JP5664563B2 - Thermally conductive silicone composition and cured product thereof - Google Patents

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本発明は、特に熱伝導による電子部品の冷却のために、発熱性電子部品の熱境界面とヒートシンク又は回路基板等の放熱部材との界面に介在させる熱伝達材料として有用な熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物に関する。   The present invention relates to a thermally conductive silicone composition useful as a heat transfer material interposed at the interface between a heat boundary surface of a heat-generating electronic component and a heat-dissipating member such as a heat sink or a circuit board, particularly for cooling of the electronic component by heat conduction. Product and its cured product.

パーソナルコンピューター、デジタルビデオディスク、携帯電話等の電子機器に使用されるCPU、ドライバICやメモリー等のLSIチップは、高性能化・高速化・小型化・高集積化に伴い、それ自身が大量の熱を発生するようになり、その熱によるチップの温度上昇はチップの動作不良、破壊を引き起こす。そのため、動作中のチップの温度上昇を抑制するための多くの熱放散方法及びそれに使用する熱放散部材が提案されている。   LSI chips such as CPUs, driver ICs, and memories used in electronic devices such as personal computers, digital video disks, and mobile phones are becoming more and more themselves as performance, speed, size, and integration increase. Heat is generated, and the temperature rise of the chip due to the heat causes malfunction and destruction of the chip. Therefore, many heat dissipating methods for suppressing the temperature rise of the chip during operation and heat dissipating members used therefor have been proposed.

従来、電子機器等においては、動作中のチップの温度上昇を抑えるために、アルミニウムや銅等の熱伝導率の高い金属板を用いたヒートシンクが使用されている。このヒートシンクは、そのチップが発生する熱を伝導し、その熱を外気との温度差によって表面から放出する。   Conventionally, in an electronic device or the like, a heat sink using a metal plate having a high thermal conductivity such as aluminum or copper is used in order to suppress a temperature rise of a chip during operation. The heat sink conducts heat generated by the chip and releases the heat from the surface due to a temperature difference from the outside air.

チップから発生する熱をヒートシンクに効率よく伝えるために、ヒートシンクをチップに密着させる必要があるが、各チップの高さの違いや組み付け加工による公差があるため、柔軟性を有するシートや、グリースをチップとヒートシンクとの間に介装させ、このシート又はグリースを介してチップからヒートシンクへの熱伝導を実現している。
シートはグリースに比べ、取り扱い性に優れており、熱伝導性シリコーンゴム等で形成された熱伝導シート(熱伝導性シリコーンゴムシート)は様々な分野に用いられている。
In order to efficiently transfer the heat generated from the chip to the heat sink, it is necessary to closely attach the heat sink to the chip.However, because there is a difference in the height of each chip and tolerance due to assembly processing, a flexible sheet or grease is used. It is interposed between the chip and the heat sink, and heat conduction from the chip to the heat sink is realized through this sheet or grease.
Sheets are superior in handling properties compared to grease, and heat conductive sheets (heat conductive silicone rubber sheets) formed of heat conductive silicone rubber or the like are used in various fields.

特開昭47−32400号公報(特許文献1)には、シリコーンゴム等の合成ゴム100質量部に酸化ベリリウム、酸化アルミニウム、水和酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛から選ばれる少なくとも1種以上の金属酸化物を100〜800質量部配合した絶縁性組成物が開示されている。
また、絶縁性を必要としない場所に用いられる放熱材料として、特開昭56−100849号公報(特許文献2)には、付加硬化型シリコーンゴム組成物にシリカ及び銀、金、ケイ素等の熱伝導性粉末を60〜500質量部配合した組成物が開示されている。
In JP-A-47-32400 (Patent Document 1), at least one selected from beryllium oxide, aluminum oxide, hydrated aluminum oxide, magnesium oxide, and zinc oxide is added to 100 parts by mass of a synthetic rubber such as silicone rubber. An insulating composition containing 100 to 800 parts by mass of a metal oxide is disclosed.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-1009009 (Patent Document 2) discloses a heat-dissipating material used in a place that does not require insulation, and includes addition-curable silicone rubber compositions such as silica, silver, gold, and silicon. A composition containing 60 to 500 parts by mass of conductive powder is disclosed.

しかし、これらの熱伝導性材料は、いずれも熱伝導率が低く、また、熱伝導性を向上させるために熱伝導性充填材を多量に高充填すると、液状シリコーンゴム組成物の場合は流動性が低下し、ミラブルタイプのシリコーンゴム組成物の場合は可塑度が増加して、いずれも成形加工性が非常に悪くなるという問題があった。   However, all of these thermally conductive materials have low thermal conductivity, and when a large amount of thermally conductive filler is filled to improve thermal conductivity, liquid silicone rubber compositions have fluidity. In the case of a millable type silicone rubber composition, the plasticity increased, and there was a problem that all of the moldability became very poor.

そこで、これを解決する方法として、特開平1−69661号公報(特許文献3)には、平均粒径5μm以下のアルミナ粒子10〜30質量%と、残部が単一粒子の平均粒径10μm以上であり、かつカッティングエッジを有しない形状である球状コランダム粒子からなるアルミナを充填する高熱伝導性ゴム・プラスチック組成物が開示されている。また、特開平4−328163号公報(特許文献4)には、平均重合度6,000〜12,000のガム状のオルガノポリシロキサンと平均重合度200〜2,000のオイル状のオルガノポリシロキサンを併用したベースと球状酸化アルミニウム粉末500〜1,200質量部からなる熱伝導性シリコーンゴム組成物が開示されている。   Therefore, as a method for solving this, Japanese Patent Laid-Open No. 1-66961 (Patent Document 3) discloses that 10 to 30% by mass of alumina particles having an average particle size of 5 μm or less and the average particle size of 10 μm or more of the remaining single particles. And a highly thermally conductive rubber / plastic composition filled with alumina composed of spherical corundum particles having a shape having no cutting edge. JP-A-4-328163 (Patent Document 4) discloses a gum-like organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 6,000 to 12,000 and an oil-like organopolysiloxane having an average degree of polymerization of 200 to 2,000. A thermally conductive silicone rubber composition comprising a base combined with 500 and 1,200 parts by mass of spherical aluminum oxide powder is disclosed.

しかし、これらの方法を用いても、例えば酸化アルミニウム粉末を1,000質量部以上(酸化アルミニウムを70体積%以上)高充填化した場合、粒子の組み合わせ及びシリコーンベースの粘度調整だけでは成形加工性の向上に限界があった。   However, even when these methods are used, for example, when aluminum oxide powder is highly filled with 1,000 parts by mass or more (aluminum oxide is 70% by volume or more), molding processability can be achieved only by combining particles and adjusting the viscosity of the silicone base. There was a limit to improvement.

一方、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサ、CD−ROMドライブ等の電子機器の高集積化が進み、装置内のLSI,CPU等の集積回路素子の発熱量が増加したため、従来の冷却方法では不十分な場合がある。特に、携帯用のノート型のパーソナルコンピューターの場合、機器内部の空間が狭いため大きなヒートシンクや冷却ファンを取り付けることができない。更に、これらの機器では、プリント基板上に集積回路素子が搭載されており、基板の材質に熱伝導性の悪いガラス補強エポキシ樹脂やポリイミド樹脂が用いられるので、従来のように放熱絶縁シートを介して基板に熱を逃がすことができない。   On the other hand, as electronic devices such as personal computers, word processors, and CD-ROM drives have become highly integrated, the amount of heat generated by integrated circuit elements such as LSIs and CPUs in the apparatus has increased, so conventional cooling methods may not be sufficient. is there. In particular, in the case of a portable laptop personal computer, a large heat sink or cooling fan cannot be attached because the space inside the device is narrow. Furthermore, in these devices, an integrated circuit element is mounted on a printed circuit board, and glass reinforced epoxy resin or polyimide resin having poor thermal conductivity is used as the material of the circuit board. Heat cannot escape to the substrate.

そこで、集積回路素子の近傍に自然冷却タイプあるいは強制冷却タイプの放熱部品を設置し、素子で発生した熱を放熱部品に伝える方式が用いられる。この方式で素子と放熱部品を直接接触させると、表面の凹凸のため熱の伝わりが悪くなり、更に放熱絶縁シートを介して取り付けても放熱絶縁シートの柔軟性がやや劣るため、熱膨張により素子と基板との間に応力がかかり、破損するおそれがある。   Therefore, a system is used in which a natural cooling type or forced cooling type heat dissipating part is installed in the vicinity of the integrated circuit element and the heat generated in the element is transmitted to the heat dissipating part. If the element and the heat dissipation component are brought into direct contact with this method, the heat transfer will be worse due to the unevenness of the surface, and the heat dissipation insulation sheet will be slightly less flexible even if it is attached via a heat dissipation insulation sheet. There is a risk of stress being applied between the substrate and the substrate.

また、各回路素子に放熱部品を取り付けようとすると余分なスペースが必要となり、機器の小型化が難しくなるので、いくつかの素子をひとつの放熱部品に組み合わせて冷却する方式が採られることもある。
特にノート型のパーソナルコンピューターで用いられているBGAタイプのCPUは、高さが他の素子に比べて低く発熱量が大きいため、冷却方式を十分考慮する必要がある。
In addition, if a heat dissipation component is attached to each circuit element, an extra space is required, which makes it difficult to reduce the size of the device. Therefore, a cooling method may be adopted in which several elements are combined into one heat dissipation component. .
In particular, a BGA type CPU used in a notebook personal computer has a low height and a large amount of heat generation compared to other elements, and thus a cooling method must be sufficiently considered.

