JP5737930B2 - シルセスキオキサン化合物 - Google Patents
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1. ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、下記一般式(I)又は(II)で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物。
2. 前記一般式(I)又は(II)で表される有機基が直接に結合したケイ素原子以外のケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、水素原子、炭素数1〜30の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、ビニル基を有する有機基、アミノ基を有する有機基、エポキシ基を有する有機基、又は(メタ)アクリロイル基を有する有機基である上記項1に記載のシルセスキオキサン化合物。
3. 前記一般式(I)又は(II)で表される有機基が直接に結合したケイ素原子以外のケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、炭素数1〜20の炭化水素基である上記項2に記載のシルセスキオキサン化合物。
4. 下記一般式(III)で表される上記項1又は2記載のシルセスキオキサン化合物。
(ASiO3/2)m(BSiO3/2)n (III)
[式(III)中、Aは前記一般式(I)又は(II)で表される有機基であり、Bは水素原子、炭素数1〜30の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、ビニル基を有する有機基、アミノ基を有する有機基、エポキシ基を有する有機基、又は(メタ)アクリロイル基を有する有機基であって、A、Bの各々は同一でも又は異なっていてもよい。mは1以上の整数、nは0以上の整数であり、かつm+nは4以上の整数である。]
5. 前記一般式(III)において、Bが、炭素数1〜20の炭化水素基である上記項4に記載のシルセスキオキサン化合物。
6. 数平均分子量が500〜100,000である上記項1〜5のいずれか1項に記載のシルセスキオキサン化合物。
7. 上記項1〜6のいずれか1項に記載のシルセスキオキサン化合物を含有する塗料組成物。
8. 上記項1〜6のいずれか1項に記載のシルセスキオキサン化合物ならびに水酸基との反応性を有する架橋剤を含有する塗料組成物。
9. 水酸基との反応性を有する架橋剤が、アミノ樹脂及びブロック化されていても良いポリイソシアネート化合物の少なくとも一方である上記項8に記載の塗料組成物。
10. 水酸基含有樹脂をさらに含有する上記項7〜9のいずれか1項に記載の塗料組成物。
11. 上記項7〜10のいずれか1項に記載の塗料組成物を塗装して得られる塗膜を含む物品。
また、この炭化水素基は飽和、不飽和の何れでもよく、また直鎖状でも分岐状でも環状でもよい。中でも直鎖状のものが好ましく、特に直鎖状飽和炭化水素基であることが好ましい。
本発明のシルセスキオキサン化合物の製造方法は、一般的なシルセスキオキサンの製造に従来用いられている製造方法を用いることができ、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、以下の製造方法A、又は製造方法B等を用いて製造することができる。
製造方法Aとしては、ケイ素原子に直接に結合した有機基であり、かつ前記一般式(I)又は(II)で表される有機基を有する加水分解性シランを含有する出発物質を用いた製造方法が挙げられる。
[式(X)中、Aは、前記一般式(I)又は(II)で表される有機基を示し、Xは塩素又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示し、Xは同一でも又は異なっていてもよい。]。
[式(XX)中、Bは水素原子、炭素数1〜30の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、ビニル基を有する有機基、アミノ基を有する有機基、エポキシ基を有する有機基、又は(メタ)アクリロイル基を有する有機基を示す。Xは前記に同じ。Xは同一でも又は異なっていてもよい。]。
前記一般式(X)で表される加水分解性シラン(a)を出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、又は、
前記一般式(X)で表される加水分解性シラン(a)、及び前記一般式(X)で表される加水分解性シラン以外の加水分解性シラン(b)を出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、
ことが挙げられる。
(ASiO3/2)m(BSiO3/2)n (III)
[式(III)中、A及びBは前記に同じ。A、Bの各々は同一でも又は異なっていてもよい。mは1以上の整数、nは0以上の整数であり、かつm+nは4以上の整数である。]。
