JP5634989B2 - 対物光学系および試料検査装置 - Google Patents

対物光学系および試料検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5634989B2
JP5634989B2 JP2011514595A JP2011514595A JP5634989B2 JP 5634989 B2 JP5634989 B2 JP 5634989B2 JP 2011514595 A JP2011514595 A JP 2011514595A JP 2011514595 A JP2011514595 A JP 2011514595A JP 5634989 B2 JP5634989 B2 JP 5634989B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
optical system
mangin mirror
mirror element
configuration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011514595A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011525995A (ja
Inventor
アームストロング・ジェイ.・ジョセフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KLA Corp
Original Assignee
KLA Tencor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KLA Tencor Corp filed Critical KLA Tencor Corp
Publication of JP2011525995A publication Critical patent/JP2011525995A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5634989B2 publication Critical patent/JP5634989B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0804Catadioptric systems using two curved mirrors
    • G02B17/0808Catadioptric systems using two curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0856Catadioptric systems comprising a refractive element with a reflective surface, the reflection taking place inside the element, e.g. Mangin mirrors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0016Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/02Objectives
    • G02B21/04Objectives involving mirrors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • G02B21/08Condensers
    • G02B21/12Condensers affording bright-field illumination
    • G02B21/125Condensers affording bright-field illumination affording both dark- and bright-field illumination

