JP5622143B2 - Bubble generator - Google Patents
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Description
本発明は、液体中に気泡を発生するための装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for generating bubbles in a liquid.
気泡発生装置に関する研究結果が報告されている（非特許文献１および２参照）。 The research result regarding a bubble generator is reported (refer nonpatent literature 1 and 2).
たとえば、有底円筒状の容器の内部で気泡の旋回流を発生させた上で容器の開口から流出させる装置が提案されている（特許文献１および２参照）。気泡の旋回流を発生させるため、容器の側壁に設けられている液体導入孔から液体が供給されるとともに、容器の底板に設けられた気体導入孔から気体が供給されている。 For example, an apparatus has been proposed in which a swirling flow of bubbles is generated inside a bottomed cylindrical container and then flows out from the opening of the container (see Patent Documents 1 and 2). In order to generate a swirling flow of bubbles, a liquid is supplied from a liquid introduction hole provided in the side wall of the container and a gas is supplied from a gas introduction hole provided in a bottom plate of the container.
液体の浄化または製品の洗浄など、気泡または気泡混じりの液体の利用目的に応じて気泡の発生形態はさまざまに調節されることが好ましいが、その調節手法については改善の余地があった。 It is preferable that the bubble generation mode is adjusted in various ways depending on the purpose of use of the bubble or bubble-mixed liquid, such as liquid purification or product washing, but there is room for improvement in the adjustment method.
そこで、本発明は、気泡の発生量および気泡径のそれぞれを調節することができる気泡発生装置を提供することを解決課題とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a bubble generation device that can adjust the amount of bubble generation and the bubble diameter.
本発明は、チャンバと、液体供給装置と、気体供給装置とを備え、前記液体供給装置により前記チャンバに液体が流入されるとともに、前記気体供給装置により前記チャンバに気体が流入されることにより、前記チャンバにおいて発生した気泡混じりの液体が前記チャンバから流出されるように構成されている気泡発生装置に関する。 The present invention includes a chamber, a liquid supply device, and a gas supply device, and the liquid is supplied into the chamber by the liquid supply device, and the gas is supplied into the chamber by the gas supply device. The present invention relates to a bubble generating device configured such that a liquid containing bubbles generated in the chamber flows out of the chamber.
本発明の気泡発生装置は、前記チャンバは、第１部品、第２部品および第３部品が同軸に重ね合わせられた上で固定されることにより構成され、前記第１部品の、前記第２部品に対向する側面に環状縁部の内側に、その環状縁部よりも軸方向に窪んでいる凹部が形成され、前記凹部には、前記第１部品を軸方向に貫通する気体導入孔が形成され、前記第２部品の前記第３部品に対向する他方の側面に、その環状縁部の内側に環状溝部が形成され、前記第２部品の環状縁部の一部がその接線方向に切り欠かれて切欠部が形成され、前記第２部品の環状溝部には、前記第２部品を軸方向に貫通するとともに、周方向に配置された複数の気体流入孔が形成され、前記第２部品の環状溝部の内側に少なくとも外側が当該環状縁部よりも軸方向に低くなっている案内部が形成され、前記第３部品の前記第２部品に対向する側面にその環状縁部の径方向内側に環状溝部が形成され、前記第３部品の環状縁部の一部がその接線方向に切り欠かれて切欠部が形成され、前記第３部品の環状溝部の内側に少なくとも外側が当該環状縁部よりも軸方向に低くなっている案内部が形成され、前記第３部品にはその案内部に連通する気泡流出孔が形成され、前記チャンバは、前記第２部品の環状溝部と前記第３部品の環状溝部とが合わさって形成されている環状の第１空間と、前記第２部品の案内部と前記第３部品の案内部とが合わさって形成され、前記環の内周側において、前記環の接線方向成分を有する方向にのびているスリットを介して前記第１空間に連続する第２空間と、前記第２部品の切欠部と前記第３部品の切欠部とが合わさって形成され、前記液体供給装置により供給される液体を、前記第１空間に対して前記環の接線方向成分を有する方向に流入させる液体導入部と、前記第１部品の気体導入孔により構成され、前記気体供給装置により供給される気体を、前記第１空間に対して一または複数箇所から流入させる気体導入部と、前記第３部品の前記気泡流出孔により構成され、前記第２空間を前記チャンバの外部に連通させる気泡流出部とを備えていることを特徴とする。前記液体供給装置による前記チャンバへの液体の流入量Ｑｃおよび前記気体供給装置による前記チャンバへの気体の流入量Ｑｓの調節を通じて、前記チャンバへの気体の流入圧力の降下量ΔＰに対する、前記チャンバへの液体の流入圧力Ｐｃの比率ｘ＝（Ｐｃ／ΔＰ）が調節されていることが好ましい。 In the bubble generating apparatus of the present invention, the chamber is configured by fixing the first component, the second component, and the third component on the same axis, and the second component of the first component. A concave portion that is recessed in the axial direction from the annular edge portion is formed inside the annular edge portion on a side surface that faces the first portion, and a gas introduction hole that penetrates the first component in the axial direction is formed in the concave portion. On the other side of the second part facing the third part, an annular groove is formed inside the annular edge, and a part of the annular edge of the second part is cut away in the tangential direction. The annular groove portion of the second part is formed with a plurality of gas inflow holes that penetrate the second part in the axial direction and are arranged in the circumferential direction. Inside the groove, at least the outside is lower in the axial direction than the annular edge. An annular groove is formed radially inwardly of the annular edge on the side surface of the third part facing the second part, and a part of the annular edge of the third part is A notched portion is formed by being cut out in a tangential direction, and a guide portion is formed on the inner side of the annular groove portion of the third component, and at least the outer side is lower in the axial direction than the annular edge portion. A bubble outflow hole communicating with the guide portion is formed, and the chamber includes an annular first space formed by combining an annular groove portion of the second part and an annular groove portion of the third part, and the first portion. A guide part of two parts and a guide part of the third part are formed to be joined together, and on the inner peripheral side of the ring, it is continuous with the first space through a slit extending in a direction having a tangential direction component of the ring. The second space to be cut, the notch of the second part and the front A liquid introduction part formed by joining the notch part of the third part and flowing the liquid supplied by the liquid supply device in a direction having a tangential component of the ring with respect to the first space; A gas introduction part that is configured by one part gas introduction hole and that allows the gas supplied by the gas supply device to flow into the first space from one or more places, and the bubble outflow hole of the third part. And a bubble outlet for communicating the second space with the outside of the chamber. Through the adjustment of the liquid inflow amount Qc into the chamber by the liquid supply device and the gas inflow amount Qs into the chamber by the gas supply device, the gas inflow pressure drop amount ΔP to the chamber is adjusted to the chamber. It is preferable that the ratio x = (Pc / ΔP) of the inflow pressure Pc of the liquid is adjusted.