そこで、素子ごとに高さが異なることにより生じる種々の隙間を埋めることができる低硬度の高熱伝導性材が必要になる。このような課題に対して、熱伝導性に優れ、柔軟性があり、種々の隙間に対応できる熱伝導性シートが要望される。また、年々駆動周波数の高周波化に伴い、CPUの性能が向上して発熱量が増大するため、より高熱伝導性の材料が求められている。   Therefore, a low-hardness and high-heat conductive material that can fill various gaps caused by different heights for each element is required. There is a need for a thermal conductive sheet that is excellent in thermal conductivity, flexible, and can cope with various gaps. In addition, as the driving frequency is increased year by year, the CPU performance is improved and the amount of heat generation is increased. Therefore, a material having higher thermal conductivity is demanded.

この場合、特開平2−196453号公報(特許文献5)には、シリコーン樹脂に金属酸化物等の熱伝導性材料を混入したものを成形したシートで、取り扱いに必要な強度を持たせたシリコーン樹脂層の上に柔らかく変形し易いシリコーン層が積層されたシートが開示されている。また、特開平7−266356号公報(特許文献6)には、熱伝導性充填材を含有し、アスカーC硬度が5〜50であるシリコーンゴム層と直径0.3mm以上の孔を有する多孔性補強材層を組み合わせた熱伝導性複合シートが開示されている。特開平8−238707号公報(特許文献7)には、可とう性の三次元網状体又はフォーム体の骨格格子表面を熱伝導性シリコーンゴムで被覆したシートが開示されている。特開平9−1738号公報(特許文献8)には、補強性を有したシートあるいはクロスを内蔵し、少なくとも一方の面が粘着性を有してアスカーC硬度が5〜50である厚さ0.4mm以下の熱伝導性複合シリコーンシートが開示されている。特開平9−296114号公報(特許文献9)には、付加反応型液状シリコーンゴムと熱伝導性絶縁性セラミック粉末を含有し、その硬化物のアスカーC硬度が25以下で熱抵抗が3.0℃/W以下である放熱スペーサーが開示されている。   In this case, Japanese Patent Laid-Open No. 2-196453 (Patent Document 5) discloses a silicone sheet having a strength required for handling, which is a sheet formed by mixing a silicone resin with a heat conductive material such as a metal oxide. A sheet in which a soft and easily deformable silicone layer is laminated on a resin layer is disclosed. Japanese Patent Laid-Open No. 7-266356 (Patent Document 6) discloses a porous material containing a heat conductive filler and having a silicone rubber layer having an Asker C hardness of 5 to 50 and pores having a diameter of 0.3 mm or more. A thermally conductive composite sheet combining a reinforcing material layer is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-238707 (Patent Document 7) discloses a sheet in which the surface of a skeleton lattice of a flexible three-dimensional network or foam is covered with a heat conductive silicone rubber. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-1738 (Patent Document 8) has a thickness 0 in which a reinforcing sheet or cloth is incorporated, at least one surface is adhesive, and Asker C hardness is 5 to 50. A thermally conductive composite silicone sheet of 4 mm or less is disclosed. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-296114 (Patent Document 9) contains an addition reaction type liquid silicone rubber and a heat conductive insulating ceramic powder. The cured product has an Asker C hardness of 25 or less and a thermal resistance of 3.0. A heat dissipating spacer having a temperature of ℃ / W or less is disclosed.

これら熱伝導性シリコーン硬化物は、絶縁性も要求されることが多いため、熱伝導率が0.5〜6W/mKの範囲では、熱伝導性充填材として酸化アルミニウム(アルミナ)が主に用いられることが多い。一般的に、不定形のアルミナは球状のアルミナに比べ、熱伝導率を向上させる効果が高いが、シリコーンに対する充填性が悪く、充填により材料粘度が上昇し、加工性が悪くなるという欠点がある。また、アルミナは研磨剤に用いられるようにモース硬度が9と、非常に硬い。そのために、特に粒子径が10μm以上である不定形アルミナを用いた熱伝導性シリコーン組成物は、製造時にシェアがかかると、反応釜の内壁や撹拌羽を削ってしまうという問題があった。すると、熱伝導性シリコーン組成物に反応釜や撹拌羽の成分が混入し、熱伝導性シリコーン組成物、及びこれを用いた硬化物の絶縁性が低下する。また、反応釜と撹拌羽のクリアランスが広がり、撹拌効率が落ちてしまい、同条件で製造しても一定の品質が得られなくなる。またそれを防ぐためには部品を頻繁に交換する必要がある、というような問題があった。   Since these thermally conductive silicone cured products often require insulating properties, aluminum oxide (alumina) is mainly used as the thermally conductive filler in the range of thermal conductivity of 0.5 to 6 W / mK. It is often done. In general, amorphous alumina has a higher effect of improving thermal conductivity than spherical alumina, but has a drawback that the filling property to silicone is poor, the viscosity of the material is increased by filling, and the workability is deteriorated. . Alumina is very hard with a Mohs hardness of 9 as used in abrasives. Therefore, the heat conductive silicone composition using amorphous alumina having a particle diameter of 10 μm or more has a problem that the inner wall of the reaction kettle and the stirring blades are scraped off when the production takes a share. Then, the components of the reaction kettle and the stirring blade are mixed into the heat conductive silicone composition, and the insulation properties of the heat conductive silicone composition and the cured product using the same are lowered. In addition, the clearance between the reaction kettle and the stirring blade is widened, the stirring efficiency is lowered, and a certain quality cannot be obtained even if manufactured under the same conditions. In addition, in order to prevent this, there is a problem that parts must be frequently replaced.

この問題を解決するために、球状アルミナ粉のみを使用する方法もあるが、高熱伝導化のためには、不定形アルミナに比べ、大量に充填する必要があり、組成物の粘度が上昇し、加工性が悪化する。また、相対的に組成物及びその硬化物におけるシリコーンの存在量が減少するため、硬度が上昇してしまい、圧縮性に劣るものになる。更に、アルミナは理論比重が3.98と非常に重いので、大量にアルミナを充填した分、組成物及び硬化物の比重が上昇する。近年、電子機器の小型化、軽量化が進んでおり、電子機器全体の軽量化のためには部材単位で見るとグラム又はミリグラム単位で、性能を維持しながらより軽量なものが求められている。アルミナの大量充填は、軽量化の観点からも不利である。   In order to solve this problem, there is also a method using only spherical alumina powder, but in order to achieve high thermal conductivity, it is necessary to fill in a large amount compared to amorphous alumina, the viscosity of the composition increases, Workability deteriorates. Moreover, since the amount of silicone present in the composition and its cured product is relatively reduced, the hardness is increased and the compressibility is inferior. Furthermore, since alumina has a very high theoretical specific gravity of 3.98, the specific gravity of the composition and the cured product increases as much alumina is filled. In recent years, electronic devices have been reduced in size and weight, and in order to reduce the weight of the entire electronic device, there is a demand for lighter weight while maintaining performance in units of grams or milligrams in terms of members. . Mass filling of alumina is disadvantageous from the viewpoint of weight reduction.

特開昭47−32400号公報JP 47-32400 A 特開昭56−100849号公報JP-A-56-100849 特開平1−69661号公報JP-A-1-69661 特開平4−328163号公報JP-A-4-328163 特開平2−196453号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-196453 特開平7−266356号公報JP-A-7-266356 特開平8−238707号公報JP-A-8-238707 特開平9−1738号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-1738 特開平9−296114号公報JP-A-9-296114

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、圧縮性、絶縁性、熱伝導性、加工性に優れた、特に3.0W/mK以上の熱伝導率を有する、例えば電子機器内の発熱部品と放熱部品の間に設置されて放熱に用いられる熱伝導性樹脂成形体として好適に用いられる熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has excellent compressibility, insulation, thermal conductivity, and workability, and particularly has a thermal conductivity of 3.0 W / mK or more, for example, a heat generating component in an electronic device. An object of the present invention is to provide a thermally conductive silicone composition and a cured product thereof, which are preferably used as a thermally conductive resin molded body that is installed between a heat radiating component and used for heat dissipation.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、平均粒径が10〜30μmの不定形アルミナと、平均粒径が30〜85μmの球状アルミナとを特定割合で併用することで上記問題を解決することができることを見出した。即ち、平均粒径が10〜30μmの不定形アルミナを用いることで、効果的に熱伝導性を向上させることが可能であり、比重の増加が抑えられ、かつ、組成中のシリコーンの割合を増加させ、ゴム特性の発現を促進させることができる。また、不定形アルミナと同等もしくはそれ以上の平均粒径を有する球状アルミナを併用することにより、組成物の流動性が向上し、加工性が改善する。更に反応釜や撹拌羽の磨耗が抑えられ、絶縁性が向上する。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors use an amorphous alumina having an average particle diameter of 10 to 30 μm and a spherical alumina having an average particle diameter of 30 to 85 μm in combination at a specific ratio. And found that the above problem can be solved. That is, by using amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm, it is possible to effectively improve thermal conductivity, an increase in specific gravity is suppressed, and the proportion of silicone in the composition is increased. To promote the development of rubber properties. Further, by using a spherical alumina having an average particle size equal to or larger than that of the amorphous alumina, the fluidity of the composition is improved and the workability is improved. In addition, wear of the reaction kettle and stirring blade is suppressed, and insulation is improved.

