JP5609097B2 - Suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive, and method for manufacturing suspension substrate - Google Patents

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Description

本発明は、例えばハードディスクドライブ(HDD)に用いられるサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate used in, for example, a hard disk drive (HDD).

最近、携帯用途を始めとする各種の小型機器に搭載するHDDへの要求が高まり、これに伴い、情報記録のためのディスクは、小型化および記録の高密度化が求められている。小型化(小径化)したディスク上のトラックに対して、データの読取り・書込みを行うには、ディスク回転を低速化する必要があり、磁気ヘッドに対するディスクの相対速度(周速)が低速となる。このため、サスペンション用基板は、ディスクへの接近を弱い力で行う必要があり、サスペンション用基板の低剛性化を図る必要がある。   Recently, there has been a growing demand for HDDs installed in various small devices such as portable applications, and accordingly, disks for information recording are required to be downsized and high in recording density. In order to read / write data from / to a track on a downsized (smaller diameter) disk, the disk rotation needs to be slowed down, and the relative speed (circumferential speed) of the disk to the magnetic head is slowed down. . For this reason, the suspension substrate needs to approach the disk with a weak force, and it is necessary to reduce the rigidity of the suspension substrate.

低剛性化を図る上で、剛性の高い金属基板の部位を減らす検討がなされている。しかしながら、金属基板の部位を減らすと、サスペンション用基板の反りが生じやすくなる。反りの原因としては、金属基板と絶縁層との熱膨張係数の差や、絶縁層とカバー層との吸湿膨張係数の差が考えられ、材料物性の観点から反りを制御する試みがなされてきた(特許文献1)。   In order to reduce the rigidity, studies are being made to reduce the portion of the highly rigid metal substrate. However, if the metal substrate portion is reduced, the suspension substrate is likely to warp. The cause of warping is considered to be the difference in thermal expansion coefficient between the metal substrate and the insulating layer and the difference in hygroscopic expansion coefficient between the insulating layer and the cover layer, and attempts have been made to control warpage from the viewpoint of material properties. (Patent Document 1).

特開2008−310946号公報JP 2008-310946 A

特許文献1に記載されているように、絶縁層に用いられる材料と、カバー層に用いられる材料との物性を制御することで、サスペンション用基板の反りを抑制することも有効な手段の一つであるが、反りの抑制だけを目的とすると、絶縁層やカバー層に求められる所定の物性を得ることができない可能性がある。一方、絶縁層やカバー層に求められる所定の物性を優先した場合、サスペンション用基板の反りを充分に抑制できない可能性もある。   As described in Patent Document 1, it is also an effective means to suppress warpage of the suspension substrate by controlling the physical properties of the material used for the insulating layer and the material used for the cover layer. However, if it is intended only to suppress warpage, it may not be possible to obtain predetermined physical properties required for the insulating layer and the cover layer. On the other hand, when priority is given to predetermined physical properties required for the insulating layer and the cover layer, there is a possibility that warpage of the suspension substrate cannot be sufficiently suppressed.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、材料物性以外の観点から、反りを抑制したサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a main object of the present invention to provide a suspension substrate in which warpage is suppressed from a viewpoint other than material physical properties.

上記課題を解決するために、本発明においては、ジンバル部と、外部接続基板接続部と、上記ジンバル部および上記外部接続基板接続部を接続する配線部と、上記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有するサスペンション用基板であって、上記配線部において、上記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有することを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above problems, in the present invention, a gimbal part, an external connection board connection part, a wiring part for connecting the gimbal part and the external connection board connection part, and a wiring layer constituting the wiring part are provided. A suspension substrate having at least one cover layer, wherein the cover layer has one or more notches in the wiring portion.

本発明によれば、カバー層が切れ込み部を有することから、反りを抑制したサスペンション用基板とすることができる。本発明においては、切れ込み部により、カバー層の膨張・収縮の変化の一部を吸収することができる。これにより、膨張・収縮による、カバー層全体の変化量の絶対値を下げることができる。その結果、応力を小さくすることができ、サスペンション用基板の反りを抑制することができる。   According to the present invention, since the cover layer has a cut portion, a suspension substrate with reduced warpage can be obtained. In the present invention, the cut portion can absorb a part of the expansion / contraction change of the cover layer. Thereby, the absolute value of the variation | change_quantity of the whole cover layer by expansion and contraction can be lowered | hung. As a result, stress can be reduced and warpage of the suspension substrate can be suppressed.

上記発明において、上記サスペンション用基板は、上記ジンバル部および上記外部接続基板接続部の間に位置する折り曲げ加工部を有し、上記配線部は、上記折り曲げ加工部および上記ジンバル部の間に、上記サスペンション用基板の長手方向に沿って上記配線層が存在する長手方向配線領域を有し、上記長手方向配線領域において、上記カバー層は、上記切れ込み部を有することが好ましい。反りの影響が最も表れやすい長手方向配線領域のカバー層に、切れ込み部を設けることで、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制できるからである。   In the above invention, the suspension substrate has a bending portion positioned between the gimbal portion and the external connection substrate connecting portion, and the wiring portion is located between the bending portion and the gimbal portion. It is preferable to have a longitudinal wiring area where the wiring layer exists along the longitudinal direction of the suspension substrate, and in the longitudinal wiring area, the cover layer has the cut portion. This is because the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed by providing the cut portion in the cover layer in the longitudinal wiring region where the influence of the warp is most likely to appear.

上記発明において、上記切れ込み部は、上記カバー層の幅方向において、上記カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部であることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the above invention, the cut portion is preferably a through cut portion that penetrates from one end portion of the cover layer to the other end portion in the width direction of the cover layer. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed.

上記発明においては、上記貫通切れ込み部の切れ込み方向と、上記カバー層の長さ方向とのなす角度が、30°〜90°の範囲内であることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the said invention, it is preferable that the angle which the notch direction of the said penetration notch part makes and the length direction of the said cover layer is in the range of 30 degrees-90 degrees. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed.

上記発明においては、上記切れ込み部において、上記配線層が露出する露出部を有し、上記露出部に配線めっき層が形成されていることが好ましい。深い切れ込み部を設けることで、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。また、露出した配線層に配線めっき層を設けることにより、配線層の劣化を抑制することができる。   In the above invention, it is preferable that the cut portion has an exposed portion where the wiring layer is exposed, and a wiring plating layer is formed on the exposed portion. This is because the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed by providing the deep cut portion. Further, by providing a wiring plating layer on the exposed wiring layer, deterioration of the wiring layer can be suppressed.

上記発明においては、上記切れ込み部において、上記カバー層よりも厚さの小さい薄肉層が形成されていることが好ましい。配線めっき部を設けることなく、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the said invention, it is preferable that the thin layer whose thickness is smaller than the said cover layer is formed in the said notch part. This is because the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed without providing the wiring plating portion.

上記発明において、上記配線部は、第一配線層および第二配線層を有し、上記サスペンション用基板は、金属基板と、上記金属基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された上記第一配線層および上記第二配線層と、上記第一配線層および上記第二配線層を覆う上記カバー層とを有することが好ましい。   In the above invention, the wiring portion includes a first wiring layer and a second wiring layer, and the suspension substrate includes a metal substrate, a first insulating layer formed on the metal substrate, and the first insulating layer. It is preferable to have the first wiring layer and the second wiring layer formed on the layer, and the cover layer covering the first wiring layer and the second wiring layer.

上記発明において、上記切れ込み部は、上記貫通切れ込み部と、上記第一配線層および上記第二配線層の間に形成された配線間切れ込み部とを有し、上記貫通切れ込み部と、上記配線間切れ込み部とが互いに連結していることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the above invention, the cut portion includes the through cut portion and an inter-wire cut portion formed between the first wiring layer and the second wiring layer, and the through cut portion and the wiring It is preferable that the cut portions are connected to each other. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed.

上記発明において、上記切れ込み部は、上記カバー層の幅方向において、上記カバー層の一方の端部側に形成された第一切れ込み部と、上記カバー層の他方の端部側に形成された第二切れ込み部とを有し、上記第一切れ込み部および上記第二切れ込み部は、上記カバー層の幅方向において、互いに重複しないように配置されていることが好ましい。このように配置することにより、サスペンション用基板の反りを抑制しつつ、異物により第一配線層3aおよび第二配線層3bが短絡することを防止できるからである。   In the above invention, the cut portion is formed in the width direction of the cover layer, the first cut portion formed on one end side of the cover layer and the second cut portion formed on the other end side of the cover layer. Preferably, the first cut portion and the second cut portion are arranged so as not to overlap each other in the width direction of the cover layer. By arranging in this way, it is possible to prevent the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b from being short-circuited by foreign substances while suppressing the warpage of the suspension substrate.

上記発明において、上記切れ込み部は、上記第一切れ込み部と、上記第二切れ込み部と、上記第一配線層および上記第二配線層の間に形成された配線間切れ込み部とを有し、上記第一切れ込み部と、上記第二切れ込み部と、上記配線間切れ込み部とが互いに連結していることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the above invention, the cut portion includes the first cut portion, the second cut portion, and an inter-wire cut portion formed between the first wiring layer and the second wiring layer, It is preferable that the first cut portion, the second cut portion, and the inter-wire cut portion are connected to each other. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed.

上記発明において、上記配線部は、第一配線層および第二配線層を有し、上記サスペンション用基板は、金属基板と、上記金属基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された上記第一配線層と、上記第一配線層を覆う第二絶縁層と、上記第二絶縁層上に形成され、上記第一配線層と厚さ方向において重複する上記第二配線層と、上記第二配線層を覆う上記カバー層とを有することが好ましい。   In the above invention, the wiring portion includes a first wiring layer and a second wiring layer, and the suspension substrate includes a metal substrate, a first insulating layer formed on the metal substrate, and the first insulating layer. The first wiring layer formed on the layer, the second insulating layer covering the first wiring layer, and the second insulating layer formed on the second insulating layer and overlapping with the first wiring layer in the thickness direction. It is preferable to have two wiring layers and the cover layer covering the second wiring layer.

