JP5613166B2 - フッ素化エーテルの製造方法、フッ素化エーテル、及びその使用 - Google Patents
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Description
極性非プロトン性溶媒中で、
以下の式により表されるフッ素化アルコール
X−Rf 1−CH2OH
(式中、
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含み;
Xは、H、F、又はHOCH2−基を表す);
以下の式により表されるフッ素化スルホネートエステル、
Rf 2CH2OS(=O)2Rf 3
(式中、
Rf 2は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキル基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキル基の誘導体からなる群から選択され、Rf 2が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 2は、最大3個の水素原子を含み;Rf 3は、1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基からなる群から選択される);及び
塩基;を組み合わせる工程と、
以下の式により表される少なくとも1つのフッ素化エーテルを得る工程と、
Y−Rf 1−CH2OCH2Rf 2
(式中、Yは、H、F、又はRf 2CH2OCH2−基を表す)を含む、方法を提供する。
Y−Rf 1−CH2OCH2Rf 2
(式中、
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含み;
Yは、H、F、又はRf 2CH2OCH2−基を表し、式中、
Rf 2は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキル基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキル基の誘導体からなる群から選択され、Rf 2が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 2は、最大3個の水素原子を含み;
YがFであり、かつRf 1及びRf 2が両方ペルフルオロ化基である場合、Rf 1又はRf 2のうち少なくとも1個が少なくとも3個の炭素原子を有し、
Y−Rf 1−がHCF2−基を含む場合、Rf 2は、−CF2H基を含まない)により表されるフッ素化エーテルを提供する。
極性非プロトン性溶媒中で、
以下の式により表されるフッ素化アルコール
Z−Rf 1−CH2OH
(式中、
Zは、H又はFを表し;
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含む);
以下の式により表されるフッ化スルホニル、
Rf 3S(=O)2F
(式中、Rf 3は、1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基からなる群から選択される);及び
塩基;を組み合わせる工程と、
以下の式により表されるフッ素化エーテルを得る工程と、
Z−Rf 1−CH2OCH2−Rf 1−Z
を含む、方法を提供する。
Y−Rf 1−CH2OCH2Rf 2
(式中、
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含み;
Yは、H、F、又はRf 2CH2OCH2−基を表し、式中、
Rf 2は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキル基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキル基の誘導体からなる群から選択され、Rf 2が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 2は、最大3個の水素原子を含む)により表されるフッ素化エーテルを含む組成物で工作物を洗浄する工程を含む方法を提供する。
「アルキル基」は、直鎖、分岐鎖、環状、又はこれらの任意の組み合わせであり得る一価非芳香族ヒドロカルビル基を指し;
「鎖状ヘテロ原子」とは、炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように、炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子、又は酸素原子を指し;
「F」は、フッ素原子を表し;
「フッ素化アルキル」は、アルキル基の少なくとも1個のH原子がフッ素により置換されていることを意味し;
「H」は、水素原子を表し;
「ノナフレート」は、ペルフルオロ−n−ブタンスルホネートを指し;
「ペルフルオロ化」は、炭素に結合している全てのH原子がF原子により置換されていることを意味し;
「トリフラート」は、トリフルオロメタンスルホネートを指し;
「極性非プロトン性溶媒」は、実質的に−OH及び−NH−基を含まない溶媒(即ち、偶発的な量を超える−OH及び−NH−基を含まない)を指し;
「X」、「Y」、及び「Z」は、可変化学基を表す。
X−Rf 1−CH2OH
(式中、
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が鎖状ヘテロ原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含む)。
−CF2CF2OCF2CF2−、−CF2CF2CF2OCF2CF2−、−CF2OCF2CF2−;−CF2CF2CF2OCF(CF3)−;
−CF2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF(CF3)−;−CF2OC3F6OCF(CF3)−;