つまり、不定形アルミナの欠点を球状アルミナが補い、球状アルミナの欠点を不定形アルミナが補うことで、圧縮性、絶縁性、熱伝導性、加工性に優れた、特に3.0W/mK以上の熱伝導率を有する熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物を与えることができることを見出し、本発明をなすに至った。   That is, spherical alumina compensates for the defects of amorphous alumina, and irregular alumina compensates for the defects of spherical alumina, so that it has excellent compressibility, insulation, thermal conductivity, and workability, particularly 3.0 W / mK or more. It has been found that a thermally conductive silicone composition having a thermal conductivity and a cured product can be provided, and has led to the present invention.

従って、本発明は下記の熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物を提供する。
〔1〕
(A)1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)ケイ素原子に直接結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:ケイ素原子に直接結合した水素原子のモル数が(A)成分由来のアルケニル基のモル数の0.1〜5.0倍となる量、
(C)熱伝導性充填材:1,200〜6,500質量部、
(D)白金族金属系硬化触媒:(A)成分に対して白金族金属元素質量換算で0.1〜2,000ppm
を含み、
(C)成分の熱伝導性充填材が、
(C−i)平均粒径10〜30μmである不定形アルミナを500〜1,500質量部、
(C−ii)平均粒径30〜85μmである球状アルミナを150〜4,000質量部、
(C−iii)平均粒径0.1〜6μmである絶縁性無機フィラー500〜2,000質量部
からなることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物。
〔2〕
更に、(F)成分として、
(F−1)下記一般式(1)
1 a2 bSi(OR34-a-b (1)
(式中、R1は独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、R2は独立に非置換又は置換の炭素原子数1〜12の1価炭化水素基であり、R3は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
で表されるアルコキシシラン化合物、及び
(F−2)下記一般式(2)

Figure 0005664563
(式中、R4は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100の整数である。)
で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
からなる群から選ばれる少なくとも1種:(A)成分100質量部に対し0.01〜300質量部を含有する〔1〕記載の熱伝導性シリコーン組成物。
〔3〕
更に、(G)成分として、下記一般式(3)
Figure 0005664563
(式中、R5は独立に炭素原子数1〜12の脂肪族不飽和結合を含まない1価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを(A)成分100質量部に対し0.1〜100質量部含有する〔1〕又は〔2〕に記載の熱伝導性シリコーン組成物。
〔4〕
23℃における粘度が800Pa・s以下である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の熱伝導性シリコーン組成物。
〔5〕
〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の熱伝導性シリコーン組成物を硬化させてなる熱伝導性シリコーン硬化物。
〔6〕
熱伝導率が3.0W/mK以上である〔5〕記載の熱伝導性シリコーン硬化物。
〔7〕
硬度がアスカーC硬度計で60以下である〔5〕又は〔6〕記載の熱伝導性シリコーン硬化物。
〔8〕
絶縁破壊電圧が10kV/mm以上である〔5〕〜〔7〕のいずれかに記載の熱伝導性シリコーン硬化物。 Accordingly, the present invention provides the following thermally conductive silicone composition and cured product thereof.
[1]
(A) Organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule: 100 parts by mass
(B) Organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms: The number of moles of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms is 0.1 to the number of moles of alkenyl groups derived from component (A). 5.0 times the amount,
(C) Thermally conductive filler: 1,200 to 6,500 parts by mass,
(D) Platinum group metal-based curing catalyst: 0.1 to 2,000 ppm in terms of platinum group metal element mass relative to component (A)
Including
The thermally conductive filler of component (C)
(Ci) 500 to 1,500 parts by mass of amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm,
(C-ii) 150 to 4,000 parts by mass of spherical alumina having an average particle size of 30 to 85 μm,
(C-iii) A thermally conductive silicone composition comprising 500 to 2,000 parts by mass of an insulating inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 6 μm.
[2]
Furthermore, as component (F),
(F-1) The following general formula (1)
R 1 a R 2 b Si (OR 3 ) 4-ab (1)
Wherein R 1 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 2 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)
And (F-2) the following general formula (2)
Figure 0005664563
(In the formula, R 4 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100.)
At least one selected from the group consisting of dimethylpolysiloxanes whose molecular chain fragment ends are blocked by trialkoxysilyl groups: 0.01 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of component (A) [ 1] The heat conductive silicone composition of description.
[3]
Further, as the component (G), the following general formula (3)
Figure 0005664563
(In the formula, R 5 is independently a monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond having 1 to 12 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
[1] or [2] containing 0.1-100 parts by mass of organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 10-100,000 mm 2 / s represented by the formula (A) with respect to 100 parts by mass of the component (A). Thermally conductive silicone composition.
[4]
The heat conductive silicone composition in any one of [1]-[3] whose viscosity in 23 degreeC is 800 Pa * s or less.
[5]
A thermally conductive silicone cured product obtained by curing the thermally conductive silicone composition according to any one of [1] to [4].
[6]
The thermally conductive silicone cured product according to [5], wherein the thermal conductivity is 3.0 W / mK or more.
[7]
The heat-conductive silicone cured product according to [5] or [6], wherein the hardness is 60 or less with an Asker C hardness meter.
[8]
The thermally conductive silicone cured product according to any one of [5] to [7], wherein the dielectric breakdown voltage is 10 kV / mm or more.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、平均粒径が10〜30μmの不定形アルミナと、平均粒径が30〜85μmの球状アルミナとを特定割合で併用することで、不定形アルミナの欠点を球状アルミナが補い、球状アルミナの欠点を不定形アルミナが補うことで、圧縮性、絶縁性、熱伝導性、加工性に優れた、特に3.0W/mK以上の熱伝導率を有する熱伝導性シリコーン硬化物を提供することができる。   The heat conductive silicone composition of the present invention has the disadvantage of amorphous alumina by using amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm and spherical alumina having an average particle size of 30 to 85 μm in a specific ratio. Spherical alumina compensates, and irregular alumina compensates for the disadvantages of spherical alumina, so it has excellent compressibility, insulation, thermal conductivity, and workability, especially thermal conductivity with a thermal conductivity of 3.0 W / mK or more. A silicone cured product can be provided.

本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、
(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、
(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、
(C)熱伝導性充填材、
(D)白金族金属系硬化触媒
を必須成分として含有する。
The thermally conductive silicone composition of the present invention is
(A) an alkenyl group-containing organopolysiloxane,
(B) organohydrogenpolysiloxane,
(C) a thermally conductive filler,
(D) A platinum group metal-based curing catalyst is contained as an essential component.

[アルケニル基含有オルガノポリシロキサン]
(A)成分であるアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有するオルガノポリシロキサンであり、本発明の熱伝導性シリコーン硬化物の主剤となるものである。通常は主鎖部分が基本的にジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなるのが一般的であるが、これは分子構造の一部に分枝状の構造を含んだものであってもよく、また環状体であってもよいが、硬化物の機械的強度等、物性の点から直鎖状のジオルガノポリシロキサンが好ましい。
[Alkenyl group-containing organopolysiloxane]
The alkenyl group-containing organopolysiloxane as component (A) is an organopolysiloxane having two or more alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule, and becomes the main component of the thermally conductive silicone cured product of the present invention. It is. Usually, the main chain part is generally composed of repeating diorganosiloxane units, but this may be a part of the molecular structure containing a branched structure or cyclic. However, linear diorganopolysiloxane is preferred from the viewpoint of physical properties such as mechanical strength of the cured product.

ケイ素原子に結合するアルケニル基以外の官能基としては、非置換又は置換の1価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基に炭素原子が結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等が挙げられ、代表的なものは炭素原子数が1〜10、特に代表的なものは炭素原子数が1〜6のものであり、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換又は置換のアルキル基、及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基である。また、ケイ素原子に結合したアルケニル基以外の官能基は全てが同一であることに限定するものではない。   The functional group other than the alkenyl group bonded to the silicon atom is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl. Group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and other alkyl groups, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and other cycloalkyl groups, phenyl group, tolyl group Aryl groups such as xylyl group, naphthyl group, biphenylyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, methylbenzyl group, and part of hydrogen atoms having carbon atoms bonded to these groups Or a group in which all or a halogen atom such as fluorine, chlorine or bromine, a cyano group or the like is substituted, eg For example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5, 6,6,6-nonafluorohexyl group and the like are mentioned, typical ones having 1 to 10 carbon atoms, particularly typical ones having 1 to 6 carbon atoms, preferably methyl group An unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, and phenyl group, chlorophenyl group , An unsubstituted or substituted phenyl group such as a fluorophenyl group. Further, the functional groups other than the alkenyl group bonded to the silicon atom are not limited to being the same.

また、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等の通常炭素原子数が2〜8程度のものが挙げられ、中でもビニル基、アリル基等の低級アルケニル基が好ましく、特に好ましくはビニル基である。なお、アルケニル基は、分子中に2個以上存在することが好ましいが、得られる硬化物の柔軟性がよいものとするため、分子鎖末端のケイ素原子にのみ結合して存在することが好ましい。   Examples of the alkenyl group include those having usually about 2 to 8 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, cyclohexenyl group, etc. And lower alkenyl groups such as an allyl group are preferable, and a vinyl group is particularly preferable. In addition, although it is preferable that two or more alkenyl groups exist in the molecule, it is preferable that the alkenyl group is bonded only to the silicon atom at the end of the molecular chain in order to make the obtained cured product flexible.

