JP5740552B2 - 真空蒸発法における蒸気流を制御するための方法及び装置 - Google Patents
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Description
−コーティングされる基板が通る処理ゾーンから閉じ込め容器の内側を隔離すること。この機能は、基板が処理ゾーンを横断しない、又はこの処理ゾーンを通って進行しない場合に作動する。
−少なくとも1つの蒸気閉塞部材を調節することによって、基板の進行方向を横断する方向に応じて、又は処理ゾーンに対する閉じ込め容器内の蒸気供給源の位置に応じて、蒸気流を調節すること。
4.1.プラズマ蒸発亜鉛メッキ・ユニットを始動すること
プラズマ蒸発亜鉛メッキ設備が、保守後に真空状態にされると、蒸気調節装置のバッフルのフラップ13によって形成された閉塞部材の位置が、この装置の調整可能な開口が最大限開いた位置にされ、空気を排出し、閉じ込め容器内部のアルゴンを必要なまでに加圧することが可能となる。設備のアルゴン圧力が0.001〜0.01ミリバールに到達すると、閉じ込め容器の壁が、電気素子によって400〜500℃の範囲の温度に加熱される。図2及び図3による亜鉛蒸気流調節装置のバッフルのフラップ13が回転によって作動し、開口を閉じて、閉じ込め容器の内側から処理ゾーン6を光学的に隔離する。蒸気調節装置のバッフルのフラップ13は、閉じ込め容器5の内壁によって放射される赤外線によって加熱される。少数のフラップ13に、その温度を監視するために熱電対が設けられることが有利である。フラップ13が作業温度に達すると(典型的には、400〜500℃の範囲)、液体亜鉛が設定レベルまで導入される。設定レベルは、保持容器4内において、一般的に電気的、光学的、又は機械的な手段によって測定される。
本発明の特に有利な形態において、図2及び図3に示されているような、細長い薄板15によって形成された閉塞部材13は、支持材16に固定されているスピンドルによって支持される。一群の細長い薄板15の回転は、例えば、チェーン、ケーブル、又はランナーと連携するレバーなど、一般的に任意の手段によって一体で行われる。これは、基板の進行方向に対して平行に延在する通路の4つの壁に対して行われる。このようにして、装置は、調節された方法で開くことができる。とりわけ、処理ゾーンを含む通路の壁のそれぞれに対する処理開口は、独立して開閉することができる。これらの壁は、基板の処理ゾーン6に関して上、下、及び横にそれぞれ配置され、入口開口7と出口開口8との間に延在する。閉塞部材13は、閉じ込め容器5の外壁に固定された4つの独立した装置を使って機械的に駆動されることが有利である。閉じ込め容器5は、閉じ込め容器5の壁を通る4つの移送を介して周囲温度(約300K)に維持される。機械的駆動装置は、ジャッキ又は回転装置であってもよく、一般的には、電気機械式、空気圧式、又は油圧式とすることができる。
基板が、通路の内側の処理ゾーン6内に配置されていない場合、閉塞部材13は、すべての壁又は処理開口が閉じられた位置に保持される。
プラズマ蒸発亜鉛メッキ・ユニットが停止した場合、基板は処理ゾーン内でもはや検出されず、閉塞部材は閉鎖位置にある。次いで、供給チューブ9を介して保持容器4の中身を温度維持炉12に空ける。容器4からすべての液体亜鉛が排出されると、閉塞部材が完全に開き、閉じ込め容器5の内側と外側との間にガスを通せるようになる。次いで、閉じ込め容器の加熱素子を遮断し、閉じ込め容器の内壁を冷ましてから保守のため設備を大気中において開放する。
5.1.鋼プロファイルのプラズマ蒸発亜鉛メッキ用の設備
プラズマ蒸発法による鋼プロファイルの亜鉛メッキのための設備は、図2及び図3に示されている通り、連結された細長い薄板15を用いて亜鉛蒸気流を調節するための装置を備えた閉じ込め室を装備している。蒸気流調節器は、処理ゾーンを通過する投入物の上、下、及び側面において、それぞれ亜鉛蒸気流の独立制御を行えるようにする4つの独立した壁を備える。亜鉛メッキされる投入物の進行方向の4つの主要横断方向に対応する4つの壁の閉塞部材は、閉じ込め容器5の外壁に固定されたジャッキ(図示されていない)を使って、対応する細長い薄板15を回転させることによって作動させられる。支持フレーム16における基板を通すための開口17の断面のサイズは、典型的には、700mm×200mmである。通路、又は基板の進行方向に平行な処理ゾーンの寸法は、600mmである。処理ゾーンを通過している基板が検出された場合、4つの独立した壁それぞれの細長い薄板15は、基板のすべての面上において一様なコーティングが行われる開度に従って開かれる。典型的には、基板の上に配置されている壁は100%開いており、基板の下に配置されている壁は80%開いており、側壁は50%開いている。投入物が処理ゾーンから完全に出てしまったときに、独立の閉塞部材は、完全に閉じられ、閉じ込め容器の外側に向かう亜鉛の損失をできる限り最小にするために、保持容器とそれに面する陽極(図示されていない)との間に接続されている電源が遮断される。亜鉛蒸気流を調節するためのこの装置では、投入物の周りを横断する毎分約3.5kgの公称流量の亜鉛蒸気を調節できる。
