JP5605008B2 - Method for producing optically active trans-4-fluoroproline high purity product - Google Patents

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Description

本発明は、光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing optically active trans-4-fluoroproline.

光学活性トランス−4−フルオロプロリンは重要な医薬中間体である(非特許文献1、非特許文献2)。該化合物の製造方法においては光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体の立体反転を伴う脱ヒドロキシフッ素化反応が多用されるが、所望の光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体以外に相当量の光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体を副生する(スキーム1を参照。Pはカルボキシル基の保護基を表し、Pは2級アミノ基の保護基を表す)。この段階での副生成物の除去や続く脱保護反応工程での副生成物由来不純物の除去を簡便に且つ効率良く行うことは困難であった。

Figure 0005605008
Optically active trans-4-fluoroproline is an important pharmaceutical intermediate (Non-Patent Document 1, Non-Patent Document 2). In the method for producing the compound, a dehydroxyfluorination reaction involving steric inversion of the optically active cis-4-hydroxyproline protector is frequently used, but a considerable amount other than the desired optically active trans-4-fluoroproline protector is used. An optically active 3,4-dehydroproline protector is by-produced (see Scheme 1; P 1 represents a protecting group for a carboxyl group, and P 2 represents a protecting group for a secondary amino group). It has been difficult to easily and efficiently remove by-products at this stage and remove by-product-derived impurities in the subsequent deprotection reaction step.
Figure 0005605008

従来の除去方法としては、炭素−炭素2重結合にハロゲン系酸化剤を反応させて処理物を除去する方法(特許文献1)や、N−ベンジルオキシカルボニル−トランス−4−フルオロ−L−プロリンの段階でシクロヘキシルアミン塩に誘導して再結晶精製する方法(特許文献2)が開示されている。   Conventional removal methods include a method of removing a treated product by reacting a carbon-carbon double bond with a halogen-based oxidant (Patent Document 1), or N-benzyloxycarbonyl-trans-4-fluoro-L-proline. A method of recrystallization and purification by derivatization into a cyclohexylamine salt at the stage (Patent Document 2) is disclosed.

また、本出願人は、N−tert−ブトキシカルボニル−トランス−4−フルオロ−L−プロリンの段階で塩に誘導して再結晶精製する方法を出願している(特願2009−278791号)。   In addition, the present applicant has filed a method for recrystallization purification by inducing a salt at the stage of N-tert-butoxycarbonyl-trans-4-fluoro-L-proline (Japanese Patent Application No. 2009-278791).

国際公開2006/080401号パンフレットInternational Publication No. 2006/080401 Pamphlet 米国特許4241076号明細書US Pat. No. 4,214,076

Organic Process Research & Development(米国),2008年,第12巻,p.183−191Organic Process Research & Development (USA), 2008, Vol. 12, p. 183-191 Bioorganic & Medicinal Chemistry(オランダ),2006年,第14巻,p.6900−6916Bioorganic & Medicinal Chemistry (Netherlands), 2006, Vol. 14, p. 6900-6916

光学活性トランス−4−フルオロプロリンは医薬中間体として高純度品が要求される。よって、本発明の目的は、光学活性トランス−4−フルオロプロリン高純度品の製造方法を提供することにある。   Optically active trans-4-fluoroproline is required to have a high purity as a pharmaceutical intermediate. Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a highly pure product of optically active trans-4-fluoroproline.

特許文献1は、炭素−炭素2重結合とハロゲン系酸化剤の反応が単純でなく、最終的に除去すべき処理物の構造を特定し難く、品質管理が必ずしも容易でなかった。   In Patent Document 1, the reaction between the carbon-carbon double bond and the halogen-based oxidant is not simple, and it is difficult to specify the structure of the processed product to be finally removed, and quality control is not always easy.

また、特許文献2と特願2009−278791号は、塩への誘導、再結晶精製およびカルボキシル基への遊離を必要とし、操作が格段に簡便とは言えなかった。さらに、再結晶精製の除去効率も格段に高いとは言えなかった。   In addition, Patent Document 2 and Japanese Patent Application No. 2009-278791 require induction into a salt, recrystallization purification, and release to a carboxyl group, and the operation is not very simple. Furthermore, it could not be said that the recrystallization purification removal efficiency was remarkably high.

