JP5615772B2 - パターン転写装置およびパターン転写方法 - Google Patents
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なお、前記した特許文献1、特許文献2、および、非特許文献1に係る転写技術は、微小構造の凹凸形状パターンを形成した平板状のモールドを、樹脂材料からなる被転写面へスタンプ式に押し付けるものである。
本発明者らは、特開2009−158731号公報および特開2009−078521号公報に記載の、無端帯状のモールドを用いたパターン転写技術の開発に取り組んできている。
本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置11A0の概要について、図1Aを参照して説明する。図1Aは、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置11A0の概要を模式的に表す説明図である。第1実施形態に係るパターン転写装置11A0は、図1に示すように、モールド搬送機構部13と、被転写材料搬送機構部15と、押圧機構部17と、離型層厚センサ19と、モールド支持部材20と、離型剤供給部21と、制御装置23とを備えて構成されている。
ここで、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置で用いられるモールド31について、図1A、図1B、および図1Cを参照して説明する。図1Bは、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置で用いられるモールドに形成される凹凸形状パターンの一例を示す外観図である。図1Cは、図1B中の矢視SV方向からみたモールド31の形成面31aに、凹凸形状パターン31pおよび離型層32が積層形成されている状態を概念的に表す説明図である。
なお、第1実施形態に係るパターン転写装置11A0では、押圧アクチュエータによる押圧動作は、モールド31および被転写材料37の搬送が停止している間に行われる。
なお、第1実施形態では、上側押圧部材43aの側にのみヒータ43a1を設ける例をあげて説明したが、本発明はこの例に限定されない。すなわち、例えば、下側押圧部材43bの側にのみヒータを設けてもよいし、上側および下側押圧部材43a,43bの双方にヒータを設けてもよい。
なお、離型層厚センサ19は、離型層厚取得部51との組み合わせによって、本発明の“離型層厚取得部”を構成している。
具体的には、モールド31を用いて製造する製品(デバイス)の性能に影響を与えない位置に、凹凸形状パターン31pの無い空白領域を設ければよい。また、この空白領域をモールド31表面の複数の位置に設けて、各位置における残留離型層32の厚さに係る相関値を計測すれば、残留離型層32の面内バラつきを評価することができる。
なお、常温で固体となる性質を有する離型剤については、適当な溶媒または分散媒を用いて溶液または分散液として調製し、これを使用すればよい。
次に、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置11A0の制御装置23について、図1Dを参照して説明する。図1Dは、本発明の第1実施形態に係るパターン転写装置11A0のうち、制御装置23およびその周辺の概要を模式的に表す機能ブロック図である。
制御装置23は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)などを備えた不図示のマイクロコンピュータ(以下“マイコン”という。)により構成される。このマイコンは、ROMに記憶されているプログラムを読み出して実行し、離型層厚取得部51、離型層厚判定部53、供給量演算部55、供給量記憶部57、および、供給量制御部59を含む各種機能部の実行制御を行うように機能する。
なお、“残留離型層32の厚さに係る相関値を取得する”とは、多様なアプローチを用いて得た残留離型層32の厚さに係る計測値のすべてを、本発明に係る残留離型層32の厚さとして取得する意味である。
なお、基準範囲に基づき設定される目標供給量としては、基準範囲の平均値や、基準範囲の上限値または下限値などを適宜採用すればよい。
そこで、供給量記憶部57は、モールド31上の個々の位置において、適正な量の離型剤を適時に供給する制御を行う際に参照される。
なお、モールド位置センサ61としては、例えばロータリーエンコーダなどの位置センサを、モータ35aの回転軸に別途設ける構成を採用してもよい。
次に、第1実施形態に係るパターン転写装置11A0の動作(パターン転写方法)の概要について説明する。
なお、パターン転写装置11A0では、図1Aに示す被転写材料37がセットされていない状態において、環状のモールド31の外方側(形成面31aの側)の全周にわたり、モールド搬送機構部13によってモールド31を搬送させながら離型剤供給部21を用いて離型剤を供給することにより、予め適正な(基準範囲に収束する)離型層が形成されているものとする。
離型層厚センサ19および離型剤供給部21が設けられているモールド搬送経路14では、本発明の“離型剤供給工程”、“離型層厚取得工程”、“離型層厚判定工程”、および、“供給量制御工程”がそれぞれ実行される。これらについては後記する。