製造方法Bとしては、アミノ基を有する加水分解性シランを用いて、アミノ基を有するシルセスキオキサン化合物を製造する第B1工程、該第B1工程により得られたシルセスキオキサン化合物のアミノ基に、環状カーボネート化合物を反応させる第B2a工程を含む製造方法(B−1)、ならびに、上記B1工程により得られたシルセスキオキサン化合物のアミノ基に、ラクトン類を反応させる第B2b工程を含む製造方法(B−2)が挙げられる。
第B1工程に用いるアミノ基を有する加水分解性シランとしては、具体的には例えば、下記一般式(XXI)で表される加水分解性シランが挙げられる。
上記一般式(XXI)で表される加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、又は、
上記一般式(XXI)で表される加水分解性シラン、及びアミノ基を有する加水分解性シラン以外の加水分解性シランを出発物質に用いて触媒の存在下で加水分解縮合する、
ことが挙げられる。
第B2a工程では、具体的には例えば、前記第B1工程により得られる、ケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XXII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物のアミノ基に、環状ポリカーボネート化合物を反応させる。
第B2b工程では、具体的には例えば、前記第B1工程により得られるケイ素原子に直接に結合した有機基として下記一般式(XXII)で表される有機基を有するシルセスキオキサン化合物のアミノ基に、ラクトン類を反応させる。
本発明のシルセスキオキサン化合物は、有機化合物との相溶性及び硬化性に優れるため、塗料用原料として好適に使用することができる。さらに、本発明のシルセスキオキサン化合物を含有する塗料組成物(以下、単に「本発明の塗料組成物」又は「本塗料」と略すことがある)は、耐擦り傷性、耐汚染性及び耐候性に優れた塗膜を形成することができる。
シルセスキオキサン化合物:5〜99質量部、好ましくは10〜95質量部、さらに好ましくは40〜90質量部、
アミノ樹脂:1〜95質量部、好ましくは5〜90質量部、さらに好ましくは10〜60質量部、
水酸基含有樹脂:0〜80質量部、好ましくは0〜70質量部、さらに好ましくは0〜50質量部。
本発明の塗料組成物を適用する被塗物としては、特に制限されず、例えば、乗用車、トラック、オートバイ、バス等の自動車車体の外板部;自動車部品;携帯電話、オーディオ機器等の家庭電気製品の外板部等を挙げることができる。なかでも、自動車車体の外板部及び自動車部品が好ましい。
これらのうちでは、エアスプレー塗装又は回転霧化塗装が特に好ましい。本塗料の塗布量は、通常、硬化膜厚として、10〜50μm程度となる量とするのが好ましい。
本塗料が上塗りトップクリヤコート塗料として塗装される複層塗膜形成方法としては、被塗物に順次、少なくとも1層の着色ベースコート塗料及び少なくとも1層のクリヤコート塗料を塗装することにより複層塗膜を形成する方法であって、最上層のクリヤコート塗料として本発明の塗料組成物を塗装することを含む複層塗膜形成方法を挙げることができる。
装置:JEOL社製 FT−NMR EX−400
溶媒:CDCl3
内部標準物質:テトラメチルシラン
(FT−IR分析)
装置:日本分光社製 FT/IR−610。
実施例1
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン143部、エチレンカーボネート57部を仕込み、窒素気流下、100℃で24時間反応させ、反応生成物(P1)200部を得た。1H−NMRにより、エチレンカーボネートの残存率から求めた反応率は99%であった。
次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P1)101部、デシルトリメトキシシラン29部、フェニルトリメトキシシラン22部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A1)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン134部、プロピレンカーボネート63部を仕込み、窒素気流下、100℃で24時間反応させ、反応生成物(P2)200部を得た。1H−NMRにより、プロピレンカーボネートの残存率から求めた反応率は98%であった。
次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P2)101部、デシルトリメトキシシラン27部、フェニルトリメトキシシラン21部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A2)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン131部、1,2−ブチレンカーボネート69部を仕込み、窒素気流下、100℃で24時間反応させ、反応生成物(P3)200部を得た。1H−NMRにより、1,2−ブチレンカーボネートの残存率から求めた反応率は98%であった。