−CF2CF2CF2CF2OCF(CF3)−、−CH2OC3F6−、−CF2OC3F6−、−CF2CF2CF2OCFHCF2−、
−CF2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCFHCF2−、−CF2OC3F6OCFHCF2−、−CF2O(CF2CF2O)xCF2−(式中、xは1以上の整数である)、−CF2CF2N(CF2CF3)CF2CF2−、
−CF2(CF3)NC2F4−、−C3F6(C3F7)NC2F4−、及び−CF2CF2CF2N(CF3)CF2−。
HOCH2CF2O(C2F4O)j(CF2O)kCF2CH2OH(式中、j及びkは、1〜50の範囲の整数を表す)が挙げられる。かかる場合、Xは、HOCH2−を表す。
Z−Rf 1−CH2OCH2−Rf 1−Z
(式中、Rf 1は、既に定義した通りであり、Zは、H又はFを表す(即ち、両方のZ基がHである、又は両方のZ基がFを表す)。
2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブタン−1−オール(202g、1.1mol、Sinochem Corp.,Beijing,Chinaから入手)、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホニルフッ化物(332g、1.1mol、Saint Paul,Minnesotaの3M Companyから入手)、及び水(300g)を、3Lの3つ口丸底フラスコ内で組み合わせた。フラスコには電磁攪拌機、冷水凝縮器、熱電対及び250mLの添加漏斗が備えられていた。水酸化カリウム水溶液(149.3g、45重量%、1.22当量)を、温度が35℃を超えないような速度で、添加漏斗を介して滴加した。塩基の添加が完了し次第、混合物を室温で16時間攪拌した。次いで、沈殿した塩を混合物から濾過し、下相の液体フルオロケミカル生成物相を上相の水相から分離した。未反応の2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブタン−1−オール、及び1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホニルフッ化物を、常圧蒸留で除去した。
2,2,3,3−テトラフルオロプロパン−1−オール(202g、1.52mol、Sinochem Corp.から入手)、1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホニルフッ化物(465g、1.52mol、3M Companyから入手)、及び水(500g)を、3Lの3つ口丸底フラスコ内で組み合わせた。フラスコには電磁攪拌機、冷水凝縮器、熱電対及び添加漏斗が備えられていた。水酸化カリウム水溶液(45重量%、211.5g、1.7mol、Aldrich Chemical Co.,Milwaukee,Wisconsinから入手)を、温度が35℃を超えないような速度で、添加漏斗を介して滴加した。水酸化カリウムの添加が完了し次第、混合物を室温で16時間攪拌した。次いで、沈殿した塩を混合物から濾過し、下相の液体フルオロケミカル生成物相を上相の水相から分離した。未反応の2,2,3,3−テトラフルオロプロパン−1−オール、及び1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホニルフッ化物を、常圧蒸留により液状フルオロケミカル生成物相から分離した。
2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブタン−1−オール(200g、1.0mol、3M Companyから入手)、及び1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホニルフッ化物(300g、1.0mol、3M Companyから入手)を、1Lの3つ口丸底フラスコ内で組み合わせた。フラスコにはオーバーヘッド機械的攪拌機、冷水凝縮器、熱電対及び添加漏斗が備えられていた。水酸化カリウム水溶液(水中で45重量%、154g、1.05mol)を、温度が35℃を超えないような速度で、添加漏斗を介して滴加した。水酸化カリウムの添加が完了し次第、混合物を室温で16時間攪拌した。次いで、沈殿した塩を混合物から濾過し、下相の液体フルオロケミカル生成物相を上相の水相から分離し、水で1回洗浄して、350gの粗生成物を得た。生成物を大気圧で蒸留し、140〜150℃から沸騰する留分を更に精製することなく用いた(GCによる純度96.3%)。
2,2,3,3−テトラフルオロプロパン−1−オール(244.3g、1.85mol、Sinochem Corp.から入手)、トリエチルアミン(187.2g、1.85mol、Aldrich Chemical Co.から入手)、及び500mLのクロロホルムを、2LのParr圧力反応器内で組み合わせ、密閉した。反応器の温度は、−10℃に設定した。トリフルオロメタンスルホニルフッ化物(281.33g、1.85mol、3M Companyから入手)を、温度が−5℃を超えないような速度で添加した。添加が完了し次第、混合物を−10℃で45分間保持した。次いで、反応混合物を空にし、500mLの水で2回、250mLの1N HClで1回洗浄した。反応混合物のGC分析は、97%が生成物に変換されたことを示した。回転蒸発により、クロロホルム溶媒を除去した。生成物を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次いで無水硫酸マグネシウムを生成物から濾過した。
4−(2’,2’,3’,4’,4’,4’−ヘキサフルオロブトキシ)−1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロブタンの調製、CF3CFHCF2CH2OCH2CF2CFHCF3