なお、パターン転写装置11A0では、図1Aに示す被転写材料37がセットされていない状態において、環状のモールド31の外方側(形成面31aの側)の全周にわたり、モールド搬送機構部13によってモールド31を搬送させながら離型剤供給部21を用いて離型剤を供給することにより、予め適正な厚さ(基準範囲に収束する)の離型層32が形成されているものとする。
なお、供給量記憶部57の記憶内容は、離型剤供給部21の直下に搬送されてくるモールド31上の特定位置を表す各個別の区間アドレスにおいて、離型剤を供給すべき旨の判断が下された場合に、同位置における適正な離型剤の供給量を取得する際に参照される。
図2Bに示す離型剤供給処理の流れは、離型剤供給部21の直下に、モールド31における新しい現在位置が搬送されてくるごとに開始される。
第1実施形態に係るパターン転写装置11A0によれば、モールド31上の特定位置が時々刻々と変位するなかで、モールド31の形成面31aに残留している残留離型層32の厚さを監視し、この監視の結果、残留離型層32の厚さが基準範囲から逸脱している場合、残留離型層32の厚さが基準範囲内に収束するように離型剤の供給量を制御するので、モールド31の離型性低下に起因するパターン転写不良やモールド31の目詰まりを未然に防いで製品の生産性を向上させることができる。
しかも、定着性の高い離型剤では、その除去が困難であるばかりか、劣化した離型剤の除去を無理に行うと、モールド31自体を損傷するおそれもある。
次に、第1実施形態の変形例1に係るパターン転写装置11A1について、図3を参照して説明する。図3は、第1実施形態の変形例1に係るパターン転写装置11A1の概要を模式的に表す説明図である。
なお、第1実施形態に係るパターン転写装置11A0と、第1実施形態の変形例1に係るパターン転写装置11A1とでは、離型層厚センサ19および離型剤供給部21の位置関係を除き、その他の構成は共通である。したがって、共通の機能を有する部材については、共通の符号を付してその説明を省略し、前記の相違点に注目して説明を進めることとする。
次に、第1実施形態の変形例2に係るパターン転写装置11A2について、図4を参照して説明する。図4は、第1実施形態の変形例2に係るパターン転写装置11A2の概要を模式的に表す説明図である。
なお、第1実施形態に係るパターン転写装置11A0と、第1実施形態の変形例2に係るパターン転写装置11A1とでは、離型層厚センサ19および離型剤供給部21の位置関係、並びに、離型層厚センサ19の数量を除き、その他の構成は共通である。したがって、共通の機能を有する部材については、共通の符号を付してその説明を省略し、前記の相違点に注目して説明を進めることとする。
また、数量が変わる離型層厚センサ19については、共通の符号“19”を用いると共に、その共通符号に枝番号“a”,“b”を付加することにより、個々の部材を識別可能に表現することとする。
次に、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0について、図5を参照して説明する。図5は、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0の概要を模式的に表す説明図である。
なお、第1実施形態に係るパターン転写装置11A0と、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0とでは、押圧機構部17の構成を除き、その他の構成は共通である。したがって、共通の機能を有する部材については、共通の符号を付してその説明を省略し、前記の相違点に注目して説明を進めることとする。また、第1実施形態に係る押圧機構部17とは、その構成が異なる第2実施形態に係る“押圧機構部”に対して、符号“18”を与えて説明を進めることとする。
なお、第2実施形態では、上側ロール44aの側にのみヒータ44a1を設ける例をあげて説明したが、本発明はこの例に限定されない。すなわち、例えば、下側ロール44bの側にのみヒータを設けてもよいし、上側および下側ロール44a,44bの双方にヒータを設けてもよい。
すなわち、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0では、上側および下側ロール44a,44bを用いて押圧機構部18を構成したので、モールド31および被転写材料37を連続して押圧機構部18へと送り込んでパターン転写を行うことができる。
次に、第2実施形態の変形例に係るパターン転写装置11B1について、図6を参照して説明する。図6は、第2実施形態の変形例に係るパターン転写装置11B1の概要を模式的に表す説明図である。
なお、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0と、第2実施形態の変形例に係るパターン転写装置11B1とでは、モールド搬送機構部13、離型層厚センサ19、モールド支持部材20、離型剤供給部21、および、制御装置23などがそれぞれ一対あるのを除き、その他の構成は共通である。したがって、共通の機能を有する部材については、共通の符号を付してその説明を省略し、前記の相違点に注目して説明を進めることとする。