本発明は、チャンバへの気体の流入圧力の降下量ΔＰに対する、チャンバへの液体の流入圧力Ｐｃの比率である圧力比率ｘ＝（Ｐｃ／ΔＰ）に応じて、気泡発生量（単位時間当たりの気泡発生個数）および気泡径のそれぞれが変化するという発明者の知見に基づいてなされた。具体的には、圧力比率ｘが低いほど気泡径が大きくなるとともに気泡発生量が少なくなるのに対して、圧力比率ｘが高いほど気泡径が小さくなるとともに気泡発生量が多くなる傾向がある。 According to the present invention, the bubble generation amount (per unit time) is determined according to the pressure ratio x = (Pc / ΔP) which is the ratio of the liquid inflow pressure Pc to the chamber with respect to the drop amount ΔP of the gas inflow pressure into the chamber. The number of bubbles generated) and the bubble diameter were changed based on the inventor's knowledge. Specifically, the lower the pressure ratio x, the larger the bubble diameter and the smaller the amount of bubbles generated, whereas the higher the pressure ratio x, the smaller the bubble diameter and the larger the amount of bubbles generated.
このため、チャンバへの液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓの調節を通じて当該比率ｘが調節されることにより、気泡発生量および気泡径のそれぞれが所望の数値範囲に調節されうる。 For this reason, each of the bubble generation amount and the bubble diameter can be adjusted to a desired numerical range by adjusting the ratio x through adjustment of the liquid inflow amount Qc and the gas inflow amount Qs into the chamber.
たとえば、気泡発生量ｙ1が第１関数ｆ1（ｘ）により定義され、気泡径ｙ2が第２関数ｆ2（ｘ）により定義されている場合について考察する。この場合、気泡発生量ｙ1を範囲［ｙ1L，ｙ1H］に収めるとともに、気泡径ｙ2を範囲［ｙ2L，ｙ2H］に収めるためには、圧力比率ｘは範囲［ｆ1 -1（ｙ1L），ｆ1 -1（ｙ1H）］および［ｆ2 -1（ｙ2H），ｆ2 -1（ｙ2L）］の重なり範囲に収まるように調節されればよい。「ｆ1 -1」は第１関数ｆ1の逆関数を意味し、「ｆ2 -1」は第２関数ｆ2の逆関数を意味する。 For example, consider the case where the bubble generation amount y 1 is defined by the first function f 1 (x) and the bubble diameter y 2 is defined by the second function f 2 (x). In this case, in order to keep the bubble generation amount y 1 in the range [y 1L , y 1H ] and the bubble diameter y 2 in the range [y 2L , y 2H ], the pressure ratio x is in the range [f 1 −1. (Y 1L ), f 1 −1 (y 1H )] and [f 2 −1 (y 2H ), f 2 −1 (y 2L )] may be adjusted so as to be within the overlapping range. “F 1 −1 ” means an inverse function of the first function f 1 , and “f 2 −1 ” means an inverse function of the second function f 2 .
なお、気体流入圧力の降下量ΔＰは、チャンバに対する気体の流入圧力と、気泡のチャンバからの流出圧力との差分を意味する。この降下量ΔＰは、チャンバの気泡流出側が大気に開放されている場合、チャンバに対する気体流入圧力Ｐｓに一致する。物理量の「調節」とは、当該物理量がフィードフォワード制御されることのほか、当該物理量がその計測値に基づいてフィードバック制御されることをも意味する。 Note that the gas inflow pressure drop ΔP means the difference between the gas inflow pressure into the chamber and the bubble outflow pressure from the chamber. This drop ΔP corresponds to the gas inflow pressure Ps to the chamber when the bubble outflow side of the chamber is open to the atmosphere. “Adjustment” of a physical quantity means that the physical quantity is feedback-controlled based on the measured value in addition to the feed-forward control of the physical quantity.
前記チャンバは、環状の第１空間と、前記環の内周側において、前記環の接線方向成分を有する方向にのびているスリットを介して前記第１空間に連続する第２空間と、前記液体供給装置により供給される液体を、前記第１空間に対して前記環の接線方向成分を有する方向に流入させる液体導入部と、前記気体供給装置により供給される気体を、前記第１空間に対して一または複数箇所から流入させる気体導入部と、前記第２空間を前記チャンバの外部に連通させる気泡流出部とを備えていてもよい。 The chamber includes an annular first space, a second space continuous with the first space through a slit extending in a direction having a tangential component of the ring on the inner peripheral side of the ring, and the liquid supply A liquid introduction section for allowing the liquid supplied by the apparatus to flow in a direction having a tangential component of the ring with respect to the first space; and the gas supplied by the gas supply apparatus for the first space. You may provide the gas introducing | transducing part which flows in from one or several places, and the bubble outflow part which connects the said 2nd space to the exterior of the said chamber.
当該構成の気泡発生装置によれば、環状の第１空間に対して当該環の接線方向成分を有する方向に液体を流入させることにより、当該液体を第１空間に沿って環状に流すことができる。さらに、第１空間を環状に流れる液体を、スリットを通じて第２空間に流入させることにより、当該液体を第２空間において旋回させた上で、チャンバの外部に流出させることができる。 According to the bubble generating device of the configuration, the liquid can be caused to flow in an annular shape along the first space by flowing the liquid in a direction having a tangential component of the ring to the annular first space. . Furthermore, by allowing the liquid flowing in the first space to flow into the second space through the slit, the liquid can be swung in the second space and then flowed out of the chamber.
この結果、第１空間において、環状に流れている液体のせん断力によって気体を微細化させることにより、気泡を発生させることができる。また、スリットにおいて第１空間および第２空間の液体の圧力降下または流速低下によって生じるせん断力によって、気泡の微細化が図られる。さらに、第２空間において、旋回している液体のせん断力によって気泡のさらなる微細化が図られる。 As a result, in the first space, bubbles can be generated by refining the gas by the shearing force of the annularly flowing liquid. Further, the bubbles are made finer by the shearing force generated by the pressure drop or flow velocity drop of the liquid in the first space and the second space in the slit. Furthermore, in the second space, the bubbles are further miniaturized by the shearing force of the swirling liquid.