このオルガノポリシロキサンの23℃における動粘度は、通常、10〜100,000mm2/s、特に好ましくは500〜50,000mm2/sの範囲である。前記粘度が低すぎると、得られる組成物の保存安定性が悪くなり、また高すぎると得られる組成物の伸展性が悪くなる場合がある。なお、動粘度はオストワルド粘度計を用いた場合の値である(以下、同じ)。 Kinematic viscosity at 23 ° C. This organopolysiloxane is usually, 10~100,000mm 2 / s, particularly preferably from 500~50,000mm 2 / s. If the viscosity is too low, the storage stability of the resulting composition will be poor, and if it is too high, the extensibility of the resulting composition may be poor. The kinematic viscosity is a value when an Ostwald viscometer is used (hereinafter the same).

この(A)成分のオルガノポリシロキサンは、1種単独でも、粘度が異なる2種以上を組み合わせて用いてもよい。   This organopolysiloxane of component (A) may be used alone or in combination of two or more having different viscosities.

[オルガノハイドロジェンポリシロキサン]
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、1分子中に平均で2個以上、好ましくは2〜100個のケイ素原子に直接結合する水素原子(Si−H基)を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンであり、(A)成分の架橋剤として作用する成分である。即ち、(B)成分中のSi−H基と(A)成分中のアルケニル基とが、後述する(D)成分の白金族金属系硬化触媒により促進されるヒドロシリル化反応により付加して、架橋構造を有する3次元網目構造を与える。なお、Si−H基の数が2個未満の場合、硬化しない。
[Organohydrogenpolysiloxane]
The organohydrogenpolysiloxane of component (B) is an organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom (Si-H group) directly bonded to 2 or more, preferably 2 to 100 silicon atoms on average in one molecule. It is a component that acts as a crosslinking agent for component (A). That is, the Si—H group in the component (B) and the alkenyl group in the component (A) are added by a hydrosilylation reaction promoted by the platinum group metal-based curing catalyst of the component (D) described later, and crosslinked. A three-dimensional network structure having a structure is given. In addition, when the number of Si-H groups is less than 2, it does not harden.

オルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、下記平均構造式(4)で示されるものが用いられるが、これに限定されるものではない。

Figure 0005664563
(式中、R6は独立に水素原子又は脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基であるが、少なくとも2個、好ましくは2〜10個は水素原子であり、eは1以上の整数、好ましくは10〜200の整数である。) As the organohydrogenpolysiloxane, one represented by the following average structural formula (4) is used, but is not limited thereto.
Figure 0005664563
Wherein R 6 is independently a hydrogen atom or an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond, but at least 2, preferably 2 to 10 are hydrogen atoms, e is an integer of 1 or more, preferably an integer of 10 to 200.)

式(4)中、R6の水素原子以外の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子が結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等が挙げられ、代表的なものは炭素原子数が1〜10、特に代表的なものは炭素原子数が1〜6のものであり、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換又は置換のアルキル基、及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基である。また、R6は全てが同一であることを限定するものではない。 In the formula (4), examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond other than the hydrogen atom of R 6 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group. , Alkyl groups such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, cycloalkyl such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc. Group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, biphenylyl group and other aryl groups, benzyl group, phenylethyl group, phenylpropyl group, methylbenzyl group and other aralkyl groups, and carbon atoms of these groups are bonded. Some or all of the hydrogen atoms are substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, cyano groups, etc. Groups such as chloromethyl, 2-bromoethyl, 3-chloropropyl, 3,3,3-trifluoropropyl, chlorophenyl, fluorophenyl, cyanoethyl, 3,3,4,4,5 5,6,6,6-nonafluorohexyl group and the like, typical examples having 1 to 10 carbon atoms, especially typical ones having 1 to 6 carbon atoms, preferably An unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, cyanoethyl group, and phenyl group; An unsubstituted or substituted phenyl group such as a chlorophenyl group and a fluorophenyl group. Further, R 6 is not limited to being all the same.

(B)成分の添加量は、(B)成分由来のSi−H基が(A)成分由来のアルケニル基1モルに対して0.1〜5.0モルとなる量、好ましくは0.3〜2.0モルとなる量、更に好ましくは0.5〜1.0モルとなる量である。(B)成分由来のSi−H基の量が(A)成分由来のアルケニル基1モルに対して0.1モル未満であると硬化しない、又は硬化物の強度が不十分で成形体としての形状を保持できず取り扱えない場合がある。また5.0モルを超えると硬化物の柔軟性がなくなり、硬化物が脆くなる。   Component (B) is added in an amount such that the Si-H group derived from component (B) is 0.1 to 5.0 moles per mole of alkenyl group derived from component (A), preferably 0.3. The amount is -2.0 mol, more preferably 0.5-1.0 mol. When the amount of the Si-H group derived from the component (B) is less than 0.1 mol relative to 1 mol of the alkenyl group derived from the component (A), the cured product does not have sufficient strength or the molded product has insufficient strength. The shape may not be retained and may not be handled. On the other hand, if it exceeds 5.0 mol, the cured product becomes inflexible and the cured product becomes brittle.

[熱伝導性充填材]
(C)成分である熱伝導性充填材は、主にアルミナを含有するもので、下記(C−i)〜(C−iii)成分からなるものである。
(C−i)平均粒径10〜30μmである不定形アルミナ、
(C−ii)平均粒径30〜85μmである球状アルミナ、
(C−iii)平均粒径0.1〜6μmである絶縁性無機フィラー
なお、本発明において、上記平均粒径は、日機装(株)製の粒度分析計であるマイクロトラックMT3300EXにより測定した体積基準の累積平均粒径(メディアン径)の値である。
[Thermal conductive filler]
The thermally conductive filler as the component (C) mainly contains alumina and is composed of the following components (Ci) to (C-iii).
(Ci) amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm,
(C-ii) spherical alumina having an average particle size of 30 to 85 μm,
(C-iii) Insulating inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 6 μm In the present invention, the average particle size is a volume standard measured by Microtrac MT3300EX, which is a particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. Is the value of the cumulative average particle diameter (median diameter).

(C−i)成分の不定形アルミナは、熱伝導率を優位に向上させることができる。不定形アルミナの平均粒径は10〜30μmであり、15〜25μmであることが好ましい。平均粒径が10μm未満であると、熱伝導性を向上させる効果が低くなり、また、組成物粘度が上昇し、加工性が悪くなる。また、平均粒径が30μmより大きいと、反応釜や撹拌羽の磨耗が顕著となり、組成物の絶縁性が低下する。(C−i)成分の不定形アルミナとしては1種又は2種以上を複合して用いてもよい。なお、不定形アルミナは、通常の市販品を使用することができる。   The amorphous alumina as the component (Ci) can improve the thermal conductivity. The average particle size of the amorphous alumina is 10 to 30 μm, and preferably 15 to 25 μm. When the average particle size is less than 10 μm, the effect of improving the thermal conductivity is lowered, the composition viscosity is increased, and the processability is deteriorated. On the other hand, if the average particle size is larger than 30 μm, the reaction kettle and the stirring blade are significantly worn, and the insulation of the composition is lowered. As the amorphous alumina of component (Ci), one type or two or more types may be used in combination. As the amorphous alumina, a normal commercial product can be used.

(C−ii)成分の球状アルミナは、組成物の熱伝導率を向上させるとともに、不定形アルミナと反応釜や撹拌羽の接触を抑制し、磨耗を抑えるバリア効果を提供する。平均粒径は30〜85μmであり、40〜80μmであることが好ましい。平均粒径が30μm未満であると、バリア効果が低下し、不定形粒子による反応釜や撹拌羽の磨耗が顕著となる。一方で平均粒径が85μmより大きい場合、組成物においてアルミナが沈降しやすくなり、組成物の均一性を損なってしまう。(C−ii)成分の球状アルミナとしては1種又は2種以上を複合して用いてもよい。なお、球状アルミナは、通常の市販品を使用することができる。   The spherical alumina as the component (C-ii) improves the thermal conductivity of the composition, and suppresses the contact between the amorphous alumina, the reaction kettle and the stirring blade, and provides a barrier effect to suppress wear. The average particle size is 30 to 85 μm, preferably 40 to 80 μm. When the average particle size is less than 30 μm, the barrier effect is lowered, and wear of the reaction kettle and stirring blade due to the irregular shaped particles becomes remarkable. On the other hand, when the average particle size is larger than 85 μm, alumina tends to settle in the composition, and the uniformity of the composition is impaired. As the spherical alumina as the component (C-ii), one kind or a combination of two or more kinds may be used. In addition, a normal commercial item can be used for spherical alumina.

(C−iii)成分の絶縁性無機フィラーは、組成物の熱伝導率を向上させる役割も担うが、その主な役割は組成物の粘度調整、沈降防止、滑らかさ向上、充填性向上である。また、着色、難燃性の向上、強度の向上、圧縮永久歪の向上などの役割も担う。組成物の絶縁性を確保するため、フィラーは絶縁性を有する必要がある。(C−iii)成分の平均粒径は0.1〜6μmであり、0.5〜4μmであることが、上記した特性発現のためにより好ましい。平均粒径が0.1μm未満であると、組成物の粘度が顕著に大きくなり、成形性が大きく損なわれる。また、平均粒径が6μmより大きいと、組成物の滑らかさが損なわれ、またフィラーの沈降が急速に進行するため、成形体の熱伝導性及び組成物の成形性が損なわれる。   The insulating inorganic filler of component (C-iii) also plays a role of improving the thermal conductivity of the composition, and its main roles are viscosity adjustment of the composition, prevention of sedimentation, improvement of smoothness, and improvement of filling properties. . It also plays roles such as coloring, improving flame retardancy, improving strength, and improving compression set. In order to ensure insulation of the composition, the filler needs to have insulation. (C-iii) The average particle diameter of a component is 0.1-6 micrometers, and it is more preferable for it to be 0.5-4 micrometers because of the above-mentioned characteristic expression. When the average particle size is less than 0.1 μm, the viscosity of the composition is remarkably increased, and the moldability is greatly impaired. On the other hand, if the average particle size is larger than 6 μm, the smoothness of the composition is impaired, and the sedimentation of the filler proceeds rapidly, so that the thermal conductivity of the molded body and the moldability of the composition are impaired.