2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブタン−1−オール(61.3g、0.337mol、Sinochem Corp.から入手)、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(156.4g、0.337mol)、炭酸カリウム(46.5g、0.337mol)、トリ−n−ブチルアミン(0.75g、0.004mol)、及び150mLのアセトンを、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。18時間激しく撹拌しながら混合物を75℃に加熱した。次いで、混合物を空にし、固体を生成物から濾過した。液体生成物を100mLの水で2回洗浄した。GC分析(応答係数に対して補正されていない)に基づくアルキル化率は、60%であった。透明な相が得られ、次いでそれを同心円管塔を用いて分留し、4−(2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブトキシ)−1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロブタン(沸点=150℃)が得られた。この蒸留された画分の純度は、GC分析(応答係数に対して補正されていない)に基づいて98%であった。GC/MS分析は、指定の構造と一致していた。
5−(2’,2’,3’,4’,4’,4’−ヘキサフルオロブトキシ)−1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンタンの調製、H(CF2CF2)2CH2OCH2CF2CFHCF3
2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタン−1−オール(78.2g、0.337mol、Sinochem Corp.から入手)、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(156.4g、0.337mol)、炭酸カリウム(46.5g、0.337mol)、トリ−n−ブチルアミン(0.75g、0.004mol)、及び150mLのアセトンを、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。18時間撹拌しながら混合物を75℃に加熱した。塩を生成物から濾過した。生成物を100mLの水で2回洗浄して、余分な塩を除去した。得られたフルオロケミカル生成物相を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥させた。次いで、同心円管塔を用いて分留することにより、5−(2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブトキシ)−1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンタンを得た。主な画分は、176〜178℃で沸騰し、GC/MS分析は指定の構造と一致していた。
5−(2’,2’,3’,3’−テトラフルオロプロポキシ)−1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンタンの調製、H(CF2CF2)2CH2OCH2CF2CF2H
2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタン−1−オール(424g、1.83mol、Sinochem Corp.から入手)、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(760g、1.83mol)、炭酸カリウム(252g、1.83mol)、テトラ−n−ブチルアンモニウム臭化物(20g、0.06mol)、及び400gのアセトンを、2LのParr圧力反応器内で組み合わせた。温度を75℃に設定し、混合物を72時間撹拌した。次いで、混合物を空にし、塩を生成物溶液から濾過した。生成物溶液を200mLの水で2回洗浄して、更に塩を除去した。次いで、下相のフルオロケミカル相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで20プレートOldershaw蒸留塔を用いて分画することにより精製した。主な画分(GCにより測定したときの純度約98%、応答係数に対して補正されていない)は、大気圧で170℃の温度で沸騰した。構造は、GC/MS、19F NMR、及び1H NMRによる分析と一致していた。
1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロ−5−(2’,2’,3’,3’,4’,4’,5’,5’−オクタフルオロペンチルオキシ)ペンタン、HCF2CF2CF2CF2CH2OCH2CF2CF2CF2CF2Hの調製
2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタン−1−オール(22.1g、0.097mol)を、2時間にわたって、水素化ナトリウム(2.5g、純度95%、0.097mol)の無水ジエチレングリコールジメチルエーテル(200g)懸濁液に、50℃で滴加した。この時間の終わりに、溶液は均質であった。次いで、この溶液に、0℃におけるHCF2CF2CF2CF2CH2OHと、CF3CF2CF2CF2SO2Fと、トリエチルアミンとの反応により調製されるHCF2CF2CF2CF2CH2OS(=O)2CH2CF2CF2CF2CF3(50g、0.097mol)を添加した。次いで、反応混合物を95℃で16時間加熱し、105℃で更に6時間加熱した。反応が完了した後、水(100ミリリットル)を添加し、Dean−Starkトラップを用いて混合物を蒸留して、水及び有機溶媒を蒸留容器に戻し、同時にトラップ内に下相のフルオロケミカル相を分離させた。同心円管蒸留塔を通して得られた30.1gの蒸留により予備精製を実施した。留出物(204〜207℃)は、75/21混合物中の2つの主成分から成ることが見出され(応答係数に対して補正されていないガスクロマトグラフィー(GC)により測定したとき)、これらは、HCF2CF2CF2CF2CH2OS(=O)2CF2CF2CF2CF3、及びHCF2CF2CF2CF2CH2OCH2CF2CF2CF2CF2Hであった。