プラズマ蒸発法による走行鋼薄板の亜鉛メッキ用の設備は、厚み1mm、幅1mの鋼薄板が100m/分の速度で水平方向に移動して通る閉じ込め室を備える。薄板の片面は、保持容器4に面している。それぞれの閉じ込め容器は、図4に示されているような、薄板の上に配置されている上部スライド・バッフル及び薄板の下に配置されている底部スライド・バッフルを備えており、閉じ込め容器の外壁上の固定ジャッキ(図示されていない)によって独立作動する亜鉛蒸気流調節装置を有する。薄板の幾何学的形状が平坦であれば、亜鉛蒸気調節装置の側壁は固定される。蒸気流調節装置の内寸法は、支持フレーム16の開口17については1100×50mmであり、薄板の移動の方向の縦方向の寸法については600mmである。動作時に、薄板の表面全体にわたる蒸着物の厚みを一様にするために、上部スライドは100%開いているが、底部スライドは、その全開状態の70%しか開いていない。
Claims (23)
- 進行方向に移動している走行基板のコーティングのための装置であって、この装置は前記基板のための入口開口(7)及び出口開口(8)を備えた閉じ込め容器(5)を含み、前記閉じ込め容器(5)内にはコーティング材料の蒸気供給源(4)が存在し、前記閉じ込め容器(5)は、少なくとも1つの処理開口を通して前記蒸気供給源(4)と連通する処理ゾーン(6)を有しており、この蒸気供給源(4)は基板をコーティングするための蒸気流を発生させることを可能にするようになっている、走行基板のコーティングのための装置において、
前記閉じ込め容器(5)の内側と、入口開口(7)と出口開口(8)との間に延在する壁によって区切られているチューブ状の通路との間における前記処理開口を通る前記蒸気の流れを制御するための調節手段が備えられており、この通路は、前記処理ゾーン(6)を含んでおり、前記調節手段は、開放位置と閉鎖位置との間で動かすことができる閉塞部材(13)を含んでおり、前記開放位置においては、前記蒸気の流れが前記閉じ込め容器(5)から前記処理開口を通り前記通路及び前記処理ゾーン(6)に向かうことができるようになっており、前記閉鎖位置においては、前記処理ゾーン(6)が前記閉じ込め容器(5)及び前記蒸気供給源から隔離されるようになっており、前記閉じ込め容器は、前記通路の周りで前記蒸気の自由な循環と分配を可能にするようになっており、前記通路は、少なくとも1つの処理開口を備えた壁を有し、これらの壁は、少なくとも部分的に、開放位置と閉鎖位置との間で徐々に動かすことができる前記閉塞部材(13)からなり、前記開放位置においては、前記蒸気の流れが、前記蒸気供給源(4)から前記処理開口を通り通路の内部に入ることができるようになっており、前記閉鎖位置においては、前記通路の内側が前記蒸気供給源(4)から隔離されるようになっている、ことを特徴とする装置。 - 前記閉じ込め容器(5)の壁と、前記通路との間に自由空間があり、前記閉じ込め容器(5)内の前記通路の周りにおいて、前記蒸気の自由な循環と分配が可能になっている、請求項1に記載された装置。
- 前記通路は、前記閉じ込め容器(5)の入口開口(7)と出口開口(8)との間において前記進行方向に延在しており、前記処理ゾーン(6)がこの通路内に配置され、前記調節手段が、前記蒸気供給源(4)と前記通路の内側との間の前記蒸気の流れを制御することを可能にするようになっている、請求項1または請求項2に記載された装置。
- 前記閉塞部材(13)は、細長い薄板(15)によって形成され、これらの細長い薄板(15)のそれぞれは、前記開放位置と前記閉鎖位置との間で傾斜可能となるように前記処理開口に連結されている、請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記細長い薄板(15)は、長方形の形状を有し、前記長方形の長手方向は、前記閉じ込め容器(5)の前記入口開口(7)と前記出口開口(8)との間における前記基板(25)の進行方向と平行になっている、請求項4に記載された装置。
- 前記閉塞部材(13)は、前記開放位置と前記閉鎖位置との間の前記進行方向と平行な方向に動かすことができるように配置されている、請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記閉塞部材(13)は、前記開放位置と前記閉鎖位置との間の進行方向を横断する方向に動かすことができるように配置されている、請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記閉塞部材(13)は、一連の平行な細長い薄板(15)を含み、一連の平行な前記細長い薄板(15)は、前記開放位置においては、互いから一定距離のところに延在し、前記流れがこれらの細長い薄板(15)の間を通って前記処理ゾーン(6)に向かうようにすることができ、閉鎖位置においては、互いに接触し、前記処理開口を閉じ、前記蒸気供給源(4)を前記処理ゾーン(6)から隔離するようになっている、請求項1から請求項7までのいずれか一項に記載された装置。