上記発明においては、上記第一絶縁層および上記第二絶縁層の間に、一または二以上の下部配線層を有することが好ましい。より高機能なサスペンション用基板とすることができるからである。   In the said invention, it is preferable to have one or two or more lower wiring layers between said 1st insulating layer and said 2nd insulating layer. This is because a suspension substrate with higher functionality can be obtained.

上記発明においては、上記第一配線層および上記第二配線層を、それぞれ二以上有することが好ましい。より高機能なサスペンション用基板とすることができるからである。   In the said invention, it is preferable to have two or more said 1st wiring layers and said 2nd wiring layers, respectively. This is because a suspension substrate with higher functionality can be obtained.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension including the above-described suspension substrate.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、反りの少ないサスペンションとすることができる。   According to the present invention, a suspension with less warpage can be obtained by using the above-described suspension substrate.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダと、を有することを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。   According to the present invention, there is provided a suspension with a head including the above-described suspension and a magnetic head slider mounted on the suspension.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、反りの少ないヘッド付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, a suspension with a head with less warpage can be obtained.

また、本発明においては、上述したヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive including the suspension with a head described above.

本発明によれば、上述したヘッド付サスペンションを用いることで、高性能なハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a high-performance hard disk drive can be obtained by using the suspension with a head described above.

また、本発明においては、ジンバル部と、外部接続基板接続部と、上記ジンバル部および上記外部接続基板接続部を接続する配線部と、上記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有し、上記配線部において、上記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有するサスペンション用基板の製造方法であって、上記配線部を有する処理用部材を準備する準備工程と、上記処理用部材の配線部を構成する配線の少なくとも一つ覆うカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層に対して、上記切れ込み部を形成する切れ込み部形成工程と、を有することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   In the present invention, the cover that covers at least one of the gimbal part, the external connection board connection part, the wiring part that connects the gimbal part and the external connection board connection part, and the wiring layer that constitutes the wiring part. And the cover layer is a method for manufacturing a suspension substrate having one or more cut portions, and a preparation step of preparing a processing member having the wiring portion; and A cover layer forming step for forming a cover layer covering at least one of the wirings constituting the wiring portion of the processing member; and a notch forming step for forming the notch with respect to the cover layer. A method for manufacturing a suspension substrate is provided.

本発明によれば、カバー層に切れ込み部を設けることにより、反りを抑制したサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a suspension substrate in which warpage is suppressed by providing a cut portion in the cover layer.

本発明においては、サスペンション用基板の反りを抑制することができるという効果を奏する。   In the present invention, there is an effect that warpage of the suspension substrate can be suppressed.

本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 本発明における長手方向配線領域の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the longitudinal direction wiring area | region in this invention. 本発明における貫通切れ込み部の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the penetration notch part in this invention. 図4の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of FIG. 4. 本発明における貫通切れ込み部の他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the other example of the penetration notch part in this invention. 本発明における切れ込み部の幅の決定方法の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the determination method of the width | variety of a notch part in this invention. 本発明における配線めっき層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the wiring plating layer in this invention. 本発明における薄肉層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the thin layer in this invention. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 図14のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明におけるカバー層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the cover layer in this invention. 本発明におけるカバー層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the cover layer in this invention. 本発明における切れ込み部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the notch | incision part in this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法の他の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明のヘッド付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with a head of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the suspension substrate, suspension, suspension with head, hard disk drive and suspension substrate manufacturing method of the present invention will be described in detail.

A.サスペンション用基板
まず、本発明のサスペンション用基板について説明する。本発明のサスペンション用基板は、ジンバル部と、外部接続基板接続部と、上記ジンバル部および上記外部接続基板接続部を接続する配線部と、上記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有するサスペンション用基板であって、上記配線部において、上記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有することを特徴とするものである。
A. First, the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention covers at least one of the gimbal part, the external connection board connection part, the wiring part connecting the gimbal part and the external connection board connection part, and the wiring layer constituting the wiring part. A suspension substrate having a cover layer, wherein, in the wiring portion, the cover layer has one or more cut portions.

図1は、本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。なお、便宜上、図1ではカバー層の記載は省略している。図1に示されるサスペンション用基板20は、一方の先端部分に形成されたジンバル部11と、他方の先端部分に形成され、外部接続基板に接続するための外部接続基板接続部12と、ジンバル部11および外部接続基板接続部12を接続する配線部13と、配線部13を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層(図示せず)とを有するものである。また、図1における配線部13は、一方の配線対からなるライト配線と、他方の配線対からなるリード配線とを有している。なお、上記の外部接続基板としては、例えば中継基板や、メインフレキシブル基板等がある。   FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the suspension substrate of the present invention. For convenience, the cover layer is not shown in FIG. A suspension substrate 20 shown in FIG. 1 includes a gimbal portion 11 formed at one tip portion, an external connection substrate connection portion 12 formed at the other tip portion and connected to an external connection substrate, and a gimbal portion. 11 and the external connection substrate connection part 12 and a cover layer (not shown) covering at least one of the wiring layers constituting the wiring part 13. Further, the wiring section 13 in FIG. 1 has a write wiring composed of one wiring pair and a lead wiring composed of the other wiring pair. Examples of the external connection board include a relay board and a main flexible board.

また、図2は、図1のA−A断面図である。図2に示されるサスペンション用基板20は、金属基板1と、金属基板1上に形成された第一絶縁層2aと、第一絶縁層2a上に形成された第一配線層3aおよび第二配線層3bと、第一配線層3aおよび第二配線層3bを覆うカバー層4とを有する。なお、図2におけるサスペンション用基板では、配線部を構成する第一配線層3aおよび第二配線層3bが、カバー層4により覆われている。本発明では、図1に示される配線部13において、カバー層4が切れ込み部を一または二以上有することを大きな特徴とする。   FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. The suspension substrate 20 shown in FIG. 2 includes a metal substrate 1, a first insulating layer 2a formed on the metal substrate 1, a first wiring layer 3a and a second wiring formed on the first insulating layer 2a. It has the layer 3b and the cover layer 4 which covers the 1st wiring layer 3a and the 2nd wiring layer 3b. In the suspension substrate in FIG. 2, the first wiring layer 3 a and the second wiring layer 3 b constituting the wiring part are covered with the cover layer 4. In the present invention, in the wiring portion 13 shown in FIG. 1, the cover layer 4 has one or two or more cut portions.

また、図1におけるサスペンション用基板20は、ジンバル部11および外部接続基板接続部12の間に位置し、折り曲げ加工を行うための折り曲げ加工部14を有する。なお、本発明における「折り曲げ加工部」とは、サスペンション用基板を外部接続基板と接続するために折り曲げ加工を行う部分であり、サスペンション用基板平面に対して、例えば90°程度の角度で折り曲げる部分である。   Further, the suspension substrate 20 in FIG. 1 is located between the gimbal portion 11 and the external connection substrate connecting portion 12 and has a bending portion 14 for performing bending processing. The “bending portion” in the present invention is a portion that is bent to connect the suspension substrate to the external connection substrate, and is a portion that is bent at an angle of, for example, about 90 ° with respect to the suspension substrate plane. It is.

さらに、図1における配線部13は、折り曲げ加工部14およびジンバル部11の間にサスペンション用基板20の長手方向Xに沿って配線層が存在する長手方向配線領域13Xを有する。本発明では、長手方向配線領域13Xにおいて、カバー層4が、切れ込み部を一または二以上有することが好ましい。また、長手方向配線領域13Xの折り曲げ加工部14側の端部は、図1に示すように、例えば、配線部13を構成する配線層の全てが、サスペンション用基板20の長手方向Xに沿う部分であることが好ましい。一方、長手方向配線領域13Xのジンバル部11の端部は、図1に示すように、例えば、ジンバル部11の直前の部分であることが好ましい。   Further, the wiring portion 13 in FIG. 1 has a longitudinal wiring region 13X in which a wiring layer exists along the longitudinal direction X of the suspension substrate 20 between the bending portion 14 and the gimbal portion 11. In the present invention, in the longitudinal wiring region 13X, the cover layer 4 preferably has one or more cut portions. Further, as shown in FIG. 1, the end of the longitudinal wiring region 13 </ b> X on the side of the bent portion 14 is, for example, a portion where all of the wiring layers constituting the wiring portion 13 are along the longitudinal direction X of the suspension substrate 20. It is preferable that On the other hand, the end portion of the gimbal portion 11 in the longitudinal wiring region 13X is preferably a portion immediately before the gimbal portion 11 as shown in FIG.

本発明における長手方向配線領域13Xは、通常、折り曲げ加工部14を含まない領域である。ここで、折り曲げ加工部14の折り曲げ性を向上させることを目的として、折り曲げ加工部14のカバー層に切れ込み部を形成することが考えられる。しかしながら、折り曲げ加工部14のカバー層における切れ込み部と、本発明における切れ込み部とは、その機能が全く異なるものであるといえる。すなわち、本発明における切れ込み部は、カバー層の膨張・収縮の影響を最も受けやすい、サスペンション用基板の長手方向の反りを抑制する機能を有することが好ましいのに対して、折り曲げ加工部14のカバー層における切れ込み部には、そのような機能は発揮し得ない。   The longitudinal wiring region 13X in the present invention is usually a region that does not include the bent portion 14. Here, for the purpose of improving the bendability of the bent portion 14, it is conceivable to form a cut portion in the cover layer of the bent portion 14. However, it can be said that the cut portion in the cover layer of the bent portion 14 and the cut portion in the present invention have completely different functions. That is, the cut portion in the present invention preferably has a function of suppressing the warp in the longitudinal direction of the suspension substrate, which is most susceptible to the expansion and contraction of the cover layer, whereas the cover of the bent portion 14 is covered. Such a function cannot be exhibited in the cut portion in the layer.