また、数量が一対に変わるモールド搬送機構部13、離型層厚センサ19、モールド支持部材20、離型剤供給部21、および、制御装置23については、共通の符号“13”,“19”,“20”,“21”,“23”を用いると共に、その共通符号の直下に枝番号“A”,“B”を付加することにより、個々の部材を識別可能に表現することとする。
なお、図6中、符号XAを付した矢印はモールド31Aの搬送方向を示し、符号XBを付した矢印はモールド31Bの搬送方向を示している。
したがって、第2実施形態の変形例に係るパターン転写装置11B1によれば、第2実施形態に係るパターン転写装置11B0が奏する基本的な作用効果に加えて、被転写材料37の上下両面にパターン転写を行うことができる利点がある。
以上説明した実施形態は、本発明に係る具現化の例を示したものである。従って、本実施形態の記載事項によって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されることがあってはならない。本発明はその要旨またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形態で実施することができるからである。
さらに、モールド31の実施態様として、間欠的に分割された複数のモールドを相互に接続した、いわゆる無限軌道状の態様を用いてもよい。
本発明は、パターン転写を繰り返すなかで、凹凸形状パターン31pを形成したモールド31の形成面31aに残留している残留離型層32の厚さに係る相関値が所定の基準を満たすか否かを監視し、この監視結果に基づいて制御量(離型剤の供給量)を予測して、この予測により得られた制御量に従って、モールド31の形成面31aに対する離型剤の供給量をフィードフォワード制御する適用をも、技術的範囲の射程に含むことはいうまでもない。
11A1 第1実施形態の変形例1に係るパターン転写装置
11A1 第1実施形態の変形例2に係るパターン転写装置
11B0 第2実施形態に係るパターン転写装置
11B1 第2実施形態の変形例に係るパターン転写装置
13 モールド搬送機構部
15 被転写材料搬送機構部
17 押圧機構部
18 押圧機構部
19 離型層厚センサ(離型層厚取得部)
20 モールド支持部材
21 離型剤供給部
23 制御装置
31 モールド
31a 形成面
31p 凹凸形状パターン
32 残留離型層(離型層)
33a,33b,33c,33d 円筒状ロール
35a,35b,35c,35d ステッピングモータ
37 被転写材料
37a 被転写面
43 押圧部材
44 押圧部材
51 離型層厚取得部
53 離型層厚判定部
55 供給量演算部
57 供給量記憶部
59 供給量制御部
61 モールド位置センサ
Claims (16)
- 微小構造の凹凸形状パターンを被転写面に転写するためのパターン転写装置であって、
前記凹凸形状パターンの形成面、および、前記被転写面を相互に対面させた状態で、前記形成面を有する帯状のモールド、および、前記被転写面を有する被転写材料を相互に押圧させる押圧機構部と、
前記モールドの前記形成面に、当該形成面と前記被転写面との間の剥離を円滑に行わせる離型剤を供給することで離型層を形成させる離型剤供給部と、
前記モールドの前記形成面に残留している残留離型層の厚さに係る相関値を取得する離型層厚取得部と、
前記離型層厚取得部で取得された前記残留離型層の厚さに係る相関値が予め定められる基準を満たすか否かを判定する離型層厚判定部と、
前記離型層厚判定部の判定結果に基づいて前記離型剤供給部における前記離型剤の供給量を制御する供給量制御部と、
無端帯状の前記モールドが前記押圧機構部へとエンドレスに送り込まれるように、前記モールドを環状のモールド搬送経路に沿って搬送するモールド搬送機構部と、
帯状の前記被転写材料が前記押圧機構部へ送り込まれるように、前記被転写材料を被転写材料搬送経路に沿って搬送する被転写材料搬送機構部と、を備え、
前記離型層厚取得部は、前記モールド搬送経路に沿って複数設けられ、
前記離型剤供給部は、前記モールド搬送経路に沿う位置であって、前記複数の前記離型層厚取得部の間に設けられ、
前記離型層厚判定部は、前記複数の前記離型層厚取得部で取得されたそれぞれの残留離型層の厚さに係る相関値が前記基準を満たすか否かをそれぞれ判定し、
前記供給量制御部は、前記離型層厚判定部のそれぞれの判定結果に基づいて前記離型剤供給部における前記離型剤の供給量を制御する、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型剤供給部および前記離型層厚取得部は、前記モールド搬送経路に沿って並んで設けられる、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部が位置する前記モールドの背面側に、前記モールドを支える支持部材をさらに備える、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部は、分光エリプソメータからなる、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部は、特定波長の光を前記モールドの前記形成面に照射してその光の反射率を測定するものである、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部は、前記離型剤が供給された前記モールドの前記形成面に接触させた部材に加わる機械的な応力を測定するものである、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部は、前記モールドの前記形成面に供給された前記離型剤上に液滴を滴下した場合に前記液滴の接線と前記モールドの前記形成面とが成す接触角を観測するものである、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載のパターン転写装置であって、
