JP5614270B2 - Heat ray shielding film and manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明は、熱線反射性、可視光透過性、耐傷性及び熱割れ防止性に優れた熱線遮断フィルムとその製造方法に関する。   The present invention relates to a heat ray blocking film excellent in heat ray reflectivity, visible light permeability, scratch resistance and heat cracking prevention property, and a method for producing the same.

近年、省エネルギー対策への関心の高まりから、冷房設備にかかる負荷を減らす観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮断する熱線遮断フィルムの要望が高まってきている。   In recent years, due to increasing interest in energy conservation measures, there has been an increasing demand for heat ray blocking films that can be attached to window glass of buildings and vehicles to block the transmission of solar heat rays from the viewpoint of reducing the load on cooling equipment. Yes.

太陽から放射される光は、紫外領域から赤外光領域まで幅広いスペクトルを持っている。可視光は、紫色から黄色を経て赤色光にいたる波長380〜780nmまでの範囲であり、太陽光の約45%を占めている。赤外光については、可視光に近いものは近赤外線(波長780〜2500nm)と呼ばれ、それ以上を中赤外線と称し、太陽光の約50%を占めている。この領域の光エネルギーは、紫外線と比較するとその強さは約10分の1以下と小さいが、熱的作用は大きく、物質に吸収されると熱として放出され温度上昇をもたらす。このことから熱線とも呼ばれ、これらの光線を遮蔽することにより、室内の温度上昇を抑制することができる。また、寒冷地の冬季の暖房熱を室外に逸散することを抑制することもできる。   The light emitted from the sun has a wide spectrum from the ultraviolet region to the infrared light region. Visible light has a wavelength range of 380 to 780 nm ranging from purple to yellow to red light, and occupies about 45% of sunlight. As for infrared light, those close to visible light are called near-infrared rays (wavelength 780 to 2500 nm), and more than that are called mid-infrared rays and occupy about 50% of sunlight. The intensity of light energy in this region is as small as about one-tenth or less compared with ultraviolet light, but the thermal effect is large, and when absorbed by a substance, it is released as heat, resulting in an increase in temperature. For this reason, it is also called a heat ray, and by blocking these rays, the temperature rise in the room can be suppressed. Further, it is possible to suppress the heat of the winter in the cold region from being dissipated outside.

熱線遮断フィルムとしては、熱線を反射するタイプ(例えば、特許文献1及び2参照)と、熱線を吸収するタイプ(例えば、特許文献3及び4参照)が知られている。   As a heat ray blocking film, a type that reflects heat rays (for example, see Patent Documents 1 and 2) and a type that absorbs heat rays (for example, see Patent Documents 3 and 4) are known.

熱線を吸収するタイプは、主には樹脂に金属酸化物や色素等の赤外吸収剤を添加してコーティングするタイプで、日射を吸収する部分と吸収しない部分ができると、ガラス内の温度差が大きくなることから、ガラス板の熱割れを誘引する可能性が高いという問題があった。   The type that absorbs heat rays is mainly a type in which an infrared absorber such as a metal oxide or pigment is added to the resin for coating. If there is a part that absorbs solar radiation and a part that does not absorb solar radiation, the temperature difference in the glass Therefore, there is a problem that there is a high possibility of inducing thermal cracking of the glass plate.

一方、熱線を反射させるタイプは、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法や、屈折率の異なる樹脂層を多層構成にする多層フィルムが提案されている。   On the other hand, the type that reflects heat rays is a method of forming a laminated film having a configuration in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are alternately laminated by using a dry film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. A multilayer film in which resin layers having different refractive indexes are formed in a multilayer structure has been proposed.

しかし、熱線を反射させるタイプは、熱割れ等の問題はないものの、ドライ製膜法や多層フィルム製膜法は、積層膜形成に用いる真空装置等が大型になったり、製膜装置が複雑になったり、製造コストが高く、大面積化が困難、柔軟性がない等の問題を抱えている。   However, although the type that reflects heat rays does not have problems such as thermal cracking, the dry film forming method and the multilayer film forming method have a large vacuum apparatus used for forming a laminated film or a complicated film forming apparatus. The manufacturing cost is high, it is difficult to increase the area, and there is no flexibility.

さらに、近年では、省エネルギー対策への関心の高まりから、更なる熱線遮断性向上の要望が高くなり、熱線の反射と吸収を併用するタイプも提案されている(例えば特許文献5)。しかし、熱線の反射と吸収を併用するタイプを併用しても、熱線吸収タイプの根幹的問題である熱割れは解決しておらず、熱割れをせず高効率の熱線遮断性を有する熱線遮断フィルムが要望されている。   Furthermore, in recent years, due to increased interest in energy saving measures, there has been a growing demand for further improvement in heat ray blocking performance, and a type that uses both reflection and absorption of heat rays has also been proposed (for example, Patent Document 5). However, even if a type that uses both reflection and absorption of heat rays is used in combination, thermal cracking, which is the fundamental problem of the heat ray absorption type, has not been solved. A film is desired.

特開2007−331296号公報JP 2007-33296 A 特開2000−117871号公報JP 2000-117871 A 特開2000−927号公報JP 2000-927 A 特開平08−281860号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-281860 特表2008−528313号公報Special table 2008-528313

本発明は、上記問題・状況にかんがみてなされたものであり、その解決課題は、高効率の熱遮断性と、熱割れ防止性を両立させ、さらには、製造コストが安く、大面積化が可能であり、柔軟性があり、かつ低ヘイズで可視光透過率が高い熱線遮断フィルムとその製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems and situations, and its solution is to achieve both high-efficiency thermal barrier properties and thermal crack prevention properties, and furthermore, the manufacturing cost is low and the area is increased. It is possible to provide a heat ray shielding film that is flexible, has low haze, and high visible light transmittance, and a method for producing the same.

本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   The above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.

1.基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする熱線遮断フィルム。   1. One surface on the substrate has at least two heat ray reflection units composed of two or more layers having different refractive indexes, and an ultraviolet curable resin is disposed on the opposite surface on the substrate. A heat ray blocking film having a heat ray absorbing layer containing tin-doped indium oxide (ITO) or antimony doped tin oxide (ATO), wherein the heat ray absorbing layer contains a heat conductive filler. .

2.前記熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であることを特徴とする前記第1項に記載の熱線遮断フィルム。   2. The surface roughness of the heat ray absorbing layer is such that the arithmetic average surface roughness (Ra) is in the range of 5 to 10 nm and the maximum cross-sectional height (Rt) is in the range of 100 to 500 nm. The heat ray shielding film according to the first item.

3.前記熱伝導性フィラーは、シリカ又はアルミナを含有し、かつ平均粒径が0.15〜1.0μmの範囲内であることを特徴とする前記第1項又は第2項に記載の熱線遮断フィルム。   3. The said heat conductive filler contains a silica or an alumina, and an average particle diameter exists in the range of 0.15-1.0 micrometer, The heat ray blocking film of the said 1st term | claim or the 2nd item | term characterized by the above-mentioned .

4.屈折率が相互に異なる二層以上の層のうちの少なくとも一層が、金属酸化物粒子及び水溶性高分子を含有することを特徴とする前記第1項から第3項までのいずれか一項に記載の熱線遮断フィルム。   4). At least one of the two or more layers having different refractive indexes contains metal oxide particles and a water-soluble polymer, according to any one of items 1 to 3 above, The heat ray shielding film as described.

5.前記第1項から第4項までのいずれか一項に記載の熱線遮断フィルムを製造する熱線遮断フィルムの製造方法であって、当該熱線遮断フィルムを構成する層を、水系塗布液を用いて形成する工程を有することを特徴とする熱線遮断フィルムの製造方法。   5. It is a manufacturing method of the heat ray blocking film which manufactures the heat ray blocking film as described in any one of said 1st term | claim-4th, Comprising: The layer which comprises the said heat ray blocking film is formed using a water-system coating liquid The manufacturing method of the heat ray blocking film characterized by having the process to do.

本発明の上記手段により、高効率の熱遮断性と、熱割れ防止性を両立させ、さらには、製造コストが安く、大面積化が可能であり、柔軟性があり、かつ低ヘイズで可視光透過率が高い熱線遮断フィルムとその製造方法を提供することができる。   By the above means of the present invention, it is possible to achieve both high-efficiency thermal barrier properties and thermal cracking prevention properties, and furthermore, the manufacturing cost is low, the area can be increased, the flexibility is high, and the visible light is low haze. A heat ray shielding film having a high transmittance and a method for producing the same can be provided.

すなわち、本発明においては、熱線反射層と熱線吸収層の両方を有し、かつ熱線吸収層に特定の熱伝導性フィラーを含有させたり、又はフィルム表面に適切な凹凸形状を形成することにより、熱線吸収層の放熱現象を向上させることができる。その結果、熱割れを抑制し、高効率の熱線遮断性を有する熱線遮断フィルムを得ることができる。さらに、構成層の形成において、水系塗布液を用いることにより、製造コストが安く、大面積化が可能であり、柔軟性があり、かつ低ヘイズで可視光透過率が高い熱線遮断フィルムを得ることもできる。   That is, in the present invention, by having both the heat ray reflective layer and the heat ray absorbing layer and containing a specific heat conductive filler in the heat ray absorbing layer, or by forming an appropriate uneven shape on the film surface, The heat radiation phenomenon of the heat ray absorbing layer can be improved. As a result, it is possible to obtain a heat ray blocking film that suppresses thermal cracking and has high efficiency heat ray blocking properties. Furthermore, in the formation of the constituent layer, by using an aqueous coating solution, a manufacturing cost can be reduced, an area can be increased, a flexible, low haze and high visible light transmittance film can be obtained. You can also.

本発明の熱線遮断フィルムは、基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項4までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The heat ray blocking film of the present invention has at least two heat ray reflecting units composed of two or more layers having different refractive indexes on one surface on the substrate, and is opposite to the substrate. The heat ray blocking film has a heat ray absorbing layer containing an ultraviolet curable resin and tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO) on the surface, and the heat ray absorbing layer contains a heat conductive filler. It is characterized by that. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 4.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であること好ましい。さらに、前記熱伝導性フィラーは、シリカ又はアルミナを含有し、かつ平均粒径が0.15〜1.0μmの範囲内であることが好ましい。   As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifestation of the effect of the present invention, the surface roughness of the heat ray absorbing layer is an arithmetic average surface roughness (Ra) within a range of 5 to 10 nm and a maximum cross-sectional height. (Rt) is preferably in the range of 100 to 500 nm. Furthermore, it is preferable that the said heat conductive filler contains a silica or an alumina and has an average particle diameter in the range of 0.15-1.0 micrometer.

本発明においては、前記屈折率が相互に異なる二層以上の層のうちの少なくとも一層が、金属酸化物粒子及び水溶性高分子を含有することが好ましい。   In the present invention, it is preferable that at least one of the two or more layers having different refractive indexes contains metal oxide particles and a water-soluble polymer.

本発明の熱線遮断フィルムを製造する方法としては、当該熱線遮断フィルムを構成する層を、水系塗布液を用いて形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。   The method for producing the heat ray shielding film of the present invention is preferably a production method of an embodiment having a step of forming a layer constituting the heat ray shielding film using an aqueous coating solution.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

《熱線遮断フィルムの概要》
本発明の熱線遮断フィルムは、基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであることを特徴とする。また、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする。
<Overview of heat ray blocking film>
The heat ray blocking film of the present invention has at least two heat ray reflecting units composed of two or more layers having different refractive indexes on one surface on the substrate, and is opposite to the substrate. It is characterized by being a heat ray blocking film having a heat ray absorbing layer containing an ultraviolet curable resin and tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO) on the surface. Moreover, the said heat ray absorption layer contains a heat conductive filler, It is characterized by the above-mentioned.

本発明においては、本発明の効果発現の観点から、前記熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であることが好ましい。   In the present invention, from the viewpoint of manifestation of the effects of the present invention, the surface roughness of the heat-absorbing layer has an arithmetic average surface roughness (Ra) in the range of 5 to 10 nm and a maximum cross-sectional height (Rt). Is preferably in the range of 100 to 500 nm.

本発明の熱線遮断フィルムは、上記のように、熱線反射層と熱線吸収層の両方を有し、かつ熱線吸収層に特定の熱伝導性フィラーを含有したり、又はフィルム表面に適切な凹凸形状を形成することにより、熱線吸収層の放熱現象を向上させ、その結果、熱割れを抑制し、高効率の熱線遮断性を有する熱線遮断フィルムを得ることができる。   As described above, the heat ray blocking film of the present invention has both a heat ray reflective layer and a heat ray absorbing layer, and contains a specific heat conductive filler in the heat ray absorbing layer, or an uneven shape suitable for the film surface. By forming, the heat radiation phenomenon of the heat ray absorbing layer can be improved, and as a result, heat cracking can be suppressed and a heat ray shielding film having high efficiency heat ray shielding properties can be obtained.

また、本発明の熱線遮断フィルムを製造する方法としては、当該熱線遮断フィルムを構成する層を、水系塗布液を用いて形成する工程を有する態様の製造方法を採用することで、製造コストが安く、大面積化が可能であり、柔軟性があり、かつ低ヘイズで可視光透過率が高い熱線遮断フィルムを製造することができる。   Moreover, as a method for producing the heat ray shielding film of the present invention, the production cost is low by adopting the production method of an embodiment having a step of forming a layer constituting the heat ray shielding film using an aqueous coating solution. Further, it is possible to produce a heat ray blocking film that can be increased in area, is flexible, has low haze, and high visible light transmittance.

本発明の熱線遮断フィルムの基本光学特性としては、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率としては50%以上で、かつ、波長900〜1400nmの領域に反射率50%を超える領域を有し、かつ波長900〜1400nmの領域の透過率が10%以下であることが好ましい。   As a basic optical characteristic of the heat ray blocking film of the present invention, the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is 50% or more, and the region having a wavelength of 900 to 1400 nm exceeds the reflectance of 50%. And the transmittance in the wavelength region of 900 to 1400 nm is preferably 10% or less.

《基材》
本発明に係る基材(「支持体」ともいう。)としては、透明の有機材料で形成されたものであれば特に限定されるものではない。
"Base material"
The substrate (also referred to as “support”) according to the present invention is not particularly limited as long as it is formed of a transparent organic material.