図3は、本発明における長手方向配線領域の一例を示す概略平面図である。なお、図3では、便宜上、長手方向配線領域を模式的にしており、後述する図4、図6、図8〜図13、図16〜図21においても同様である。本発明では、サスペンション用基板の長手方向Xに沿って配線層(第一配線層3aおよび第二配線層3b)が存在する長手方向配線領域13Xにおいて、カバー層4が、切れ込み部15を一または二以上有することが好ましい。   FIG. 3 is a schematic plan view showing an example of the longitudinal wiring region in the present invention. In FIG. 3, the longitudinal wiring region is schematically shown for convenience, and the same applies to FIGS. 4, 6, 8 to 13, and 16 to 21 described later. In the present invention, in the longitudinal wiring region 13X where the wiring layers (the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b) exist along the longitudinal direction X of the suspension substrate, the cover layer 4 makes one or more cut portions 15 or It is preferable to have two or more.

このように、本発明によれば、カバー層が切れ込み部を有することから、反りを抑制したサスペンション用基板とすることができる。本発明においては、切れ込み部により、カバー層の膨張・収縮の変化の一部を吸収することができる。これにより、膨張・収縮による、カバー層全体の変化量の絶対値を下げることができる。その結果、応力を小さくすることができ、サスペンション用基板の反りを抑制することができる。さらに、本発明においては、反りの影響が最も表れやすい長手方向配線領域のカバー層に切れ込み部を設けることが好ましく、これにより、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制できる。
以下、本発明のサスペンション用基板について、さらに詳細に説明する。
Thus, according to the present invention, since the cover layer has a cut portion, a suspension substrate with suppressed warpage can be obtained. In the present invention, the cut portion can absorb a part of the expansion / contraction change of the cover layer. Thereby, the absolute value of the variation | change_quantity of the whole cover layer by expansion and contraction can be lowered | hung. As a result, stress can be reduced and warpage of the suspension substrate can be suppressed. Furthermore, in the present invention, it is preferable to provide a cut portion in the cover layer in the longitudinal wiring region where the influence of the warp is most likely to appear, whereby the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed.
Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described in more detail.

1.カバー層
まず、本発明におけるカバー層について説明する。本発明におけるカバー層は、配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆う層である。カバー層の材料としては、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。さらに、カバー層の厚さは、例えば3μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。
1. Cover Layer First, the cover layer in the present invention will be described. The cover layer in this invention is a layer which covers at least one of the wiring layers which comprise a wiring part. Examples of the material for the cover layer include polyimide (PI). The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. Furthermore, the thickness of the cover layer is preferably in the range of 3 μm to 30 μm, for example.

また、本発明におけるカバー層は、通常、配線部において切れ込み部を一または二以上有し、中でも、長手方向配線領域において上記切れ込み部を有することが好ましい。本発明における長手方向配線領域の長さは、例えば4mm以上であり、6mm以上であることが好ましい。一方、長手方向配線領域の長さは、例えば40mm以下であり、35mm以下であることが好ましい。   In addition, the cover layer in the present invention usually has one or more cut portions in the wiring portion, and preferably has the cut portions in the longitudinal wiring region. The length of the longitudinal wiring region in the present invention is, for example, 4 mm or more, and preferably 6 mm or more. On the other hand, the length of the longitudinal wiring region is, for example, 40 mm or less, and preferably 35 mm or less.

本発明においては、上記切れ込み部が、カバー層の幅方向において、カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部であっても良く、カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通しない非貫通切れ込み部であっても良いが、前者であることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。   In the present invention, the cut portion may be a through cut portion penetrating from one end portion of the cover layer to the other end portion in the width direction of the cover layer, or from one end portion of the cover layer. A non-penetrating cut portion that does not penetrate through to the other end may be used, but the former is preferable. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed.

貫通切れ込み部の一例を図4に示す。図4においては、カバー層4の幅方向yにおいて、カバー層4の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部15xが形成されている。また、図5は図4の概略断面図であり、図5(a)は図4のA−A断面図であり、図5(b)は図4のB−B断面図である。図5(a)に示すように、貫通切れ込み部が形成されていない断面では、第一配線層3aおよび第二配線層3bを覆うように、カバー層4が形成されている。これに対して、図5(b)に示すように、貫通切れ込み部15xが形成されている断面では、第一配線層3aおよび第二配線層3bが露出している。なお、露出した第一配線層3aおよび第二配線層3bには、後述する配線めっき層を形成することが好ましい。また、第一配線層3aおよび第二配線層3bを露出させる代わりに、後述する薄肉層を形成しても良い。   An example of the penetration notch is shown in FIG. In FIG. 4, in the width direction y of the cover layer 4, a through-cut 15x penetrating from one end of the cover layer 4 to the other end is formed. 5 is a schematic sectional view of FIG. 4, FIG. 5 (a) is an AA sectional view of FIG. 4, and FIG. 5 (b) is a BB sectional view of FIG. As shown in FIG. 5A, the cover layer 4 is formed so as to cover the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b in the cross section in which the through cut portion is not formed. On the other hand, as shown in FIG. 5B, the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b are exposed in the cross section in which the through-cut 15x is formed. In addition, it is preferable to form the wiring plating layer mentioned later in the exposed 1st wiring layer 3a and 2nd wiring layer 3b. Moreover, you may form the thin layer mentioned later instead of exposing the 1st wiring layer 3a and the 2nd wiring layer 3b.

貫通切れ込み部の切れ込みは、カバー層の幅方向において、カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通するものであれば特に限定されるものではない。貫通切れ込み部の平面視形状は、直線状であっても良く、曲線状であっても良い。なお、図4に示される貫通切れ込み部15xは、直線状の切れ込み部である。   The notch of the penetration notch is not particularly limited as long as it penetrates from one end of the cover layer to the other end in the width direction of the cover layer. The plan view shape of the through-cut portion may be linear or curved. In addition, the penetration notch 15x shown by FIG. 4 is a linear notch.

また、図6に示すように、貫通切れ込み部15xの切れ込み方向sと、カバー層の長さ方向tとのなす角度をαとした場合、αは、例えば30°〜90°の範囲内であることが好ましく、45°〜90°の範囲内であることがより好ましい。特に、本発明においては、αが90°であることが好ましい。また、配線部に形成される貫通切れ込み部の数は、特に限定されるものではないが、例えば1個〜10個の範囲内であることが好ましく、2個〜5個の範囲内であることがより好ましい。中でも、本発明においては、長手方向配線領域において、上記の数の貫通切れ込み部が形成されていることが好ましい。   As shown in FIG. 6, when the angle formed by the cut direction s of the through cut portion 15x and the length direction t of the cover layer is α, α is in the range of 30 ° to 90 °, for example. It is preferable that it is in the range of 45 ° to 90 °. In particular, in the present invention, α is preferably 90 °. Further, the number of through-cut portions formed in the wiring portion is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 10, for example, and preferably in the range of 2 to 5. Is more preferable. Among them, in the present invention, it is preferable that the above number of through-cut portions be formed in the longitudinal wiring region.

本発明における切れ込み部の幅は、特に限定されるものではないが、カバー層が膨張した際に、一方のカバー層の端部と、他方のカバー層の端部とが接触しない程度の幅であることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。ここで、切れ込み部の幅を決定する方法の一例について、図7を用いて説明する。図7(a)に示すように、長手方向配線領域13xにおけるカバー層4の初期長をL(mm)とする。そのカバー層をn分割した場合、n−1個の切れ込み部15が形成される。また、図7(b)に示すように、各切れ込み部15の幅をxL(xは初期長Lに対する切れ込み部の幅の割合であり、0<x<1を満たす)とした場合、分割されたカバー層4の長さは、{L−(n−1)xL}/nとなる。さらに、吸湿による膨張を考慮し、吸湿膨張係数をh(1/%RH)とし、湿度変化量をy(%)とした場合、膨張により、分割されたカバー層4の長さは、両端部で、[{L−(n−1)xL}/n]*(hy)増加することになる。そのため、図7(c)に示すように、分割されたカバー層4の長さは、一方の端部で、[{L−(n−1)xL}/n]*1/2(hy)増加することになる。従って、[{L−(n−1)xL}/n]*1/2(hy)<1/2xLを満たす場合、すなわち、x>1/{n/hy+(n−1)}を満たす場合、切れ込み部15の端部同士が接触することを防止できる。   The width of the cut portion in the present invention is not particularly limited, but when the cover layer expands, the width is such that the end of one cover layer does not contact the end of the other cover layer. Preferably there is. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed. Here, an example of a method for determining the width of the cut portion will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, the initial length of the cover layer 4 in the longitudinal wiring region 13x is L (mm). When the cover layer is divided into n, n-1 cut portions 15 are formed. Further, as shown in FIG. 7B, when the width of each cut portion 15 is xL (x is the ratio of the width of the cut portion to the initial length L, and 0 <x <1 is satisfied), it is divided. The length of the cover layer 4 is {L− (n−1) × L} / n. Further, in consideration of expansion due to moisture absorption, when the hygroscopic expansion coefficient is h (1 /% RH) and the humidity change amount is y (%), the length of the cover layer 4 divided by expansion is Therefore, [{L− (n−1) × L} / n] * (hy) is increased. Therefore, as shown in FIG. 7C, the length of the divided cover layer 4 is [{L− (n−1) × L} / n] * 1/2 (hy) at one end. Will increase. Therefore, when [{L- (n-1) xL} / n] * 1/2 (hy) <1 / 2xL is satisfied, that is, when x> 1 / {n / hy + (n-1)} is satisfied. It can prevent that the edge parts of the notch part 15 contact.

例えば、初期長L=30(mm)、吸湿膨張係数h=30×10−6(1/%RH)、湿度変化率y=100(%)、分割数n=3とした場合、各切れ込み部15の幅xLは、29.94μmとなり、この値よりも大きな値であれば、切れ込み部15の端部同士が接触することを防止できる。なお、上記の例では、吸湿による膨張を考えたが、吸熱による膨張を考慮する場合は、吸湿膨張係数h(1/%RH)の代わりに線熱膨張係数α(1/℃)を用い、湿度変化量y(%)の代わりに温度変化量T(℃)を用いれば良い。 For example, when the initial length L = 30 (mm), the hygroscopic expansion coefficient h = 30 × 10 −6 (1 /% RH), the humidity change rate y = 100 (%), and the division number n = 3, each notch The width xL of 15 is 29.94 μm, and if the value is larger than this value, it is possible to prevent the ends of the cut portion 15 from contacting each other. In the above example, the expansion due to moisture absorption was considered. However, when the expansion due to heat absorption is considered, the linear thermal expansion coefficient α (1 / ° C.) is used instead of the hygroscopic expansion coefficient h (1 /% RH), A temperature change amount T (° C.) may be used instead of the humidity change amount y (%).