(C−iii)成分の絶縁性無機フィラーとしては、例えば、上記(C−i)、(C−ii)成分以外のアルミナ、シリカ、マグネシア、ベンガラ、ベリリア、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化硼素等の金属窒化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、人工ダイヤモンドなどを用いることができ、これらの形状は球状であっても不定形であってもよく、更にこれらの1種又は2種以上を複合して用いてもよい。なお、絶縁性無機フィラーは、通常の市販品を使用することができる。   Examples of the insulating inorganic filler of the component (C-iii) include metal oxides such as alumina, silica, magnesia, bengara, beryllia, titania, zirconia other than the components (C-i) and (C-ii), Metal nitrides such as aluminum nitride, silicon nitride, and boron nitride, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, artificial diamond, and the like can be used, and these shapes are irregular even if spherical. Further, one or more of these may be used in combination. In addition, a normal commercial item can be used for an insulating inorganic filler.

(C−i)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して500〜1,500質量部であり、好ましくは700〜1,200質量部である。少なすぎると熱伝導率の向上が困難であり、多すぎると組成物の流動性が失われ、成形性が損なわれる。また、反応釜や撹拌羽の磨耗が顕著となり、組成物の絶縁性が低下する。   (Ci) The compounding quantity of a component is 500-1,500 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 700-1,200 mass parts. If the amount is too small, it is difficult to improve the thermal conductivity. If the amount is too large, the fluidity of the composition is lost and the moldability is impaired. In addition, wear of the reaction kettle and stirring blade becomes remarkable, and the insulation of the composition is lowered.

(C−ii)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して150〜4,000質量部であり、好ましくは200〜3,000質量部である。少なすぎると熱伝導率の向上が困難であり、多すぎると組成物の流動性が失われ、成形性が損なわれる。   (C-ii) The compounding quantity of a component is 150-4,000 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 200-3,000 mass parts. If the amount is too small, it is difficult to improve the thermal conductivity. If the amount is too large, the fluidity of the composition is lost and the moldability is impaired.

(C−iii)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して500〜2,000質量部であり、好ましくは600〜1,800質量部である。少なすぎると成物の滑らかさが損なわれ、またフィラーの沈降が急速に進行するため、成形体の熱伝導性及び組成物の成形性が損なわれる。多すぎると組成物の粘度が顕著に大きくなり、成形性が大きく損なわれる。   (C-iii) The compounding quantity of a component is 500-2,000 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 600-1,800 mass parts. If the amount is too small, the smoothness of the composition is impaired, and the sedimentation of the filler proceeds rapidly, so that the thermal conductivity of the molded body and the moldability of the composition are impaired. When the amount is too large, the viscosity of the composition is remarkably increased, and the moldability is greatly impaired.

更に、(C)成分の配合量(即ち、上記(C−i)〜(C−iii)成分の合計配合量)は、(A)成分100質量部に対して1,200〜6,500質量部であることが必要であり、好ましくは1,500〜5,500質量部である。この配合量が1,200質量部未満の場合には、得られる組成物の熱伝導率が悪い上、組成物粘度が極めて低粘度となり、保存安定性が乏しいものとなり、6,500質量部を超える場合には、組成物の伸展性が乏しく、硬度が高く、また強度が弱い成形物となる。
上記配合割合で(C)成分を用いることで、上記した本発明の効果がより有利にかつ確実に達成できる。
Furthermore, the blending amount of the component (C) (that is, the total blending amount of the components (Ci) to (C-iii)) is 1,200 to 6,500 masses per 100 parts by mass of the component (A). Part, preferably 1,500 to 5,500 parts by mass. When the blending amount is less than 1,200 parts by mass, the resulting composition has poor thermal conductivity, the composition viscosity becomes extremely low, and the storage stability becomes poor, and 6,500 parts by mass. When exceeding, the extensibility of a composition is scarce, and it becomes a molding with high hardness and weak intensity | strength.
By using the component (C) at the above blending ratio, the above-described effects of the present invention can be achieved more advantageously and reliably.

[白金族金属系硬化触媒]
(D)成分の白金族金属系硬化触媒は、(A)成分由来のアルケニル基と、(B)成分由来のSi−H基の付加反応を促進するための触媒であり、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として周知の触媒が挙げられる。その具体例としては、例えば、白金(白金黒を含む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体、H2PtCl4・nH2O、H2PtCl6・nH2O、NaHPtCl6・nH2O、KaHPtCl6・nH2O、Na2PtCl6・nH2O、K2PtCl4・nH2O、PtCl4・nH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・nH2O(但し、式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0又は6である。)等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩、アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明細書参照)、塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス(米国特許第3,159,601号明細書、同第3,159,662号明細書、同第3,775,452号明細書参照)、白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの、ロジウム−オレフィンコンプレックス、クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒)、塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンとのコンプレックス等が挙げられる。
[Platinum group metal curing catalyst]
The (D) component platinum group metal-based curing catalyst is a catalyst for accelerating the addition reaction of the (A) component-derived alkenyl group and the (B) component-derived Si—H group, and is used for the hydrosilylation reaction. Well-known catalysts are mentioned as the catalyst to be used. Specific examples thereof include platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium and palladium, H 2 PtCl 4 · nH 2 O, H 2 PtCl 6 · nH 2 O, NaHPtCl 6 · nH 2 O. , KaHPtCl 6 · nH 2 O, Na 2 PtCl 6 · nH 2 O, K 2 PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · nH 2 O (where, n is an integer of 0 to 6, preferably 0 or 6.) Chlorine chloroplatinic acid and chloroplatinic acid salt, alcohol-modified chloroplatinic acid (US Pat. No. 3,220,972) ), Complex of chloroplatinic acid and olefin (see US Pat. Nos. 3,159,601, 3,159,662, and 3,775,452), platinum black Platinum group gold such as palladium Genus supported on a support such as alumina, silica, carbon, rhodium-olefin complex, chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson catalyst), platinum chloride, chloroplatinic acid or chloroplatinate and vinyl group-containing siloxane In particular, a complex with a vinyl group-containing cyclic siloxane may be mentioned.

(D)成分の使用量は、(A)成分に対する白金族金属元素の質量換算で0.1〜2,000ppmであり、好ましくは50〜1,000ppmである。   (D) The usage-amount of a component is 0.1-2,000 ppm in conversion of the mass of the platinum group metal element with respect to (A) component, Preferably it is 50-1,000 ppm.

[反応制御剤]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物には、更に(E)成分として付加反応制御剤を使用することができる。付加反応制御剤は、通常の付加反応硬化型シリコーン組成物に用いられる公知の付加反応制御剤を全て用いることができる。例えば、1−エチニル−1−ヘキサノール、3−ブチン−1−オール、エチニルメチリデンカルビノール等のアセチレン化合物や各種窒素化合物、有機リン化合物、オキシム化合物、有機クロロ化合物等が挙げられる。
(E)成分を配合する場合の使用量としては、(A)成分100質量部に対して0.01〜1質量部、特に0.1〜0.8質量部程度が望ましい。配合量が多すぎると硬化反応が進まず、成形効率が損なわれる場合がある。
[Reaction control agent]
In the thermally conductive silicone composition of the present invention, an addition reaction control agent can be further used as the component (E). As the addition reaction control agent, all known addition reaction control agents used in ordinary addition reaction curable silicone compositions can be used. Examples thereof include acetylene compounds such as 1-ethynyl-1-hexanol, 3-butyn-1-ol, and ethynylmethylidenecarbinol, various nitrogen compounds, organic phosphorus compounds, oxime compounds, and organic chloro compounds.
(E) As a usage-amount in the case of mix | blending a component, 0.01-1 mass part with respect to 100 mass parts of (A) component, Especially about 0.1-0.8 mass part is desirable. If the amount is too large, the curing reaction may not proceed and the molding efficiency may be impaired.

[表面処理剤]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物には、組成物調製時に(C)成分である熱伝導性充填材を疎水化処理し、(A)成分であるオルガノポリシロキサンとの濡れ性を向上させ、(C)成分である熱伝導性充填材を(A)成分からなるマトリックス中に均一に分散させることを目的として、(F)成分の表面処理剤を配合することができる。該(F)成分としては、特に下記に示す(F−1)成分及び(F−2)成分が好ましい。
[Surface treatment agent]
In the thermally conductive silicone composition of the present invention, the thermally conductive filler as component (C) is hydrophobized during composition preparation to improve wettability with organopolysiloxane as component (A), For the purpose of uniformly dispersing the thermally conductive filler as the component (C) in the matrix composed of the component (A), a surface treatment agent as the component (F) can be blended. As the component (F), the following components (F-1) and (F-2) are particularly preferable.