例えば、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート、ポリスチレン(PS)、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の各樹脂フィルム、更には前記樹脂を2層以上積層して成る樹脂フィルム等を挙げることができる。コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)などが好ましく用いられる。   For example, methacrylic acid ester, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyarylate, polystyrene (PS), aromatic polyamide, polyether ether ketone, polysulfone, polyether sulfone, polyimide, poly Examples include resin films such as ether imide, and resin films formed by laminating two or more layers of the above resins. From the viewpoint of cost and availability, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC) and the like are preferably used.

支持体の厚さは、5〜200μm程度が好ましく、更に好ましくは15〜150μmである。   The thickness of the support is preferably about 5 to 200 μm, more preferably 15 to 150 μm.

また、本発明に係る支持体は、JIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率としては85%以上で、特に90%以上であることが好ましい。支持体が上記透過率以上でことにより、熱線遮断フィルムとしたときのJIS R3106−1998で示される可視光領域の透過率が50%以上にすることに有利であり、好ましい。   Further, the support according to the present invention has a visible light region transmittance of 85% or more, particularly 90% or more, as shown in JIS R3106-1998. When the support is at least the above-mentioned transmittance, it is advantageous in that the transmittance in the visible light region shown in JIS R3106-1998 is 50% or more when it is used as a heat ray shielding film.

また、上記樹脂等を用いた支持体は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。   Further, the support using the above resin or the like may be an unstretched film or a stretched film. A stretched film is preferable from the viewpoint of strength improvement and thermal expansion suppression.

本発明に用いられる支持体は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやTダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の支持体を製造することができる。また、未延伸の支持体を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、支持体の流れ(縦軸)方向、又は支持体の流れ方向と直角(横軸)方向に延伸することにより延伸支持体を製造することができる。この場合の延伸倍率は、支持体の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ2〜10倍が好ましい。   The support used in the present invention can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched support that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. Further, the unstretched support is uniaxially stretched, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, tubular-type simultaneous biaxial stretching, and other known methods, such as the flow (vertical axis) direction of the support, or A stretched support can be produced by stretching in the direction perpendicular to the flow direction of the support (horizontal axis). The draw ratio in this case can be appropriately selected according to the resin as the raw material of the support, but is preferably 2 to 10 times in the vertical axis direction and the horizontal axis direction.

また、本発明に用いられる支持体は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、又はテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が80〜200℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が100〜180℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が0.1〜10%の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が2〜6%で処理されることである。弛緩処理された支持体は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。   In addition, the support used in the present invention may be subjected to relaxation treatment or off-line heat treatment in terms of dimensional stability. It is preferable that the relaxation treatment is performed in a process from the heat setting in the stretching process of the polyester film to the winding in the transversely stretched tenter or after exiting the tenter. The relaxation treatment is preferably performed at a treatment temperature of 80 to 200 ° C, more preferably a treatment temperature of 100 to 180 ° C. Moreover, it is preferable that the relaxation rate is in the range of 0.1 to 10% in both the longitudinal direction and the width direction, and more preferably, the relaxation rate is 2 to 6%. The relaxed support is subjected to the following off-line heat treatment to improve heat resistance and to improve dimensional stability.

本発明に係る支持体は、製膜過程で片面又は両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。本発明において、製膜工程中での下引塗布をインライン下引という。本発明に有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂及びゼラチン等を挙げることが出来、何れも好ましく用いることができる。これらの下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、0.01〜2g/m(乾燥状態)程度が好ましい。 In the support according to the present invention, it is preferable to apply the undercoat layer coating solution inline on one or both sides in the film forming process. In the present invention, undercoating during the film forming process is referred to as in-line undercoating. Examples of resins used in the undercoat layer coating solution useful in the present invention include polyester resins, acrylic-modified polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, vinyl resins, vinylidene chloride resins, polyethyleneimine vinylidene resins, polyethyleneimine resins, and polyvinyl alcohol resins. , Modified polyvinyl alcohol resin, gelatin and the like, and any of them can be preferably used. A conventionally well-known additive can also be added to these undercoat layers. The undercoat layer can be coated by a known method such as roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating or spray coating. The coating amount of the undercoat layer is preferably about 0.01 to 2 g / m 2 (dry state).

《熱線吸収層》
本発明の熱線遮断フィルムは、熱線反射ユニットを有する基材面とは反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有し、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする。
<Heat ray absorbing layer>
The heat ray blocking film of the present invention has a heat ray absorbing layer containing an ultraviolet curable resin and tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO) on the surface opposite to the substrate surface having the heat ray reflecting unit. The heat ray absorbing layer contains a heat conductive filler.

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、当該熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であること好ましい。さらに、前記熱伝導性フィラーは、シリカ又はアルミナを含有し、かつ平均粒径が0.15〜1.0μmの範囲内であることが好ましい。   As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of manifestation of the effect of the present invention, the surface roughness of the heat-absorbing layer is such that the arithmetic average surface roughness (Ra) is in the range of 5 to 10 nm and the maximum cross-sectional height. (Rt) is preferably in the range of 100 to 500 nm. Furthermore, it is preferable that the said heat conductive filler contains a silica or an alumina and has an average particle diameter in the range of 0.15-1.0 micrometer.

〈紫外線硬化樹脂〉
本発明に係る熱線吸収層は、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有することを特徴とする。
<UV curable resin>
The heat ray absorbing layer according to the present invention contains an ultraviolet curable resin and tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO).

本発明において、紫外線硬化樹脂は、他の樹脂より硬度、平滑性、更にはITO、ATOや熱伝導性の金属酸化物の分散性の点でも有利である。   In the present invention, the ultraviolet curable resin is more advantageous than other resins in terms of hardness, smoothness, and dispersibility of ITO, ATO, and heat conductive metal oxide.

紫外線硬化樹脂としては、硬化によって透明な樹脂組成物を形成する物であれば特に制限なく使用でき、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、アクリル系樹脂、アリルエステル系樹脂等が挙げられる。特に好ましくは、硬度、平滑性、透明性の観点からアクリル系樹脂を用いることができる。   The ultraviolet curable resin can be used without particular limitation as long as it forms a transparent resin composition by curing, and examples thereof include silicone resins, epoxy resins, vinyl ester resins, acrylic resins, and allyl ester resins. . Particularly preferably, an acrylic resin can be used from the viewpoints of hardness, smoothness, and transparency.

アクリル系樹脂組成物としては、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物、アクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、グリセロールメタクリレート等の多官能アクリレートモノマーを溶解させたもの等が挙げられる。具体的にはエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。また、カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。上記のような樹脂組成物の任意の混合物を使用することも可能であり、光重合性不飽和結合を分子内に1個以上有する反応性のモノマーを含有している感光性樹脂であれば特に制限はない。   Examples of the acrylic resin composition include acrylate compounds having a radical reactive unsaturated compound, mercapto compounds having an acrylate compound and a thiol group, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, polyethylene glycol acrylate, glycerol methacrylate and the like. What dissolved the polyfunctional acrylate monomer etc. are mentioned. Specifically, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified diphosphate ( (Meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylo Propane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris ( Acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. Is mentioned. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxy Examples include vinyl ethers such as butyl vinyl ether, oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, and the like. It is also possible to use any mixture of the above resin compositions, especially if it is a photosensitive resin containing a reactive monomer having one or more photopolymerizable unsaturated bonds in the molecule. There is no limit.

光重合開始剤としては、公知のものを使用することができ、一種又は二種以上の組み合わせで使用することができる。   As a photoinitiator, a well-known thing can be used and it can be used by 1 type, or 2 or more types of combination.

本発明に係るアクリル系樹脂は、硬度、平滑性、透明性の観点から、国際公開第2008/035669号に記載されているような表面に光重合反応性を有する感光性基が導入された反応性シリカ粒子(以下、単に「反応性シリカ粒子」ともいう)を含むことが好ましい。ここで、光重合性を有する感光性基としては、(メタ)アクリロイルオキシ基に代表される重合性不飽和基などを挙げることができる。また、感光性樹脂は、この反応性シリカ粒子の表面に導入された光重合反応性を有する感光性基と光重合反応可能な化合物、例えば、重合性不飽和基を有する不飽和有機化合物を含むものであってもよい。また重合性不飽和基修飾加水分解性シランが、加水分解性シリル基の加水分解反応によって、シリカ粒子との間に、シリルオキシ基を生成して化学的に結合しているようなものを、反応性シリカ粒子として用いることができる。ここで、反応性シリカ粒子の平均粒子径としては、0.001〜0.1μmの平均粒子径であることが好ましい。平均粒子径をこのような範囲にすることにより、透明性、平滑性、硬度をバランスよく満たすことができる。   The acrylic resin according to the present invention is a reaction in which a photosensitive group having photopolymerization reactivity is introduced on the surface as described in International Publication No. 2008/035669 from the viewpoint of hardness, smoothness, and transparency. It is preferable to contain reactive silica particles (hereinafter also simply referred to as “reactive silica particles”). Here, examples of the photopolymerizable photosensitive group include a polymerizable unsaturated group represented by a (meth) acryloyloxy group. The photosensitive resin also contains a photopolymerizable photosensitive group introduced on the surface of the reactive silica particles and a compound capable of photopolymerization, for example, an unsaturated organic compound having a polymerizable unsaturated group. It may be a thing. In addition, a polymerizable unsaturated group-modified hydrolyzable silane reacts with a silica particle that forms a silyloxy group and is chemically bonded to the silica particle by a hydrolysis reaction of the hydrolyzable silyl group. Can be used as conductive silica particles. Here, the average particle diameter of the reactive silica particles is preferably 0.001 to 0.1 μm. By setting the average particle diameter in such a range, transparency, smoothness, and hardness can be satisfied in a well-balanced manner.

また、本発明に係るアクリル系樹脂には、屈折率を調整するできる点で、含フッ素ビニルモノマーを用いることもできる。含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やR−2020(商品名、ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。   Moreover, a fluorine-containing vinyl monomer can also be used for the acrylic resin which concerns on this invention at the point which can adjust a refractive index. Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, biscoat 6FM (trade name) And R-2020 (trade name, manufactured by Daikin) and the like, and fully or partially fluorinated vinyl ethers.

〈熱線吸収剤〉
本発明に係る熱線吸収層は、錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有することを特徴とする。
<Heat ray absorbent>
The heat ray absorbing layer according to the present invention is characterized by containing tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO).

本発明においては、無機熱線吸収剤として、可視光線透過率、熱線吸収性、樹脂中への分散適性等の点から、錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を用いることを要する。   In the present invention, tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO) is used as the inorganic heat ray absorbent from the viewpoints of visible light transmittance, heat ray absorbability, dispersibility in the resin, and the like. Cost.

平均粒径としては、分散性や熱線吸収性の観点から、5〜100nmが好ましく、特に10〜50nmが好ましい。   As an average particle diameter, 5-100 nm is preferable from a viewpoint of a dispersibility or a heat ray absorptivity, and 10-50 nm is especially preferable.

本発明における平均粒径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば50個のITO又はATO粒子を抽出して該粒径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して算出したものと定義する。   The measurement of the average particle diameter in the present invention is obtained by taking an image with a transmission electron microscope, randomly extracting, for example, 50 ITO or ATO particles, measuring the particle diameter, and averaging these. Moreover, when the shape of particle | grains is not spherical, it defines as what was calculated by measuring a major axis.

上記ITO、ATO粒子の熱線吸収層における含有量は、上記層全体含有量によるが、層全体の含有%で表した場合、1〜80%、特に5〜50%の範囲であることが好ましい。含有量が1%以上であれば、十分な熱線吸収効果が現れ、80%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。   The content of the ITO and ATO particles in the heat ray absorbing layer depends on the content of the entire layer, but is preferably in the range of 1 to 80%, particularly 5 to 50% when expressed in terms of content% of the entire layer. If the content is 1% or more, a sufficient heat ray absorption effect appears, and if it is 80% or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.

本発明においては、本発明の効果を奏する範囲内で、ITO、ATO以外の金属酸化物や、有機系、金属錯体等の他熱線吸収剤を併用することもできる。例えば、ジイモニウム系化合物、アルミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物等を併用することもできる。   In the present invention, other heat ray absorbents such as metal oxides other than ITO and ATO, organic systems, and metal complexes can be used in combination within the range where the effects of the present invention are exhibited. For example, diimonium compounds, aluminum compounds, phthalocyanine compounds, organometallic complexes, cyanine compounds, azo compounds, polymethine compounds, quinone compounds, diphenylmethane compounds, triphenylmethane compounds, and the like can be used in combination.

〈熱伝導性フィラー〉
本発明の熱線遮断フィルムは、熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有することを特徴とする。
<Thermal conductive filler>
The heat ray blocking film of the present invention is characterized by containing a heat conductive filler in the heat ray absorbing layer.

本発明に用いることができる熱伝導性フィラーは、ITO又はATO粒子で赤外吸収された熱を効率的に放熱することができれば、特に限定はなく、例えば、銅、アルミニウム、銀、ステンレス等の金属、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化セリウム等の金属酸化物、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化クロム、窒化ケイ素、窒化タングステン、窒化マグネシウム、窒化モリブデン、窒化リチウム等の金属窒化物、炭化ケイ素、炭化ジルコニウム、炭化タンタル、炭化チタン、炭化鉄、炭化ホウ素等の金属炭化物等の微粒子が挙げられる。特に樹脂の分散性や、可視光透過率等への影響が少ないことから、金属酸化物が好ましい。更に好ましくは、熱伝導性=放熱効率が高く、光触媒性等を有しないことから、酸化アルミニウム(アルミナ)と酸化珪素(シリカ)が好ましく、更に好ましくは酸化アルミニウムである。   The heat conductive filler that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it can efficiently dissipate the heat absorbed by the ITO or ATO particles, and examples thereof include copper, aluminum, silver, and stainless steel. Metal oxide such as metal, iron oxide, aluminum oxide, titanium oxide, silicon oxide, cerium oxide, etc., metal nitride such as boron nitride, aluminum nitride, chromium nitride, silicon nitride, tungsten nitride, magnesium nitride, molybdenum nitride, lithium nitride And fine particles of silicon carbide, zirconium carbide, tantalum carbide, titanium carbide, iron carbide, boron carbide and other metal carbides. In particular, a metal oxide is preferable because it has little influence on the dispersibility of the resin and the visible light transmittance. More preferably, thermal conductivity = high heat dissipation efficiency and no photocatalytic property, and therefore aluminum oxide (alumina) and silicon oxide (silica) are preferable, and aluminum oxide is more preferable.

