JP5647943B2 - Laminated film - Google Patents

Laminated film Download PDF

Info

Publication number
JP5647943B2
JP5647943B2 JP2011102718A JP2011102718A JP5647943B2 JP 5647943 B2 JP5647943 B2 JP 5647943B2 JP 2011102718 A JP2011102718 A JP 2011102718A JP 2011102718 A JP2011102718 A JP 2011102718A JP 5647943 B2 JP5647943 B2 JP 5647943B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
conductive
conductive layer
laminated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011102718A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012232497A (en
Inventor
吉田 哲男
哲男 吉田
佳郎 田實
佳郎 田實
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Kansai University
Original Assignee
Teijin Ltd
Kansai University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd, Kansai University filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP2011102718A priority Critical patent/JP5647943B2/en
Publication of JP2012232497A publication Critical patent/JP2012232497A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5647943B2 publication Critical patent/JP5647943B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、積層フィルムに関する。さらに詳しくは、電圧を印加することにより共振特性を示す積層フィルムに関する。   The present invention relates to a laminated film. More specifically, the present invention relates to a laminated film that exhibits resonance characteristics by applying a voltage.

従来、高分子圧電材料としては、ポリγ−ベンジルLグルタメート等のポリペプチド型のもの、ポリ塩化ビニル等のエレクトレット型のもの、ポリ弗化ビニリデン、弗化ビニリデン三弗化エチレン共重合体、ビニリデンシアナイド酢酸ビニル共重合体等の強誘電体型のものなど種々ある。最も代表的なものは強誘電体型のポリ弗化ビニリデンのフィルムであり、既に超音波探触子などに使用されている。また、ポリ乳酸の延伸物も、高分子圧電材料として知られている(特許文献1、2)。
このような高分子圧電材料を用いてバイモルフ構造またはマルチモルフ構造を形成し、マイクロホン、ピックアップ、ブザー、スピーカー、光スイッチ、ファン等の振動体や、圧電体アクチュエータとして用いられることが知られている(特許文献3〜5)。
Conventionally, as the polymeric piezoelectric material, poly (γ-benzyl L-glutamate) type, electret type (polyvinyl chloride), polyvinylidene fluoride, vinylidene fluoride, trifluoride ethylene copolymer, vinylidene There are various types such as a ferroelectric type such as cyanide vinyl acetate copolymer. The most typical one is a ferroelectric type polyvinylidene fluoride film, which is already used for an ultrasonic probe or the like. A stretched product of polylactic acid is also known as a polymer piezoelectric material (Patent Documents 1 and 2).
It is known that such a polymer piezoelectric material is used to form a bimorph structure or a multimorph structure and used as a vibrating body such as a microphone, pickup, buzzer, speaker, optical switch, fan, or piezoelectric actuator ( Patent documents 3 to 5).

しかしながら、特許文献3に記載の発明は、高分子圧電膜を、接着剤を介して接合するものであり、ラミネート等の加工工程が煩雑であり、生産性が低いという問題がある。また、このような接合方法では、優れた共振特性を得ることが困難である。
さらに、特許文献4、5に記載の発明においても、優れた共振特性を得ることが困難である。
However, the invention described in Patent Document 3 joins the polymer piezoelectric film via an adhesive, has a problem that the processing steps such as laminating are complicated, and the productivity is low. Also, with such a joining method, it is difficult to obtain excellent resonance characteristics.
Furthermore, in the inventions described in Patent Documents 4 and 5, it is difficult to obtain excellent resonance characteristics.

特開平5−152638号公報JP-A-5-152638 特開2005−213376号公報JP 2005-213376 A 特開昭59−115580号公報JP 59-115580 A 特開昭59−222977号公報JP 59-2222977 A 実開昭58−78673号公報Japanese Utility Model Publication No. 58-78673

そこで本発明の目的は、電圧印加時に優れた共振特性を得ることができる積層フィルムを提供することにある。また本発明の目的は、優れた共振特性を得ることができる積層フィルムの製造方法を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a laminated film that can obtain excellent resonance characteristics when a voltage is applied. Moreover, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the laminated | multilayer film which can acquire the outstanding resonance characteristic.

本発明は、上記課題を解決するために以下の構成を採用するものである。
1. (i)ポリL−乳酸を主たる成分とする樹脂Lからなる配向フィルム層L、ポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂Dからなる配向フィルム層D、および導電層Mを有し、
(ii)少なくとも一方の表面には導電層Mを有し、
(iii)層Lと層Dとは、導電層Mを介して交互に積層され、層Lと層Dとの合計数は3以上であり、
(iv)層Lと導電層Mとの間、および層Dと導電層Mとの間には、厚み1000nmを超える接着剤層が存在しない、
積層フィルム。
2. 層Lの主配向方向と層Dの主配向方向との成す角が10度以下である上記1に記載の積層フィルム。
3. 層Lおよび層Dの主配向方向の屈折率が、それぞれ独立に1.45以上である、上記1または2に記載の積層フィルム。
4. 層Lおよび層Dの密度が、それぞれ独立に1.24〜1.27g/cmである、上記1〜3のいずれか1項に記載の積層フィルム。
The present invention employs the following configuration in order to solve the above problems.
1. (I) having an oriented film layer L made of a resin L containing poly L-lactic acid as a main component, an oriented film layer D made of a resin D containing poly D-lactic acid as a main component, and a conductive layer M;
(Ii) having a conductive layer M on at least one surface;
(Iii) Layer L and layer D are alternately stacked via conductive layer M, and the total number of layers L and D is 3 or more,
(Iv) There is no adhesive layer exceeding a thickness of 1000 nm between the layer L and the conductive layer M and between the layer D and the conductive layer M.
Laminated film.
2. 2. The laminated film according to 1 above, wherein an angle formed between the main alignment direction of the layer L and the main alignment direction of the layer D is 10 degrees or less.
3. 3. The laminated film according to 1 or 2 above, wherein the refractive indices in the main alignment direction of the layer L and the layer D are each independently 1.45 or more.
4). 4. The laminated film according to any one of 1 to 3 above, wherein the densities of the layer L and the layer D are each independently 1.24 to 1.27 g / cm 3 .

5. 層Lおよび層Dの厚みが、それぞれ独立に10μm以下である上記1〜4のいずれか1項に記載の積層フィルム。
6. 上記1〜5のいずれか1項に記載の積層フィルムおよび電極を有する圧電性構造体であって、該積層フィルムの表面の導電層Mを1層目として、そこから順に数えて奇数層目の導電層Mと偶数層目の導電層Mとに分けたときに、奇数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており偶数層目の導電層Mとは短絡しておらず、偶数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており奇数層目の導電層Mとは短絡していない、圧電性構造体。
7. (1)層L、層Dおよび導電層Mを積層し、(ii)少なくとも一方の表面には導電層Mを有し、(iii)層Lと層Dとは、導電層Mを介して交互に積層され、層Lと層Dとの合計数は3以上であり、(iv)層Lと導電層Mとの間、および層Dと導電層Mとの間には、厚み1000nmを超える接着剤層が存在しない積層体を準備し、
(2)該積層体を、温度(Tg−5)〜(Tsm+20)℃、圧力2〜10MPa、時間10〜600秒で熱ラミネートする、
(ただし、上記Tgは、層Lを構成する樹脂Lのガラス転移温度および層Dを構成する樹脂Lのガラス転移温度のうち、最も高いガラス転移温度である。上記Tsmは、層Lのサブピーク温度および層Dのサブピーク温度のうち、最も低いサブピーク温度である。)
各工程を含む上記1に記載の積層フィルムの製造方法。
8. 該積層体は、層Lと導電層Mとの間、層Dと導電層Mとの間、またはこれらの双方に、厚み1000nm以下の接着剤層を有する上記7に記載の製造方法。
9. 積層する、層L、層Dまたはこれらの双方は、少なくとも片面にコロナ処理が施されている上記7に記載の製造方法。
5. The laminated film according to any one of 1 to 4 above, wherein the thicknesses of the layer L and the layer D are each independently 10 μm or less.
6). 6. A piezoelectric structure having the laminated film and the electrode according to any one of 1 to 5 above, wherein the conductive layer M on the surface of the laminated film is the first layer, and the odd-numbered layers are counted sequentially from there. When divided into the conductive layer M and the even-numbered conductive layer M, the odd-numbered conductive layers M are short-circuited by the electrodes and are not short-circuited with the even-numbered conductive layers M. A piezoelectric structure in which the conductive layers M of the eyes are short-circuited by electrodes and are not short-circuited by the odd-numbered conductive layers M.
7). (1) Layer L, layer D, and conductive layer M are stacked, (ii) at least one surface has conductive layer M, and (iii) layer L and layer D alternate via conductive layer M The total number of the layer L and the layer D is 3 or more. (Iv) Adhesion exceeding 1000 nm between the layer L and the conductive layer M and between the layer D and the conductive layer M Prepare a laminate with no agent layer,
(2) The laminate is thermally laminated at a temperature (Tg-5) to (Tsm + 20) ° C., a pressure of 2 to 10 MPa, and a time of 10 to 600 seconds.
(However, Tg is the highest glass transition temperature among the glass transition temperature of the resin L constituting the layer L and the glass transition temperature of the resin L constituting the layer D. The Tsm is the sub-peak temperature of the layer L. And the lowest sub-peak temperature among the sub-peak temperatures of layer D.)
2. The method for producing a laminated film according to 1 above, comprising each step.
8). 8. The manufacturing method according to 7 above, wherein the laminate has an adhesive layer having a thickness of 1000 nm or less between the layer L and the conductive layer M, between the layer D and the conductive layer M, or both.
9. 8. The manufacturing method according to 7 above, wherein the layer L, the layer D, or both of these layers are subjected to corona treatment on at least one side.

本発明によれば、電圧印加時に優れた共振特性を示す積層フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated | multilayer film which shows the outstanding resonance characteristic at the time of a voltage application can be provided.

本発明の積層フィルムの積層構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the laminated structure of the laminated | multilayer film of this invention. 実施例1の積層フィルム導電層の配置を示す図である。FIG. 3 is a view showing the arrangement of laminated film conductive layers of Example 1. 共振特性を評価するための電極の位置を示す図である。It is a figure which shows the position of the electrode for evaluating a resonance characteristic.

[積層フィルム]
(積層構成)
本発明の積層フィルムは、ポリL−乳酸を主たる成分とする樹脂からなる配向フィルム層Lと、ポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂からなる配向フィルム層Dとが、交互に、層Lと層Dの合計総数が3以上で積層してなり、隣り合う層Lと層Dの間、および得られる積層フィルムの少なくとも一方の表面に導電層Mを有する積層構成を有する。なお、ここで「主たる」とは、各層を構成する樹脂の質量に対して、ポリ乳酸(層LにおいてはポリL−乳酸、層DにおいてポリD−乳酸)が60質量%以上、好ましくは75質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上であることを示す。
本発明の積層フィルムの積層構成について、図1を用いて説明する。図1は、本発明の積層フィルムの積層構成の一例を示す模式図である。図1において、符号1はポリL−乳酸を主たる成分とする樹脂からなる配向フィルム層Lを、符号2はポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂からなる配向フィルム層Dをそれぞれ示す。本発明の積層フィルムは、このように、層Lと層Dとが合計で3層以上交互に積層している。なお、図1は、層Lと層Dの合計層数が7の場合である。また、図1(b)のごとく、層Lと層Dは、図1(a)と反対であってもよい。
[Laminated film]
(Laminated structure)
In the laminated film of the present invention, an oriented film layer L made of a resin containing poly-L-lactic acid as a main component and an oriented film layer D made of a resin containing poly-D-lactic acid as a main component are alternately layer L and The total number of layers D is 3 or more, and has a laminated structure having conductive layers M between adjacent layers L and D and at least one surface of the obtained laminated film. Here, “main” means that 60% by mass or more of polylactic acid (poly L-lactic acid in layer L and poly D-lactic acid in layer D) is 60% by mass or more with respect to the mass of the resin constituting each layer, preferably 75. It indicates that it is at least mass%, more preferably at least 90 mass%, particularly preferably at least 95 mass%.
The laminated structure of the laminated film of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a laminated structure of the laminated film of the present invention. In FIG. 1, the code | symbol 1 shows the orientation film layer L which consists of resin which has poly L-lactic acid as a main component, and the code | symbol 2 shows the orientation film layer D which consists of resin which has poly D-lactic acid as a main component, respectively. In the laminated film of the present invention, the layer L and the layer D are thus alternately laminated in a total of three or more layers. FIG. 1 shows a case where the total number of layers L and D is seven. Further, as shown in FIG. 1B, the layer L and the layer D may be opposite to those in FIG.