次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P3)101部、デシルトリメトキシシラン26部、フェニルトリメトキシシラン20部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A3)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン130部、グリセリンカーボネート70部を仕込み、窒素気流下、100℃で24時間反応させ、反応生成物(P4)200部を得た。1H−NMRにより、グリセリンカーボネートの残存率から求めた反応率は99%であった。
次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P4)100部、デシルトリメトキシシラン25部、フェニルトリメトキシシラン22部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A4)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アミノプロピルトリエトキシシラン144部、γ−ブチロラクトン56部を仕込み、窒素気流下、100℃で24時間反応させ、反応生成物(P5)200部を得た。1H−NMRにより、γ−ブチロラクトンの残存率から求めた反応率は100%であった。
次に、還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P5)100部、デシルトリメトキシシラン28部、フェニルトリメトキシシラン24部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A5)の不揮発分50%溶液200部を得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。実施例3で合成した反応生成物(P3)117部及びプロピルトリメトキシシラン38部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A6)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。実施例3で合成した反応生成物(P3)149部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A7)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル500部、実施例3で合成した反応生成物(P3)101部、デシルトリメトキシシラン26部、及びフェニルトリメトキシシラン20部を入れ、十分に溶解させた。該溶解物に1.0モル/lの塩化水素水溶液20部を入れ、80℃で4時間反応させた後、留分を除去しながら、温度を120℃まで昇温した。反応温度を120℃に保ち、留分を除去しながら8時間反応させ、その間の液量が450部以下とならないように適宜プロピレングリコールモノメチルエーテルを補充した。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A8)の50%溶液を200部得た。
反応生成物(P3)についての前記1H−NMR、及びシルセスキオキサン化合物(A3)についての前記29Si−NMR、1H−NMR、分子量分布測定及び水酸基価の結果から、シルセスキオキサン化合物(A8)は、ケイ素原子に直接に結合した有機基の60モル%が前記化学式(5)、20モル%が前記化学式(2)、残りの20モル%が前記化学式(3)で表わされる有機基である数平均分子量2,000のシルセスキオキサン化合物であることが確認された。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン86部、デシルトリメトキシシラン32部、フェニルトリメトキシシラン24部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(P6)の50%溶液を200部得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、製造例1で合成したシルセスキオキサン化合物(P6)の不揮発分50%溶液200部、ジメチロールプロピオン酸49部及びテトラブチルアンモニウムブロミド2部を仕込み、100℃で24時間反応させた後、2−プロパノール51部で希釈し、シルセスキオキサン化合物(A9)の不揮発分50%溶液302部を得た。
シルセスキオキサン化合物(A9)のエポキシ価は0.02mmol/gであり、反応率は99%以上と推定される。また、水酸基価は412mgKOH/gであった。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン141部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(P7)の50%溶液を200部得た。シルセスキオキサン化合物(P7)の不揮発分50%溶液200部、2−エチルヘキサン酸91部及びテトラブチルアンモニウムブロミド2部を仕込み、100℃で24時間反応させた後、2−プロパノール93部で希釈し、シルセスキオキサン化合物(A10)の不揮発分50%溶液386部を得た。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、製造例1で合成したシルセスキオキサン化合物(P6)の不揮発分50%溶液200部、及びジエタノールアミン38部を仕込み、80℃で1時間反応させた後、2−プロパノール38部で希釈し、シルセスキオキサン化合物(A11)の不揮発分50%溶液276部を得た。1H−NMRにより、エポキシ基のピークが確認されなかったことから、全てのエポキシ基がジエタノールアミンと反応したと考えられる。
