JP2011525995A - 非球面の表面をもつ反射屈折対物光学系を使用する外部ビーム伝送システム - Google Patents
非球面の表面をもつ反射屈折対物光学系を使用する外部ビーム伝送システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011525995A JP2011525995A JP2011514595A JP2011514595A JP2011525995A JP 2011525995 A JP2011525995 A JP 2011525995A JP 2011514595 A JP2011514595 A JP 2011514595A JP 2011514595 A JP2011514595 A JP 2011514595A JP 2011525995 A JP2011525995 A JP 2011525995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- sample
- objective optical
- mangin mirror
- configuration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0804—Catadioptric systems using two curved mirrors
- G02B17/0808—Catadioptric systems using two curved mirrors on-axis systems with at least one of the mirrors having a central aperture
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
- G02B17/08—Catadioptric systems
- G02B17/0856—Catadioptric systems comprising a refractive element with a reflective surface, the reflection taking place inside the element, e.g. Mangin mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/02—Objectives
- G02B21/04—Objectives involving mirrors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/06—Means for illuminating specimens
- G02B21/08—Condensers
- G02B21/12—Condensers affording bright-field illumination
- G02B21/125—Condensers affording bright-field illumination affording both dark- and bright-field illumination
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Lenses (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【選択図】図3
Description
Claims (31)
- 少なくとも1つの暗視野検査技術を使用して、試料を検査するよう構成された対物光学系であって、
前記試料の方向に向いた外側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料から最も遠い位置に配置された外側要素と、
前記試料から離れる方向に向いた内側要素部分反射性表面を有し、かつ、前記試料に最も近い位置に配置された内側要素と、
外側レンズ及び内側レンズの間に位置する中央要素と、を備え、
前記外側要素、前記内側要素及び前記中央要素のうち、少なくとも一つの要素は、非球面の表面を有し、
前記内側要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成された
対物光学系。 - 前記対物光学系には、少なくとも0.25nmを超える帯域幅を有する光エネルギが入射される、請求項1に記載の対物光学系。
- 暗視野検査の間に用いるよう構成した瞳アパーチャをさらに備える、請求項1に記載の対物光学系。
- 暗視野検査が生成する高ダイナミック・レンジの信号を受信するよう構成した検知器をさらに備える、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記内側要素は、マンギンミラー要素を備え、前記非球面の表面は、該マンギンミラー要素の表面である、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記中央要素は、レンズを備え、前記非球面の表面は、該レンズの表面である、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記非球面の表面は、前記外側要素部分反射性表面である、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、少なくとも1.0mmを超える視野寸法を有する、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、少なくとも0.25nmの補正後の帯域幅を有する、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、視野に亘って、0.9を超える多色ストレール比を有する、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、単一のガラス材料からなる、請求項1に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、前記対物光学系の外部の、前記マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成されるとともに、レーザビームを前記試料に伝送する、請求項1に記載の対物光学系。
- 暗視野照射を使用して試料を検査するため構成される対物光学系であって、
前記試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
実質的に湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を備え、
前記中間レンズは、3重の通過が行われるよう構成され、該3重の通過とは、前記対物光学系が受ける光エネルギの少なくとも一部が、前記中間レンズを3回通過することを意味し、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有し、
前記マンギンミラー要素は、前記試料の暗視野検査を容易にするよう、空間的に構成された
対物光学系。 - 前記対物光学系には、少なくとも0.25nmを超える帯域幅を有する光エネルギが入射される、請求項13に記載の対物光学系。
- 前記マンギンミラー要素は、延長要素を有する、請求項13に記載の対物光学系。
- 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、請求項15に記載の対物光学系。
- 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、請求項15に記載の対物光学系。
- 前記対物光学系は、前記対物光学系の外部の、前記マンギンミラー要素に隣接するレーザビーム伝送システムを用いるよう構成されるとともに、レーザビームを前記試料に伝送する、請求項13に記載の対物光学系。
- 試料を検査するよう構成された試料検査装置であって、
光エネルギ源と、
対物光学系と、を備え、
前記対物光学系は、
試料に実質的に隣接する位置に配置され、かつ、光エネルギを前記試料から離れる方向へ反射させる向きに配置される表面を有するマンギンミラー要素と、
実質的に湾曲し、かつ、光エネルギを前記試料に向かって反射するよう配置された表面を有する反射屈折要素と、
前記マンギンミラー要素及び前記反射屈折要素が反射した光エネルギを受けるよう構成された中間レンズと、を有し、
前記中間レンズは、該中間レンズを少なくとも3回通過して受光された光エネルギを透過するよう構成され、
前記マンギンミラー要素、前記反射屈折要素及び前記中間レンズのうち、少なくとも一つのものは、非球面の表面を有する