1−(3’−(2”,2”,3”,3”−テトラフルオロプロポキシ)−1’,2’,2’−トリフルオロプロポキシ)−1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロパンCF3CF2CF2OCFHCF2CH2OCH2CF2CF2Hの調製
2,2,3−トリフルオロ−3−(ペルフルオロプロポキシ)プロパノール(71.6g、0.24mol、米国特許出願公開第2007/0051916 A1号(Flynnら)、実施例1に記載の通り調製)、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(119.23g、0.288mol)、炭酸カリウム(39.7g、0.288mol)、トリ−n−ブチルアミン(0.75g、0.004mol)、及び150mLのアセトンを、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。反応器の温度を75℃に設定し、混合物を24時間撹拌した。次いで、混合物を空にし、塩を生成物溶液から濾過した。生成物溶液を100mLの水で2回洗浄して、更に塩を除去した。次いで、下相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濾過し、次いで同心円管塔を用いて分留により精製した。主な画分(GCにより測定したときの純度94%、応答係数に対して補正されていない)は、大気圧で161〜162℃の温度で沸騰した。指定の構造は、GC/MS分析と一致していた。
4−(2’,2’,3’,4’,4’,4’−ヘキサフルオロブトキシ)−1,1,1,2,3,3−ヘキサフルオロブタン、CF3CFHCF2CH2OCH2CF2CFHCF3の調製
2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブタン−1−オール(50g、0.27mol)、2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロブタンスルホニルフッ化物(41.5g、0.14mol、Sinochem International Corp.から入手)、炭酸カリウム(38.2g、0.27mol)、テトラブチルアンモニウム臭化物(1.2g、0.004mol)、及び153gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。16時間激しく撹拌しながら混合物を75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を水に添加し、下相を分離し、この下相のフルオロケミカル相を約5倍過剰の塩化ナトリウム水溶液(約5%)でもう1回洗浄した。応答係数に対して補正されていないGC分析で、16%のGC収率で実施例1(上記)において調製されたサンプルと比較することにより、CF3CFHCF2CH2OCH2CF2CFHCF3の存在が確認された。
3−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)−1,1,2,2−テトラフルオロプロパン、HCF2CF2CH2OCH2CF2CF2Hの調製
2,2,3,3−テトラフルオロプロパン−1−オール(50g、0.38mol)、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(157g、0.38mol)、炭酸カリウム(52.3g、0.38mol、及び197gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。脱気後、反応器を密閉し、混合物を18時間激しく撹拌しながら75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を濾過して、不溶性塩を除去した。アセトンを回転蒸発により除去した。次いで、この残留物に過剰の水を添加し、Dean Starkトラップを用いて生成物を共沸蒸留して、相分離後、52.7gの粗生成物を水洗浄した。回転蒸発中、溶媒を用いて生成物のエーテルの一部を蒸留し、留出物を水に注ぎ、下相のフルオロケミカル相を分離し、水で1回洗浄した(17.8g)。GC分析により、組み合わせられたフルオロケミカル相に基づくこの段階における収率は、52%であった。生成物を大気圧で蒸留し、次いで112〜152℃の留分を、実施例4に記載のように50℃でN,N−ジメチルホルムアミド(150mL)中LiCl(20g)で処理して、残留2,2,3,3−テトラフルオロプロピル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネートを除去した。次いで、同心円管塔を通して生成物を蒸留して、純度98.6%の生成物のエーテル(沸点=134〜135℃)を得た。構造は、GC/MS、IR、19F NMR、1H NMR、及び13C NMRと一致していた。
5−(2,2,2−トリフルオロエトキシ)−1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロペンタン;H(CF2CF2)2CH2OCH2CF3の調製