符号3は、導電層Mを示す。本発明においては、層Lと層Dの間に導電層M(符号302〜307)を有する。また、積層フィルムの少なくとも一方の表面に導電層M(符号301)を有する。さらに、図1(c)のごとく、さらにもう一方の表面に導電層M(符号308)を有していてもよい。
層Lと層M、および層Dと層Mは、厚み1000nmを超える接着剤層を介さずに固着している。本発明においては、このような態様とすることにより、優れた共振特性を奏することができる。かかる観点から、本発明においては、層Lと層M、および層Dと層Mは、厚み500nmを超える接着剤層を介さずに固着している態様が好ましく、厚み200nmを超える接着剤層を介さずに固着している態様がさらに好ましい。共振特性の観点から、最も好ましくは、接着剤層を介さずに固着している態様である。
Reference numeral 3 denotes a conductive layer M. In the present invention, the conductive layer M (reference numerals 302 to 307) is provided between the layer L and the layer D. In addition, the conductive film M (reference numeral 301) is provided on at least one surface of the laminated film. Further, as shown in FIG. 1C, a conductive layer M (reference numeral 308) may be provided on the other surface.
The layers L and M, and the layers D and M are fixed without an adhesive layer having a thickness exceeding 1000 nm. In the present invention, excellent resonance characteristics can be achieved by adopting such an embodiment. From such a viewpoint, in the present invention, it is preferable that the layer L and the layer M, and the layer D and the layer M are fixed without an adhesive layer having a thickness of more than 500 nm, and an adhesive layer having a thickness of more than 200 nm is formed. An embodiment in which they are fixed without being interposed is more preferable. From the viewpoint of resonance characteristics, it is most preferable to fix the adhesive layer without using an adhesive layer.

本発明においては、上記のような積層構成を有していれば、本発明の目的を阻害しない範囲において、さらにその他の層を有していても良い。例えば、積層フィルムの表面に、積層フィルムの剛性を高めるための、例えばポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートのような芳香族ポリエステル層を有することができる。一方、共振特性の観点からは、このような層は、その厚みが薄いことが好ましく、有しないことが特に好ましい。   In the present invention, as long as it has the laminated structure as described above, it may further have other layers within a range not impairing the object of the present invention. For example, an aromatic polyester layer such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate for increasing the rigidity of the laminated film can be provided on the surface of the laminated film. On the other hand, from the viewpoint of resonance characteristics, such a layer is preferably thin and particularly preferably not.

(積層数)
本発明の積層フィルムは、層Lと層Dの合計層数が3以上である。このような態様とすることで優れた共振特性が得られる。共振特性の観点からは、合計層数は多い程好ましく、好ましくは10以上、さらに好ましくは20以上である。
このように、積層の合計層数を多くすることにより、圧電特性により得られる運動量が大きくなる傾向にあるが、合計層数が多くなると、積層フィルムが剛直となる傾向にあるため、ある点から共振特性の向上効果が低くなる場合がある。このような観点から、実質的な合計総数の上限は10000、好ましくは1000程度である。なお、このような数万、数千オーダーの合計総数とするには、例えば巻回コンデンサーのごとく製造すればよい。
(Number of layers)
In the laminated film of the present invention, the total number of layers L and D is 3 or more. By adopting such an aspect, excellent resonance characteristics can be obtained. From the viewpoint of resonance characteristics, the total number of layers is preferably as large as possible, preferably 10 or more, and more preferably 20 or more.
In this way, increasing the total number of layers in the stack tends to increase the momentum obtained by the piezoelectric characteristics, but as the total number of layers increases, the stacked film tends to become stiff, so from a certain point The effect of improving the resonance characteristics may be reduced. From such a viewpoint, the upper limit of the substantial total number is about 10,000, preferably about 1000. In addition, what is necessary is just to manufacture like a winding capacitor | condenser, for example in order to set it as the total total of such tens of thousands and thousands order.

[積層フィルムの特性]
(共振特性)
本発明の積層フィルムは、圧電特性を有し、ある周波数の電圧を印加することにより振動するものであるが、とりわけ圧電特性に優れるため、同時に大きな運動量(力)を発生させることができ、例えば、大きな運動量(力)を発生させることができるアクチュエーターとすることができる。そのため、本発明の積層フィルムとある固有振動数を有する板状物(例えばアクリル板)とを貼り合わせた構造物は、かかる板状物の固有振動数を考慮した適度な周波数の電圧を積層フィルムに印加することで、積層フィルムの振動数(印加電圧の周波数)と板状物の固有振動数とが共振して、構造物が大きく移動する現象(共振特性)が見られる。かかる現象は、従来の例えばPVDFのような高分子フィルムのアクチュエーターでは電圧印加時に発生させることができる運動量(力)が小さいため、見られない現象である。
本発明においては、発生させることができる運動量(力)が大きく、上記構造物の移動量が大きいことを、共振特性に優れるという。
[Characteristics of laminated film]
(Resonance characteristics)
The laminated film of the present invention has a piezoelectric property and vibrates when a voltage having a certain frequency is applied. Particularly, since the piezoelectric property is excellent, a large momentum (force) can be generated at the same time, for example, The actuator can generate a large momentum (force). For this reason, a structure in which the laminated film of the present invention and a plate-like object having a certain natural frequency (for example, an acrylic plate) are bonded together has a voltage of an appropriate frequency in consideration of the natural frequency of the plate-like object. As a result, the phenomenon that the frequency of the laminated film (frequency of applied voltage) and the natural frequency of the plate-like object resonate and the structure moves greatly (resonance characteristics) is observed. Such a phenomenon is a phenomenon that cannot be seen in a conventional polymer film actuator such as PVDF because the momentum (force) that can be generated when a voltage is applied is small.
In the present invention, the fact that the momentum (force) that can be generated is large and the amount of movement of the structure is large is said to be excellent in resonance characteristics.

(主配向方向)
本発明の積層フィルムにおいては、層Lの主配向方向と層Dの主配向方向との成す角が、10度以下であることが好ましい。このような態様とすることによって、共振特性の向上効果を高くすることができる。このような観点から、上記成す角は、より好ましくは5度以下、さらに好ましくは3度以下、特に好ましくは1度以下であり、理想的には0度である。上記のような主配向方向の態様とするには、サンプリング時に同方向でサンプリングしたり、積層時に同方向となるように積層したりすればよい。
(Main orientation direction)
In the laminated film of the present invention, the angle formed by the main alignment direction of the layer L and the main alignment direction of the layer D is preferably 10 degrees or less. By setting it as such an aspect, the improvement effect of a resonance characteristic can be made high. From such a viewpoint, the angle formed is more preferably 5 degrees or less, further preferably 3 degrees or less, particularly preferably 1 degree or less, and ideally 0 degrees. In order to obtain the main orientation direction as described above, sampling may be performed in the same direction during sampling, or stacked so as to be in the same direction during stacking.

(屈折率)
本発明の積層フィルムにおいては、層Lおよび層Dの主配向方向の屈折率が、それぞれ独立に、いずれも1.45以上であることが好ましい。屈折率が上記数値範囲にあると、共振特性の向上効果を高くすることができる。屈折率が低い場合は、共振特性の向上効果が低くなる傾向にあり、他方、屈折率が高い場合は共振特性の向上効果は高くなる傾向にあるが、高すぎるとフィルムの機械特性に劣る傾向にある。このような観点から、主配向方向の屈折率は、より好ましくは1.45〜1.48、さらに好ましくは1.45〜1.47である。
(Refractive index)
In the laminated film of the present invention, it is preferable that the refractive indexes in the main alignment direction of the layer L and the layer D are each independently 1.45 or more. When the refractive index is in the above numerical range, the effect of improving the resonance characteristics can be enhanced. When the refractive index is low, the effect of improving the resonance characteristics tends to be low. On the other hand, when the refractive index is high, the effect of improving the resonance characteristics tends to be high, but when too high, the mechanical properties of the film tend to be inferior. It is in. From such a viewpoint, the refractive index in the main alignment direction is more preferably 1.45 to 1.48, and still more preferably 1.45 to 1.47.

(密度)
本発明の積層フィルムにおいては、層Lおよび層Dの密度が、それぞれ独立に、いずれも1.24〜1.27g/cmであることが好ましい。密度が上記数値範囲にあると、共振特性の向上効果を高くすることができる。密度が低い場合は、共振特性の向上効果が低くなる傾向にあり、他方、密度が高い場合は、共振特性の向上効果は高いもののフィルムの機械特性に劣る傾向にある。このような観点から、密度は、より好ましくは1.24〜1.26g/cm、さらに好ましくは1.245〜1.255g/cmである。
以下、本発明の積層フィルムを構成する各成分について説明する。
(density)
In the laminated film of the present invention, it is preferable that the densities of the layer L and the layer D are each independently 1.24 to 1.27 g / cm 3 . When the density is in the above numerical range, the effect of improving the resonance characteristics can be enhanced. When the density is low, the effect of improving the resonance characteristics tends to be low. On the other hand, when the density is high, the effect of improving the resonance characteristics is high, but the mechanical characteristics of the film tend to be inferior. From such a viewpoint, the density is more preferably 1.24 to 1.26 g / cm 3 , and further preferably 1.245 to 1.255 g / cm 3 .
Hereinafter, each component which comprises the laminated | multilayer film of this invention is demonstrated.

[配向フィルム層L、配向フィルム層D]
本発明における配向フィルム層Lおよび配向フィルム層Dは、それぞれポリL−乳酸およびポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂からなる、配向したフィルム層である。
[Oriented film layer L, oriented film layer D]
The oriented film layer L and the oriented film layer D in the present invention are oriented film layers made of a resin having poly L-lactic acid and poly D-lactic acid as main components, respectively.

(ポリ乳酸)
本発明における配向フィルム層Lを構成する樹脂において主たる成分であるポリL−乳酸は、実質的にL−乳酸単位のみから構成されるポリL−乳酸(以下、PLLAと省略する場合がある。)や、L−乳酸とその他のモノマーとの共重合体等であるが、特に、実質的にL−乳酸単位だけで構成されるポリL−乳酸であることが好ましい。
また、本発明における配向フィルム層Dを構成する樹脂において主たる成分であるポリD−乳酸は、実質的にD−乳酸単位のみから構成されるポリD−乳酸(以下、PDLAと省略する場合がある。)や、D−乳酸とその他のモノマーとの共重合体等であるが、特に、実質的にD−乳酸単位だけで構成されるポリD−乳酸であることが好ましい。
なお、ここで「主たる」とは、各層を構成する樹脂の質量に対して、ポリ乳酸(層LにおいてはポリL−乳酸、層DにおいてポリD−乳酸)が60質量%以上、好ましくは75質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上であることを示す。また、「実質的に」とは、ポリL−(D―)乳酸におけるL−(D−)乳酸単位の量が90モル%以上であることを示す。
(Polylactic acid)
The poly L-lactic acid, which is a main component in the resin constituting the oriented film layer L in the present invention, is substantially composed of only L-lactic acid units (hereinafter sometimes abbreviated as PLLA). Or a copolymer of L-lactic acid and other monomers, and is particularly preferably poly-L-lactic acid substantially composed of only L-lactic acid units.
In addition, poly D-lactic acid, which is a main component in the resin constituting the oriented film layer D in the present invention, may be abbreviated as poly D-lactic acid (hereinafter referred to as PDLA) substantially composed of only D-lactic acid units. ), And a copolymer of D-lactic acid and other monomers, etc., particularly poly-D-lactic acid which is substantially composed only of D-lactic acid units.
Here, “main” means that 60% by mass or more of polylactic acid (poly L-lactic acid in layer L and poly D-lactic acid in layer D) is 60% by mass or more with respect to the mass of the resin constituting each layer, preferably 75. It indicates that it is at least mass%, more preferably at least 90 mass%, particularly preferably at least 95 mass%. Further, “substantially” indicates that the amount of L- (D-) lactic acid units in poly L- (D-) lactic acid is 90 mol% or more.

ポリL−(D−)乳酸におけるL−(D−)乳酸単位の量は、結晶性の観点、また変位量の向上効果を高くするという観点、およびフィルム耐熱性などの観点より、好ましくは90〜100モル%、より好ましくは95〜100モル%、さらに好ましくは98〜100モル%である。すなわち、L−(D−)乳酸単位以外の単位の含有量は、好ましくは0〜10モル%、より好ましくは0〜5モル%、さらに好ましくは0〜2モル%である。
かかるポリ乳酸は、結晶性を有していることが好ましく、前述のような配向・結晶の態様とすることが容易となり、変位量の向上効果を高くすることができる。またその融点は150℃以上190℃以下であることが好ましく、160℃以上190℃以下であることがさらに好ましい。このような態様であるとフィルムの耐熱性に優れる。
本発明におけるポリ乳酸は、その重量平均分子量(Mw)が8万から25万の範囲であることが好ましく、10万から25万以下であることがより好ましい。とりわけ好ましくは12万から20万の範囲である。重量平均分子量Mwが上記数値範囲にあると、フィルムの剛性に優れ、またフィルムの厚み斑が良好になる。
The amount of L- (D-) lactic acid units in poly L- (D-) lactic acid is preferably 90 from the viewpoints of crystallinity, enhancing the effect of improving displacement, and film heat resistance. It is -100 mol%, More preferably, it is 95-100 mol%, More preferably, it is 98-100 mol%. That is, the content of units other than L- (D-) lactic acid units is preferably 0 to 10 mol%, more preferably 0 to 5 mol%, and still more preferably 0 to 2 mol%.
Such polylactic acid preferably has crystallinity, and it becomes easy to obtain the above-described orientation / crystal mode, and the effect of improving the displacement can be increased. The melting point is preferably 150 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, and more preferably 160 ° C. or higher and 190 ° C. or lower. With such an embodiment, the film has excellent heat resistance.
The polylactic acid in the present invention preferably has a weight average molecular weight (Mw) in the range of 80,000 to 250,000, and more preferably 100,000 to 250,000 or less. Particularly preferred is a range of 120,000 to 200,000. When the weight average molecular weight Mw is in the above numerical range, the rigidity of the film is excellent and the thickness unevenness of the film becomes good.