また、切れ込み部の幅は、上述したように、カバー層の材料や、分割数によって異なるものであるが、例えば30μm〜500μmの範囲内、中でも40μm〜250μmの範囲内、特に50μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。切れ込み部の幅が小さすぎると、切れ込み部におけるカバー層の端部同士が接触し、サスペンション用基板の反りを充分に抑制できない可能性があり、切れ込み部の幅が大きすぎると、配線層の劣化が生じやすくなるからである。   Further, as described above, the width of the cut portion varies depending on the material of the cover layer and the number of divisions. It is preferable to be within. If the width of the cut portion is too small, the end portions of the cover layer at the cut portion may contact each other, and the warping of the suspension substrate may not be sufficiently suppressed. If the width of the cut portion is too large, the wiring layer is deteriorated. It is because it becomes easy to occur.

なお、本発明においては、切れ込み部が、後述する第一切れ込み部および第二切れ込み部の少なくとも一方を有していても良い。この場合、第一切れ込み部および第二切れ込み部は、カバー層の幅方向において、互いに重複しないように配置されていることが好ましい(後述する図11参照)。   In the present invention, the cut portion may have at least one of a first cut portion and a second cut portion described later. In this case, the first cut portion and the second cut portion are preferably arranged so as not to overlap each other in the width direction of the cover layer (see FIG. 11 described later).

また、本発明では、切れ込み部において、配線層が露出する露出部を有し、上記露出部に配線めっき層が形成されていることが好ましい。深い切れ込み部を設けることで、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。また、露出した配線層に配線めっき層を設けることにより、配線層の劣化を抑制することができる。配線めっき層を有する長手方向配線領域の一例としては、例えば図8(a)、(b)に示すように、切れ込み部15で露出した第一配線層3aおよび第二配線層3bの露出部に、配線めっき層5が形成された長手方向配線領域13Xを挙げることができる。なお、図8(b)は図8(a)のA−A断面図である。配線めっき層としては、配線層を保護することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ニッケルめっき層および金めっき層等を挙げることができる。また、配線めっき層は、複数の金属めっき層からなるものであっても良い。配線めっき層の厚さは、例えば0.1μm〜5.0μmの範囲内である。   Moreover, in this invention, it is preferable to have an exposed part which a wiring layer exposes in a notch part, and the wiring plating layer is formed in the said exposed part. This is because the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed by providing the deep cut portion. Further, by providing a wiring plating layer on the exposed wiring layer, deterioration of the wiring layer can be suppressed. As an example of the longitudinal wiring region having the wiring plating layer, for example, as shown in FIGS. 8A and 8B, the exposed portions of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b exposed at the notch 15 are formed. A longitudinal wiring region 13X in which the wiring plating layer 5 is formed can be exemplified. FIG. 8B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. The wiring plating layer is not particularly limited as long as it can protect the wiring layer, and examples thereof include a nickel plating layer and a gold plating layer. The wiring plating layer may be composed of a plurality of metal plating layers. The thickness of the wiring plating layer is, for example, in the range of 0.1 μm to 5.0 μm.

また、本発明では、切れ込み部において、カバー層よりも厚さの小さい薄肉層が形成されていることが好ましい。配線めっき部を設けることなく、サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。薄肉層を有する長手方向配線領域の一例としては、例えば図9(a)、(b)に示すように、切れ込み部15の第一配線層3aおよび第二配線層3bの上面に、薄肉層4aが形成された長手方向配線領域13Xを挙げることができる。なお、図9(b)は図9(a)のA−A断面図である。薄肉層4aは、カバー層4と同一の材料であることが好ましい。また、薄肉層4aは、例えばカバー層4をエッチングすることにより形成することができる。カバー層の厚さを100%とした場合、薄肉層の厚さは、例えば10%〜80%の範囲内であることが好ましく、30%〜60%の範囲内であることがより好ましい。また、配線層上に形成された薄肉層の厚さは、例えば0.4μm〜3.2μmの範囲内であることが好ましく、1.2μm〜2.4μmの範囲内であることがより好ましい。薄肉層の厚さが小さすぎると、ピンホール等によって配線層が露出し、配線層の劣化を引き起こす可能性があり、薄肉層の厚さが大きすぎると、サスペンション用基板の反りを充分に抑制できない可能性がある。   Moreover, in this invention, it is preferable that the thin layer whose thickness is smaller than a cover layer is formed in the cut | notch part. This is because the warp of the suspension substrate can be effectively suppressed without providing the wiring plating portion. As an example of the longitudinal wiring region having a thin layer, for example, as shown in FIGS. 9A and 9B, the thin layer 4a is formed on the upper surfaces of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b of the cut portion 15. The longitudinal wiring region 13X in which is formed can be mentioned. FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. The thin layer 4 a is preferably made of the same material as the cover layer 4. The thin layer 4a can be formed, for example, by etching the cover layer 4. When the thickness of the cover layer is 100%, the thickness of the thin layer is preferably in the range of 10% to 80%, for example, and more preferably in the range of 30% to 60%. The thickness of the thin layer formed on the wiring layer is preferably in the range of 0.4 μm to 3.2 μm, for example, and more preferably in the range of 1.2 μm to 2.4 μm. If the thickness of the thin layer is too small, the wiring layer may be exposed due to pinholes and the like, which may cause deterioration of the wiring layer. If the thickness of the thin layer is too large, warping of the suspension substrate is sufficiently suppressed. It may not be possible.

2.サスペンション用基板の構成
次に、本発明のサスペンション用基板の構成について説明する。本発明のサスペンション用基板は、上述したカバー層および切れ込み部を有するものであれば特に限定されるものではない。以下、本発明のサスペンション用基板の具体例について、第一実施態様および第二実施態様に分けて説明する。
2. Next, the configuration of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention is not particularly limited as long as it has the cover layer and the cut portion described above. Hereinafter, specific examples of the suspension substrate of the present invention will be described separately for the first embodiment and the second embodiment.

(1)第一実施態様
サスペンション用基板の第一実施態様は、上記配線部が、第一配線層および第二配線層を有し、上記サスペンション用基板が、金属基板と、上記金属基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された上記第一配線層および上記第二配線層と、上記第一配線層および上記第二配線層を覆う上記カバー層とを有するものである。
(1) First Embodiment In the first embodiment of the suspension substrate, the wiring portion has a first wiring layer and a second wiring layer, and the suspension substrate is disposed on the metal substrate and the metal substrate. A first insulating layer formed; the first wiring layer and the second wiring layer formed on the first insulating layer; and the cover layer covering the first wiring layer and the second wiring layer. It is what you have.

上述した図2は、本発明のサスペンション用基板の第一実施態様の一例を示すものである。第一実施態様の場合、図2に示したように、第一配線層3aおよび第二配線層3bを覆うカバー層4が、上述した切れ込み部を有する。また、第一実施態様においては、第一配線層および第二配線層からなる配線は、通常、ライト配線またはリード配線である。本発明においては、ライト配線またはリード配線の一方で、上記切れ込み部を有するカバー層が形成されていても良く、ライト配線またはリード配線の両方で、上記切れ込み部を有するカバー層がそれぞれ形成されていても良い。   FIG. 2 described above shows an example of the first embodiment of the suspension substrate of the present invention. In the case of the first embodiment, as shown in FIG. 2, the cover layer 4 covering the first wiring layer 3 a and the second wiring layer 3 b has the above-described cut portion. In the first embodiment, the wiring composed of the first wiring layer and the second wiring layer is usually a write wiring or a read wiring. In the present invention, the cover layer having the cut portion may be formed on one of the write wiring and the lead wiring, and the cover layer having the cut portion is formed on both the write wiring and the lead wiring. May be.

第一実施態様においては、切れ込み部が、上述した貫通切れ込み部および非貫通切れ込み部以外のその他の切れ込み部を有していても良い。その他の切れ込み部の一例としては、第一配線層および第二配線層の間に形成された配線間切れ込み部を挙げることができる。さらに、この場合、貫通切れ込み部と配線間切れ込み部とが互いに連結していることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。具体的には、図10(a)に示すように、貫通切れ込み部15xと、第一配線層3aおよび第二配線層3bの間に形成された配線間切れ込み部15yと、を有するカバー層4を挙げることができる。なお、図10(b)は図10(a)のA−A断面図であり、第一配線層3aおよび第二配線層3bの間に、配線間切れ込み部15yを有する。   In the first embodiment, the cut portion may have other cut portions other than the through cut portion and the non-penetrated cut portion described above. As an example of the other cut portion, an inter-wire cut portion formed between the first wiring layer and the second wiring layer can be cited. Furthermore, in this case, it is preferable that the penetration notch and the inter-wiring notch are connected to each other. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed. Specifically, as shown in FIG. 10A, a cover layer 4 having a through cut 15x and an inter-wire cut 15y formed between the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b. Can be mentioned. FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 10A, and includes a notch portion 15y between the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b.

また、第一実施態様においては、例えば図11に示すように、切れ込み部が、カバー層4の幅方向yにおいて、カバー層4の一方の端部側に形成された第一切れ込み部15aと、カバー層4の他方の端部側に形成された第二切れ込み部とを有し、第一切れ込み部15aおよび第二切れ込み部15bが、カバー層4の幅方向yにおいて、互いに重複しないように配置されていることが好ましい。このように配置することにより、サスペンション用基板の反りを抑制しつつ、異物により第一配線層3aおよび第二配線層3bが短絡することを防止できるからである。   Further, in the first embodiment, for example, as shown in FIG. 11, the cut portion is formed on the one end side of the cover layer 4 in the width direction y of the cover layer 4, A second cut portion formed on the other end side of the cover layer 4, and the first cut portion 15 a and the second cut portion 15 b are arranged so as not to overlap each other in the width direction y of the cover layer 4. It is preferable that By arranging in this way, it is possible to prevent the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b from being short-circuited by foreign substances while suppressing the warpage of the suspension substrate.