Description

本願は、2008年6月17日に出願された、発明の名称を「非球面の表面をもつ反射屈折対物光学系を使用する外部ビーム伝送システム」、発明者をジェイ・ジョゼフ・アームストロングとする米国仮特許出願第61/132438号についての利益を請求するものであり、該出願を参照することにより本願に援用する。
本発明は、一般的に光結像の分野に関し、より具体的には、明視野および暗視野の光学検査への利用に使用される反射屈折光学システムに関する。
多くの光学および電子システムが、表面の特徴に欠陥、例えば、部分的に加工され統合された回路又はレクチルの、欠陥等がないか検査する。欠陥は、表面上での不規則に局部集中する粒子、スクラッチ及びアンダーエッチング等の加工不良の形態をとり得る。そのような検査技術及び装置は、当技術分野において周知であり、例えば米国カリフォルニア州サン・ホセ市のケーエルエー−テンカー・コーポレーションから入手可能な多くの製品等の、種々の商業的製品に具現化されている。
光学検査で用いられる結像モードとしては、いくつかの異なる結像モードが知られている。これらは、明視野および種々の暗視野の結像モードを含む。これらの各結像モードは、様々な種類の欠陥を検知する試みのために設けられる。斜め照射暗視野モードは、最も敏感で安定した暗視野モードの一つである。最先端の半導体検査システムのための要件は、高い開口数(NA)、広視野寸法、妥当な帯域幅、およびUV−DUV波長を含む。斜め照射暗視野結像の、ビーム伝送及び低散乱の要件も組み合わせると、先進試料検査のための好適な構成を発見することは、非常に難しい。
広視野寸法をもつ高NA・UV−DUV・反射屈折システムを含む、半導体検査を支え得る光学システムの例が、シェーファーらによる米国特許第5717518号明細書及びチャンらによる米国特許第6064517号明細書に示される。
これら従来の構成は、所定の状況において斜め照射暗視野結像を行う場合、ビーム伝送上の問題を呈し得る。これらのシステムで、斜め照射暗視野モードを実行するための方法として、対物光学系により定義されるNAの範囲内で、光学システムの内側から、ウェーハを照らす単色光の平行ビームを使用するものがある。しかしながら、この構成を使用するレンズ要素からの散乱及び反射光の量は小さく、検出感度を低下させるレベルの光学的ノイズを生じ得る。レーザ照射は、収束レンズ群の瞳の近くに、又は反射屈折レンズ群の中の別の瞳の位置から導入される。これらの照射方法は、照射光が通過する多重レンズの表面から、重大な量の後方散乱及び反射光を生じる原因となり得る。ウェーハから離れ、鏡面的に反射された成分からの前方散乱光もまた、重大な潜在的問題であり得る。
斜め照射レーザ暗視野の、照射及び結像を達成するための従来の方法として、半導体ウェーハを照射する、結像対物光学系の外側からの単色光の平行ビーム、又は結像対物光学系の外側に起因する単色光の平行ビームを使用するものがある。これは、レーザが半導体ウェーハ上の関連領域にアクセスすることを可能とするため、長ワーキング距離対物光学系の使用を必須とする。この種の暗視野への応用で使用される対物光学系は、一般的に、0.7未満のNAに制限される、法線から44°までしかない収束角に対応する屈折対物光学系である。このアプローチの主な欠点は、結像NAが小さく、収束し得る散乱光の量が制限されることである。他の欠点は、反射型UV−DUV対物光学系では典型的な、スペクトル帯域幅が小さいこと及び視野寸法が小さいことである。
他の従来の解決方法は、レボルバをもつ反射屈折対物光学系を使用して、外部斜め照射を可能とする。そのような対物光学系は、もっぱら、球面の光学表面を採用し、実行する際、所定の問題を生じる。
従って、従来から入手可能なシステムを改良して、試料を検査するための、特に斜め照射暗視野検査モードを使用する、ウェーハ等の試料の検査を可能とするシステムを得ることが望まれる。種々の状況下で使用することができ、従来から知られた構成に関係する結像の問題を克服する種々の構成要素をもつ、システム又は構成を提供することが、特に望まれる。
本発明の第1の形態は、
暗視野照射を使用して試料を検査するため構成される対物光学系であって、
前記試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を備え、
前記中間レンズは、3重の通過が行われるよう構成され、該3重の通過とは、前記対物光学系が受ける光エネルギの少なくとも一部が、前記中間レンズを3回通過することを意味し、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
前記マンギンミラー要素は、前記マンギンミラー要素の軸上に、前記試料側に向けて突出し、円錐状の側面と前記試料の最も近くに配置される表面を有する延長要素を備える、
対物光学系である。
本発明の第2の形態は、
試料を検査するよう構成された試料検査装置であって、
光エネルギ源と、
対物光学系と、を備え、
前記対物光学系は、
試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを前記試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を有し、
前記中間レンズは、該中間レンズを少なくとも3回通過して受光された光エネルギを透過するよう構成され、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
前記マンギンミラー要素は、前記マンギンミラー要素の軸上に、前記試料側に向けて突出し、円錐状の側面と前記試料の最も近くに配置される表面を有する延長要素を備える、
試料検査装置である。
その他、以下のような構成を採用することができる。
本構成の第1の態様によれば、反射屈折対物光学系が提供される。該対物光学系は、試料の方向に向いた外側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料から最も遠い位置に配置された外側要素と、試料から離れる方向に向いた内側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料に最も近い位置に配置された内側要素と、外側レンズ及び内側レンズの間に位置する中央要素とを備える。前記外側要素、前記内側要素及び前記中央要素のうち、少なくとも一つの要素は、非球面の表面を有する。前記内側要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成される。
本構成の第2の態様によれば、暗視野照射を使用して試料を検査するため構成される対物光学系が提供される。該対物光学系は、試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、実質的に湾曲し、かつ、光エネルギを試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズとを備える。前記中間レンズは、3重の通過が行われるよう構成され、該3重の通過とは、前記対物光学系が受ける光エネルギの少なくとも一部が、前記中間レンズを3回通過することを意味する。前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有える。前記マンギンミラー要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成される。
本発明のこれら及び他の利点は、以下の発明の詳細な説明及び添付図面から、当業者に明らかとなる。
本発明は、例示のために、かつ、限定のためでなく、添付図面に図示される。
或る要素の第1表面上の非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、2表面マンギンミラー要素及び2.5mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 或る要素の第2表面上の非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、2表面マンギンミラー要素及び2.5mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 或る要素の第1表面上の非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、2表面マンギンミラー要素及び2.5mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 ミラー要素の非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、2表面マンギンミラー要素及び2.5mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 改善されたNA性能を与える非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、3表面マンギンミラー要素及び3.0mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 1つのレンズを除去した非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、3表面マンギンミラー要素及び3.0mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 2つのレンズを除去した非球面の表面を使用する外部ビーム伝送との使用に適する、3表面マンギンミラー要素及び3.0mm視野をもつ反射屈折結像システムを示す。 マンギンミラー要素を採用するエクステンションを強調した、図7のマンギンミラー要素の詳細図を示す。
試料を検査するよう構成される反射屈折対物光学系が提供される。対物光学系は、複数のレンズ、非球面の表面形状をもつ要素及び少なくとも0.25nmの帯域幅を支持する構成を含む。対物光学系は、半導体ウェーハ等の試料の斜め照射レーザ暗視野モード検査に成功裏に採用することができる。
斜め照射レーザ暗視野検査は、半導体ウェーハ等の試料の欠陥から散乱された光の検知を利用する。斜め照射レーザ暗視野モードを採用する検査システムは、光学システムの分解能未満のサイズの欠陥を検知することができる。検知器に向けて最小限の光を散乱する、試料上の平坦領域は、暗画像を生成する。物体上に突き出た任意の、表面異常又は特徴は、光を検知器に向けて散乱する傾向があり、半導体ウェーハ等の物体を検知するとき、暗視野結像は、特徴、粒子又は他の凹凸を表す明るい領域を、暗い背景上に生じさせる。
結像システムが集光する、欠陥からの錯乱光は、一般的に、照射光に占める、割合又は部分が非常に小さい。結像システムが集光する、欠陥が生成しない迷光が、欠陥の識別をさらに困難にする。最新の半導体検査は、できるだけ多くの散乱光を収集する一方で、集光する迷光を最小化する構造を用いる傾向にある。そのような構造及びそれらから得られる結果は、実質的に、ビーム伝送システム及び結像光学系の双方の検討に影響される。できるだけ多く光を集光するためには、高NAを示す結像システムが不可欠である。
光の波長もまた、得られる像の質に影響する。波長が短いほど、通常、多くの散乱光を生じる。散乱光は、UV又はDUV波長の占める部分が、可視光の波長の占める部分よりも大きい。したがって、UV−DUVスペクトル領域の波長を使用する斜め照射暗視野散乱を行うことは、非常に有利であり得る。さらに、ウェーハ又はレチクルの半導体検査は、できるだけ速やかに行われることが好ましい。結像システムの示す視野寸法が広いほど、より高速でウェーハを走査することができるため、そのような走査において視野寸法は広い方が有益である。
広視野寸法及び高NAをもつUV−DUV光学システムの構成は、通常、反射屈折システムに限られる。従来から、反射屈折システムを使用する斜め照射を用いるビーム伝送は、”レンズ内部”式のビーム伝送に限られている。レンズ内部式ビーム伝送は、レンズ及びミラーの表面から、著しい量の、望まない、反射及び散乱光を生じる傾向がある。対照的に、ビーム伝送構成要素が、被検査表面からの鏡面反射が結像光学系から離れる方向に向き、集光されない場合に、斜め入射照射は暗視野結像を生じる。照射光及び鏡面反射光の双方が対物レンズの外側にあるため、結像光学系から散乱するノイズが懸案事項とならない。したがって、UV及びDUV環境においてレンズ内部式ビーム伝送を避けることは、非常に有益であり得る。
従来の結像系の構成は、レボルバをもつ反射屈折対物光学系を利用しており、全ての表面は、通常、球面となっている。レボルバは、顕微鏡等の装置の、対物レンズを保持する部品である。従来、レボルバは、収差を最小化し、中央オブスキュレーションを制限する傾向があった。本発明の構成は、レボルバが必要無い対物光学系内の非球面の表面を使用する。本発明の構成は、有利に、NAを、0.9を超えて増加させ、0.9NAでの性能を改善し、又は所定のレンズ要素の必要を無くすことで構成を簡素化する。本発明の構成において実施可能なNAは、例えば、0.90、0.94又は0.96を超え得る。
本発明の構成は、広帯域明視野検査及び斜め照射レーザ暗視野検査技術の双方を、いずれの技術の優位性も妥協させずに実施可能である。この改善されたデュアルモードの検査機能を達成するため、双方の検査技術は、一般的に、同じ結像システム、検知システム及び自動焦点システムを使用する。しかしながら、採用する、反射屈折システムの構成及び照射システムは、従来から入手できるものと異なる。
本発明の構成では、レーザ光を、マンギンミラー要素及びサンプルの間から、対物光学系の完全な外側に配置された構成要素を使用して、サンプルに照射する。照射は、特有の3表面マンギンミラー要素とビーム伝送光学系との組合せによって達成される。加えて、フーリエフィルタ又は他の瞳アパーチャを、斜め照射レーザ暗視野モードのために用いることができる。斜め照射暗視野検査技術が生成する高ダイナミック・レンジの信号を処理する検知器として、適当なダイナミック・レンジをもつ検知器を用いてもよい。
本明細書に示す対物光学系要素の構成は、所望の有益な性能を提供することに特に留意されたい。当業者が理解するとおり、単に、現在入手可能な対物光学系を持ち込んで、本明細書において説明する性能を有する妥当な性能の対物光学系を得ることはできない。例えばNA、視野寸法、色性能等の説明する、性能及び機能性を可能とするのは、本明細書において設けた要素の特有の配置である。
図1は、本発明の構成に従って、一実施形態を示す。この構成では、非球面の表面を使用して、レボルバを使用すること無く、ワーキング距離の伸長を可能とする。構成は、縮写レンズ群101、収束レンズ群102及び反射屈折レンズ群103を備える。縮写レンズ群101はレンズ104−106を含み、視野レンズ群102はレンズ107−110を含み、反射屈折レンズ群103は要素112−114を含む。明視野型照射のため、又はレンズ暗視野照射を通じて、図1の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群101は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群102へ伝達する。次に、収束レンズ群102は、反射屈折レンズ群103のマンギンミラー要素112の頂点近傍に中間像111を形成する。反射屈折レンズ群103は、ミラー要素112、3重通過に使用するレンズ要素113及びマンギンミラー要素114を含む3つの要素を備える。反射屈折レンズ群103の3つの要素の配置では、レンズ要素113を、マンギンミラー要素112及びマンギンミラー要素114の間に配置する。