このように、気泡の微細化を図りながら、前記のようにチャンバへの液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓの調節を通じて当該比率ｘが調節されることにより、気泡発生量および気泡径のそれぞれが所望の数値範囲に調節されうる。 As described above, the ratio x is adjusted through the adjustment of the liquid inflow amount Qc and the gas inflow amount Qs into the chamber as described above while reducing the size of the bubbles. It can be adjusted to a desired numerical range.
前記第２部品の案内部にはその外側より軸方向に高くなっている隆起部が形成され、前記第２空間は、前記環の接線方向に垂直な方向について、前記隆起部によって前記気泡流出部に向かって一部が隆起している板状に形成されていてもよい。 The guide part of the second part is formed with a raised part that is higher in the axial direction than the outside thereof, and the second space has the bubble outflow part by the raised part in a direction perpendicular to the tangential direction of the ring. It may be formed in the shape of a plate with a part protruding toward the surface.
当該構成の気泡発生装置によれば、一部が盛り上がった板状に形成された第２空間において、スリットを介して当該板の縁から流入してきた気泡混じりの液体を旋回させながら、当該盛り上がり部分の頂部に向かって案内することができる。これにより、前記のように旋回流によって微細化された気泡を気泡流出部からチャンバの外部に円滑に流出させることができる。 According to the bubble generating device of the configuration, in the second space formed in a plate shape that is partially raised, the raised portion while swirling the liquid mixed with bubbles flowing from the edge of the plate through the slit You can guide towards the top of the. Thereby, the bubbles refined by the swirl flow as described above can smoothly flow out from the bubble outflow portion to the outside of the chamber.
前記第１空間はドーナツ型のトーラス状に形成され、前記スリットは前記トーラスの内周側の経線に沿って当該トーラスの小円径よりも幅狭に形成され、前記第２空間は前記トーラスの回転軸方向から見て円形状に形成され、前記気泡流出部は、前記トーラスの回転軸方向について前記第２空間から前記チャンバの外部に向かって設けられていてもよい。 The first space is formed in a donut-shaped torus shape, the slit is formed narrower than the small circular diameter of the torus along the meridian on the inner peripheral side of the torus, and the second space is formed in the torus. The bubble outflow portion may be formed from the second space toward the outside of the chamber in the rotation axis direction of the torus.
（本発明の一実施形態としての気泡発生装置）
本発明の一実施形態としての気泡発生装置は、図１に示されているように、チャンバ１と、水等の液体をチャンバ１に供給する液体供給装置２と、空気等の気体をチャンバ１に供給する気体供給装置４とを備えている。
(Bubble generator as one embodiment of the present invention)
As shown in FIG. 1, the bubble generating device as one embodiment of the present invention includes a chamber 1, a liquid supply device 2 that supplies a liquid such as water to the chamber 1, and a gas such as air that is supplied to the chamber 1. And a gas supply device 4 for supplying the gas.
チャンバ１は、図２に示されているように略円柱状であり、図３（ａ）に示されている第１部品１１、第２部品１２および第３部品１３によって構成されている。 As shown in FIG. 2, the chamber 1 has a substantially cylindrical shape, and includes a first part 11, a second part 12, and a third part 13 shown in FIG.
図３（ａ）に示されている略円盤状の第１部品１１の一方の側面は平坦である一方、第２部品１２に対向する他方の側面には環状縁部１１０の径方向内側に、環状縁部１１０よりも軸方向に窪んでいる円形状の凹部１１２が形成されている。環状縁部１１０には、第１部品１１を軸方向に貫通するとともに、周方向に等間隔に配置された複数（たとえば４つ）の円形状の貫通孔１１１が形成されている。 While one side surface of the substantially disc-shaped first component 11 shown in FIG. 3A is flat, the other side surface facing the second component 12 is radially inward of the annular edge 110. A circular recess 112 that is recessed in the axial direction from the annular edge 110 is formed. The annular edge portion 110 is formed with a plurality of (for example, four) circular through holes 111 that penetrate the first component 11 in the axial direction and are arranged at equal intervals in the circumferential direction.
凹部１１２の中心部には、第１部品１１を軸方向に貫通する気体導入孔１１３が形成されている。第１部品１１には、一方の側面から突出するように気体導入孔１１３に連続する気体導管１１４が取り付けられている。凹部１１２は第２部品１２の側面とともに気体導入空間Ｓ０を形成する（図４参照）。 A gas introduction hole 113 that penetrates the first component 11 in the axial direction is formed at the center of the recess 112. A gas conduit 114 continuing to the gas introduction hole 113 is attached to the first component 11 so as to protrude from one side surface. The recess 112 forms a gas introduction space S0 together with the side surface of the second component 12 (see FIG. 4).
図３（ａ）および図３（ｂ）に示されている略円盤状の第２部品１２の第１部品１１に対向する一方の側面は平坦である一方、第３部品１３に対向する他方の側面には、環状縁部１２０の径方向内側に断面略半円形状の環状溝部１２２が形成されている。環状溝部１２２は、第３部品１３に略鏡映対称に形成されている環状溝部１３２（後述）と合わさって第１空間Ｓ１を形成する（図４参照）。縁部１２０には、第２部品１２を軸方向に貫通するとともに、周方向に等間隔に配置された複数（たとえば４つ）の円形状の貫通孔１２１が形成されている。 One side surface of the substantially disk-shaped second component 12 shown in FIG. 3A and FIG. 3B facing the first component 11 is flat, while the other side facing the third component 13 is flat. On the side surface, an annular groove 122 having a substantially semicircular cross section is formed on the radially inner side of the annular edge 120. The annular groove 122 is combined with an annular groove 132 (described later) formed substantially symmetrically on the third component 13 to form a first space S1 (see FIG. 4). The edge 120 is formed with a plurality of (for example, four) circular through holes 121 that penetrate the second component 12 in the axial direction and are arranged at equal intervals in the circumferential direction.
第２部品１２の環状縁部１２０の一部がその接線方向に断面略半円形状に切り欠かれて切欠部が形成されている。この切欠部は、第３部品１３にほぼ鏡映対称に形成されている切欠部（後述）と合わさって液体流入孔１２３を形成する。第２部品１２には、環状溝部１２２の接線方向外側に向かうように、液体流入孔１２３に連続する液体導管１２４が取り付けられている。液体流入孔１２３に、第１空間Ｓ１に対する液体の流入方向または流入速度を調節するためのガイドベーンが設けられていてもよい。 A part of the annular edge 120 of the second part 12 is cut out in a substantially semicircular cross section in the tangential direction to form a cutout. This cutout portion is combined with a cutout portion (described later) formed in the third component 13 so as to be substantially mirror-symmetrical to form a liquid inflow hole 123. A liquid conduit 124 that is continuous with the liquid inflow hole 123 is attached to the second component 12 so as to extend outward in the tangential direction of the annular groove 122. The liquid inflow hole 123 may be provided with a guide vane for adjusting the inflow direction or the inflow speed of the liquid with respect to the first space S1.