形状としては、種々の形状のものを適応可能である。例えば粒子状、微粒子状、ナノ粒子、凝集粒子状、チューブ状、ナノチューブ状、ワイヤ状、ロッド状、針状、板状、不定形、ラグビーボール状、六面体状、大粒子と微小粒子とが複合化した複合粒子状、液体、など種々の形状を例示することができる。放熱効率の点から有利なのは、粒子状と針状である。   Various shapes can be applied as the shape. For example, particles, fine particles, nanoparticles, aggregated particles, tubes, nanotubes, wires, rods, needles, plates, irregular shapes, rugby balls, hexahedrons, large particles and fine particles are combined Various shapes such as a complex particle shape and a liquid can be exemplified. Particles and needles are advantageous from the viewpoint of heat dissipation efficiency.

熱伝導性フィラーは、樹脂との界面の接着性を高めたり、分散性を向上させるために、シラン処理剤等の各種表面処理剤で表面処理がなされたものであってもよい。   The heat conductive filler may be subjected to a surface treatment with various surface treatment agents such as a silane treatment agent in order to enhance the adhesiveness at the interface with the resin or improve the dispersibility.

平均粒径としては、0.01〜2.0μmが好ましく、特に0.05〜1.5μmが好ましく、更に好ましくは0.15〜1.0μmである。平均粒径が当該範囲にあると、放熱効率及び可視光線透過率が高くなるため好ましい。   As an average particle diameter, 0.01-2.0 micrometers is preferable, 0.05-1.5 micrometers is especially preferable, More preferably, it is 0.15-1.0 micrometer. It is preferable for the average particle size to fall within this range since the heat dissipation efficiency and the visible light transmittance are increased.

なお、本願においては、形状が球状でない熱伝導性フィラーの粒径は、当該熱伝導性フィラーの体積と同等の体積の球の粒径と同等とした換算値を採用することとした。   In the present application, a converted value in which the particle diameter of the thermally conductive filler whose shape is not spherical is equivalent to the particle diameter of a sphere having a volume equivalent to the volume of the thermally conductive filler is adopted.

上記熱伝導性フィラーにおける含有量は、上記層全体含有量によるが、層全体の含有%で表した場合、1〜50%、特に5〜30%の範囲であることが好ましい。含有量が1%以上であれば、十分な放熱効果が現れ、50%以下であれば、十分な量の可視光線を透過できる。   Although content in the said heat conductive filler is based on the said whole layer content, when expressed with content% of the whole layer, it is preferable that it is the range of 1-50%, especially 5-30%. If the content is 1% or more, a sufficient heat dissipation effect appears, and if it is 50% or less, a sufficient amount of visible light can be transmitted.

本発明において、熱線吸収層の表面粗さは、JIS B 0601 (2001)に準じた測定において、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であることが好ましい。   In the present invention, the surface roughness of the heat ray absorbing layer is measured in accordance with JIS B 0601 (2001), the arithmetic average surface roughness (Ra) is in the range of 5 to 10 nm, and the maximum cross-sectional height (Rt ) Is preferably in the range of 100 to 500 nm.

上記表面粗さにすることによって、表面からの放熱効率が上がり、熱割れを抑制することができる。特に表面に熱導電性フィラーが配置して、上記表面粗さをすることによって、放熱する効率、表面積を稼げるので、特に有効であり、その場合の熱伝導性フィラーの粒径は、150〜1000nmの範囲が好ましい。熱線吸収層の表面粗さは、以下の方法で測定することができる。   By making the surface roughness, heat dissipation efficiency from the surface can be increased, and thermal cracking can be suppressed. In particular, the heat conductive filler is arranged on the surface, and by performing the above surface roughness, it is particularly effective because the heat dissipation efficiency and surface area can be increased, and the particle size of the heat conductive filler in that case is 150 to 1000 nm. The range of is preferable. The surface roughness of the heat ray absorbing layer can be measured by the following method.

〈原子間力顕微鏡による表面粗さの測定〉
本発明に係る上記熱線吸収層の表面粗さは、JIS B 0601 (2001)に準じて、下記の方法・条件に従って、原子間力顕微鏡により得られる画像に基づいて測定することができる。
<Measurement of surface roughness by atomic force microscope>
The surface roughness of the heat ray absorbing layer according to the present invention can be measured based on an image obtained by an atomic force microscope according to the following method and conditions in accordance with JIS B 0601 (2001).

測定試料を1cm角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位でとらえる。   Cut the measurement sample into 1 cm square size, set it on a horizontal sample stage on the piezo scanner, approach the cantilever to the sample surface, and when the atomic force is reached, scan in the XY direction, At this time, the unevenness of the sample is caught by the displacement of the piezo in the Z direction.

原子間力顕微鏡で得られた凹凸画像について、凹部及び/又は凸部が連なる方向に対して直角方向に任意に2本の直線を引き、この直線上の部分について、輪郭曲線(断面曲線)をそれぞれ求める。   With respect to the concavo-convex image obtained by the atomic force microscope, two straight lines are arbitrarily drawn in a direction perpendicular to the direction in which the concave portions and / or convex portions are connected, and a contour curve (cross-sectional curve) is drawn on the portion on the straight line. Ask for each.

次に、これらの直線上についての輪郭曲線(断面曲線)から粗さを求める。場所を変えて20箇所測定して、その算術平均をRaとする。また、評価長さにおける輪郭曲線(断面曲線)の山高さの最大値と他に深さの最大値との和を最大断面高さとする。   Next, the roughness is obtained from the contour curve (cross-sectional curve) on these straight lines. 20 places are measured at different places, and the arithmetic average is Ra. In addition, the sum of the maximum value of the peak height of the contour curve (cross section curve) in the evaluation length and the maximum value of the depth is taken as the maximum cross section height.

なお、本発明において用いた測定条件は下記の通りである。
装置:Nanoscope IIIa AFM(Digital Instruments社製)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.5Hz
測定視野:125μm
Zレンジ:断面曲線から得られたRaの7〜15倍
フラッテンフィルター
モード :フラッテンオート
オーダー:3
バネ定数K:11N/m
共振周波数F:127kHz
《熱線反射層ユニットの構成》
本発明の熱線遮断フィルムは、基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有することを特徴とする。
The measurement conditions used in the present invention are as follows.
Apparatus: Nanoscope IIIa AFM (manufactured by Digital Instruments)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning speed: 0.5Hz
Measurement field: 125 μm 2
Z range: Ra of 7 to 15 times Ra obtained from the cross section curve Flatten filter mode: Flatten auto order: 3
Spring constant K: 11 N / m
Resonance frequency F: 127 kHz
<Configuration of heat ray reflective layer unit>
The heat ray blocking film of the present invention is characterized by having at least two heat ray reflecting units composed of two or more layers having different refractive indexes on one surface on a substrate.

なお、以下においては、屈折率が相互に異なる二層以上の層のうち、相対的に屈折率が高い層を「高屈折率層」と呼び、相対的に屈折率が低いい層を「低屈折率層」と呼ぶことにする。   In the following, among two or more layers having different refractive indexes, a layer having a relatively high refractive index is referred to as a “high refractive index layer”, and a layer having a relatively low refractive index is referred to as “low refractive index layer”. It will be called a “refractive index layer”.

熱線遮断フィルムの反射タイプにおいては、高屈折率層と低屈折率層の屈折率の差は大きいほど、少ない層数で熱線(赤外)反射率を高くすることができる観点で好ましいが、本発明では、高屈折率層と低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも二つ以上で、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が0.1以上であることが好ましい。特に好ましくは0.3以上であり、更に好ましくは0.4以上である。   In the reflection type of the heat ray blocking film, the larger the difference in the refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer, the better from the viewpoint of increasing the heat ray (infrared) reflectance with a small number of layers. In the invention, the difference in refractive index between the adjacent high refractive index layer and the low refractive index layer may be 0.1 or more in at least two units composed of the high refractive index layer and the low refractive index layer. preferable. Especially preferably, it is 0.3 or more, More preferably, it is 0.4 or more.

ユニット数としては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差によるが、好ましくは40ユニット以下、より好ましくは20ユニット以下であり、さらに好ましくは10ユニット)以下である。   The number of units depends on the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer, but is preferably 40 units or less, more preferably 20 units or less, and even more preferably 10 units or less.

ちなみに、本発明において、高屈折率層、低屈折率層の屈折率は、下記の方法に従って求めることができる。   Incidentally, in the present invention, the refractive indexes of the high refractive index layer and the low refractive index layer can be determined according to the following method.

基材上に、屈折率を測定する各屈折率層を単層で塗設したサンプルを作製し、このサンプルを10cm×10cmに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、U−4000型(日立製作所社製)を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、5度正反射の条件にて可視光領域(400〜700nm)の反射率を25点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。   A sample in which each refractive index layer for measuring the refractive index is coated as a single layer on a substrate is prepared, and the sample is cut into 10 cm × 10 cm, and then the refractive index is determined according to the following method. Using a U-4000 type (manufactured by Hitachi, Ltd.) as a spectrophotometer, the back side on the measurement side of each sample is roughened, and then light absorption is performed with a black spray to reflect light on the back side. In this case, the reflectance of the visible light region (400 to 700 nm) is measured at 25 points under the condition of regular reflection at 5 degrees to obtain an average value, and the average refractive index is obtained from the measurement result.

本発明における高屈折率層の好ましい屈折率としては1.80〜2.50であり、より好ましくは1.90〜2.20である。また、低屈折率層の好ましい屈折率としては1.10〜1.60であり、より好ましくは1.30〜1.50である。   The preferable refractive index of the high refractive index layer in the present invention is 1.80 to 2.50, more preferably 1.90 to 2.20. Moreover, as a preferable refractive index of a low-refractive-index layer, it is 1.10-1.60, More preferably, it is 1.30-1.50.

本発明の熱線遮断フィルムにおいては、基材に隣接する層が、酸化珪素を含む低屈折率層で、最表層も酸化珪素を含む低屈折率層である層構成が好ましい。   In the heat ray blocking film of the present invention, a layer structure in which the layer adjacent to the substrate is a low refractive index layer containing silicon oxide and the outermost layer is also a low refractive index layer containing silicon oxide is preferable.

本発明における高屈折層及び低屈折率層は、いずれも金属酸化物粒子と水溶性樹脂を含有することが好ましい態様である。   In a preferred embodiment, the high refractive layer and the low refractive index layer in the present invention each contain metal oxide particles and a water-soluble resin.

〔金属酸化物粒子〕
本発明に係る金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズを挙げることができる。
[Metal oxide particles]
Examples of the metal oxide particles according to the present invention include titanium dioxide, zirconium oxide, zinc oxide, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, oxidation Examples thereof include chromium, ferric oxide, iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, and tin oxide.

金属酸化物粒子の含有量は、50質量%以上、95質量%以下が好ましく、60質量%以上90質量%以下がより好ましい。金属酸化物粒子の含有量を50質量%以上とすることにより、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易となり、金属酸化物粒子の含有量を95質量%以下とすることにより、膜の柔軟性が得られ、熱線遮断フィルムを形成することの容易となる。   The content of the metal oxide particles is preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 60% by mass or more and 90% by mass or less. By setting the content of the metal oxide particles to 50% by mass or more, it becomes easy to increase the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer, and the content of the metal oxide particles is 95% by mass or less. By doing so, the flexibility of the film is obtained, and it becomes easy to form the heat ray blocking film.

また、各屈折率層において、金属酸化物粒子(F)と各層を構成するバインダーである水溶性高分子(B)との質量比(F/B)としては、0.5〜20の範囲であることが好ましく、より好ましくは1.0〜10である。   In each refractive index layer, the mass ratio (F / B) between the metal oxide particles (F) and the water-soluble polymer (B) that is a binder constituting each layer is in the range of 0.5 to 20. It is preferable that there is, and more preferably 1.0 to 10.

本発明に係る高屈折率層で用いる金属酸化物粒子としては、TiO、ZnO、ZrOが好ましく、高屈折率層を形成するための後述の金属酸化物粒子含有組成物の安定性の観点ではTiO(二酸化チタンゾル)がより好ましい。また、TiOの中でもルチル型が、触媒活性が低いために高屈折率層や隣接した層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高いことから好ましい。 As the metal oxide particles used in the high refractive index layer according to the present invention, TiO 2 , ZnO, and ZrO 2 are preferable. From the viewpoint of stability of the metal oxide particle-containing composition described later for forming the high refractive index layer. Then, TiO 2 (titanium dioxide sol) is more preferable. Of TiO 2, the rutile type is preferable because the catalyst activity is low and the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent layer is high, and the refractive index is high.

本発明で用いることのできる二酸化チタンゾルの調製方法としては、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報等参照にすることができる。   Examples of the method for preparing the titanium dioxide sol that can be used in the present invention include JP-A 63-17221, JP-A 7-819, JP-A 9-165218, and JP-A 11-43327. Can be a reference.

また、その他の二酸化チタンゾルの調製方法としては、例えば、特開昭63−17221号公報、特開平7−819号公報、特開平9−165218号公報、特開平11−43327号公報等参照にすることができる。   As other methods for preparing titanium dioxide sol, refer to, for example, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, and the like. be able to.

二酸化チタン微粒子の好ましい一次粒子径は、4〜50nmであり、より好ましくは4〜30nmである。   The preferable primary particle diameter of the titanium dioxide fine particles is 4 to 50 nm, and more preferably 4 to 30 nm.

本発明に係る低屈折率層においては、金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素粒子を用いることが好ましく、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることが特に好ましい。   In the low refractive index layer according to the present invention, as the metal oxide particles, silicon dioxide particles are preferably used, and acidic colloidal silica sol is particularly preferably used.

本発明に係る二酸化ケイ素粒子は、その平均粒径が100nm以下であることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径(塗設前の分散液状態での粒径)は、20nm以下のものが好ましく、より好ましくは10nm以下である。また、二次粒子の平均粒径としては、30nm以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。   The silicon dioxide particles according to the present invention preferably have an average particle size of 100 nm or less. The average particle diameter of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle diameter in a dispersion state before coating) is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.