本明細書における説明全体を通じて、要素番号115は、この図において、サンプル、試料又はウェーハが配置されるが、サンプル、試料又はウェーハが図示されない位置を指す。図2−7もまた、サンプル、試料又はウェーハを表す番号と、サンプル、試料又はウェーハが配置されるが、サンプル、試料又はウェーハが図示されない概略位置を指す矢印とを示す。
外部斜め照射を可能とするこの構成の一態様では、マンギンミラー要素114をサンプル115から4mm離す。そのような間隔により、マンギンミラー要素114の反射性表面とサンプル115との間から導光することで、光をサンプル115に照射することが可能となる。これは、対物光学系外部の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、2007年10月25日出願の、発明者をジェイ・ジョゼフ・アームストロング、発明の名称を「反射屈折光学システムにおけるレーザ暗視野照射用外部ビーム伝送システム」とする、現在出願中の米国特許出願番号第11/977998号(「‘998出願」)明細書に説明した方法と同様の方法で達成することができる。
3つの表面反射屈折要素を使用する‘998出願と比較して、本発明の構成は、マンギンミラー要素114上の非球面の表面を使用して、対物光学系のワーキング距離の伸長に起因する収差を補正する。本願において、非球面の表面は、要素114の反射性部分上に存在する。
図1の実施態様は、3表面マンギンミラー要素アプローチに比べて所定の利点をもつ。対物光学系を通じて、要素表面での光の直径を、著しく増加させる。光の直径の増加は、中間像111に隣接する表面で特に顕著であり、そのような増加は、サンプル115に最も近い、マンギンミラー要素の表面でも生じる。光の直径のそのような増加は、これら表面上の光損傷の可能性を減少させる傾向があり、またフォトマスクのコンタミネーションの可能性も減少させる。入射角は、暗視野システムの性能を制限し得る、伝統的に広視野角をもつシステムの問題である、ゴースト反射及び迷光を減少させるように設ける。
要素の、厚さ及び位置もまた、照射源としてモード・ロックされたレーザを用いる場合、コヒーレント干渉を制限するように設ける。モード・ロックとは、レーザが短パルスを生じるための技術を示し、固定位相関係がレーザ空洞のモード間に存在する技術を示す。モード・ロックされたレーザを使用すると、要素表面から反射するパルスは、通常、自己又は先行パルスと時間的に重ならず、よって、時間干渉効果が制限される。10psパルス幅及び800MHzの繰返し周波数でモード・ロックされたレーザを使用する場合、パルス長は3mmであり、パルス間隔は375mmである。この場合、1回反射のため、2つの隣接面は、1.5mmを超える光学的間隔を示し、個々の表面は、187.5±1.5mm未満の光学的間隔を有する。
前述の‘998特許出願に示された3表面マンギンミラー要素アプローチに比べ、本発明の構成では、球面ミラー112の直径方向に中央オブスキュレーションを増加させる。図1の構成の中央オブスキュレーションは、直径の23%である。反射屈折要素群中の要素の直径を増加させると、非球面構成のための中央オブスキュレーションを減少させることができる。当業者は、そのような構成の妥協を、図2の構成を出発点として使用して、なすことができる。
表1は、図1に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
当業者が理解できるとおり、表1の最左欄の数字は、図1の左から表面を数えた表面番号を示す。例えば、図1に示す方向でレンズ104の左表面(図1の表面2)は、77.012mmの曲率半径と12.000mmの厚さを有し、最右表面(表面3)は、−265.722mmの曲率半径を有し、次の表面から2.0mm離れている。使用する材料は、石英ガラスである。
図1に示す構成において、マンギンミラー要素114の反射性側面は、非球面形状を有する。非球面形状を示すため多くの方程式を使用することができる。次の方程式を、表1のレンズ諸元の非球面表面を示すため使用する。
Figure 0005634989
ただし、zは、表面から、要素の頂点の接平面までの、ザグ量又は距離である。第1項は、cを、表面曲率又は曲率半径の逆数とし、標準的な非球面表面のザグ量を示す。変数rは、0から要素直径の1/2までの範囲の値をとることができる。変数kは、円錐定数と呼ばれる。非球面表面では、kは0と同等である。非球面項は、総和のかたちをとる。ここで、Nは非球面項の数であり、ρは正規化した要素半径(要素直径の1/2)であり、αは非球面係数である。
表2は、図1に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。要素114の反射性側面は、表1に、表面22、表面24及び表面30として記入されている。表1において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図1に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図1から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置116へ透過する機能をもつ。収束レンズ群102は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像111を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置103は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料115に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置103に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群102は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り116へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り116に配置して、対物光学系のNAを制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り116に配置された表面の、反射屈折レンズ群103の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置することができる。そのような中央オブスキュレーションの適合は、任意の検知システムに達する迷光を制限するのに役立つ。
図1及び表1に示す構成は、前述のように、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。他の材料を採用することもできるが、石英ガラス又は構成中に使用される材料は、対物光学系の構成が許容する波長の範囲に亘る低吸収性が求められる。石英ガラスは、190nmから赤外線波長までの光エネルギについて比較的高い伝送特性を示す。超高NA対物光学系の単一物質構成によって、石英ガラスは、構成を、この波長範囲の任意の中央波長のため再最適化することを可能にする。例えば、構成を、193、198.5、213、244、248、257、266、308、325、351、355又は364nmのレーザでの使用のため最適化することができる。加えて、フッ化カルシウムをガラス又はレンズ材料として採用する場合、157nmで作動するエキシマレーザを構成に採用することができる。再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要としないため、通常、当業者の能力の範囲内である。
図1の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約2.5mmの視野寸法を示す。この配置の視野寸法は、システムが光学性能の最小劣化状態において結像することのできる、試料上の領域の寸法を意味する。図1の構成は、視野に亘って、0.97を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。図1に示す実施態様での最大要素直径は、約124mmである。この構成の偏心許容誤差は、極めて大きい。10μmの偏心が誘引する最大多色波面誤差は、0.18波長である。3表面マンギンミラー要素を使用する従来の構成は、感度が2倍のオーダーであった。
図1の構成は、自己補正型であり、ここで自己補正型とは、対物光学系が、検査構成諸元を達成すべく収差を補正するために、追加的な光学的構成要素を必要としないことを意味する。換言すれば、追加的な構成要素がなくても、大抵の収差に、収差のない像を与えることができることを意味し、又は対物光学系が、追加的な補償の必要がない、実質的に完全な像を与えることを意味する。自己補正機能は、より単純な光学実験上の計測と光学的調整を、他の自己補正型の結像光学系に与える。
図1に関するビーム伝送及び本発明の構成の他の実施態様は、対物光学系の外部の、マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成される対物光学系を伴ってもよい。レーザビーム伝送システムは、レーザビームを試料へ伝送してもよく、対物光学系は、レーザビームを受光するよう、配置され、又は配向されて、暗視野検査を行う。そのような配置において、レーザビームを、プリズム、反射性表面、マンギンミラー要素に取付けられたビーム配向要素又はマンギンミラー要素から分離して形成された表面上で支持されたビーム配向要素を介して、試料に向けてもよい。
いかなる光学系構成物にも当てはまるとおり、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に依存して、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低いNA又はより高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。非球面表面を、縮写レンズ群301、収束レンズ群302及び反射屈折レンズ群303中の、他の要素上に配置し、又は他の要素中に配置することで、レボルバを除去し、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。したがって、本発明の構成の、性能特性又は機能性の組合せは、特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていないことを理解されたい。
図1の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、製造される対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図2は、本発明の構成に従う別の実施態様を示す。この構成では、非球面の表面を使用して、レボルバを使用すること無く、ワーキング距離の伸長を可能とする。構成は、縮写レンズ群201、収束レンズ群202及び反射屈折レンズ群203を備える。縮写レンズ群201はレンズ204−206を含み、視野レンズ群202はレンズ207−210を含み、反射屈折レンズ群203は要素212−214を含む。明視野型照射のため、図2の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群201は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群202へ伝達する。次に、収束レンズ群202は、反射屈折レンズ群203のマンギンミラー要素212の頂点近傍に中間像211を形成する。反射屈折レンズ群203は、ミラー要素212、3重通過に使用するレンズ要素213及びマンギンミラー要素214を含む3つの要素を備える。反射屈折レンズ群203の3つの要素の配置では、レンズ要素213を、マンギンミラー要素212及びマンギンミラー要素214の間に配置する。
外部斜め照射を可能とするこの構成の一態様では、マンギンミラー要素214をサンプル215から4mm離す。そのような間隔により、マンギンミラー要素214の反射性表面及びサンプル215の間から導光することで、光をサンプル215に照射することが可能となり、対物光学系の実質的に完全な外側で照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、前述の‘998特許出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
3表面反射屈折要素を利用する先の特許出願に比べ、図2の構成では、マンギンミラー要素213上の非球面の表面を使用して、対物光学系のワーキング距離の伸長に起因する収差を補正する。本願において、非球面の表面は、サンプル215に最も近い要素213の表面上に存在する。
図2の実施態様も、3表面マンギンミラー要素アプローチに比べて所定の利点をもつ。対物光学系を通じて、要素表面での光の直径を、著しく増加させる。光の直径の増加は、中間像211に隣接する表面で特に顕著であり、そのような増加は、サンプル215に最も近い、マンギンミラー要素214の表面でも生じる。要素表面上の光の直径の増加は、これら表面上の光損傷の可能性を減少させる傾向があり、またフォトマスクのコンタミネーションの可能性も減少させる。入射角は、暗視野システム、特に広視野角をもつシステムの性能を制限し得る、ゴースト反射及び迷光を減少させるように選択する。
要素の、厚さ及び位置もまた、前述のとおり、照射源としてモード・ロックされたレーザを用いる場合、コヒーレント干渉を制限するように選択する。
図2の実施態様の構成のアプローチは、前述の‘998特許出願において使用される3表面マンギンミラー要素と比べると、球面ミラー212の直径方向に中央オブスキュレーションを増加させる。図2の構成の中央オブスキュレーションは、直径の22%である。反射屈折要素群中の要素の直径を増加させることで、非球面構成のための中央オブスキュレーションを減少させることができる。当業者は、そのような構成の妥協を、図2を出発点としてなすことができる。
表3は、図2に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表4は、図2に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素213の非球面表面は、表3に、表面20、表面24及び表面28として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図2に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図2から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置216へ透過する機能をもつ。収束レンズ群202は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像211を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置203は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料215に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置203に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群202は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り216へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り216に配置して、対物光学系のNAを、制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り216に配置された表面の、反射屈折レンズ群203の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。そのような中央オブスキュレーションの適合は、任意の検知システムに達する迷光を制限するのに役立つ。