環状溝部１２２には、第２部品１２を軸方向に貫通するとともに、周方向に等間隔に配置された複数（たとえば１２個）の円形状の気体流入孔１２５が形成されている。気体流入孔１２５の形状として、三角形状、矩形または楕円形状など、任意の形状が採用されてもよい。また、軸方向から見て気体流出孔１２５が、Ｙ字形状または十字形状などの部材によって分割されていてもよい。 A plurality of (for example, twelve) circular gas inflow holes 125 are formed in the annular groove portion 122 while penetrating the second component 12 in the axial direction and arranged at equal intervals in the circumferential direction. As the shape of the gas inflow hole 125, an arbitrary shape such as a triangular shape, a rectangular shape or an elliptical shape may be adopted. Moreover, the gas outflow hole 125 may be divided by a member such as a Y shape or a cross shape when viewed from the axial direction.
第２部品１２には、環状溝部１２２の径方向内側に略円形状の案内部１２６が形成されている。案内部１２６は径方向外側においては平坦であって環状縁部１２０よりも軸方向に低くなっている一方、その中心部には当該平坦部よりも軸方向に高くなっている隆起部１２８が形成されている。案内部１２６は、後述する第３部品１３に形成されている案内部１３６と合わさって第２空間Ｓ２を形成する（図４参照）。 In the second component 12, a substantially circular guide portion 126 is formed on the radially inner side of the annular groove portion 122. The guide portion 126 is flat on the outer side in the radial direction and is lower in the axial direction than the annular edge portion 120, while a raised portion 128 that is higher in the axial direction than the flat portion is formed in the central portion thereof. Has been. The guide part 126 forms a second space S2 together with a guide part 136 formed in the third component 13 described later (see FIG. 4).
図３（ａ）に示されている略円盤状の第３部品１３の一方の側面は平坦である一方、第２部品１２に対向する他方の側面には、環状縁部１３０の径方向内側に断面略半円形状の環状溝部１３２が形成されている。縁部１３０には、第３部品１３を軸方向に貫通するとともに、周方向に等間隔に配置された複数（たとえば４つ）の円形状の貫通孔１３１が形成されている。 One side surface of the substantially disc-shaped third component 13 shown in FIG. 3A is flat, while the other side surface facing the second component 12 is radially inward of the annular edge 130. An annular groove 132 having a substantially semicircular cross section is formed. The edge portion 130 is formed with a plurality of (for example, four) circular through holes 131 that penetrate the third component 13 in the axial direction and are arranged at equal intervals in the circumferential direction.
第３部品１３の環状縁部１３０の一部がその接線方向に断面略半円形状に切り欠かれて切欠部が形成されている。この切欠部は、前記のように第２部品１２にほぼ鏡映対称に形成されている切欠部と合わさって液体流入孔１２３を形成する。 A part of the annular edge 130 of the third part 13 is cut out in a substantially semicircular cross section in the tangential direction to form a cutout. This notch is combined with the notch formed substantially mirror-symmetrically on the second component 12 as described above to form the liquid inflow hole 123.
第３部品１３には、環状溝部１３２の径方向内側に略円形状の案内部１３６が形成されている。案内部１３６は径方向外側においては平坦であって環状縁部１３０よりも軸方向に低くなっている一方、その中心部には気泡流出孔１３３が形成されている。案内部１３６は、前記のように第２部品１２に形成されている案内部１２６と合わさって第２空間Ｓ２を形成する（図４参照）。第３部品１３には、一方の側面から突出するように気泡流出孔１３３に連続する気泡導管１３４が取り付けられている。 In the third component 13, a substantially circular guide portion 136 is formed on the radially inner side of the annular groove portion 132. The guide portion 136 is flat on the outer side in the radial direction and is lower in the axial direction than the annular edge portion 130, while a bubble outflow hole 133 is formed at the center thereof. The guide part 136 is combined with the guide part 126 formed in the second component 12 as described above to form the second space S2 (see FIG. 4). A bubble conduit 134 continuing to the bubble outflow hole 133 is attached to the third component 13 so as to protrude from one side surface.
第１部品１１、第２部品１２および第３部品１３が同軸に重ね合わせられた上で、それぞれの貫通孔１１１、１２１および１３１を通るボルトＢと、ナットＮとが締結されることにより、図２に示されているチャンバ１が形成される。このように形成されたチャンバ１は、図４に示されているように、気体導入空間Ｓ０と、第１空間Ｓ１と、第２空間Ｓ２とを有する。 After the first part 11, the second part 12 and the third part 13 are coaxially overlapped, the bolt B and the nut N passing through the respective through holes 111, 121 and 131 are fastened. The chamber 1 shown in 2 is formed. The chamber 1 formed in this way has a gas introduction space S0, a first space S1, and a second space S2, as shown in FIG.
気体導入空間Ｓ０は、略円盤状または円柱状の空間であり、気体導入孔１１３を通じて気体導管１１４に連通している。第１空間Ｓ１は、ドーナツ型のトーラス状（円を軸回りに回転させることによって得られる形状）であり、液体流入孔１２３（図３（ａ）（ｂ）参照）を通じて液体導管１２４に連通しているとともに、気体流入孔１２５を通じて気体導入空間Ｓ０に連通している。第２空間Ｓ２は、トーラスの内周側において、トーラスの経線方向にのびているスリットを介して第１空間Ｓ０に連通しているとともに、気泡流出孔１３３を通じて気泡導出管１３４に連通している。第２空間Ｓ２は、トーラスの回転軸方向について、気泡流出孔１３３に向かって一部が隆起している板状に形成されている。 The gas introduction space S0 is a substantially disk-like or columnar space and communicates with the gas conduit 114 through the gas introduction hole 113. The first space S1 has a donut-shaped torus shape (a shape obtained by rotating a circle around its axis), and communicates with the liquid conduit 124 through the liquid inflow hole 123 (see FIGS. 3A and 3B). And communicates with the gas introduction space S0 through the gas inflow hole 125. The second space S <b> 2 communicates with the first space S <b> 0 through a slit extending in the meridian direction of the torus on the inner peripheral side of the torus, and also communicates with the bubble outlet tube 134 through the bubble outlet hole 133. The second space S <b> 2 is formed in a plate shape in which a part of the second space S <b> 2 protrudes toward the bubble outflow hole 133 in the direction of the rotation axis of the torus.