2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタン−1−オール(50g、0.215mol)、2,2,2−トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネート(50g、0.215mol、Synquest Labs,Inc.,Alachua,Floridaから入手)、炭酸カリウム(29.7g、0.215mol)、及び175gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。脱気後、反応器を密閉し、混合物を16時間激しく撹拌しながら75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を濾過して、不溶性塩を除去した。アセトンを回転蒸発により除去した。次いで、この残留物に過剰の水を添加し、Dean Starkトラップを用いて生成物を共沸蒸留して、相分離後、60.4gの粗生成物を水洗浄した。GC分析によるこの段階における収率は、50%であった。生成物を大気圧で蒸留し、138℃超の留分をポットに入れ、次いで実施例4に記載のように50℃でN,N−ジメチルホルムアミド(250mL)中LiCl(15g)で処理して、残留2,2,2−トリフルオロエチルトリフルオロメタンスルホネートを除去した。次いで、同心円管塔を通して生成物を蒸留して、純度95.9%の生成物のエーテル(沸点=138〜143℃)を得た。構造は、GC/MS及び1H NMR分析と一致していた。
4−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキシ)−1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロブタン;C3F7CH2OCH2C3F7の調製
2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブタン−1−オール(50g、0.25mol、3M Companyから入手)、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(120.5g、0.25mol、上記のように調製)、炭酸カリウム(34.5g、0.25mol)、及び175gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。脱気後、反応器を密閉し、混合物を112時間激しく撹拌しながら75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を濾過して、不溶性塩を除去した。アセトンを回転蒸発により除去した。回転蒸発中、溶媒を用いて生成物のエーテルの一部を蒸留し、留出物を水に注ぎ、下相のフルオロケミカル相を分離し、回転蒸発残留物に添加した。次いで、この残留物に約250mLの水を添加し、Dean Starkトラップを用いて生成物を共沸蒸留して、相分離後、62gの粗生成物を水洗浄した。GC分析によるこの段階における収率は、11%であった。生成物を、実施例4に記載のように50℃でN,N−ジメチルホルムアミド(250mL)中LiCl(15g)で処理して、残留ノナフルオロブタン−1−スルホネートを除去した。次いで、生成物を純度78%に蒸留した。GC/MS及び1H NMRは、指定の構造と一致していた。
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルトリフルオロメタンスルホネートを用いる3−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)−1,1,2,2−テトラフルオロプロパン、HCF2CF2CH2OCH2CF2CF2Hの調製
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルトリフルオロメタンスルホネート(44g、0.166mol)、2,2,3,3−テトラフルオロプロパン−1−オール(22g、0.166mol、から入手)、炭酸カリウム(23g、0.166mol)、テトラブチルアンモニウム臭化物(0.53g 0.00166mol)、及びアセトン(200mL)を、600mLのParr反応器内で組み合わせた。反応器を密閉し、75℃で24時間加熱した。次いで、反応器から反応混合物を取り出して空にし、液体から塩を濾過した。GC分析は、実施例7に記載の通り調製された既知の参照サンプルに基づいて、フルオロアルコールの66%が対称エーテル生成物に変換されたことを示した。
C3F7CH2OCH2C2F4CH2OCH2C3F7の調製
2,2,3,3−テトラフルオロブタン−1,4−ジオール(HOCH2C2F4CH2OH、20g、0.123mol、3M Companyから入手)、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル−1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタン−1−スルホネート(C3F7CH2OSO2C4F9、119g、0.247mol、上記のように調製)、炭酸カリウム(34.1g、0.247mol)、及び245gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。脱気後、反応器を密閉し、混合物を112時間激しく撹拌しながら75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を濾過して、不溶性塩を除去した。アセトンを回転蒸発により除去した。次いで、この残留物に過剰の水を添加し、Dean Starkトラップを用いて生成物を共沸蒸留して、相分離後、57.2gの粗生成物を水洗浄した。GC/MS分析は、より複雑な混合物中の成分(GCによる収率約8.4%)として、予測される生成物C3F7CH2OCH2C2F4CH2OCH2C3F7の存在と一致していた。
(CF3)2NC2F4CH2OCH2C4F8Hの調製
3−[ビス(トリフルオロメチル)アミノ]−2,2,3,3−テトラフルオロ−プロパン−1−オール((CF3)2NC2F4CH2OH、25g、0.088mol、3M Company,Saint Paul,MN)、実施例4に記載のように調製されたHCF2CF2CF2CF2CH2OS(=O)2CF2CF2CF2CF3(45.4g、0.088mol)、炭酸カリウム(12.2g、0.088mol)、及び175gのアセトン(溶媒)を、600mLのParr圧力反応器内で組み合わせた。脱気後、反応器を密閉し、混合物を64時間激しく撹拌しながら75℃に加熱した。冷却後、反応器を開け、内容物を濾過して、不溶性塩を除去した。アセトンを回転蒸発により除去した。次いで、この残留物に過剰の水を添加し、Dean Starkトラップを用いて生成物を共沸蒸留して、相分離後、30.3gの粗生成物を水洗浄した。GC/MS分析は、より複雑な混合物中の成分(GCによる収率約6%)として、予測される生成物(CF3)2NC2F4CH2OCH2C4F8Hの存在と一致していた。混合物を蒸留して、純度約35%のエーテルを得、1H−NMRはその構造と一致していた。
Claims (3)
- フッ素化エーテルの製造方法であって、
極性非プロトン性溶媒中で、
以下の式により表されるフッ素化アルコール、
X−Rf 1−CH2OH
(式中、
Rf 1は、1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含み;
Xは、H、又はHOCH2−基を表す);
以下の式により表されるフッ素化スルホネートエステル、
Rf 2CH2OS(=O)2Rf 3
(式中、
Rf 2は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキル基、及び1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された上記アルキル基の誘導体からなる群から選択され、Rf 2が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 2は、最大3個の水素原子を含み;Rf 3は、1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基からなる群から選択される);及び
塩基;を組み合わせる工程と、
以下の式により表される少なくとも1つのフッ素化エーテルを得る工程と、
Y−Rf 1−CH2OCH2Rf 2
(式中、Yは、H、又はRf 2CH2OCH2−基を表す)を含む、方法。 - 以下の式:
Y−Rf 1−CH2OCH2Rf 2
(式中、
Rf 1は、1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基の誘導体、1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含み;
Yは、H、又はRf 2CH2OCH2−基を表し、式中、
Rf 2は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキル基、及び1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された上記アルキル基の誘導体からなる群から選択され、Rf 2が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 2は、最大3個の水素原子を含み;
Y−Rf 1−がHCF2−基を含む場合、Rf 2は、−CF2H基を含まない)により表されるフッ素化エーテル。 - フッ素化エーテルの製造方法であって、
極性非プロトン性溶媒中で、
以下の式により表されるフッ素化アルコール、
Z−Rf 1−CH2OH
(式中、
Zは、H又はFを表し;
Rf 1は、1〜10個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキレン基、1〜10個の炭素原子を有する部分フッ素化アルキレン基、及び1個以上の炭素原子が炭素−ヘテロ原子−炭素鎖を形成するように炭素鎖で炭素原子に結合している窒素原子又は酸素原子により置換された上記アルキレン基の誘導体からなる群から選択され、Rf 1が少なくとも2個の炭素原子を含む場合、Rf 1は、最大2個の水素原子を含む);
以下の式により表されるフッ化スルホニル、
Rf 3S(=O)2F
(式中、Rf 3は、1〜4個の炭素原子を有するペルフルオロ化アルキル基からなる群から選択される);及び
塩基;を組み合わせる工程と、
以下の式により表されるフッ素化エーテルを得る工程と、
Z−Rf 1−CH2OCH2−Rf 1−Z
を含む、方法。
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WO2012000851A1 (en) * | 2010-07-01 | 2012-01-05 | Solvay Solexis S.P.A. | Process for the treatment of sulfonyl fluoride polymers |
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CN103923609B (zh) * | 2014-04-25 | 2015-10-28 | 中国人民解放军总装备部卫生防疫队 | 一种猝灭剂 |
JP2016060698A (ja) * | 2014-09-16 | 2016-04-25 | 本田技研工業株式会社 | 1,2−ビス(2,2−ジフルオロエトキシ)エタンおよびその製造方法 |
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Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3647889A (en) * | 1970-05-25 | 1972-03-07 | Allied Chem | Polyfluoroisopropoxyalkyl ethers |
US3739033A (en) * | 1971-03-01 | 1973-06-12 | Allied Chem | Novel fluorinated aliphatic triethers |