図2の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約2.5mmの視野寸法を示す。この配置の視野寸法は、システムが光学性能の最小劣化状態において結像することのできる、試料上の領域の寸法を意味する。図2の構成は、視野に亘って、0.98を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。
図2に示す実施態様での最大要素直径は、約134mmである。図2の構成は、第1実施形態に関して説明した自己補正型である。図2及び表2に示す構成は、したがって、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
いかなる光学系構成物にも当てはまるとおり、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。したがって、本発明の、性能特性又は機能性の組合せは、特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていない。非球面表面を、縮写レンズ群201、収束レンズ群202及び反射屈折レンズ群203中の他の要素上に配置することで、レボルバの必要性を除去し、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。
図2の構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、当業者が通常行うことができる。
図2の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図3は、本発明の構成に従う別の実施態様を示す。図3の構成では、非球面の表面を使用して、レボルバを使用すること無く、ワーキング距離の伸長を可能とする。構成は、縮写レンズ群301、収束レンズ群302及び反射屈折レンズ群303を備える。縮写レンズ群301は、レンズ304−306を含み、視野レンズ群302は、レンズ307−310を含み、反射屈折レンズ群303は、要素312−314を含む。明視野型照射のため、図3の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群301は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群302へ伝達する。収束レンズ群302は、次に、反射屈折レンズ群303のマンギンミラー要素312の頂点近傍に中間像311を形成する。反射屈折レンズ群303は、ミラー要素312、3重通過に使用するレンズ要素313及びマンギンミラー要素314を含む3つの要素を備える。反射屈折レンズ群303の3つの要素の配置では、レンズ要素313を、マンギンミラー要素312及びマンギンミラー要素314の間に配置する。
外部斜め照射を可能とするこの構成の一態様では、マンギンミラー要素314をサンプル315から4mm離す。そのような間隔により、マンギンミラー要素314の反射性表面及びサンプル315の間から導光することで、光をサンプル315に照射することが可能となる。この方法による導光により、対物光学系の外側の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、前述の‘998特許出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
3表面反射屈折要素を利用する先の特許出願とは対照的に、図3の構成は、マンギンミラー要素313上の非球面の表面を使用して、対物光学系のワーキング距離の伸長に起因する収差を補正する。本願において、非球面の表面は、サンプル315に最も遠い要素313の表面上に存在する。
また、3表面マンギンミラー要素アプローチに比べ、対物光学系を通じた、要素表面での光の直径は、著しく増加させられる。光の直径の増加は、中間像311に隣接する表面で特に顕著であり、サンプル315に最も近い、マンギンミラー要素314の表面でも生じる。光の直径の増加は、これら表面上の光損傷の可能性を減少させる傾向があり、またフォトマスクのコンタミネーションの可能性を減少させる傾向がある。得られる入射角は、暗視野システム、特に広視野角を示すシステムの性能を制限し得る、ゴースト反射及び迷光を減少させる傾向がある。
要素の、厚さ及び位置もまた、前述のとおり、照射源としてモード・ロックされたレーザを用いる場合、コヒーレント干渉を制限する。
図3の構成のアプローチは、‘998特許出願において採用された3表面マンギンミラー要素構成アプローチと比べると、球面ミラー312の直径方向に、中央オブスキュレーションを増加させる。図3の構成の中央オブスキュレーションは、直径の約21%である。反射屈折要素群中の要素の直径を増加させることで、非球面構成のための中央オブスキュレーションを減少させることができる。当業者は、中央オブスキュレーションのそのような減少及び関連する妥協を、図3の構成を出発点として使用して、なすことができる。
表5は、図3に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表6は、図3に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素313の非球面表面は、表5に、表面19、表面25及び表面27として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図3に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図3から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置316へ透過する機能をもつ。収束レンズ群302は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像311を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置303は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料315に与える。
交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置303に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群302は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り316へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り316に配置して、対物光学系のNAを制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り316に配置された表面の、反射屈折レンズ群303の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。そのような中央オブスキュレーションの適合は、任意の検知システムに達する迷光を制限するのに役立つ。
図3の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約2.5mmの視野寸法を示す。この配置の視野寸法は、システムが光学性能の最小劣化状態において結像することのできる、試料上の領域の寸法を意味する。図3の構成は、視野に亘って、0.99を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。図3に示す実施態様での最大要素直径は、約134mmである。図3の構成は、前述のとおりの自己補正型である。図3及び表5に示す構成は、したがって、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
いかなる光学系構成物にも当てはまるとおり、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。
したがって、本発明の構成の性能特性の組合せは特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていないことを理解されたい。非球面表面を、縮写レンズ群301、収束レンズ群302及び反射屈折レンズ群303中の、他の要素上に配置し、又は他の要素中に配置することで、レボルバを除去し、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。この構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、通常、当業者の能力の範囲内である。
図3の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図4は、本発明の構成に従う別の実施態様を示す。この構成では、非球面の表面を使用して、レボルバを使用すること無く、ワーキング距離の伸長を可能とする。構成は、縮写レンズ群401、収束レンズ群402及び反射屈折レンズ群403を備える。縮写レンズ群401は、レンズ404−406を含み、視野レンズ群402は、レンズ407−410を含み、反射屈折レンズ群403は、要素412−414を含む。明視野型照射のため、図4の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群401は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群402へ伝達する。次に、収束レンズ群402は、反射屈折レンズ群403のマンギンミラー要素412の頂点近傍に中間像411を形成する。反射屈折レンズ群403は、ミラー要素412、3重通過に使用するレンズ要素413及びマンギンミラー要素414を含む3つの要素を備える。反射屈折レンズ群403の3つの要素の配置では、レンズ要素413を、マンギンミラー要素412及びマンギンミラー要素414の間に配置する。
外部斜め照射を可能とするこの構成の一態様では、マンギンミラー要素414をサンプル415から4mm離す。外部照射によって、マンギンミラー要素414の反射性表面及びサンプル415の間から導光することで、光をサンプル415に照射することが可能となる。この方法による導光により、対物光学系の外側の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、前述の‘998特許出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
3表面反射屈折要素を利用する‘998特許出願の構成に比べ、図4の構成では、要素412上の非球面の表面を使用して、対物光学系のワーキング距離の伸長に起因する収差を補正する。本願において、非球面の表面は、要素412の反射性表面上に存在する。
図4の実施態様は、3表面マンギンミラー要素アプローチに比べて利点をもつ。対物光学系を通じて、要素表面での光の直径を、著しく増加させる。また、光の直径の増加は、中間像411に隣接する表面で特に顕著である。そのような増加は、サンプル415に最も近い、マンギンミラー要素414の表面でも生じる。そのような、光の直径の増加は、これら表面上の光損傷の可能性及びフォトマスクのコンタミネーションを減少させる傾向がある。入射角は、暗視野システムの性能を制限し得る、ゴースト反射及び迷光を減少させるように設ける。この方法によるゴースト反射の減少は、広視野角のシステムに特に有用であり得る。
要素の、厚さ及び位置を、前述のとおり、照射源としてモード・ロックされたレーザを用いる場合、コヒーレント干渉を制限するように設ける。
図4の構成のアプローチは、‘998特許出願において使用される3表面マンギンミラー要素と比べると、球面ミラー412の直径方向に中央オブスキュレーションを増加させる。図4の構成の中央オブスキュレーションは、直径の22%である。反射屈折要素群中の要素の直径を増加させることで、非球面構成のための中央オブスキュレーションを減少させることができる。当業者は、そのような構成の妥協を、図4の構成を出発点として使用して、なすことができる。
表7は、図4に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表8は、図4に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素412の非球面表面は、表7に、表面18及び表面26として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図4に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図4から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置416へ透過する機能をもつ。収束レンズ群402は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像411を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置403は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料415に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置403に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群402は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り416へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り416に配置して、対物光学系のNAを、制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り416に配置された表面の、反射屈折レンズ群403の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。そのような中央オブスキュレーションは、任意の検知システムに達する迷光を制限することができる。
図4の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約2.5mmの視野寸法を示す。この配置の視野寸法もまた、システムが光学性能の最小劣化状態において結像することのできる、試料上の領域の寸法を意味する。図4の構成は、視野に亘って、0.97を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。図4に示す実施態様での最大要素直径は、約134mmである。図4の構成は、前述のとおりの自己補正型である。図4及び表7に示す構成は、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