本発明に係る酸化チタン粒子の体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、1,000個の任意の粒子の粒径(一次粒子径)を測定し、それぞれd、d・・・d・・・dの粒径を持つ粒子がそれぞれn、n・・・n・・・n個存在する酸化チタン粒子の集団において、粒子1個当りの体積をvとした場合に、体積平均粒径m={Σ(v・d)}/{Σ(v)}で表される体積で重み付けされた平均粒径である。 The volume average particle diameter of the titanium oxide particles according to the present invention is a method of observing the particles themselves using a laser diffraction scattering method, a dynamic light scattering method, or an electron microscope, or appears on the cross section or surface of the refractive index layer. the method of observing the particle image with an electron microscope, 1,000 arbitrary particle diameter of the particles (primary particle size) is measured, the particle diameter of d 1, d 2 ··· d i ··· d k respectively In a group of titanium oxide particles in which n 1 , n 2 ... N i ... K are present, and the volume per particle is v i , the volume average particle diameter m v = The average particle size weighted by the volume represented by {Σ (v i · d i )} / {Σ (v i )}.

〔水溶性高分子〕
本発明においては、屈折率が相互に異なる二層以上の層のうちの少なくとも一層が、金属酸化物粒子及び水溶性高分子を含有することが好ましい。
(Water-soluble polymer)
In the present invention, it is preferable that at least one of two or more layers having different refractive indexes contains metal oxide particles and a water-soluble polymer.

本発明において用いることができる水溶性高分子としては、特に反応性官能基を有するポリマー、無機ポリマー、増粘多糖類及びゼラチンから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。   The water-soluble polymer that can be used in the present invention is preferably at least one selected from polymers having reactive functional groups, inorganic polymers, thickening polysaccharides, and gelatin.

本発明に係る「水溶性高分子」の「水溶性」とは、25℃の水媒体に対し1質量%以上溶解する溶解性をいう。   The “water-soluble” of the “water-soluble polymer” according to the present invention refers to solubility that dissolves 1% by mass or more in an aqueous medium at 25 ° C.

本発明に係る高屈折層形成用塗布液及び低屈折率層形成用塗布液における水溶性高分子の濃度としては、0.3〜3.0質量%であることが好ましく、0.35〜2.0質量%の範囲であることがより好ましい。   The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for forming a high refractive layer and the coating solution for forming a low refractive index layer according to the present invention is preferably 0.3 to 3.0% by mass, and 0.35 to 2%. More preferably, it is in the range of 0.0 mass%.

以下、各水溶性高分子の詳細について説明する。   Hereinafter, details of each water-soluble polymer will be described.

(反応性官能基を有するポリマー)
本発明において用いることができる水溶性高分子の一つとしては、反応性官能基を有するポリマーを用いることが好ましい。
(Polymer having reactive functional group)
As one of the water-soluble polymers that can be used in the present invention, a polymer having a reactive functional group is preferably used.

本発明に適用可能な水溶性高分子としては反応性官能基を有するポリマーが挙げられ、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、若しくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、若しくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−2−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体及びそれらの塩が挙げられる。これらの中で、特に好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer applicable to the present invention include polymers having reactive functional groups, such as polyvinyl alcohols, polyvinyl pyrrolidones, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate- Acrylic resins such as acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic acid ester copolymer, or acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene- Styrene acrylic resin such as methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic acid copolymer, or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-styrene Sodium sulfonate copolymer, styrene -2-hydroxyethyl acrylate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer Vinyl acetate copolymers such as vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate-maleic acid ester copolymer, vinyl acetate-crotonic acid copolymer, vinyl acetate-acrylic acid copolymer, and salts thereof Is mentioned. Among these, particularly preferable examples include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidones, and copolymers containing the same.

水溶性高分子の重量平均分子量は、1,000以上200,000以下が好ましい。更には、3,000以上40,000以下がより好ましい。   The weight average molecular weight of the water-soluble polymer is preferably 1,000 or more and 200,000 or less. Furthermore, 3,000 or more and 40,000 or less are more preferable.

本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。   The polyvinyl alcohol preferably used in the present invention includes, in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate, modified polyvinyl alcohol such as polyvinyl alcohol having a cation-modified terminal and anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group. Alcohol is also included.

酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が1,000以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が1,500〜5,000のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は、70〜100%のものが好ましく、80〜99.5%のものが特に好ましい。   The polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 1,000 or more, and particularly preferably has an average degree of polymerization of 1,500 to 5,000. The degree of saponification is preferably 70 to 100%, particularly preferably 80 to 99.5%.

カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭61−10483号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖又は側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。   Examples of the cation-modified polyvinyl alcohol include primary to tertiary amino groups and quaternary ammonium groups in the main chain or side chain of the polyvinyl alcohol as described in JP-A-61-110483. It is obtained by saponifying a copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having a cationic group and vinyl acetate.

カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−(2−アクリルアミド−2,2−ジメチルエチル)アンモニウムクロライド、トリメチル−(3−アクリルアミド−3,3−ジメチルプロピル)アンモニウムクロライド、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル−2−メチルイミダゾール、N−(3−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−(2−メタクリルアミドプロピル)アンモニウムクロライド、N−(1,1−ジメチル−3−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して0.1〜10モル%、好ましくは0.2〜5モル%である。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having a cationic group include trimethyl- (2-acrylamido-2,2-dimethylethyl) ammonium chloride and trimethyl- (3-acrylamido-3,3-dimethylpropyl) ammonium chloride. N-vinylimidazole, N-vinyl-2-methylimidazole, N- (3-dimethylaminopropyl) methacrylamide, hydroxylethyltrimethylammonium chloride, trimethyl- (2-methacrylamidopropyl) ammonium chloride, N- (1, 1-dimethyl-3-dimethylaminopropyl) acrylamide and the like. The ratio of the cation-modified group-containing monomer of the cation-modified polyvinyl alcohol is 0.1 to 10 mol%, preferably 0.2 to 5 mol%, relative to vinyl acetate.

アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平1−206088号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭61−237681号公報及び同63−307979号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平7−285265号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。   Anion-modified polyvinyl alcohol is described in, for example, polyvinyl alcohol having an anionic group as described in JP-A-1-206088, JP-A-61-237681 and JP-A-63-307979. Examples thereof include a copolymer of vinyl alcohol and a vinyl compound having a water-soluble group, and modified polyvinyl alcohol having a water-soluble group as described in JP-A-7-285265.

また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平7−9758号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平8−25795号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。   Nonionic modified polyvinyl alcohol includes, for example, a polyvinyl alcohol derivative in which a polyalkylene oxide group as described in JP-A-7-9758 is added to a part of vinyl alcohol, and JP-A-8-25795. The block copolymer of the vinyl compound and vinyl alcohol which have the described hydrophobic group is mentioned. Polyvinyl alcohol can be used in combination of two or more, such as the degree of polymerization and the type of modification.

本発明においては、反応性官能基を有するポリマーを使用する場合には、硬化剤を使用してもよい。反応性官能基を有するポリマーがポリビニルアルコールの場合には、後述するホウ酸及びその塩やエポキシ系硬化剤が好ましい。   In the present invention, a curing agent may be used when a polymer having a reactive functional group is used. When the polymer having a reactive functional group is polyvinyl alcohol, boric acid and a salt thereof described later and an epoxy curing agent are preferable.

(無機ポリマー)
本発明において用いることができる水溶性高分子の一つとしては、ジルコニウム原子含有化合物あるいはアルミニウム原子含有化合物等の無機ポリマーを用いることが好ましい。
(Inorganic polymer)
As one of the water-soluble polymers that can be used in the present invention, an inorganic polymer such as a zirconium atom-containing compound or an aluminum atom-containing compound is preferably used.

本発明に適用可能なジルコニウム原子を含む化合物は、酸化ジルコニウムを除くものであるが、その具体例としては、二フッ化ジルコニウム、三フッ化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩(例えば、カリウム塩)、ヘプタフルオロジルコニウム酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩やアンモニウム塩)、オクタフルオロジルコニウム酸塩(例えば、リチウム塩)、フッ化酸化ジルコニウム、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、ヘキサクロロジルコニウム酸塩(例えば、ナトリウム塩やカリウム塩)、酸塩化ジルコニウム(塩化ジルコニル)、二臭化ジルコニウム、三臭化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、臭化酸化ジルコニウム、三ヨウ化ジルコニウム、四ヨウ化ジルコニウム、過酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、p−トルエンスルホン酸ジルコニウム、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硫酸ジルコニウムカリウム、セレン酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、リン酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニル、ステアリン酸ジルコニル、リン酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニウム、ジルコニウムイソプロピレート、ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ステアリン酸ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセテート、ビス(アセチルアセトナト)ジクロロジルコニウム、トリス(アセチルアセトナト)クロロジルコニウム等が挙げられる。   The compound containing a zirconium atom applicable to the present invention excludes zirconium oxide, and specific examples thereof include zirconium difluoride, zirconium trifluoride, zirconium tetrafluoride, hexafluorozirconium salt (for example, Potassium salt), heptafluorozirconate (for example, sodium salt, potassium salt or ammonium salt), octafluorozirconate (for example, lithium salt), fluorinated zirconium oxide, zirconium dichloride, zirconium trichloride, tetrachloride Zirconium, hexachlorozirconium salt (for example, sodium salt and potassium salt), zirconium oxychloride (zirconyl chloride), zirconium dibromide, zirconium tribromide, zirconium tetrabromide, zirconium bromide oxide, zirconium triiodide, four Diiodide Konium, zirconium peroxide, zirconium hydroxide, zirconium sulfide, zirconium sulfate, zirconium p-toluenesulfonate, zirconyl sulfate, sodium zirconyl sulfate, acidic zirconyl sulfate trihydrate, potassium zirconium sulfate, zirconium selenate, zirconium nitrate, nitric acid Zirconyl, zirconium phosphate, zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconium acetate, zirconyl acetate, zirconyl ammonium acetate, zirconyl lactate, zirconyl citrate, zirconyl stearate, zirconyl phosphate, zirconium oxalate, zirconium isopropylate, zirconium butyrate, Zirconium acetylacetonate, acetylacetone zirconium butyrate, zirconium stearate butyrate, Benzalkonium acetate, bis (acetylacetonato) dichloro zirconium and tris (acetylacetonato) chloro zirconium, and the like.

これらの化合物の中でも、塩化ジルコニル、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硝酸ジルコニル、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、ステアリン酸ジルコニルが好ましく、更に好ましくは、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、塩化ジルコニルであり、特に好ましくは、炭酸ジルコニルアンモニウム、塩化ジルコニル、酢酸ジルコニルである。上記化合物の具体的商品名としては、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZA−20(酢酸ジルコニル)、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZC−2(塩化ジルコニル)、第一稀元素化学工業製のジルコゾールZN(硝酸ジルコニル)等が挙げられる。   Among these compounds, zirconyl chloride, zirconyl sulfate, sodium zirconyl sulfate, acidic zirconyl sulfate trihydrate, zirconyl nitrate, zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconyl acetate, zirconyl ammonium acetate, zirconyl stearate are more preferable. Zirconyl carbonate, zirconyl ammonium carbonate, zirconyl acetate, zirconyl nitrate and zirconyl chloride, particularly preferably zirconyl ammonium carbonate, zirconyl chloride and zirconyl acetate. Specific product names of the above compounds include Zircozole ZA-20 (Zirconyl Acetate) manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Industry, Zircosol ZC-2 (Zirconyl Chloride) manufactured by Daiichi Rare Element Chemical Industry, First Rare Element Chemical Industry Zircosol ZN (zirconyl nitrate) and the like manufactured by the company are listed.

上記ジルコニル原子を含む無機ポリマーの内の代表的な化合物の構造式を下記に示す。   Structural formulas of typical compounds among the inorganic polymers containing the zirconyl atom are shown below.

Figure 0005614270
Figure 0005614270

ただし、s、tは1以上の整数を表す。   However, s and t represent integers of 1 or more.

ジルコニル原子を含む無機ポリマーは、単独で用いても良いし、異なる二種類以上の化合物を併用してもよい。   The inorganic polymer containing a zirconyl atom may be used alone, or two or more different compounds may be used in combination.

ジルコニウム原子を含む化合物は、単独で用いても良いし、異なる二種類以上の化合物を併用してもよい。   A compound containing a zirconium atom may be used alone, or two or more different compounds may be used in combination.

また、本発明で用いることのできる分子内にアルミニウム原子を含む化合物には、酸化アルミニウムは含まず、その具体例としては、フッ化アルミニウム、ヘキサフルオロアルミン酸(例えば、カリウム塩)、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム(例えば、ポリ塩化アルミニウム)、テトラクロロアルミン酸塩(例えば、ナトリウム塩)、臭化アルミニウム、テトラブロモアルミン酸塩(例えば、カリウム塩)、ヨウ化アルミニウム、アルミン酸塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩)、塩素酸アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、チオシアン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム(ミョウバン)、硫酸アンモニウムアルミニウム(アンモニウムミョウバン)、硫酸ナトリウムアルミニウム、燐酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、燐酸水素アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸珪酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセトネート)等を挙げることができる。   Further, the compound containing an aluminum atom in the molecule that can be used in the present invention does not contain aluminum oxide. Specific examples thereof include aluminum fluoride, hexafluoroaluminic acid (for example, potassium salt), aluminum chloride, Basic aluminum chloride (eg, polyaluminum chloride), tetrachloroaluminate (eg, sodium salt), aluminum bromide, tetrabromoaluminate (eg, potassium salt), aluminum iodide, aluminate (eg, Sodium salt, potassium salt, calcium salt), aluminum chlorate, aluminum perchlorate, aluminum thiocyanate, aluminum sulfate, basic aluminum sulfate, potassium aluminum sulfate (alum), ammonium aluminum sulfate (ammonium alum) Sodium aluminum sulfate, aluminum phosphate, aluminum nitrate, aluminum hydrogen phosphate, aluminum carbonate, polysulfuric acid aluminum silicate, aluminum formate, aluminum acetate, aluminum lactate, aluminum oxalate, aluminum isopropylate, aluminum butyrate, ethyl acetate aluminum diisopropylate, aluminum Examples thereof include tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethylacetoacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetonate), and the like.