試料検査装置。 - 前記対物光学系には、少なくとも0.25nmの帯域幅を有する光エネルギが入射される、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記マンギンミラー要素は、延長要素を有する、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と別体的に形成され、かつ、前記マンギンミラー要素に取付けられる、請求項21に記載の試料検査装置。
- 前記延長要素は、前記マンギンミラー要素と一体的に形成される、請求項21に記載の試料検査装置。
- 前記光エネルギ源は、前記試料へレーザビームを伝送するよう構成された対物光学系の外部のレーザビーム伝送システムを有する、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記対物光学系は、暗視野検査の間に用いるよう構成した瞳アパーチャをさらに備える、請求項19に記載の試料検査装置。
- 暗視野検査が生成する高ダイナミック・レンジの信号を受信するよう構成した検知器をさらに備える、請求項19に試料検査装置。
- 前記非球面の表面は、前記マンギンミラー要素の表面である、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記非球面の表面は、前記中間レンズの表面である、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記非球面の表面は、前記反射屈折要素の一表面である、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記対物光学系は、視野に亘って、0.9を超える多色ストレール比を有する、請求項19に記載の試料検査装置。
- 前記対物光学系は、単一のガラス材料からなる、請求項19に記載の試料検査装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13243808P | 2008-06-17 | 2008-06-17 | |
US61/132,438 | 2008-06-17 | ||
PCT/US2009/003591 WO2009154731A2 (en) | 2008-06-17 | 2009-06-15 | External beam delivery system using catadioptric objective with aspheric surfaces |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014210337A Division JP6030616B2 (ja) | 2008-06-17 | 2014-10-15 | 対物光学系および試料検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011525995A true JP2011525995A (ja) | 2011-09-29 |
JP5634989B2 JP5634989B2 (ja) | 2014-12-03 |
Family
ID=41434597
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011514595A Active JP5634989B2 (ja) | 2008-06-17 | 2009-06-15 | 対物光学系および試料検査装置 |
JP2014210337A Active JP6030616B2 (ja) | 2008-06-17 | 2014-10-15 | 対物光学系および試料検査装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014210337A Active JP6030616B2 (ja) | 2008-06-17 | 2014-10-15 | 対物光学系および試料検査装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8896917B2 (ja) |
EP (1) | EP2294471A4 (ja) |
JP (2) | JP5634989B2 (ja) |
WO (1) | WO2009154731A2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012150245A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
JP2012173525A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5670174B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2015-02-18 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置および極端紫外光生成装置 |
JP5479224B2 (ja) * | 2010-05-27 | 2014-04-23 | キヤノン株式会社 | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
US8873596B2 (en) | 2011-07-22 | 2014-10-28 | Kla-Tencor Corporation | Laser with high quality, stable output beam, and long life high conversion efficiency non-linear crystal |
US9478402B2 (en) | 2013-04-01 | 2016-10-25 | Kla-Tencor Corporation | Photomultiplier tube, image sensor, and an inspection system using a PMT or image sensor |
US9410901B2 (en) | 2014-03-17 | 2016-08-09 | Kla-Tencor Corporation | Image sensor, an inspection system and a method of inspecting an article |
KR20150141820A (ko) * | 2014-06-10 | 2015-12-21 | 삼성전자주식회사 | 카타디옵트릭 그룹을 포함하는 대물 렌즈 조립체 |
US9419407B2 (en) | 2014-09-25 | 2016-08-16 | Kla-Tencor Corporation | Laser assembly and inspection system using monolithic bandwidth narrowing apparatus |
US9748729B2 (en) | 2014-10-03 | 2017-08-29 | Kla-Tencor Corporation | 183NM laser and inspection system |
KR20160091085A (ko) * | 2015-01-23 | 2016-08-02 | 삼성전자주식회사 | 반사 굴절 광학계 및 이미지 촬영 장치 |
US10748730B2 (en) | 2015-05-21 | 2020-08-18 | Kla-Tencor Corporation | Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer |
US10175555B2 (en) | 2017-01-03 | 2019-01-08 | KLA—Tencor Corporation | 183 nm CW laser and inspection system |
JP2019028128A (ja) * | 2017-07-26 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 光学系、それを備える撮像装置及び投影装置 |
CN107505692B (zh) * | 2017-09-26 | 2020-04-10 | 张家港中贺自动化科技有限公司 | 一种折反射式物镜 |
US10943760B2 (en) | 2018-10-12 | 2021-03-09 | Kla Corporation | Electron gun and electron microscope |