いかなる光学系構成物にも当てはまるとおり、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。
より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。したがって、本発明の構成の性能特性の組合せは特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていないことを理解されたい。非球面表面を、縮写レンズ群401、収束レンズ群402及び反射屈折レンズ群403中の、他の要素上に配置し、又は他の要素中に配置することで、レボルバを除去し、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。この構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、通常、当業者の能力の範囲内である。
図4の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、製造される対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図5は、本発明の構成に従う別の実施態様を示す。この構成では、非球面の表面を使用して、対物光学系のNAを増加させる。構成は、縮写レンズ群501、収束レンズ群502及び反射屈折レンズ群503を備える。縮写レンズ群501は、レンズ504−506を含み、視野レンズ群502は、レンズ507−510を含み、反射屈折レンズ群503は、要素512−514を含む。明視野型照射のため、図5の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群501は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群502へ伝達する。次に、収束レンズ群502は、反射屈折レンズ群503のマンギンミラー要素512の頂点近傍に中間像511を形成する。反射屈折レンズ群503は、ミラー要素512、3重通過に使用するレンズ要素514及び3表面マンギンミラー要素513を含む3つの要素を備える。3表面マンギンミラー要素513は、取付けられた延長部518を含む。反射屈折レンズ群503の3つの要素の配置では、レンズ要素514を、ミラー要素512及びマンギンミラー要素513の間に配置する。
この図5の構成の一つの特徴は、軸方向の異なる位置に配置された3つの光学表面515、516、517を有するマンギンミラー要素513を使用して、外部斜め照射を可能としていることである。前述の反射屈折要素システムと比較すると、マンギンミラー要素513上の、試料519に最も近いガラスが、表面516から表面517へ延びている。表面516は、少なくとも1つのミラー部分を含むことに留意されたい。この延長部518は、円錐形状の、レンズ又はガラス要素からなる区画であってよく、マンギンミラー要素513と別体的に、又は一体的に形成され得る。この延長部の構成は、以下に述べる。マージナル光線の入射角度は、ガラスの屈折率によって減じられ、表面516をくぼませることを可能とする一方、中央オブスキュレーションの増加を最小化させる。表面516と試料又はサンプル519との間の空間を追加することで、レーザ照射を可能とする。そのような、空間の追加により、対物光学系の外側の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、前述の‘998特許出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
要素513は、2つの主な方法を用いて製造することができる。要素513は、表面516及び表面517の間の外側部分のガラスを、研磨し、及び除去することで、ガラスの単一の要素から構成することができる。次に、光学表面516は、表面517に影響を与えること無く研磨されてもよい。製造を単純化する代替的な方法は、2つの分離したガラス要素を製造することである。第1の要素は、表面515及び表面516が境界となるガラス部分である。第2の要素は、表面516及び表面517が境界となるガラス部分である。両要素、すなわち、延長要素518及び要素513は、光学的接触、接着又は機械的マウントによって取付けることができる。
‘998出願の3表面反射屈折要素の使用に比べ、図5の構成では、要素514上の非球面の表面を使用して、収差を補正し、対物光学系のNAを0.96まで増加させる。これはまた、0.96未満のNAの対物光学系の性能を改善する。本願において、非球面の表面は、要素514上のサンプル519から最も遠い表面である。
0.96NAを使用するこの構成のアプローチは、0.9NAを使用する3表面マンギンミラー要素構成アプローチと比べると、球面ミラー512の直径方向に中央オブスキュレーションを増加させる。図5の構成の中央オブスキュレーションは、直径の20%である。反射屈折要素群中の要素の直径を増加させることで、3表面マンギンミラー要素を使用する高NA非球面構成のための中央オブスキュレーションを減少させることができる。当業者は、構成の妥協を、図5の構成を出発点として使用して、なすことができる。
表9は、図5に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表10は、図5に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素514の非球面表面は、表9に、表面18、表面24及び表面26として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図5に示す構成において、NAは空気中で約0.96に達するか、超えることもできる。図5から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置520へ透過する機能をもつ。収束レンズ群502は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像511を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置503は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料515に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置503に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群502は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り520へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り520に配置して、対物光学系のNAを、制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り520に配置された表面の、反射屈折レンズ群503の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。そのような中央オブスキュレーションは、検知器又は検知システムに達する迷光を制限することができる。
図5の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約3.0mmの視野寸法を示す。図5の構成は、視野に亘って、0.95を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。図5に示す実施態様での最大要素直径は、約138mmである。図5の構成は、第1実施形態において述べたとおりの自己補正型である。図5及び表9に示す構成は、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
また、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。したがって、本発明の構成の性能特性の組合せは特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていないことを理解されたい。非球面表面を、縮写レンズ群501、収束レンズ群502及び反射屈折レンズ群503中の、他の要素上に配置することで、構成のNAを増加させ、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。この構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、通常、当業者の能力の範囲内である。
図5の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、製造される対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図6は、本発明の構成に従う別の実施態様を示す。この構成では、非球面の表面を使用して、9つの要素で構成することを可能としている。構成は、縮写レンズ群601、収束レンズ群602及び反射屈折レンズ群603を備える。縮写レンズ群601は、レンズ604−606を含み、視野レンズ群602は、レンズ607−609を含み、反射屈折レンズ群603は、要素611−613を含む。明視野型照射のため、図6の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群601は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群602へ伝達する。次に、収束レンズ群602は、反射屈折レンズ群603のマンギンミラー要素611の頂点近傍に中間像610を形成する。反射屈折レンズ群603は、ミラー要素611、3重通過に使用するレンズ要素612及び3表面マンギンミラー要素613を含む3つの要素を備える。3表面マンギンミラー要素613は、取付けられた延長部617を含む。反射屈折レンズ群603の3つの要素の配置では、レンズ要素612を、ミラー要素611及びマンギンミラー要素613の間に配置する。
この構成の一つの特徴は、軸方向の異なる位置に配置された3つの光学表面614、615、616を有するマンギンミラー要素613を使用して、外部斜め照射を可能としていることである。前述の反射屈折要素システムと比較すると、マンギンミラー要素613上の、試料618に最も近いガラスが、表面615から表面616へ延びている。表面615は、少なくとも1つのミラー部分を含むことに留意されたい。この延長部617は、円錐形状の、レンズ又はガラス要素からなる区画であってよく、マンギンミラー要素613と別体的に、又は一体的に形成され得る。要素613の製造は、前述の実施形態において説明したと同様に達成される。
マージナル光線の入射角度は、ガラスの屈折率によって減じられ、表面516をくぼませることを可能とする一方、中央オブスキュレーションの増加を最小化させる。表面615及びサンプル618の間の空間を追加することで、レーザ照射を可能とする。これにより、対物光学系の完全な外側の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、‘998特許出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
従来の3表面反射屈折要素の使用に比べ、図6の構成では、要素612上の非球面の表面を使用して、収束レンズ群602からレンズ要素を除去したことにより生じる収差を補正する。本願において、非球面の表面は、要素612上のサンプル618から最も遠い表面である。
表11は、図6に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表12は、図6に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素612の非球面表面は、表11に、表面16、表面22及び表面24として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図6に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図6から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置619へ透過する機能をもつ。収束レンズ群602は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像610を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置603は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料618に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置603に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群602は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り619へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り619に配置して、対物光学系のNAを、制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り619に配置された表面の、反射屈折レンズ群603の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。これは、迷光が検知器又は検知システムに達することを防止するのに役立ち得る。
図6の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約3.0mmの視野寸法を示す。図6の構成は、視野に亘って、0.97を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅又は視野寸法を含み、これらに限定されない光学的諸元を増加することができる。図6に示す実施態様での最大要素直径は、約122mmである。図6の構成は、自己補正型である。図6及び表11に示す構成は、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
また、対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。例えば、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法を犠牲にして、前記性能特性の一つを強化することが可能である。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。したがって、本発明の構成の性能特性の組合せは特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていないことを理解されたい。
非球面表面を、縮写レンズ群601、収束レンズ群602及び反射屈折レンズ群603中の、他の要素上に配置することで、構成の要素の数を減少させ、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。この構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、通常、当業者の能力の範囲内である一方、本発明の示唆の範囲内でもある。
図6の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、製造される対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図7は、本発明の構成に従う更なる実施態様を示す。図7の構成では、非球面の表面を使用し、8つの要素だけを含む。構成は、縮写レンズ群701、収束レンズ群702及び反射屈折レンズ群703を備える。縮写レンズ群701は、レンズ704−706を含み、視野レンズ群702は、レンズ707及び708を含み、反射屈折レンズ群703は、要素710−712を含む。明視野型照射のため、図7の左側から、光エネルギを受ける。縮写レンズ群701は、ビーム直径を減少させ、光エネルギを収束レンズ群702へ伝達する。次に、収束レンズ群702は、反射屈折レンズ群703のマンギンミラー要素710の頂点近傍に中間像709を形成する。反射屈折レンズ群703は、ミラー要素710、3重通過に使用するレンズ要素611及び3表面マンギンミラー要素712を含む3つの要素を備える。3表面マンギンミラー要素712は、取付けられた延長部716を含む。反射屈折レンズ群703の3つの要素の配置では、レンズ要素711を、ミラー要素710及びマンギンミラー要素712の間に配置する。
軸方向の異なる位置に配置された3つの光学表面713、714、715を有するマンギンミラー要素712により、外部斜め照射が可能となっている。前述の反射屈折要素システムと比較すると、マンギンミラー要素712上の、試料717に最も近いガラスが、表面714から表面715へ延びている。表面714は、少なくとも1つのミラー部分を含むことに留意されたい。この延長部716は、円錐形状の、レンズ又はガラス要素からなる区画であってよく、マンギンミラー要素712と別体的に、又は一体的に形成され得る。要素712は、図6の実施形態に関して説明したと同様に製造することができる。
マージナル光線の入射角度は、ガラスの屈折率によって減じられ、表面714をくぼませることを可能とする一方、中央オブスキュレーションの増加を最小化させる。表面714及びサンプル717の間の空間を追加することで、レーザ照射を可能とする。これにより、対物光学系の外側の照射光を高出力に維持する。光のサンプルへの伝送は、‘998出願において説明する方法と同様の方法で達成することができる。
3表面反射屈折要素を利用する先の特許出願に比べ、この構成では、要素711上の非球面の表面を使用して、収束レンズ群702から2つのレンズ要素を除去したことにより生じる収差を補正する。本願において、非球面の表面は、要素711上のサンプル717から最も遠い表面である。
表13は、図7に示す実施形態のためのレンズ諸元を示す。
Figure 0005634989
表14は、図7に示す構成における非球面の表面のためのパラメータの一覧表である。これらパラメータの定義は、前述の実施形態と同じである。要素711の非球面表面は、表13に、表面15、表面21及び表面23として記入されている。表において、要素の側面は、光がその表面に接触する毎に1つの表面として記入されている。
Figure 0005634989
図7に示す構成において、NAは空気中で約0.9に達するか、超えることもできる。図7から、縮写レンズ群は、光エネルギを受け、光エネルギを対物光学系の瞳位置718へ透過する機能をもつ。収束レンズ群702は、光エネルギを受け、収束された光エネルギを透過し、中間像709を形成する機能をもつ。反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置703は、中間エネルギを受け、制御された光エネルギを試料717に与える。交互に、反射経路は試料から生じ、試料から、反射され、又は散乱された光は、反射屈折レンズ群又はマンギンミラー配置703に受けられ、反射光エネルギを形成し透過する。収束レンズ群702は、得られた光エネルギを受け、光エネルギを開口絞り718へ透過する。アパーチャ又はマスクを開口絞り718に配置して、対物光学系のNAを、制限し、又は変更することができる。加えて、中央オブスキュレーションを、開口絞り718に配置された表面の、反射屈折レンズ群703の中央オブスキュレーションに適合する位置に配置してもよい。これは、迷光が検知器又は検知システムに達することを防止するのに役立ち得る。
図7の構成は、1nm帯域幅の266nm波長での光エネルギの存在下で作動し、約3.0mmの視野寸法を示す。この配置の視野寸法は、システムが光学性能の最小劣化状態において結像することのできる、試料上の領域の寸法を意味する。図7の構成は、視野に亘って、0.9を超える多色ストレール比を有する。追加的な結像光学系を使用して、残存収差を更に補正することができる。そのような補正により、帯域幅、視野寸法等の光学的諸元を増加することができる。図7に示す実施態様での最大要素直径は、約116mmである。図7の構成は、自己補正型であり、単一のガラス材料、石英ガラスを使用する。
対物光学系又は光学系構成物の所望の用途に応じて、性能特性を改善するため、若干の妥協をなすことができる。そのような妥協は、用途に応じて、帯域幅、視野寸法、NA及び/又は対物光学系寸法に悪影響を与えて、これら性能特性の一つを強化することを含むが、これに限定されない。例えば、より低い又は高いNAのため最適化することが可能である。NAの減少は、製作公差及び対物光学系の外側直径を減少させる。NAを下げた構成ほど、広い視野及び広い帯域幅を備え得る。NAを下げた構成とし、同じ性能で光学系要素を少なくすることも可能である。より高いNAとなるよう構成を再最適化すると、一般的に、視野寸法又は帯域幅が制限され、対物光学系要素の直径を若干増加させる必要があり得る。したがって、本発明の構成の性能特性の組合せは特に顕著であり、既知の対物光学系構成では達成されていない。非球面表面を、縮写レンズ群701、収束レンズ群702及び反射屈折レンズ群703中の、他の要素上に配置することで、構成の要素の数を減少させ、構成の性能を改善し、又は製作公差を減少させることができる。この構成を出発点として使用し、構成を、他の、波長、NA、視野寸法又は性能要件のために再最適化してもよい。この再最適化は、構成要素の僅かな、回転又は修正しか必要とせず、通常、当業者の能力の範囲内である一方、本発明の示唆の範囲内でもある。
図7の構成は、1nmを超える帯域幅の構成に対して、比較的低い固有の多色波面収差を与える。波面収差が低いと、製造上の自由度が増し、又は製造が容易となる一方、製造される対物光学系の性能を比較的高くすることができる。
図8は、該詳細図は、マンギンミラー要素712に採用され、又はマンギンミラー要素712の一部である延長部716を強調した、図7のマンギンミラー要素712の詳細図を示す。図8には、表面715が、試料717に最も近い表面714及び試料から離れた表面713に加えて示される。延長部の使用により、本明細書において説明した利益的特徴が与えられる。
本明細書に示した構成及び図示した詳細な態様は、限定を意図するものではなく、代替的な構成要素を含み得るものであり、その一方で、本発明の示唆及び利益を具体化するものでもある。したがって、本発明を、その詳細な実施態様と関連して説明したが、本発明は更なる変更が可能であることを理解されたい。本出願は、本発明の原理に概ね従う発明のいかなる、バリエーション、使用又は採用を包含することを意図されているとともに、本明細書による開示技術に、本発明が属する技術の分野における周知技術及び慣用技術を適用して得られるようなものを含む発明のいかなる、バリエーション、使用又は採用を包含することを意図されている。
本発明は、以下の適用例としても実現可能である。
[適用例1]
少なくとも1つの暗視野検査技術を使用して、試料を検査するよう構成された対物光学系であって、
前記試料の方向に向いた外側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料から最も遠い位置に配置された外側要素と、
前記試料から離れる方向に向いた内側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料に最も近い位置に配置された内側要素と、
外側レンズ及び内側レンズの間に位置する中央要素と、を備え、
前記外側要素、前記内側要素及び前記中央要素のうち、少なくとも一つの要素は、非球面の表面を有し、
前記内側要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成された
対物光学系。
[適用例2]
前記対物光学系には、少なくとも0.25nmを超える帯域幅を有する光エネルギが入射される、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例3]
暗視野検査の間に用いるよう構成した瞳アパーチャをさらに備える、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例4]
暗視野検査が生成する高ダイナミック・レンジの信号を受信するよう構成した検知器をさらに備える、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例5]
前記内側要素は、マンギンミラー要素を備え、前記非球面の表面は、該マンギンミラー要素の表面である、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例6]
前記中央要素は、レンズを備え、前記非球面の表面は、該レンズの表面である、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例7]
前記非球面の表面は、前記外側要素部分反射性表面である、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例8]
前記対物光学系は、少なくとも1.0mmを超える視野寸法を有する、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例9]
前記対物光学系は、少なくとも0.25nmの補正後の帯域幅を有する、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例10]
前記対物光学系は、視野に亘って、0.9を超える多色ストレール比を有する、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例11]
前記対物光学系は、単一のガラス材料からなる、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例12]
前記対物光学系は、前記対物光学系の外部の、前記マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成されるとともに、レーザビームを前記試料に伝送する、適用例1に記載の対物光学系。
[適用例13]
暗視野照射を使用して試料を検査するため構成される対物光学系であって、
前記試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
実質的に湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を備え、
前記中間レンズは、3重の通過が行われるよう構成され、該3重の通過とは、前記対物光学系が受ける光エネルギの少なくとも一部が、前記中間レンズを3回通過することを意味し、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
前記マンギンミラー要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成された
対物光学系。
[適用例14]
前記対物光学系には、少なくとも0.25nmを超える帯域幅を有する光エネルギが入射される、適用例13に記載の対物光学系。
[適用例15]
前記マンギンミラー要素は、延長要素を有する、適用例13に記載の対物光学系。
[適用例16]
前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、適用例15に記載の対物光学系。
[適用例17]
前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、適用例15に記載の対物光学系。
[適用例18]
前記対物光学系は、前記対物光学系の外部の、前記マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成されるとともに、レーザビームを前記試料に伝送する、適用例13に記載の対物光学系。
[適用例19]
試料を検査するよう構成された試料検査装置であって、
光エネルギ源と、
対物光学系と、を備え、
前記対物光学系は、
試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを前記試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
実質的に湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を有し、
前記中間レンズは、該中間レンズを少なくとも3回通過して受光された光エネルギを透過するよう構成され、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有する
試料検査装置。
[適用例20]
前記対物光学系には、少なくとも0.25nmの帯域幅を有する光エネルギが入射される、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例21]
前記マンギンミラー要素は、延長要素を有する、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例22]
前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、適用例21に記載の試料検査装置。
[適用例23]
前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、適用例21に記載の試料検査装置。
[適用例24]
前記光エネルギ源は、前記試料へレーザビームを伝送するよう構成された対物光学系の外部のレーザビーム伝送システムを有する、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例25]
前記対物光学系は、暗視野検査の間に用いるよう構成した瞳アパーチャをさらに備える、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例26]
暗視野検査が生成する高ダイナミック・レンジの信号を受信するよう構成した検知器をさらに備える、適用例19に試料検査装置。
[適用例27]
前記非球面の表面は、前記マンギンミラー要素の表面である、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例28]
前記非球面の表面は、前記中間レンズの表面である、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例29]
前記非球面の表面は、前記反射屈折要素の一表面である、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例30]
前記対物光学系は、視野に亘って、0.9を超える多色ストレール比を有する、適用例19に記載の試料検査装置。
[適用例31]
前記対物光学系は、単一のガラス材料からなる、適用例19に記載の試料検査装置。

Claims (14)

  1. 暗視野照射を使用して試料を検査するため構成される対物光学系であって、
    前記試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
    湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
    前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を備え、
    前記中間レンズは、3重の通過が行われるよう構成され、該3重の通過とは、前記対物光学系が受ける光エネルギの少なくとも一部が、前記中間レンズを3回通過することを意味し、
    前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
    前記マンギンミラー要素は、前記マンギンミラー要素の軸上に、前記試料側に向けて突出し、円錐状の側面と前記試料の最も近くに配置される表面を有する延長要素を備える、
    対物光学系。
  2. 前記対物光学系には、少なくとも0.25nmを超える帯域幅を有する光エネルギが入射される、請求項1に記載の対物光学系。
  3. 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、請求項1に記載の対物光学系。
  4. 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、請求項1に記載の対物光学系。
  5. 前記対物光学系は、前記対物光学系の外部の、前記マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成されるとともに、レーザビームを前記試料に伝送する、請求項1に記載の対物光学系。
  6. 試料を検査するよう構成された試料検査装置であって、
    光エネルギ源と、
    対物光学系と、を備え、
    前記対物光学系は、
    試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを前記試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
    湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
    前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を有し、
    前記中間レンズは、該中間レンズを少なくとも3回通過して受光された光エネルギを透過するよう構成され、
    前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
    前記マンギンミラー要素は、前記マンギンミラー要素の軸上に、前記試料側に向けて突出し、円錐状の側面と前記試料の最も近くに配置される表面を有する延長要素を備える、
    試料検査装置。
  7. 前記対物光学系には、少なくとも0.25nmの帯域幅を有する光エネルギが入射される、請求項6に記載の試料検査装置。
  8. 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、請求項6に記載の試料検査装置。
  9. 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、請求項6に記載の試料検査装置。
  10. 前記光エネルギ源は、前記試料へレーザビームを伝送するよう構成された対物光学系の外部のレーザビーム伝送システムを有する、請求項6に記載の試料検査装置。
  11. 前記非球面の表面は、前記マンギンミラー要素の表面である、請求項6に記載の試料検査装置。
  12. 前記非球面の表面は、前記中間レンズの表面である、請求項6に記載の試料検査装置。
  13. 前記非球面の表面は、前記反射屈折要素の一表面である、請求項6に記載の試料検査装置。
  14. 前記対物光学系は、単一のガラス材料からなる、請求項6に記載の試料検査装置。
JP2011514595A 2008-06-17 2009-06-15 対物光学系および試料検査装置 Active JP5634989B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US13243808P 2008-06-17 2008-06-17
US61/132,438 2008-06-17
PCT/US2009/003591 WO2009154731A2 (en) 2008-06-17 2009-06-15 External beam delivery system using catadioptric objective with aspheric surfaces

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014210337A Division JP6030616B2 (ja) 2008-06-17 2014-10-15 対物光学系および試料検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011525995A JP2011525995A (ja) 2011-09-29
JP5634989B2 true JP5634989B2 (ja) 2014-12-03

Family

ID=41434597

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011514595A Active JP5634989B2 (ja) 2008-06-17 2009-06-15 対物光学系および試料検査装置
JP2014210337A Active JP6030616B2 (ja) 2008-06-17 2014-10-15 対物光学系および試料検査装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014210337A Active JP6030616B2 (ja) 2008-06-17 2014-10-15 対物光学系および試料検査装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8896917B2 (ja)
EP (1) EP2294471A4 (ja)
JP (2) JP5634989B2 (ja)
WO (1) WO2009154731A2 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5670174B2 (ja) * 2010-03-18 2015-02-18 ギガフォトン株式会社 チャンバ装置および極端紫外光生成装置
JP5479224B2 (ja) 2010-05-27 2014-04-23 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
JP5627476B2 (ja) * 2011-01-19 2014-11-19 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
JP5656682B2 (ja) * 2011-02-22 2015-01-21 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
US8873596B2 (en) 2011-07-22 2014-10-28 Kla-Tencor Corporation Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal
US9478402B2 (en) 2013-04-01 2016-10-25 Kla-Tencor Corporation Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor
US9410901B2 (en) 2014-03-17 2016-08-09 Kla-Tencor Corporation Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article
KR20150141820A (ko) * 2014-06-10 2015-12-21 삼성전자주식회사 카타디옵트릭 그룹을 포함하는 대물 렌즈 조립체
US9419407B2 (en) 2014-09-25 2016-08-16 Kla-Tencor Corporation Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus
US9748729B2 (en) 2014-10-03 2017-08-29 Kla-Tencor Corporation 183NM laser and inspection system
KR20160091085A (ko) * 2015-01-23 2016-08-02 삼성전자주식회사 반사 굴절 광학계 및 이미지 촬영 장치
US10748730B2 (en) 2015-05-21 2020-08-18 Kla-Tencor Corporation Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer
US10175555B2 (en) 2017-01-03 2019-01-08 KLA—Tencor Corporation 183 nm CW laser and inspection system
JP2019028128A (ja) * 2017-07-26 2019-02-21 キヤノン株式会社 光学系、それを備える撮像装置及び投影装置
CN107505692B (zh) * 2017-09-26 2020-04-10 张家港中贺自动化科技有限公司 一种折反射式物镜
US10943760B2 (en) 2018-10-12 2021-03-09 Kla Corporation Electron gun and electron microscope
CN114878583B (zh) * 2022-07-08 2022-09-20 四川大学 用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5999310A (en) 1996-07-22 1999-12-07 Shafer; David Ross Ultra-broadband UV microscope imaging system with wide range zoom capability
WO2000039623A1 (fr) * 1998-12-25 2000-07-06 Nikon Corporation Systeme optique de formation d'image par reflexion refraction et appareil d'exposition par projection comprenant le systeme optique
US6621557B2 (en) * 2000-01-13 2003-09-16 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and exposure methods
US6842298B1 (en) * 2000-09-12 2005-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system
US7869121B2 (en) * 2003-02-21 2011-01-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective using aspheric surfaces
US7646533B2 (en) * 2003-02-21 2010-01-12 Kla-Tencor Technologies Corporation Small ultra-high NA catadioptric objective
US7180658B2 (en) * 2003-02-21 2007-02-20 Kla-Tencor Technologies Corporation High performance catadioptric imaging system
US8675276B2 (en) * 2003-02-21 2014-03-18 Kla-Tencor Corporation Catadioptric imaging system for broad band microscopy
JP5495555B2 (ja) * 2005-03-31 2014-05-21 ケーエルエー−テンカー コーポレイション 非球面を使用した小型で超高naの反射屈折対物レンズ
US7345825B2 (en) * 2005-06-30 2008-03-18 Kla-Tencor Technologies Corporation Beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system

Also Published As

Publication number Publication date
US20110075138A1 (en) 2011-03-31
WO2009154731A3 (en) 2010-03-18
WO2009154731A2 (en) 2009-12-23
EP2294471A2 (en) 2011-03-16
EP2294471A4 (en) 2014-01-22
US8896917B2 (en) 2014-11-25
JP2011525995A (ja) 2011-09-29
JP6030616B2 (ja) 2016-11-24
JP2015038624A (ja) 2015-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6030616B2 (ja) 対物光学系および試料検査装置
JP5172328B2 (ja) 浸漬液を用いた広帯域顕微鏡観察用カタジオプトリック結像系
US7817260B2 (en) Beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system
JP5905430B2 (ja) 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系
US7679842B2 (en) High performance catadioptric imaging system
EP1864177B1 (en) Small ultra-high na catadioptric objective and system
US9377610B2 (en) External beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120510

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131002

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131126

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140916

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141015

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5634989

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250