(共重合成分)
本発明で用いられるポリL−乳酸、ポリD−乳酸には、本発明の目的を損なわない範囲で所望により、L−乳酸、D−乳酸以外の共重合成分を含有させることができる。このとき、ポリ乳酸の結晶性を大きく損なわない範囲で含有させることが好ましい。かかる共重合成分は、特に限定されるものではないが、例えば、グリコール酸、カプロラクトン、ブチロラクトン、プロピオラクトンなどのヒドロキシカルボン酸類、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−プロパンジオール、1,4−プロパンジオール、1,5−プロパンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、デカンジオール、ドデカンジオール、炭素数が2から30の脂肪族ジオール類、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、炭素数2から30の脂肪族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノンなど芳香族ジオール、芳香族ジカルボン酸などから選ばれる1種以上のモノマーを選ぶことが出来る。
(Copolymerization component)
The poly L-lactic acid and poly D-lactic acid used in the present invention can contain a copolymer component other than L-lactic acid and D-lactic acid, as desired, within a range not impairing the object of the present invention. At this time, it is preferable to contain in the range which does not impair the crystallinity of polylactic acid largely. Such copolymerization component is not particularly limited. For example, hydroxycarboxylic acids such as glycolic acid, caprolactone, butyrolactone, propiolactone, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-propanediol, 1,4-propanediol, 1,5-propanediol, hexanediol, octanediol, decanediol, dodecanediol, aliphatic diols having 2 to 30 carbon atoms, succinic acid, maleic acid, adipic acid, 2 carbon atoms To 30 or more monomers selected from aromatic diols such as aliphatic dicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, hydroxybenzoic acid, hydroquinone, and aromatic dicarboxylic acid.

(ポリ乳酸の製造方法)
ポリL−乳酸およびポリD−乳酸を製造する方法は特別に限定されるものではなく、従来公知の方法が好適に使用できる。例えば、L−乳酸またはD−乳酸を直接脱水縮合する方法、L−またはD−乳酸オリゴマーを固相重合する方法、L−またはD−乳酸を一度脱水環化してラクチドとした後、溶融開環重合する方法等が例示される。
なかでも、直接脱水縮合方法、あるいはラクチド類の溶融開環重合法により得られるポリ乳酸が、品質、生産効率の観点から好ましく、中でもラクチド類の溶融開環重合法が特に好ましく選択される。
(Polylactic acid production method)
The method for producing poly L-lactic acid and poly D-lactic acid is not particularly limited, and conventionally known methods can be suitably used. For example, a method of directly dehydrating and condensing L-lactic acid or D-lactic acid, a method of solid-phase polymerizing L- or D-lactic acid oligomers, once dehydrating and cyclizing L- or D-lactic acid into lactide, and then melt-opening The method of superposing | polymerizing etc. is illustrated.
Among them, polylactic acid obtained by a direct dehydration condensation method or a melt ring-opening polymerization method of lactides is preferable from the viewpoint of quality and production efficiency, and among them, a melt ring-opening polymerization method of lactides is particularly preferably selected.

これらの製造法において使用する触媒は、ポリ乳酸が前述した所定の特性を有するように重合させることができるものであれば特に限定されない。例えば、ラクチドの溶融開環重合触媒として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類、遷移金属類、アルミニウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモンなどの脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラート等が挙げられる。これらのうち、スズ、アルミニウム、亜鉛、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、マンガン、マグネシウムおよび稀土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含有する触媒が好ましい(以下、かかる触媒を特定金属含有触媒と呼称する場合がある。)。   The catalyst used in these production methods is not particularly limited as long as polylactic acid can be polymerized so as to have the above-mentioned predetermined characteristics. For example, lactide melt-opening polymerization catalysts include alkali metals, alkaline earth metals, rare earths, transition metals, fatty acid salts such as aluminum, germanium, tin, antimony, carbonates, sulfates, phosphates, oxides, Examples include hydroxides, halides, alcoholates and the like. Among these, a catalyst containing at least one selected from the group consisting of tin, aluminum, zinc, calcium, titanium, germanium, manganese, magnesium and rare earth elements is preferable (hereinafter, such a catalyst is referred to as a specific metal-containing catalyst). May be.)

かかる特定金属含有触媒としては、従来公知であり以下の化合物が例示される。すなわち、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第二スズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、テトラフェニルスズ、スズメトキシド、スズエトキシド、スズブトキシド、酸化アルミニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−イミン錯体四塩化チタン、チタン酸エチル、チタン酸ブチル、チタン酸グリコール、チタンテトラブトキシド、塩化亜鉛、酸化亜鉛、ジエチル亜鉛、三酸化アンチモン、三臭化アンチモン、酢酸アンチモン、酸化カルシウム、酸化ゲルマニウム、酸化マンガン、炭酸マンガン、酢酸マンガン、酸化マグネシウム、イットリウムアルコキシドなどが例示される。
これらのうち、触媒活性が良好であり、また副反応が少ないという観点から、塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第二スズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、テトラフェニルスズ等のスズ含有化合物、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムブトシキド、アルミニウム−イミン錯体等のアルミニウム含有化合物が好ましい。さらに好ましくは、ジエトキシスズ、ジノニルオキシスズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、塩化スズ、アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムイソプロポキシドなどである。
Such specific metal-containing catalysts are conventionally known and exemplified as follows. Stannous chloride, stannous bromide, stannous iodide, stannous sulfate, stannic oxide, tin myristate, tin octylate, tin stearate, tetraphenyltin, tin methoxide, tin ethoxide, tin Butoxide, aluminum oxide, aluminum acetylacetonate, aluminum isopropoxide, aluminum-imine complex titanium tetrachloride, ethyl titanate, butyl titanate, glycol titanate, titanium tetrabutoxide, zinc chloride, zinc oxide, diethyl zinc, trioxide Examples include antimony, antimony tribromide, antimony acetate, calcium oxide, germanium oxide, manganese oxide, manganese carbonate, manganese acetate, magnesium oxide, and yttrium alkoxide.
Of these, stannous chloride, stannous bromide, stannous iodide, stannous sulfate, stannic oxide, tin myristate from the viewpoint of good catalytic activity and few side reactions. , Tin-containing compounds such as tin octylate, tin stearate, and tetraphenyltin, and aluminum-containing compounds such as aluminum acetylacetonate, aluminum butoxide, and aluminum-imine complexes are preferred. More preferred are diethoxytin, dinonyloxytin, tin myristate, tin octylate, tin stearate, tin chloride, aluminum acetylacetonate, aluminum isopropoxide and the like.

触媒の使用量は、ラクチド類1kgあたり0.42×10−4から100×10−4モルであり、さらに反応性、得られるポリラクチド類の色調、安定性の観点から、好ましくは1.68×10−4から42.1×10−4モル、特に好ましくは2.53×10−4から16.8×10−4モルである。
得られたポリL−乳酸およびポリD−乳酸は、従来公知の方法により、重合触媒を除去したり、失活剤を用いて重合触媒の触媒活性を失活、不活性化したりするのが、フィルムの溶融安定性、湿熱安定性のために好ましい。
失活剤を用いる場合、その使用量は、特定金属含有触媒の金属元素1当量あたり0.3から20当量、より好ましくは0.5から15当量、さらに好ましくは0.5から10等量、特に好ましくは0.6から7当量とすればよい。失活剤の使用量が少なすぎると、触媒金属の活性を十分に低下させることができないし、また過剰に使用すると、失活剤が樹脂の分解を引き起こす可能性があり好ましくない。
The amount of the catalyst used is 0.42 × 10 −4 to 100 × 10 −4 mol per kg of lactide, and is preferably 1.68 × from the viewpoint of reactivity, color tone of the resulting polylactide, and stability. 10 −4 to 42.1 × 10 −4 mol, particularly preferably 2.53 × 10 −4 to 16.8 × 10 −4 mol.
The obtained poly L-lactic acid and poly D-lactic acid may be removed by a conventionally known method or the catalytic activity of the polymerization catalyst is deactivated or deactivated using a deactivator. It is preferable for the melt stability and wet heat stability of the film.
When using a deactivator, the amount used is 0.3 to 20 equivalents, more preferably 0.5 to 15 equivalents, and even more preferably 0.5 to 10 equivalents per equivalent of metal element of the specific metal-containing catalyst. Particularly preferably, it may be 0.6 to 7 equivalents. If the amount of the deactivator used is too small, the activity of the catalyst metal cannot be lowered sufficiently, and if used excessively, the deactivator may cause decomposition of the resin, which is not preferable.

(層Lおよび層Dの厚み)
本発明の積層フィルムにおいては、層Lおよび層Dの厚みは、厚すぎるために剛性が高くなりすぎて共振特性を奏さなくなってしまう傾向を考慮して、共振特性を奏する程度の厚さであれば特に限定されない。共振特性の観点からは薄い方が好ましい。特に、積層数を増加させる際には、各層の厚さを薄くして、積層フィルム全体としての厚さが厚くなりすぎないようにすることが好ましい。このような観点から、層Lおよび層Dの1層の厚みは、それぞれ独立に、好ましくは10μm以下、さらに好ましくは8μm以下、特に好ましくは7以下μmである。厚みが上記数値範囲にあると、共振特性の向上効果を高くすることができる。他方、取り扱い性や剛性の観点からは厚い方が好ましく、例えば2μm以上が好ましく、さらに好ましくは3μm以上である。
(Thickness of layer L and layer D)
In the laminated film of the present invention, the thicknesses of the layer L and the layer D should be thick enough to exhibit resonance characteristics in consideration of the tendency that the rigidity becomes too high and the resonance characteristics are not achieved. If it does not specifically limit. The thinner one is preferable from the viewpoint of resonance characteristics. In particular, when increasing the number of layers, it is preferable to reduce the thickness of each layer so that the thickness of the entire laminated film does not become too large. From such a viewpoint, the thickness of one of the layers L and D is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, and particularly preferably 7 or less μm. When the thickness is in the above numerical range, the effect of improving the resonance characteristics can be enhanced. On the other hand, from the viewpoint of handleability and rigidity, a thicker is preferable, for example, 2 μm or more is preferable, and 3 μm or more is more preferable.

[導電層M]
本発明における導電層Mは、本発明の積層フィルムが、電圧印加した際に圧電特性を示すことができる程度の導電性を有していれば、その種類は特に限定されないが、より好適に圧電特性および共振特性を示すことができるという観点から、金属または金属酸化物からなる層であることが好ましい。
かかる金属または金属酸化物としては、特に限定はされないが、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属、または上記群より選択される少なくとも1種の金属の酸化物が好ましく用いられる。また、金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属、または上記群に示された他の金属の酸化物を含んでいてもよい。例えば、酸化スズを含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化スズ等が好ましく用いられる。
[Conductive layer M]
The type of the conductive layer M in the present invention is not particularly limited as long as the laminated film of the present invention has conductivity sufficient to exhibit piezoelectric characteristics when a voltage is applied, but the type of the conductive layer M is more preferably piezoelectric. From the viewpoint of exhibiting characteristics and resonance characteristics, a layer made of a metal or metal oxide is preferable.
The metal or metal oxide is not particularly limited, but is selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, tungsten. Preferably, at least one metal selected from the group described above or an oxide of at least one metal selected from the above group is preferably used. Further, the metal oxide may further contain an oxide of a metal shown in the above group or another metal shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide containing tin oxide and tin oxide containing antimony are preferably used.

導電層Mの厚さは特に制限されないが、その表面抵抗値が1×10Ω/□以下、好ましくは5×10Ω/□以下、さらに好ましくは1×10Ω/□以下となるような厚みを選択すればよく、例えば、厚さ10nm以上とするのが好ましい。さらに、導電性と、層形成のし易さの観点から、15〜35nmであることが好ましく、より好ましくは20〜30nmである。厚さが薄すぎると、表面抵抗値が高くなる傾向にあり、かつ連続被膜になり難くなる。他方、厚すぎると、品質過剰であり、また積層フィルムの形成が困難となったり、積層フィルムの層間の強度が弱くなったりする傾向にある。
導電層Mの形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、金属層を形成した後、必要に応じて、100〜150℃の範囲内でアニール処理を施して結晶化することができる。このため、層Lおよび層Dは、100℃以上、更には110℃以上の耐熱性を有することが好ましい。
The thickness of the conductive layer M is not particularly limited, but the surface resistance value is 1 × 10 4 Ω / □ or less, preferably 5 × 10 3 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 3 Ω / □ or less. Such a thickness may be selected. For example, the thickness is preferably 10 nm or more. Furthermore, it is preferable that it is 15-35 nm from a viewpoint of electroconductivity and the ease of layer formation, More preferably, it is 20-30 nm. If the thickness is too thin, the surface resistance value tends to be high, and it becomes difficult to form a continuous film. On the other hand, if it is too thick, the quality is excessive, and it is difficult to form a laminated film, or the strength between layers of the laminated film tends to be weak.
It does not specifically limit as a formation method of the conductive layer M, A conventionally well-known method is employable. Specifically, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. In addition, an appropriate method can be adopted depending on the required film thickness. In addition, after forming a metal layer, it can crystallize by giving an annealing process within the range of 100-150 degreeC as needed. For this reason, it is preferable that the layer L and the layer D have heat resistance of 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher.