４つの異なるサイズのチャンバ１が試作された。ここで、第１空間Ｓ１の断面円径（トーラスの小円径）を「ｄ１」、第１空間Ｓ１および第２空間Ｓ２を連続させるスリットの幅、ひいては第２空間Ｓ２の高さを「ｄ２」、トーラスの大円径を「Ｄ」と表わす。また、液体流入孔１２３または液体導管１２４の径を「ｄｆ１」、気体流入孔１２５の径を「ｄｆ２」、気泡導出孔１３３の径を「ｄｆ３」と表わす（図３（ｂ）、図４参照）。 Four different sized chambers 1 were prototyped. Here, the sectional circle diameter (small circle diameter of the torus) of the first space S1 is “d1”, the width of the slit that connects the first space S1 and the second space S2, and the height of the second space S2 is “d2”. ", The large circle diameter of the torus is represented as" D ". Further, the diameter of the liquid inflow hole 123 or the liquid conduit 124 is represented as “df1”, the diameter of the gas inflow hole 125 is represented as “df2”, and the diameter of the bubble outlet hole 133 is represented as “df3” (see FIGS. 3B and 4). ).
第１のチャンバ１ではｄ１＝８［ｍｍ］、ｄ２＝４［ｍｍ］、Ｄ＝６２［ｍｍ］、ｄｆ１＝８［ｍｍ］、ｄｆ２＝８［ｍｍ］かつｄｆ３＝１０［ｍｍ］である。第２のチャンバ１ではｄ１＝３０［ｍｍ］、ｄ２＝１１．５［ｍｍ］、Ｄ＝１８７［ｍｍ］、ｄｆ１＝２４［ｍｍ］、ｄｆ２＝２４［ｍｍ］かつｄｆ３＝３１［ｍｍ］である。第３のチャンバ１ではｄ１＝６０［ｍｍ］、ｄ２＝２４［ｍｍ］、Ｄ＝３６０［ｍｍ］、ｄｆ１＝４８［ｍｍ］、ｄｆ２＝４８［ｍｍ］かつｄｆ３＝６０［ｍｍ］である。第４のチャンバ１ではｄ１＝１２０［ｍｍ］、ｄ２＝９６［ｍｍ］、Ｄ＝７２０［ｍｍ］、ｄｆ１＝９６［ｍｍ］、ｄｆ２＝９６［ｍｍ］かつｄｆ３＝１２０［ｍｍ］である。 In the first chamber 1, d1 = 8 [mm], d2 = 4 [mm], D = 62 [mm], df1 = 8 [mm], df2 = 8 [mm] and df3 = 10 [mm]. In the second chamber 1, d1 = 30 [mm], d2 = 11.5 [mm], D = 187 [mm], df1 = 24 [mm], df2 = 24 [mm] and df3 = 31 [mm] is there. In the third chamber 1, d1 = 60 [mm], d2 = 24 [mm], D = 360 [mm], df1 = 48 [mm], df2 = 48 [mm] and df3 = 60 [mm]. In the fourth chamber 1, d1 = 120 [mm], d2 = 96 [mm], D = 720 [mm], df1 = 96 [mm], df2 = 96 [mm] and df3 = 120 [mm].
（本発明の気泡発生装置の機能）
液体供給装置２によって、トーラス状または環状の第１空間Ｓ１に対して当該トーラスの接線方向に液体を流入させる。これにより、液体が第１空間Ｓ１に沿って環状に流れる。さらに、第１空間Ｓ１を環状に流れる液体を、スリットを通じて第２空間Ｓ２に流入させることにより、当該液体を第２空間Ｓ２においてトーラスの回転軸回りに旋回させた上で、気泡流出孔１３３を通じてチャンバ１の外部に流出させることができる。この旋回流は、隆起部１２８により気体流出孔１３３に向かってトーラスの回転軸方向に案内される。
(Function of the bubble generating device of the present invention)
The liquid supply device 2 allows liquid to flow into the torus-shaped or annular first space S1 in the tangential direction of the torus. Thereby, the liquid flows in an annular shape along the first space S1. Furthermore, the liquid flowing in the first space S1 in a ring shape is caused to flow into the second space S2 through the slit, so that the liquid is swung around the rotation axis of the torus in the second space S2, and then through the bubble outlet hole 133. It can flow out of the chamber 1. This swirling flow is guided in the direction of the axis of rotation of the torus toward the gas outflow hole 133 by the raised portion 128.
その一方、気体供給装置４によって、気体導入孔１１３を通じて気体導入空間Ｓ０に対して空気を流入させる。これにより、気体が気体導入空間Ｓ０から気体導入孔１２５を通じて第１空間Ｓ１に流入する。 On the other hand, air is caused to flow into the gas introduction space S 0 through the gas introduction hole 113 by the gas supply device 4. As a result, gas flows from the gas introduction space S0 into the first space S1 through the gas introduction hole 125.
この結果、第１空間Ｓ１において、環状に流れている液体のせん断力によって気体を微細化させることにより、気泡を発生させることができる。また、スリットにおいて第１空間Ｓ１および第２空間Ｓ２の液体の圧力降下または流速低下によって生じるせん断力によって、気泡の微細化が図られる。さらに、第２空間Ｓ２において、旋回している液体のせん断力によって気泡のさらなる微細化が図られる。 As a result, in the first space S1, bubbles can be generated by refining the gas by the shearing force of the annularly flowing liquid. Further, the bubbles are miniaturized by the shearing force generated by the pressure drop or flow velocity drop of the liquid in the first space S1 and the second space S2 in the slit. Further, in the second space S2, the bubbles are further miniaturized by the shearing force of the swirling liquid.
液体供給装置２によるチャンバ１への液体の流入量Ｑｃおよび気体供給装置４によるチャンバ１への気体の流入量Ｑｓが調節されることにより、チャンバ１への気体の流入圧力の降下量ΔＰに対する、チャンバ１への液体の流入圧力Ｐｃの圧力比率ｘ＝（Ｐｃ／ΔＰ）が調節される。 By adjusting the inflow amount Qc of the liquid into the chamber 1 by the liquid supply device 2 and the inflow amount Qs of the gas into the chamber 1 by the gas supply device 4, the drop amount ΔP of the inflow pressure of the gas into the chamber 1 is adjusted. The pressure ratio x = (Pc / ΔP) of the inflow pressure Pc of the liquid flowing into the chamber 1 is adjusted.