シルセスキオキサン化合物(A11)について29Si−NMR分析を行った結果、Si原子に結合した3つの酸素原子が全て他のSi原子と結合したT3構造に由来する−70ppm付近のピークのみが確認され、Si−OH基の存在を示すT0〜T2のピークは確認されなかった。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン165部、及び2−プロパノール部35部を仕込み、窒素気流下、80℃で8時間反応させ、反応生成物(P8)200部を得た。1H−NMRにより、2−プロパノールの残存率から求めた反応率は100%であった。
還流冷却器、温度計、攪拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、2−プロパノール500部、テトラブチルアンモニウムフルオリド三水和物1.5部及び脱イオン水20部を入れ、十分に溶解させた。反応生成物(P8)101部、デシルトリメトキシシラン29部、フェニルトリメトキシシラン22部を2−プロパノール100部に溶解し、該溶解物をフラスコに投入した後、20℃で24時間反応させた。減圧蒸留にて濃度50%となるまで濃縮し、シルセスキオキサン化合物(A12)の50%溶液を200部得た。
製造例2
還流冷却器、温度計、攪拌機、窒素導入管を取り付けた4つ口フラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテル100部を仕込み、窒素気流下で100℃まで昇温した。メタクリル酸メチル42部、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル40部、メタクリル酸ブチル10部、アクリル酸3部及び「V−59」(アゾ系重合開始剤、商品名、和光純薬工業株式会社製)5部を混合して溶解させた後、該混合物をフラスコに2時間かけて滴下した。さらに100℃で2時間反応させることにより、水酸基含有アクリル樹脂(AC)の不揮発分50%溶液200部を得た。水酸基含有アクリル樹脂(AC)の酸価は23mgKOH/gであり、水酸基価は173mgKOH/gであった。また、水酸基含有アクリル樹脂(AC)についてGPC分析を行った結果、数平均分子量は5,000であった。
実施例1で得たシルセスキオキサン化合物(A1)の不揮発分50%溶液140部(固形分70部)及び「スミジュールN3300」(商品名、住化バイエルウレタン社製、ポリイソシアネート化合物、固形分100%)30部(固形分30部)を混合し、40℃で2分間攪拌して、混合溶液を得た。該混合溶液の相溶性を評価することにより、実施例1で得たシルセスキオキサン化合物(A1)とポリイソシアネート化合物との溶液状態における相溶性を評価した。評価は、目視にて相溶状態を観察し、下記の基準に従って行った。評価結果を表1に示した。
◎:濁り無く透明
○:わずかに白く濁りが認められるが、透明性はある(向こう側を透かして見える)
△:白く濁りが認められるが、透明性はある(向こう側を透かして見える)
×:白濁著しく、透明性なし(向こう側を透かして見えない)。
実施例9と同様にして、実施例2〜8及び比較例1〜4で得たシルセスキオキサン化合物(A2)〜(A12)のそれぞれについて、ポリイソシアネート化合物又はメラミン樹脂との溶液状態における相溶性を評価した。評価結果を表1に示した。
実施例17
実施例1で得たシルセスキオキサン化合物(A1)の不揮発分50%溶液140部(固形分70部)及び「スミジュールN3300」(商品名、住化バイエルウレタン社製、ポリイソシアネート化合物、固形分100%)30部(固形分30部)を混合して、塗料組成物(X1)を得た。
実施例17において、配合組成を下記表2に示す通りとする以外は、実施例17と同様にして、塗料組成物(X2)〜(X14)を得た。なお、表2における各成分の量は固形分質量である。
また、実施例17における硬化塗膜の作成方法と同様にして、ガラス板上又は中塗り板(注1)上に硬化塗膜を形成し、試験板を得た。得られた各試験板について、相溶性、硬化性、耐擦り傷性、耐汚染性及び耐候性を評価した。評価結果を表2に示す。なお、相溶性が不良だった塗料組成物については、他の試験は行わなかった。
ガラス板上の塗膜外観を目視で観察し、相溶性を次の評価基準により、調べた。
◎:濁り無く透明
○:わずかに白く濁りが認められるが、透明性はある(向こう側を透かして見える)
△:白く濁りが認められるが、透明性はある(向こう側を透かして見える)
×:白濁著しく、透明性なし(向こう側を透かして見えない)。
キシレンを含ませたガーゼで塗面を往復50回拭いたのち塗面を目視で観察し、塗膜の硬化の程度を、次の評価基準により、調べた。
○:塗面に変化がなく塗膜の硬化が十分である