[積層フィルムの製造方法]
本発明の積層フィルムは、層Lを形成するための樹脂(以下、樹脂Lという場合がある。)から層Lを、層Dを形成するための樹脂(以下、樹脂Dと言う場合がある。)から層Dを、それぞれ別々に形成し、得られた各層の表面に導電層Mを設けて、層Lと層Dとが交互に、かつ層Lと層Dの間、および得られる積層フィルムの少なくとも一方の表面に導電層Mを有する構成となるように積層して固着することにより得ることができる。
以下、本発明の積層フィルムを製造する好ましい方法の一例について説明する。また、配向フィルム層の製造については、配向フィルム層Lを製造する方法について説明するが、配向フィルム層Dについても、用いる原料をポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂Dとして、同様に製造することができる。
[Production method of laminated film]
In the laminated film of the present invention, the layer L may be referred to as a resin for forming the layer D (hereinafter referred to as the resin D) from the resin for forming the layer L (hereinafter sometimes referred to as the resin L). ) To D are separately formed, the conductive layer M is provided on the surface of each obtained layer, the layer L and the layer D alternate, and between the layer L and the layer D, and the resulting laminated film It can obtain by laminating | stacking and adhering so that it may become the structure which has the conductive layer M on the at least one surface.
Hereinafter, an example of a preferable method for producing the laminated film of the present invention will be described. Moreover, about manufacture of an oriented film layer, although the method to manufacture the oriented film layer L is demonstrated, the raw material to be used is similarly manufactured also about the oriented film layer D as resin D which uses poly D-lactic acid as a main component. be able to.

(押出工程)
まず、所望により後述するカルボキシル基封止剤、滑剤、その他の添加剤等を含有する、ポリL−乳酸(層Lの場合。層Dの場合はポリD−乳酸とする。以下同様。)を主たる成分とする樹脂L(ポリL−乳酸を用いた場合。ポリD−乳酸を用いた場合は樹脂Dとする。以下同様。)を、押出機において溶融し、ダイから冷却ドラム上に押し出す。尚、押出機に供給する樹脂は、溶融時の分解を抑制するため、押出機供給前に乾燥処理を行い、水分含有量を100ppm以下程度にすることが好ましい。
押出機における樹脂温度は、樹脂が十分に流動性を有する温度、すなわち、樹脂Lの融点をTmとすると、(Tm+20)から(Tm+50)(℃)の範囲で実施されるが、樹脂が分解しない温度で溶融押し出しするのが好ましく、かかる温度としては、好ましくは240〜300℃、さらに好ましくは245〜280℃、特に好ましくは250〜275℃である。上記温度範囲であると流動斑が発生しにくい。
(Extrusion process)
First, poly L-lactic acid (in the case of layer L. In the case of layer D, it is referred to as poly D-lactic acid) containing a carboxyl group-capping agent, a lubricant, and other additives, which will be described later, if desired. Resin L (when poly L-lactic acid is used. When poly D-lactic acid is used, resin D. The same applies hereinafter) is melted in an extruder and extruded from a die onto a cooling drum. In addition, in order to suppress decomposition at the time of melting, the resin supplied to the extruder is preferably subjected to a drying process before being supplied to the extruder so that the water content is about 100 ppm or less.
The resin temperature in the extruder is a temperature at which the resin has sufficient fluidity, that is, when the melting point of the resin L is Tm, it is carried out in the range of (Tm + 20) to (Tm + 50) (° C.), but the resin does not decompose. It is preferable to perform melt extrusion at a temperature, and such a temperature is preferably 240 to 300 ° C, more preferably 245 to 280 ° C, and particularly preferably 250 to 275 ° C. Within the above temperature range, flow spots are unlikely to occur.

(キャスティング工程)
ダイから押し出した後、フィルムを冷却ドラムにキャスティングして未延伸フィルムを得る。その際、静電密着法により電極より静電荷を印加させることによって冷却ドラムに十分に密着させて冷却固化するのが好ましい。この時、静電荷を印加する電極はワイヤー状或いはナイフ状の形状のものが好適に使用される。該電極の表面物質は白金であることが好ましく、フィルムより昇華する不純物が電極表面に付着するのを抑制することができる。また、高温空気流を電極或いはその近傍に噴きつけ電極の温度を170〜350℃に保ち、電極上部に排気ノズルを設置することにより不純物の付着を防ぐこともできる。
(Casting process)
After extruding from the die, the film is cast on a cooling drum to obtain an unstretched film. At that time, it is preferable that the electrostatic charge is applied from the electrode by an electrostatic contact method so that it is sufficiently brought into close contact with the cooling drum and cooled and solidified. At this time, the electrode to which an electrostatic charge is applied preferably has a wire shape or a knife shape. The surface material of the electrode is preferably platinum, and can prevent impurities sublimated from the film from adhering to the electrode surface. Further, it is possible to prevent adhesion of impurities by blowing a high-temperature air flow on or near the electrode, keeping the temperature of the electrode at 170 to 350 ° C., and installing an exhaust nozzle above the electrode.

(延伸工程)
前記で得られた未延伸フィルムは、一軸方向あるいは二軸方向に延伸して一軸延伸フィルムあるいは二軸延伸フィルムとする。かかる一軸延伸フィルムあるいは二軸延伸フィルムを得るには、未延伸フィルムを延伸可能な温度、例えば樹脂Lのガラス転移点温度(Tg)以上(Tg+80)℃以下の温度に加熱して延伸する。
一軸延伸フィルムの場合は、機械軸方向(以下、縦方向または長手方向またはMDと呼称する場合がある。)に一軸延伸してもよいし、機械軸方向と垂直な方向(以下、横方向または幅方向またはTDと呼称する場合がある。)に一軸延伸してもよい。延伸倍率は、好ましくは1.1〜10倍、より好ましくは1.1〜7倍である。延伸倍率を上記数値範囲とすることによって変位量の向上効果を高くすることができる。延伸倍率が高い場合は、フィルムの機械特性が劣る傾向にあり、他方低い場合は、変位量の向上効果が低くなる傾向にある。このような観点から、延伸倍率は、さらに好ましくは1.2〜6、特に好ましくは2〜5である。
(Stretching process)
The unstretched film obtained above is stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction to obtain a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film. In order to obtain such a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film, the unstretched film is stretched by heating to a temperature at which the unstretched film can be stretched, for example, a glass transition temperature (Tg) to (Tg + 80) ° C. of the resin L.
In the case of a uniaxially stretched film, the film may be uniaxially stretched in the machine axis direction (hereinafter sometimes referred to as the longitudinal direction or the longitudinal direction or MD), or in a direction perpendicular to the machine axis direction (hereinafter referred to as the transverse direction or It may be uniaxially stretched in the width direction or TD). The draw ratio is preferably 1.1 to 10 times, more preferably 1.1 to 7 times. The effect of improving the amount of displacement can be increased by setting the draw ratio within the above numerical range. When the draw ratio is high, the mechanical properties of the film tend to be inferior. On the other hand, when the draw ratio is low, the effect of improving the displacement tends to be low. From such a viewpoint, the draw ratio is more preferably 1.2 to 6, particularly preferably 2 to 5.

また、二軸延伸フィルムの場合は、縦方向の延伸倍率(以下、縦延伸倍率と呼称する場合がある。)は、好ましくは1.1〜10倍、より好ましくは1.1〜7倍である。また、横方向の延伸倍率(以下、横延伸倍率と呼称する場合がある。)は1.1〜10倍、好ましくは1.1〜7倍である。延伸倍率を上記数値範囲とすることによって、本発明における好ましい配向の態様とすることができ、変位量の向上効果を高くすることができる。縦および/または横方向の延伸倍率が高い場合は、フィルムが破断しやすくなる傾向にあり、生産性に劣る場合があり、他方、低い場合は、好ましい配向の態様とすることが困難となる傾向にあり、変位量の向上効果が低くなる傾向にある。このような観点から、縦延伸倍率は、さらに好ましくは1.1〜6倍、特に好ましくは1.1〜4.5倍である。また、横延伸倍率は、さらに好ましくは1.1〜5.5倍、特に好ましくは1.1〜4.5倍である。さらに、縦延伸倍率と横延伸倍率の差が、好ましくは1倍以上、さらに好ましくは2倍以上、特に好ましくは2.5倍以上であると、本発明における好ましい配向の態様とすることが容易となり、変位量の向上効果を高くすることができる。
なお、二軸延伸は、逐次二軸延伸であってもよいし、同時二軸延伸であってもよい。また、二軸延伸後に、さらに縦方向あるいは横方向の一軸方向に、あるいは縦方向および横方向の二軸方向に再延伸することもできる。
In the case of a biaxially stretched film, the stretching ratio in the longitudinal direction (hereinafter sometimes referred to as the longitudinal stretching ratio) is preferably 1.1 to 10 times, more preferably 1.1 to 7 times. is there. The stretching ratio in the transverse direction (hereinafter sometimes referred to as the transverse stretching ratio) is 1.1 to 10 times, preferably 1.1 to 7 times. By setting the draw ratio within the above numerical range, a preferred orientation mode in the present invention can be obtained, and the effect of improving the displacement can be increased. When the draw ratio in the longitudinal and / or transverse direction is high, the film tends to break and the productivity may be inferior. On the other hand, when it is low, it tends to be difficult to obtain a preferred orientation mode. Therefore, the effect of improving the displacement amount tends to be low. From such a viewpoint, the longitudinal draw ratio is more preferably 1.1 to 6 times, and particularly preferably 1.1 to 4.5 times. Further, the transverse draw ratio is more preferably 1.1 to 5.5 times, particularly preferably 1.1 to 4.5 times. Furthermore, when the difference between the longitudinal draw ratio and the transverse draw ratio is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and particularly preferably 2.5 or more, it is easy to obtain a preferred orientation mode in the present invention. Thus, the effect of improving the amount of displacement can be increased.
The biaxial stretching may be sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching. Further, after biaxial stretching, it can be re-stretched in the longitudinal direction or the uniaxial direction of the lateral direction, or in the biaxial direction of the longitudinal direction and the lateral direction.

(熱処理工程)
上記で得られた未延伸フィルム、一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルムは、熱処理することが好ましい。熱処理温度は、樹脂Lの融点未満の温度であり、好ましくは50〜160℃であり、変位量の向上効果を高くすることができる。熱処理温度が低い場合は、変位量の向上効果が低くなる傾向にあり、他方、高い場合は、フィルムの平面性や機械特性に劣る傾向にあり、また変位量の向上効果が低くなる傾向にある。このような観点から、熱処理温度は、さらに好ましくは60〜150℃、特に好ましくは80〜130℃である。また、熱処理時間は、好ましくは1〜120秒、さらに好ましくは2〜60秒であり、変位量の向上効果を高くすることができる。
さらに本発明においては、熱処理工程において弛緩処理して、熱寸法安定性を調整することも可能である。
以上の製膜条件については、積層体を構成する層Lおよび層Dともに、できるだけ近い物性となるような製膜条件を採用することが、共振特性の観点から好ましい。
(Heat treatment process)
The unstretched film, uniaxially stretched film, and biaxially stretched film obtained above are preferably heat-treated. The heat treatment temperature is a temperature lower than the melting point of the resin L, and preferably 50 to 160 ° C., and the effect of improving the displacement can be increased. When the heat treatment temperature is low, the displacement improvement effect tends to be low. On the other hand, when the heat treatment temperature is high, the flatness and mechanical properties of the film tend to be inferior, and the displacement improvement effect tends to be low. . From such a viewpoint, the heat treatment temperature is more preferably 60 to 150 ° C, and particularly preferably 80 to 130 ° C. The heat treatment time is preferably 1 to 120 seconds, more preferably 2 to 60 seconds, and the effect of improving the displacement can be increased.
Furthermore, in the present invention, it is possible to adjust the thermal dimensional stability by performing a relaxation treatment in the heat treatment step.
As for the film forming conditions described above, it is preferable from the viewpoint of resonance characteristics that the layer forming conditions for the layer L and the layer D constituting the laminate are as close as possible to the physical properties.

(コロナ処理、プライマー処理)
かくして得られた配向フィルム層は、所望により従来公知の方法で、例えば表面活性化処理、例えばプラズマ処理、アミン処理、コロナ処理を施すことも可能である。
なかでも、導電層Mとの密着性を向上し、積層フィルムの耐久性を高めるという観点から、配向フィルム層の少なくとも片面、好ましくは両面に、コロナ処理を施すことが好ましい。かかるコロナ処理の条件としては、例えば電極距離を5mmとした際に、好ましくは1〜20kV、さらに好ましくは5〜15kVの電圧で、好ましくは1〜60秒、さらに好ましくは5〜30秒、特に好ましくは10〜25秒行うとよい。また、かかる処理は大気中で行うことができる。
(Corona treatment, primer treatment)
The oriented film layer thus obtained can be subjected to surface activation treatment, for example, plasma treatment, amine treatment, and corona treatment by a conventionally known method if desired.
Among these, from the viewpoint of improving the adhesion with the conductive layer M and enhancing the durability of the laminated film, it is preferable to perform corona treatment on at least one side, preferably both sides, of the oriented film layer. As conditions for such corona treatment, for example, when the electrode distance is 5 mm, the voltage is preferably 1 to 20 kV, more preferably 5 to 15 kV, preferably 1 to 60 seconds, more preferably 5 to 30 seconds, particularly Preferably it is 10 to 25 seconds. Further, such treatment can be performed in the atmosphere.