図５（ａ）には、前記４つのチャンバのうち、最も小型の第１のチャンバを用いた実験により得られた、気体としての空気の流入量Ｑｓと、液体としての水の流入量Ｑｃと、圧力比率ｘとの関係が示されている。液体流入圧力Ｐｃの増加、すなわち接線流の増加に伴い、チャンバ１の内部における旋回流または渦流の勢いは強くなり、圧力降下ΔＰの増大で気体流入量または軸流量Ｑｓが減少する。ターンダウン状態になると気体流入量Ｑｓは０となり、接線流のみが存在する。 FIG. 5A shows an inflow amount Qs of air as a gas and an inflow amount Qc of water as a liquid obtained by an experiment using the smallest first chamber among the four chambers. The relationship with the pressure ratio x is shown. As the liquid inflow pressure Pc increases, that is, the tangential flow increases, the momentum of the swirling flow or vortex flow increases in the chamber 1, and the gas inflow amount or the axial flow rate Qs decreases as the pressure drop ΔP increases. In the turn-down state, the gas inflow amount Qs becomes 0 and only tangential flow exists.
気泡発生装置はターンダウン状態に近い状態で用いられる。これは、旋回流または渦流のせん断力によって、第１空間Ｓ１で形成されたバブルが第２空間Ｓ２を経てさらに微細化またはせん断されるためである。 The bubble generating device is used in a state close to a turn-down state. This is because the bubbles formed in the first space S1 are further refined or sheared through the second space S2 by the shearing force of the swirl flow or vortex flow.
図５（ｂ）には、圧力比率ｘと、液体流入量Ｑｃに対する気体流入量Ｑｓの流入量比率ｙ＝（Ｑｃ／Ｑｓ）との関係が示されている。当該関係はｙ＝７．３８（ｘ−０．６０）2という近似式により表わされるが、本実施形態ではこの近似式にしたがって液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓが調節される。 FIG. 5B shows the relationship between the pressure ratio x and the inflow rate ratio y = (Qc / Qs) of the gas inflow rate Qs with respect to the liquid inflow rate Qc. This relationship is expressed by an approximate expression of y = 7.38 (x−0.60) 2. In this embodiment, the liquid inflow rate Qc and the gas inflow rate Qs are adjusted according to this approximate expression.
（本発明の気泡発生装置の作用効果）
本発明は、チャンバ１への気体の流入圧力の降下量ΔＰに対する、チャンバ１への液体の流入圧力Ｐｃの比率である圧力比率ｘ＝（Ｐｃ／ΔＰ）に応じて、気泡発生量（単位時間当たりの気泡発生個数）および気泡径のそれぞれが変化するという発明者の知見に基づいてなされた。具体的には、圧力比率ｘが低いほど気泡径が大きくなるとともに気泡発生量が少なくなるのに対して、圧力比率ｘが高いほど気泡径が小さくなるとともに気泡発生量が多くなる傾向がある。
(Operational effect of the bubble generator of the present invention)
According to the present invention, the bubble generation amount (unit time) is set according to the pressure ratio x = (Pc / ΔP), which is the ratio of the liquid inflow pressure Pc to the chamber 1 with respect to the decrease amount ΔP of the gas inflow pressure to the chamber 1. This was based on the inventor's knowledge that each of the number of generated bubbles and the bubble diameter changed. Specifically, the lower the pressure ratio x, the larger the bubble diameter and the smaller the amount of bubbles generated, whereas the higher the pressure ratio x, the smaller the bubble diameter and the larger the amount of bubbles generated.
このため、チャンバへの液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓの調節を通じて当該比率ｘが調節されることにより、気泡発生量および気泡径のそれぞれが所望の数値範囲に調節されうる。 For this reason, each of the bubble generation amount and the bubble diameter can be adjusted to a desired numerical range by adjusting the ratio x through adjustment of the liquid inflow amount Qc and the gas inflow amount Qs into the chamber.
たとえば、気泡発生量ｙ1が第１関数ｆ1（ｘ）により定義され、気泡径ｙ2が第２関数ｆ2（ｘ）により定義されている場合、気泡発生量ｙ1を範囲［ｙ1L，ｙ1H］に収めるとともに、気泡径ｙ2を範囲［ｙ2L，ｙ2H］に収めるためには、圧力比率ｘは範囲［ｆ1 -1（ｙ1L），ｆ1 -1（ｙ1H）］および［ｆ2 -1（ｙ2H），ｆ2 -1（ｙ2L）］の重なり範囲に収まるように調節される。 For example, when the bubble generation amount y 1 is defined by the first function f 1 (x) and the bubble diameter y 2 is defined by the second function f 2 (x), the bubble generation amount y 1 is in the range [y 1L. , Y 1H ] and in order to keep the bubble diameter y 2 in the range [y 2L , y 2H ], the pressure ratio x is in the range [f 1 −1 (y 1L ), f 1 −1 (y 1H ). ] And [f 2 -1 (y 2H ), f 2 -1 (y 2L )].
図６（ａ）〜（ｄ）のそれぞれには、チャンバ１が水槽に入れられている状態で、異なる液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓに応じてカメラにより撮影された気泡発生の様子が示されている。カメラのシャッタースピードは（１／２５００）［ｓ］である。カメラにより得られた気泡の写真に基づき、当該気泡の径がマイクロスコープを用いて計測された。 Each of FIGS. 6A to 6D shows a state of bubble generation photographed by a camera according to different liquid inflow amount Qc and gas inflow amount Qs in a state where the chamber 1 is placed in the water tank. Has been. The shutter speed of the camera is (1/2500) [s]. Based on the photograph of the bubble obtained by the camera, the diameter of the bubble was measured using a microscope.
図６（ａ）には圧力比率ｘ＝０．８、液体流入量Ｑｃ＝５６×１０-6［ｍ3／ｓ］、気体流入量Ｑｓ＝８２×１０-6［ｍ3／ｓ］における気泡発生の様子が示されている。この場合、気泡径は０．５０〜２．０［ｍｍ］の範囲で分布していた。また、最小径０．５０［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約１６万であり、最大径２．０［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約２４５０である。 FIG. 6A shows bubbles at a pressure ratio x = 0.8, liquid inflow rate Qc = 56 × 10 −6 [m 3 / s], and gas inflow rate Qs = 82 × 10 −6 [m 3 / s]. The appearance of the occurrence is shown. In this case, the bubble diameter was distributed in the range of 0.50 to 2.0 [mm]. In addition, the number of bubbles generated per second when converted into bubbles with a minimum diameter of 0.50 [mm] is about 160,000, and when converted into bubbles with a maximum diameter of 2.0 [mm] per second The number of bubbles generated is about 2450.