CN114878583B (zh) * | 2022-07-08 | 2022-09-20 | 四川大学 | 用于畸变光斑照明疵病暗场成像的图像处理方法及系统 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000039623A1 (fr) * | 1998-12-25 | 2000-07-06 | Nikon Corporation | Systeme optique de formation d'image par reflexion refraction et appareil d'exposition par projection comprenant le systeme optique |
JP2001517806A (ja) * | 1997-08-07 | 2001-10-09 | クラ−テンカー コーポレイション | 広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外顕微鏡映像システム |
JP2006518876A (ja) * | 2003-02-21 | 2006-08-17 | ケーエルエー・テンコール・テクノロジーズ・コーポレーション | 高性能カタディオプトリックイメージングシステム |
WO2006105122A2 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high na catadioptric objective |
WO2006107527A2 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high na catadioptric objective using aspheric surfaces |
WO2007005340A2 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6621557B2 (en) * | 2000-01-13 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and exposure methods |
US6842298B1 (en) | 2000-09-12 | 2005-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Broad band DUV, VUV long-working distance catadioptric imaging system |
US8675276B2 (en) | 2003-02-21 | 2014-03-18 | Kla-Tencor Corporation | Catadioptric imaging system for broad band microscopy |
US7869121B2 (en) * | 2003-02-21 | 2011-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high NA catadioptric objective using aspheric surfaces |
-
2009
- 2009-06-15 EP EP09767044.2A patent/EP2294471A4/en not_active Withdrawn
- 2009-06-15 JP JP2011514595A patent/JP5634989B2/ja active Active
- 2009-06-15 US US12/737,062 patent/US8896917B2/en active Active
- 2009-06-15 WO PCT/US2009/003591 patent/WO2009154731A2/en active Application Filing
-
2014
- 2014-10-15 JP JP2014210337A patent/JP6030616B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001517806A (ja) * | 1997-08-07 | 2001-10-09 | クラ−テンカー コーポレイション | 広範囲ズーム機能を備えた超広帯域紫外顕微鏡映像システム |
WO2000039623A1 (fr) * | 1998-12-25 | 2000-07-06 | Nikon Corporation | Systeme optique de formation d'image par reflexion refraction et appareil d'exposition par projection comprenant le systeme optique |
JP2006518876A (ja) * | 2003-02-21 | 2006-08-17 | ケーエルエー・テンコール・テクノロジーズ・コーポレーション | 高性能カタディオプトリックイメージングシステム |
WO2006105122A2 (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high na catadioptric objective |
WO2006107527A2 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-12 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Small ultra-high na catadioptric objective using aspheric surfaces |
WO2007005340A2 (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012150245A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
JP2012173525A (ja) * | 2011-02-22 | 2012-09-10 | Canon Inc | 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2294471A4 (en) | 2014-01-22 |
WO2009154731A2 (en) | 2009-12-23 |
JP6030616B2 (ja) | 2016-11-24 |
EP2294471A2 (en) | 2011-03-16 |
WO2009154731A3 (en) | 2010-03-18 |
US8896917B2 (en) | 2014-11-25 |
JP5634989B2 (ja) | 2014-12-03 |
US20110075138A1 (en) | 2011-03-31 |
JP2015038624A (ja) | 2015-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6030616B2 (ja) | 対物光学系および試料検査装置 | |
JP4937255B2 (ja) | 反射屈折光学系におけるレーザ暗視野照明のビーム送出システム | |
JP5172328B2 (ja) | 浸漬液を用いた広帯域顕微鏡観察用カタジオプトリック結像系 | |
JP5905430B2 (ja) | 広帯域顕微鏡用カタジオプトリック結像系 | |
US7679842B2 (en) | High performance catadioptric imaging system | |
US9377610B2 (en) | External beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system | |
EP1864177B1 (en) | Small ultra-high na catadioptric objective and system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120510 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130619 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131002 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140916 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141015 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5634989 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |