14> A radically polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the following general formula (III) or (IV).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(一般式(III)又は(IV)において、
、R及びRは各々独立して水素原子又はアルキル基を表す。
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。)
<15>前記一般式(III)で表される、<14>に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
<16>前記一般式(III)中のAが、−SO 又は−CO である、<14>又は<15>に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
<17>前記一般式(III)中のXが−N−である、<14>〜<16>のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
<18>前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、<14>〜<17>のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
(In general formula (III) or (IV),
R X , R Y and R Z each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represents a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group. To express. )
<15> The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to <14>, which is represented by the general formula (III).
<16> The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to <14> or <15>, wherein A in the general formula (III) is —SO 3 or —CO 2 .
<17> The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of <14> to <16>, wherein X + in the general formula (III) is —N + R 1 R 2 —.
<18> A divalent group selected from the following group, wherein L 12 in the general formula (III) and L 22 in the general formula (IV) each independently include a hetero atom in the linking group. The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of <14> to <17>, which is a divalent linking group containing at least one group.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
<19>前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、<18>に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
<19> Divalent selected from the following group, wherein L 12 in the general formula (III) and L 22 in the general formula (IV) each independently include a hetero atom in the linking group. The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to <18>, which is a divalent linking group containing at least one group.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
<20>前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22において、XとA又はリン酸エステルのL22に直結する酸素原子とYを直接連結するために使われる最短の原子数の合計が4〜8である、<14>〜<19>のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
<21>下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体。
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
<20> In L 22 in the L 12 and the of the general formula (III) (IV), X + and A - or an oxygen atom directly linked to L 22 of phosphoric acid ester directly connected to for the Y + <14>-<19> The radically polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of <14> to <19>, wherein the total of the shortest number of atoms used in the method is 4-8.
<21> A polymer having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the following general formula (I) or (II).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(一般式(I)又は(II)において、
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレンを含有する2価の連結基を表す。
’は主鎖と直接連結する部位を表す。)
<22>前記<21>に記載の重合体から形成された親水性膜。
(In general formula (I) or (II),
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represent a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene. .
'Represents a site directly connected to the main chain. )
<22> A hydrophilic film formed from the polymer according to <21>.

本発明の平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法は、コンピューター等のデジタル信号から各種レーザーを用いて直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な高い生産性を有する平版印刷用原版、pH11以下の水溶液や印刷機上においても現像可能であり、耐刷性を損なうことなく、現像性に優れ、耐汚れ性(経時後の耐汚れ性も含む)が良好な平版印刷版を提供することができる。
本発明のラジカル重合性不飽和基含有モノマーは、上記平版印刷版原版に使用される重合体の製造に用いることができる。
また、本発明の重合体は、膜を形成することで、親水性に優れた表面コーティングを行うことが可能になり、防汚材料、生体適合材料、撥油材料等に使用することができる。
The lithographic printing plate precursor and the lithographic printing plate production method of the present invention can be directly made using various lasers from digital signals from a computer or the like, so-called direct plate making and high productivity lithographic printing plate, pH 11 or lower aqueous solution In addition, it is possible to provide a lithographic printing plate that can be developed on a printing press and has good developability and good stain resistance (including stain resistance after aging) without impairing printing durability.
The radically polymerizable unsaturated group-containing monomer of the present invention can be used for the production of a polymer used in the lithographic printing plate precursor.
In addition, the polymer of the present invention can be used for antifouling materials, biocompatible materials, oil repellent materials, and the like, by forming a film, thereby enabling surface coating with excellent hydrophilicity.

自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor. 自動現像処理機の構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of an automatic developing processor.

本明細書中、一般式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、一般式において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。   In the present specification, regarding the notation of the group in the compound represented by the general formula, when there is no substitution or no substitution, there is no other special provision when the group can further have a substituent. As long as it includes not only an unsubstituted group but also a group having a substituent. For example, in the general formula, if there is a description that “R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group”, “R represents an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an Represents a substituted heterocyclic group or a substituted heterocyclic group.

以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体と、画像記録層を含む少なくとも1つの層とを有する平版印刷版原版であって、前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体(A)(以下特定高分子化合物(A)とも称する)を含有すること、すなわち、一般式(I)又は(II)で表される構造の側鎖を有する重合体(A)を含有することを特徴とする。
本発明において、前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、前記画像記録層、又は前記支持体と前記画像記録層の間に設けられている下塗り層であることが好ましい。
また前記画像記録層は、更に、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)増感色素及び(E)バインダーポリマーを含有することが好ましい。本発明における画像記録層は必要に応じて、更にその他の成分を含有することが出来る。
Hereinafter, the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the invention is a lithographic printing plate precursor having a support and at least one layer including an image recording layer, and the layer in contact with the support in the at least one layer is generally Containing a polymer (A) having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the formula (I) or (II) (hereinafter also referred to as a specific polymer compound (A)), It contains a polymer (A) having a side chain having a structure represented by I) or (II).
In the present invention, the layer in contact with the support among the at least one layer is preferably the image recording layer or an undercoat layer provided between the support and the image recording layer.
The image recording layer preferably further contains (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a sensitizing dye, and (E) a binder polymer. The image recording layer in the invention may further contain other components as required.

本発明における作用は以下のように推定している。すなわち、一般式(I)又は(II)で表される部分構造は親水性の高い双性イオンを有し、sp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を、正電荷を有する部分構造と負電荷を有する部分構造との連結基にすることで、正電荷と負電荷が空間的に接近しづらくなる。これにより、画像記録層中の極性成分とキレート様に安定化して起こる現像不良を抑制し、高い現像性を発現することができると推定される。 The effect | action in this invention is estimated as follows. That is, the partial structure represented by the general formula (I) or (II) has a highly hydrophilic zwitterion, a divalent linking group containing an atom having an sp hybrid orbital or an sp 2 hybrid orbital, or By making a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group a linking group of a partial structure having a positive charge and a partial structure having a negative charge, the positive charge and the negative charge are difficult to approach spatially. Become. Thus, it is presumed that poor development caused by being chelate-like stabilized with the polar component in the image recording layer can be suppressed, and high developability can be expressed.

更に支持体と接する該画像記録層又は前記支持体と画像記録層の間に設けられる下塗り層に一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を含む重合体(A)を含有することで非画像部の親水性が高くなり、非画像部への現像液・湿し水の浸透を促進し現像性ないし機上現像性に優れた印刷物を得ることができるものと推定される。また印刷時に供給されるインク及び湿し水のうち、湿し水が非画像部に強く吸着されることで、非画像部へのインク付着を抑止し、耐汚れ性の優れた印刷物を得ることができるものと推定される。   Further, the image recording layer in contact with the support or the undercoat layer provided between the support and the image recording layer includes a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the general formula (I) or (II). By containing the coalescence (A), the hydrophilicity of the non-image area is increased, and the penetration of the developer / fountain solution into the non-image area is promoted to obtain a printed matter excellent in developability or on-press developability. Presumed to be possible. In addition, among the ink and dampening water supplied during printing, the dampening water is strongly adsorbed to the non-image area, thereby preventing the ink from adhering to the non-image area and obtaining a printed matter having excellent stain resistance. It is estimated that

また、一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)に相当するモノマーは、正電荷と負電荷が空間的に接近しづらいことで正電荷と負電荷の相殺が抑制され、水が存在する場合に両電荷が水和することによる安定化が促進され、親水性に優れる。それにより、該モノマーを重合し、ポリマー中に導入することで優れた表面親水性を有する膜を得ることができるものと推定される。
以下、本発明の平版印刷版原版の構成成分について詳細に説明する。
In addition, the monomer corresponding to the repeating unit (a1) having a partial structure represented by the general formula (I) or (II) has a positive charge and a negative charge that are difficult to spatially approach. Cancellation is suppressed, stabilization in the presence of water in both water charges is promoted, and hydrophilicity is excellent. Thus, it is presumed that a film having excellent surface hydrophilicity can be obtained by polymerizing the monomer and introducing it into the polymer.
Hereinafter, the components of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.

(A)特定高分子化合物
本発明における特定高分子化合物(A)は、下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体、すなわち、下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を側鎖に有する重合体である。
(A) Specific polymer compound The specific polymer compound (A) in the present invention is a polymer having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the following general formula (I) or (II), that is, A polymer having a partial structure represented by formula (I) or (II) in the side chain.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(一般式(I)又は(II)において、
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に置換されていてもよく、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びLの少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。
’は主鎖と直接連結する部位を表す。)
(In general formula (I) or (II),
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represent an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 2 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represents a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group. To express.
'Represents a site directly connected to the main chain. )

上記一般式(I)又は(II)においてL11、L21で表される2価の連結基は、1から60個までの炭素原子、0から10個までの窒素原子、0から50個までの酸素原子、1から100個までの水素原子及び0から20個までの硫黄原子から構成されることが好ましい。より具体的には、下記の構造単位又はこれらが組み合わさって構成される基を挙げることができる。 In the above general formula (I) or (II), the divalent linking groups represented by L 11 and L 21 are 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, and 0 to 50 atoms. It is preferably composed of 1 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specifically, the following structural units or groups formed by combining them can be exemplified.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

上記構造において、R、Rは各々独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基又はハロゲン原子を表す。nは1〜4の整数を表す。 In the above structure, R a and R b each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a halogen atom. n represents an integer of 1 to 4.

前記一般式(I)又は(II)においてL11、L21で表される2価の連結基は、−COOL−、−CONHL−又はフェニレン基であることが好ましく、−COOL−又は−CONHL−であることが特に好ましい。 In the general formula (I) or (II), the divalent linking group represented by L 11 or L 21 is preferably —COOL 3 —, —CONHL 3 — or a phenylene group, and —COOL 3 — or particularly preferably - -CONHL 3.

前記一般式(I)又は(II)においてLは2価の連結基を表し、Lとしての連結基は置換されてもよいアルキレン基が好ましく、置換されてもよい炭素数1〜10のアルキレン基がより好ましく、置換されてもよい炭素数1〜5のアルキレン基が更に好ましい。 In the general formula (I) or (II), L 3 represents a divalent linking group, and the linking group as L 3 is preferably an alkylene group which may be substituted, and may be substituted having 1 to 10 carbon atoms. An alkylene group is more preferable, and an optionally substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is more preferable.

一般式(I)又は(II)において、R、R、R、R又はRで表されるアルキル基又はアリール基は、置換されていてもよい炭素数1〜50のアルキル基又はアリール基が好ましく、置換されていてもよい炭素数1〜40のアルキル基又はアリール基がより好ましく、炭素数1〜30の置換されていてもよく分岐していてもよいアルキル基が更に好ましい。R、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良い。 In the general formula (I) or (II), the alkyl group or aryl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 or R 5 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms. Alternatively, an aryl group is preferable, an optionally substituted alkyl group having 1 to 40 carbon atoms or an aryl group is more preferable, and an optionally substituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms which may be substituted is more preferable. . R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may each independently contain a hetero atom.

前記一般式(I)及び(II)においてR、R、R、R、Rで表されるアルキル基及びアリール基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ν−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイト基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−Ν−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、 In the general formulas (I) and (II), the substituent of the alkyl group and aryl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 is a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen. Is used. Preferred examples include halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, aryldithio groups, amino groups, N-alkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, ア ル キ ル -alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkyl Carbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Acylamino group, ureido group, N ′ Alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N -Arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureate group, N', N'-dialkyl- N-arylureido group, N′-aryl-Ν-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl- N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group Aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group Group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group ,

N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SOH)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基ホスフォノ基(−PO)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスフォノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスフォノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−POH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−POH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPOH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPOH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、モルホリノ基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl Group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl- N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl -N-arylsulfamoyl group phosphono group -PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group), a dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2), diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2), alkylaryl Phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonate group), monoaryl phosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as “phosphonateoxy group”). ), dialkyl phosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphonooxy group (-OPO 3 ( RYL) 2), alkylaryl phosphonooxy group (-OPO (alkyl) (aryl) ), monoalkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter, alkyl phosphonophenyl group Monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group), morpholino group, cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl group , An alkynyl group.

これらの中で特に好ましい置換基としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アミノ基、ジアルキルアミノ基が挙げられる。   Among these, particularly preferred substituents include a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an amino group, and a dialkylamino group.

、R、R、R、Rのアルキル基の具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等が挙げられる。 Specific examples of the alkyl group of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group. Group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxy Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, Ruthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methyl Benzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfona Butyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfur Famoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group , Phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenyl Methyl group, 2-butenyl group, 2-methylary Group, 2-methyl propenyl methyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl, 3-butynyl group.

アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等が挙げられる。   Specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, chloromethylphenyl, hydroxyphenyl, methoxyphenyl, ethoxy Phenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, Ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophene Group, etc. phosphonophenyl phenyl group.

、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
形成される環としては、置換基を有していてもよく、環を構成する原子としてヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子)を含有していてもよい。現像性及び耐汚れ性向上、並びに煩雑な合成反応を要しない観点から、置換基を有していてもよく、環構成原子としてヘテロ原子を含有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキレン基、置換基を有していてもよく、環構成原子としてヘテロ原子を含有していてもよい炭素数6〜12のアリーレン基であることが好ましく、置換基を有していてもよく、環構成原子としてヘテロ原子を含有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキレン基であることが特に好ましい。
上記形成される環が有していてよい置換基の具体例及び好ましい例としては、R、R、R、R、Rで表されるアルキル基、アリール基及びそれらの置換基の具体例及び好ましい例と同様なものが挙げられる。
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
The ring to be formed may have a substituent and may contain a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom) as an atom constituting the ring. From the viewpoint of improving developability and stain resistance, and not requiring a complicated synthesis reaction, the cycloalkylene having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent and may contain a hetero atom as a ring constituent atom It is preferably an arylene group having 6 to 12 carbon atoms which may have a hetero atom as a ring constituent atom, and may have a substituent. A cycloalkylene group having 3 to 12 carbon atoms which may contain a hetero atom as a constituent atom is particularly preferable.
Specific examples and preferred examples of the substituent that the ring formed above may have include alkyl groups, aryl groups and their substituents represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5. The thing similar to the specific example and preferable example of these is mentioned.

は好ましくは−N−又は−S−であり、特に好ましくは−N−である。 X + is preferably -N + R 1 R 2 -or -S + R 1- , and particularly preferably -N + R 1 R 2- .

前記一般式(I)においてAは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表し、親水性の観点から、好ましくは、−SO 又は−CO であり、特に好ましくは−SO である。 Formula A in (I) - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents, in terms of hydrophilicity, preferably, -SO 3 - or -CO 2 -, particularly preferably -SO 3 - it is.

前記一般式(II)において、Yに含まれるR、R又はRで表されるアルキル基及びアリール基は、その具体例も含めて、前記R、R、Rについて記載したアルキル基及びアリール基と同様である。RとRが互いに連結して形成する環としては、現像性及び耐汚れ性向上、並びに煩雑な合成反応を要しない観点から、R及びRは各々好ましくは炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基、炭素数6〜12の置換されていてもよいアリール基であり、特に好ましくは炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基である。
は好ましくは−N、−S、−I又は−Pであり、より好ましくは−N又は−Sであり、最も好ましくは−Nである。
In the general formula (II), the alkyl group and aryl group represented by R 3 , R 4, or R 5 contained in Y + are described with respect to R 3 , R 4 , and R 5 , including specific examples thereof. This is the same as the alkyl group and aryl group. As the ring formed by connecting R 3 and R 4 to each other, R 3 and R 4 each preferably have 1 to 12 carbon atoms from the viewpoint of improving developability and stain resistance and not requiring a complicated synthesis reaction. An alkyl group which may be substituted and an aryl group which may be substituted having 6 to 12 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group which may be substituted having 1 to 12 carbon atoms.
Y + is preferably -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, is -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 , more preferably -N + R 3 R 4 is R 5 or -S + R 3 R 4, and most preferably -N + R 3 R 4 R 5 .

前記一般式(I)及び(II)においてL12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。
sp混成軌道を有する原子としては、アルケニレン基(例えば、ビニレン基)、アリーレン基(例えば、フェニレン基)、カルボニル基、炭素−窒素二重結合等の二重結合を構成する炭素原子、カルボニル基、酸素−イオウ二重結合等の二重結合を構成する酸素原子、炭素−窒素二重結合等の二重結合を構成する窒素原子、酸素−イオウ二重結合等の二重結合を構成するイオウ原子等が挙げられる。
sp混成軌道を有する原子としては、アルキニレン基(例えば、エチニレン基)等の三重結合を構成する炭素原子等が挙げられる。
12、L22における環状アルキレン基としては、好ましくは炭素数3〜20、より好ましくは炭素数3〜10であり、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。
12、L22で表される2価の連結基は、置換基を有していても良く、また、連結基中にヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、イオウ原子)を含んでいても良い。
12、L22が有していてよい置換基の具体例及び好ましい例としては、R、R、R、R、Rで表されるアルキル基、アリール基及びそれらの置換基の具体例及び好ましい例と同様なものが挙げられる。
12、L22で表される2価の連結基としては、下記群A、B又はCに記載の連結基を少なくとも1つ有する2価の連結基であることが好ましく、現像性及び耐汚れ性向上の観点から、下記群A又はBに記載の連結基を少なくとも1つ有することが特に好ましく、下記群Aに記載の連結基を少なくとも1つ有することが特に好ましい。
In the general formulas (I) and (II), L 12 and L 22 each independently represent at least one sp 2 hybrid orbital or a divalent linking group containing an atom having an sp hybrid orbital, or at least one cyclic Represents a divalent linking group containing an alkylene group.
The atoms having sp 2 hybrid orbitals include alkenylene groups (for example, vinylene groups), arylene groups (for example, phenylene groups), carbonyl groups, carbon atoms constituting double bonds such as carbon-nitrogen double bonds, carbonyl groups , Oxygen atoms constituting double bonds such as oxygen-sulfur double bonds, nitrogen atoms constituting double bonds such as carbon-nitrogen double bonds, sulfur constituting double bonds such as oxygen-sulfur double bonds An atom etc. are mentioned.
Examples of the atoms having sp hybrid orbitals include carbon atoms constituting triple bonds such as alkynylene groups (for example, ethynylene groups).
The cyclic alkylene group for L 12 and L 22 preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, and examples thereof include a cyclopentylene group and a cyclohexylene group.
The divalent linking group represented by L 12 and L 22 may have a substituent, and the linking group contains a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom). Also good.
Specific examples and preferred examples of the substituent that L 12 and L 22 may have include an alkyl group, an aryl group, and their substituents represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5. The thing similar to the specific example and preferable example of these is mentioned.
The divalent linking group represented by L 12 or L 22 is preferably a divalent linking group having at least one linking group described in the following group A, B or C, and developability and stain resistance. From the viewpoint of improving properties, it is particularly preferable to have at least one linking group described in the following group A or B, and it is particularly preferable to have at least one linking group described in the following group A.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

上記式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基又はヒドロキシル基を表す。   In said formula, R represents a C1-C6 alkyl group or a hydroxyl group.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

以下にL12、L22で表される2価の連結基の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the divalent linking group represented by L 12 and L 22 are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(I)中のL12及び前記一般式(II)においてL22が、XとA又はリン酸エステルのL22に直結する酸素原子とYを直接連結するために使われる最短の原子数の合計は、正電荷部位と負電荷部位の接近の抑制及び連結基が大きくなることによる疎水性増加抑制の観点から、3〜20であることが好ましく、4〜12であることがより好ましく、4〜8であることが特に好ましい。 L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II) are the shortest used for directly linking Y + to the oxygen atom directly connected to X + and A or L 22 of the phosphate ester. The total number of atoms is preferably from 3 to 20, and preferably from 4 to 12, from the viewpoint of suppressing the approach between the positively charged portion and the negatively charged portion and suppressing the increase in hydrophobicity due to the increase in the linking group. More preferably, it is 4-8.

本発明における特定高分子化合物(A)は、一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体である限り特に制限はないが、具体的な重合体の態様としては、(メタ)アクリル系重合体、スチリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。特に(メタ)アクリル系重合体、スチリル系重合体の態様であることが好ましい。一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)としては下記一般式(A1)で表される繰り返し単位が好ましい。   The specific polymer compound (A) in the present invention is not particularly limited as long as it is a polymer having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the general formula (I) or (II). Examples of the polymer include (meth) acrylic polymers, styryl polymers, polyurethane resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl formal resins, polyamide resins, polyester resins, and epoxy resins. In particular, an embodiment of a (meth) acrylic polymer or a styryl polymer is preferable. The repeating unit (a1) having a partial structure represented by the general formula (I) or (II) is preferably a repeating unit represented by the following general formula (A1).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(A1)において、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又はハロゲン原子を表す。(aa1)は前記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を表し、前記一般式(I)又は(II)中の‘で表される部位で主鎖の炭素原子に連結する。 In General Formula (A1), R a to R c each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. (Aa1) represents the partial structure represented by the general formula (I) or (II), and is linked to the carbon atom of the main chain at the site represented by 'in the general formula (I) or (II). .

本発明の特定高分子化合物(A)において一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)の割合は、耐汚れ性及び現像性の観点から、全繰り返し単位の1〜90モル%の範囲であることが好ましく、1〜70モル%の範囲であることがより好ましく、1〜60モル%の範囲であることが更に好ましい。   In the specific polymer compound (A) of the present invention, the proportion of the repeating unit (a1) having a partial structure represented by the general formula (I) or (II) is all repeating units from the viewpoint of stain resistance and developability. Is preferably in the range of 1 to 90 mol%, more preferably in the range of 1 to 70 mol%, and still more preferably in the range of 1 to 60 mol%.

本発明に係る繰り返し単位(a1)を有する特定高分子化合物(A)は、下記一般式(III)又は(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマーを重合することで得ることができる。   The specific polymer compound (A) having the repeating unit (a1) according to the present invention can be obtained by polymerizing a radical polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the following general formula (III) or (IV). it can.

Figure 2012048176
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一般式(III)又は(IV)において、R、R及びRは各々独立して水素原子又は炭素原子数1〜6のアルキル基を表す。
11、L12、L21、L22、X、A、及びYは前記一般式(I)及び(II)におけるL11、L12、L21、L22、X、A、及びYと同義である。
なお、本発明は、一般式(III)又は(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマーにも関する。
In the general formula (III) or (IV), R X , R Y and R Z each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L 11, L 12, L 21 , L 22, X +, A -, and Y + L in the general formula (I) and (II) 11, L 12, L 21, L 22, X +, A - , And Y + .
In addition, this invention relates also to the radically polymerizable unsaturated group containing monomer represented by general formula (III) or (IV).

一般式(III)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマーは、一般的なSn2反応、ハロゲン変換反応を用いることで合成できる。例えば3級アミンとジブロモアルキルを反応させて、亜硫酸ナトリウムと反応させる方法で得ることができる。また一般式(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマーは、ジオキサホスホラン化合物に対する開環反応、ついでSn2反応を用いることで合成できる。例えばヒドロキシ基含有化合物とクロロオキソジオキサホスホラン化合物の開環反応、次いで3級アミン化合物とを反応させることで得ることができる。
以下に、本発明に係る繰り返し単位(a1)を有する特定高分子化合物(A)を得るための一般式(III)又は(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the general formula (III) can be synthesized by using a general Sn2 reaction and a halogen conversion reaction. For example, it can be obtained by reacting a tertiary amine with dibromoalkyl and reacting with sodium sulfite. Moreover, the radically polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the general formula (IV) can be synthesized by using a ring-opening reaction for a dioxaphosphorane compound and then a Sn2 reaction. For example, it can be obtained by a ring-opening reaction of a hydroxy group-containing compound and a chlorooxodioxaphosphorane compound, and then a tertiary amine compound.
Specific examples of the radical polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the general formula (III) or (IV) for obtaining the specific polymer compound (A) having the repeating unit (a1) according to the present invention are shown below. Although shown, this invention is not limited to these.

Figure 2012048176
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さらに本発明の特定高分子化合物(A)は、支持体との密着性を高めるために、支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(a2)を共重合成分として含有することが好ましい。支持体表面と相互作用する官能基としては、例えば、陽極酸化処理又は親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などとイオン結合形成、水素結合形成、極性相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
支持体表面と相互作用する官能基の具体例を以下に挙げる。
Furthermore, the specific polymer compound (A) of the present invention contains, as a copolymerization component, a repeating unit (a2) having at least one functional group that interacts with the surface of the support in order to enhance the adhesion to the support. It is preferable. Examples of functional groups that interact with the support surface include, for example, ionic bond formation, hydrogen bond formation, and polar interaction with metals, metal oxides, hydroxyl groups, and the like present on a support that has been anodized or hydrophilized. Groups capable of interacting with each other.
Specific examples of functional groups that interact with the support surface are listed below.

Figure 2012048176
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上記式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルキニル基、炭素数2〜10のアルケニル基又は炭素数6〜15のアリール基を表し、M、M及びMはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はアルカリ土類金属に含まれる金属原子又はアンモニウム基を表す。
耐汚れ性及び耐刷性の観点から、支持体表面と相互作用する官能基は、上記カルボン酸を含有する基、スルホン酸基、リン酸エステル基もしくはその塩、ホスホン酸基もしくはその塩であることが好ましく、耐汚れ性の更なる改良の観点から、リン酸エステル基もしくはその塩又はホスホン酸基もしくはその塩であることが好ましく、ホスホン酸基もしくはその塩であることが特に好ましい。
In the above formulas, R 11 to R 13 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms. Represents an aryl group, and M, M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom contained in an alkali metal or an alkaline earth metal, or an ammonium group.
From the viewpoint of stain resistance and printing durability, the functional group that interacts with the support surface is a group containing the carboxylic acid, a sulfonic acid group, a phosphate ester group or a salt thereof, a phosphonic acid group or a salt thereof. In view of further improving the stain resistance, a phosphoric ester group or a salt thereof, or a phosphonic acid group or a salt thereof is preferable, and a phosphonic acid group or a salt thereof is particularly preferable.

支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(a2)は、下記一般式(A2)で表される繰り返し単位が好ましい。   The repeating unit (a2) having at least one functional group that interacts with the support surface is preferably a repeating unit represented by the following general formula (A2).

Figure 2012048176
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一般式(A2)において、R’〜R’は各々一般式(A1)中のR〜Rと同義である。Lは単結合又は2価の連結基を表す。Qは支持体表面と相互作用する官能基を表す。 In formula (A2), R a '~R c' have the same meanings as R a to R c each in the general formula (A1). L 4 represents a single bond or a divalent linking group. Q represents a functional group that interacts with the support surface.

で表される2価の連結基は、1から60個までの炭素原子、0から10個までの窒素原子、0から50個までの酸素原子、1から100個までの水素原子及び0から20個までの硫黄原子から構成されることが好ましい。より具体的には、前記一般式(I)又は(II)におけるL、Lで表される2価の連結基の具体例及び好ましい例と同様のものが挙げられる。
Qで表される支持体表面と相互作用する官能基は、上述した具体例が挙げられ、好ましい例も同様である。
The divalent linking group represented by L 4 has 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 To 20 sulfur atoms are preferred. More specifically, the same as the specific examples and preferred examples of the divalent linking group represented by L 1 and L 2 in the general formula (I) or (II) can be given.
Specific examples of the functional group that interacts with the support surface represented by Q include the specific examples described above, and preferred examples are also the same.

本発明の特定高分子化合物(A)において支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも一つ有する繰り返し単位(a2)の割合は、耐汚れ性及び耐刷性の観点から、全繰り返し単位の0〜99モル%の範囲であることが好ましく、10〜95モル%の範囲であることがより好ましく、10〜90モル%の範囲であることが更に好ましい。   In the specific polymer compound (A) of the present invention, the ratio of the repeating unit (a2) having at least one functional group that interacts with the support surface is 0% of all repeating units from the viewpoint of stain resistance and printing durability. The range is preferably -99 mol%, more preferably 10-95 mol%, and still more preferably 10-90 mol%.

また、本発明の特定高分子化合物(A)は、一般式(I)又は(II)で表される構造を有する繰り返し単位(a1)、支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(a2)以外の繰り返し単位(以下、他の繰り返し単位とも称する)を共重合成分として含有していてもよい。他の繰り返し単位としては、既知の種々のモノマーに由来する繰り返し単位を挙げることができる。
好ましい例としては、アクリル酸エステル類、メタクリルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノマーに由来する繰り返し単位などが挙げられる。他の繰り返し単位を導入することで、製膜性、膜強度、親水性、疎水性、溶解性、反応性、安定性等層の諸物性を適宜改善或いは制御することができる。
The specific polymer compound (A) of the present invention has at least one repeating unit (a1) having a structure represented by the general formula (I) or (II) and a functional group that interacts with the support surface. A repeating unit other than the repeating unit (a2) (hereinafter also referred to as other repeating unit) may be contained as a copolymerization component. Examples of other repeating units include repeating units derived from various known monomers.
Preferred examples are derived from known monomers such as acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic imide, etc. And repeating units. By introducing other repeating units, various physical properties of the layer such as film forming property, film strength, hydrophilicity, hydrophobicity, solubility, reactivity, and stability can be appropriately improved or controlled.

アクリル酸エステル類の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又はi−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシフェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルアクリレート、ポリアルキレングリコールアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chloro Benzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl Acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate, polyalkylene glycol acrylate.

メタクリル酸エステル類の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒドロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチルメタクリレート、ポリアルキレングリコールメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of methacrylic acid esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, (n- or i-) propyl methacrylate, (n-, i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chloro Benzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxyphene Examples include til methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenylcarbonyloxy) ethyl methacrylate, and polyalkylene glycol methacrylate. It is done.

アクリルアミド類の具体例としては、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、ポリアルキレングリコールアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, and N-tolylacrylamide. N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide , N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide, polyalkylene glycol acrylamide and the like.

メタクリルアミド類の具体例としては、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、ポリアルキレングリコールメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-ethylmethacrylamide, N-propylmethacrylamide, N-butylmethacrylamide, N-benzylmethacrylamide, N-hydroxyethylmethacrylamide, N -Phenylmethacrylamide, N-tolylmethacrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N , N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide, polyalkylene glycol methacrylamide and the like.

ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレン等が挙げられる。   Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, acetoxymethyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene. Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

本発明に係る特定高分子化合物(A)において他の繰り返し単位の割合は、0〜60モル%が好ましく、0〜40モル%がより好ましく、0〜30%が更に好ましい。   In the specific polymer compound (A) according to the present invention, the proportion of other repeating units is preferably from 0 to 60 mol%, more preferably from 0 to 40 mol%, still more preferably from 0 to 30%.

さらに、本発明における特定高分子化合物(A)には、画像部の被膜強度を向上させるために架橋性を持たせることができる。特定高分子化合物(A)に架橋性を持たせるためには、架橋性官能基を高分子化合物の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。   Furthermore, the specific polymer compound (A) in the present invention can be provided with crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to give the specific polymer compound (A) crosslinkability, a crosslinkable functional group may be introduced into the main chain or side chain of the polymer compound. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

ここで架橋性官能基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像記録層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる機能を有する基のことである。このような機能を有する基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性官能基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基、オニウム塩構造等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましく、下記一般式(i)〜(iii)で表される官能基が特に好ましい。   Here, the crosslinkable functional group is a group having a function of crosslinking the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the image recording layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is group which has such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an epoxy group, etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable functional group, a thiol group, a halogen group, an onium salt structure etc. are mentioned, for example. Especially, an ethylenically unsaturated bond group is preferable and the functional group represented by the following general formula (i)-(iii) is especially preferable.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(i)において、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子又は1価の有機基を表す。Rは、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。また、R、Rは、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 In General Formula (i), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity. R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom, halogen atom, amino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, or optionally substituted alkyl. Group, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, substituent An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, etc., among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

Xは、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R12)−を表し、R12は、水素原子又は1価の有機基を表す。1価の有機基としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。R12は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —, and R 12 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group which may have a substituent. R 12 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group because of high radical reactivity.

導入し得る置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基などが挙げられる。   Examples of substituents that can be introduced include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, sulfo groups, A nitro group, a cyano group, an amide group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like can be mentioned.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(ii)において、R〜Rは、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表す。R〜Rは、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。 In General Formula (ii), R 4 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. R 4 to R 8 preferably have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group that may have a substituent, or a substituent. An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent. Examples include an arylamino group, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, and an arylsulfonyl group that may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, and a substituent are included. An alkyl group which may be substituted and an aryl group which may have a substituent are preferred.

導入し得る置換基としては、一般式(i)で記載した置換基と同様のものが挙げられる。
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は−N(R12)−を表す。R12は、一般式(i)のR12と同義であり、好ましい例も同様である。
Examples of the substituent that can be introduced include the same substituents as those described in formula (i).
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 12 ) —. R 12 has the same meaning as R 12 in formula (i), and preferred examples are also the same.

Figure 2012048176
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一般式(iii)において、R〜R11は、それぞれ独立に水素原子又は1価の有機基を表す。Rは、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。R10、R11は、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。 In general formula (iii), R < 9 > -R < 11 > represents a hydrogen atom or monovalent organic group each independently. R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom or a methyl group is preferable because of high radical reactivity. R 10 and R 11 are preferably each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent. An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a group and an aryl group which may have a substituent are preferable because of high radical reactivity.

導入し得る置換基としては、一般式(i)で記載した置換基と同様のものが挙げられる。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N(R13)−又は置換基を有してもよいフェニレン基を表す。R13は、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
Examples of the substituent that can be introduced include the same substituents as those described in formula (i).
Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N (R 13 ) — or a phenylene group which may have a substituent. Examples of R 13 include an alkyl group which may have a substituent. Among them, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable because of high radical reactivity.

架橋性を有する特定高分子化合物(A)は、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、架橋性官能基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The specific polymer compound (A) having crosslinkability has, for example, a free radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group, and is directly or polymerizable between the polymers. Addition polymerization is performed through the polymerization chain of the compound, and a crosslink is formed between the polymer molecules to be cured. Alternatively, atoms in the polymer (for example, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the crosslinkable functional group) are extracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other, thereby causing crosslinking between polymer molecules. Forms and cures.

本発明の特定高分子化合物(A)は、既知のいかなる方法によっても合成可能であるが、その合成には、ラジカル重合法が好ましく用いられる。一般的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3、高分子の合成と反応1(高分子学会編、共立出版)、新実験化学講座19、高分子化学(I)(日本化学会編、丸善)、物質工学講座、高分子合成化学(東京電気大学出版局)等に記載されており、これらを適用することができる。   The specific polymer compound (A) of the present invention can be synthesized by any known method, and a radical polymerization method is preferably used for the synthesis. General radical polymerization methods include, for example, New Polymer Experiments 3, Polymer Synthesis and Reaction 1 (Polymer Society, Kyoritsu Publishing), New Experimental Chemistry Course 19, Polymer Chemistry (I) (The Chemical Society of Japan) , Maruzen), Materials Engineering Course, Synthetic Polymer Chemistry (Tokyo Denki University Press), etc., and these can be applied.

本発明の特定高分子化合物(A)の質量平均分子量は、平版印刷版原版の性能設計により任意に設定できる。質量平均分子量が低すぎると耐刷性が低下することから、質量平均分子量は2,000〜1,000,000が好ましく、耐刷性及び耐汚れ性の観点からより好ましくは5,000〜100,000であり、特に好ましくは7,000〜70,000である。   The mass average molecular weight of the specific polymer compound (A) of the present invention can be arbitrarily set depending on the performance design of the lithographic printing plate precursor. If the mass average molecular weight is too low, the printing durability is lowered. Therefore, the mass average molecular weight is preferably 2,000 to 1,000,000, and more preferably 5,000 to 100 from the viewpoint of printing durability and stain resistance. 7,000, particularly preferably 7,000 to 70,000.

以下に、本発明における特定高分子化合物(A)の具体例を、その質量平均分子量と共に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ポリマー構造の組成比はモル百分率で表す。各繰り返し単位の構造は、各繰り返し単位に対応する重合性成分(重合性モノマー)で表す。下記各表において、「分子量」は「質量平均分子量」を表す。   Specific examples of the specific polymer compound (A) in the present invention are shown below together with their mass average molecular weights, but the present invention is not limited to these. The composition ratio of the polymer structure is expressed in mole percentage. The structure of each repeating unit is represented by a polymerizable component (polymerizable monomer) corresponding to each repeating unit. In the following tables, “molecular weight” represents “mass average molecular weight”.

Figure 2012048176
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本発明の平版印刷版原版の実施形態は、画像記録層が支持体と接する層である形態(第1の形態)、及び、画像記録層が支持体と接する層とは異なる層である形態(第2の形態)のいずれをも包含するものである。
前記第2の形態の場合、支持体の上に、直接、下塗り層が設けられ、下塗層の上に、直接、画像記録層が設けられる形態が好ましい。
特定高分子化合物(A)を画像記録層又は下塗り層に含有させるには、特定高分子化合物(A)を画像記録層用塗布液又は下塗り層用塗布液に含有させることにより行うことができる。特定高分子化合物(A)の含有量(固形分)は、0.1〜100mg/mが好ましく、1〜30mg/mがより好ましい。
In the embodiment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, the form in which the image recording layer is in contact with the support (first form) and the form in which the image recording layer is different from the layer in contact with the support ( Any of the second forms) is included.
In the case of the second form, a form in which an undercoat layer is directly provided on the support and an image recording layer is provided directly on the undercoat layer is preferable.
The specific polymer compound (A) can be contained in the image recording layer or the undercoat layer by including the specific polymer compound (A) in the image recording layer coating solution or the undercoat layer coating solution. The content of the specific polymer compound (A) (solid content) is preferably from 0.1~100mg / m 2, 1~30mg / m 2 is more preferable.

[画像記録層]
(B)重合開始剤
本発明に用いられる重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)は画像記録層に含有される。本発明においては、ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。
[Image recording layer]
(B) Polymerization initiator The polymerization initiator (hereinafter also referred to as initiator compound) used in the present invention is contained in the image recording layer. In the present invention, a radical polymerization initiator is preferably used.

開始剤化合物としては、当業者間で公知のものを制限なく使用でき、具体的には、例えば、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩化合物、トリハロメチル化合物及びメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム塩化合物が好ましい。重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。   As the initiator compound, those known to those skilled in the art can be used without limitation, and specifically include, for example, trihalomethyl compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiphenyls. Examples include imidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and iron arene complexes. Among these, at least one selected from the group consisting of a hexaarylbiimidazole compound, an onium salt compound, a trihalomethyl compound, and a metallocene compound is preferable, and a hexaarylbiimidazole compound and an onium salt compound are particularly preferable. Two or more polymerization initiators may be used in combination as appropriate.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、欧州特許24629号、欧州特許107792号、米国特許4、410、621号に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。ヘキサアリールビイミダゾール化合物は、300〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include lophine dimers described in European Patent No. 24629, European Patent No. 107792, US Pat. No. 4,410,621, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′. , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4 , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoro) Methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like. The hexaarylbiimidazole compound is particularly preferably used in combination with a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region of 300 to 450 nm.

オニウム塩としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等が挙げられる。   Examples of onium salts include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, ammonium described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, and the like. Salt, phosphonium salts described in U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, EP 104,143, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0311520 JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018, or J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, Sulfonium salts described in each specification of JP-A-3,604,581; V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), azinium salts described in JP-A-2008-195018, and the like.

上記の中でもより好ましいものとして、ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。   Of these, more preferred are iodonium salts, sulfonium salts, and azinium salts. Although the specific example of these compounds is shown below, it is not limited to this.

ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。   As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is more preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.

スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。   Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Examples thereof include tetrafluoroborate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, and tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate.

アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。
オニウム塩は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
Examples of azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyl (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3,4 -Dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethylo Ci-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.
The onium salt is particularly preferably used in combination with an infrared absorber having a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1400 nm.

その他、特開2007−206217号の段落番号〔0071〕〜〔0129〕に記載の重合開始剤も好ましく用いることができる。   In addition, polymerization initiators described in paragraph numbers [0071] to [0129] of JP-A-2007-206217 can also be preferably used.

重合開始剤は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられる。
画像記録層中の重合開始剤の含有量は画像記録層全固形分に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%、さらに好ましくは1.0〜10質量%である。
The polymerization initiator is preferably used alone or in combination of two or more.
The content of the polymerization initiator in the image recording layer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, and still more preferably 1.0 to 10%, based on the total solid content of the image recording layer. % By mass.

(C)重合性化合物
画像記録層に用いる重合性化合物は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能もしくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報等に記載されている。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound used in the image recording layer is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably 2 It is selected from compounds having at least one. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. Esters of an acid and a polyhydric alcohol compound and amides of an unsaturated carboxylic acid and a polyamine compound are used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group and the like with monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group and an addition reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group, A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. It is also possible to use a compound group in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-333321.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of a monomer of an ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) -modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl ] Dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH (A)
(ただし、R及びRは、H又はCHを示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、米国特許7、153、632号明細書、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。   Also, urethanes described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210. Acrylates, JP-B 58-49860, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62-39418, JP-A 2000-250211, JP-A 2007-94138 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in the publication, US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223. Urethane compounds having the described hydrophilic group are also suitable.

上記の中でも、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合は、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。   Among the above, in the case of a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, tris (acryloyloxyethyl) isocyanate is excellent in that it has a good balance of hydrophilicity involved in on-press developability and polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide-modified acrylates such as nurate and bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate are particularly preferred.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは25〜70質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で使用される。   Details of the method of use, such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount added, can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 25 to 70% by mass, and particularly preferably 30 to 60% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(D)増感色素
画像記録層に用いる増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、前記重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
(D) Sensitizing dye The sensitizing dye used in the image recording layer absorbs light at the time of image exposure to an excited state, supplies energy to the polymerization initiator by electron transfer, energy transfer or heat generation, and initiates polymerization. Any device that improves the function can be used without particular limitation. In particular, a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength range of 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm is preferably used.

300〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、スチリル類、オキサゾール類等の色素を挙げることができる。   Examples of the sensitizing dye having maximum absorption in the wavelength range of 300 to 450 nm include merocyanines, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, anthracenes, styryls, oxazoles and the like.

300〜450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(IX)で表される色素である。   Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 300 to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (IX).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(IX)中、Aは置換基を有してもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子又は=N(R)を表す。R、R及びRは、それぞれ独立に、1価の非金属原子団を表し、AとR又はRとRは、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。 In General Formula (IX), A represents an aryl group or a heteroaryl group which may have a substituent, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or ═N (R 3 ). R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and A and R 1 or R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic group. A ring may be formed.

一般式(IX)について更に詳しく説明する。R、R又はRで表される1価の非金属原子団は、好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のヘテロアリール基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。 General formula (IX) will be described in more detail. The monovalent nonmetallic atomic group represented by R 1 , R 2 or R 3 is preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted aryl group. Represents a substituted or unsubstituted heteroaryl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.

Aで表される置換基を有してもよいアリール基及びヘテロアリール基は、各々R、R及びRで記載した置換もしくは非置換のアリール基及び置換もしくは非置換のヘテロアリール基と同様である。 The aryl group and heteroaryl group which may have a substituent represented by A are a substituted or unsubstituted aryl group and a substituted or unsubstituted heteroaryl group represented by R 1 , R 2 and R 3 , respectively. It is the same.

このような増感色素の具体例としては、特開2007−58170号の段落番号〔0047〕〜〔0053〕、特開2007−93866号の段落番号〔0036〕〜〔0037〕、特開2007−72816号の段落番号〔0042〕〜〔0047〕に記載の化合物が好ましく用いられる。 Specific examples of such a sensitizing dye include paragraph numbers [0047] to [0053] of JP-A No. 2007-58170, paragraph numbers [0036] to [0037] of JP-A No. 2007-93866, and JP-A No. 2007-. The compounds described in paragraph Nos. [0042] to [0047] of No. 72816 are preferably used.

また、特開2006−189604号、特開2007−171406号、特開2007−206216号、特開2007−206217号、特開2007−225701号、特開2007−225702号、特開2007−316582号、特開2007−328243号に記載の増感色素も好ましく用いることができる。   JP-A-2006-189604, JP-A-2007-171406, JP-A-2007-206216, JP-A-2007-206217, JP-A-2007-225701, JP-A-2007-225702, JP-A-2007-316582 Sensitizing dyes described in JP-A-2007-328243 can also be preferably used.

続いて、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する増感色素(以降、赤外線吸収剤と称することもある)について記載する。赤外線吸収剤は染料又は顔料が好ましく用いられる。   Then, it describes about the sensitizing dye (henceforth an infrared absorber) which has maximum absorption in the wavelength range of 750-1400 nm. As the infrared absorber, a dye or a pigment is preferably used.

染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(a)中、Xは、水素原子、ハロゲン原子、−NPh、−X−L又は以下に示す基を表す。ここで、Xは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を示し、Lは炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子(N、S、O、ハロゲン原子、Se)を有するアリール基、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。X は後述するZ と同義である。Rは、水素原子又はアルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , —X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having a hetero atom (N, S, O, halogen atom, Se), The C1-C12 hydrocarbon group containing a hetero atom is shown. X a has the same meaning as Z a described later. R a represents a hydrogen atom or a substituent selected from an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R及びRは、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR及びRは互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In view of storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms. R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring, and when a ring is formed, it is particularly preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

Ar、Arは、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環基及びナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y、Yは、それぞれ同じでも異なってもよく、硫黄原子又は炭素数12以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なってもよく、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R、R、R及びRは、それぞれ同じでも異なってもよく、水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を示す。原料の入手容易性から、好ましくは水素原子である。また、Z は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZ は必要ない。好ましいZ は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Preferred aryl groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. In view of easy availability of the raw material, a hydrogen atom is preferred. Z a represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, from the storage stability of the image recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号の段落番号〔0017〕〜〔0019〕に記載の化合物、特開2002−023360号の段落番号〔0016〕〜〔0021〕、特開2002−040638号の段落番号〔0012〕〜〔0037〕に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号の段落番号〔0034〕〜〔0041〕、特開2008−195018号の段落番号〔0080〕〜〔0086〕に記載の化合物、特に好ましくは特開2007−90850号の段落番号〔0035〕〜〔0043〕に記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) include compounds described in paragraph Nos. [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, paragraph Nos. [0016] of JP-A No. 2002-023360, [0021], compounds described in paragraphs [0012] to [0037] of JP-A No. 2002-040638, preferably paragraphs [0034] to [0041] of JP-A No. 2002-278057, JP-A No. 2008-195018 And the compounds described in paragraphs [0035] to [0043] of JP-A-2007-90850 are particularly preferable.

また特開平5−5005号の段落番号〔0008〕〜〔0009〕、特開2001−222101号の段落番号〔0022〕〜〔0025〕に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。   In addition, compounds described in paragraph numbers [0008] to [0009] of JP-A No. 5-5005 and paragraph numbers [0022] to [0025] of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.

赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落番号〔0072〕〜〔0076〕に記載の化合物が好ましい。   Only 1 type may be used for an infrared absorption dye, 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, the compounds described in JP-A-2008-195018, paragraphs [0072] to [0076] are preferable.

増感色素の含有量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、更に好ましくは0.1〜20質量部、特に好ましくは0.2〜10質量部である。   The content of the sensitizing dye is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and particularly preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. Part by mass.

(E)バインダーポリマー
本発明の画像記録層に含有されるバインダーポリマーは、画像記録層成分を支持体上に担持可能であり、現像液により除去可能であるものが用いられる。バインダーポリマーとしては、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂などが用いられる。特に、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂が好ましく用いられ、より好ましくは(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂である。
(E) Binder polymer As the binder polymer contained in the image recording layer of the present invention, those capable of supporting the image recording layer components on a support and removable with a developer are used. As the binder polymer, (meth) acrylic polymer, polyurethane resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin and the like are used. In particular, (meth) acrylic polymers, polyurethane resins, and polyvinyl butyral resins are preferably used, and (meth) acrylic polymers, polyurethane resins, and polyvinyl butyral resins are more preferable.

本発明において、「(メタ)アクリル系重合体」とは、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル(アルキルエステル、アリールエステル、アリルエステルなど)、(メタ)アクリルアミド及び(メタ)アクリルアミド誘導体などの(メタ)アクリル酸誘導体を重合成分として有する共重合体のことを云う。「ポリウレタン樹脂」とは、イソシアネート基を2つ以上有する化合物とヒドロキシル基を2つ以上有する化合物の縮合反応により生成されるポリマーのことを云う。「ポリビニルブチラール樹脂」とは、ポリ酢酸ビニルを一部又は全て鹸化して得られるポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件下で反応(アセタール化反応)させて合成されるポリマーのことを云い、更に、残存したヒドロキシ基と酸基等有する化合物を反応させる方法等により酸基等を導入したポリマーも含まれる。
本発明における(メタ)アクリル系重合体の好適な一例としては、酸基を含有する繰り返し単位を有する共重合体が挙げられる。酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等が挙げられるが、特にカルボン酸基が好ましい。酸基を含有する繰り返し単位としては、(メタ)アクリル酸由来の繰り返し単位や下記一般式(I)で表されるものが好ましく用いられる。
In the present invention, “(meth) acrylic polymer” means (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester (alkyl ester, aryl ester, allyl ester, etc.), (meth) acrylamide and (meth) acrylamide derivatives. This refers to a copolymer having a (meth) acrylic acid derivative as a polymerization component. “Polyurethane resin” refers to a polymer produced by a condensation reaction of a compound having two or more isocyanate groups and a compound having two or more hydroxyl groups. “Polyvinyl butyral resin” refers to a polymer synthesized by reacting polyvinyl alcohol and butyraldehyde obtained by saponifying part or all of polyvinyl acetate under an acidic condition (acetalization reaction). A polymer having an acid group or the like introduced by a method of reacting a compound having a remaining hydroxy group and an acid group or the like is also included.
A suitable example of the (meth) acrylic polymer in the present invention includes a copolymer having a repeating unit containing an acid group. Examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, and a sulfonamide group, and a carboxylic acid group is particularly preferable. As the repeating unit containing an acid group, a repeating unit derived from (meth) acrylic acid or one represented by the following general formula (I) is preferably used.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

一般式(I)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Rは単結合又はn+1価の連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR−を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。 In general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a single bond or an n + 1 valent linking group. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 5.

一般式(I)におけるRで表される連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子から構成されるもので、その原子数は好ましくは1〜80である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の何れかで複数連結された構造を有していてもよい。Rとしては、単結合、アルキレン基、置換アルキレン基及びアルキレン基及び/又は置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることが好ましく、単結合、炭素数1〜5のアルキレン基、炭素数1〜5の置換アルキレン基及び炭素数1〜5のアルキレン基及び/又は炭素数1〜5の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合のいずれかで複数連結された構造であることがより好ましく、単結合、炭素数1〜3のアルキレン基、炭素数1〜3の置換アルキレン基、及び炭素数1〜3のアルキレン基及び/又は炭素数1〜3の置換アルキレン基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合、エステル結合の少なくともいずれかで複数連結された構造であることが特に好ましい。
置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
The linking group represented by R 2 in the general formula (I) is composed of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms is preferably 1 to 80. is there. Specifically, an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group, and the like can be mentioned. These divalent groups are linked in multiples by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond, and an ester bond. You may have the structure made. R 2 has a structure in which a single bond, an alkylene group, a substituted alkylene group, and an alkylene group and / or a substituted alkylene group are connected by a plurality of amide bonds, ether bonds, urethane bonds, urea bonds, or ester bonds. A single bond, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and / or a substituted alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is an amide bond, an ether More preferably, it is a structure in which a plurality of bonds, urethane bonds, urea bonds, or ester bonds are connected, and a single bond, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, a substituted alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and carbon. An alkylene group of 1 to 3 and / or a substituted alkylene group of 1 to 3 carbon atoms is an amide bond, ether bond, urethane bond, urea bond, It is particularly preferable that the structure is a structure in which a plurality of ter bonds are connected.
Examples of the substituent include a monovalent non-metallic atomic group excluding a hydrogen atom, a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group, Examples include a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a carboxyl group and its conjugate base group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

は水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基がより好ましく、水素原子又はメチル基が特に好ましい。nは1〜3であることが好ましく、1又は2であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。 R 3 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. n is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

(メタ)アクリル系重合体の全重合成分に占めるカルボン酸基を有する重合成分の割合(モル%)は、現像性の観点から、1〜70%が好ましい。現像性と耐刷性の両立を考慮すると、1〜50%がより好ましく、1〜30%が特に好ましい。
本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体は更に架橋性基を有することが好ましい。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像記録層中で起こるラジカル重合反応の過程でバインダーポリマーを架橋させる基のことである。このような機能の基であれば特に限定されないが、例えば、付加重合反応し得る官能基としてエチレン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が挙げられる。また光照射によりラジカルになり得る官能基であってもよく、そのような架橋性基としては、例えば、チオール基、ハロゲン基等が挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和結合基が好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、スチリル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基が好ましい。
The proportion (mol%) of the polymerization component having a carboxylic acid group in the total polymerization components of the (meth) acrylic polymer is preferably 1 to 70% from the viewpoint of developability. Considering compatibility between developability and printing durability, 1 to 50% is more preferable, and 1 to 30% is particularly preferable.
The (meth) acrylic polymer used in the present invention preferably further has a crosslinkable group. Here, the crosslinkable group is a group that crosslinks the binder polymer in the process of radical polymerization reaction that occurs in the image recording layer when the lithographic printing plate precursor is exposed. Although it will not specifically limit if it is a group of such a function, For example, an ethylenically unsaturated bond group, an amino group, an epoxy group etc. are mentioned as a functional group which can be addition-polymerized. Moreover, the functional group which can become a radical by light irradiation may be sufficient, As such a crosslinkable group, a thiol group, a halogen group, etc. are mentioned, for example. Of these, an ethylenically unsaturated bond group is preferable. As the ethylenically unsaturated bond group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, and an allyl group are preferable.

バインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the binder polymer, for example, free radicals (polymerization initiating radicals or growth radicals in the polymerization process of the polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and the addition polymerization is performed directly between the polymers or through the polymerization chain of the polymerizable compound. As a result, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together, thereby causing cross-linking between polymer molecules. Forms and cures.

(メタ)アクリル系重合体中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.01〜10.0mmol、より好ましくは0.05〜9.0mmol、特に好ましくは0.1〜8.0mmolである。   The content of the crosslinkable group in the (meth) acrylic polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.01 to 10.0 mmol per 1 g of the binder polymer. Preferably it is 0.05-9.0 mmol, Most preferably, it is 0.1-8.0 mmol.

本発明に用いられる(メタ)アクリル系重合体は、上記酸基を有する重合単位、架橋性基を有する重合単位の他に、(メタ)アクリル酸アルキル又はアラルキルエステルの重合単位、(メタ)アクリルアミド又はその誘導体の重合単位、α−ヒドロキシメチルアクリレートの重合単位、スチレン誘導体の重合単位を有していてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基、炭素数2〜8の前述の置換基を有するアルキル基であり、メチル基がより好ましい。(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジル等が挙げられる。(メタ)アクリルアミド誘導体としては、N−イソプロピルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−(4−メトキシカルボニルフェニル)メタアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、モルホリノアクリルアミド等が挙げられる。α−ヒドロキシメチルアクリレートとしては、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。スチレン誘導体としては、スチレン、4−tertブチルスチレン等が挙げられる。   The (meth) acrylic polymer used in the present invention includes, in addition to the above-described polymer unit having an acid group and polymer unit having a crosslinkable group, a polymer unit of (meth) acrylic acid alkyl or aralkyl ester, (meth) acrylamide. Alternatively, it may have a polymer unit of a derivative thereof, a polymer unit of α-hydroxymethyl acrylate, or a polymer unit of a styrene derivative. The alkyl group of the (meth) acrylic acid alkyl ester is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and an alkyl group having the aforementioned substituent having 2 to 8 carbon atoms, and a methyl group is more preferable. Examples of the (meth) acrylic acid aralkyl ester include benzyl (meth) acrylate. Examples of (meth) acrylamide derivatives include N-isopropylacrylamide, N-phenylmethacrylamide, N- (4-methoxycarbonylphenyl) methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, morpholinoacrylamide and the like. Examples of the α-hydroxymethyl acrylate include ethyl α-hydroxymethyl acrylate and cyclohexyl α-hydroxymethyl acrylate. Examples of styrene derivatives include styrene and 4-tertbutylstyrene.

また、機上現像を適用する平版印刷版原版の場合、バインダーポリマーは親水性基を有することが好ましい。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与する。特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と機上現像性の両立が可能になる。   In the case of a lithographic printing plate precursor to which on-press development is applied, the binder polymer preferably has a hydrophilic group. The hydrophilic group contributes to imparting on-press developability to the image recording layer. In particular, the coexistence of the crosslinkable group and the hydrophilic group makes it possible to achieve both printing durability and on-press developability.

親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキレンオキシド構造、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などがあり、なかでも、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を1〜9個有するアルキレンオキシド構造が好ましい。バインダーポリマーに親水性基を付与するには、例えば、親水性基を有するモノマーを共重合することにより行われる。   Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, a carboxyl group, an alkylene oxide structure, an amino group, an ammonium group, an amide group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. Among them, an alkylene oxide unit having 2 or 3 carbon atoms An alkylene oxide structure having 1 to 9 is preferable. For imparting a hydrophilic group to the binder polymer, for example, copolymerization of a monomer having a hydrophilic group is performed.

本発明におけるポリウレタン樹脂の好適な一例としては、特開2007−187836号の段落番号〔0099〕〜〔0210〕、特開2008−276155号の段落番号〔0019〕〜〔0100〕、特開2005−250438号の段落番号〔0018〕〜〔0107〕、特開2005−250158号の段落番号〔0021〕〜〔0083〕に記載のポリウレタン樹脂を挙げることが出来る。   As preferable examples of the polyurethane resin in the present invention, paragraph numbers [00099] to [0210] of JP-A No. 2007-187836, paragraph numbers [0019] to [0100] of JP-A No. 2008-276155, JP-A No. 2005-2005, Examples thereof include polyurethane resins described in paragraph numbers [0018] to [0107] of No. 250438 and paragraph numbers [0021] to [0083] of JP-A No. 2005-250158.

本発明におけるポリビニルブチラール樹脂の好適な一例としては、特開2001−75279号の段落番号〔0006〕〜〔0013〕に記載のポリビニルブチラール樹脂を挙げることができる。
バインダーポリマー中の酸基の一部が、塩基性化合物で中和されていても良い。塩基性化合物としては、塩基性窒素を含有する化合物やアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属の4級アンモニウム塩などが挙げられる。
Preferable examples of the polyvinyl butyral resin in the present invention include polyvinyl butyral resins described in paragraph numbers [0006] to [0013] of JP-A-2001-75279.
A part of the acid groups in the binder polymer may be neutralized with a basic compound. Examples of basic compounds include compounds containing basic nitrogen, alkali metal hydroxides, and quaternary ammonium salts of alkali metals.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上が好ましく、1万〜30万がより好ましく、また、数平均分子量が1000以上が好ましく、2000〜25万がより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10が好ましい。
バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の観点から、画像記録層の全固形分に対して、5〜75質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましく、10〜60質量%が更に好ましい。
また、重合性化合物及びバインダーポリマーの合計含有量は、画像記録層の全固形分に対して、90質量%以下が好ましい。90質量%を超えると、感度の低下、現像性の低下を引き起こす場合がある。より好ましくは35〜80質量%である。
The binder polymer has a mass average molecular weight of preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, a number average molecular weight of 1,000 or more, and more preferably 2,000 to 250,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the binder polymer is preferably 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer, from the viewpoint of good image area strength and image formability. -60 mass% is still more preferable.
The total content of the polymerizable compound and the binder polymer is preferably 90% by mass or less with respect to the total solid content of the image recording layer. If it exceeds 90% by mass, the sensitivity and developability may be lowered. More preferably, it is 35-80 mass%.

(F)低分子親水性化合物
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
(F) Low molecular weight hydrophilic compound The image-recording layer in the invention may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve the on-press developability without reducing the printing durability.
As the low molecular weight hydrophilic compound, for example, as the water-soluble organic compound, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like glycols and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphonic acid Organic phosphonic acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, betaines, and the like.

本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。   Among these, in the present invention, it is preferable to contain at least one selected from polyols, organic sulfates, organic sulfonates, and betaines.

有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラデコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号の段落番号〔0026〕〜〔0031〕、特開2009−154525号の段落番号〔0020〕〜〔0047〕に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。   Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate. Sodium 5,8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1; Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium sulfonate, 5,8,11,14-tetraoxatetradecosane-1-sodium sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxy Benzenesulfo Acid sodium, sodium p-styrenesulfonate, sodium dimethyl-5-sulfonate isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6 -Aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, Paragraph Nos. [0026] to [0031] of JP-A No. 2007-276454, Paragraph Nos. [0020] to [0047] of JP-A No. 2009-154525 Compound etc. are mentioned. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.

有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454号の段落番号〔0034〕〜〔0038〕に記載の化合物が挙げられる。   Organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0034] to [0038] of JP-A-2007-276454.

ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナートなどが挙げられる。   As the betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable. Specific examples include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethyl. Ammonioobylate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, Examples include 3- (1-pyridinio) -1-propanesulfonate.

低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。   Since low molecular weight hydrophilic compounds have a small hydrophobic part structure and almost no surface activity, dampening water penetrates into the exposed part of the image recording layer (image part), reducing the hydrophobicity and film strength of the image part. The ink receptivity and printing durability of the image recording layer can be maintained well.

低分子親水性化合物の画像記録層中の含有量は、画像記録層全固形分に対して0.5〜20質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、2〜10質量%が更に好ましい。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。低分子親水性化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   The content of the low molecular weight hydrophilic compound in the image recording layer is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and further preferably 2 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. preferable. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained. A low molecular weight hydrophilic compound may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types.

(G)感脂化剤
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を含有させることができる。特に、保護層が無機質の層状化合物を含有する場合、感脂化剤は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
(G) Grease-sensitizing agent The image-recording layer of the invention may contain a oil-sensitizing agent such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, or an ammonium group-containing polymer in order to improve the inking property. . In particular, when the protective layer contains an inorganic stratiform compound, the sensitizer functions as a surface coating agent for the inorganic stratiform compound, and prevents a decrease in the inking property during printing by the inorganic stratiform compound.

好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。   Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号の段落番号〔0021〕〜〔0037〕、特開2009−90645号の段落番号〔0030〕〜〔0057〕に記載の化合物などが挙げられる。   Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. Fert, benzyldimethyldodecyl ammonium = hexafluorophosphate, compounds described in JP-A No. 2008-284858, paragraph numbers [0021] to [0037], JP-A No. 2009-90645, paragraphs [0030] to [0057], etc. Is mentioned.

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号の段落番号〔0089〕〜〔0105〕に記載のポリマーが挙げられる。   The ammonium group-containing polymer may be any polymer as long as it has an ammonium group in its structure, but a polymer containing 5 to 80 mol% of (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. Specific examples include the polymers described in paragraph numbers [0089] to [0105] of JP-A-2009-208458.

アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を質量平均分子量に換算すると、10000〜150000が好ましく、17000〜140000がより好ましく、20000〜130000が特に好ましい。   The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) determined by the following measurement method in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, and 15 to 15 Those in the range of 100 are particularly preferred. When the said reduced specific viscosity is converted into a mass average molecular weight, 10,000-150,000 are preferable, 17000-140000 are more preferable, 20000-130000 are especially preferable.

<還元比粘度の測定方法>
30%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出する。
<Measurement method of reduced specific viscosity>
Weigh 3.33 g of 30% polymer solution (1 g as solid content) into a 20 ml volumetric flask and make up with N-methylpyrrolidone. This solution is allowed to stand for 30 minutes in a constant temperature bath at 30 ° C., put in an Ubbelohde reduced viscosity tube (viscosity constant = 0.010 cSt / s), and the time for flowing down at 30 ° C. is measured. The measurement is performed twice with the same sample, and the average value is calculated. Similarly, in the case of a blank (only N-methylpyrrolidone), the reduced specific viscosity (ml / g) is calculated from the following formula.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 質量平均分子量4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 質量平均分子量4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 質量平均分子量7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 質量平均分子量6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 質量平均分子量6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90 mass average molecular weight 45,000)
(2) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70 mass average molecular weight 45,000)
(4) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 60,000)
(5) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60 mass average molecular weight 7 million)
(6) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75 mass average molecular weight 650,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 650,000)
(8) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 (Mass average molecular weight 75,000)
(9) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5 (Mass average molecular weight 650,000)

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、0.1〜15.0質量%がより好ましく、1〜5質量%が更に好ましい。   The content of the sensitizer is preferably 0.01 to 30.0% by mass, more preferably 0.1 to 15.0% by mass, and 1 to 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Further preferred.

(H)疎水化前駆体
画像記録層には、機上現像性を向上させるため、疎水化前駆体を含有させることができる。疎水化前駆体とは、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
(H) Hydrophobized precursor The image-recording layer can contain a hydrophobized precursor in order to improve the on-press developability. The hydrophobized precursor means fine particles capable of converting the image recording layer to hydrophobic when heat is applied. The fine particles are at least one selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, heat-reactive polymer fine particles, polymer fine particles having a polymerizable group, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). It is preferable. Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable.

疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure、No.333003、特開平9−123387号公報、特開平9−131850号公報、特開平9−171249号公報、特開平9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include those disclosed in Research Disclosure, No. 1, January 1992. 333003, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250, and European Patent No. 931647, etc. A fine particle can be mentioned as a suitable thing.
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.

本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。   The average particle diameter of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 2.0 μm.

本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。   Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by cross-linking by a heat reaction and a functional group change at that time.

本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。   The thermoreactive group in the polymer fine particles having a thermoreactive group used in the present invention may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, Examples include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (eg, acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (eg, vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) ), An isocyanato group that performs an addition reaction or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), and a condensation reaction Carboxy group and reaction partner hydroxy group or amino group, acid anhydride and reaction phase for ring-opening addition reaction , And the like as a preferable amino group or a hydroxy group is.

本発明に用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。さらに、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。   As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. Is. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, the image recording layer containing microcapsules is preferably a mode in which hydrophobic constituent components are encapsulated in microcapsules and hydrophilic constituent components are contained outside the microcapsules.

本発明に用いられるミクロゲルは、その中又は表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。   The microgel used in the present invention can contain a part of the constituent components of the image recording layer in at least one of the inside and the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radical polymerizable group on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化もしくはミクロゲル化するには、公知の方法が適用できる。   A known method can be applied to microencapsulate or microgel the constituents of the image recording layer.

マイクロカプセルあるいはミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましく、0.05〜2.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsule or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.05 to 2.0 μm, and particularly preferably 0.10 to 1.0 μm. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

疎水化前駆体の含有量は、画像記録層全固形分の5〜90質量%が好ましい。   The content of the hydrophobizing precursor is preferably 5 to 90% by mass based on the total solid content of the image recording layer.

(I)その他の画像記録層成分
画像記録層は、連鎖移動剤を含有することが好ましい。連鎖移動剤は、例えば高分子辞典第三版(高分子学会編、2005年)683−684頁に定義されている。連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。本発明の画像記録層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を好ましく用いることができる。
(I) Other image recording layer components The image recording layer preferably contains a chain transfer agent. The chain transfer agent is defined, for example, in Polymer Dictionary 3rd Edition (edited by Polymer Society, 2005) pages 683-684. As the chain transfer agent, for example, a compound group having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. In the image recording layer of the present invention, in particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) Can be preferably used.

連鎖移動剤の好ましい含有量は、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.01〜20質量部、更に好ましくは1〜10質量部、特に好ましくは1〜5質量部である。   The content of the chain transfer agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. is there.

画像記録層には、更に、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、現像性の促進や塗布面状の向上のための界面活性剤、現像性の向上やマイクロカプセルの分散安定性の向上のための親水性ポリマー、画像部と非画像部を視認するための着色剤や焼き出し剤、画像記録層の製造中又は保存中における重合性化合物の不要な熱重合を防止するための重合禁止剤、酸素による重合阻害を防止するための高級脂肪誘導体などの疎水性低分子化合物、画像部の硬化皮膜強度向上のための無機微粒子、有機微粒子、感度の向上のための共増感剤、可塑性の向上のための可塑剤等を挙げることができる。これの化合物はいずれも公知のもの、例えば、特開2007−206217号の段落番号〔0161〕〜〔0215〕、特表2005−509192号の段落番号〔0067〕、特開2004−310000号の段落番号〔0023〕〜〔0026〕及び〔0059〕〜〔0066〕に記載の化合物を使用することができる。界面活性剤については、後述の現像液に添加してもよい界面活性剤を使用することもできる。   The image recording layer can further contain various additives as required. Additives include surfactants for promoting developability and improving the surface of the coating, hydrophilic polymers for improving developability and dispersion stability of microcapsules, and visual and non-image areas visible Colorants and print-out agents for polymerization, polymerization inhibitors for preventing unnecessary thermal polymerization of polymerizable compounds during production or storage of the image recording layer, higher fatty derivatives for preventing polymerization inhibition by oxygen, etc. Hydrophobic low molecular weight compounds, inorganic fine particles for improving the strength of the cured film in the image area, organic fine particles, co-sensitizers for improving sensitivity, plasticizers for improving plasticity, and the like. All of these compounds are known, for example, paragraph numbers [0161] to [0215] of JP-A-2007-206217, paragraph number [0067] of JP-T-2005-509192, paragraphs of JP-A-2004-310000. The compounds described in the numbers [0023] to [0026] and [0059] to [0066] can be used. As for the surfactant, a surfactant which may be added to the developer described later can also be used.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各画像記録層成分を溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。使用する溶剤としては、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、γ−ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is formed by preparing and applying a coating solution by dispersing or dissolving each of the necessary image recording layer components in a solvent. Examples of the solvent used include methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, and γ-butyllactone. It is not limited. A solvent is used individually or in mixture. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

画像記録層の塗布量(固形分)は、0.3〜3.0g/mが好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。 The coating amount (solid content) of the image recording layer is preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

[保護層]
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、画像記録層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。保護層の材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。これらの中で、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましい。具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に特に良好な結果を与える。
[Protective layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (oxygen blocking layer) is preferably provided on the image recording layer in order to block diffusion and penetration of oxygen that hinders the polymerization reaction during exposure. As a material for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more kinds can be mixed and used as necessary. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like. Among these, it is preferable to use a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity. Specifically, using polyvinyl alcohol as a main component gives particularly good results in terms of basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するために必要な未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルあるいはアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。ポリビニルアルコールはポリ酢酸ビニルを加水分解することにより得られる。ポリビニルアルコールの具体例としては加水分解度が69.0〜100モル%、重合繰り返し単位数が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−102、PVA−103、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−235、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−403、PVA−405、PVA−420、PVA−424H、PVA−505、PVA−617、PVA−613、PVA−706、L−8等が挙げられる。ポリビニルアルコールは単独又は混合して使用できる。ポリビニルアルコールの保護層中の含有量は、好ましくは20〜95質量%、より好ましくは30〜90質量%である。   The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether or an acetal as long as it contains the unsubstituted vinyl alcohol unit necessary for having the necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. Polyvinyl alcohol is obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 69.0 to 100 mol% and a number of polymerization repeating units in the range of 300 to 2400. Specifically, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, manufactured by Kuraray Co., Ltd. PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235, PVA-217EE, PVA-217E, PVA- 220E, PVA-224E, PVA-403, PVA-405, PVA-420, PVA-424H, PVA-505, PVA-617, PVA-613, PVA-706, L-8 and the like. Polyvinyl alcohol can be used alone or in combination. Content in the protective layer of polyvinyl alcohol becomes like this. Preferably it is 20-95 mass%, More preferably, it is 30-90 mass%.

また、変性ポリビニルアルコールも好ましく用いることができる。特に、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号に記載のポリビニルアルコールが好適に挙げられる。   Also, modified polyvinyl alcohol can be preferably used. In particular, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group is preferably used. Specific examples include polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

ポリビニルアルコールと他の材料を混合して使用する場合、混合する成分としては、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン又はその変性物が、酸素遮断性、現像除去性といった観点から好ましく、保護層中その含有率は3.5〜80質量%、好ましくは10〜60質量%、更に好ましくは15〜30質量%である。   In the case of using a mixture of polyvinyl alcohol and other materials, as a component to be mixed, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone or a modified product thereof is preferable from the viewpoint of oxygen-blocking property and development removability, and its content in the protective layer Is 3.5 to 80% by mass, preferably 10 to 60% by mass, and more preferably 15 to 30% by mass.

保護層には、グリセリン、ジプロピレングリコール等を上記ポリマーに対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができる。また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤、アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を上記ポリマーに対して数質量%相当量添加することができる。   The protective layer can be provided with flexibility by adding glycerin, dipropylene glycol or the like in an amount corresponding to several mass% with respect to the polymer. In addition, anionic surfactants such as sodium alkyl sulfate and sodium alkyl sulfonate, amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylate and alkylaminodicarboxylate, and nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ether An amount corresponding to several mass% can be added to the polymer.

さらに、保護層には、酸素遮断性や画像記録層表面保護性を向上させる目的で、無機質の層状化合物を含有させることも好ましい。無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性合成雲母が特に有用である。具体的には、特開2005−119273号に記載の無機質の層状化合物が好適に挙げられる。   Further, the protective layer preferably contains an inorganic layered compound for the purpose of improving oxygen barrier properties and image recording layer surface protective properties. Among inorganic layered compounds, fluorine-based swellable synthetic mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. Specifically, inorganic layered compounds described in JP-A No. 2005-119273 are preferable.

保護層の塗布量は、0.05〜10g/mが好ましく、無機質の層状化合物を含有する場合には、0.1〜5g/mが更に好ましく、無機質の層状化合物を含有しない場合には、0.5〜5g/mが更に好ましい。 The coating amount of the protective layer is preferably 0.05 to 10 g / m 2. When the inorganic layered compound is contained, 0.1 to 5 g / m 2 is more preferable, and when the inorganic layered compound is not contained. Is more preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

[支持体]
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状の親水性支持体であればよい。支持体としては、特に、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すことが好ましい。アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)等が挙げられる。これらの処理については、特開2007−206217号の段落番号〔0241〕〜〔0245〕に記載された方法を好ましく用いることができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであることが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。
また、支持体の色濃度は、反射濃度値で0.15〜0.65が好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like hydrophilic support. As the support, an aluminum plate is particularly preferable. Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that selectively dissolves the surface chemically). For these treatments, the methods described in paragraph numbers [0241] to [0245] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
The color density of the support is preferably from 0.15 to 0.65 in terms of the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.
The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

<親水化処理>
本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体表面の親水化処理を行ったり、支持体と画像記録層との間に下塗り層を設けることも好適である。
支持体表面の親水化処理としては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液に浸漬処理又は電解処理するアルカリ金属シリケート処理、フッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられるが、ポリビニルホスホン酸水溶液に浸漬処理する方法が好ましく用いられる。
<Hydrophilic treatment>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, in order to improve the hydrophilicity of the non-image area and prevent printing stains, the support surface is subjected to a hydrophilic treatment, or an undercoat is provided between the support and the image recording layer. It is also suitable to provide a layer.
Examples of the hydrophilization treatment of the support surface include alkali metal silicate treatment in which the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytic treatment, a method of treatment with potassium zirconate fluoride, a method of treatment with polyvinylphosphonic acid, and the like. Although mentioned, the method of immersing in the polyvinylphosphonic acid aqueous solution is used preferably.

<下塗り層>
また、上記第2の形態のように、本発明の平版印刷版原版が下塗り層を有している場合、下塗り層は上記特定高分子化合物(A)を含有する。その場合の特定高分子化合物(A)の含有量は前述した通りである。下塗り層は、更に、特定高分子化合物(A)以外の化合物を含んでも良く、そのような更なる化合物としては、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。特に好ましい化合物として、メタクリル基、アリル基などの重合性基とスルホン酸基、リン酸基、リン酸エステルなどの支持体吸着性基を有する化合物が挙げられる。重合性基と支持体吸着性基に加えてエチレンオキシド基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。
下塗り層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥する方法、又は、水、あるいは、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度0.005〜10質量%の溶液を種々の方法で塗布できる。
例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
<Undercoat layer>
Moreover, when the lithographic printing plate precursor according to the invention has an undercoat layer as in the second embodiment, the undercoat layer contains the specific polymer compound (A). In this case, the content of the specific polymer compound (A) is as described above. The undercoat layer may further contain a compound other than the specific polymer compound (A). Examples of such a further compound include an addition-polymerizable ethylenic double resin described in JP-A-10-282679. Preferable examples include a silane coupling agent having a bonding reactive group and a phosphorus compound having an ethylenic double bond reactive group described in JP-A-2-304441. Particularly preferred compounds include compounds having a polymerizable group such as a methacryl group and an allyl group and a support-adsorptive group such as a sulfonic acid group, a phosphoric acid group and a phosphoric acid ester. A compound having a hydrophilicity-imparting group such as an ethylene oxide group in addition to the polymerizable group and the support-adsorbing group can also be exemplified as a suitable compound.
The undercoat layer is formed by applying water on a support and drying a solution prepared by dissolving the above compound in water, an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, or water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone. The above compound can be adsorbed by immersing the support in a solution obtained by dissolving the above compound in an organic solvent such as the above or a mixed solvent thereof, and then washed and dried with water or the like. In the former method, a solution of the above compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods.
For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1 to 100 mg / m 2 , and more preferably from 1 to 30 mg / m 2 .

[バックコート層]
本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OC等のケイ素のアルコキシ化合物を用いることが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention can be provided with a back coat on the back surface of the support, if necessary. Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

[平版印刷版の作製方法]
本発明における平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
[Preparation method of lithographic printing plate]
A lithographic printing plate can be produced by subjecting the lithographic printing plate precursor according to the invention to image exposure and development.

<画像露光>
平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光される。
光源の波長は300〜450nm又は750〜1400nmが好ましく用いられる。300〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を画像記録層に有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を画像記録層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Image exposure>
The lithographic printing plate precursor is imagewise exposed by laser exposure through a transparent original image having a line image, a halftone dot image or the like, or by laser beam scanning by digital data.
The wavelength of the light source is preferably 300 to 450 nm or 750 to 1400 nm. In the case of a light source of 300 to 450 nm, a lithographic printing plate precursor having a sensitizing dye having an absorption maximum in this wavelength region in the image recording layer is preferably used, and in the case of a light source of 750 to 1400 nm, absorption is performed in this wavelength region. A lithographic printing plate precursor containing an infrared absorbing agent, which is a sensitizing dye, in the image recording layer is preferably used. As the light source of 300 to 450 nm, a semiconductor laser is suitable. As a light source of 750 to 1400 nm, a solid laser and a semiconductor laser emitting infrared rays are suitable. Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device. The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
Image exposure can be performed by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, the lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing press and then image exposure may be performed on the printing press.

<現像処理>
現像処理は、(1)pHが2〜14の現像液にて現像する方法(現像液処理方式)、又は(2)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像方式)で行うことができる。
<Development processing>
The development processing is (1) a method of developing with a developer having a pH of 2 to 14 (developer processing method), or (2) a method of developing on a printing press while adding dampening water and / or ink ( (On-press development system).

<現像液処理方式>
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
高アルカリ性現像液(pH12以上)を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。
本発明の好ましい態様によれば、pHが2〜11の現像液が使用される。この態様においては、現像液中に界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが可能となる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像−ガム液処理を行うことができる。更に、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像−ガム液処理と同時に行うことができる。現像−ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developer processing method>
In the developer processing method, the lithographic printing plate precursor subjected to image exposure is processed with a developer having a pH of 2 to 14, and the image recording layer in the non-exposed portion is removed to prepare a lithographic printing plate.
In the development processing using a highly alkaline developer (pH 12 or more), usually, the protective layer is removed by a pre-water washing step, then alkali development is performed, the alkali is washed away by water in the post-water washing step, gum solution treatment is performed, and drying is performed. A lithographic printing plate is produced by drying in the process.
According to a preferred embodiment of the present invention, a developer having a pH of 2 to 11 is used. In this embodiment, it is preferable that a surfactant or a water-soluble polymer compound is contained in the developer, whereby the development and the gum solution treatment can be performed simultaneously. Therefore, the post-water washing step is not particularly required, and the development-gum solution treatment can be performed with one solution. Further, no pre-water washing step is required, and the protective layer can be removed simultaneously with the development-gum solution treatment. After the development-gum treatment, for example, it is preferable to perform drying after removing excess developer using a squeeze roller.

本発明における平版印刷版原版の現像液処理は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行うことができる。   The developer treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention is carried out in accordance with a conventional method at a temperature of 0 to 60 ° C., preferably about 15 to 40 ° C., for example, by immersing the exposed lithographic printing plate precursor in a developer and brushing It can be carried out by a method of rubbing with a brush, a method of spraying a developer by spraying and rubbing with a brush.

本発明におけるpH2〜14の現像液による現像処理は、現像液の供給手段及び擦り部材を備えた自動現像処理機により好適に実施することができる。擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動現像処理機が特に好ましい。また、自動現像処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。更に、自動現像処理機は現像処理手段の前に、画像露光後の平版印刷版原版を加熱処理するための前加熱手段を備えていてもよい。   In the present invention, the development treatment with a developer having a pH of 2 to 14 can be preferably carried out by an automatic development processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. An automatic developing processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. Further, the automatic processor preferably includes a means for removing excess developer such as a squeeze roller and a drying means such as a warm air device after the development processing means. Further, the automatic development processor may be provided with a preheating means for heat-treating the lithographic printing plate precursor after image exposure before the development processing means.

本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の1例を、図1に模式的に示す。図1の自動現像処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版印刷版原版4は、現像槽20で現像処理され、乾燥部10で乾燥される。
本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の別の態様について、図2を参照しながら簡単に説明する。
図2に示す自動現像処理機100は、機枠202により外形が形成されたチャンバーからなり、平版印刷版原版の搬送路11の搬送方向(矢印A)に沿って連続して形成された前加熱(プレヒート)部200、現像部300及び乾燥部400を有している。
前加熱部200は、搬入口212及び搬出口218を有する加熱室208を有し、その内部には串型ローラー210とヒーター214と循環ファン216とが配置されている。
FIG. 1 schematically shows an example of an automatic developing processor used in the lithographic printing plate preparation method of the present invention. The automatic developing machine of FIG. 1 basically includes a developing unit 6 and a drying unit 10, and the lithographic printing plate precursor 4 is developed in the developing tank 20 and dried in the drying unit 10.
Another embodiment of the automatic developing processor used in the method for producing a lithographic printing plate according to the present invention will be briefly described with reference to FIG.
An automatic development processor 100 shown in FIG. 2 includes a chamber having an outer shape formed by a machine frame 202, and is preheated continuously along the transport direction (arrow A) of the transport path 11 of the planographic printing plate precursor. It has a (preheat) unit 200, a developing unit 300, and a drying unit 400.
The preheating unit 200 includes a heating chamber 208 having a carry-in port 212 and a carry-out port 218, and a skewer roller 210, a heater 214, and a circulation fan 216 are disposed therein.

現像部300は、外板パネル310により前加熱部200と仕切られており、外板パネル310にはスリット状挿入口312が設けられている。
現像部300の内部には、現像液で満たされている現像槽308を有する処理タンク306と、平版印刷版原版を処理タンク306内部へ案内する挿入ローラー対304が設けられている。現像槽308の上部は遮蔽蓋324で覆われている。
The developing unit 300 is separated from the preheating unit 200 by an outer panel 310, and the outer panel 310 is provided with a slit-shaped insertion port 312.
Inside the developing unit 300, a processing tank 306 having a developing tank 308 filled with a developer and an insertion roller pair 304 for guiding the planographic printing plate precursor into the processing tank 306 are provided. The upper part of the developing tank 308 is covered with a shielding lid 324.

現像槽308の内部には、搬送方向上流側から順に、ガイドローラー344及びガイド部材342、液中ローラー対316、ブラシローラー対322、ブラシローラー対326、搬出ローラー対318が並設されている。現像槽308内部に搬送された平版印刷版原版は、現像液中に浸漬され、回転するブラシローラー対322、326の間を通過することにより非画像部が除去される。
ブラシローラー対322、326の下部には、スプレーパイプ330が設けられている。スプレーパイプ330はポンプ(不図示)が接続されており、ポンプによって吸引された現像槽308内の現像液がスプレーパイプ330から現像槽308内へ噴出するようになっている。
Inside the developing tank 308, a guide roller 344 and a guide member 342, a submerged roller pair 316, a brush roller pair 322, a brush roller pair 326, and a carry-out roller pair 318 are arranged in parallel from the upstream side in the transport direction. The lithographic printing plate precursor conveyed into the developing tank 308 is immersed in the developer and passes between rotating brush roller pairs 322 and 326 to remove non-image portions.
A spray pipe 330 is provided below the pair of brush rollers 322 and 326. The spray pipe 330 is connected to a pump (not shown), and the developer in the developing tank 308 sucked by the pump is ejected from the spray pipe 330 into the developing tank 308.

現像槽308側壁には、第1の循環用配管C1の上端部に形成されたオーバーフロー口51が設けられており、超過分の現像液がオーバーフロー口51に流入し、第1の循環用配管C1を通って現像部300の外部に設けられた外部タンク50に排出される。
外部タンク50は第2の循環用配管C2が接続され、第2の循環用配管C2中には、フィルター部54及び現像液供給ポンプ55が設けられている。現像液供給ポンプ55によって、現像液が外部タンク50から現像槽308へ供給される。また、外部タンク50内には上限液レベル計52、下限液レベル計53が設けられている。
現像槽308は、第3の循環用配管C3を介して補充用水タンク71に接続されている。第3の循環用配管C3中には水補充ポンプ72が設けられており、この水補充ポンプ72によって補充用水タンク71中に貯留される水が現像槽308へ供給される。
液中ローラー対316の上流側には液温センサ336が設置されており、搬出ローラー対318の上流側には液面レベル計338が設置されている。
An overflow port 51 formed at the upper end of the first circulation pipe C1 is provided on the side wall of the developing tank 308, and excess developer flows into the overflow port 51, and the first circulation pipe C1. And is discharged to an external tank 50 provided outside the developing unit 300.
A second circulation pipe C2 is connected to the external tank 50, and a filter portion 54 and a developer supply pump 55 are provided in the second circulation pipe C2. The developer is supplied from the external tank 50 to the developer tank 308 by the developer supply pump 55. In the external tank 50, an upper limit liquid level meter 52 and a lower limit liquid level meter 53 are provided.
The developing tank 308 is connected to the replenishment water tank 71 via the third circulation pipe C3. A water replenishment pump 72 is provided in the third circulation pipe C 3, and water stored in the replenishment water tank 71 is supplied to the developing tank 308 by the water replenishment pump 72.
A liquid temperature sensor 336 is installed on the upstream side of the submerged roller pair 316, and a liquid level meter 338 is installed on the upstream side of the carry-out roller pair 318.

現像300と乾燥部400との間に配置された仕切り板332にはスリット状挿通口334が設けられている。また、現像部300と乾燥部400との間の通路にはシャッター(不図示)が設けられ、平版印刷版原版11が通路を通過していないとき、通路はシャッターにより閉じられている。
乾燥部400は、支持ローラー402、ダクト410、412、搬送ローラー対406、ダクト410、412、搬送ローラー対408がこの順に設けられている。ダクト410、412の先端にはスリット孔414が設けられている。また、乾燥部400には図示しない温風供給手段、発熱手段等の乾燥手段が設けられている。乾燥部400には排出口404が設けられ、乾燥手段により乾燥された平版印刷版は排出口404から排出される。
The partition plate 332 disposed between the developing unit 300 and the drying unit 400 is provided with a slit-shaped insertion port 334. A shutter (not shown) is provided in the passage between the developing unit 300 and the drying unit 400, and when the planographic printing plate precursor 11 does not pass through the passage, the passage is closed by the shutter.
The drying unit 400 includes a support roller 402, ducts 410 and 412, a transport roller pair 406, ducts 410 and 412, and a transport roller pair 408 in this order. A slit hole 414 is provided at the tip of the ducts 410 and 412. The drying unit 400 is provided with drying means such as hot air supply means and heat generation means (not shown). The drying unit 400 is provided with a discharge port 404, and the planographic printing plate dried by the drying means is discharged from the discharge port 404.

本発明において現像液処理に用いられる現像液は、水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましい。特に、pHが2〜11の界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液も好ましい。現像液のpHは、より好ましくは3.5〜11、さらに好ましくは6〜11、特に好ましくは6.5〜10.5である。   In the present invention, the developer used for the developer processing is preferably an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water). In particular, an aqueous solution containing a surfactant having a pH of 2 to 11 (anionic, nonionic, cationic, amphoteric ion, etc.) or an aqueous solution containing a water-soluble polymer compound is preferable. An aqueous solution containing both a surfactant and a water-soluble polymer compound is also preferred. The pH of the developer is more preferably 3.5 to 11, further preferably 6 to 11, and particularly preferably 6.5 to 10.5.

本発明の現像液に用いられるアニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンアルキルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−アルキル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。この中で、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテル(ジ)スルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   The anionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts. Branched alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl diphenyl ether (di) sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene alkyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-alkyl-N-oleyl taurine Sodium, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonate, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate ester salt, alkyl Acid ester salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl ether phosphates Ester salts, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salts, saponified saponified styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified olefin-maleic anhydride copolymers, naphthalene sulfonate formalin condensates, etc. Is mentioned. Of these, alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, and alkyl diphenyl ether (di) sulfonates are particularly preferably used.

本発明の現像液に用いられるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、アルキルイミダゾリニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a cationic surfactant used for the developing solution of this invention, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, alkyl imidazolinium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明の現像液に用いられるノニオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、アルキルナフトールエチレンオキサイド付加物、フェノールエチレンオキサイド付加物、ナフトールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。この中で、芳香環とエチレンオキサイド鎖を有するものが好ましく、アルキル置換又は無置換のフェノールエチレンオキサイド付加物又はアルキル置換又は無置換のナフトールエチレンオキサイド付加物がより好ましい。   The nonionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, but is a polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, alkyl naphthol ethylene oxide adduct, phenol ethylene oxide adduct. , Naphthol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid amide ethylene oxide adduct, fat and oil ethylene oxide adduct, polypropylene glycol ethylene oxide addition Dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Id) block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol type glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, fatty acid ester of sucrose, alkyl ether of polyhydric alcohol, fatty acid amide of alkanolamines, etc. It is done. Among these, those having an aromatic ring and an ethylene oxide chain are preferable, and an alkyl-substituted or unsubstituted phenol ethylene oxide adduct or an alkyl-substituted or unsubstituted naphthol ethylene oxide adduct is more preferable.

本発明の現像液に用いられる両性イオン系界面活性剤としては、特に限定されないが、アルキルジメチルアミンオキシドなどのアミンオキシド系、アルキルベタインなどのベタイン系、アルキルアミノ脂肪酸ナトリウムなどのアミノ酸系が挙げられる。特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。具体的には、特開2008−203359号の段落番号〔0256〕の式(2)で示される化合物、特開2008−276166号の段落番号〔0028〕の式(I)、式(II)、式(VI)で示される化合物、特開2009−47927号の段落番号〔0022〕〜〔0029〕で示される化合物を用いることができる。   The zwitterionic surfactant used in the developer of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include amine oxides such as alkyldimethylamine oxide, betaines such as alkylbetaine, and amino acids such as sodium alkylamino fatty acid. . In particular, alkyldimethylamine oxide which may have a substituent, alkylcarboxybetaine which may have a substituent, and alkylsulfobetaine which may have a substituent are preferably used. Specifically, a compound represented by the formula (2) in paragraph No. [0256] of JP-A-2008-203359, a formula (I), a formula (II) in paragraph No. [0028] of JP-A-2008-276166, A compound represented by the formula (VI) or a compound represented by paragraph numbers [0022] to [0029] of JP-A-2009-47927 can be used.

界面活性剤は現像液中に2種以上用いてもよい。現像液中に含有される界面活性剤の量は、0.01〜20質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。   Two or more surfactants may be used in the developer. 0.01-20 mass% is preferable and, as for the quantity of surfactant contained in a developing solution, 0.1-10 mass% is more preferable.

本発明の現像液に用いられる水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)及びその変性体、プルラン、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド及びアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、ポリビニルスルホン酸及びその塩、ポリスチレンスルホン酸及びその塩などが挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer compound used in the developer of the present invention include soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivatives (eg, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, etc.) and modified products thereof, pullulan, polyvinyl Alcohol and derivatives thereof, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl sulfonic acid and The salt, polystyrene sulfonic acid, its salt, etc. are mentioned.

上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。   A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.

上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、例えば、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸又は酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、更にアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。   As the modified starch, known ones can be used. For example, starch such as corn, potato, tapioca, rice, wheat etc. is decomposed with acid or enzyme in the range of 5-30 glucose residues per molecule, and further alkali It can be made by a method of adding oxypropylene in the inside.

水溶性高分子化合物は現像液中に2種以上併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。   Two or more water-soluble polymer compounds may be used in combination in the developer. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.

本発明で使用する現像液には、pH緩衝剤を含ませることができる。本発明の現像液には、pH2〜14に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、従ってpHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。   The developer used in the present invention may contain a pH buffer. The developer of the present invention can be used without particular limitation as long as it is a buffering agent that exhibits a buffering action at a pH of 2 to 14. In the present invention, weakly alkaline buffering agents are preferably used. For example, (a) carbonate ions and hydrogen carbonate ions, (b) borate ions, (c) water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds, and their Combination use etc. are mentioned. That is, for example, (a) a combination of carbonate ion and hydrogen carbonate ion, (b) borate ion, or (c) a combination of a water-soluble amine compound and an ion of the amine compound exhibits a pH buffering action in the developer. Even when the developer is used for a long period of time, fluctuations in pH can be suppressed, and therefore, development loss due to fluctuations in pH, development debris generation and the like can be suppressed. Particularly preferred is a combination of carbonate ions and bicarbonate ions.

(a)炭酸イオン、炭酸水素イオンを現像液中に存在させるには、炭酸塩と炭酸水素塩を現像液に加えてもよいし、炭酸塩又は炭酸水素塩を加えた後にpHを調整することで、炭酸イオンと炭酸水素イオンを発生させてもよい。炭酸塩及び炭酸水素塩は、特に限定されないが、アルカリ金属塩であることが好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   (A) In order to allow carbonate ions and hydrogen carbonate ions to be present in the developer, carbonate and bicarbonate may be added to the developer, or the pH is adjusted after adding carbonate or bicarbonate. Thus, carbonate ions and hydrogen carbonate ions may be generated. The carbonate and bicarbonate are not particularly limited, but are preferably alkali metal salts. Examples of the alkali metal include lithium, sodium, and potassium, and sodium is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

pH緩衝剤として(a)炭酸イオンと炭酸水素イオンの組み合わせを採用するとき、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの総量は、現像液に対して0.05〜5mol/Lが好ましく、0.07〜2mol/Lがより好ましく、0.1〜1mol/Lが特に好ましい。総量が0.05mol/L以上であると現像性、処理能力が低下しにくく、5mol/L以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時、中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたしにくい。   When (a) a combination of carbonate ions and bicarbonate ions is employed as the pH buffer, the total amount of carbonate ions and bicarbonate ions is preferably 0.05 to 5 mol / L, preferably 0.07 to 2 mol relative to the developer. / L is more preferable, and 0.1 to 1 mol / L is particularly preferable. When the total amount is 0.05 mol / L or more, developability and processing ability are hardly lowered, and when it is 5 mol / L or less, it is difficult to form precipitates and crystals. It is difficult to gel, and it is difficult to cause waste liquid treatment.

(b)ホウ酸イオンを現像液中に存在させるには、ホウ酸あるいはホウ酸塩を現像液に加えた後、アルカリを用いて、あるいはアルカリと酸とを用いて、pHを調整することで、適量のホウ酸イオンを発生させる。
ここで用いるホウ酸あるいはホウ酸塩は、特に限定されないが、ホウ酸としてオルトホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸などが挙げられ、中でもオルトホウ酸及び四ホウ酸が好ましい。また、ホウ酸塩としてアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩が挙げられ、オルトホウ酸塩、二ホウ酸塩、メタホウ酸塩、四ホウ酸塩、五ホウ酸塩、八ホウ酸塩などが挙げられ、中でもオルトホウ酸塩、四ホウ酸塩、特にアルカリ金属の四ホウ酸塩が好ましい。好ましい四ホウ酸塩として、四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウム及び四ホウ酸リチウムなどが挙げられ、中でも四ホウ酸ナトリウムが好ましい。ホウ酸塩を2種以上併用してもよい。
本発明で使用するホウ酸あるいはホウ酸塩として、特に好ましいのは、オルトホウ酸、四ホウ酸あるいは四ホウ酸ナトリウムである。現像液にホウ酸及びホウ酸塩を併用してもよい。
(B) In order to make borate ions exist in the developer, after adding boric acid or borate to the developer, the pH is adjusted using an alkali or an alkali and an acid. To generate an appropriate amount of borate ions.
The boric acid or borate used here is not particularly limited, and examples of boric acid include orthoboric acid, metaboric acid, and tetraboric acid. Among them, orthoboric acid and tetraboric acid are preferable. Examples of borates include alkali metal salts or alkaline earth metal salts, such as orthoborate, diborate, metaborate, tetraborate, pentaborate, and octaborate. Of these, orthoborate and tetraborate, particularly alkali metal tetraborate are preferred. Preferred tetraborate salts include sodium tetraborate, potassium tetraborate, and lithium tetraborate. Among them, sodium tetraborate is preferable. Two or more borates may be used in combination.
As the boric acid or borate used in the present invention, orthoboric acid, tetraboric acid or sodium tetraborate is particularly preferable. Boric acid and borates may be used in combination with the developer.

pH緩衝剤として(b)ホウ酸イオンを採用するとき、ホウ酸イオンの総量は、現像液に対して0.05〜5mol/Lが好ましく、0.1〜2mol/Lがより好ましく、0.2〜1mol/Lが特に好ましい。ホウ酸塩の総量が0.05mol/L以上であると現像性、処理能力が低下しにくく、一方5mol/L以下であると沈殿や結晶を生成し難くなり、更に現像液の廃液処理時の中和の際にゲル化し難くなり、廃液処理に支障をきたしにくい。   When (b) borate ions are employed as the pH buffering agent, the total amount of borate ions is preferably 0.05 to 5 mol / L, more preferably 0.1 to 2 mol / L with respect to the developer. 2-1 mol / L is particularly preferable. When the total amount of borate is 0.05 mol / L or more, developability and processing ability are hardly lowered, and when it is 5 mol / L or less, it is difficult to form precipitates and crystals. It becomes difficult to gel during neutralization, and the waste liquid treatment is unlikely to be hindered.

(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンは、特に限定されないが、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−ヒドロキシエチルモルホリン、及び4−ジメチルアミノピリジンから選択される水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオンが好ましい。これらは単独でも、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 (C) Water-soluble amine compounds and ions of the amine compounds are not particularly limited, but water-soluble amine compounds selected from monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-hydroxyethylmorpholine, and 4-dimethylaminopyridine. Amine compounds and ions of the amine compounds are preferred. These may be used alone or in combination of two or more.

pH緩衝剤として(c)水溶性のアミン化合物及びその塩のイオンを採用するとき、水溶性のアミン化合物及びその塩の総量は、現像液に対して0.005〜5mol/Lが好ましく、0.01〜2mol/Lがより好ましく、0.01〜1mol/Lが特に好ましい。水溶性のアミン化合物のイオンの総量がこの範囲にあると現像性、処理能力が低下せず、一方廃液処理が容易である。   When (c) an ion of a water-soluble amine compound and its salt is employed as the pH buffering agent, the total amount of the water-soluble amine compound and its salt is preferably 0.005 to 5 mol / L with respect to the developer. 0.01 to 2 mol / L is more preferable, and 0.01 to 1 mol / L is particularly preferable. When the total amount of ions of the water-soluble amine compound is within this range, the developability and processing ability are not lowered, while the waste liquid treatment is easy.

本発明の現像液は、有機溶剤を含有しても良い。含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、アイソパーE、H、G(エッソ化学(株)製)等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)、極性溶剤が挙げられる。極性溶剤としては、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−ヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、1−ノナノール、1−デカノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)等が挙げられる。   The developer of the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, Isopar E, H, G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.)), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogens, and the like. Hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and polar solvents. Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-butanol, 1-pentanol, 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1 -Nonanol, 1-decanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl Ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether Ter, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone) , Cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate Etc.), others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine) , N- phenyldiethanolamine, N- methyldiethanolamine, N- ethyldiethanolamine, 4- (2-hydroxyethyl) morpholine, N, N- dimethylacetamide, N- methylpyrrolidone and the like) and the like.

現像液に含有される有機溶剤は、2種以上を併用することもできる。有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液が有機溶剤を含有する場合、安全性、引火性の観点から、有機溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。   Two or more organic solvents can be used in combination in the developer. When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the organic solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.

本発明の現像液には上記成分の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤、有機酸、無機酸、無機塩などを含有させることができる。具体的には、特開2007−206217号の段落番号〔0266〕〜〔0270〕に記載の化合物を好ましく用いることができる。   In addition to the above components, the developer of the present invention may contain preservatives, chelate compounds, antifoaming agents, organic acids, inorganic acids, inorganic salts, and the like. Specifically, compounds described in paragraph numbers [0266] to [0270] of JP-A-2007-206217 can be preferably used.

本発明の現像液は、露光された平版印刷版原版の現像液及び現像補充液として用いることができる。また、前述のような自動現像処理機に好ましく適用することができる。自動現像処理機を用いて現像する場合、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。   The developer of the present invention can be used as a developer and a development replenisher for an exposed lithographic printing plate precursor. Further, the present invention can be preferably applied to the automatic developing processor as described above. When developing using an automatic developing processor, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capability may be restored by using a replenishing solution or a fresh developing solution.

<機上現像方式>
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製される。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び/又は水性成分によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が好適に用いられる。
<On-press development method>
In the on-press development system, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with oil-based ink and an aqueous component on a printing machine, and the image recording layer in the non-image area is removed to produce a lithographic printing plate.
In other words, after image exposure of the lithographic printing plate precursor, it is mounted on the printing machine without any development processing, or after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, image exposure is performed on the printing machine. When printing is performed by supplying the oil-based ink and the aqueous component, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed in the non-image area by the supplied oil-based ink and / or the aqueous component in the initial stage of printing. And a hydrophilic surface is exposed at the portion. On the other hand, in the exposed portion, the image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having a lipophilic surface. Oil-based ink or water-based component may be first supplied to the plate surface, but oil-based ink is supplied first in order to prevent the water-based component from being contaminated by the removed image recording layer component. Is preferred. In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on a printing machine and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are preferably used.

本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。この様な加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。また、現像液処理方式の場合、画像強度や耐刷性の向上を目的として、現像処理後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行うことも有効である。通常、現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、非画像部が硬化してしまう等の問題を生じることがある。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じることがある。   In the method of preparing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the entire lithographic printing plate precursor is exposed before exposure, during exposure, and from exposure to development, regardless of the development method. You may heat. By such heating, an image forming reaction in the image recording layer is promoted, and advantages such as improvement in sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity may occur. In the case of the developer processing method, it is also effective to perform whole surface post-heating or whole surface exposure on the image after the development processing for the purpose of improving the image strength and printing durability. Usually, heating before development is preferably performed under a mild condition of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, problems such as curing of the non-image area may occur. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is the range of 100-500 degreeC. If the temperature is low, sufficient image reinforcing action cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area may occur.

以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下、高分子化合物についての繰り返し単位の比はモル比である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these. Hereinafter, the ratio of the repeating units for the polymer compound is a molar ratio.

実施例(A)特定高分子化合物(A)の製造
まず、本発明の(a1)を有する特定高分子化合物(A)を得るためのラジカル重合性不飽和基含有モノマーの合成例を説明する。
<ラジカル重合性モノマーM−1の合成>
コンデンサー、攪拌機を取り付けた200mlフラスコにトランス−1,4−ジブロモ−2−ブテン:58.78g、3,3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド:6.81gを入れて60℃まで加熱し、一時間攪拌した。その後100mlの酢酸エチルを加え、得られた白色固体を濾過回収し、酢酸エチルで再度洗浄した。得られた固体をイオン交換水10gに溶解させ、亜硫酸ナトリウム5.04gを加え90℃まで加熱し30分攪拌した。得られた下部の有機層を回収した後、酸化銀:10gを加え濾過し、得られた液体にイオン交換樹脂Amberlyst15:2gを加え再度濾過した。得られた濾液にアセトニトリル500mlを加え、析出したNaClを濾別除去し、減圧乾燥することでラジカル重合性モノマーM−1を得た。
Example (A) Production of Specific Polymer Compound (A) First, a synthesis example of a radical polymerizable unsaturated group-containing monomer for obtaining the specific polymer compound (A) having (a1) of the present invention will be described.
<Synthesis of Radical Polymerizable Monomer M-1>
A 200 ml flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with trans-1,4-dibromo-2-butene: 58.78 g and 3,3-dimethylaminopropyl methacrylamide: 6.81 g, heated to 60 ° C., and stirred for 1 hour. did. Thereafter, 100 ml of ethyl acetate was added, and the resulting white solid was collected by filtration and washed again with ethyl acetate. The obtained solid was dissolved in 10 g of ion-exchanged water, 5.04 g of sodium sulfite was added, and the mixture was heated to 90 ° C. and stirred for 30 minutes. After collecting the obtained lower organic layer, 10 g of silver oxide was added and filtered, and the resulting liquid was added with ion exchange resin Amberlyst 15: 2 g and filtered again. 500 ml of acetonitrile was added to the obtained filtrate, the precipitated NaCl was removed by filtration, and dried under reduced pressure to obtain radical polymerizable monomer M-1.

<ラジカル重合性モノマーM−38の合成>
コンデンサー、攪拌機を取り付けた200mlフラスコに1,4−ビス(ブロモメチル)シクロヘキサン:54.0g、3,3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド:6.81gを入れて60℃まで加熱し、一時間攪拌した。その後100mlの酢酸エチルを加え、得られた白色固体を濾過回収し、酢酸エチルで再度洗浄した。得られた固体をイオン交換水10gに溶解させ、亜硫酸ナトリウム5.04gを加え90℃まで加熱し30分攪拌した。得られた下部の有機層を回収した後、酸化銀:10gを加え濾過し、得られた液体にイオン交換樹脂Amberlyst15:2gを加え再度濾過した。得られた濾液にアセトニトリル500mlを加え、析出したNaClを濾別除去し、減圧乾燥することでラジカル重合性モノマーM−38を得た。
<Synthesis of radical polymerizable monomer M-38>
A 200 ml flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 1,4-bis (bromomethyl) cyclohexane: 54.0 g and 3,3-dimethylaminopropyl methacrylamide: 6.81 g, heated to 60 ° C., and stirred for 1 hour. Thereafter, 100 ml of ethyl acetate was added, and the resulting white solid was collected by filtration and washed again with ethyl acetate. The obtained solid was dissolved in 10 g of ion-exchanged water, 5.04 g of sodium sulfite was added, and the mixture was heated to 90 ° C. and stirred for 30 minutes. After collecting the obtained lower organic layer, 10 g of silver oxide was added and filtered, and the resulting liquid was added with ion exchange resin Amberlyst 15: 2 g and filtered again. 500 ml of acetonitrile was added to the obtained filtrate, the precipitated NaCl was removed by filtration, and dried under reduced pressure to obtain radical polymerizable monomer M-38.

<特定高分子化合物P−1の合成>
コンデンサー、攪拌機を取り付けた200mlフラスコに、N−メチルピロリドン:14.66g、ビニルホスホン酸:3.78gを入れて窒素気流下、70℃まで加熱した。これにラジカル重合性モノマーM−1、V−601(和光純薬(株)製):0.161g、N−メチルピロリドン:14.66gの溶液を4時間かけて滴下した。滴下終了後、V−601:0.161gを加えて、80℃まで昇温し、更に2時間攪拌して、特定高分子化合物(P−1)を得た。得られた特定高分子化合物(P−1)を、ポリエチレングリコールを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、質量平均分子量を測定した結果18,000であった。
<Synthesis of Specific Polymer Compound P-1>
A 200 ml flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with N-methylpyrrolidone: 14.66 g and vinylphosphonic acid: 3.78 g and heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. To this was added dropwise a solution of radical polymerizable monomers M-1, V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.161 g, N-methylpyrrolidone: 14.66 g over 4 hours. V-601: 0.161g was added after completion | finish of dripping, and it heated up to 80 degreeC, and also stirred for 2 hours, and obtained the specific polymer compound (P-1). It was 18,000 as a result of measuring a mass mean molecular weight by the gel permeation chromatography method (GPC) which used polyethyleneglycol as the standard substance for the obtained specific polymer compound (P-1).

実施例(B)親水性膜
(1)親水性膜の作成
厚み250μmのPETフィルム(東レ社製、ルミラー100T)に、以下の組成を有するポリマー膜塗布液をバーコーターで塗布し、120℃にて1分間乾燥し、表面にポリマー膜を形成した。ポリマー膜の乾燥塗布量は下記表7に示す通りである。
Example (B) Hydrophilic film (1) Preparation of hydrophilic film A polymer film coating solution having the following composition was applied to a PET film having a thickness of 250 μm (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror 100T) with a bar coater and heated to 120 ° C. And dried for 1 minute to form a polymer film on the surface. The dry coating amount of the polymer film is as shown in Table 7 below.

<ポリマー膜塗布液>
・表7に記載の特定高分子化合物(A)又は比較用高分子化合物 0.50g
・メタノール 90.0g
・水 10.0g
<Polymer film coating solution>
-Specific polymer compound (A) described in Table 7 or comparative polymer compound 0.50 g
・ Methanol 90.0g
・ Water 10.0g

比較用高分子化合物(R−1)〜(R−7)を以下に示す。   Comparative polymer compounds (R-1) to (R-7) are shown below.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

〔評価〕
表面にポリマー膜を形成した各PETフィルムについて、表面親水性を下記のように評価した。結果を表7に示す。
<表面親水性>
表面にポリマー膜を形成したPETフィルムを20mm×40mmの大きさに裁断し、アマニ油(TCI製)を満たしたガラスセルに5分間浸漬させた。浸漬から取り出して1分経過後に、サンプル表面に蒸留水を1μl滴下した。着滴した水滴が、濡れ広がり開始した時間を0秒として60秒経過後の接触角を測定した。
[Evaluation]
The surface hydrophilicity of each PET film having a polymer film formed on the surface was evaluated as follows. The results are shown in Table 7.
<Surface hydrophilicity>
A PET film having a polymer film formed on the surface was cut into a size of 20 mm × 40 mm and immersed in a glass cell filled with linseed oil (manufactured by TCI) for 5 minutes. After 1 minute from the immersion, 1 μl of distilled water was dropped on the sample surface. The contact angle after 60 seconds passed was measured with the time when the deposited water droplets began to spread wet as 0 seconds.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

表7に示すように、特定高分子化合物(A)を用いて表面被覆することで、高い親水性が得られることが分かる。これにより上述したように、特定高分子化合物(A)を平版印刷版原版に用いた場合、非画像部の親水性が高くなり、非画像部への現像液・湿し水の浸透を促進し現像性ないし機上現像性に優れた印刷物を得ることができるものと推定される。また印刷時に供給されるインク及び湿し水のうち、湿し水が非画像部に強く吸着されることで、非画像部へのインク付着を抑止し、耐汚れ性の優れた印刷物を得ることができるものと推定される。   As shown in Table 7, it can be seen that high hydrophilicity can be obtained by surface coating using the specific polymer compound (A). As described above, when the specific polymer compound (A) is used in the lithographic printing plate precursor, the hydrophilicity of the non-image area is increased and the penetration of the developer / fountain solution into the non-image area is promoted. It is presumed that a printed matter excellent in developability or on-press developability can be obtained. In addition, among the ink and dampening water supplied during printing, the dampening water is strongly adsorbed to the non-image area, thereby preventing the ink from adhering to the non-image area and obtaining a printed matter having excellent stain resistance. It is estimated that

実施例(C)平版印刷版(実施例1〜96及び比較例1〜17)
(1)平版印刷版原版の作成
〔アルミニウム支持体1の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質:JIS A1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
Example (C) Planographic printing plate (Examples 1 to 96 and Comparative Examples 1 to 17)
(1) Preparation of planographic printing plate precursor [Preparation of aluminum support 1]
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material: JIS A1050) having a thickness of 0.3 mm, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, the hair diameter is 0.3 mm. The aluminum surface was grained using 3 bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in a 20 mass% nitric acid aqueous solution at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し、アルミニウム支持体1を作製した。
このようにして得られた支持体の表面粗さを測定したところ、0.51μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
Next, a 0.5% by mass hydrochloric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. and nitric acid electrolysis under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using a 15% by mass sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, then washed with water and dried. An aluminum support 1 was prepared.
The surface roughness of the support thus obtained was measured and found to be 0.51 μm (Ra indication according to JIS B0601).

〔アルミニウム支持体2の作製〕
アルミニウム支持体1を、珪酸ナトリウム1質量%水溶液にて20℃で10秒処理し、アルミニウム支持体2を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.54μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Preparation of aluminum support 2]
The aluminum support 1 was treated with a 1% by mass aqueous solution of sodium silicate at 20 ° C. for 10 seconds to produce an aluminum support 2. When the surface roughness was measured, it was 0.54 μm (Ra display according to JIS B0601).

〔アルミニウム支持体3の作製〕
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。このアルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3質量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dmの条件下に交流電流により60秒間電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間デスマット処理を行った。このアルミニウム板を、15%硫酸水溶液溶液中で、25℃、電流密度10A/dm、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、アルミニウム支持体3を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.44μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
[Preparation of Aluminum Support 3]
An aluminum plate (material 1050, tempered H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution kept at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water. The aluminum plate was neutralized by immersion in a 10% aqueous hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C. for 1 minute, and then washed with water. Subsequently, this aluminum plate was subjected to electrolytic surface roughening with an alternating current for 60 seconds under conditions of 25 ° C. and a current density of 100 A / dm 2 in a 0.3 mass% hydrochloric acid aqueous solution, and then kept at 60 ° C. In addition, desmutting treatment was performed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution for 10 seconds. This aluminum plate was anodized in a 15% sulfuric acid aqueous solution at 25 ° C., a current density of 10 A / dm 2 , and a voltage of 15 V for 1 minute to produce an aluminum support 3. When the surface roughness was measured, it was 0.44 μm (Ra display according to JIS B0601).

〔下塗り層の形成〕
以下の組成を有する下塗り層塗布液を上記アルミニウム支持体1、2又は3上にバーコーターで塗布し、100℃にて1分間乾燥して下塗り層を形成した。下塗り層の乾燥塗布量は12mg/mであった。
(Formation of undercoat layer)
An undercoat layer coating solution having the following composition was applied onto the aluminum support 1, 2, or 3 with a bar coater and dried at 100 ° C. for 1 minute to form an undercoat layer. The dry coating amount of the undercoat layer was 12 mg / m 2 .

<下塗り層塗布液>
・表8及び9に記載の特定高分子化合物(A)又は比較用高分子化合物 0.50g
・メタノール 90.0g
・水 10.0g
〔画像記録層1の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液1を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像記録層1を形成した。
<Undercoat layer coating solution>
-Specific high molecular compound (A) of Tables 8 and 9 or high molecular compound for comparison 0.50 g
・ Methanol 90.0g
・ Water 10.0g
[Formation of Image Recording Layer 1]
An image recording layer coating solution 1 having the following composition was bar coated on the undercoat layer and then oven-dried at 90 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer 1 having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .

<画像記録層塗布液1>
・下記バインダーポリマー(1)(質量平均分子量:50,000) 0.34g
・下記重合性化合物(1) 0.68g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・下記増感色素(1) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記連鎖移動剤(1) 0.02g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸
共重合体(質量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17)):
10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・熱重合禁止剤
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 0.01g
・下記フッ素系界面活性剤(1)(質量平均分子量:10,000)0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.02g
((株)ADEKA製、プルロニックL44)
・黄色顔料の分散物 0.04g
(黄色顔料Novoperm Yellow H2G(クラリアント製):15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (質量平均分子量:6万、共重合モル比83/17)):10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
<Image recording layer coating solution 1>
・ The following binder polymer (1) (mass average molecular weight: 50,000) 0.34 g
・ The following polymerizable compound (1) 0.68 g
(PLEX6661-O, manufactured by Degussa Japan)
・ The following sensitizing dye (1) 0.06 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.18 g
・ The following chain transfer agent (1) 0.02 g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid
Copolymer (mass average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17)):
(10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
-Thermal polymerization inhibitor N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.01 g
-0.001 g of the following fluorosurfactant (1) (mass average molecular weight: 10,000)
・ Polyoxyethylene-polyoxypropylene condensate 0.02g
(Pluronic L44, manufactured by ADEKA Corporation)
・ Dispersion of yellow pigment 0.04g
(Yellow pigment Novoperm Yellow H2G (manufactured by Clariant): 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (mass average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio 83/17)): 10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

〔画像記録層2の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液2を上記下塗り層の上にバー塗布した後、90℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/mの画像記録層2を形成した。
<画像記録層塗布液2>
・上記バインダーポリマー(1)(質量平均分子量:5万) 0.04g
・下記バインダーポリマー(2)(質量平均分子量:8万) 0.30g
・上記重合性化合物(1) 0.17g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・下記重合性化合物(2) 0.51g
・下記増感色素(2) 0.03g
・下記増感色素(3) 0.015g
・下記増感色素(4) 0.015g
・上記重合開始剤(1) 0.13g
・連鎖移動剤:メルカプトベンゾチアゾール 0.01g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(質量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17)):10質量部、シクロヘキサノン:15質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・上記フッ素系界面活性剤(1)(質量平均分子量:1万) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
[Formation of Image Recording Layer 2]
An image recording layer coating solution 2 having the following composition was bar coated on the undercoat layer and then oven-dried at 90 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer 2 having a dry coating amount of 1.3 g / m 2 .
<Image recording layer coating solution 2>
-Binder polymer (1) (mass average molecular weight: 50,000) 0.04 g
-The following binder polymer (2) (mass average molecular weight: 80,000) 0.30 g
・ Polymerizable compound (1) 0.17 g
(PLEX6661-O, manufactured by Degussa Japan)
-0.51 g of the following polymerizable compound (2)
・ The following sensitizing dye (2) 0.03 g
・ The following sensitizing dye (3) 0.015 g
・ The following sensitizing dye (4) 0.015 g
・ The above polymerization initiator (1) 0.13 g
・ Chain transfer agent: Mercaptobenzothiazole 0.01g
・ 0.40 g of ε-phthalocyanine pigment dispersion
(Pigment: 15 parts by mass, dispersant (allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (mass average molecular weight: 60,000, copolymer molar ratio: 83/17)): 10 parts by mass, cyclohexanone: 15 parts by mass)
・ Thermal polymerization inhibitor 0.01g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt-Fluorosurfactant (1) (mass average molecular weight: 10,000) 0.001 g
・ 3.5 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methyl ethyl ketone 8.0g

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

〔画像記録層3の形成〕
下記組成の画像記録層塗布液3を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層3を形成した。画像記録層塗布液3は下記感光液(1)及び疎水化前駆体液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
[Formation of Image Recording Layer 3]
An image recording layer coating solution 3 having the following composition was bar coated on the undercoat layer and then oven dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer 3 having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . The image recording layer coating solution 3 was prepared by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and hydrophobized precursor solution (1) immediately before coating.

<感光液(1)>
・下記バインダーポリマー(3) 0.162g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.030g
・下記重合開始剤(3) 0.162g
・重合性化合物(アロニックスM215、東亞合成(株)製)0.385g
・パイオニンA−20(竹本油脂(株)製) 0.055g
・下記感脂化剤(1) 0.044g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution (1)>
・ The following binder polymer (3) 0.162 g
・ The following infrared absorber (1) 0.030 g
-The following polymerization initiator (3) 0.162g
・ Polymerizable compound (Aronix M215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.385 g
・ Pionine A-20 (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.055g
・ The following oil sensitizer (1) 0.044 g
・ 0.008 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

<疎水化前駆体液(1)>
・下記疎水化前駆体水分散液(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Hydrophobic precursor liquid (1)>
-Hydrophobic precursor aqueous dispersion (1) below 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(疎水化前駆体水分散液(1)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム3.0gを1.5g添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでグリシジルメタクリレート45.0gとスチレン45.0gとの混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加してポリマー微粒子からなる疎水化前駆体水分散液(1)を得た。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。
(Production of hydrophobized precursor aqueous dispersion (1))
A stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser is applied to a 1000 ml four-necked flask, and 350 mL of distilled water is added while deoxygenating by introducing nitrogen gas, and the internal temperature becomes 80 ° C. Until heated. Add 1.5 g of sodium dodecyl sulfate as a dispersant, 0.45 g of ammonium persulfide as an initiator, and then add a mixture of 45.0 g of glycidyl methacrylate and 45.0 g of styrene from the dropping funnel to about 1 It was added dropwise over time. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued as it was for 5 hours, and then the unreacted monomer was removed by steam distillation. Thereafter, the mixture was cooled and adjusted to pH 6 with ammonia water, and finally purified water was added so that the nonvolatile content was 15% by mass to obtain a hydrophobized precursor aqueous dispersion (1) composed of polymer fine particles. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 60 nm.

粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。   The particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring the total particle size of 5000 particles on the photograph, and dividing the obtained particle size measurement value from the maximum value to 0 on a logarithmic scale by 50. Then, the appearance frequency of each particle size was plotted and determined. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.

〔保護層1の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液1を乾燥塗布量が0.75g/mとなるように上記画像記録層の上にバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層1を形成した。
[Formation of Protective Layer 1]
A protective layer coating solution 1 having the following composition was coated on the image recording layer using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer. 1 was formed.

〔保護層塗布液1〕
・ポリビニルアルコール(ケン化度:98モル%、重合度:500) 40g
・ポリビニルピロリドン(質量平均分子量:5万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル(モル比:1/1)〕 0.5g
(質量平均分子量:7万)
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.5g
・水 950g
[Protective layer coating solution 1]
Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (mass average molecular weight: 50,000) 5 g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (molar ratio: 1/1)] 0.5 g
(Mass average molecular weight: 70,000)
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
・ 950g of water

〔保護層2の形成〕
以下の組成を有する保護層塗布液2を乾燥塗布量が0.75g/mとなるように上記画像記録層の上にバーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して保護層2を形成した。
[Formation of Protective Layer 2]
A protective layer coating solution 2 having the following composition was coated on the image recording layer using a bar so that the dry coating amount was 0.75 g / m 2, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to protect the protective layer. 2 was formed.

〔保護層塗布液2〕
・下記の無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・スルホン酸変性ポリビニルアルコールの6質量%水溶液 0.55g
(日本合成化学工業(株)製CKS50、ケン化度99モル%以上、重合度300)
・ポリビニルアルコール6質量%水溶液 0.03g
((株)クラレ製PVA−405、ケン化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液
・界面活性剤の1質量%水溶液
(日本エマルジョン(株)製エマレックス710) 8.60g
・イオン交換水 6.0g
[Protective layer coating solution 2]
-1.5 g of the following inorganic layered compound dispersion (1)
・ 0.55 g of 6% by weight aqueous solution of sulfonic acid-modified polyvinyl alcohol
(Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300)
・ Polyvinyl alcohol 6 mass% aqueous solution 0.03g
(Kuraray Co., Ltd. PVA-405, saponification degree 81.5 mol%, polymerization degree 500) 6 mass% aqueous solution-1 mass% aqueous solution of surfactant (Nippon Emulsion Co., Ltd. Emarex 710) 8.60 g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、混合物をホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散し、無機質層状化合物分散液(1)を調製した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) is added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the mixture is dispersed using a homogenizer until the average particle size (laser scattering method) is 3 μm. An inorganic layered compound dispersion (1) was prepared. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

上記アルミニウム支持体、下塗り層塗布液、画像記録層塗布液、保護層塗布液を表8及び9に示すように組み合わせて本発明の平版印刷版原版A−1〜A−58、比較用平版印刷版原版B−1〜B−10を作製した。   The above-mentioned aluminum support, undercoat layer coating solution, image recording layer coating solution and protective layer coating solution are combined as shown in Tables 8 and 9, and the planographic printing plate precursors A-1 to A-58 of the present invention, comparative planographic printing Plate original plates B-1 to B-10 were prepared.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

(2)平版印刷版原版の評価
[実施例1〜63及び比較例1〜11]
〔露光、現像及び印刷〕
表10、11及び12に示す各平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd.(FFEI社)製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー(発光波長405nm±10nm/出力30mW)を搭載)により画像露光した。画像露光は、解像度2、438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、網点面積率が50%となるように、版面露光量0.05mJ/cmで行った。
次いで、100℃、30秒間のプレヒートを行った後、下記の各現像液を用い、図1に示すような構造の自動現像処理機にて現像処理を実施した。自動現像処理機は、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを1本有し、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。現像液の温度は30℃であった。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。現像処理後、乾燥部にて乾燥を行った。乾燥温度は80℃であった。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
(2) Evaluation of planographic printing plate precursor
[Examples 1 to 63 and Comparative Examples 1 to 11]
[Exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown in Tables 10, 11 and 12 was prepared using FUJIFILM Electronic Imaging Ltd. Image exposure was performed with a Violet semiconductor laser plate setter Vx9600 (InGaN-based semiconductor laser (with an emission wavelength of 405 nm ± 10 nm / output 30 mW) mounted) manufactured by (FFEI). Image exposure was performed at a resolution of 2,438 dpi, using an FM screen (TAFFETA 20) manufactured by Fuji Film Co., Ltd., with a plate surface exposure of 0.05 mJ / cm 2 so that the dot area ratio was 50%.
Next, after preheating at 100 ° C. for 30 seconds, development processing was carried out using an automatic developing processor having a structure as shown in FIG. The automatic processor has one brush roll with an outer diameter of 50 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter 200 μm, hair length 17 mm) are implanted, and rotates 200 times per minute in the same direction as the conveying direction ( The peripheral speed of the brush tip was 0.52 m / sec). The temperature of the developer was 30 ° C. The planographic printing plate precursor was transported at a transport speed of 100 cm / min. After the development processing, drying was performed in a drying section. The drying temperature was 80 ° C. However, when the developer 2 was used, it was washed with water before the post-development drying step.

以下に、現像液1〜5の組成を示す。下記組成においてニューコールB13(日本乳化剤(株)製)は、ポリオキシエチレン β−ナフチルエーテル(オキシエチレン平均数n=13)であり、アラビアガムは、質量平均分子量が20万のものである。   The compositions of the developers 1 to 5 are shown below. In the following composition, New Coal B13 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) is polyoxyethylene β-naphthyl ether (oxyethylene average number n = 13), and gum arabic has a mass average molecular weight of 200,000.

<現像液1>
・炭酸ナトリウム 13.0g
・炭酸水素ナトリウム 7.0g
・ニューコールB13 50.0g
・第一リン酸アンモニウム 2.0g
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.01g
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.01g
・クエン酸三ナトリウム 15.0g
・蒸留水 913.98g
(pH:9.8)
<Developer 1>
・ Sodium carbonate 13.0g
・ 7.0g sodium bicarbonate
・ New call B13 50.0g
・ Primary ammonium phosphate 2.0g
・ 0.01 g of 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol
-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01 g
・ Trisodium citrate 15.0g
・ Distilled water 913.98 g
(PH: 9.8)

<現像液2>
・水酸化カリウム 0.15g
・ニューコールB13 5.0g
・キレスト400(キレート剤) 0.1g
・蒸留水 94.75g
(pH:12.05)
<Developer 2>
・ Potassium hydroxide 0.15g
・ New call B13 5.0g
・ Chillest 400 (chelating agent) 0.1g
・ Distilled water 94.75g
(PH: 12.05)

<現像液3>
・アラビアガム 25.0g
・酵素変性馬鈴薯澱粉 70.0g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 5.0g
・第一リン酸アンモニウム 1.0g
・クエン酸 1.0g
・2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール 0.01g
・2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 0.01g
・下記両性界面活性剤(W−1) 70.0g
・下記アニオン性界面活性剤(AN−1) 3.0g
・蒸留水 824.98g
(リン酸及び水酸化ナトリウムを添加し、pHを4.5に調整)
<Developer 3>
・ Gum Arabic 25.0g
・ Enzyme-modified potato starch 70.0g
・ Dioctylsulfosuccinate sodium salt 5.0 g
・ Primary ammonium phosphate 1.0g
・ Citric acid 1.0g
・ 0.01 g of 2-bromo-2-nitropropane-1,3-diol
-2-methyl-4-isothiazolin-3-one 0.01 g
・ The following amphoteric surfactant (W-1) 70.0 g
・ 3.0 g of the following anionic surfactant (AN-1)
・ Distilled water 824.98 g
(Phosphoric acid and sodium hydroxide are added to adjust the pH to 4.5)

Figure 2012048176
Figure 2012048176

<現像液4>
・水 937.2g
・下記アニオン系界面活性剤(W−2) 23.8g
・リン酸 3g
・フェノキシプロパノール 5g
・トリエタノールアミン 6g
・ポテトデキストリン 25g
<Developer 4>
・ Water 937.2g
-23.8 g of the following anionic surfactant (W-2)
・ Phosphoric acid 3g
・ Phenoxypropanol 5g
・ Triethanolamine 6g
・ Potatodextrin 25g

Figure 2012048176
Figure 2012048176

<現像液5>
・水 88.6g
・下記ノニオン系界面活性剤(W−3) 2.4g
・下記ノニオン系界面活性剤(W−4) 2.4g
・ノニオン系界面活性剤 1.0g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・フェノキシプロパノール 1.0g
・オクタノール 0.6g
・N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン 1.0g
・トリエタノールアミン 0.5g
・グルコン酸ナトリウム 1.0g
・クエン酸3ナトリウム 0.5g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム 0.05g
・ポリスチレンスルホン酸 1.0g
(Versa TL77(30%溶液)、Alco Chemical社製)
(リン酸を添加し、pHを7.0に調整)
<Developer 5>
・ Water 88.6g
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-3)
-2.4 g of the following nonionic surfactant (W-4)
・ Nonionic surfactant 1.0g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Phenoxypropanol 1.0g
・ Octanol 0.6g
・ N- (2-hydroxyethyl) morpholine 1.0 g
・ Triethanolamine 0.5g
・ Sodium gluconate 1.0g
・ Trisodium citrate 0.5g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium 0.05g
・ Polystyrenesulfonic acid 1.0g
(Versa TL77 (30% solution), manufactured by Alco Chemical)
(Add phosphoric acid and adjust pH to 7.0)

Figure 2012048176
Figure 2012048176

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

〔評価〕
各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び現像性を下記のように評価した。結果を表10〜12に示す。
<耐刷性>
印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性評価は、表10、11及び12においては各々実施例1、40及び51を基準(1.0)として、以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の耐刷性)/(基準平版印刷版原版の耐刷性)
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for printing durability, stain resistance, stain resistance after aging and developability as follows. The results are shown in Tables 10-12.
<Print durability>
As the number of printed sheets increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink acceptance decreased, so that the ink density in the printing paper decreased. In the printing plate exposed with the same exposure amount, the printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. In Tables 10, 11 and 12, the evaluation of printing durability was represented by the relative printing durability defined as follows, with Examples 1, 40 and 51 as the reference (1.0). The larger the relative printing durability number, the higher the printing durability.
Relative printing durability = (printing durability of the target lithographic printing plate precursor) / (printing durability of the standard lithographic printing plate precursor)

<耐汚れ性>
印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。非画像部のインキ付着は、必ずしも均一に発生するわけではないため、75cm当りの目視評価の点数で表示した。目視評価の点数は、非画像部のインキ付着面積率が0%の場合を10点、1〜10%を9点、11〜20%を8点、21〜30%を7点、31〜40%を6点、41〜50%を5点、51〜60%を4点、61〜70%を3点、71〜80%を2点、81〜90%を1点、91〜100%を0点とした。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。
<Stain resistance>
The printed material on the 20th sheet was taken out after the start of printing, and the stain resistance was evaluated based on the ink density adhered to the non-image area. Ink adhesion in the non-image area does not necessarily occur uniformly, and thus is indicated by a visual evaluation score per 75 cm 2 . The score for visual evaluation is 10 points when the ink adhesion area ratio of the non-image area is 0%, 9 points for 1-10%, 8 points for 11-20%, 7 points for 21-30%, 31-40 6 points, 41-50% 5 points, 51-60% 4 points, 61-70% 3 points, 71-80% 2 points, 81-90% 1 point, 91-100% The score was 0. The higher the score, the better the stain resistance.

<経時後の耐汚れ性>
平版印刷版を作製した後、60℃相対湿度60%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した。この印刷版を用いて、上記耐汚れ性の評価と同様にして経時後の耐汚れ性を評価した。点数の高い程、経時後の耐汚れ性が良好であることを表す。
<Stain resistance after aging>
After preparing a lithographic printing plate, it was left for 3 days in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and a relative humidity of 60%. Using this printing plate, the stain resistance after the elapse of time was evaluated in the same manner as the above-described stain resistance evaluation. The higher the score, the better the stain resistance after aging.

<現像性>
種々の搬送速度に変更して上記現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性とした。現像性評価は、表10、11及び12においては各々実施例1、40及び51を基準(1.0)として、以下のように定義した相対現像性で表した。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを表す。
相対現像性=(対象平版印刷版原版の搬送速度)/(基準平版印刷版原版の搬送速度)
<Developability>
The development processing was carried out while changing to various transport speeds, and the cyan density of the non-image area of the obtained lithographic printing plate was measured with a Macbeth densitometer. The transport speed at which the cyan density of the non-image area was equal to the cyan density of the aluminum support was determined and used as developability. In Tables 10, 11 and 12, the evaluation of developability was expressed as relative developability defined as follows, with Examples 1, 40 and 51 as the reference (1.0). The larger the value of the relative developability, the higher the developability and the better the performance.
Relative developability = (transport speed of target lithographic printing plate precursor) / (transport speed of reference lithographic printing plate precursor)

Figure 2012048176
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Figure 2012048176
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Figure 2012048176
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表10〜12から明らかなように、支持体表面と相互作用する官能基を有する繰り返し単位のみからなる重合体の比較例6及び9は、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性に劣ることが分かる。
繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有しない比較例1、3〜5、8、11は、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び現像性に劣ることが分かる。
繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有するものの特定の連結基を有さず一般式(I)及び(II)の要件を満たさない比較例2、7、10は耐汚れ性及び現像性に劣ることが分かる。
一方、一般式(I)又は(II)の要件を満たす繰り返し単位を有する実施例1〜63は、耐刷性を損なうことなく、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び現像性に優れることが分かる。
As is apparent from Tables 10 to 12, Comparative Examples 6 and 9 of the polymer consisting only of repeating units having a functional group that interacts with the surface of the support may have poor stain resistance and stain resistance after aging. I understand.
It can be seen that Comparative Examples 1, 3 to 5, 8, and 11 having no zwitterion in the side chain of the repeating unit are inferior in stain resistance, stain resistance after aging, and developability.
Comparative Examples 2, 7, and 10, which have zwitterions in the side chains of the repeating unit but do not have a specific linking group and do not satisfy the requirements of the general formulas (I) and (II), are poor in stain resistance and developability. I understand that.
On the other hand, Examples 1 to 63 having repeating units satisfying the requirements of the general formula (I) or (II) are excellent in stain resistance, stain resistance after aging and developability without impairing printing durability. I understand.

[実施例64〜85及び比較例12〜15]
〔露光、現像及び印刷〕
表13及び14に示す各平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter3244VX(水冷式40W赤外線半導体レーザー(830nm)搭載)にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2、400dpiの条件で50%平網の画像露光を行った。次いで、現像液1又は4を用い、図2に示す構造の自動現像処理機にて、プレヒート部での版面到達温度が100℃となるヒーター設定、現像液中への浸漬時間(現像時間)が20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。
[Examples 64-85 and Comparative Examples 12-15]
[Exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown in Tables 13 and 14 is 50% under the conditions of output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, resolution 2, 400 dpi using a Trendsetter 3244VX (equipped with water-cooled 40 W infrared semiconductor laser (830 nm)) manufactured by Creo. A flat screen image was exposed. Next, using the developing solution 1 or 4, in the automatic developing processor having the structure shown in FIG. 2, the heater setting at which the plate surface reaching temperature in the preheating part becomes 100 ° C., the immersion time (development time) in the developing solution is Development processing was performed at a conveyance speed of 20 seconds.

得られた平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   The obtained lithographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and fountain solution (EU-3 (etch solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). )) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性を実施例1と同様にして評価した。耐刷性及び現像性の評価は、表13及び14においては各々実施例64及び75を基準(1.0)として行った。結果を表13及び14に示す。   Each lithographic printing plate precursor was evaluated in the same manner as in Example 1 for printing durability, stain resistance, stain resistance after aging, and developability. Evaluation of printing durability and developability was performed in Tables 13 and 14 using Examples 64 and 75 as the reference (1.0), respectively. The results are shown in Tables 13 and 14.

Figure 2012048176
Figure 2012048176

Figure 2012048176
Figure 2012048176

表13及び14から明らかなように、繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有するものの特定の連結基を有さず一般式(I)及び(II)の要件を満たさない比較例12及び14、並びに繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有しない比較例13及び15は、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性、現像性に劣ることが分かる。
一方、一般式(I)又は(II)の要件を満たす繰り返し単位を有する実施例64〜85は、耐刷性を損なうことなく、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び現像性に優れることが分かる。
As is apparent from Tables 13 and 14, Comparative Examples 12 and 14, which have a zwitterion in the side chain of the repeating unit but do not have a specific linking group and do not satisfy the requirements of the general formulas (I) and (II), It can also be seen that Comparative Examples 13 and 15 having no zwitterion in the side chain of the repeating unit are inferior in stain resistance, stain resistance after aging and developability.
On the other hand, Examples 64-85 having repeating units satisfying the requirements of the general formula (I) or (II) are excellent in stain resistance, stain resistance after aging and developability without impairing printing durability. I understand.

[実施例86〜96及び比較例16及び17]
〔露光、現像及び印刷〕
表15に示す各平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った
[Examples 86 to 96 and Comparative Examples 16 and 17]
[Exposure, development and printing]
Each lithographic printing plate precursor shown in Table 15 was exposed under the conditions of an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi with a Luxel PLANETSETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The exposed lithographic printing plate precursor was mounted on the plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After supplying on the machine with dampening water and ink using the standard automatic printing start method of LITHRONE 26, printing was performed on Tohishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.

〔評価〕
各平版印刷版原版について、機上現像性及び耐刷性を下記のように評価した。耐汚れ性及び経時後の耐汚れ性については実施例1と同様にして評価した。結果を表15に示す。
<機上現像性>
画像記録層の非画像部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。
[Evaluation]
Each lithographic printing plate precursor was evaluated for on-press developability and printing durability as follows. The stain resistance and the stain resistance after aging were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 15.
<On-press developability>
The number of print sheets required until the on-press development of the non-image portion of the image recording layer on the printing machine was completed and no ink was transferred to the non-image portion was measured as on-press developability.

<耐刷性>
上記機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数の増加にともない、徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が、印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。耐刷性評価は、実施例86を基準(1.0)として以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の耐刷性)/(基準平版印刷版原版の耐刷性)
<Print durability>
After the on-press development property was evaluated, printing was further continued. As the number of printed sheets increased, the image recording layer gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. The printing durability is evaluated by assuming that the number of printed copies is the number of printed copies when the dot area ratio of the 50% halftone dot on the printed matter is 5% lower than the measured value of the 100th printed sheet. did. The evaluation of printing durability was expressed in terms of relative printing durability defined as follows using Example 86 as a reference (1.0). The larger the relative printing durability number, the higher the printing durability.
Relative printing durability = (printing durability of the target lithographic printing plate precursor) / (printing durability of the standard lithographic printing plate precursor)

Figure 2012048176
Figure 2012048176

表15から明らかなように、繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有するものの特定の連結基を有さず一般式(I)及び(II)の要件を満たさない比較例16及び繰り返し単位の側鎖に双性イオンを有しない比較例17は耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び機上現像性に劣ることが分かる。
一方、一般式(I)又は(II)の要件を満たす繰り返し単位を有する実施例86〜9
は、耐刷性を損なうことなく、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性及び機上現像性に優れることが分かる。
As is apparent from Table 15, Comparative Example 16 having a zwitterion in the side chain of the repeating unit but having no specific linking group and not satisfying the requirements of the general formulas (I) and (II) and the side of the repeating unit It can be seen that Comparative Example 17 having no zwitterion in the chain is inferior in stain resistance, stain resistance after aging and on-press developability.
On the other hand, Examples 86 to 9 having repeating units satisfying the requirements of the general formula (I) or (II)
Is excellent in stain resistance, stain resistance after aging and on-press developability without impairing printing durability.

4:平版印刷版原版
6:現像部
10:乾燥部
16:搬送ローラ
20:現像槽
22:搬送ローラ
24:ブラシローラ
26:スクイズローラ
28:バックアップローラ
36:ガイドローラ
38:串ローラ
4: planographic printing plate precursor 6: developing unit 10: drying unit 16: transport roller 20: developing tank 22: transport roller 24: brush roller 26: squeeze roller 28: backup roller 36: guide roller 38: skewer roller

11:平版印刷版原版の搬送路
100:自動現像処理機
200:前加熱(プレヒート)部
300:現像部
400:乾燥部
202:機枠
208: 加熱室
210:串型ローラー
212:搬入口
214:ヒーター
216:循環ファン
218:搬出口
304:挿入ローラー対
306:処理タンク
308:現像槽
11: Transport path of planographic printing plate precursor 100: Automatic development processor 200: Preheating (preheating) unit 300: Developing unit 400: Drying unit 202: Machine frame 208: Heating chamber 210: Skewer roller 212: Carriage entrance 214: Heater 216: Circulation fan 218: Unloading port 304: Insertion roller pair 306: Processing tank 308: Developer tank

310:外板パネル
312:スリット状挿入口
316:液中ローラー対
318:搬出ローラー対
322:ブラシローラー対
324:遮蔽蓋
326:ブラシローラー対
330:スプレーパイプ
332:仕切り板
334:スリット状挿通口
336:液温センサー
338:液面レベル計
332:仕切り板
342:ガイド部材
344:ガイドローラー
402:支持ローラー
404:排出口
406:搬送ローラー対
408:搬送ローラー対
410:ダクト
412:ダクト
414:スリット孔
50:外部タンク
51:オーバーフロー口
52:上限液レベル計
53:下限液レベル計
54:フィルター部
55:現像液供給ポンプ
C1:第1の循環用配管
C2:第2の循環用配管
71:補充用水タンク
72:水補充ポンプ
C3:第3の循環用配管
310: Outer panel 312: Slit insertion port 316: Submerged roller pair 318: Unloading roller pair 322: Brush roller pair 324: Shielding lid 326: Brush roller pair 330: Spray pipe 332: Partition plate 334: Slit insertion port 336: Liquid temperature sensor 338: Liquid level meter 332: Partition plate 342: Guide member 344: Guide roller 402: Support roller 404: Discharge port 406: Conveying roller pair 408: Conveying roller pair 410: Duct 412: Duct 414: Slit Hole 50: External tank 51: Overflow port 52: Upper liquid level meter 53: Lower liquid level meter 54: Filter unit 55: Developer supply pump C1: First circulation pipe C2: Second circulation pipe 71: Replenishment Water tank 72: Water replenishment pump C3: Third circulation pipe

Claims (22)

支持体と、画像記録層を含む少なくとも1つの層とを有する平版印刷版原版であって、前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体(A)を含有する平版印刷版原版。
Figure 2012048176
(一般式(I)又は(II)において、
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。
’は主鎖と直接連結する部位を表す。)
A lithographic printing plate precursor having a support and at least one layer including an image recording layer, wherein the layer in contact with the support among the at least one layer is represented by the following general formula (I) or (II) A lithographic printing plate precursor comprising a polymer (A) having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by
Figure 2012048176
(In general formula (I) or (II),
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represents a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group. To express.
'Represents a site directly connected to the main chain. )
前記少なくとも1つの層の内の前記支持体と接する層が、前記画像記録層、又は前記支持体と前記画像記録層の間に設けられている下塗り層である、請求項1に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing according to claim 1, wherein the layer in contact with the support among the at least one layer is the image recording layer or an undercoat layer provided between the support and the image recording layer. Version original edition. 前記重合体(A)が前記一般式(I)で表される部分構造を有する繰り返し単位を有する重合体である、請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the polymer (A) is a polymer having a repeating unit having a partial structure represented by the general formula (I). 前記一般式(I)中のAが、−SO 又は−CO である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein A in the general formula (I) is —SO 3 or —CO 2 . 前記一般式(I)中のXが−N−を表し、一般式(II)中のYが−Nを表す、請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。 X <+> in the said general formula (I) represents -N <+> R < 1 > R < 2 > -, Y <+> in general formula (II) represents -N <+> R < 3 > R < 4 > R < 5 >. The lithographic printing plate precursor described. 前記一般式(I)のL12及び前記一般式(II)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
Figure 2012048176
(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II) each independently include at least a divalent group selected from the following group, which may include a hetero atom in the linking group. The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5, which is a divalent linking group containing one.
Figure 2012048176
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
前記一般式(I)のL12及び前記一般式(II)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、請求項6に記載の平版印刷版原版。
Figure 2012048176
(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II) each independently include at least a divalent group selected from the following group, which may include a hetero atom in the linking group. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 6, which is a divalent linking group containing one.
Figure 2012048176
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
前記一般式(I)中のL12及び前記一般式(II)中のL22において、XとA又はリン酸エステルのL22に直結する酸素原子とYを連結するために使われる最短の原子数の合計が4〜8である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。 In L 12 in the general formula (I) and L 22 in the general formula (II), X + and A or an oxygen atom directly connected to L 22 of the phosphate ester and Y + are used for linking. The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the shortest total number of atoms is 4 to 8. 前記重合体(A)が、更に、前記支持体の表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(a2)を有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 8, wherein the polymer (A) further comprises a repeating unit (a2) having at least one functional group that interacts with the surface of the support. Original edition. 前記画像記録層が、更に、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)増感色素及び(E)バインダーポリマーを含有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。   10. The image recording layer according to claim 1, wherein the image recording layer further contains (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (D) a sensitizing dye, and (E) a binder polymer. Lithographic printing plate precursor. 前記(E)バインダーポリマーが、(メタ)アクリル系重合体、ポリウレタン樹脂又はポリビニルブチラール樹脂である、請求項10に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 10, wherein the (E) binder polymer is a (meth) acrylic polymer, a polyurethane resin, or a polyvinyl butyral resin. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、pHが2〜14の現像液の存在下で非画像部の画像記録層を除去する工程を有する、平版印刷版の作製方法。   After the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 is imagewise exposed, the image recording layer in a non-image area is removed in the presence of a developer having a pH of 2 to 14. A method for preparing a lithographic printing plate. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非画像部の画像記録層分を除去する工程を有する、平版印刷版の作製方法。   After the lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 is imagewise exposed, printing ink and fountain solution are supplied on a printing machine to remove the image recording layer portion of the non-image area. A method for producing a lithographic printing plate, comprising a step. 下記一般式(III)又は(IV)で表されるラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
Figure 2012048176
(一般式(III)又は(IV)において、
、R及びRは各々独立して水素原子又はアルキル基を表す。
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいても良いアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレン基を含有する2価の連結基を表す。)
A radical polymerizable unsaturated group-containing monomer represented by the following general formula (III) or (IV).
Figure 2012048176
(In general formula (III) or (IV),
R X , R Y and R Z each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group which may contain a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represents a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene group. To express. )
前記一般式(III)で表される、請求項14に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。   The radically polymerizable unsaturated group containing monomer of Claim 14 represented by the said general formula (III). 前記一般式(III)中のAが、−SO 又は−CO である、請求項14又は15に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。 Formula (III) in the A - is, -SO 3 - or -CO 2 - and is a radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to claim 14 or 15. 前記一般式(III)中のXが−N−である、請求項14〜16のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。 The radically polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of claims 14 to 16, wherein X + in the general formula (III) is -N + R 1 R 2- . 前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、請求項14〜17のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
Figure 2012048176
(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
L 12 in the general formula (III) and L 22 in the general formula (IV) each independently include at least a divalent group selected from the following group, which may include a hetero atom in the linking group. The radically polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of claims 14 to 17, which is a divalent linking group containing one.
Figure 2012048176
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22が、各々独立に、連結基中にヘテロ原子を含んでいても良い、下記群から選択させる2価の基を少なくとも1つ含有する2価の連結基である、請求項18に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。
Figure 2012048176
(上記式中*は連結部位を表す。Rはアルキル基又はヒドロキシル基を表す。)
L 12 in the general formula (III) and L 22 in the general formula (IV) each independently include at least a divalent group selected from the following group, which may include a hetero atom in the linking group. The radical polymerizable unsaturated group-containing monomer according to claim 18, which is a divalent linking group containing one.
Figure 2012048176
(In the above formula, * represents a linking site. R represents an alkyl group or a hydroxyl group.)
前記一般式(III)のL12及び前記一般式(IV)中のL22において、XとA又はリン酸エステルのL22に直結する酸素原子とYを直接連結するために使われる最短の原子数の合計が4〜8である、請求項14〜19のいずれか1項に記載のラジカル重合性不飽和基含有モノマー。 In L 12 of the general formula (III) and L 22 in the general formula (IV), X + and A or an oxygen atom directly connected to L 22 of the phosphate ester and Y + are directly connected. The radically polymerizable unsaturated group-containing monomer according to any one of claims 14 to 19, wherein the shortest total number of atoms is 4 to 8. 下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を有する繰り返し単位(a1)を有する重合体。
Figure 2012048176
(一般式(I)又は(II)において、
11及びL21は各々独立に単結合又は2価の連結基を表し、Xは−N−、−S−、−I−又は−P−を表し、Aは−SO 、−CO 、−PO又は−OPOを表す。
は−N、−S、−I又は−Pを表す。
、R、R、R及びRは各々独立に、ヘテロ原子を含んでいてもアルキル基又はアリール基を表す。
、R及びL11の少なくとも2つ、又はR、R及びL12の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。R、R及びL22の少なくとも2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
12及びL22は、各々独立に、少なくとも1つのsp混成軌道若しくはsp混成軌道を有する原子を含有する2価の連結基、又は少なくとも1つの環状アルキレンを含有する2価の連結基を表す。
’は主鎖と直接連結する部位を表す。)
A polymer having a repeating unit (a1) having a partial structure represented by the following general formula (I) or (II).
Figure 2012048176
(In general formula (I) or (II),
L 11 and L 21 each independently represent a single bond or a divalent linking group, and X + represents -N + R 1 R 2- , -S + R 1- , -I + -or -P + R 1 R. 2 - represents, a - is -SO 3 -, -CO 2 -, -PO 3 H - or -OPO 3 H - represents a.
Y + represents -N + R 3 R 4 R 5 , -S + R 3 R 4, -I + R 3 or -P + R 3 R 4 R 5 .
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group or an aryl group even if it contains a hetero atom.
At least two of R 1 , R 2 and L 11 , or at least two of R 1 , R 2 and L 12 may be linked to each other to form a ring. At least two of R 3 , R 4 and L 22 may be connected to each other to form a ring.
L 12 and L 22 each independently represent a divalent linking group containing an atom having at least one sp 2 hybrid orbital or an sp hybrid orbital, or a divalent linking group containing at least one cyclic alkylene. .
'Represents a site directly connected to the main chain. )
請求項21に記載の重合体から形成された親水性膜。   A hydrophilic film formed from the polymer according to claim 21.
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