図６（ｂ）には圧力比率ｘ＝１．０、液体流入量Ｑｃ＝５７×１０-6［ｍ3／ｓ］、気体流入量Ｑｓ＝５３×１０-6［ｍ3／ｓ］における気泡発生の様子が示されている。この場合、気泡径は０．２５〜０．３０［ｍｍ］の範囲で分布していた。また、最小径０．２５［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約８０万であり、最大径０．３０［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約４７万である。 FIG. 6B shows bubbles at a pressure ratio x = 1.0, liquid inflow rate Qc = 57 × 10 −6 [m 3 / s], and gas inflow rate Qs = 53 × 10 −6 [m 3 / s]. The appearance of the occurrence is shown. In this case, the bubble diameter was distributed in the range of 0.25 to 0.30 [mm]. In addition, the number of bubbles generated per second when converted into bubbles with a minimum diameter of 0.25 [mm] is about 800,000, and when converted into bubbles with a maximum diameter of 0.30 [mm], The number of bubbles generated is about 470,000.
図６（ｃ）には圧力比率ｘ＝１．２、液体流入量Ｑｃ＝５８×１０-6［ｍ3／ｓ］、気体流入量Ｑｓ＝４２×１０-6［ｍ3／ｓ］における気泡発生の様子が示されている。この場合、気泡径は０．１５〜０．２０［ｍｍ］の範囲で分布していた。また、最小径０．１５［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約２９７万であり、最大径０．２０［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約１３０万である。 FIG. 6C shows bubbles at a pressure ratio x = 1.2, a liquid inflow rate Qc = 58 × 10 −6 [m 3 / s], and a gas inflow rate Qs = 42 × 10 −6 [m 3 / s]. The appearance of the occurrence is shown. In this case, the bubble diameter was distributed in the range of 0.15 to 0.20 [mm]. In addition, the number of bubbles generated per second when converted into bubbles with a minimum diameter of 0.15 [mm] is about 29.97 million, and when converted into bubbles with a maximum diameter of 0.20 [mm], The number of bubbles generated is about 1.3 million.
図６（ｄ）には圧力比率ｘ＝１．４、液体流入量Ｑｃ＝６０×１０-6［ｍ3／ｓ］、気体流入量Ｑｓ＝１１×１０-6［ｍ3／ｓ］における気泡発生の様子が示されている。この場合、気泡径は０．０５〜０．１０［ｍｍ］の範囲で分布していた。また、最小径０．０５［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約２１００万であり、最大径０．１０［ｍｍ］の気泡に換算した場合の１秒当たりの気泡発生個数は約２６３万である。 FIG. 6D shows bubbles at pressure ratio x = 1.4, liquid inflow rate Qc = 60 × 10 −6 [m 3 / s], and gas inflow rate Qs = 11 × 10 −6 [m 3 / s]. The appearance of the occurrence is shown. In this case, the bubble diameter was distributed in the range of 0.05 to 0.10 [mm]. In addition, the number of bubbles generated per second when converted into bubbles with a minimum diameter of 0.05 [mm] is about 21 million, and when converted into bubbles with a maximum diameter of 0.10 [mm], The number of bubbles generated is about 2.63 million.
図７には圧力比率ｘおよび気泡径の関係が示されている。図７から明らかなように圧力比率ｘが低いほど、すなわち、気体流入量Ｑｓが多いほど気泡径は大きくなる傾向がある。図８には圧力比率ｘおよび気泡発生個数の関係が示されている。図８から明らかなように、圧力比率ｘが高いほど、すなわち、気体流入量Ｑｓが少ないほど気泡発生個数は多くなる傾向がある。 FIG. 7 shows the relationship between the pressure ratio x and the bubble diameter. As is clear from FIG. 7, the bubble diameter tends to increase as the pressure ratio x decreases, that is, as the gas inflow amount Qs increases. FIG. 8 shows the relationship between the pressure ratio x and the number of bubbles generated. As is clear from FIG. 8, the higher the pressure ratio x, that is, the smaller the gas inflow Qs, the greater the number of bubbles generated.
（本発明の他の実施形態）
前記実施形態では第１空間Ｓ１に対してトーラスの接線方向に液体が流入されたが（図３（ａ）（ｂ）参照）、他の実施形態として第１空間Ｓ１に対して、トーラスの接線方向成分を有するベクトルにより表わされるあらゆる方向（たとえば、当該接線方向に対して１０°〜２０°程度の角度をなす方向）に液体が流入されてもよい。
(Other embodiments of the present invention)
In the embodiment, the liquid flows in the tangential direction of the torus with respect to the first space S1 (see FIGS. 3A and 3B), but as another embodiment, the tangent of the torus with respect to the first space S1. The liquid may flow in any direction represented by a vector having a direction component (for example, a direction that forms an angle of about 10 ° to 20 ° with respect to the tangential direction).
前記実施形態では第１空間Ｓ１に対してトーラスの回転軸方向に気体が流入されたが（図３（ａ）（ｂ）参照）、他の実施形態として第１空間に対して、トーラスの回転軸方向成分を有するベクトルにより表わされるあらゆる方向（たとえば、当該回転軸方向に対して１０°〜２０°程度の角度をなす方向）に気体が導入されてもよい。 In the above embodiment, gas flows in the direction of the rotation axis of the torus with respect to the first space S1 (see FIGS. 3A and 3B), but as another embodiment, the rotation of the torus with respect to the first space. Gas may be introduced in any direction represented by a vector having an axial component (for example, a direction that forms an angle of about 10 ° to 20 ° with respect to the rotation axis direction).
チャンバ１として、さまざまな形状のチャンバが採用されてもよい。たとえば、チャンバが底板および天板を有する円筒状に形成され、チャンバに対して当該円筒の接線方向に液体が流入されることにより、液体の旋回流がチャンバの内部空間に形成され、底板に設けられた空気流入孔からチャンバに空気が導入され、この空気が旋回流のせん断力によって気泡が発生し、この気泡が天板に設けられた気泡流出孔から導出されてもよい。 Various chambers may be adopted as the chamber 1. For example, the chamber is formed in a cylindrical shape having a bottom plate and a top plate, and liquid flows into the chamber in the tangential direction of the cylinder, so that a swirling flow of the liquid is formed in the internal space of the chamber and is provided in the bottom plate. Air may be introduced into the chamber from the air inflow hole formed, bubbles may be generated by the shearing force of the swirling flow, and the bubbles may be led out from the bubble outflow holes provided in the top plate.