(F−1)成分は、下記一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物である。
1 a2 bSi(OR34-a-b (1)
(式中、R1は独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、R2は独立に非置換又は置換の炭素原子数1〜12の1価炭化水素基であり、R3は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
The component (F-1) is an alkoxysilane compound represented by the following general formula (1).
R 1 a R 2 b Si (OR 3 ) 4-ab (1)
Wherein R 1 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 2 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)

上記一般式(1)において、R1で表されるアルキル基としては、例えば、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基等が挙げられる。このR1で表されるアルキル基の炭素原子数が6〜15の範囲を満たすと(A)成分の濡れ性が十分に向上し、取り扱い性がよく、組成物の低温特性が良好なものとなる。
2で表される非置換又は置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子が結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等が挙げられ、代表的なものは炭素原子数が1〜10、特に代表的なものは炭素原子数が1〜6のものであり、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換又は置換のアルキル基、及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基が挙げられる。R3としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
In the general formula (1), examples of the alkyl group represented by R 1 include a hexyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, a dodecyl group, and a tetradecyl group. When the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 1 satisfies the range of 6 to 15, the wettability of the component (A) is sufficiently improved, the handleability is good, and the low temperature characteristics of the composition are good. Become.
Examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a neopentyl group, Hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl and other alkyl groups, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and other cycloalkyl groups, phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, biphenylyl Aryl groups such as benzyl groups, aralkyl groups such as benzyl groups, phenylethyl groups, phenylpropyl groups, and methylbenzyl groups, and some or all of the hydrogen atoms to which the carbon atoms of these groups are bonded are fluorine, chlorine, Groups substituted with halogen atoms such as bromine, cyano groups, etc., for example, chloromethyl group, 2-bromoethyl 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group Typical examples are those having 1 to 10 carbon atoms, particularly typical ones having 1 to 6 carbon atoms, preferably methyl, ethyl, propyl, chloromethyl groups. , Unsubstituted or substituted alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms such as bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and cyanoethyl group, and unsubstituted or substituted phenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, etc. Of the phenyl group. Examples of R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a hexyl group.

(F−2)成分は、下記一般式(2)で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサンである。

Figure 0005664563
(式中、R4は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100、好ましくは5〜70、特に好ましくは10〜50の整数である。) The component (F-2) is dimethylpolysiloxane in which a molecular chain fragment end represented by the following general formula (2) is blocked with a trialkoxysilyl group.
Figure 0005664563
(In the formula, R 4 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100, preferably 5 to 70, and particularly preferably 10 to 50.)

上記一般式(2)において、R4で表されるアルキル基としては、上記一般式(1)中のR3で表されるアルキル基と同様のものが例示できる。 In the general formula (2), examples of the alkyl group represented by R 4 include the same alkyl groups represented by R 3 in the general formula (1).

(F)成分の表面処理剤としては、(F−1)成分と(F−2)成分のいずれか一方でも両者を組み合わせて配合しても差し支えない。
(F)成分を配合する場合の配合量としては、(A)成分100質量部に対して0.01〜300質量部、特に0.1〜200質量部であることが好ましい。本成分の割合が多くなるとオイル分離を誘発する可能性がある。
As the surface treatment agent for the component (F), either the component (F-1) or the component (F-2) may be combined in combination.
(F) As a compounding quantity in the case of mix | blending a component, it is preferable that it is 0.01-300 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, especially 0.1-200 mass parts. Increasing the proportion of this component can induce oil separation.

[オルガノポリシロキサン]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物には、熱伝導性シリコーン組成物の粘度調整等の特性付与を目的として、(G)成分として、下記一般式(3)

Figure 0005664563
(式中、R5は独立に炭素原子数1〜12の脂肪族不飽和結合を含まない1価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを添加することができる。(G)成分は、1種単独で用いても、2種以上を併用してもよい。 [Organopolysiloxane]
The thermal conductive silicone composition of the present invention has the following general formula (3) as the component (G) for the purpose of imparting properties such as viscosity adjustment of the thermal conductive silicone composition.
Figure 0005664563
(In the formula, R 5 is independently a monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond having 1 to 12 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
It is possible to add an organopolysiloxane having a kinematic viscosity at 23 ° C. of 10 to 100,000 mm 2 / s. (G) A component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

上記一般式(3)において、R5は独立に非置換又は置換の炭素原子数1〜12の脂肪族不飽和結合を含まない1価炭化水素基である。R5としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニリル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、並びにこれらの基の炭素原子が結合している水素原子の一部又は全部が、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換された基、例えば、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等が挙げられ、代表的なものは炭素原子数が1〜10、特に代表的なものは炭素原子数が1〜6のものであり、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、クロロメチル基、ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等の炭素原子数1〜3の非置換又は置換のアルキル基、及びフェニル基、クロロフェニル基、フルオロフェニル基等の非置換又は置換のフェニル基が挙げられるが、特にメチル基、フェニル基が好ましい。
上記dは要求される粘度の観点から、好ましくは5〜2,000の整数で、特に好ましくは10〜1,000の整数である。
In the above general formula (3), R 5 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no C1-C12 aliphatic unsaturated bond. Examples of R 5 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group. Alkyl groups such as dodecyl group, cycloalkyl groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group and cycloheptyl group, aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and biphenylyl group, benzyl group, phenylethyl group, phenylpropylene Groups in which some or all of the hydrogen atoms to which the carbon atoms of these groups are bonded are substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, cyano groups, etc. For example, chloromethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-to Fluoropropyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, cyanoethyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, etc. are mentioned. 1 to 10, especially typical ones having 1 to 6 carbon atoms, preferably methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group , An unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a cyanoethyl group, and an unsubstituted or substituted phenyl group such as a phenyl group, a chlorophenyl group, and a fluorophenyl group. Is preferred.
From the viewpoint of the required viscosity, d is preferably an integer of 5 to 2,000, and particularly preferably an integer of 10 to 1,000.

また、(G)成分の23℃における動粘度は、好ましくは10〜100,000mm2/sであり、特に100〜10,000mm2/sであることが好ましい。該動粘度が10mm2/sより低いと、得られる組成物の硬化物がオイルブリードを発生し易くなる。該動粘度が100,000mm2/sよりも大きいと、得られる熱伝導性シリコーン組成物の柔軟性が乏しくなり易い。 Moreover, kinematic viscosity at 23 ° C. of component (G) is preferably 10~100,000mm 2 / s, it is preferable in particular 100~10,000mm 2 / s. When the kinematic viscosity is lower than 10 mm 2 / s, the cured product of the resulting composition tends to generate oil bleeding. If the kinematic viscosity is greater than 100,000 mm 2 / s, the flexibility of the resulting heat conductive silicone composition tends to be poor.

(G)成分を本発明の熱伝導性シリコーン組成物に添加する場合、その添加量は特に限定されず、所望の効果が得られる量であればよいが、(A)成分100質量部に対して、好ましくは0.1〜100質量部、より好ましくは1〜50質量部である。該添加量がこの範囲にあると、硬化前の熱伝導性シリコーン組成物に良好な流動性、作業性を維持し易く、また(C)成分の熱伝導性充填材を該組成物に充填するのが容易である。   (G) When adding a component to the heat conductive silicone composition of this invention, the addition amount is not specifically limited, What is necessary is just the quantity from which a desired effect is acquired, (A) With respect to 100 mass parts of component The amount is preferably 0.1 to 100 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass. When the addition amount is within this range, it is easy to maintain good fluidity and workability in the thermally conductive silicone composition before curing, and the composition is filled with the thermally conductive filler of component (C). Easy to do.

[その他の成分]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物には、本発明の目的及び作用効果を損なわない範囲で、更に他の成分を配合しても差し支えない。例えば、酸化鉄、酸化セリウム等の耐熱性向上剤;シリカ等の粘度調整剤;着色剤;離型剤等の任意成分を配合することができる。
[Other ingredients]
The heat conductive silicone composition of the present invention may further contain other components as long as the objects and effects of the present invention are not impaired. For example, optional components such as a heat resistance improver such as iron oxide and cerium oxide; a viscosity modifier such as silica; a colorant; and a release agent can be blended.

[熱伝導性シリコーン組成物の調製]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物は、上述した各成分を常法に準じて均一に混合することにより調製することができる。
[Preparation of thermally conductive silicone composition]
The heat conductive silicone composition of this invention can be prepared by mixing each component mentioned above uniformly according to a conventional method.

[組成物の粘度]
本発明の熱伝導性シリコーン組成物の粘度は、23℃において800Pa・s以下、好ましくは700Pa・s以下である。粘度が高すぎると成形性が損なわれる場合がある。なお、本発明において、この粘度はB型粘度計による測定に基づく。
[Viscosity of composition]
The viscosity of the heat conductive silicone composition of the present invention is 800 Pa · s or less, preferably 700 Pa · s or less at 23 ° C. If the viscosity is too high, moldability may be impaired. In the present invention, this viscosity is based on measurement with a B-type viscometer.

[熱伝導性シリコーン硬化物の製造方法]
熱伝導性シリコーン組成物を成形する硬化条件としては、公知の付加反応硬化型シリコーンゴム組成物と同様でよく、例えば、常温でも十分硬化するが、必要に応じて加熱してもよい。好ましくは100〜120℃で8〜12分で付加硬化させるのがよい。このような本発明のシリコーン硬化物は熱伝導性に優れる。
[Method for producing thermally conductive silicone cured product]
The curing conditions for molding the thermally conductive silicone composition may be the same as those of a known addition reaction curable silicone rubber composition. For example, it is sufficiently cured at room temperature, but may be heated as necessary. Preferably, the addition curing is performed at 100 to 120 ° C. for 8 to 12 minutes. Such a cured silicone of the present invention is excellent in thermal conductivity.