第一切れ込み部15aは、非貫通切れ込み部であることが好ましい。また、第一切れ込み部15aの長さ(カバー層の幅方向の長さ)は、特に限定されるものではないが、カバー層の幅を100%とした場合に、20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、50%以上であることがさらに好ましい。第一切れ込み部15aの平面視形状は、特に限定されるものではなく、直線状であっても良く、曲線状であっても良い。なお、第二切れ込み部15bについても、第一切れ込み部15aと同様である。図11に示すように、隣接する第一切れ込み部15aおよび第二切れ込み部15bの距離をLとした場合、Lの長さは、例えば200μm以上であることが好ましく、500μm以上であることがより好ましい。第一配線層3aおよび第二配線層3bの短絡を効果的に防止できるからである。 The first cut portion 15a is preferably a non-through cut portion. Further, the length of the first cut portion 15a (length in the width direction of the cover layer) is not particularly limited, but when the width of the cover layer is 100%, it may be 20% or more. Preferably, it is 30% or more, more preferably 50% or more. The plan view shape of the first cut portion 15a is not particularly limited, and may be linear or curved. The second cut portion 15b is the same as the first cut portion 15a. As shown in FIG. 11 that, when the distance of the first slit portion 15a and the second slit portion 15b adjacent to the L 1, the length of L 1 is, it is, for example 200μm or more preferably, 500 [mu] m or more Is more preferable. This is because a short circuit between the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b can be effectively prevented.

また、第一実施態様においては、例えば図12(a)に示すように、切れ込み部は、第一切れ込み部15aおよび第二切れ込み部15bの他に、第一配線層3aおよび第二配線層3bの間に形成された配線間切れ込み部15yを有し、第一切れ込み部15aと、第二切れ込み部15bと、配線間切れ込み部15yとが互いに連結していることが好ましい。サスペンション用基板の反りを効果的に抑制することができるからである。なお、図12(b)は図12(a)のA−A断面図であり、図12(c)は図12(a)のB−B断面図である。   In the first embodiment, for example, as shown in FIG. 12 (a), the cut portion includes the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b in addition to the first cut portion 15a and the second cut portion 15b. It is preferable that the inter-wiring cut portion 15y formed between the first cut portion 15a, the second cut portion 15b, and the inter-wire cut portion 15y are connected to each other. This is because warpage of the suspension substrate can be effectively suppressed. 12B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 12A, and FIG. 12C is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.

図12に示す切れ込み部の変形例としては、図13に示すように、隣接する第一切れ込み部15aおよび第二切れ込み部15bのみが、配線間切れ込み部15yによって連結されたもの等を挙げることができる。この場合における切れ込み部は、上述した貫通切れ込み部の一例として扱うこともできる。   As a modification of the notch shown in FIG. 12, as shown in FIG. 13, only the adjacent first notch 15a and second notch 15b are connected by an inter-wire notch 15y. it can. The notch in this case can also be handled as an example of the above-described penetration notch.

また、第一実施態様においては、上述した第一配線層および第二配線層の他に、第一絶縁層およびカバー層の間に、一または二以上の下部配線層を有していていも良い。下部配線層としては、例えばグランド配線を挙げることができる。また、二以上の下部配線層を設ける場合は、それらの配線をライト配線またはリード配線として用いることもできる。この場合、ライト配線およびリード配線の両方が、一つのカバー層に含まれることになる。   In the first embodiment, in addition to the first wiring layer and the second wiring layer described above, one or more lower wiring layers may be provided between the first insulating layer and the cover layer. . An example of the lower wiring layer is a ground wiring. Further, when two or more lower wiring layers are provided, these wirings can be used as a write wiring or a read wiring. In this case, both the write wiring and the read wiring are included in one cover layer.

なお、第一切れ込み部、第二切れ込み部および配線間切れ込み部についても、上述した配線めっき層または薄肉層が形成されていることが好ましい。   In addition, it is preferable that the wiring plating layer or thin layer mentioned above is formed also about the 1st notch part, the 2nd notch part, and the notch part between wiring.

次に、サスペンション用基板に用いられる部材について簡単に説明する(図2参照)。金属基板1の材料としては、例えばステンレススティール等を挙げることができる。金属基板1の厚さは、例えば10μm〜30μmの範囲内、中でも15μm〜25μmの範囲内であることが好ましい。   Next, members used for the suspension substrate will be briefly described (see FIG. 2). Examples of the material of the metal substrate 1 include stainless steel. The thickness of the metal substrate 1 is, for example, preferably in the range of 10 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 15 μm to 25 μm.

第一絶縁層2aの材料としては、例えばポリイミド(PI)等を挙げることができる。また、第一絶縁層2aの材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。第一絶縁層2aの厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内、中でも10μm〜20μmの範囲内であることが好ましい。   Examples of the material of the first insulating layer 2a include polyimide (PI). The material of the first insulating layer 2a may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the first insulating layer 2a is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, and more preferably in the range of 10 μm to 20 μm.

第一配線層3aおよび第二配線層3bとしては、例えば銅(Cu)等を挙げることができる。第一配線層3aおよび第二配線層3bの厚さとしては、それぞれ、例えば4μm〜18μmの範囲内、中でも5μm〜12μmの範囲内であることが好ましい。   Examples of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b include copper (Cu). The thicknesses of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b are each preferably in the range of, for example, 4 μm to 18 μm, and more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

(2)第二実施態様
サスペンション用基板の第二実施態様は、上記配線部は、第一配線層および第二配線層を有し、上記サスペンション用基板は、金属基板と、上記金属基板上に形成された第一絶縁層と、上記第一絶縁層上に形成された上記第一配線層と、上記第一配線層を覆う第二絶縁層と、上記第二絶縁層上に形成され、上記第一配線層と厚さ方向において重複する上記第二配線層と、上記第二配線層を覆う上記カバー層とを有するものである。
(2) Second Embodiment In a second embodiment of the suspension substrate, the wiring portion has a first wiring layer and a second wiring layer, and the suspension substrate is disposed on the metal substrate and the metal substrate. Formed on the first insulating layer, the first wiring layer formed on the first insulating layer, the second insulating layer covering the first wiring layer, the second insulating layer, The second wiring layer overlapped with the first wiring layer in the thickness direction, and the cover layer covering the second wiring layer.

図14は、本発明のサスペンション用基板の第二実施態様の一例を示す概略平面図である。図15は、図14のA−A断面図である。図14に示されるサスペンション用基板20は、金属基板1と、金属基板1上に形成された第一絶縁層2aと、第一絶縁層2a上に形成された第一配線層3aと、第一配線層3aを覆う第二絶縁層2bと、第二絶縁層2b上に形成され、第一配線層3aと厚さ方向において重複する第二配線層3bと、第二配線層3bを覆うカバー層4とを有する。   FIG. 14 is a schematic plan view showing an example of the second embodiment of the suspension substrate of the present invention. 15 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The suspension substrate 20 shown in FIG. 14 includes a metal substrate 1, a first insulating layer 2a formed on the metal substrate 1, a first wiring layer 3a formed on the first insulating layer 2a, A second insulating layer 2b covering the wiring layer 3a, a second wiring layer 3b formed on the second insulating layer 2b and overlapping the first wiring layer 3a in the thickness direction, and a cover layer covering the second wiring layer 3b 4.

第二実施態様においては、第二絶縁層2bを介して、第一配線層3aおよび第二配線層3bを積層配置するため、低インピーダンス化を図れるという利点がある反面、第二絶縁層の存在により、反りが生じやくなる。そのようなサスペンション用基板に対して、切れ込み部を設けることによって、低インピーダンス化を図りつつ、反りを抑制できるという利点を有する。   In the second embodiment, since the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b are laminated via the second insulating layer 2b, there is an advantage that the impedance can be reduced, but the presence of the second insulating layer is present. Therefore, warpage is likely to occur. Providing a notch for such a suspension substrate has the advantage that warpage can be suppressed while lowering impedance.

第二実施態様における切れ込み部については、上述した「1.カバー層」に記載した内容と同様である。例えば、図16(a)、(b)に示すように、カバー層4には、貫通切れ込み部15xが形成されていることが好ましい。また、図16(c)、(d)に示すように、切れ込み部15で露出した第二配線層3bの露出部に、配線めっき層5が形成されていることが好ましい。また、図16(e)、(f)に示すように、切れ込み部15の第二配線層3bの上面に、薄肉層4aが形成されていても良い。なお、図16(b)、(d)、(f)は、それぞれ図16(a)、(c)、(e)のA−A断面図である。   About the notch part in a 2nd embodiment, it is the same as that of the content described in "1. cover layer" mentioned above. For example, as shown in FIGS. 16A and 16B, the cover layer 4 is preferably formed with a through cut 15x. Further, as shown in FIGS. 16C and 16D, it is preferable that the wiring plating layer 5 is formed on the exposed portion of the second wiring layer 3 b exposed at the cut portion 15. Further, as shown in FIGS. 16E and 16F, a thin layer 4 a may be formed on the upper surface of the second wiring layer 3 b of the cut portion 15. FIGS. 16B, 16D, and 16F are cross-sectional views taken along lines AA of FIGS. 16A, 16C, and 16E, respectively.