本発明の気泡発生装置は、たとえば、便器等の対象物体の洗浄水として、気泡混じりの液体を供給するために用いられる。この場合、効率的な洗浄を達成可能な範囲（実験等により求められる。）に気泡径および気泡発生量が含まれるように、液体流入量Ｑｃおよび気体流入量Ｑｓが調節される。 The bubble generating device of the present invention is used, for example, to supply a liquid containing bubbles as cleaning water for a target object such as a toilet. In this case, the liquid inflow amount Qc and the gas inflow amount Qs are adjusted so that the bubble diameter and the bubble generation amount are included in a range in which efficient cleaning can be achieved (determined by an experiment or the like).
１‥チャンバ、２‥液体供給装置、４‥気体供給装置、Ｓ１‥第１空間、Ｓ２‥第２空間。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber, 2 ... Liquid supply apparatus, 4 ... Gas supply apparatus, S1 ... 1st space, S2 ... 2nd space.
Claims (3)
前記チャンバは、第１部品、第２部品および第３部品が同軸に重ね合わせられた上で固定されることにより構成され、
前記第１部品の、前記第２部品に対向する側面に環状縁部の内側に、その環状縁部よりも軸方向に窪んでいる凹部が形成され、前記凹部には、前記第１部品を軸方向に貫通する気体導入孔が形成され、
前記第２部品の前記第３部品に対向する他方の側面に、その環状縁部の内側に環状溝部が形成され、前記第２部品の環状縁部の一部がその接線方向に切り欠かれて切欠部が形成され、前記第２部品の環状溝部には、前記第２部品を軸方向に貫通するとともに、周方向に配置された複数の気体流入孔が形成され、前記第２部品の環状溝部の内側に少なくとも外側が当該環状縁部よりも軸方向に低くなっている案内部が形成され、
前記第３部品の前記第２部品に対向する側面にその環状縁部の径方向内側に環状溝部が形成され、前記第３部品の環状縁部の一部がその接線方向に切り欠かれて切欠部が形成され、前記第３部品の環状溝部の内側に少なくとも外側が当該環状縁部よりも軸方向に低くなっている案内部が形成され、前記第３部品にはその案内部に連通する気泡流出孔が形成され、
前記チャンバは、
前記第２部品の環状溝部と前記第３部品の環状溝部とが合わさって形成されている環状の第１空間と
前記第２部品の案内部と前記第３部品の案内部とが合わさって形成され、前記環の内周側において、前記環の接線方向成分を有する方向にのびているスリットを介して前記第１空間に連続する第２空間と、
前記第２部品の切欠部と前記第３部品の切欠部とが合わさって形成され、前記液体供給装置により供給される液体を、前記第１空間に対して前記環の接線方向成分を有する方向に流入させる液体導入部と、
前記第１部品の気体導入孔により構成され、前記気体供給装置により供給される気体を、前記第１空間に対して一または複数箇所から流入させる気体導入部と、
前記第３部品の前記気泡流出孔により構成され、前記第２空間を前記チャンバの外部に連通させる気泡流出部とを備えていることを特徴とする気泡発生装置。 A chamber, a liquid supply device, and a gas supply device, wherein the liquid is supplied into the chamber by the liquid supply device, and the gas is supplied into the chamber by the gas supply device; A bubble generating device configured to allow the liquid containing the bubbles to flow out of the chamber,
The chamber is configured by fixing the first part, the second part, and the third part on the same axis, and fixing the same.
A concave portion that is recessed in the axial direction from the annular edge is formed inside the annular edge on the side surface of the first component that faces the second component, and the first component is pivoted in the recess. A gas introduction hole penetrating in the direction is formed,
On the other side of the second part facing the third part, an annular groove is formed inside the annular edge, and a part of the annular edge of the second part is cut away in the tangential direction. A notch portion is formed, and the annular groove portion of the second part is formed with a plurality of gas inlet holes penetrating the second part in the axial direction and arranged in the circumferential direction, and the annular groove portion of the second part A guide portion is formed on the inside of which at least the outside is lower in the axial direction than the annular edge portion,
An annular groove is formed on a side surface of the third part facing the second part, radially inwardly of the annular edge, and a part of the annular edge of the third part is notched in the tangential direction. A guide portion is formed on the inner side of the annular groove portion of the third component, and at least the outer side is lower in the axial direction than the annular edge portion, and the third component is a bubble communicating with the guide portion. An outflow hole is formed,
The chamber is
An annular first space formed by combining the annular groove of the second part and the annular groove of the third part;
The guide part of the second part and the guide part of the third part are formed together, and on the inner peripheral side of the ring, the first space passes through a slit extending in a direction having a tangential direction component of the ring. A second space that continues to
The notch part of the second part and the notch part of the third part are formed together, and the liquid supplied by the liquid supply device is directed in a direction having a tangential component of the ring with respect to the first space. A liquid introduction part to be introduced;
A gas introduction portion configured by a gas introduction hole of the first component, and for introducing the gas supplied by the gas supply device from one or a plurality of locations to the first space;
A bubble generating apparatus comprising: a bubble outflow portion configured by the bubble outflow hole of the third component and communicating the second space with the outside of the chamber .
前記第２部品の案内部にはその外側より軸方向に高くなっている隆起部が形成され、前記第２空間は、前記環の接線方向に垂直な方向について、前記隆起部によって前記気泡流出部に向かって一部が隆起している板状に形成されていることを特徴とする気泡発生装置。 The bubble generating device according to claim 1 ,
The guide part of the second part is formed with a raised part that is higher in the axial direction than the outside thereof, and the second space has the bubble outflow part by the raised part in a direction perpendicular to the tangential direction of the ring. A bubble generating device, characterized in that it is formed in a plate shape with a part protruding toward the surface.
前記第１空間はトーラス状に形成され、
前記スリットは前記トーラスの内周側の経線に沿って当該トーラスの小円径よりも幅狭に形成され、
前記第２空間は前記トーラスの回転軸方向から見て円形状に形成され、
前記気泡流出部は、前記トーラスの回転軸方向について前記第２空間から前記チャンバの外部に向かって設けられていることを特徴とする気泡発生装置。 The bubble generating device according to claim 1 or 2 ,
The first space is formed in a torus shape,
The slit is formed narrower than the small circular diameter of the torus along the meridian on the inner peripheral side of the torus,
The second space is formed in a circular shape when viewed from the rotation axis direction of the torus,
The bubble generating device is characterized in that the bubble outflow portion is provided from the second space toward the outside of the chamber in the rotation axis direction of the torus.
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