- コーティングされる前記基板(25)の断面に応じて、前記処理ゾーン(6)に向かう前記蒸気流れの分配を調節することが可能となるように、前記閉塞部材(13)は、互いに関して独立して作動させることができる、請求項1から請求項8までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記通路の壁は、これらの壁に前記コーティング材料の前記蒸気が凝結することを防止するよう十分に高い温度に維持される、請求項1から請求項9までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記閉じ込め容器(5)は、加熱壁を含み、これらの壁に前記コーティング材料が蒸着することを防止するようになっている、請求項1から請求項10までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記閉じ込め容器(5)及び前記処理ゾーン(6)は、真空チャンバ(3)内に収容されている、請求項1から請求項11までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記コーティング材料を蒸発させ、前記コーティング材料を対向電極に対して平均して負に分極させるために、前記閉じ込め容器(5)内にプラズマを発生させるための手段が備えられている、請求項1から請求項12までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記蒸気供給源は、液体状態の亜鉛を収容した保持容器(4)を含む、請求項1から請求項13までのいずれか一項に記載された装置。
- 前記保持容器(4)は、真空チャンバ(11)内に配置されている真空炉(12)内に維持されている亜鉛溜めに浸けられた供給チューブ(9)を介して液体亜鉛の供給を受ける、請求項14に記載された装置。
- 処理ゾーン(6)を通り進行方向に移動している走行基板(25)のコーティングのための方法であって、コーティング材料の蒸気を閉じ込め容器(5)内に生成させ、この蒸気を処理開口を通過して前記処理ゾーン(6)に向かわせ、前記処理ゾーン(6)において、前記コーティング材料を前記基板(25)の表面に凝結させる方法において、
前記閉じ込め容器(5)内に存在する前記コーティング材料の前記蒸気を、自由に循環させ、前記処理ゾーンを含む通路の周りに分配させ、前記通路は、少なくとも1つの処理開口を備えた壁を有し、これらの壁は、少なくとも部分的に、開放位置と閉鎖位置との間で徐々に動かすことができる閉塞部材(13)からなり、前記処理開口を通ってこの通路の内側に向かう前記蒸気を、前記閉塞部材(13)を前記開放位置と前記閉鎖位置との間で調節し、前記処理開口の閉塞を調節することによって制御し、前記開放位置において、前記蒸気を前記処理開口を通り前記処理ゾーン(6)を含む前記通路に向かわせ、前記閉鎖位置において、前記蒸気が前記処理開口を通り前記通路に向かうことが妨げられるようにする、ことを特徴とする方法。 - コーティングされる前記基板(25)の断面に応じて、前記処理ゾーン(6)に向かう前記蒸気流れの分配を調節する、請求項16に記載された方法。
- 前記閉塞部材(13)を、この部材(13)に前記コーティング材料の前記蒸気が凝結することを防止するよう十分に高い温度に維持する、請求項16又は請求項17に記載された方法。
- 前記閉じ込め容器(5)の壁を、これらの壁に前記コーティング材料が蒸着することを防止するために加熱する、請求項16から請求項18までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記閉じ込め容器(5)及び前記処理ゾーン(6)を、真空状態に維持し、又は、0.01ミリバール未満のアルゴン圧力に維持する、請求項16から請求項19までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記コーティング材料を、前記閉じ込め容器(5)内に発生するプラズマを用いて蒸発させ、前記蒸気中の前記コーティング材料を、対向電極に対して平均して負に分極させる、請求項16から請求項20までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記コーティング材料の前記蒸気を、蒸気供給源(4)を形成する保持容器内の前記閉じ込め容器(5)の中で液体状態に維持されている亜鉛から形成させる、請求項16から請求項20までのいずれか一項に記載された方法。
- 前記亜鉛を、真空炉(12)内に維持されている亜鉛溜めから、前記保持容器内の前記閉じ込め容器(5)に導入する、請求項22に記載された方法。
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| KR20140130437A (ko) * | 2012-02-23 | 2014-11-10 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 불소 함유 유기 규소 화합물 박막의 제조 장치 및 제조 방법 |
| CN103946416B (zh) * | 2014-01-03 | 2015-12-30 | 北京航空航天大学 | 一种直写式真空蒸发系统及其方法 |
| US9488452B1 (en) * | 2015-04-22 | 2016-11-08 | Battelle Energy Alliance, Llc | Apparatus for rendering at least a portion of a device inoperable and related methods |
| EP3366804B1 (en) * | 2017-02-22 | 2022-05-11 | Satisloh AG | Box coating apparatus for vacuum coating of substrates, in particular spectacle lenses |
| CN107227443B (zh) * | 2017-08-04 | 2019-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 吸附遮挡装置及具有该装置的蒸镀设备 |
| KR20230030645A (ko) * | 2020-06-29 | 2023-03-06 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 노즐 조립체, 증발 소스, 및 증발된 재료를 기판 상에 증착하기 위한 방법 |
| DE102020121923A1 (de) | 2020-08-21 | 2022-02-24 | Materials Center Leoben Forschung Gmbh | Pvd-verfahren und vorrichtung hierfür |
| EP4084040A1 (en) * | 2021-04-29 | 2022-11-02 | voestalpine Stahl GmbH | Method and devices for plasma treatment |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4278528A (en) * | 1979-10-09 | 1981-07-14 | Coulter Systems Corporation | Rectilinear sputtering apparatus and method |
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| JPS60251273A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸発装置の蒸発量制御方法 |
| JPH0754287Y2 (ja) * | 1992-01-22 | 1995-12-18 | 日新製鋼株式会社 | 真空蒸着装置 |
| JPH07335553A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-22 | Tel Varian Ltd | 処理装置および処理方法 |
| JPH108241A (ja) * | 1996-06-25 | 1998-01-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| JP3901773B2 (ja) * | 1996-11-26 | 2007-04-04 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
| US6387147B2 (en) | 1998-02-06 | 2002-05-14 | Kao Corporation | Fertilizer composition |
| US20010005553A1 (en) * | 1999-11-10 | 2001-06-28 | Witzman Matthew R. | Linear aperture deposition apparatus and coating process |
| EP1182272A1 (fr) * | 2000-08-23 | 2002-02-27 | Cold Plasma Applications C.P.A. | Procédé et dispositif permettant le dépôt de couches métalliques en continu par plasma froid |
| IT1320693B1 (it) * | 2000-10-06 | 2003-12-10 | Fiat Ricerche | Dispositivo per la regolazione di un flusso d'aria in un condotto, con attuatore a memoria di forma integrato, particolarmente per sistemi |
| JP4704605B2 (ja) * | 2001-05-23 | 2011-06-15 | 淳二 城戸 | 連続蒸着装置、蒸着装置及び蒸着方法 |
| US20040002623A1 (en) | 2002-06-28 | 2004-01-01 | Tihiro Ohkawa | Encapsulation of spent ceramic nuclear fuel |
| US7169232B2 (en) * | 2004-06-01 | 2007-01-30 | Eastman Kodak Company | Producing repetitive coatings on a flexible substrate |
| US7927659B2 (en) * | 2005-04-26 | 2011-04-19 | First Solar, Inc. | System and method for depositing a material on a substrate |
| ATE520799T1 (de) * | 2005-10-26 | 2011-09-15 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zum bedampfen von substraten |
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