また、同様に導電層Mとの密着性を向上するという観点から、配向フィルム層の少なくとも片面、好ましくは両面に、プライマー処理を施し、接着剤層を形成することができる。この際は、かかる接着剤層の厚みは1000nm以下とする必要がある。接着剤層の厚みが厚すぎる場合は、共振特性に劣るものとなる。このように、密着性の観点からは、接着剤層の厚みは、適度な密着性を付与することができるように適宜選択すればよいが、共振特性の観点からは、薄い方が好ましく、好ましくは500nm以下、さらに好ましくは200nm以下である。本発明において、共振特性の観点からは、特に好ましい態様は接着剤層を有しない態様である。
かかるプライマー処理は、フィルムを製造する工程において所謂インラインコーティング法により、あるいはフィルムを製造した後に所謂オフラインコーティング法により行うことができる。
Similarly, from the viewpoint of improving the adhesion with the conductive layer M, at least one surface, preferably both surfaces, of the oriented film layer can be subjected to primer treatment to form an adhesive layer. In this case, the thickness of the adhesive layer needs to be 1000 nm or less. When the thickness of the adhesive layer is too thick, the resonance characteristics are inferior. As described above, from the viewpoint of adhesiveness, the thickness of the adhesive layer may be appropriately selected so that appropriate adhesiveness can be imparted. However, from the viewpoint of resonance characteristics, the thinner one is preferable, preferably Is 500 nm or less, more preferably 200 nm or less. In the present invention, from the viewpoint of resonance characteristics, a particularly preferred embodiment is an embodiment that does not have an adhesive layer.
Such primer treatment can be performed by a so-called in-line coating method in the process of producing a film, or by a so-called offline coating method after producing the film.

(蒸着工程、スパッタリング工程)
上記により得られた配向フィルム層Lおよび層Dの表面に、導電層Mを形成する。かかる導電層Mの形成は、従来公知の導電層の形成方法であれば特に限定されないが、優れた導電性を有する導電層を均一に、容易に得ることができるという観点から、蒸着法またはスパッタリング法を採用することが好ましい。
また、導電層Mは、配向フィルム層の両面に形成してもよいが、密着性の観点からは、片面のみに導電層Mを形成することが好ましい。
(Deposition process, sputtering process)
The conductive layer M is formed on the surfaces of the oriented film layer L and the layer D obtained as described above. The formation of the conductive layer M is not particularly limited as long as it is a conventionally known method for forming a conductive layer, but from the viewpoint that a conductive layer having excellent conductivity can be obtained uniformly and easily, vapor deposition or sputtering. It is preferable to adopt the method.
Moreover, although the conductive layer M may be formed on both surfaces of the oriented film layer, it is preferable to form the conductive layer M only on one surface from the viewpoint of adhesion.

(熱ラミネート工程)
上記により得られた導電層Mを有する配向フィルム層を、本発明が規定する積層構成となるように積層して積層体を作成し、熱ラミネートにより固着する。
かかる熱ラミネートにおける温度条件は、(Tg−5)〜(Tsm+20)℃とすることが好ましい。ここでTgは、積層フィルムの形成に用いる配向フィルム層Lを構成する樹脂Lのガラス転移温度および配向フィルム層Dを構成する樹脂Dのガラス転移温度のうち、最も高いガラス転移温度を示す。また、Tsmは、積層フィルムの形成に用いる配向フィルム層Lのサブピーク温度および配向フィルム層Dのサブピーク温度のうち、最も低いサブピーク温度を示す。なお、サブピーク温度とは、フィルム製造プロセスにおける熱固定温度に起因する温度であるである。上記温度条件を採用することにより、優れた共振特性を奏する積層フィルムを得ることができる。また、同時に、積層フィルムの各層の密着性に優れる。温度が低すぎると密着性に劣る傾向にあり、他方高すぎると配向が崩れてしまい共振特性に劣る傾向にある。このような観点より、さらに好ましい温度条件はTgからTsm+15であり、特に好ましくはTg+10〜Tsm+10である。
(Thermal lamination process)
The oriented film layer having the conductive layer M obtained as described above is laminated so as to have a laminated structure defined by the present invention to prepare a laminate, and is fixed by thermal lamination.
The temperature condition in such a heat laminate is preferably (Tg-5) to (Tsm + 20) ° C. Here, Tg indicates the highest glass transition temperature among the glass transition temperature of the resin L constituting the oriented film layer L used for forming the laminated film and the glass transition temperature of the resin D constituting the oriented film layer D. Tsm indicates the lowest sub-peak temperature among the sub-peak temperature of the oriented film layer L and the sub-peak temperature of the oriented film layer D used for forming the laminated film. In addition, subpeak temperature is temperature resulting from the heat setting temperature in a film manufacturing process. By adopting the above temperature condition, a laminated film having excellent resonance characteristics can be obtained. At the same time, the adhesion of each layer of the laminated film is excellent. If the temperature is too low, the adhesion tends to be inferior. On the other hand, if the temperature is too high, the orientation is lost and the resonance characteristics tend to be inferior. From such a viewpoint, more preferable temperature conditions are Tg to Tsm + 15, and particularly preferably Tg + 10 to Tsm + 10.

また、圧力条件は、2〜10MPaとすることが好ましい。これにより優れた共振特性を有しながら、密着性に優れた積層フィルムを得ることができる。圧力が低すぎると密着性に劣る傾向にあり、他方高すぎると共振特性に劣る傾向にある。このような観点より、さらに好ましい圧力条件は2〜8MPaであり、特に好ましくは2〜5MPaである。
以上のような温度条件および圧力条件において、10〜600秒の熱ラミネートを行うことが好ましい。これにより優れた共振特性を有しながら、密着性に優れた積層フィルムを得ることができる。時間が短すぎると密着性に劣る傾向にあり、他方長すぎると共振特性に劣る傾向にある。このような観点より、さらに好ましい時間条件は30〜300秒であり、特に好ましくは60〜180秒である。
The pressure condition is preferably 2 to 10 MPa. Thereby, it is possible to obtain a laminated film excellent in adhesion while having excellent resonance characteristics. If the pressure is too low, the adhesion tends to be inferior, whereas if the pressure is too high, the resonance characteristics tend to be inferior. From such a viewpoint, the more preferable pressure condition is 2 to 8 MPa, and particularly preferably 2 to 5 MPa.
It is preferable to perform thermal lamination for 10 to 600 seconds under the above temperature and pressure conditions. Thereby, it is possible to obtain a laminated film excellent in adhesion while having excellent resonance characteristics. If the time is too short, the adhesion tends to be inferior, while if too long, the resonance characteristics tend to be inferior. From such a viewpoint, a more preferable time condition is 30 to 300 seconds, and particularly preferably 60 to 180 seconds.

本発明の積層フィルムは、前述のように、(i)層L、層Dおよび導電層Mを積層し、(ii)少なくとも一方の表面には導電層Mを有し、(iii)層Lと層Dとは、導電層Mを介して交互に積層され、層Lと層Dとの合計数は3以上であり、(iv) 層Lと導電層Mとの間、および層Dと導電層Mとの間には、厚み1000nmを超える接着剤層が存在しない積層体を準備し、
(2)該積層体を、温度(Tg−5)〜(Tsm+20)℃、圧力2〜10MPa、時間10〜600秒で熱ラミネートする、
(ただし、上記Tgは、層Lを構成する樹脂Lのガラス転移温度および層Dを構成する樹脂Lのガラス転移温度のうち、最も高いガラス転移温度である。上記Tsmは、層Lのサブピーク温度および層Dのサブピーク温度のうち、最も低いサブピーク温度である。)
各工程により製造することができる。
As described above, the laminated film of the present invention comprises (i) the layer L, the layer D, and the conductive layer M, (ii) the conductive layer M on at least one surface, and (iii) the layer L The layers D are alternately stacked via the conductive layer M, and the total number of the layers L and D is 3 or more. (Iv) Between the layer L and the conductive layer M, and between the layer D and the conductive layer Prepare a laminate with no adhesive layer exceeding 1000 nm in thickness between M and
(2) The laminate is thermally laminated at a temperature (Tg-5) to (Tsm + 20) ° C., a pressure of 2 to 10 MPa, and a time of 10 to 600 seconds.
(However, Tg is the highest glass transition temperature among the glass transition temperature of the resin L constituting the layer L and the glass transition temperature of the resin L constituting the layer D. The Tsm is the sub-peak temperature of the layer L. And the lowest sub-peak temperature among the sub-peak temperatures of layer D.)
It can be manufactured by each process.

[層Lおよび/または層Dに添加しても良い成分]
(カルボキシル基封止剤)
本発明の積層フィルムを構成する層Lおよび層Dは、すなわち、層Lを構成する樹脂Lおよび層Dを構成する樹脂Dは、それぞれ独立して、いずれもカルボキシル基量は10当量/10g以下であることが、フィルムキャスティング時の安定性、加水分解抑制、重量平均分子量低下抑制の観点から好ましく、このような観点から、カルボキシル基量は5当量/10g以下であることがさらに好ましく、2当量/10g以下であることが特に好ましい。このような態様とするために、本発明においては、用途に応じて層Lおよび/または層Dにカルボキシル基封止剤を配合することが好ましい。カルボキシル基封止剤は、ポリ乳酸等のポリエステルの末端カルボキシル基の封止に加え、ポリエステルや各種添加剤の分解反応で生成するカルボキシル基、乳酸、ギ酸などの低分子化合物のカルボキシル基を封止し樹脂を安定化することができ、フィルム化時の樹脂温度を、流動斑を抑えるに足る温度まで昇温できる利点ももたらす。
[Components that may be added to Layer L and / or Layer D]
(Carboxyl group blocking agent)
The layer L and the layer D that constitute the laminated film of the present invention, that is, the resin L that constitutes the layer L and the resin D that constitutes the layer D each independently have a carboxyl group amount of 10 equivalents / 10 6. g or less is preferable from the viewpoints of stability during film casting, hydrolysis inhibition, and weight average molecular weight reduction suppression, and from this viewpoint, the carboxyl group amount is further 5 equivalents / 10 6 g or less. It is preferably 2 equivalents / 10 6 g or less. In order to set it as such an aspect, in this invention, it is preferable to mix | blend a carboxyl group sealing agent with the layer L and / or the layer D according to a use. Carboxyl group sealant seals terminal carboxyl groups of polyesters such as polylactic acid, as well as carboxyl groups generated by decomposition reactions of polyester and various additives, and carboxyl groups of low molecular compounds such as lactic acid and formic acid. The resin can be stabilized, and there is an advantage that the resin temperature at the time of film formation can be raised to a temperature sufficient to suppress flow spots.

かかるカルボキシル基封止剤としては、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、イソシアネート化合物から選択される少なくとも1種の化合物を使用することが好ましく、なかでもカルボジイミド化合物が好ましい。
カルボキシル基封止剤の使用量は、層Lまたは層Dの各層を構成する樹脂において、ポリ乳酸100質量部あたり、0.01〜10質量部が好ましく、0.03〜5質量部がさらに好ましい。本発明においては、さらに封止反応触媒を使用してもよい。
As such a carboxyl group-capping agent, it is preferable to use at least one compound selected from a carbodiimide compound, an epoxy compound, an oxazoline compound, an oxazine compound, and an isocyanate compound, and among them, a carbodiimide compound is preferable.
The amount of the carboxyl group sealing agent used is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.03 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of polylactic acid in the resin constituting each layer of layer L or layer D. . In the present invention, a sealing reaction catalyst may be further used.

(滑剤)
本発明においては、各配向フィルム層および積層フィルムの巻き取りや走行性を改良する目的で、これらフィルム中に滑剤を含有することができる。
かかる滑剤としては、例えば乾式法で製造されたシリカ、湿式法で製造されたシリカ、ゼオライト、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、カオリン、カオリナイト、クレイ、タルク、酸化チタン、アルミナ、ジルコニア、水酸化アルミニウム、酸化カルシウム、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、炭化珪素、酸化スズ等の無機粒子や、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン樹脂粒子等の有機微粒子を好ましく挙げることができる。
滑剤としては、平均粒径が0.001〜5.0μmの微粒子が好ましく、1種類で使用することもできるし2種類以上併用することも可能である。また滑剤は、層Lまたは層Dの各層の質量に対して、0.01〜0.5質量%の範囲で配合することができる。
(Lubricant)
In the present invention, a lubricant may be contained in these films for the purpose of improving the winding and running properties of each oriented film layer and laminated film.
Examples of such lubricants include silica produced by a dry method, silica produced by a wet method, zeolite, calcium carbonate, calcium phosphate, kaolin, kaolinite, clay, talc, titanium oxide, alumina, zirconia, aluminum hydroxide, Preferable examples include inorganic particles such as calcium oxide, graphite, carbon black, zinc oxide, silicon carbide, and tin oxide, and organic fine particles such as crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, melamine resin particles, and crosslinked silicone resin particles. .
As the lubricant, fine particles having an average particle diameter of 0.001 to 5.0 μm are preferable, and one kind can be used, or two or more kinds can be used in combination. Moreover, a lubricant can be mix | blended in 0.01-0.5 mass% with respect to the mass of each layer of the layer L or the layer D. FIG.

(樹脂成分)
本発明における層Lおよび/または層Dには、それぞれ独立して、耐熱性を付与する目的において、ポリ乳酸よりも高融点の樹脂成分を含有することができる。
かかる樹脂成分は、ポリ乳酸よりも、融点が3℃同等以上高いことが好ましく、耐熱性の向上効果を高くすることができる。このような観点から、樹脂成分の融点は、ポリ乳酸よりも5℃以上高いことがさらに好ましく、10℃以上高いことが特に好ましい。
かかる樹脂成分としては、例えば、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリスチレン等を好ましく挙げることができる。
(Resin component)
The layer L and / or the layer D in the present invention can each independently contain a resin component having a melting point higher than that of polylactic acid for the purpose of imparting heat resistance.
Such a resin component preferably has a melting point equal to or higher by 3 ° C. or more than polylactic acid, and can improve the heat resistance improvement effect. From such a viewpoint, the melting point of the resin component is more preferably 5 ° C. or more higher than that of polylactic acid, and particularly preferably 10 ° C. or more.
Preferred examples of the resin component include polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, stereocomplex phase polylactic acid, polyetherimide, polyphenylene ether, poly (meth) acrylamide, and polystyrene.