△:塗面に傷が認められ塗膜の硬化が不十分である
×:塗膜表面がキシレンで溶解し塗膜の硬化が著しく不十分である。
各塗膜に市販のスチールウール(#0000)をこすりつけ、塗膜を目視で観察し下記の基準に従って評価した。
◎:傷、ワレ、剥がれが見えない
○:傷が僅かにあるが実用上問題が無い
△:傷が認められる
×:ワレ、剥がれ、著しい傷等が認められる。
得られた各試験板を、軒先をモデル化した設置台に、北側に塗膜を面するように取り付け、尼崎市神崎町の関西ペイント(株)屋上にて曝露試験を行い、耐汚染性を下記基準にて評価した。
曝露前後の色差(ΔE)をJIS Z8370に基づいて、スガ試験機(株)製の多光源分光測色計MSC−5Nを用いて測定した。
○:ΔEが3未満
△:ΔEが3以上かつ5未満
×:ΔEが5以上。
得られた各試験板についてサンシャインウェザーオメーターを用いて、1000時間試験を行った後に、塗膜を目視で観察し下記の基準に従って評価した。
◎:異常なし
○:フクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が僅かに認められるが実用上問題が無い
△:フクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が認められる
×:フクレ、変色、ツヤ変化、剥がれ等が著しく認められる。
Claims (11)
- ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、下記一般式(I)又は(II)で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物、
[式(II)中、R3は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示し、R4は水酸基を有する炭素数2〜10の炭化水素基を示す。]
ならびに、アミノ樹脂及びブロック化されていても良いポリイソシアネート化合物の少なくとも一方である架橋剤を含有することを特徴とする塗料組成物。 - 前記一般式(I)中のR 1 及び一般式(II)中のR 3 が、メチレン基、エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピレン基、1,2−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ヘキシレン基、デカニレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基及びキシリレン基から選ばれる基である請求項1に記載の塗料組成物。
- 前記一般式(I)中のR 2 及び一般式(II)中のR 4 が、炭素数2〜10のアルキル基の水素原子が水酸基で置換された基である請求項1又は2に記載の塗料組成物。
- 前記一般式(I)又は(II)で表される有機基が直接に結合したケイ素原子以外のケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、水素原子、炭素数1〜30の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、ビニル基を有する有機基、アミノ基を有する有機基、エポキシ基を有する有機基、又は(メタ)アクリロイル基を有する有機基である請求項1〜4のいずれか1項に記載の塗料組成物。
- 前記一般式(I)又は(II)で表される有機基が直接に結合したケイ素原子以外のケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも1つが、炭素数1〜20の炭化水素基である請求項5に記載の塗料組成物。
- 前記シルセスキオキサン化合物が、下記一般式(III)で表されるシルセスキオキサン化合物である請求項1〜6のいずれか1項に記載の塗料組成物。
(ASiO3/2)m(BSiO3/2)n (III)
[式(III)中、Aは前記一般式(I)又は(II)で表される有機基であり、Bは水素原子、炭素数1〜30の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、ビニル基を有する有機基、アミノ基を有する有機基、エポキシ基を有する有機基、又は(メタ)アクリロイル基を有する有機基であって、A、Bの各々は同一でも又は異なっていてもよい。mは1以上の整数、nは0以上の整数であり、かつm+nは4以上の整数である。] - 前記一般式(III)において、Bが、炭素数1〜20の炭化水素基である請求項7に記載の塗料組成物。
- 前記シルセスキオキサン化合物が、数平均分子量が500〜100,000であるシルセスキオキサン化合物である請求項1〜8のいずれか1項に記載の塗料組成物。
- 水酸基含有樹脂をさらに含有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の塗料組成物。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の塗料組成物を塗装して得られる塗膜を含む物品。
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