[成形体の熱伝導率]
本発明における成形体(熱伝導性シリコーン硬化物)の熱伝導率は、ホットディスク法により測定した25℃における測定値が3.0W/mK以上、特に4.0W/mK以上であることが望ましい。熱伝導率が3.0W/mK未満であると、発熱量の大きい発熱体への適用が不可となることがある。なお、このような熱伝導率は、熱伝導性充填材の種類や粒径の組み合わせを調整することにより、調整することができる。
[Thermal conductivity of molded body]
As for the thermal conductivity of the molded product (heat conductive silicone cured product) in the present invention, the measured value at 25 ° C. measured by the hot disk method is preferably 3.0 W / mK or more, particularly 4.0 W / mK or more. . If the thermal conductivity is less than 3.0 W / mK, application to a heating element having a large calorific value may be impossible. Note that such thermal conductivity can be adjusted by adjusting the combination of the type and particle size of the thermally conductive filler.

[成形体の絶縁破壊電圧]
本発明における成形体の絶縁破壊電圧は、1mm厚の成形体の絶縁破壊電圧をJIS K 6249に準拠して測定したときの測定値が、10kV以上、より好ましくは13kV以上であることが好ましい。絶縁破壊電圧が10kV/mm以下のシートの場合、使用時に安定的に絶縁を確保することが困難となる。なお、このような絶縁破壊電圧は、フィラーの種類や純度を調整することにより、調整することができる。
[Dielectric breakdown voltage of molded body]
The dielectric breakdown voltage of the molded body in the present invention is preferably 10 kV or more, more preferably 13 kV or more when the dielectric breakdown voltage of a 1 mm-thick molded body is measured in accordance with JIS K 6249. In the case of a sheet having a dielectric breakdown voltage of 10 kV / mm or less, it is difficult to stably secure insulation during use. Such a breakdown voltage can be adjusted by adjusting the type and purity of the filler.

[成形体の硬度]
本発明における成形体の硬度は、アスカーC硬度計で測定した25℃における測定値が60以下、好ましくは40以下、より好ましくは30以下であることが好ましく、また5以上であることが好ましい。硬度が60を超える場合、被放熱体の形状に沿うように変形し、被放熱体に応力をかけることなく良好な放熱特性を示すことが困難になる場合がある。なお、このような硬度は、(A)成分と(B)成分の比率を変えて、架橋密度を調整することにより、調整することができる。
[Hardness of molded body]
Regarding the hardness of the molded product in the present invention, the measured value at 25 ° C. measured with an Asker C hardness meter is 60 or less, preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and preferably 5 or more. When the hardness exceeds 60, it may be difficult to exhibit good heat dissipation characteristics without applying stress to the heat radiating body due to deformation along the shape of the heat radiating body. Such hardness can be adjusted by changing the ratio of the component (A) and the component (B) to adjust the crosslinking density.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、動粘度は23℃においてオストワルド粘度計により測定した。また、平均粒径は日機装(株)製の粒度分析計であるマイクロトラックMT3300EXにより測定した体積基準の累積平均粒径(メディアン径)の値である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. The kinematic viscosity was measured with an Ostwald viscometer at 23 ° C. The average particle diameter is a volume-based cumulative average particle diameter (median diameter) measured by Microtrac MT3300EX, a particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

下記実施例及び比較例に用いられる(A)〜(F)成分を下記に示す。
(A)成分:
下記式(5)で示されるオルガノポリシロキサン。

Figure 0005664563
(式中、Xはビニル基であり、fは下記粘度を与える数である。)
(A−1)動粘度:600mm2/s
(A−2)動粘度:30,000mm2/s The components (A) to (F) used in the following examples and comparative examples are shown below.
(A) component:
Organopolysiloxane represented by the following formula (5).
Figure 0005664563
(In the formula, X is a vinyl group, and f is a number giving the following viscosity.)
(A-1) Kinematic viscosity: 600 mm 2 / s
(A-2) Kinematic viscosity: 30,000 mm 2 / s

(B)成分:
下記式(6)で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン。

Figure 0005664563
(式中、gは28、hは2である。) (B) component:
Organohydrogenpolysiloxane represented by the following formula (6).
Figure 0005664563
(In the formula, g is 28 and h is 2.)

(C)成分:
平均粒径が下記の通りである不定形アルミナ、球状アルミナ、不定形水酸化アルミニウム。
(C−1)平均粒径が1μmの不定形水酸化アルミニウム
(C−2)平均粒径が1.5μmの不定形アルミナ
(C−3)平均粒径が1.5μmの球状アルミナ
(C−4)平均粒径が3.6μmの不定形アルミナ
(C−5)平均粒径が18μmの不定形アルミナ
(C−6)平均粒径が50μmの不定形アルミナ
(C−7)平均粒径が17μmの球状アルミナ
(C−8)平均粒径が45μmの球状アルミナ
(C−9)平均粒径が70μmの球状アルミナ
(C) component:
Amorphous alumina, spherical alumina, and amorphous aluminum hydroxide whose average particle size is as follows.
(C-1) Amorphous aluminum hydroxide having an average particle diameter of 1 μm (C-2) Amorphous alumina having an average particle diameter of 1.5 μm (C-3) Spherical alumina having an average particle diameter of 1.5 μm (C- 4) Amorphous alumina (C-5) with an average particle size of 3.6 μm Amorphous alumina (C-6) with an average particle size of 18 μm Amorphous alumina (C-7) with an average particle size of 50 μm 17 μm spherical alumina (C-8) Spherical alumina having an average particle diameter of 45 μm (C-9) Spherical alumina having an average particle diameter of 70 μm

(D)成分:
5質量%塩化白金酸2−エチルヘキサノール溶液。
(D) component:
5 mass% chloroplatinic acid 2-ethylhexanol solution.

(E)成分:
付加反応制御剤として、エチニルメチリデンカルビノール。
(E) component:
Ethynylmethylidenecarbinol as an addition reaction control agent.

(F)成分:(F−2)成分
下記式(7)で示される平均重合度が30の片末端がトリメトキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン。

Figure 0005664563
(F) component: (F-2) component The dimethylpolysiloxane by which the one terminal of the average polymerization degree 30 shown by following formula (7) was blocked with the trimethoxysilyl group.
Figure 0005664563

(G)成分
可塑剤として、下記式(8)で示されるジメチルポリシロキサン。

Figure 0005664563
(式中、jは80である。) (G) Component Dimethylpolysiloxane represented by the following formula (8) as a plasticizer.
Figure 0005664563
(Where j is 80)

[実施例1〜3、比較例1〜3]
実施例1〜3及び比較例1〜3において、上記(A)〜(G)成分を下記表1に示す所定の量を用いて下記のように組成物を調製し、成形硬化させ、下記方法に従って組成物の粘度、硬化物の熱伝導率、硬度、絶縁破壊電圧、比重、反応釜の磨耗を測定又は観察した。結果を表1に併記する。
[Examples 1-3, Comparative Examples 1-3]
In Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3, the above-mentioned components (A) to (G) were prepared as described below using predetermined amounts shown in Table 1 and molded and cured. Thus, the viscosity of the composition, the thermal conductivity of the cured product, the hardness, the dielectric breakdown voltage, the specific gravity, and the wear of the reaction kettle were measured or observed. The results are also shown in Table 1.

[組成物の調製]
(A)、(C)、(F)、(G)成分を下記表1の実施例1〜3及び比較例1〜3に示す所定の量で加え、プラネタリーミキサーで60分間混練した。
そこに(D)、(E)成分を下記表1の実施例1〜3及び比較例1〜3に示す所定の量で加え、更にセパレータとの離型を促す内添離型剤として、信越化学工業(株)製のフェニル変性シリコーンオイルであるKF−54を有効量加え、30分間混練した。
そこに更に(B)成分を下記表1の実施例1〜3及び比較例1〜3に示す所定の量で加え、30分間混練し、組成物を得た。
[Preparation of composition]
Components (A), (C), (F), and (G) were added in predetermined amounts shown in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 in Table 1 below, and kneaded for 60 minutes with a planetary mixer.
Therein, (D) and (E) are added in the predetermined amounts shown in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 in Table 1 below, and Shin-Etsu is used as an internal release agent that further promotes release from the separator. An effective amount of KF-54, which is a phenyl-modified silicone oil manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., was added and kneaded for 30 minutes.
The component (B) was further added in predetermined amounts shown in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 in Table 1 below, and kneaded for 30 minutes to obtain a composition.

[成形方法]
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を60mm×60mm×6mmの金型に流し込み、プレス成形機を用い、120℃,10分間の条件で成形した。
[Molding method]
The compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were poured into a 60 mm × 60 mm × 6 mm mold and molded using a press molding machine at 120 ° C. for 10 minutes.

[評価方法]
組成物の粘度:
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物の粘度を、B型粘度計にて、23℃環境下で測定した。
[Evaluation method]
Viscosity of the composition:
The viscosities of the compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were measured with a B-type viscometer in a 23 ° C. environment.

熱伝導率:
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を、プレス成形機を用い、120℃,10分間の条件で6mm厚のシート状に硬化させ、そのシートを2枚用いて、熱伝導率計(商品名:TPA−501、京都電子工業(株)製)により該シートの熱伝導率を測定した。
Thermal conductivity:
The compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were cured into a 6 mm thick sheet using a press molding machine at 120 ° C. for 10 minutes, and two sheets of the sheets were used. The thermal conductivity of the sheet was measured with a thermal conductivity meter (trade name: TPA-501, manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.).