樹脂成分の含有量は、各層の質量を基準として、10〜50質量%であることが好ましい。含有量が上記数値範囲にあると、優れた共振特性を保持したまま、優れた耐熱性を付与することができる。含有量が少なすぎる場合は、耐熱性の向上効果が低くなる傾向にある。このような観点から、樹脂成分の含有量は、さらに好ましくは20質量%以上、特に好ましくは30質量%以上である。他方、含有量が多すぎる場合は、各層の圧電性が低くなる傾向にあり、共振特性の向上効果が低くなる傾向にある。このような観点から、樹脂成分の含有量は、さらに好ましくは45質量%以下、特に好ましくは40質量%以下である。
樹脂成分を含有させる方法は特に限定されず、例えば配向フィルム層を構成するポリ乳酸のペレットと、樹脂成分のペレットとをあらかじめ混合したペレットの混合体を得て、かかる混合体を押出機に投入して、押出機内でポリ乳酸と樹脂成分とを溶融混練することができる。
The content of the resin component is preferably 10 to 50% by mass based on the mass of each layer. When the content is in the above numerical range, excellent heat resistance can be imparted while maintaining excellent resonance characteristics. When the content is too small, the effect of improving heat resistance tends to be low. From such a viewpoint, the content of the resin component is more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more. On the other hand, when the content is too large, the piezoelectricity of each layer tends to be low, and the effect of improving the resonance characteristics tends to be low. From such a viewpoint, the content of the resin component is more preferably 45% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
The method of containing the resin component is not particularly limited. For example, a mixture of pellets of polylactic acid constituting the oriented film layer and pellets of the resin component are obtained in advance, and the mixture is put into an extruder. Thus, the polylactic acid and the resin component can be melt-kneaded in the extruder.

(その他の添加剤)
また、層Lおよび/または層Dには、本発明の趣旨に反しない範囲において、酸化防止剤、帯電防止剤、着色剤、顔料、蛍光蒼白剤、可塑剤、架橋剤、紫外線吸収剤、その他の樹脂等を必要に応じて添加することができる。
(Other additives)
In addition, the layer L and / or the layer D are provided with an antioxidant, an antistatic agent, a colorant, a pigment, a fluorescent whitening agent, a plasticizer, a cross-linking agent, an ultraviolet absorber, and the like, as long as they do not contradict the spirit of the present invention. These resins can be added as necessary.

[圧電性構造体]
本発明によれば、本発明の積層フィルムおよび電極を有する圧電性構造体が提供される。該圧電性構造体は、本発明の積層フィルムの表面の導電層Mを1層目として、そこから順に数えて奇数層目の導電層Mと偶数層目の導電層Mとに分けたときに、奇数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており偶数層目の導電層Mとは短絡しておらず、偶数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており奇数層目の導電層Mとは短絡していない構造を有する。
[Piezoelectric structure]
According to this invention, the piezoelectric structure which has the laminated | multilayer film and electrode of this invention is provided. When the piezoelectric structure is divided into an odd-numbered conductive layer M and an even-numbered conductive layer M, counting from the conductive layer M on the surface of the laminated film of the present invention as the first layer. The odd-numbered conductive layers M are short-circuited by the electrodes and are not short-circuited by the even-numbered conductive layers M, and the even-numbered conductive layers M are short-circuited by the electrodes. The conductive layer M has a structure that is not short-circuited.

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれにより何ら限定を受けるものではない。なお、実施例中の各値は以下の方法に従って求めた。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention does not receive limitation at all by this. In addition, each value in an Example was calculated | required according to the following method.

(1)共振特性
得られた積層フィルムの両方の短辺に、図3に示すごとく、導電性接着剤(藤倉化成製、ドータイトD550)を塗布して電極(符号6)を形成し、圧電性構造体を作成した。これにより、各アルミ蒸着層において、マージンを有する側においてはかかる導電性接着剤とアルミ蒸着層とが短絡せず、マージンを有しない側においてはかかる導電性接着剤とアルミ蒸着層とが短絡した構成となる。
次に、この積層体の片方の表面に、アクリル板(10cm×5cm、厚み5mm)をグリースを介して、積層フィルムの長辺とアクリル板の長辺が同方向となるような向きで貼り合わせた。
アクリル板を下面にして、水平な机上に静置し、上記で形成した電極に、電圧600Vpp、周波数5.0kHzで電圧印加し、サンプルの動きを観察し、以下の指標により評価を行った。
◎:非常に激しく振動し、5cm以上移動する。
○:激しく振動し、1cm以上5cm未満移動する。
△:振動し、1cm未満移動する。
×:振動せず、移動しない。
(1) Resonance characteristics As shown in FIG. 3, a conductive adhesive (made by Fujikura Kasei, Dotite D550) is applied to both short sides of the obtained laminated film to form an electrode (symbol 6), and piezoelectricity Created a structure. Thus, in each aluminum vapor deposition layer, the conductive adhesive and the aluminum vapor deposition layer are not short-circuited on the side having a margin, and the conductive adhesive and the aluminum vapor deposition layer are short-circuited on the side having no margin. It becomes composition.
Next, an acrylic plate (10 cm x 5 cm, thickness 5 mm) is bonded to one surface of this laminate with grease so that the long side of the laminated film and the long side of the acrylic plate are in the same direction. It was.
The acrylic plate was placed on the lower surface, and the plate was placed on a horizontal desk. A voltage was applied to the electrode formed as described above at a voltage of 600 Vpp and a frequency of 5.0 kHz, and the movement of the sample was observed.
A: Vibrates very vigorously and moves 5 cm or more.
○: Vibrates vigorously and moves from 1 cm to less than 5 cm.
Δ: Vibrates and moves less than 1 cm.
X: It does not vibrate and does not move.

(2)積層フィルムの剥離
積層フィルムの端部をしごく等して切欠をつくり、各層を剥離し、配向フィルム層Lおよび層Dを剥離して取り出し、各層についての物性評価に用いた。
(3)屈折率
積層フィルムから剥離したフィルムサンプルについて、Metricon社製のレーザー屈折率測定装置を用い、プリズムカプラ(633nm)波長で測定した。プリズムに密着させたサンプルに、プリズムを通じてレーザー光を入射し、プリズムを回転させてサンプルへの入射角を変える。サンプル表面で反射した光を測定し、光量の入射角依存をモニターし臨界角に相当する屈折率を求めた。
(4)密度
積層フィルムから剥離したフィルムサンプルについて、JIS規格 C2151に準じて測定した。
(5)主配向方向
積層フィルムから剥離したフィルムサンプルについて、フィルムの面内において、0°(MD)〜90°(TD)〜180°として、5°ピッチで、上記(2)で記載の方法で面内の屈折率を測定し、最も屈折率の高い方向を主配向方向とした。これを全ての配向フィルム層について測定し、主配向方向の最大角度と最小角度との差を「なす角度」とした。
(2) Peeling of laminated film The end of the laminated film was squeezed to make a notch, each layer was peeled off, the oriented film layer L and layer D were peeled off, and used for evaluating physical properties of each layer.
(3) Refractive index The film sample peeled from the laminated film was measured at a prism coupler (633 nm) wavelength using a laser refractive index measuring device manufactured by Metricon. Laser light is incident on the sample in close contact with the prism through the prism, and the prism is rotated to change the incident angle on the sample. The light reflected from the sample surface was measured, and the dependence of the amount of light on the incident angle was monitored to determine the refractive index corresponding to the critical angle.
(4) Density The film sample peeled from the laminated film was measured according to JIS standard C2151.
(5) Main orientation direction About the film sample which peeled from the laminated | multilayer film, in the plane of a film, it is 0 degrees (MD)-90 degrees (TD)-180 degrees, and the method as described in said (2) by 5 degree pitch The in-plane refractive index was measured, and the direction with the highest refractive index was defined as the main orientation direction. This was measured for all the oriented film layers, and the difference between the maximum angle and the minimum angle in the main alignment direction was defined as an “angle”.

(6)ガラス転移温度(Tg)、サブピーク温度(Tsm)、融点(Tm)
製膜により得られた、積層フィルムとする前の配向フィルム層について、サンプル約10mgを測定用のアルミニウム製パンに封入して示差熱量計(TAinstruments社製商品名「DSC2920」)に装着し、25℃から20℃/分の速度で250℃まで昇温させ、フィルムのサブピーク温度(Tsm:℃)および融点(Tm:℃)を測定した。次いで、引き続き250℃で5分間保持した後、取り出し、直ちに氷の上に移して急冷し、このパンを再度示差熱量計に装着し、25℃から10℃/分の速度で昇温させて、フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度(Tg:℃)および融点(Tm:℃)を測定した。
(7)導電性(表面抵抗値)
三菱化学社製、商品名:Lorester MCP−T600を用いて、JIS K7194に準拠して測定した。測定は、1つのフィルムから3つの測定用サンプル片を採取し、それぞれ任意の5箇所について実施し、それらの平均値を表面抵抗値(単位:Ω/□)とした。
(6) Glass transition temperature (Tg), sub-peak temperature (Tsm), melting point (Tm)
About the oriented film layer obtained as a laminated film before forming a laminated film, about 10 mg of a sample is enclosed in an aluminum pan for measurement and attached to a differential calorimeter (trade name “DSC2920” manufactured by TA instruments), 25 The film was heated from 250 ° C. to 250 ° C. at a rate of 20 ° C./min, and the sub-peak temperature (Tsm: ° C.) and melting point (Tm: ° C.) of the film were measured. Subsequently, after continuously holding at 250 ° C. for 5 minutes, it is taken out, immediately transferred onto ice and rapidly cooled, this pan is again attached to the differential calorimeter, and the temperature is raised from 25 ° C. at a rate of 10 ° C./min. The glass transition temperature (Tg: ° C.) and melting point (Tm: ° C.) of the resin constituting the film were measured.
(7) Conductivity (surface resistance value)
It measured based on JISK7194 using Mitsubishi Chemical Corporation make and brand name: Lorester MCP-T600. The measurement was performed by taking three measurement sample pieces from one film and carrying out the measurement at five arbitrary locations, and taking the average value as the surface resistance value (unit: Ω / □).

[参考例1]ラクチドの溶融開環重合によるポリL−乳酸(PLLA)の合成
真空配管および窒素ガス配管、触媒、L−ラクチド溶液添加配管、アルコール開始剤添加配管を具備したフルゾーン翼具備縦型攪拌槽(40L)を窒素置換した。その後、L−ラクチド30Kg、ステアリルアルコール0.90kg(0.030モル/kg)、オクチル酸スズ6.14g(5.05×10−4モル/1kg)を仕込み、窒素圧106.4kPaの雰囲気下、150℃に昇温した。内容物が溶解した時点で、攪拌を開始、内温をさらに190℃に昇温した。内温が180℃を超えると反応が始まるため、冷却しながら内温を185℃から190℃に保持し1時間反応を継続した。さらに攪拌しつつ、窒素圧106.4kPa、内温200℃から210℃で1時間反応を行なった後、攪拌を停止しリン系の触媒失活剤を添加した。
さらに20分間静置して気泡除去をおこなった後、内圧を窒素圧で2から3気圧に昇圧し、プレポリマーをチップカッターに押し出し、重量平均分子量13万、分子量分散1.8のプレポリマーをペレット化した。
さらに、ペレットを押出機で溶解させ、無軸籠型反応装置に15kg/hrで投入し、10.13kPaに減圧して残留するラクチドを低減処理し、それを再度チップ化した。得られたポリL−乳酸(PLLA)は、ガラス転移点温度(Tg)55℃、融点(Tm)175℃、重量平均分子量12万、分子量分散1.8、ラクチド含有量0.005質量%であった。
[Reference Example 1] Synthesis of poly L-lactic acid (PLLA) by melt ring-opening polymerization of lactide Vertical type equipped with full zone blades equipped with vacuum piping and nitrogen gas piping, catalyst, L-lactide solution addition piping, and alcohol initiator addition piping The stirring tank (40 L) was purged with nitrogen. Thereafter, 30 kg of L-lactide, 0.90 kg of stearyl alcohol (0.030 mol / kg), and 6.14 g of tin octylate (5.05 × 10 −4 mol / 1 kg) were charged in an atmosphere with a nitrogen pressure of 106.4 kPa. The temperature was raised to 150 ° C. When the contents were dissolved, stirring was started and the internal temperature was further raised to 190 ° C. Since the reaction started when the internal temperature exceeded 180 ° C., the internal temperature was maintained from 185 ° C. to 190 ° C. while cooling and the reaction was continued for 1 hour. The reaction was further carried out at a nitrogen pressure of 106.4 kPa and an internal temperature of 200 ° C. to 210 ° C. for 1 hour while stirring, and then stirring was stopped and a phosphorus-based catalyst deactivator was added.
After removing the bubbles by standing still for 20 minutes, the internal pressure was increased from 2 to 3 atm with nitrogen pressure, the prepolymer was pushed out to a chip cutter, and a prepolymer having a weight average molecular weight of 130,000 and a molecular weight dispersion of 1.8 was obtained. Pelletized.
Further, the pellets were dissolved by an extruder, charged into a non-axial vertical reactor at 15 kg / hr, reduced in pressure to 10.13 kPa to reduce the remaining lactide, and chipped again. The obtained poly L-lactic acid (PLLA) has a glass transition temperature (Tg) of 55 ° C., a melting point (Tm) of 175 ° C., a weight average molecular weight of 120,000, a molecular weight dispersion of 1.8, and a lactide content of 0.005% by mass. there were.