これらの中でも、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウムが好ましく、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが最も好ましい。上記化合物の具体的商品名としては、多木化学製のポリ塩化アルミニウム(PAC)であるタキバイン#1500、浅田化学(株)製のポリ水酸化アルミニウム(Paho)、(株)理研グリーン製のピュラケムWTが挙げられ、各種グレードのものが入手することができる。   Among these, aluminum chloride, basic aluminum chloride, aluminum sulfate, basic aluminum sulfate, and basic aluminum sulfate silicate are preferable, and basic aluminum chloride and basic aluminum sulfate are most preferable. Specific product names of the above compounds include TAKIBAIN # 1500, which is polyaluminum chloride (PAC) manufactured by Taki Chemical, polyaluminum hydroxide (Paho) manufactured by Asada Chemical Co., and Purachem manufactured by Riken Green Co., Ltd. WT is listed, and various grades are available.

下記に、タキバイン#1500の構造式を示す。   The structural formula of Takibine # 1500 is shown below.

Figure 0005614270
Figure 0005614270

ただし、s、t、uは1以上の整数を表す。   However, s, t, and u represent an integer of 1 or more.

前記無機ポリマーの添加量は、無機酸化物粒子100質量部に対して1〜100質量部が好ましく、2〜50質量部が更に好ましい。   1-100 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of inorganic oxide particles, and, as for the addition amount of the said inorganic polymer, 2-50 mass parts is still more preferable.

(増粘多糖類)
本発明においては、水溶性高分子として、増粘多糖類を用いることが好ましい。
(Thickening polysaccharide)
In the present invention, it is preferable to use a thickening polysaccharide as the water-soluble polymer.

本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典(第2版),東京化学同人出版」、「食品工業」第31巻(1988)21頁等を参照することができる。   The thickening polysaccharide that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include generally known natural simple polysaccharides, natural complex polysaccharides, synthetic simple polysaccharides, and synthetic complex polysaccharides. The details of these polysaccharides can be referred to “Biochemical Encyclopedia (2nd edition), Tokyo Chemical Doujinshi”, “Food Industry”, Vol. 31 (1988), p.

本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり、低温時の粘度と高温時との粘度差を助長する特性を備えている。さらに、本発明に係る増粘多糖類を、金属酸化物微粒子を含む塗布液に添加することにより、粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加により15℃における粘度が1.0mPa・s以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは5.0mPa・s以上であり、更に好ましくは10.0mPa・s以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。   The thickening polysaccharide referred to in the present invention is a saccharide polymer and has a characteristic that promotes a viscosity difference between a low temperature and a high temperature. Furthermore, the viscosity increase is caused by adding the thickening polysaccharide according to the present invention to the coating solution containing the metal oxide fine particles, and the viscosity increase range is such that the viscosity at 15 ° C. is 1.0 mPas. -A polysaccharide that causes an increase of s or more, preferably 5.0 mPa · s or more, more preferably a polysaccharide having a viscosity increasing ability of 10.0 mPa · s or more.

本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、β1−4グルカン(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等)、ガラクタン(例えば、アガロース、アガロペクチン等)、ガラクトマンノグリカン(例えば、ローカストビーンガム、グアラン等)、キシログルカン(例えば、タマリンドガム等)、グルコマンノグリカン(例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等)、ガラクトグルコマンノグリカン(例えば、針葉樹材由来グリカン)、アラビノガラクトグリカン(例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等)、グルコラムノグリカン(例えば、ジェランガム等)、グリコサミノグリカン(例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等)、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられ、塗布液中に共存する金属酸化微粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な多糖類としては、例えば、L−アラビトース、D−リボース、2−デオキシリボース、D−キシロースなどのペントース、D−グルコース、D−フルクトース、D−マンノース、D−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、特には、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムが好ましい。   Examples of the thickening polysaccharide applicable to the present invention include β1-4 glucan (eg, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, etc.), galactan (eg, agarose, agaropectin, etc.), galactomannoglycan (eg, locust bean gum). , Guaran, etc.), xyloglucan (eg, tamarind gum, etc.), glucomannoglycan (eg, salmon mannan, wood-derived glucomannan, xanthan gum, etc.), galactoglucomannoglycan (eg, softwood-derived glycan), arabino Galactoglycan (for example, soybean-derived glycan, microorganism-derived glycan, etc.), Glucarnoglycan (for example, gellan gum), glycosaminoglycan (for example, hyaluronic acid, keratan sulfate, etc.), alginic acid and alginate, agar, κ -Natural polymer polysaccharides derived from red algae such as carrageenan, λ-carrageenan, ι-carrageenan, fur celerane and the like, preferably from the viewpoint of not reducing the dispersion stability of the metal oxide fine particles coexisting in the coating solution The structural unit preferably has no carboxylic acid group or sulfonic acid group. Such polysaccharides include, for example, pentoses such as L-arabitose, D-ribose, 2-deoxyribose and D-xylose, and hexoses such as D-glucose, D-fructose, D-mannose and D-galactose only. It is preferable that it is a polysaccharide. Specifically, tamarind seed gum known as xyloglucan whose main chain is glucose and side chain is glucose, guar gum known as galactomannan whose main chain is mannose and side chain is glucose, cationized guar gum, Hydroxypropyl guar gum, locust bean gum, tara gum, and arabinogalactan whose main chain is galactose and whose side chain is arabinose can be preferably used. In the present invention, tamarind, guar gum, cationized guar gum, and hydroxypropyl guar gum are particularly preferable.

本発明においては、更には、二種類以上の増粘多糖類を併用することが好ましい。   In the present invention, it is further preferable to use two or more thickening polysaccharides in combination.

増粘多糖類の含有量としては、5質量%以上、50質量%以下が好ましく、10質量%以上、40質量%以下がより好ましい。但し、その他の水溶性高分子やエマルジョン樹脂等と併用する場合には、3質量%以上含有すればよい。含有量が50質量%以下であれば、相対的な金属酸化物の含有量が適切となり、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差を大きくすることが容易になる。   As content of thickening polysaccharide, 5 mass% or more and 50 mass% or less are preferable, and 10 mass% or more and 40 mass% or less are more preferable. However, when used in combination with other water-soluble polymers or emulsion resins, it may be contained in an amount of 3% by mass or more. When the content is 50% by mass or less, the relative content of the metal oxide becomes appropriate, and it becomes easy to increase the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer.

〈ゼラチン〉
本発明に係る熱線反射ユニットを構成する屈折率が相互に異なる二層以上の層においては、ゼラチンを含有することもできる。
<gelatin>
The two or more layers having different refractive indexes constituting the heat ray reflective unit according to the present invention can contain gelatin.

本発明に係るゼラチンとしては、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチン及びゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を持ち、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関しては良く知られており、例えばT.H.James:The Theory of Photographic Process 4th. ed. 1977(Macmillan)55項、科学写真便覧(上)72〜75項(丸善)、写真工学の基礎−銀塩写真編119〜124(コロナ社)等の記載を参考にすることができる。   Examples of gelatin according to the present invention include acid-treated gelatin and alkali-treated gelatin, as well as enzyme-treated gelatin and gelatin derivatives that undergo enzyme treatment in the gelatin production process, that is, amino groups, imino groups, hydroxyl groups as functional groups in the molecule. It may be modified by treatment with a reagent having a group and a carboxyl group and a group obtained by reacting with it. The general method for producing gelatin is well known and is described, for example, in T.W. H. James: The Theory of Photographic Process 4th. ed. Reference can be made to descriptions such as 1977 (Machillan) 55, Science Photo Handbook (above) 72-75 (Maruzen), Fundamentals of Photographic Engineering-Silver Salt Photographs 119-124 (Corona).

(硬化剤)
本発明においては、バインダーである水溶性高分子を硬化させるため、硬化剤を使用することが好ましい。
(Curing agent)
In the present invention, it is preferable to use a curing agent in order to cure the water-soluble polymer as a binder.

本発明に適用可能なる硬化剤としては、水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、水溶性高分子がポリビニルアルコールである場合には、ホウ酸及びその塩が好ましい。その他にも公知のものが使用でき、一般的には水溶性高分子と反応し得る基を有する化合物あるいは水溶性高分子が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、水溶性高分子の種類に応じて適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤(ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ジグリシジルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−4−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等)、アルデヒド系硬化剤(ホルムアルデヒド、グリオキザール等)、活性ハロゲン系硬化剤(2,4−ジクロロ−4−ヒドロキシ−1,3,5−s−トリアジン等)、活性ビニル系化合物(1,3,5−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等)、アルミニウム明礬等が挙げられる。   The curing agent applicable to the present invention is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with a water-soluble polymer. However, when the water-soluble polymer is polyvinyl alcohol, boric acid and its salt are preferable. . In addition, known compounds can be used and are generally compounds having groups capable of reacting with water-soluble polymers or compounds that promote the reaction between different groups of water-soluble polymers. It is appropriately selected depending on the kind of molecule. Specific examples of the curing agent include, for example, epoxy curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane, N, N-diglycidyl- 4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde-based curing agents (formaldehyde, glioxal, etc.), active halogen-based curing agents (2,4-dichloro-4-hydroxy-1,3,5) -S-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-trisacryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.

ホウ酸又はその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸及びその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸及び八ホウ酸及びそれらの塩が挙げられる。   Boric acid or a salt thereof refers to an oxygen acid having a boron atom as a central atom and a salt thereof. Specifically, orthoboric acid, diboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, pentaboric acid and octaboron Examples include acids and their salts.

硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸及びその塩は、単独の水溶液でも、また、二種以上を混合して使用しても良い。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂の混合水溶液である。   Boric acid having a boron atom and a salt thereof as a curing agent may be used as a single aqueous solution or as a mixture of two or more. Particularly preferred is a mixed aqueous solution of boric acid and borax.

ホウ酸とホウ砂の水溶液は、それぞれ比較的希薄水溶液でしか添加することが出来ないが両者を混合することで濃厚な水溶液にすることが出来、塗布液を濃縮化することができる。また、添加する水溶液のpHを比較的自由にコントロールすることができる利点がある。   The aqueous solutions of boric acid and borax can be added only in relatively dilute aqueous solutions, respectively, but by mixing both, a concentrated aqueous solution can be obtained and the coating solution can be concentrated. Further, there is an advantage that the pH of the aqueous solution to be added can be controlled relatively freely.

上記硬化剤の総使用量は、上記水溶性高分子1g当たり1〜600mgが好ましい。   The total amount of the curing agent used is preferably 1 to 600 mg per 1 g of the water-soluble polymer.

〔界面活性剤〕
本発明に係る熱線反射ユニットを構成する屈折率が相互に異なる二層以上の層のうちの少なくとも一層に、界面活性剤を添加しても良い。活性剤種としてはアニオン系、カチオン系、ノニオン系のいずれの種類を使用することができる。特にアセチレングリコール系ノニオン性界面活性剤、4級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤及びフッ素系カチオン性界面活性剤が好ましい。
[Surfactant]
A surfactant may be added to at least one of the two or more layers having different refractive indexes constituting the heat ray reflective unit according to the present invention. As the activator species, any of anionic, cationic and nonionic types can be used. In particular, acetylene glycol-based nonionic surfactants, quaternary ammonium salt-based cationic surfactants and fluorine-based cationic surfactants are preferred.

また本発明に係る界面活性剤の添加量としては、それぞれの塗布液を100質量%としたとき、固形分として0.005〜0.30質量%の範囲であることが好ましく、更には0.01〜0.10質量%であることが好ましい。   Further, the addition amount of the surfactant according to the present invention is preferably in the range of 0.005 to 0.30% by mass as the solid content when each coating solution is 100% by mass, and more preferably 0.000. It is preferable that it is 01-0.10 mass%.

〔その他の添加剤〕
次いで、本発明に係る熱線反射ユニットを構成する屈折率が相互に異なる各層に適用可能なその他の添加剤について説明する。
[Other additives]
Subsequently, the other additive applicable to each layer from which the refractive index which comprises the heat ray reflective unit which concerns on this invention differs is demonstrated.

(アミノ酸)
本発明においては、更に、アミノ酸を添加することができる。
(amino acid)
In the present invention, an amino acid can be further added.

本発明でいうアミノ酸とは、同一分子内にアミノ基とカルボキシル基を有する化合物であり、α−、β−、γ−などいずれのタイプのアミノ酸でもよいが、等電点が6.5以下のアミノ酸であることが好ましい。アミノ酸には光学異性体が存在するものもあるが、本発明においては光学異性体による効果の差はなく、等電点が6.5以下のいずれの異性体も単独であるいはラセミ体で使用することができる。   The amino acid referred to in the present invention is a compound having an amino group and a carboxyl group in the same molecule, and may be any type of amino acid such as α-, β-, and γ-, but has an isoelectric point of 6.5 or less. It is preferably an amino acid. Some amino acids have optical isomers, but in the present invention, there is no difference in effect due to optical isomers, and any isomer having an isoelectric point of 6.5 or less is used alone or in racemic form. be able to.

本発明に適用可能なアミノ酸に関する詳しい解説は、化学大辞典1 縮刷版(共立出版;昭和35年発行)268頁〜270頁の記載を参照することができる。   For a detailed explanation of amino acids applicable to the present invention, reference can be made to the descriptions of pages 268 to 270 of the Chemical Dictionary 1 (reprinted edition, published in 1960).

本発明において、好ましいアミノ酸として、グリシン、アラニン、バリン、α−アミノ酪酸、γ−アミノ酪酸、β−アラニン、セリン、ε−アミノ−n−カプロン酸、ロイシン、ノルロイシン、フェニルアラニン、トレオニン、アスパラギン、アスパラギン酸、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン等を挙げることができ、水溶液として使用するためには、等電点における溶解度が、水100に対し、3g以上が好ましく、たとえば、グリシン、アラニン、セリン、ヒスチジン、リジン、グルタミン、システイン、メチオニン、プロリン、ヒドロキシプロリンなどが好ましく用いられ、金属酸化物粒子が、バインダーと緩やかな水素結合を有する観点から、水酸基を有する、セリン、ヒドロキシプロリンを用いることがさらに好ましい。   In the present invention, preferred amino acids include glycine, alanine, valine, α-aminobutyric acid, γ-aminobutyric acid, β-alanine, serine, ε-amino-n-caproic acid, leucine, norleucine, phenylalanine, threonine, asparagine, asparagine. Acid, histidine, lysine, glutamine, cysteine, methionine, proline, hydroxyproline and the like. For use as an aqueous solution, the solubility at the isoelectric point is preferably 3 g or more with respect to water 100, for example, Glycine, alanine, serine, histidine, lysine, glutamine, cysteine, methionine, proline, hydroxyproline, etc. are preferably used, and from the viewpoint that the metal oxide particles have a gentle hydrogen bond with the binder, serine, hydride having a hydroxyl group. It is more preferable to use a Kishipurorin.

〔リチウム化合物〕
本発明においては、高屈折層及び低屈折率層の少なくとも1層が、金属酸化物粒子及び水溶性高分子と共に、リチウム化合物を含有することができる。
[Lithium compound]
In the present invention, at least one of the high refractive layer and the low refractive index layer can contain a lithium compound together with the metal oxide particles and the water-soluble polymer.

本発明に適用可能なリチウム化合物としては、特に制限はなく、例えば、炭酸リチウム、硫酸リチウム、硝酸リチウム、酢酸リチウム、オロト酸リチウム、クエン酸リチウム、モリブデン酸リチウム、塩化リチウム、水素化リチウム、水酸化リチウム、臭化リチウム、フッ化リチウム、ヨウ化リチウム、ステアリン酸リチウム、リン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化トリエチルホウ酸リチウム、水素化トリエトキシアルミニウムリチウム、タンタル酸リチウム、次亜塩素酸リチウム、酸化リチウム、炭化リチウム、窒化リチウム、ニオブ酸リチウム、硫化リチウム、ホウ酸リチウム、LiBF、LiClO、LiPF、LiCFSO等が挙げられ、その中でも水酸化リチウムが、本願発明の効果を十分に発揮できる観点から好ましい。 The lithium compound applicable to the present invention is not particularly limited. For example, lithium carbonate, lithium sulfate, lithium nitrate, lithium acetate, lithium orotate, lithium citrate, lithium molybdate, lithium chloride, lithium hydride, water Lithium oxide, lithium bromide, lithium fluoride, lithium iodide, lithium stearate, lithium phosphate, lithium hexafluorophosphate, lithium aluminum hydride, lithium hydride triethylborate, lithium triethoxyaluminum hydride, tantalate Lithium, lithium hypochlorite, lithium oxide, lithium carbide, lithium nitride, lithium niobate, lithium sulfide, lithium borate, LiBF 4 , LiClO 4 , LiPF 4 , LiCF 3 SO 3 and the like are mentioned. Lichiu But from the viewpoint of sufficiently exhibiting the effect of the present invention.

本発明において、リチウム化合物の添加量としては、屈折率層に存在する金属酸化物粒子1g当たり、0.005〜0.05gの範囲が好ましく、より好ましくは0.01〜0.03gである。   In the present invention, the addition amount of the lithium compound is preferably in the range of 0.005 to 0.05 g, more preferably 0.01 to 0.03 g, per 1 g of metal oxide particles present in the refractive index layer.

(エマルジョン樹脂)
本発明に係る熱線反射ユニットを構成する屈折率が相互に異なる各層には、エマルジョン樹脂を含有することができる。
(Emulsion resin)
Each layer having different refractive indexes constituting the heat ray reflective unit according to the present invention can contain an emulsion resin.

本発明でいうエマルジョン樹脂とは、油溶性のモノマーを、分散剤を含む水溶液中でエマルジョン状態に保ち、重合開始剤を用いて乳化重合させた樹脂微粒子である。   The emulsion resin referred to in the present invention is resin fine particles obtained by emulsion-polymerizing an oil-soluble monomer in an aqueous solution containing a dispersant and using an initiator.

エマルジョンの重合時に使用される分散剤としては、一般的には、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ジエチルアミン、エチレンジアミン、4級アンモニウム塩のような低分子の分散剤の他に、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエキシエチレンラウリル酸エーテル、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドンのような高分子分散剤が挙げられる。   In general, as a dispersant used in the polymerization of an emulsion, in addition to a low molecular weight dispersant such as an alkyl sulfonate, an alkyl benzene sulfonate, diethylamine, ethylenediamine, and a quaternary ammonium salt, polyoxyethylene is used. Examples thereof include polymer dispersants such as nonylphenyl ether, polyethylene ethylene laurate ether, hydroxyethyl cellulose, and polyvinylpyrrolidone.

本発明に係るエマルジョン樹脂とは、水系媒体中に微細な(平均粒径0.01〜2μm)樹脂粒子がエマルジョン状態で分散されている樹脂で、油溶性のモノマーを、水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合して得られる。用いる分散剤の種類によって、得られるエマルジョン樹脂のポリマー成分に基本的な違いは見られないが、水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合すると、微細な微粒子の少なくとも表面に水酸基の存在が推定され、他の分散剤を用いて重合したエマルジョン樹脂とはエマルジョンの化学的、物理的性質が異なる。   The emulsion resin according to the present invention is a resin in which fine (average particle size 0.01 to 2 μm) resin particles are dispersed in an aqueous medium in an emulsion state. An oil-soluble monomer is dispersed in a polymer having a hydroxyl group. Obtained by emulsion polymerization using an agent. There is no fundamental difference in the polymer component of the resulting emulsion resin depending on the type of dispersant used, but when emulsion polymerization is performed using a polymer dispersant having a hydroxyl group, the presence of hydroxyl groups is present on at least the surface of fine particles. It is presumed that the chemical and physical properties of the emulsion are different from emulsion resins polymerized using other dispersants.

水酸基を含む高分子分散剤とは、重量平均分子量が10000以上の高分子の分散剤で、側鎖又は末端に水酸基が置換されたものであり、例えばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で2−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコールなどが挙げられ、特にポリビニルアルコールが好ましい。   The polymer dispersant containing a hydroxyl group is a polymer dispersant having a weight average molecular weight of 10,000 or more, and has a hydroxyl group substituted at the side chain or terminal. For example, an acrylic polymer such as sodium polyacrylate or polyacrylamide is used. Examples of such a polymer include those obtained by copolymerization of 2-ethylhexyl acrylate, polyethers such as polyethylene glycol and polypropylene glycol, and polyvinyl alcohol. Polyvinyl alcohol is particularly preferable.

高分子分散剤として使用されるポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したポリビニルアルコールやカルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。ポリビニルアルコールは、平均重合度は高い方がインク吸収層を形成する際のクラックの発生を抑制する効果が大きいが、平均重合度が5000以内であると、エマルジョン樹脂の粘度が高くなく、製造時に取り扱いやすい。したがって、平均重合度は300〜5000のものが好ましく、1500〜5000のものがより好ましく、3000〜4500のものが特に好ましい。ポリビニルアルコールのケン化度は70〜100モル%のものが好ましく、80〜99.5モル%のものがより好ましい。   Polyvinyl alcohol used as a polymer dispersant is an anion-modified polyvinyl alcohol having an anionic group such as a cation-modified polyvinyl alcohol or a carboxyl group in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolysis of polyvinyl acetate. Further, modified polyvinyl alcohol such as silyl-modified polyvinyl alcohol having a silyl group is also included. Polyvinyl alcohol has a higher effect of suppressing the occurrence of cracks when forming the ink absorbing layer when the average degree of polymerization is higher, but when the average degree of polymerization is within 5000, the viscosity of the emulsion resin is not high, and at the time of production Easy to handle. Accordingly, the average degree of polymerization is preferably 300 to 5000, more preferably 1500 to 5000, and particularly preferably 3000 to 4500. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 99.5 mol%.

上記の高分子分散剤で乳化重合される樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル系化合物、スチレン系化合物といったエチレン系単量体、ブタジエン、イソプレンといったジエン系化合物の単独重合体又は共重合体が挙げられ、例えばアクリル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin that is emulsion-polymerized with the above polymer dispersant include homopolymers or copolymers of ethylene monomers such as acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl compounds, and styrene compounds, and diene compounds such as butadiene and isoprene. Examples of the polymer include acrylic resins, styrene-butadiene resins, and ethylene-vinyl acetate resins.

(屈折率層のその他の添加剤)
本発明に係る熱線反射ユニットを構成する屈折率が相互に異なる各層に適用可能な各種の添加剤を以下に列挙する。例えば、特開昭57−74193号公報、同57−87988号公報及び同62−261476号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号公報、同57−87989号公報、同60−72785号公報、同61−146591号公報、特開平1−95091号公報及び同3−13376号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオン又はノニオンの各種界面活性剤、特開昭59−42993号公報、同59−52689号公報、同62−280069号公報、同61−242871号公報及び特開平4−219266号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。
(Other additives for refractive index layer)
Various additives applicable to each layer having different refractive indexes constituting the heat ray reflective unit according to the present invention are listed below. For example, the ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988 and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60- No. 72785, 61-146591, JP-A-1-95091, JP-A-3-13376, etc., various surfactants of anion, cation or nonion, JP-A-59 No. 42993, 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A 4-219266, etc., whitening agent, sulfuric acid, phosphoric acid, acetic acid , PH adjusters such as citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol, preservatives, Antistatic agents, can also contain various known additives such as a matting agent.

〔熱線遮断フィルムの製造方法〕
本発明の熱線遮断フィルムの製造方法としては、種々の方法を採用し得る。本発明においては、特に、当該熱線遮断フィルムを構成する層を、水系塗布液を用いて形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。すなわち、本発明の熱線遮断フィルムは、基材上に高屈折率層と低屈折率層から構成されユニットを積層して構成されるが、具体的には水系の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液とを交互に湿式塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。
[Method for producing heat ray blocking film]
Various methods can be adopted as a method for producing the heat ray shielding film of the present invention. In this invention, it is preferable that it is a manufacturing method of the aspect which has the process of forming the layer which comprises the said heat ray blocking film especially using an aqueous coating liquid. That is, the heat ray blocking film of the present invention is composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer on a base material and is formed by laminating units. It is preferable to form a laminate by wet coating and drying alternately with the refractive index layer coating solution.

塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第2,761,419号、同第2,761,791号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。   Examples of the coating method include a roll coating method, a rod bar coating method, an air knife coating method, a spray coating method, a curtain coating method, or US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791. A slide bead coating method using an hopper, an extrusion coating method, or the like is preferably used.

同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液の粘度としては、スライドビード塗布方式を用いる場合には、5〜100mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは10〜50mPa・sの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、5〜1200mPa・sの範囲が好ましく、さらに好ましくは25〜500mPa・sの範囲である。   When the slide bead coating method is used, the viscosity of the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution in simultaneous multilayer coating is preferably in the range of 5 to 100 mPa · s, more preferably 10 to 10 mPa · s. The range is 50 mPa · s. Moreover, when using a curtain application | coating system, the range of 5-1200 mPa * s is preferable, More preferably, it is the range of 25-500 mPa * s.

また、塗布液の15℃における粘度としては、100mPa・s以上が好ましく、100〜30,000mPa・sがより好ましく、さらに好ましくは3,000〜30,000mPa・sであり、最も好ましいのは10,000〜30,000mPa・sである。   Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, further preferably 3,000 to 30,000 mPa · s, and most preferably 10 , 30,000 to 30,000 mPa · s.

塗布及び乾燥方法としては、水系の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液を30℃以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を1〜15℃に一旦冷却し、10℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度5〜50℃、膜面温度10〜50℃の範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。   As a coating and drying method, the water-based high-refractive index layer coating solution and the low-refractive index layer coating solution are heated to 30 ° C. or more and applied, and then the temperature of the formed coating film is set to 1 to 15 ° C. It is preferably cooled once and dried at 10 ° C. or higher, and more preferably, the drying conditions are a wet bulb temperature of 5 to 50 ° C. and a film surface temperature of 10 to 50 ° C. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the formed coating-film uniformity.

一方、熱線吸収層の形成方法は特に制限はないが、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法等のウエットコーティング法、あるいは、蒸着法等のドライコーティング法により形成することが好ましい。   On the other hand, the method for forming the heat ray absorbing layer is not particularly limited, but it is preferably formed by a wet coating method such as a spin coating method, a spray method, a blade coating method, a dip method, or a dry coating method such as a vapor deposition method.

紫外線照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプなどから発せられる100〜400nm、好ましくは200〜400nmの波長領域の紫外線を照射する、又は走査型やカーテン型の電子線加速器から発せられる100nm以下の波長領域の電子線を照射することにより行うことができる。   As a method of irradiating ultraviolet rays, ultraviolet rays in a wavelength region of 100 to 400 nm, preferably 200 to 400 nm, emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, or the like, or a scanning type or a curtain type are used. It can be performed by irradiating an electron beam having a wavelength region of 100 nm or less emitted from the electron beam accelerator.

UVカット性層の形成では、上述の樹脂に、必要に応じて、酸化防止剤、可塑剤、マット剤、熱可塑性樹脂等の添加剤を加えることができる。また樹脂を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を用いて平滑層を形成する際に使用する溶媒としては、公知のものを使用することができる。   In the formation of the UV-cutting layer, additives such as an antioxidant, a plasticizer, a matting agent, and a thermoplastic resin can be added to the above-described resin as necessary. Moreover, as a solvent used when forming a smooth layer using the coating liquid which melt | dissolved or disperse | distributed resin in the solvent, a well-known thing can be used.

〔熱線遮断フィルムの応用〕
本発明の熱線遮断フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。
[Application of heat ray blocking film]
The heat ray shielding film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, pasting to facilities exposed to sunlight for a long time such as outdoor windows of buildings and automobile windows, film for window pasting such as heat ray reflecting film to give heat ray reflecting effect, film for agricultural greenhouse, etc. Used mainly for the purpose of improving weather resistance.

特に、本発明に係る熱線遮断フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されている部材には好適である。   In particular, it is suitable for a member in which the heat ray shielding film according to the present invention is bonded to glass or a glass substitute resin base material directly or via an adhesive.

接着剤は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、熱線遮断フィルムが日光(熱線)入射面側にあるように設置する。また熱線遮断フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の熱線遮断フィルムを屋外や車の外側(外貼り用)に設置しても環境耐久性があって好ましい。   The adhesive is placed so that the heat ray blocking film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Further, when the heat ray blocking film is sandwiched between the window glass and the base material, it can be sealed from ambient gas such as moisture, which is preferable for durability. Even if the heat ray blocking film of the present invention is installed outdoors or on the outside of a vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability.

本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。   As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used.

接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤又はシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系及びエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。   The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Furthermore, an acrylic adhesive is preferable from the viewpoint of adhesive properties and cost. In particular, since the peel strength can be easily controlled, a solvent system is preferable among the solvent system and the emulsion system in the acrylic adhesive. When a solution polymerization polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, known monomers can be used as the monomer.

また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール(積水化学工業社製、三菱モンサント社製等)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン)、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体(東ソー社製、メルセンG)等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。   Moreover, you may use the polyvinyl butyral resin used as an intermediate | middle layer of a laminated glass, or ethylene-vinyl acetate copolymer type resin. Specifically, plastic polyvinyl butyral (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Mitsubishi Monsanto Co., Ltd.), ethylene-vinyl acetate copolymer (manufactured by DuPont, Takeda Pharmaceutical Co., Ltd., duramin), modified ethylene-vinyl acetate copolymer (Mersen G, manufactured by Tosoh Corporation). In addition, you may add and mix | blend an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a heat stabilizer, a lubricant, a filler, coloring, an adhesion adjusting agent etc. suitably in a contact bonding layer.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。
実施例1
《熱線遮断フィルムの作製》
(高屈折率層用塗布液1の調製)
純水の10.3部に、増粘多糖類として1.0%の酸処理ゼラチン(等電点:9.5、平均分子量:2万)を140.3部、14.8%のピコリン酸水溶液を17.3部と、ホウ酸の5.5%水溶液の2.58部とを、それぞれ添加、混合した。その後、下記酸化チタン分散液1の38.2部を添加、混合して、さらに、フッ素系カチオン性界面活性剤として、サーフロンS221(AGCセイミケミカル社製)を0.067部添加した。最後に純水で223部に仕上げて、高屈折率層用塗布液1を調製した。なお、高屈折率層用塗布液1における界面活性剤であるサーフロンS221の含有量は、0.03%である。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.
Example 1
<Production of heat ray blocking film>
(Preparation of coating solution 1 for high refractive index layer)
To 10.3 parts of pure water, 1.03% acid-treated gelatin (isoelectric point: 9.5, average molecular weight: 20,000) as a thickening polysaccharide, 140.3 parts, 14.8% picolinic acid 17.3 parts of an aqueous solution and 2.58 parts of a 5.5% aqueous solution of boric acid were added and mixed respectively. Thereafter, 38.2 parts of the following titanium oxide dispersion 1 was added and mixed, and 0.067 parts of Surflon S221 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) was further added as a fluorine-based cationic surfactant. Finally, it was finished to 223 parts with pure water to prepare a coating solution 1 for a high refractive index layer. In addition, content of Surflon S221 which is surfactant in the coating liquid 1 for high refractive index layers is 0.03%.

〈酸化チタン分散液1の調製〉
体積平均粒径が35nmのルチル型酸化チタン微粒子を含む20.0%酸化チタンゾルの28.9部と、14.8%のピコリン酸水溶液を5.41部と、水酸化リチウムの2.1%水溶液の3.92部とを、混合、分散して酸化チタン分散液を調製した。
<Preparation of titanium oxide dispersion 1>
28.9 parts of a 20.0% titanium oxide sol containing rutile-type titanium oxide fine particles having a volume average particle diameter of 35 nm, 5.41 parts of a 14.8% picolinic acid aqueous solution, and 2.1% of lithium hydroxide A titanium oxide dispersion was prepared by mixing and dispersing 3.92 parts of the aqueous solution.

(低屈折率層用塗布液1の調製)
ポリ塩化アルミニウム(多木化学製、タキバイン#1500)の23.5%水溶液を9.18部と、コロイダルシリカ(日産化学社製、スノーテックスOS)の10%水溶液を510部と、ホウ酸の5.5%水溶液の103.4部と、水酸化リチウムの2.1%水溶液の4.75部とを、混合、分散し、純水で1000部に仕上げて、酸化ケイ素分散液1を調製した。
(Preparation of coating solution 1 for low refractive index layer)
9.18 parts of a 23.5% aqueous solution of polyaluminum chloride (manufactured by Taki Chemical Co., Ltd., Takibaine # 1500), 510 parts of a 10% aqueous solution of colloidal silica (Nissan Chemical Co., Snowtex OS), and boric acid 103.4 parts of a 5.5% aqueous solution and 4.75 parts of a 2.1% aqueous solution of lithium hydroxide are mixed and dispersed, and finished to 1000 parts with pure water to prepare silicon oxide dispersion 1. did.

次いで、17.6部の純水に、1.0%のタマリンドシードガム水溶液の26.2部と、ポリビニルアルコール(PVA217、クラレ社製)の5.0%溶液の3.43部と、2.1%のピコリン酸水溶液を0.06部とを添加、混合した後、上記酸化ケイ素分散液1の96.5部を添加、混合した。さらに、フッ素系カチオン性界面活性剤として、サーフロンS221(AGCセイミケミカル社製)を0.045部添加した。最後に純水で150部に仕上げて、低屈折率層用塗布液1を調製した。なお、低屈折率層用塗布液1における界面活性剤であるサーフロンS221の含有量は、0.03%である。   Next, in 17.6 parts of pure water, 26.2 parts of a 1.0% tamarind seed gum aqueous solution, 3.43 parts of a 5.0% solution of polyvinyl alcohol (PVA217, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 2 0.06 part of a 1% picolinic acid aqueous solution was added and mixed, and then 96.5 parts of the silicon oxide dispersion 1 was added and mixed. Further, 0.045 part of Surflon S221 (manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd.) was added as a fluorine-based cationic surfactant. Finally, it was finished to 150 parts with pure water to prepare a coating solution 1 for a low refractive index layer. In addition, content of Surflon S221 which is surfactant in the coating liquid 1 for low refractive index layers is 0.03%.

(最表層用塗布液の調製)
前記低屈折率層用塗布液1の調製において、アセチレングリコール系ノニオン性界面活性剤であるオルフィンE1004(日信化学社製)の塗布液全質量に対する添加量(0.03%)を、0.06%に変更した以外は同様にして、最表層用塗布液を調製した。
(Preparation of outermost coating solution)
In the preparation of the coating solution 1 for the low refractive index layer, the addition amount (0.03%) of Olfin E1004 (manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.), which is an acetylene glycol nonionic surfactant, is 0. A coating solution for the outermost layer was prepared in the same manner except that the content was changed to 06%.

(熱線反射積層体の形成方法)
15層同時塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、層構成として上記調製した低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1をそれぞれ交互に7層ずつ計14層積層し、その上に上記最表層用塗布液を積層した計15層を45℃に保温しながら、45℃に加温した厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層)上に、同時重層塗布を行った後、膜面が15℃以下となる条件で冷風を1分間吹き付けてセットさせた後、80℃の温風を吹き付けて乾燥させて、15層からなる熱線反射積層体フィルム1を作製した。
(Method for forming heat ray reflective laminate)
Using a slide hopper coating apparatus capable of simultaneous coating of 15 layers, a total of 14 layers of the above-prepared coating solution 1 for the low refractive index layer and coating solution 1 for the high refractive index layer were alternately laminated, On the polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy-adhesion layer) having a thickness of 50 μm heated to 45 ° C. while keeping a total of 15 layers on which the above coating solution for the outermost layer was laminated at 45 ° C. After applying, after setting the film surface by blowing cold air for 1 minute under the condition that the film surface is 15 ° C. or lower, the hot air of 80 ° C. is blown and dried to form the heat ray reflective laminate film 1 consisting of 15 layers. Produced.

(熱線吸収層用塗布液1の調製)
日本合成化学株式会社製 UV−7600B(UV硬化型ハードコート材)100部に、光重合開始剤イルガキュア184(BASFジャパン製)5部、ITO粉末(住友金属鉱山製 超微粒子ITO)100部を添加して、溶剤としてメチルエチルケトンで希釈して、固形分30%の熱線吸収層塗布液1を作製した。
(Preparation of coating solution 1 for heat ray absorbing layer)
Add 100 parts of photopolymerization initiator Irgacure 184 (BASF Japan) and 100 parts of ITO powder (super fine particle ITO manufactured by Sumitomo Metal Mining) to 100 parts of UV-7600B (UV curable hard coat material) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. And it diluted with methyl ethyl ketone as a solvent, and produced the heat ray absorption layer coating liquid 1 with a solid content of 30%.

(熱線吸収層の形成方法及び熱線遮断フィルム1作製)
熱線吸収層用塗布液1を、熱線反射積層体フィルム1に塗布した。乾燥後の(平均)膜厚が4μmになるように上記支持体にワイヤーバーで塗布した後、空気雰囲気下で、アイグラフィックス社製のUV硬化装置(高圧水銀ランプ使用)にて、硬化条件;400mJ/cmで硬化を行い、その後乾燥条件;80℃、3分で乾燥して熱線吸収層付きの熱線遮断フィルム1を作製した。
(Method for forming heat ray absorbing layer and heat ray blocking film 1 production)
The heat ray absorbing layer coating solution 1 was applied to the heat ray reflective laminate film 1. After coating with a wire bar on the support so that the (average) film thickness after drying is 4 μm, the curing conditions are set in an air atmosphere using a UV curing device (using a high-pressure mercury lamp) manufactured by Eye Graphics. Curing at 400 mJ / cm 2 , followed by drying conditions; drying at 80 ° C. for 3 minutes to produce a heat ray blocking film 1 with a heat ray absorbing layer.

(熱線遮断フィルム2の作製)
熱線吸収層用塗布液1にPMMA(1)(MP5500(粒径0.4μm))を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム2を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 2)
An amount corresponding to 10% of the total solid content of PMMA (1) (MP5500 (particle size 0.4 μm)) was added to the coating solution 1 for heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 2 was produced in the same manner as the heat ray shielding film 1. .

(熱線遮断フィルム3の作製)
低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1をそれぞれ1層ずつ、その上に上記最表層用塗布液を積層した計3層を熱線反射積層体フィルム1同様にして、熱線反射積層体フィルム3を作製した。さらに熱線吸収層用塗布液1にシリカ(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム3を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 3)
One layer each of the coating solution 1 for the low refractive index layer and the coating solution 1 for the high refractive index layer, and the above-mentioned coating solution for the outermost layer were laminated on each of the three layers in the same manner as the heat ray reflective laminate film 1, A reflective laminate film 3 was produced. Furthermore, 10% of the total solid content of silica (Hibeshika FQ particle size 0.5 μm made by Ube Nitto Chemical) is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 3 is produced in the same manner as the heat ray shielding film 1. did.

(熱線遮断フィルム4の作製)
熱線吸収層用塗布液1のITO粉末の代わりにジイモニウム色素(日本カートリット製CIR−RL)を10質量部添加し、更にシリカ(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム4を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 4)
10 parts by mass of diimonium dye (CIR-RL, manufactured by Nippon Carrit Co., Ltd.) is added in place of the ITO powder of the coating solution 1 for heat ray absorbing layer, and further silica (Hibeshika FQ particle size 0.5 μm, manufactured by Ube Nitto Chemical) is added to the total solid content. An amount corresponding to 10% of the above was added, and the heat ray shielding film 4 was produced in the same manner as the heat ray shielding film 1.

(熱線遮断フィルム5の作製)
熱線吸収層用塗布液1のITO粉末の代わりにセシウム含有酸化タングステン(平均粒径44nm、住友金属鉱山YMF−1)を添加し、さらに、シリカ(1)(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル5を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 5)
Cesium-containing tungsten oxide (average particle size 44 nm, Sumitomo Metal Mining YMF-1) is added in place of the ITO powder of the coating solution 1 for heat ray absorbing layer, and further silica (1) (Hi-Plesica FQ made by Ube Nitto Chemical Co., Ltd., particle size 0) 0.5 μm) was added in an amount corresponding to 10% of the total solid content, and the heat ray shielding film 5 was produced in the same manner as the heat ray shielding film 1.

(熱線遮断フィルム6の作製)
熱線吸収層用塗布液1のUV−7600B(UV硬化型ハードコート材)の代わりにアクリル樹脂:三菱レイヨン製LR−360を添加し、UV照射以外は熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム6を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 6)
Acrylic resin: LR-360 made by Mitsubishi Rayon is added instead of UV-7600B (UV curable hard coat material) of coating solution 1 for heat ray absorbing layer, and heat ray shielding film is the same as heat ray shielding film 1 except for UV irradiation. 6 was produced.

(熱線遮断フィルム7の作製)
熱線吸収層用塗布液1にAg:銀ナノ粒子 DOWAエレクトロニクス製(粒径0.02μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム7を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 7)
The heat ray blocking film 7 is produced in the same manner as the heat ray blocking film 1 by adding an amount corresponding to 10% of the total solid content of Ag: silver nanoparticles DOWA electronics (particle size: 0.02 μm) to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer. did.

(熱線遮断フィルム8の作製)
熱線吸収層用塗布液1にTiO:酸化チタン粒子FTR−700 堺化学製(粒径0.2μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム8を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 8)
TiO 2 : Titanium oxide particles FTR-700 Made by Sakai Chemical (particle size 0.2 μm) in an amount corresponding to 10% of the total solid content is added to the heat ray absorbing layer coating solution 1, and the heat ray shielding is performed in the same manner as the heat ray shielding film 1. Film 8 was produced.

(熱線遮断フィルム9の作製)
熱線吸収層用塗布液1にシリカ(2)(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径2.0μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル9を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 9)
Silica (2) (Hibeshika FQ particle size 2.0 μm, manufactured by Ube Nitto Chemical Co., Ltd.) in an amount corresponding to 10% of the total solid content is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 9 is added in the same manner as the heat ray shielding film 1. Was made.

(熱線遮断フィルム10の作製)
熱線吸収層用塗布液1にシリカ(1)(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル10を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 10)
To the heat ray absorbing layer coating solution 1, silica (1) (Hibeshika FQ particle size 0.5 μm, manufactured by Ube Nitto Chemical Co., Ltd.) is added in an amount corresponding to 10% of the total solid content. Was made.