また、第二実施態様においては、第一絶縁層および第二絶縁層の間に、一または二以上の下部配線層を有していても良い。下部配線層としては、例えばグランド配線を挙げることができる。また、二以上の下部配線層を設ける場合は、それらの配線をライト配線またはリード配線として用いることもできる。具体的には、図17(a)〜(c)に示すように、第一配線層3aおよび第二配線層3bの他に、第一絶縁層2aおよび第二絶縁層2bの間に2つの下部配線層3xを形成することができる。なお、図17(b)は図17(a)のA−A断面図であり、図17(c)は図17(a)のB−B断面図である。また、下部配線層3xは、第一絶縁層2aおよび第二絶縁層2bの間に形成されているため、通常、下部配線層3xの上にカバー層4を設ける必要はないが、第一配線層3aおよび第二配線層3b側との対称性を考慮して、下部配線層3xにカバー層4を設けても良い。下部配線層3xにカバー層4を設けることで、歪みの発生を抑制することができる。   In the second embodiment, one or more lower wiring layers may be provided between the first insulating layer and the second insulating layer. An example of the lower wiring layer is a ground wiring. Further, when two or more lower wiring layers are provided, these wirings can be used as a write wiring or a read wiring. Specifically, as shown in FIGS. 17A to 17C, in addition to the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b, there are two gaps between the first insulating layer 2a and the second insulating layer 2b. The lower wiring layer 3x can be formed. 17B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 17A, and FIG. 17C is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 17A. In addition, since the lower wiring layer 3x is formed between the first insulating layer 2a and the second insulating layer 2b, it is usually not necessary to provide the cover layer 4 on the lower wiring layer 3x. The cover layer 4 may be provided on the lower wiring layer 3x in consideration of symmetry with the layer 3a and the second wiring layer 3b side. By providing the cover layer 4 on the lower wiring layer 3x, the occurrence of distortion can be suppressed.

また、第二実施態様においては、第一配線層および第二配線層を、それぞれ二以上有していても良い。この場合、第二絶縁層上に形成された複数の第二配線層は、通常、カバー層により覆われる。具体的には、図18(a)、(b)に示すように、第一配線層3aおよび第二配線層3bが、複数形成されていても良い。この場合、複数の第二配線層3bが、カバー層4により覆われる。なお、図18(b)は図18(a)のA−A断面図であり、図18(c)は図18(a)のB−B断面図である。また、第一配線層3aおよび第二配線層3bからなる配線の一方がライト配線であり、他方がリード配線であることが好ましい。   In the second embodiment, each of the first wiring layer and the second wiring layer may have two or more. In this case, the plurality of second wiring layers formed on the second insulating layer is usually covered with a cover layer. Specifically, as shown in FIGS. 18A and 18B, a plurality of first wiring layers 3a and second wiring layers 3b may be formed. In this case, the plurality of second wiring layers 3 b are covered with the cover layer 4. 18B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 18A, and FIG. 18C is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 18A. Further, it is preferable that one of the wirings composed of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b is a write wiring and the other is a lead wiring.

また、第一配線層および第二配線層が二以上形成される場合、二以上の第二配線層に対して、上述した第一実施態様と同様の切れ込み部が形成されていても良い。例えば、図19(a)、(b)に示すように、貫通切れ込み部15xと、2つの第二配線層3bの間に形成された配線間切れ込み部15yとが互いに連結している切れ込み部が形成されていても良い。また、図19(c)、(d)に示すように、切れ込み部として、第一切れ込み部15aおよび第二切れ込み部15bが形成されていても良い。さらに、図19(e)、(f)に示すように、第一切れ込み部15a、第二切れ込み部15bおよび配線間切れ込み部15yが互いに連結している切れ込み部が形成されていても良い。なお、図19(b)、(d)、(f)は、それぞれ図19(a)、(c)、(e)のA−A断面図である。   Further, when two or more first wiring layers and two or more second wiring layers are formed, the same cut portion as that of the first embodiment described above may be formed in two or more second wiring layers. For example, as shown in FIGS. 19A and 19B, there is a cut portion in which a through cut portion 15x and an inter-wire cut portion 15y formed between two second wiring layers 3b are connected to each other. It may be formed. Moreover, as shown in FIG.19 (c), (d), the 1st notch part 15a and the 2nd notch part 15b may be formed as a notch part. Further, as shown in FIGS. 19E and 19F, a cut portion in which the first cut portion 15a, the second cut portion 15b, and the inter-wire cut portion 15y are connected to each other may be formed. FIGS. 19B, 19D, and 19F are cross-sectional views taken along line AA in FIGS. 19A, 19C, and 19E, respectively.

また、第一切れ込み部、第二切れ込み部および配線間切れ込み部についても、上述した配線めっき層または薄肉層が形成されていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the wiring plating layer or thin layer mentioned above is formed also about the 1st notch part, the 2nd notch part, and the notch part between wiring.

3.サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション用基板の製造方法は、上述したサスペンション用基板を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。
3. Next, a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention will be described. The manufacturing method of the suspension substrate of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining the above-described suspension substrate.

図20は、本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す説明図である。なお、図20(b)、(d)、(f)、(h)、(j)、(l)は、それぞれ図20(a)、(c)、(e)、(g)、(i)、(k)のA−A断面図である。図20に示されるサスペンション用基板の製造方法においては、まず、金属基板1(例えばステンレススティール)を用意する(図20(a)、(b))。次に、金属基板1の表面に、ポリイミドを塗布、加工することによって、第一絶縁層2aを形成する(図20(c)、(d))。次に、第一絶縁層2aの表面に、スパッタリング法により拡散防止層(例えばCr薄膜層)およびシード層(例えばCu薄膜層)を形成する。その後、シード層が形成された表面に、所定のレジストパターンを形成し、電解めっき法により、第一配線層3aおよび第二配線層3bを形成する(図20(e)、(f))。   FIG. 20 is an explanatory view showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention. 20 (b), (d), (f), (h), (j), (l) are respectively shown in FIGS. 20 (a), (c), (e), (g), (i). It is AA sectional drawing of (k). In the method for manufacturing a suspension substrate shown in FIG. 20, first, a metal substrate 1 (for example, stainless steel) is prepared (FIGS. 20A and 20B). Next, the first insulating layer 2a is formed on the surface of the metal substrate 1 by applying and processing polyimide (FIGS. 20C and 20D). Next, a diffusion prevention layer (for example, a Cr thin film layer) and a seed layer (for example, a Cu thin film layer) are formed on the surface of the first insulating layer 2a by sputtering. Thereafter, a predetermined resist pattern is formed on the surface on which the seed layer is formed, and the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b are formed by an electrolytic plating method (FIGS. 20E and 20F).

その後、不要なレジストパターン、拡散防止層およびシード層を除去し、第一配線層3aおよび第二配線層3bが形成されている側の基板表面に、ポリイミドを塗布、加工することによってカバー層4を形成する(図20(g)、(h))。次に、カバー層4の表面上に、切れ込み部を形成する位置に露出部を有するレジストパターンを作成し、露出するカバー層4をウェットエッチングにより除去し、切れ込み部15を形成する(図20(i)、(j))。ここで、本発明における切れ込み部15の形成方法は特に限定されるものではない。上記のように、レジストから露出するカバー層を除去する方法であっても良いが、例えばカバー層4の材料が光硬化性材料である場合は、切れ込み部15を形成する位置のカバー層を硬化させないことにより、切れ込み部を形成することもできる。また、上述した薄肉層は、ウェットエッチングの条件を適宜変更したり、照射する光の量を調整したりすることで、形成することができる。最後に、切れ込み部15において露出する第一配線層3aおよび第二配線層3bの表面に、NiめっきおよびAuめっきを行うことにより、配線めっき層5を形成し、本発明のサスペンション用基板を得る(図20(k)、(l))。   Thereafter, the unnecessary resist pattern, diffusion preventing layer and seed layer are removed, and the cover layer 4 is formed by applying and processing polyimide on the substrate surface on which the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b are formed. Are formed (FIGS. 20G and 20H). Next, a resist pattern having an exposed portion is formed on the surface of the cover layer 4 at a position where the cut portion is formed, and the exposed cover layer 4 is removed by wet etching to form the cut portion 15 (FIG. 20 ( i), (j)). Here, the formation method of the cut | notch part 15 in this invention is not specifically limited. As described above, a method of removing the cover layer exposed from the resist may be used. However, for example, when the material of the cover layer 4 is a photocurable material, the cover layer at the position where the cut portion 15 is formed is cured. By not doing so, a cut portion can be formed. The thin layer described above can be formed by appropriately changing the wet etching conditions or adjusting the amount of light to be irradiated. Finally, Ni plating and Au plating are performed on the surfaces of the first wiring layer 3a and the second wiring layer 3b exposed at the cut portion 15, thereby forming the wiring plating layer 5 to obtain the suspension substrate of the present invention. (FIG. 20 (k), (l)).

また、図21は、本発明のサスペンション用基板の製造方法の他の例を示す説明図である。なお、図21(b)、(d)、(f)、(h)、(j)、(l)は、それぞれ図21(a)、(c)、(e)、(g)、(i)、(k)のA−A断面図である。図21に示されるサスペンション用基板の製造方法においては、まず、図20(a)〜(f)と同様にして、金属基板1、第一絶縁層2aおよび第一配線層3aを有する部材を形成する(図21(a)、(b))。次に、第一絶縁層2aおよび第一配線層3aの表面に、ポリイミドを塗布、加工することによって、第二絶縁層2bを形成する(図21(c)、(d))。次に、第二絶縁層2bの表面に、スパッタリング法により拡散防止層(例えばCr薄膜層)およびシード層(例えばCu薄膜層)を形成する。その後、シード層が形成された表面に、所定のレジストパターンを形成し、電解めっき法により、第二配線層3bを形成する(図21(e)、(f))。   FIG. 21 is an explanatory view showing another example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention. 21 (b), (d), (f), (h), (j), (l) are respectively shown in FIGS. 21 (a), (c), (e), (g), (i). It is AA sectional drawing of (k). In the method for manufacturing the suspension substrate shown in FIG. 21, first, a member having the metal substrate 1, the first insulating layer 2a, and the first wiring layer 3a is formed in the same manner as in FIGS. (FIGS. 21A and 21B). Next, a second insulating layer 2b is formed by applying and processing polyimide on the surfaces of the first insulating layer 2a and the first wiring layer 3a (FIGS. 21C and 21D). Next, a diffusion prevention layer (for example, a Cr thin film layer) and a seed layer (for example, a Cu thin film layer) are formed on the surface of the second insulating layer 2b by sputtering. Thereafter, a predetermined resist pattern is formed on the surface on which the seed layer is formed, and the second wiring layer 3b is formed by an electrolytic plating method (FIGS. 21E and 21F).