[参考例2]ラクチドの溶融開環重合によるポリD−乳酸(PDLA)の合成
また、L−ラクチドの代わりにD−ラクチドを使用する以外は上記と同様にして、ガラス転移点温度(Tg)55℃、融点(Tm)175℃、重量平均分子量12万、分子量分散1.8、ラクチド含有量0.005質量%のポリD−乳酸(PDLA)を得た。
[Reference Example 2] Synthesis of poly D-lactic acid (PDLA) by melt ring-opening polymerization of lactide Glass transition temperature (Tg) in the same manner as above except that D-lactide was used instead of L-lactide. Poly-D-lactic acid (PDLA) having a temperature of 55 ° C., a melting point (Tm) of 175 ° C., a weight average molecular weight of 120,000, a molecular weight dispersion of 1.8, and a lactide content of 0.005% by mass was obtained.

[実施例1]
(配向フィルム層Lの製造)
参考例1で得られたPLLAを、乾燥機を用いて十分に乾燥させた後、押出機に投入し、210℃で溶融し、溶融樹脂をダイより押し出して単層のシート状に成形し、かかるシートを表面温度20℃の冷却ドラムで冷却固化して未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを、75℃に加熱したロール群に導き、縦方向に1.1倍に延伸し、25℃のロール群で冷却した。続いて、縦延伸したフィルムの両端をクリップで保持しながらテンターに導き、80℃に加熱された雰囲気中で横方向に4.0倍に延伸した。その後テンター内で110℃の温度条件で30秒間の熱処理を行い、次いで100℃で1%幅方向に熱弛緩した後、均一に徐冷して室温まで冷やして5μm厚みの二軸配向ポリL−乳酸単層フィルムを得た。
[Example 1]
(Manufacture of oriented film layer L)
The PLLA obtained in Reference Example 1 was sufficiently dried using a dryer, then charged into an extruder, melted at 210 ° C., and the molten resin was extruded from a die and formed into a single-layer sheet, The sheet was cooled and solidified with a cooling drum having a surface temperature of 20 ° C. to obtain an unstretched film. The obtained unstretched film was led to a roll group heated to 75 ° C., stretched 1.1 times in the longitudinal direction, and cooled by a roll group at 25 ° C. Subsequently, the both ends of the longitudinally stretched film were guided to a tenter while being held by clips, and stretched 4.0 times in the transverse direction in an atmosphere heated to 80 ° C. Thereafter, a heat treatment is performed in a tenter at a temperature of 110 ° C. for 30 seconds, followed by heat relaxation at 100 ° C. in the 1% width direction, and then uniformly cooled and cooled to room temperature, and 5 μm thick biaxially oriented poly L- A lactic acid monolayer film was obtained.

(配向フィルム層Dの製造)
参考例2で得られたPDLAを用いて、配向フィルム層Lと同様にして、5μm厚みの二軸配向ポリD−乳酸単層フィルムを得た。
(Manufacture of oriented film layer D)
Using the PDLA obtained in Reference Example 2, a biaxially oriented poly-D-lactic acid monolayer film having a thickness of 5 μm was obtained in the same manner as the oriented film layer L.

(コロナ処理)
上記で得られた各配向フィルム層の、導電層Mを形成する側の表面に、カスガ製、高周波電源CG−102型を用いて、電圧10kV、処理時間20秒の条件でコロナ処理を施した。
(Corona treatment)
The surface of each oriented film layer obtained above on the side where the conductive layer M is to be formed was subjected to corona treatment under the conditions of a voltage of 10 kV and a treatment time of 20 seconds using a high-frequency power source CG-102 manufactured by Kasuga. .

(導電層Mの形成)
上記で得られた各配向フィルム層の主配向軸方向に対して、長辺が45°方向となるように、長辺6cm×短辺3cmの長方形にサンプルを切り出した。次いで、かかるサンプルにおいて、図2に示すごとく、片方の短辺から1cmの領域(3cm×1cmの領域)をマージンとしてマスキングする等して蒸着しない箇所(符号5)として残し、残りの領域(3cm×5cmの領域)に、表面抵抗値が50Ω/□となるような厚みでアルミ蒸着を施した(符号4)。かかるサンプルを、配向フィルム層Lについて10枚、層Dについて10枚、合計20枚作成した。なお、マージンの位置は、図2に示すごとく、層Lと層Dとで、それぞれ反対側の短辺においてマージンを作成した。
(Formation of conductive layer M)
A sample was cut into a rectangle with a long side of 6 cm and a short side of 3 cm so that the long side was 45 ° with respect to the main alignment axis direction of each oriented film layer obtained above. Then, in such a sample, as shown in FIG. 2, a 1 cm region (3 cm × 1 cm region) from one short side is masked as a margin to leave as a non-deposited portion (reference numeral 5), and the remaining region (3 cm In a region of × 5 cm, aluminum was deposited with a thickness such that the surface resistance value was 50Ω / □ (reference numeral 4). A total of 20 such samples were prepared for the oriented film layer L and 10 for the layer D. In addition, as shown in FIG. 2, margins were created on the short sides on the opposite sides of layer L and layer D, respectively.

(積層体の作成)
得られた導電層Mを有する配向フィルム層Lおよび層Dを、図2に示すごとく、導電層Mを有する面を上向きにして、長辺どうしおよび短辺どうしを合わせて、層Lと層Dとが交互になるように、かつマージンが交互となるように(層L上の導電層Mのマージンを一方の短辺に揃え、層D上の導電層Mのマージンはもう一方の短辺に揃える。)、各10枚、合計20枚を積層させて、積層体を作成した。
(Create laminate)
As shown in FIG. 2, the obtained oriented film layer L and layer D having the conductive layer M are arranged so that the surfaces having the conductive layer M face up and the long sides and the short sides are combined, and the layers L and D And the margins of the conductive layer M on the layer L are aligned with one short side, and the margin of the conductive layer M on the layer D is aligned with the other short side. And a total of 20 sheets were laminated to make a laminate.

(熱ラミネート)
得られた積層体を、温度110℃、圧力2MPaの条件で3分間加熱プレス処理を行い、熱ラミネートを施し、積層フィルムを得た。
得られた積層フィルムについて、各評価を行った結果を表1に示す。
(Thermal lamination)
The obtained laminate was subjected to a heat press treatment for 3 minutes under conditions of a temperature of 110 ° C. and a pressure of 2 MPa to give a heat laminate, thereby obtaining a laminated film.
Table 1 shows the results of each evaluation performed on the obtained laminated film.

[実施例2〜13]
各層の製造条件、構成およびラミネート条件を表1に示すとおりとする以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを得て、各評価を行った。結果を表1に示す。
[Examples 2 to 13]
A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the production conditions, configuration and lamination conditions of each layer were as shown in Table 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
実施例1において、積層体を作成する際に、配向フィルム層Lおよび層Dの、導電層Mを有しない側の表面にエポキシ系接着剤を塗布して厚み2μmの接着剤層を形成してから熱ラミネートを施した以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを得て、各評価を行った。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, when creating a laminate, an epoxy adhesive was applied to the surface of the oriented film layer L and the layer D on the side not having the conductive layer M to form an adhesive layer having a thickness of 2 μm. A laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that thermal lamination was performed, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 1.

[実施例14]
(接着剤層を有する配向フィルム層Lの製造)
参考例1で得られたPLLAを、乾燥機を用いて十分に乾燥させた後、押出機に投入し、210℃で溶融し、溶融樹脂をダイより押し出して単層のシート状に成形し、かかるシートを表面温度20℃の冷却ドラムで冷却固化して未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを、75℃に加熱したロール群に導き、縦方向に1.1倍に延伸し、25℃のロール群で冷却した。次いで、縦延伸したフィルムの片面に、以下の塗布層用組成物からなる固形分濃度3%の水性塗液をロールコーターで均一に塗布した。続いて、フィルムの両端をクリップで保持しながらテンターに導き、85℃に加熱された雰囲気中で横方向に4.0倍に延伸した。その後テンター内で110℃の温度条件で30秒間の熱処理を行い、次いで100℃で1%幅方向に熱弛緩した後、均一に徐冷して室温まで冷やして、接着剤層を有する、5μm厚みの二軸配向ポリL−乳酸単層フィルムを得た。なお、乾燥後の接着剤層の厚みは、200nmとなるように塗布を行った。
[Example 14]
(Production of oriented film layer L having an adhesive layer)
The PLLA obtained in Reference Example 1 was sufficiently dried using a dryer, then charged into an extruder, melted at 210 ° C., and the molten resin was extruded from a die and formed into a single-layer sheet, The sheet was cooled and solidified with a cooling drum having a surface temperature of 20 ° C. to obtain an unstretched film. The obtained unstretched film was led to a roll group heated to 75 ° C., stretched 1.1 times in the longitudinal direction, and cooled by a roll group at 25 ° C. Next, an aqueous coating solution having a solid content concentration of 3% composed of the following coating layer composition was uniformly coated on one side of the longitudinally stretched film with a roll coater. Subsequently, both ends of the film were guided to a tenter while being held by clips, and stretched 4.0 times in the transverse direction in an atmosphere heated to 85 ° C. After that, heat treatment is performed in a tenter at a temperature of 110 ° C. for 30 seconds, then heat relaxed at 100 ° C. in the 1% width direction, and then uniformly cooled and cooled to room temperature to have a 5 μm thickness having an adhesive layer A biaxially oriented poly L-lactic acid monolayer film was obtained. In addition, it apply | coated so that the thickness of the adhesive bond layer after drying might be set to 200 nm.

塗布層用組成物:
塗布層用組成物は、以下のアクリル、ポリエステル、粒子、濡れ剤、添加剤を、得られる接着剤層における各成分の固形分比率が、アクリル25質量%、ポリエステル62質量%、粒子3質量%、濡れ剤5質量%、添加剤5質量%となるように、各成分を混合し、イオン交換水で希釈して作成した。
アクリル: メチルメタクリレート30モル%/2−イソプロペニル−2−オキサゾリン30モル%/ポリエチレンオキシド(n=10)メタクリレート10モル%/アクリルアミド30モル%で構成されているアクリル樹脂(Tg=50℃)を用いた。なお、アクリル樹脂は次の方法で製造されたものであり、特開昭63−37167号公報の製造例1〜3に記載の方法に準じている。すなわち、四つ口フラスコに、イオン交換水302部を仕込んで窒素気流中で60℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム0.5部、亜硝酸水素ナトリウム0.2部を添加し、更にモノマー類である、メタクリル酸メチル23.3部、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン22.6部、ポリエチレンオキシド(n=10)メタクリル酸40.7部、アクリルアミド13.3部の混合物を3時間にわたり、液温が60〜70℃になるよう調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に2時間保持しつつ、撹拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が25%のアクリルの水分散体を得た。
Composition for coating layer:
The composition for coating layer is composed of the following acrylic, polyester, particles, wetting agent, and additive, and the solid content ratio of each component in the resulting adhesive layer is 25% by mass of acrylic, 62% by mass of polyester, and 3% by mass of particles. Each component was mixed and diluted with ion-exchanged water so that the wetting agent was 5% by mass and the additive was 5% by mass.
Acrylic: acrylic resin (Tg = 50 ° C.) composed of 30% by mole of methyl methacrylate / 2% by mole of 2-isopropenyl-2-oxazoline / 10% by mole of polyethylene oxide (n = 10) methacrylate / 30% by mole of acrylamide Using. The acrylic resin was produced by the following method, and conformed to the method described in Production Examples 1 to 3 of JP-A No. 63-37167. That is, 302 parts of ion-exchanged water was charged into a four-necked flask and heated to 60 ° C. in a nitrogen stream, and then 0.5 parts of ammonium persulfate and 0.2 part of sodium hydrogen nitrite were added as a polymerization initiator. Furthermore, a mixture of monomers, 23.3 parts of methyl methacrylate, 22.6 parts of 2-isopropenyl-2-oxazoline, 40.7 parts of polyethylene oxide (n = 10) methacrylic acid, and 13.3 parts of acrylamide. The solution was added dropwise over 3 hours while adjusting the liquid temperature to 60 to 70 ° C. After completion of dropping, the reaction was continued with stirring while maintaining the same temperature range for 2 hours, and then cooled to obtain an acrylic aqueous dispersion having a solid content of 25%.

ポリエステル: 酸成分が2,6−ナフタレンジカルボン酸63モル%/イソフタル酸32モル%/5−ナトリウムスルホイソフタル酸5モル% 、グリコール成分がエチレングリコール90モル%/ジエチレングリコール10モル%で構成されているポリエステル(Tg=76℃、平均分子量12000)を用いた。なお、ポリエステルは次の方法で製造したものであり、特開平06−116487号公報の実施例1に記載の方法に準じている。すなわち、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル42部、イソフタル酸ジメチル17部、5−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル4部、エチレングリコール33部、ジエチレングリコール2部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン0.05部を添加して窒素雰囲気下で温度を230℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に255℃まで上昇させ系内を1mmHgの減圧にして重縮合反応を行い、ポリエステルを得た。 Polyester: The acid component is composed of 63 mol% of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 32 mol% of isophthalic acid / 5 mol% of 5-sodium sulfoisophthalic acid, and the glycol component is composed of 90 mol% of ethylene glycol / 10 mol% of diethylene glycol. Polyester (Tg = 76 ° C., average molecular weight 12000) was used. Polyester was produced by the following method and conformed to the method described in Example 1 of JP-A No. 06-116487. That is, 42 parts of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, 17 parts of dimethyl isophthalate, 4 parts of dimethyl 5-sodium sulfoisophthalate, 33 parts of ethylene glycol and 2 parts of diethylene glycol were charged into a reactor. 05 parts were added, the temperature was controlled at 230 ° C. in a nitrogen atmosphere, and the resulting methanol was distilled off to conduct a transesterification reaction. Subsequently, the temperature of the reaction system was gradually raised to 255 ° C., and the pressure inside the system was reduced to 1 mmHg to carry out a polycondensation reaction to obtain a polyester.