硬度:
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を上記と同様に6mm厚のシート状に硬化させ、そのシートを2枚重ねてアスカーC硬度計で測定した。
hardness:
The compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were cured into a 6 mm thick sheet in the same manner as described above, and the two sheets were stacked and measured with an Asker C hardness meter.

絶縁破壊電圧:
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を、プレス成形機を用い、120℃,10分間の条件で1mm厚のシート状に硬化させ、JIS K 6249に準拠して絶縁破壊電圧を測定した。
Dielectric breakdown voltage:
The compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were cured into a 1 mm thick sheet using a press molding machine at 120 ° C. for 10 minutes, and insulated in accordance with JIS K 6249. The breakdown voltage was measured.

比重:
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた組成物を、プレス成形機を用い、120℃,10分間の条件で1mm厚のシート状に硬化させ、硬化物の比重を水中置換法により測定した。
specific gravity:
The compositions obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were cured into a 1 mm thick sheet using a press molding machine under the conditions of 120 ° C. and 10 minutes, and the specific gravity of the cured product was replaced in water. It was measured by.

反応釜の磨耗:
上記調製法に従い、組成物を調製する段階で、反応釜が削れて黒色成分の混入が目視にて確認できれば「有り」、確認できなければ「無し」とした。実施例及び比較例に使用しているアルミナと水酸化アルミニウムは白色粉であることから、組成物は本来白色となるため、黒色成分の混入が分かりやすい。
Reaction kettle wear:
According to the above preparation method, when the composition was prepared, the reaction kettle was shaved and “Yes” was indicated if the black component was visually confirmed, and “None” if not confirmed. Since the alumina and aluminum hydroxide used in the examples and comparative examples are white powder, the composition is inherently white, so that it is easy to understand the black component.

Figure 0005664563
Figure 0005664563

比較例1のように熱伝導性充填材の総質量部が6,500質量部を超えると、組成物の濡れ性が不足し、グリース状の均一な組成物を得ることができない。比較例2のように(C−i)成分である平均粒径10〜30μmの不定形アルミナを含まない場合、熱伝導性の低下や硬度の上昇が観察された。比較例3のように平均粒径が30μmを超える不定形アルミナ(即ち、(C−i)〜(C−iii)成分以外の熱伝導性充填材)を使用した場合、反応釜の磨耗が顕著に観察され、その影響により、成形したシートの絶縁破壊電圧が著しく低下した。   When the total mass part of the thermally conductive filler exceeds 6,500 parts by mass as in Comparative Example 1, the wettability of the composition is insufficient, and a grease-like uniform composition cannot be obtained. When the amorphous alumina having an average particle diameter of 10 to 30 μm as the component (Ci) was not included as in Comparative Example 2, a decrease in thermal conductivity and an increase in hardness were observed. When an amorphous alumina having an average particle size exceeding 30 μm as in Comparative Example 3 (that is, a heat conductive filler other than the components (Ci) to (C-iii)) is used, the wear of the reaction kettle is remarkable. As a result, the dielectric breakdown voltage of the molded sheet was significantly reduced.

実施例のように、(C)成分の配合量が、(A)成分100質量部に対して1,200〜6,500質量部の範囲であり、かつ、(C)成分が、
(C−i)平均粒径10〜30μmである不定形アルミナを500〜1,500質量部、
(C−ii)平均粒径30〜85μmである球状アルミナを150〜4,000質量部、
(C−iii)平均粒径0.1〜6μmである絶縁性無機フィラー500〜2,000質量部
からなる場合、組成物の粘度、硬化物の熱伝導率、硬度、比重、絶縁破壊電圧とも良好な結果となり、反応釜の磨耗も観察されなかった。
Like an Example, the compounding quantity of (C) component is the range of 1,200-6,500 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, and (C) component is,
(Ci) 500 to 1,500 parts by mass of amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm,
(C-ii) 150 to 4,000 parts by mass of spherical alumina having an average particle size of 30 to 85 μm,
(C-iii) When composed of 500 to 2,000 parts by mass of an insulating inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 6 μm, the viscosity of the composition, the thermal conductivity, hardness, specific gravity, and dielectric breakdown voltage of the cured product The results were good and no reaction kettle was observed.

Claims (8)

(A)1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)ケイ素原子に直接結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:ケイ素原子に直接結合した水素原子のモル数が(A)成分由来のアルケニル基のモル数の0.1〜5.0倍となる量、
(C)熱伝導性充填材:1,200〜6,500質量部、
(D)白金族金属系硬化触媒:(A)成分に対して白金族金属元素質量換算で0.1〜2,000ppm
を含み、
(C)成分の熱伝導性充填材が、
(C−i)平均粒径10〜30μmである不定形アルミナを500〜1,500質量部、
(C−ii)平均粒径30〜85μmである球状アルミナを150〜4,000質量部、
(C−iii)平均粒径0.1〜6μmである絶縁性無機フィラー500〜2,000質量部
からなることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物。
(A) Organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule: 100 parts by mass
(B) Organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms: The number of moles of hydrogen atoms directly bonded to silicon atoms is 0.1 to the number of moles of alkenyl groups derived from component (A). 5.0 times the amount,
(C) Thermally conductive filler: 1,200 to 6,500 parts by mass,
(D) Platinum group metal-based curing catalyst: 0.1 to 2,000 ppm in terms of platinum group metal element mass relative to component (A)
Including
The thermally conductive filler of component (C)
(Ci) 500 to 1,500 parts by mass of amorphous alumina having an average particle size of 10 to 30 μm,
(C-ii) 150 to 4,000 parts by mass of spherical alumina having an average particle size of 30 to 85 μm,
(C-iii) A thermally conductive silicone composition comprising 500 to 2,000 parts by mass of an insulating inorganic filler having an average particle size of 0.1 to 6 μm.
更に、(F)成分として、
(F−1)下記一般式(1)
1 a2 bSi(OR34-a-b (1)
(式中、R1は独立に炭素原子数6〜15のアルキル基であり、R2は独立に非置換又は置換の炭素原子数1〜12の1価炭化水素基であり、R3は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、aは1〜3の整数、bは0〜2の整数であり、但しa+bは1〜3の整数である。)
で表されるアルコキシシラン化合物、及び
(F−2)下記一般式(2)
Figure 0005664563
(式中、R4は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基であり、cは5〜100の整数である。)
で表される分子鎖片末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたジメチルポリシロキサン
からなる群から選ばれる少なくとも1種:(A)成分100質量部に対し0.01〜300質量部を含有する請求項1記載の熱伝導性シリコーン組成物。
Furthermore, as component (F),
(F-1) The following general formula (1)
R 1 a R 2 b Si (OR 3 ) 4-ab (1)
Wherein R 1 is independently an alkyl group having 6 to 15 carbon atoms, R 2 is independently an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R 3 is independently And an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a is an integer of 1 to 3, b is an integer of 0 to 2, provided that a + b is an integer of 1 to 3.)
And (F-2) the following general formula (2)
Figure 0005664563
(In the formula, R 4 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and c is an integer of 5 to 100.)
And at least one selected from the group consisting of dimethylpolysiloxanes whose molecular chain fragment ends are blocked with trialkoxysilyl groups: Claims containing 0.01 to 300 parts by weight per 100 parts by weight of component (A) Item 2. A thermally conductive silicone composition according to item 1.
更に、(G)成分として、下記一般式(3)
Figure 0005664563
(式中、R5は独立に炭素原子数1〜12の脂肪族不飽和結合を含まない1価炭化水素基、dは5〜2,000の整数である。)
で表される23℃における動粘度が10〜100,000mm2/sのオルガノポリシロキサンを(A)成分100質量部に対し0.1〜100質量部含有する請求項1又は2に記載の熱伝導性シリコーン組成物。
Further, as the component (G), the following general formula (3)
Figure 0005664563
(In the formula, R 5 is independently a monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond having 1 to 12 carbon atoms, and d is an integer of 5 to 2,000.)
The heat according to claim 1 or 2, comprising 0.1 to 100 parts by mass of an organopolysiloxane having a kinematic viscosity of 10 to 100,000 mm 2 / s represented by the formula (A) with respect to 100 parts by mass of the component (A). Conductive silicone composition.
23℃における粘度が800Pa・s以下である請求項1乃至3のいずれか1項記載の熱伝導性シリコーン組成物。   The heat conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 3, which has a viscosity at 23 ° C of 800 Pa · s or less. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の熱伝導性シリコーン組成物を硬化させてなる熱伝導性シリコーン硬化物。   The heat conductive silicone hardened | cured material formed by hardening | curing the heat conductive silicone composition of any one of Claims 1 thru | or 4. 熱伝導率が3.0W/mK以上である請求項5記載の熱伝導性シリコーン硬化物。   The thermally conductive silicone cured product according to claim 5, which has a thermal conductivity of 3.0 W / mK or more. 硬度がアスカーC硬度計で60以下である請求項5又は6記載の熱伝導性シリコーン硬化物。   The thermally conductive silicone cured product according to claim 5 or 6, which has a hardness of 60 or less as measured by an Asker C hardness meter. 絶縁破壊電圧が10kV/mm以上である請求項5乃至7のいずれか1項記載の熱伝導性シリコーン硬化物。   The thermally conductive silicone cured product according to any one of claims 5 to 7, wherein a dielectric breakdown voltage is 10 kV / mm or more.
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