(熱線遮断フィルム11の作製)
熱線吸収層用塗布液1にアルミナ(1)(ビックケミー製NANOBYK−3600アルミナ分散液 粒径0.04μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル11を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 11)
Add the amount corresponding to 10% of the total solid content of alumina (1) (NANOBYK-3600 alumina dispersion particle size 0.04 μm manufactured by Big Chemie) to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and cut the heat ray in the same manner as the heat ray shielding film 1 Fill 11 was produced.

(熱線遮断フィルム12の作製)
熱線吸収層用塗布液1にアルミナ(2)(大明化学製TM−5D 粒径0.2μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル12を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 12)
An amount corresponding to 10% of the total solid content of alumina (2) (manufactured by Daimei Chemical Co., Ltd. TM-5D particle size 0.2 μm) is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 12 is added in the same manner as the heat ray shielding film 1. Was made.

(熱線遮断フィルム13の作製)
熱線吸収層用塗布液1にアルミナ(3)(アドマテックス製AO−802 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル13を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 13)
An amount corresponding to 10% of the total solid content of alumina (3) (Amatex AO-802, particle size 0.5 μm) is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 13 is added in the same manner as the heat ray shielding film 1. Was made.

(熱線遮断フィルム14の作製)
熱線反射積層体を、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡製A4300:両面易接着層)上に、厚さ10nmのZnO−2.0%Ga層(誘電体層:第1層)−厚さ12nmの銀薄膜層(金属薄膜層:第2層)−厚さ10nmのZnO−2.0%Ga層(誘電体層:第3層)−厚さ12nmの銀薄膜層(金属薄膜層:第4層)を6.65×10−3Pa(5×10−5torr)の真空下でのスパッタリング法で積層し、熱線反射積層体フィルム14を作製した。さらに熱線吸収層用塗布液1にシリカ(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム14を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 14)
The heat ray reflective laminate is formed on a polyethylene terephthalate film (Toyobo A4300: double-sided easy adhesion layer) having a thickness of 50 μm and a ZnO-2.0% Ga 2 O 3 layer (dielectric layer: first layer) having a thickness of 10 nm. - silver thin film layer having a thickness of 12nm (metal thin film layer: second layer) - ZnO-2.0% Ga 2 O 3 layer having a thickness of 10 nm (dielectric layer: third layer) - silver thin film layer having a thickness of 12nm (Metal thin film layer: 4th layer) was laminated | stacked by the sputtering method under the vacuum of 6.65 * 10 < -3 > Pa (5 * 10 < -5 > torr), and the heat ray reflective laminated body film 14 was produced. Furthermore, silica (Hibeshika FQ particle size 0.5 μm, manufactured by Ube Nitto Chemical Co., Ltd.) in an amount corresponding to 10% of the total solid content is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 14 is produced in the same manner as the heat ray shielding film 1. did.

(熱線遮断フィルム15の作製)
低屈折率層用塗布液1及び高屈折率層用塗布液1をそれぞれ10層ずつ、その上に上記最表層用塗布液を積層した計21層を熱線反射積層体フィルム1同様にして、熱線反射積層体フィルム15を作製した。さらに熱線吸収層用塗布液1にシリカ(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィルム15を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 15)
10 layers each of the coating solution 1 for the low refractive index layer and the coating solution 1 for the high refractive index layer, and a total of 21 layers on which the coating solution for the outermost layer was laminated, were formed in the same manner as the heat ray reflective laminate film 1. A reflective laminate film 15 was produced. Further, 10% of the total solid content of silica (Hi-Plesica FQ particle size 0.5 μm manufactured by Ube Nitto Chemical) is added to the coating solution 1 for the heat ray absorbing layer, and the heat ray shielding film 15 is produced in the same manner as the heat ray shielding film 1. did.

(熱線遮断フィルム16の作製)
熱線吸収層用塗布液1のITO粉末の代わりにATO粉末(住友金属鉱山製 超微粒子ATO)を添加し、更にシリカ(1)(宇部日東化学製ハイプレシカFQ 粒径0.5μm)を全体固形分の10%にあたる量を添加し、熱線遮断フィルム1と同様にして熱線遮断フィル16を作製した。
(Preparation of heat ray blocking film 16)
Add ATO powder (Ultra Fine Particles ATO manufactured by Sumitomo Metal Mining) instead of ITO powder of coating solution 1 for heat ray absorbing layer, and further add silica (1) (High pressureica FQ particle size 0.5μm manufactured by Ube Nitto Chemical) An amount corresponding to 10% of the above was added, and the heat ray shielding film 16 was produced in the same manner as the heat ray shielding film 1.

以上で作製した熱線遮断フィルムである試料1〜16の主要構成を表1に示す。   Table 1 shows the main components of Samples 1 to 16, which are heat ray blocking films produced as described above.

《熱線遮断フィルムの評価》
上記作製した各熱線遮断フィルムについて、下記の特性値の測定及び性能評価を行った。
<Evaluation of heat ray blocking film>
About each produced said heat ray blocking film, the following characteristic value measurement and performance evaluation were performed.

(熱線反射率の測定)
上記分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、各熱線遮断フィルムの800〜1400nmの領域における反射率を測定し、その平均値を求め、これを熱線反射率とした。
(Measurement of heat ray reflectance)
Using the spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type), the reflectance in the 800 to 1400 nm region of each heat ray blocking film was measured, and the average value was obtained. It was.

(熱線透過率の測定)
上記分光光度計(積分球使用、日立製作所社製、U−4000型)を用い、各熱線遮断フィルムの800〜1400nmの領域における透過率を測定し、その平均値を求め、これを熱線透過率とした。
(Measurement of heat ray transmittance)
Using the spectrophotometer (using an integrating sphere, manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000 type), the transmittance of each heat ray blocking film in the region of 800 to 1400 nm was measured, and the average value was obtained. It was.

〈ヘイズ値の測定〉
ヘイズメーター(日本電色工業社製、NDH2000)により測定し、透明性の目安とした。
<Measurement of haze value>
It measured with the haze meter (Nippon Denshoku Kogyo KK make, NDH2000), and it was set as the standard of transparency.

(熱割れ防止性の評価)
巾200mm、長さ300mm、厚さ1.5mmのガラス板の上に実施例及び比較例で得られた熱線遮断フィルムをアクリル接着剤で貼り付けて、熱割れ防止性評価用試料を得た。そして、厚さ30mmの発泡ポリスチレンで作製した上面、底面が開口した箱(高さ150mm、巾240mm、長さ340mm)を準備し、各箱の開口部に、これらの試料を載置し、箱内部のガラス試料表面(フィルム表面側)の温度を熱電対で測定しつつ、8月の晴天の日に太陽光に暴露した。その後、試料表面の温度を観測し、MAX温度をそれぞれ測定した。同様にしてガラス板のみ時の表面温度も測定し、試料の表面温度との差を熱割れ性の目安とした。温度差が小さいほど熱割れ防止性が優れている。判定は、次の基準に従った。△までは、実害はなく許容できるレベルである。
(Evaluation of heat cracking prevention)
The heat ray blocking films obtained in Examples and Comparative Examples were attached to a glass plate having a width of 200 mm, a length of 300 mm, and a thickness of 1.5 mm with an acrylic adhesive to obtain a sample for evaluating thermal cracking prevention properties. And the box (height 150mm, width 240mm, length 340mm) which the upper surface and bottom face which were produced with the 30-mm-thick foamed polystyrene prepared was prepared, and these samples were mounted in the opening part of each box, While measuring the temperature of the internal glass sample surface (film surface side) with a thermocouple, it was exposed to sunlight on a clear day in August. Thereafter, the temperature of the sample surface was observed, and each MAX temperature was measured. Similarly, the surface temperature of the glass plate alone was also measured, and the difference from the surface temperature of the sample was used as a measure of the thermal cracking property. The smaller the temperature difference, the better the thermal cracking prevention. The determination was according to the following criteria. Until △, there is no actual harm and is an acceptable level.

○:〜0.5℃
△:0.5〜1.0℃
×:1.0℃〜
(耐傷性試験)
膜表面をスチールウール#0000を用いて、200gの荷重下で10回擦った後に、傷のつくレベルを確認した。判定は次の基準に従った。△まで実害性OKレベル。
○: ~ 0.5 ° C
Δ: 0.5 to 1.0 ° C.
X: 1.0 degreeC ~
(Scratch resistance test)
The surface of the film was rubbed 10 times under a load of 200 g using steel wool # 0000, and then the level of scratching was confirmed. The determination was in accordance with the following criteria. OK until the level of △.

○ :全くつかない
○△:1〜2本かすかに傷が見られる
△ :1〜2本、僅かに傷が見られる
△×:3本以上の傷が見られる
× :10本以上の傷がみられる。
◯: Not at all △: Slightly scratched 1 to 2 △: Slightly scratched 1-2 △: Scratch 3 or more ×: Scratch 10 or more Seen.

(表面粗さ測定の方法;AFM測定)
測定試料を1cm角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位でとらえた。
(Surface roughness measurement method; AFM measurement)
Cut the measurement sample into 1 cm square size, set it on a horizontal sample stage on the piezo scanner, approach the cantilever to the sample surface, and when the atomic force is reached, scan in the XY direction, At this time, the unevenness of the sample was captured by the displacement of the piezo in the Z direction.

原子間力顕微鏡で得られた凹凸画像について、凹部及び/又は凸部が連なる方向に対して直角方向に任意に2本の直線を引き、この直線上の部分について、輪郭曲線(断面曲線)をそれぞれ求めた。   With respect to the concavo-convex image obtained by the atomic force microscope, two straight lines are arbitrarily drawn in a direction perpendicular to the direction in which the concave portions and / or convex portions are connected, and a contour curve (cross-sectional curve) is drawn on the portion on the straight line. I asked for each.

次に、これらの直線上についての輪郭曲線(断面曲線)から粗さを求めた。場所を変えて20箇所測定して、その算術平均をRaとした。また、評価長さにおける輪郭曲線(断面曲線)の山高さの最大値と他に深さの最大値との和を最大断面高さとした。   Next, the roughness was obtained from the contour curve (cross-sectional curve) on these straight lines. 20 places were measured at different locations, and the arithmetic average was taken as Ra. Moreover, the sum of the maximum value of the peak height of the contour curve (cross section curve) in the evaluation length and the maximum value of the depth was taken as the maximum cross section height.

なお、本発明において用いた測定条件は下記の通りである。
装置:Nanoscope IIIa AFM(Digital Instruments社製)
カンチレバー:シリコン単結晶
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.5Hz
測定視野:125μm
Zレンジ:断面曲線から得られたRaの7〜15倍
フラッテンフィルター
モード :フラッテンオート
オーダー:3
バネ定数K:11N/m
共振周波数F:127kHz
以上の測定・評価結果等を表1に示す。
The measurement conditions used in the present invention are as follows.
Apparatus: Nanoscope IIIa AFM (manufactured by Digital Instruments)
Cantilever: Silicon single crystal Scanning mode: Tapping mode Scanning speed: 0.5Hz
Measurement field: 125 μm 2
Z range: Ra of 7 to 15 times Ra obtained from the cross section curve Flatten filter mode: Flatten auto order: 3
Spring constant K: 11 N / m
Resonance frequency F: 127 kHz
The above measurement / evaluation results are shown in Table 1.

Figure 0005614270
Figure 0005614270

表1に示す結果から明らかなように、上記測定・評価性能において、本発明の熱線遮断フィルムに係る試料は、比較試料に比べ優れていることが分かる。   As is clear from the results shown in Table 1, it can be seen that the sample according to the heat ray blocking film of the present invention is superior to the comparative sample in the measurement / evaluation performance.

Claims (5)

基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成される熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬化樹脂と錫ドープ酸化インジウム(ITO)又はアンチモンドープ酸化錫(ATO)を含有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラーを含有し、
前記熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が1.3〜12.0nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が70〜680nmの範囲内であることを特徴とする熱線遮断フィルム。
One surface on the substrate has at least two heat ray reflection units composed of two or more layers having different refractive indexes, and an ultraviolet curable resin is disposed on the opposite surface on the substrate. A heat ray blocking film having a heat ray absorbing layer containing tin-doped indium oxide (ITO) or antimony-doped tin oxide (ATO), containing a heat conductive filler in the heat ray absorbing layer ,
As for the surface roughness of the heat ray absorbing layer, the arithmetic average surface roughness (Ra) is in the range of 1.3 to 12.0 nm, and the maximum cross-sectional height (Rt) is in the range of 70 to 680 nm. Heat ray blocking film characterized by
前記熱線吸収層の表面粗さは、算術平均表面粗さ(Ra)が5〜10nmの範囲内であり、かつ最大断面高さ(Rt)が100〜500nmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の熱線遮断フィルム。   The surface roughness of the heat ray absorbing layer is such that the arithmetic average surface roughness (Ra) is in the range of 5 to 10 nm and the maximum cross-sectional height (Rt) is in the range of 100 to 500 nm. The heat ray shielding film according to claim 1. 前記熱伝導性フィラーは、シリカ又はアルミナを含有し、かつ平均粒径が0.15〜1.0μmの範囲内であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の熱線遮断フィルム。   The said heat conductive filler contains a silica or an alumina, and an average particle diameter exists in the range of 0.15-1.0 micrometer, The heat ray blocking film of Claim 1 or Claim 2 characterized by the above-mentioned. 屈折率が相互に異なる二層以上の層のうちの少なくとも一層が、金属酸化物粒子及び水溶性高分子を含有することを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の熱線遮断フィルム。   4. At least one of two or more layers having different refractive indexes contains metal oxide particles and a water-soluble polymer. Heat ray blocking film. 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の熱線遮断フィルムを製造する熱線遮断フィルムの製造方法であって、当該熱線遮断フィルムを構成する層を、水系塗布液を用いて形成する工程を有することを特徴とする熱線遮断フィルムの製造方法。   It is a manufacturing method of the heat ray blocking film which manufactures the heat ray blocking film as described in any one of Claim 1- Claim 4, Comprising: The layer which comprises the said heat ray blocking film is formed using a water-system coating liquid. The manufacturing method of the heat ray blocking film characterized by having a process.
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