前記押圧機構部は、相互に対面する前記モールドと前記被転写材料とを、それぞれの背面側から挟み込む少なくとも一対のロールを備える、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のパターン転写装置であって、
前記モールドは、ニッケルを含む金属材料より構成されている、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のパターン転写装置であって、
前記モールドは、ポリイミドまたは光硬化性樹脂を含む樹脂材料より構成されている、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載のパターン転写装置であって、
前記離型層厚取得部は、前記モールドのうち前記形成面を除く領域に対面させて設けられる、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載のパターン転写装置であって、
前記離型剤は、分子末端に極性基を有するフッ素系離型剤である、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 請求項12に記載のパターン転写装置であって、
前記極性基は、水酸基、エーテル基、または、エステル基のうち少なくとも1種である、
ことを特徴とするパターン転写装置。 - 微小構造の凹凸形状パターンの形成面、および、被転写面を相互に対面させた状態で、前記形成面を有する帯状のモールド、および、前記被転写面を有する被転写材料を相互に押圧させることにより、前記凹凸形状パターンを前記被転写面に転写する押圧転写工程と、前記モールドおよび前記被転写材料を相互に剥離させる剥離工程とを交互に繰り返すことによって、前記被転写面に前記凹凸形状パターンを連続的に転写する際に用いられるパターン転写方法であって、
前記モールドの前記形成面に、当該形成面と前記被転写面との間の剥離を円滑に行わせる離型剤を供給することで離型層を形成させる離型剤供給工程と、
前記モールドの前記形成面に残留している残留離型層の厚さに係る相関値を取得する離型層厚取得工程と、
前記離型層厚取得工程で取得された残留離型層の厚さに係る相関値が予め定められる基準を満たすか否かを判定する離型層厚判定工程と、
前記離型層厚判定工程の判定結果に基づいて前記離型剤供給工程における前記離型剤の供給量を制御する供給量制御工程と、を有し、
前記離型剤供給工程は、前記剥離工程および前記押圧転写工程の間に行われ、
前記離型層厚取得工程は、前記離型剤供給工程および前記押圧転写工程の間に行われる、
ことを特徴とするパターン転写方法。 - 微小構造の凹凸形状パターンの形成面、および、被転写面を相互に対面させた状態で、前記形成面を有する帯状のモールド、および、前記被転写面を有する被転写材料を相互に押圧させることにより、前記凹凸形状パターンを前記被転写面に転写する押圧転写工程と、前記モールドおよび前記被転写材料を相互に剥離させる剥離工程とを交互に繰り返すことによって、前記被転写面に前記凹凸形状パターンを連続的に転写する際に用いられるパターン転写方法であって、
前記モールドの前記形成面に、当該形成面と前記被転写面との間の剥離を円滑に行わせる離型剤を供給することで離型層を形成させる離型剤供給工程と、
前記モールドの前記形成面に残留している残留離型層の厚さに係る相関値を取得する離型層厚取得工程と、
前記離型層厚取得工程で取得された残留離型層の厚さに係る相関値が予め定められる基準を満たすか否かを判定する離型層厚判定工程と、
前記離型層厚判定工程の判定結果に基づいて前記離型剤供給工程における前記離型剤の供給量を制御する供給量制御工程と、を有し、
前記離型剤供給工程は、前記剥離工程および前記押圧転写工程の間に行われ、
前記離型層厚取得工程は、前記剥離工程および前記離型剤供給工程の間、並びに、前記離型剤供給工程および前記押圧転写工程の間に複数回行われる、
ことを特徴とするパターン転写方法。 - 請求項14又は15に記載のパターン転写方法において、
前記離型剤供給工程では、前記離型剤は、予め定められる時間間隔ごとに供給開始および供給停止を交互に繰り返すことによって前記モールドの前記形成面に供給され、前記モールドの前記形成面への供給量の調整は、前記時間間隔を変更することによって行われる、
ことを特徴とするパターン転写方法。
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