その後、不要なレジストパターン、拡散防止層およびシード層を除去し、第二配線層3bが形成されている側の基板表面に、ポリイミドを塗布、加工することによってカバー層4を形成する(図21(g)、(h))。次に、カバー層4の上に、切れ込み部を形成する位置に露出部を有するレジストパターンを作成し、露出するカバー層4をウェットエッチングにより除去し、切れ込み部15を形成する(図21(i)、(j))。最後に、切れ込み部15において露出する第二配線層3bの表面に、NiめっきおよびAuめっきを行うことにより、配線めっき層5を形成し、本発明のサスペンション用基板を得る(図21(k)、(l))。   Thereafter, unnecessary resist patterns, diffusion preventing layers and seed layers are removed, and a cover layer 4 is formed by applying and processing polyimide on the surface of the substrate on which the second wiring layer 3b is formed (FIG. 21). (G), (h)). Next, a resist pattern having an exposed portion is formed on the cover layer 4 at a position where the cut portion is to be formed, and the exposed cover layer 4 is removed by wet etching to form the cut portion 15 (FIG. 21 (i)). ), (J)). Finally, Ni plating and Au plating are performed on the surface of the second wiring layer 3b exposed at the cut portion 15, thereby forming the wiring plating layer 5 to obtain the suspension substrate of the present invention (FIG. 21 (k)). (L)).

なお、図20、図21では、金属基板からサスペンション用基板の形成を行ったが、例えば、金属基板と、第一絶縁層を形成するための絶縁層と、第一配線層を形成するための導体層とからなる積層材(三層材)を用いてサスペンション用基板の形成を行っても良い。   20 and 21, the suspension substrate is formed from the metal substrate. For example, the metal substrate, the insulating layer for forming the first insulating layer, and the first wiring layer are formed. The suspension substrate may be formed using a laminated material (three-layer material) made of a conductor layer.

B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板を含むことを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension of the present invention includes the above-described suspension substrate.

図22は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図22に示されるサスペンション40は、上述したサスペンション用基板20と、ジンバル部11が形成されている表面とは反対側のサスペンション用基板20の表面に備え付けられたロードビーム30とを有するものである。   FIG. 22 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 40 shown in FIG. 22 has the suspension substrate 20 described above and a load beam 30 provided on the surface of the suspension substrate 20 on the opposite side to the surface on which the gimbal portion 11 is formed. .

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、反りの少ないサスペンションとすることができる。   According to the present invention, a suspension with less warpage can be obtained by using the above-described suspension substrate.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板を有し、通常は、さらにロードビームを有する。サスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、ロードビームは、一般的なサスペンションに用いられるロードビームと同様のものを用いることができる。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate, and usually further has a load beam. The suspension substrate is the same as the content described in “A. Suspension substrate”, and therefore, the description thereof is omitted here. The load beam can be the same as the load beam used for a general suspension.

C.ヘッド付サスペンション
次に、本発明のヘッド付サスペンションについて説明する。本発明のヘッド付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダとを有するものである。
C. Next, the suspension with a head according to the present invention will be described. The suspension with a head of the present invention includes the above-described suspension and a magnetic head slider mounted on the suspension.

図23は、本発明のヘッド付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図23に示されるヘッド付サスペンション50は、上述したサスペンション40と、サスペンション40のジンバル部11に実装された磁気ヘッドスライダ41とを有するものである。   FIG. 23 is a schematic plan view showing an example of a suspension with a head according to the present invention. A suspension 50 with a head shown in FIG. 23 includes the above-described suspension 40 and a magnetic head slider 41 mounted on the gimbal portion 11 of the suspension 40.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、反りの少ないヘッド付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, a suspension with a head with less warpage can be obtained.

本発明のヘッド付サスペンションは、少なくともサスペンションおよび磁気ヘッドスライダを有するものである。サスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、磁気ヘッドスライダは、一般的なヘッド付サスペンションに用いられる磁気ヘッドスライダと同様のものを用いることができる。   The suspension with a head of the present invention has at least a suspension and a magnetic head slider. The suspension is the same as that described in “B. Suspension” above, and is not described here. Further, the magnetic head slider can be the same as the magnetic head slider used in a general suspension with a head.

D.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述したヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするものである。
D. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention includes the above-described suspension with a head.

図24は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図24に示されるハードディスクドライブ60は、上述したヘッド付サスペンション50と、ヘッド付サスペンション50がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク61と、ディスク61を回転させるスピンドルモータ62と、ヘッド付サスペンション50に接続されたアーム63と、ヘッド付サスペンション50の磁気ヘッドスライダを移動させるボイスコイルモータ64と、上記の部材を密閉するケース65とを有するものである。   FIG. 24 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 60 shown in FIG. 24 is connected to the suspension 50 with a head described above, a disk 61 on which the head suspension 50 writes and reads data, a spindle motor 62 that rotates the disk 61, and the suspension 50 with a head. The arm 63, the voice coil motor 64 that moves the magnetic head slider of the suspension 50 with head, and the case 65 that seals the above members are included.

本発明によれば、上述したヘッド付サスペンションを用いることで、高性能なハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a high-performance hard disk drive can be obtained by using the suspension with a head described above.

本発明のハードディスクドライブは、少なくともヘッド付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。ヘッド付サスペンションについては、上記「C.ヘッド付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with a head, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. The suspension with a head is the same as the contents described in the above “C. Suspension with a head”, and therefore description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

E.サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション用基板の製造方法は、上述したサスペンション用基板の製造方法であって、上記配線部を有する処理用部材を準備する準備工程と、上記処理用部材の配線部を構成する配線の少なくとも一つ覆うカバー層を形成するカバー層形成工程と、上記カバー層に対して、上記切れ込み部を形成する切れ込み部形成工程と、を有することを特徴とするものである。
E. Next, a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention will be described. A method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention is a method for manufacturing a suspension substrate as described above, and includes a preparation step of preparing a processing member having the wiring portion, and a wiring constituting the wiring portion of the processing member. A cover layer forming step for forming at least one cover layer; and a cut portion forming step for forming the cut portion with respect to the cover layer.

本発明によれば、カバー層に切れ込み部を設けることにより、反りを抑制したサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a suspension substrate in which warpage is suppressed by providing a cut portion in the cover layer.

本発明における準備工程は、上記処理用部材を準備する工程である。処理用部材は、少なくとも配線部を有する部材であり、通常、カバー層を形成する前の部材である。このような処理用部材としては、例えば、上述した図20(e)、(f)および図21(e)、(f)示す部材等を挙げることができる。なお、処理用部材の製造方法は、所望の処理用部材を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。   The preparation step in the present invention is a step of preparing the processing member. The processing member is a member having at least a wiring portion, and is usually a member before the cover layer is formed. Examples of such a processing member include the members shown in FIGS. 20 (e) and 20 (f) and FIGS. 21 (e) and 21 (f). In addition, the manufacturing method of the processing member will not be specifically limited if it is a method which can obtain the desired processing member.

また、本発明におけるカバー層形成工程は、処理用部材の配線部を構成する配線の少なくとも一つ覆うカバー層を形成する工程である。カバー層の材料を塗布する方法としては、特に限定されるものではなく、一般的な塗布方法を用いることができる。   Further, the cover layer forming step in the present invention is a step of forming a cover layer that covers at least one of the wires constituting the wiring portion of the processing member. The method for applying the material for the cover layer is not particularly limited, and a general application method can be used.

また、本発明おける切れ込み部形成は、上記カバー層に対して、上記切れ込み部を形成する工程である。切れ込み部の形成方法については、上述した「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、本発明においては、切れ込み部で露出する配線層にめっきを行う配線めっき工程を有していても良い。また、切れ込み部を形成する際に、上述した薄肉層の形成を行っても良い。   Moreover, the notch formation in this invention is a process of forming the said notch with respect to the said cover layer. The method for forming the cut portion is the same as that described in the above-mentioned “A. Suspension substrate”, so description thereof is omitted here. Moreover, in this invention, you may have the wiring plating process of plating to the wiring layer exposed by a notch part. Moreover, when forming a notch part, you may form the thin layer mentioned above.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

1…金属基板、2a…第一絶縁層、2b…第二絶縁層、3a…第一配線層、3b…第二配線層、3x…下部配線層、4…カバー層、4a…薄肉層、5…配線めっき層、11…ジンバル部、12…外部接続基板接続部、13…配線部、13X…長手方向配線領域、14…折り曲げ加工部、15…切れ込み部、15x…貫通切れ込み部、15y…配線間切れ込み部、15a…第一切れ込み部、15b…第二切れ込み部、20…サスペンション用基板、30…ロードビーム、40…サスペンション、41…磁気ヘッドスライダ、50…ヘッド付サスペンション、60…ハードディスクドライブ、61…ディスク、62…スピンドルモータ、63…アーム、64…ボイスコイルモータ、65…ケース   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal substrate, 2a ... 1st insulating layer, 2b ... 2nd insulating layer, 3a ... 1st wiring layer, 3b ... 2nd wiring layer, 3x ... Lower wiring layer, 4 ... Cover layer, 4a ... Thin-walled layer, 5 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Wiring plating layer, 11 ... Gimbal part, 12 ... External connection board connection part, 13 ... Wiring part, 13X ... Longitudinal wiring area, 14 ... Bending process part, 15 ... Notch part, 15x ... Through notch part, 15y ... Wiring Intermittent part, 15a ... first notch part, 15b ... second notch part, 20 ... suspension substrate, 30 ... load beam, 40 ... suspension, 41 ... magnetic head slider, 50 ... suspension with head, 60 ... hard disk drive, 61 ... Disc, 62 ... Spindle motor, 63 ... Arm, 64 ... Voice coil motor, 65 ... Case

Claims (16)