US3903012A (en) * | 1973-02-14 | 1975-09-02 | Du Pont | Water-displacement compositions containing fluorine compound and surfactant |
US4169807A (en) * | 1978-03-20 | 1979-10-02 | Rca Corporation | Novel solvent drying agent |
US5125089A (en) * | 1988-12-19 | 1992-06-23 | Chrysler Corporation | Asynchronous-to-synchronous parallel word transfer circuit for preventing incoming asyncronous parallel byte data from interfering with outgoing synchronous data |
US5089152A (en) * | 1991-04-19 | 1992-02-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water displacement composition |
US5125978A (en) * | 1991-04-19 | 1992-06-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water displacement composition and a method of use |
US5211873A (en) * | 1991-10-04 | 1993-05-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fine-celled plastic foam containing fluorochemical blowing agent |
US5210106A (en) * | 1991-10-04 | 1993-05-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fine-celled plastic foam containing fluorochemical blowing agent |
US5182342A (en) * | 1992-02-28 | 1993-01-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrofluorocarbon solvents for fluoromonomer polymerization |
US5539008A (en) * | 1993-12-29 | 1996-07-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Foamable composition containing unsaturated perfluorochemical blowing agent |
US5474657A (en) * | 1994-02-10 | 1995-12-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Preparation of F-alkyl F-isobutyl ethers by electrochemical fluorination |
US5658962A (en) * | 1994-05-20 | 1997-08-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Omega-hydrofluoroalkyl ethers, precursor carboxylic acids and derivatives thereof, and their preparation and application |
US5718293A (en) * | 1995-01-20 | 1998-02-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fire extinguishing process and composition |
US5925611A (en) * | 1995-01-20 | 1999-07-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cleaning process and composition |
EP0830436A1 (en) * | 1995-06-07 | 1998-03-25 | E.I. Du Pont De Nemours & Co. (Inc.) | Refrigerants based on hydrofluoroether of fluoroether |
US5839311A (en) * | 1996-09-17 | 1998-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Composition to aid in the forming of metal |
US6309561B1 (en) * | 1997-12-24 | 2001-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Liquid crystal compounds having a chiral fluorinated terminal portion |
US6023002A (en) * | 1998-01-26 | 2000-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Process for preparing hydrofluoroethers |
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