粒子: シリカの無機粒子(平均粒径:100nm)を用いた。 Particles: Silica inorganic particles (average particle size: 100 nm) were used.

濡れ剤: ポリオキシエチレン(n=7)ラウリルエーテル(三洋化成株式会社製、商品名「ナロアクティーN−70」)を用いた。 Wetting agent: Polyoxyethylene (n = 7) lauryl ether (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., trade name “Naroacty N-70”) was used.

添加剤: カルナバワックス(中京油脂株式会社製、商品名「セロゾール524」)を用いた。 Additive: Carnauba wax (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd., trade name “Cerosol 524”) was used.

(接着剤層を有する配向フィルム層Dの製造)
参考例2で得られたPDLAを用いて、上記の接着剤層を有する配向フィルム層Lと同様にして、接着剤層を有する、5μm厚みの二軸配向ポリD−乳酸単層フィルムを得た。
上記で得られた各配向フィルム層を用いて、コロナ処理は施さず、導電層Mは、各配向フィルムの接着剤層の上に形成した以外は、実施例1と同様にして積層フィルムを得た。得られた積層フィルムについて、各評価を行った結果を表1に示す。
(Production of oriented film layer D having an adhesive layer)
Using the PDLA obtained in Reference Example 2, a biaxially oriented poly D-lactic acid monolayer film having a thickness of 5 μm having an adhesive layer was obtained in the same manner as the oriented film layer L having the adhesive layer. .
Using each of the oriented film layers obtained above, no corona treatment was performed, and a laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer M was formed on the adhesive layer of each oriented film. It was. Table 1 shows the results of each evaluation performed on the obtained laminated film.

本発明によれば、電圧印加により共振特性を示すような積層フィルムを容易に得ることができる。よって、本発明の積層フィルムは、マイクロホン、ピックアップ、ブザー、スピーカー、光スイッチ、ファン等の振動体として用いることができる。   According to the present invention, it is possible to easily obtain a laminated film that exhibits resonance characteristics by voltage application. Therefore, the laminated film of the present invention can be used as a vibrating body such as a microphone, a pickup, a buzzer, a speaker, an optical switch, or a fan.

1 配向フィルム層L
2 配向フィルム層D
3 導電層M
4 蒸着した箇所
5 蒸着しない箇所
6 電極
1 Oriented film layer L
2 Oriented film layer D
3 Conductive layer M
4 Locations where vapor deposition 5 Locations where vapor deposition is not performed 6 Electrode

Claims (9)

(i)ポリL−乳酸を主たる成分とする樹脂Lからなる配向フィルム層L、ポリD−乳酸を主たる成分とする樹脂Dからなる配向フィルム層D、および導電層Mを有し、
(ii)少なくとも一方の表面には導電層Mを有し、
(iii)層Lと層Dとは、導電層Mを介して交互に積層され、層Lと層Dとの合計数は3以上であり、
(iv)層Lと導電層Mとの間、および層Dと導電層Mとの間には、厚み1000nmを超える接着剤層が存在しない、
積層フィルム。
(I) having an oriented film layer L made of a resin L containing poly L-lactic acid as a main component, an oriented film layer D made of a resin D containing poly D-lactic acid as a main component, and a conductive layer M;
(Ii) having a conductive layer M on at least one surface;
(Iii) Layer L and layer D are alternately stacked via conductive layer M, and the total number of layers L and D is 3 or more,
(Iv) There is no adhesive layer exceeding a thickness of 1000 nm between the layer L and the conductive layer M and between the layer D and the conductive layer M.
Laminated film.
層Lの主配向方向と層Dの主配向方向との成す角が10度以下である請求項1に記載の積層フィルム。 The laminated film according to claim 1, wherein an angle formed by the main alignment direction of the layer L and the main alignment direction of the layer D is 10 degrees or less. 層Lおよび層Dの主配向方向の屈折率が、それぞれ独立に1.45以上である、請求項1または2に記載の積層フィルム。 The laminated film according to claim 1 or 2, wherein the refractive indices in the main alignment direction of the layer L and the layer D are each independently 1.45 or more. 層Lおよび層Dの密度が、それぞれ独立に1.24〜1.27g/cmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層フィルム。 The laminated film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the densities of the layer L and the layer D are each independently from 1.24 to 1.27 g / cm 3 . 層Lおよび層Dの厚みが、それぞれ独立に10μm以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層フィルム。 The thickness of the layer L and the layer D is 10 micrometers or less each independently, The laminated | multilayer film of any one of Claims 1-4. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の積層フィルムおよび電極を有する圧電性構造体であって、該積層フィルムの表面の導電層Mを1層目として、そこから順に数えて奇数層目の導電層Mと偶数層目の導電層Mとに分けたときに、奇数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており偶数層目の導電層Mとは短絡しておらず、偶数層目の導電層Mどうしが電極により短絡しており奇数層目の導電層Mとは短絡していない、圧電性構造体。 It is a piezoelectric structure which has a laminated | multilayer film and an electrode of any one of Claims 1-5, Comprising: The conductive layer M of the surface of this laminated film is made into the 1st layer, and it counts from there in order, and is an odd-numbered layer. When the conductive layer M is divided into the even-numbered conductive layer M, the odd-numbered conductive layers M are short-circuited by the electrodes and are not short-circuited with the even-numbered conductive layers M. A piezoelectric structure in which the conductive layers M are short-circuited by electrodes and are not short-circuited by the odd-numbered conductive layers M. (1)層L、層Dおよび導電層Mを積層し、(ii)少なくとも一方の表面には導電層Mを有し、(iii)層Lと層Dとは、導電層Mを介して交互に積層され、層Lと層Dとの合計数は3以上であり、(iv) 層Lと導電層Mとの間、および層Dと導電層Mとの間には、厚み1000nmを超える接着剤層が存在しない積層体を準備し、
(2)該積層体を、温度(Tg−5)〜(Tsm+20)℃、圧力2〜10MPa、時間10〜600秒で熱ラミネートする、
(ただし、上記Tgは、層Lを構成する樹脂Lのガラス転移温度および層Dを構成する樹脂Lのガラス転移温度のうち、最も高いガラス転移温度である。上記Tsmは、層Lのサブピーク温度および層Dのサブピーク温度のうち、最も低いサブピーク温度である。)
各工程を含む請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
(1) Layer L, layer D, and conductive layer M are stacked, (ii) at least one surface has conductive layer M, and (iii) layer L and layer D alternate via conductive layer M The total number of the layer L and the layer D is 3 or more. (Iv) Adhesion exceeding 1000 nm between the layer L and the conductive layer M and between the layer D and the conductive layer M Prepare a laminate with no agent layer,
(2) The laminate is thermally laminated at a temperature (Tg-5) to (Tsm + 20) ° C., a pressure of 2 to 10 MPa, and a time of 10 to 600 seconds.
(However, Tg is the highest glass transition temperature among the glass transition temperature of the resin L constituting the layer L and the glass transition temperature of the resin L constituting the layer D. The Tsm is the sub-peak temperature of the layer L. And the lowest sub-peak temperature among the sub-peak temperatures of layer D.)
The manufacturing method of the laminated | multilayer film of Claim 1 containing each process.
該積層体は、層Lと導電層Mとの間、層Dと導電層Mとの間、またはこれらの双方に、厚み1000nm以下の接着剤層を有する請求項7に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 7, wherein the laminate includes an adhesive layer having a thickness of 1000 nm or less between the layer L and the conductive layer M, between the layer D and the conductive layer M, or both. 積層する、層L、層Dまたはこれらの双方は、少なくとも片面にコロナ処理が施されている請求項7に記載の製造方法。
8. The manufacturing method according to claim 7, wherein the layer L, the layer D, or both of these layers are subjected to corona treatment on at least one side.
JP2011102718A 2011-05-02 2011-05-02 Laminated film Active JP5647943B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102718A JP5647943B2 (en) 2011-05-02 2011-05-02 Laminated film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102718A JP5647943B2 (en) 2011-05-02 2011-05-02 Laminated film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012232497A JP2012232497A (en) 2012-11-29
JP5647943B2 true JP5647943B2 (en) 2015-01-07

Family

ID=47433327

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011102718A Active JP5647943B2 (en) 2011-05-02 2011-05-02 Laminated film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5647943B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107451572A (en) * 2017-08-07 2017-12-08 吴露 Ultrasonic fingerprint identifies module and electronic equipment

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9690378B2 (en) 2013-01-30 2017-06-27 Olympus Corporation Operation apparatus
JP6168780B2 (en) * 2013-01-30 2017-07-26 オリンパス株式会社 Touch operation device and control method thereof
JP2014168132A (en) * 2013-01-31 2014-09-11 Teijin Ltd Polymer piezoelectric speaker
US10126473B2 (en) * 2013-02-01 2018-11-13 Murata Manufacturing Co., Ltd. Display device and laminated optical film
JP6172971B2 (en) * 2013-02-27 2017-08-02 オリンパス株式会社 Driving device and imaging device
JP6041978B2 (en) * 2013-03-21 2016-12-14 株式会社村田製作所 Displacement sensor, push-in amount detection sensor, and touch input device
EP2985142A4 (en) 2013-04-10 2016-08-31 Mitsui Chemicals Inc Laminate
JP6300458B2 (en) * 2013-07-03 2018-03-28 三井化学株式会社 Multilayer piezoelectric element
EP3006972A4 (en) * 2013-07-04 2017-03-08 Mitsui Chemicals, Inc. Film and polymeric piezoelectric material
CN105451994B (en) * 2013-09-02 2018-05-11 三井化学株式会社 Lamilate
JP6049140B2 (en) * 2013-09-20 2016-12-21 タツタ電線株式会社 Piezoelectric film laminate and manufacturing method thereof
JP6210855B2 (en) * 2013-11-19 2017-10-11 オリンパス株式会社 Operating device
CN105793753B (en) 2014-04-08 2018-09-14 奥林巴斯株式会社 Driving device and vision facilities
JP6473896B2 (en) * 2014-05-07 2019-02-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 Piezoelectric device and manufacturing method thereof
US20170301854A1 (en) * 2014-10-27 2017-10-19 Mitsui Chemicals, Inc. Polymeric piezoelectric film
JP2017034290A (en) * 2016-11-16 2017-02-09 タツタ電線株式会社 Piezoelectric film laminate

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4632856A (en) * 1985-02-06 1986-12-30 Marcus Michael A Multilayer thin film electrical devices free of adhesive
JP5473905B2 (en) * 2008-05-12 2014-04-16 学校法人 関西大学 Piezoelectric element and acoustic device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107451572A (en) * 2017-08-07 2017-12-08 吴露 Ultrasonic fingerprint identifies module and electronic equipment
CN107451572B (en) * 2017-08-07 2020-07-03 成都亦道科技合伙企业(有限合伙) Ultrasonic fingerprint identification module and electronic equipment

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012232497A (en) 2012-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5647943B2 (en) Laminated film
JP6082511B2 (en) Laminated film
JP5656669B2 (en) Laminated film
JP5803147B2 (en) Battery exterior polyester film and battery exterior structure
JPWO2010110119A1 (en) Polyester film for solar cell, solar cell backsheet using the same, and solar cell
JP6686877B2 (en) Polyester film and electrical insulation sheet using it, wind power generator, adhesive tape
JP6030878B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric body
KR20020005722A (en) Polyester film for heat-resistant capacitor, metallized film thereof, and heat-resistant film capacitor containing the same
JPWO2008149770A1 (en) Biaxially oriented polyester film for automobile drive motor and electrical insulating member made thereof
JP2014168132A (en) Polymer piezoelectric speaker
TWI752017B (en) Films and electrical insulating sheets, adhesive tapes, and rotary machines using the same
JP6131015B2 (en) Piezoelectric speaker
JP6118517B2 (en) Piezoelectric laminate
JP6050030B2 (en) Actuator and method of moving object using the same
JP6025477B2 (en) Piezoelectric speaker
JP5108675B2 (en) Composite film
JP5131617B2 (en) Polyester film for solar cell substrate
TWI314097B (en)
JP6076398B2 (en) Piezoelectric material
JP2007196511A (en) Laminated biaxially oriented polyester film and magnetic recording tape
JP2007314717A (en) Biaxially oriented polyester film for electric insulation
JP5767257B2 (en) Laminated body for manufacturing flexible electronic device, biaxially oriented polyester film used therefor, flexible electronic device using the same, and method for manufacturing the same
JP6126241B2 (en) Stretched laminated film for polymer piezoelectric material and method for producing the same
JP6364466B2 (en) Uniaxially oriented film for piezoelectric laminate
JP2012025071A (en) Release polyester film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20140121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141016

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141022

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141110

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5647943

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250