ジンバル部と、外部接続基板接続部と、前記ジンバル部および前記外部接続基板接続部を接続する配線部と、前記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有するサスペンション用基板であって、
前記配線部において、前記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有し、
前記サスペンション用基板は、前記ジンバル部および前記外部接続基板接続部の間に位置する折り曲げ加工部を有し、
前記配線部は、前記折り曲げ加工部および前記ジンバル部の間に、前記サスペンション用基板の長手方向に沿って前記配線層が存在する長手方向配線領域を有し、
前記長手方向配線領域において、前記カバー層は、前記切れ込み部を有することを特徴とするサスペンション用基板。
Suspension board having a gimbal part, an external connection board connection part, a wiring part for connecting the gimbal part and the external connection board connection part, and a cover layer covering at least one of the wiring layers constituting the wiring part Because
In the wiring part, the cover layer may have a cut portion one or more,
The suspension substrate has a bent portion positioned between the gimbal portion and the external connection substrate connection portion,
The wiring portion has a longitudinal wiring region in which the wiring layer is present along the longitudinal direction of the suspension substrate between the bent portion and the gimbal portion,
The longitudinal in the direction wiring region, said cover layer, suspension substrate, characterized by chromatic said slit portion.
前記切れ込み部は、前記カバー層の幅方向において、前記カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部であることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。 2. The suspension substrate according to claim 1, wherein the cut portion is a through cut portion penetrating from one end portion of the cover layer to the other end portion in the width direction of the cover layer. 前記貫通切れ込み部の切れ込み方向と、前記カバー層の長さ方向とのなす角度が、30°〜90°の範囲内であることを特徴とする請求項2に記載のサスペンション用基板。 The suspension substrate according to claim 2 , wherein an angle formed by a cut direction of the through cut portion and a length direction of the cover layer is within a range of 30 ° to 90 °. 前記切れ込み部において、前記配線層が露出する露出部を有し、前記露出部に配線めっき層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。 The said notch part has an exposed part which the said wiring layer exposes, and the wiring plating layer is formed in the said exposed part, The claim in any one of Claim 1 to 3 characterized by the above-mentioned. Suspension board. 前記切れ込み部において、前記カバー層よりも厚さの小さい薄肉層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。 The suspension substrate according to any one of claims 1 to 3 , wherein a thin layer having a thickness smaller than that of the cover layer is formed in the cut portion. ジンバル部と、外部接続基板接続部と、前記ジンバル部および前記外部接続基板接続部を接続する配線部と、前記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有するサスペンション用基板であって、Suspension board having a gimbal part, an external connection board connection part, a wiring part for connecting the gimbal part and the external connection board connection part, and a cover layer covering at least one of the wiring layers constituting the wiring part Because
前記配線部において、前記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有し、  In the wiring portion, the cover layer has one or more cut portions,
前記切れ込み部において、前記カバー層よりも厚さの小さい薄肉層が形成されていることを特徴とするサスペンション用基板。A suspension substrate, wherein a thin layer having a thickness smaller than that of the cover layer is formed in the cut portion.
前記切れ込み部は、前記カバー層の幅方向において、前記カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部であることを特徴とする請求項6に記載のサスペンション用基板。The suspension substrate according to claim 6, wherein the cut portion is a through cut portion that penetrates from one end portion of the cover layer to the other end portion in the width direction of the cover layer. 前記配線部は、第一配線層および第二配線層を有し、The wiring portion has a first wiring layer and a second wiring layer,
前記サスペンション用基板は、金属基板と、前記金属基板上に形成された第一絶縁層と、前記第一絶縁層上に形成された前記第一配線層および前記第二配線層と、前記第一配線層および前記第二配線層を覆う前記カバー層とを有することを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。  The suspension substrate includes a metal substrate, a first insulating layer formed on the metal substrate, the first wiring layer and the second wiring layer formed on the first insulating layer, and the first The suspension substrate according to any one of claims 1 to 7, further comprising a wiring layer and the cover layer covering the second wiring layer.
ジンバル部と、外部接続基板接続部と、前記ジンバル部および前記外部接続基板接続部を接続する配線部と、前記配線部を構成する配線層の少なくとも一つを覆うカバー層とを有するサスペンション用基板であって、Suspension board having a gimbal part, an external connection board connection part, a wiring part for connecting the gimbal part and the external connection board connection part, and a cover layer covering at least one of the wiring layers constituting the wiring part Because
前記配線部において、前記カバー層は、切れ込み部を一または二以上有し、  In the wiring portion, the cover layer has one or more cut portions,
前記配線部は、第一配線層および第二配線層を有し、  The wiring portion has a first wiring layer and a second wiring layer,
前記サスペンション用基板は、金属基板と、前記金属基板上に形成された第一絶縁層と、前記第一絶縁層上に形成された前記第一配線層および前記第二配線層と、前記第一配線層および前記第二配線層を覆う前記カバー層とを有することを特徴とするサスペンション用基板。The suspension substrate includes a metal substrate, a first insulating layer formed on the metal substrate, the first wiring layer and the second wiring layer formed on the first insulating layer, and the first A suspension board comprising: a wiring layer; and the cover layer covering the second wiring layer.
前記切れ込み部は、前記カバー層の幅方向において、前記カバー層の一方の端部から他方の端部までを貫通する貫通切れ込み部であることを特徴とする請求項9に記載のサスペンション用基板。The suspension substrate according to claim 9, wherein the cut portion is a through cut portion penetrating from one end portion of the cover layer to the other end portion in the width direction of the cover layer. 前記切れ込み部は、前記貫通切れ込み部と、前記第一配線層および前記第二配線層の間に形成された配線間切れ込み部とを有し、The cut portion includes the through cut portion, and an inter-wire cut portion formed between the first wiring layer and the second wiring layer,
前記貫通切れ込み部と、前記配線間切れ込み部とが互いに連結していることを特徴とする請求項8から請求項10までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。  The suspension substrate according to any one of claims 8 to 10, wherein the through-cut portion and the inter-wire cut portion are connected to each other.
前記切れ込み部は、前記カバー層の幅方向において、前記カバー層の一方の端部側に形成された第一切れ込み部と、前記カバー層の他方の端部側に形成された第二切れ込み部とを有し、The cut portion includes a first cut portion formed on one end side of the cover layer and a second cut portion formed on the other end side of the cover layer in the width direction of the cover layer. Have
前記第一切れ込み部および前記第二切れ込み部は、前記カバー層の幅方向において、互いに重複しないように配置されていることを特徴とする請求項8から請求項10のいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板。  The said 1st notch part and said 2nd notch part are arrange | positioned so that it may not mutually overlap in the width direction of the said cover layer, The claim in any one of Claims 8-10 characterized by the above-mentioned. Suspension board.
前記切れ込み部は、前記第一切れ込み部と、前記第二切れ込み部と、前記第一配線層および前記第二配線層の間に形成された配線間切れ込み部とを有し、The notch has the first notch, the second notch, and the inter-wire notch formed between the first wiring layer and the second wiring layer,
前記第一切れ込み部と、前記第二切れ込み部と、前記配線間切れ込み部とが互いに連結していることを特徴とする請求項12に記載のサスペンション用基板。  The suspension substrate according to claim 12, wherein the first cut portion, the second cut portion, and the inter-wire cut portion are connected to each other.
請求項1から請求項13までのいずれかの請求項に記載のサスペンション用基板を含むことを特徴とするサスペンション。   A suspension comprising the suspension substrate according to any one of claims 1 to 13. 請求項14に記載のサスペンションと、前記サスペンションに実装された磁気ヘッドスライダと、を有することを特徴とするヘッド付サスペンション。   15. A suspension with a head, comprising: the suspension according to claim 14; and a magnetic head slider mounted on the suspension. 請求項15に記載のヘッド付サスペンションを含むことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 15.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5212815A (en) * 1975-07-21 1977-01-31 Hitachi Ltd Multiple element type magnetic head
JPH0629667A (en) * 1991-02-08 1994-02-04 Rogers Corp Flexible circuit provided with rigidity- bendable part and its manufacture
JP2981057B2 (en) * 1992-07-07 1999-11-22 日東電工株式会社 Flexible printed circuit board for hard disk driver
US5491597A (en) * 1994-04-15 1996-02-13 Hutchinson Technology Incorporated Gimbal flexure and electrical interconnect assembly
JPH0922570A (en) * 1995-07-03 1997-01-21 Fujitsu Ltd Head assembly and magnetic disk device equipped with the same
JPH09282625A (en) * 1996-04-11 1997-10-31 Totoku Electric Co Ltd Lead wire for hdd magnetic disk
JP3727410B2 (en) * 1996-05-14 2005-12-14 日本メクトロン株式会社 Manufacturing method of suspension with circuit wiring for magnetic head
US6381100B1 (en) * 1996-12-19 2002-04-30 Hutchinson Technology Incorporated Integrated lead suspension flexure with balanced parallel leads for insulator layer hygrothermal compensation
US5862010A (en) * 1997-07-08 1999-01-19 International Business Machines Corporation Transducer suspension system
US6046886A (en) * 1997-10-09 2000-04-04 Seagate Technology, Inc. Flex circuit head interconnect with insulating spacer
US6249404B1 (en) * 1999-02-04 2001-06-19 Read-Rite Corporation Head gimbal assembly with a flexible printed circuit having a serpentine substrate
US6353515B1 (en) * 1999-09-20 2002-03-05 Innovex, Inc. Flex suspension assembly for disk drive
JP3803035B2 (en) * 2001-03-07 2006-08-02 サンコール株式会社 Manufacturing method of magnetic head suspension
JP4019068B2 (en) * 2004-05-10 2007-12-05 日東電工株式会社 Suspension board with circuit
US7441323B1 (en) * 2005-01-18 2008-10-28 Hutchinson Technology Incorporated Method of aligning components for installation on a head suspension assembly
US8929033B2 (en) * 2005-05-02 2015-01-06 HGST Netherlands B.V. Flexure for implementation on a suspension in a hard disk drive for resisting windage effects
JP5099509B2 (en) * 2007-05-11 2012-12-19 大日本印刷株式会社 Suspension substrate, manufacturing method thereof, magnetic head suspension, and hard disk drive
JP5135188B2 (en) * 2008-12-03 2013-01-30 日東電工株式会社 Printed circuit board

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