本発明に先立ち、上記の副生成物または該由来不純物の除去について予備検討を行ったところ(図1を参照)、ケース1から7の何れの対象化合物においても特許文献2と特願2009−278791号の除去効率を大幅に上回る方法を見出すことはできなかった(再結晶精製および塩での再結晶精製は、有機合成における一般的な操作を採用した。ケース7は水素化反応後に行った)。

Figure 0005605008
Prior to the present invention, preliminary studies were conducted on the removal of the above-mentioned by-products or impurities derived therefrom (see FIG. 1). As a result, Patent Document 2 and Japanese Patent Application No. 2009-278791 were applied to any of the target compounds in Cases 1 to 7. It was not possible to find a method that greatly exceeded the removal efficiency of No. 2 (recrystallization purification and salt recrystallization purification employed general procedures in organic synthesis. Case 7 was performed after the hydrogenation reaction) .
Figure 0005605008

この様に、光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造において品質管理が行い易く、高純度品を簡便に且つ効率良く製造できる方法が強く望まれていた。   As described above, there has been a strong demand for a method that allows easy quality control in the production of optically active trans-4-fluoroproline and that can produce a high-purity product simply and efficiently.

本発明者らは、上記の課題を踏まえて鋭意検討した結果、光学活性トランス−4−フルオロプロリンと光学活性プロリンの物性が大きく異なり、両化合物が容易に分離できることを見出した。つまり、光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造方法において、光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物から目的物だけを選択的に回収することを特徴とする製造方法を見出した。好適には、光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体(主生成物)と光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収する光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造方法を見出した(スキーム2を参照)。さらに、原料基質である光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体のカルボキシル基の保護基としてはベンジル基が好ましく、また2級アミノ基の保護基としてはベンジルオキシカルボニル基が好ましい。これらの好適な保護基を組み合わせることにより、光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体の炭素−炭素2重結合の水素化反応と、カルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の還元的脱保護反応(脱ベンジル化反応と脱ベンジルオキシカルボニル化反応)を同時に行うことができる。このことは、光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体と光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体を含む反応生成物から光学活性トランス−4−フルオロプロリンと光学活性プロリンを含む反応処理物への誘導を1工程で行えることを意味し、本発明の好ましい態様である。

Figure 0005605008
As a result of intensive studies based on the above problems, the present inventors have found that the properties of optically active trans-4-fluoroproline and optically active proline are greatly different, and both compounds can be easily separated. That is, in the method for producing optically active trans-4-fluoroproline, only the target product is selectively recovered from the reaction product containing optically active trans-4-fluoroproline (target product) and optically active proline (impurity). The manufacturing method characterized by these was found. Preferably, the optically active trans-4-fluoroproline protector (main product) and the optically active 3,4-dehydroproline protector obtained in the dehydroxyfluorination reaction of the optically active cis-4-hydroxyproline protector The reaction product containing (by-product) is subjected to a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group, thereby producing an optically active trans-4-fluoroproline (objective). Product) and an optically active proline (impurity) -containing reaction-treated product, and found a method for producing optically active trans-4-fluoroproline that selectively recovers only the desired product (see Scheme 2). Further, the protecting group for the carboxyl group of the protected optically active cis-4-hydroxyproline as the raw material substrate is preferably a benzyl group, and the protecting group for the secondary amino group is preferably a benzyloxycarbonyl group. By combining these suitable protecting groups, the hydrogenation reaction of the carbon-carbon double bond of the optically active 3,4-dehydroproline protector and the reductive action of the protecting group of the carboxyl group and the protecting group of the secondary amino group are achieved. Deprotection reaction (debenzylation reaction and debenzyloxycarbonylation reaction) can be carried out simultaneously. This means that a reaction product containing an optically active trans-4-fluoroproline protector and an optically active 3,4-dehydroproline protector is converted into a reaction product containing optically active trans-4-fluoroproline and optically active proline. This means that the induction can be performed in one step, which is a preferred embodiment of the present invention.
Figure 0005605008

すなわち、本発明は[発明1]から[発明5]を含み、光学活性トランス−4−フルオロプロリン高純度品の製造方法を提供する。   That is, the present invention includes [Invention 1] to [Invention 5], and provides a method for producing a highly pure product of optically active trans-4-fluoroproline.

[発明1]
式[A]

Figure 0005605008
[Invention 1]
Formula [A]
Figure 0005605008

で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造方法において、式[A]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と式[B]

Figure 0005605008
In the method for producing optically active trans-4-fluoroproline represented by formula (A), the optically active trans-4-fluoroproline (target product) represented by formula [A] and formula [B]
Figure 0005605008

で示される光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物から目的物だけを選択的に回収することを特徴とする製造方法。 A method for selectively recovering only a target product from a reaction-treated product containing optically active proline (impurities) represented by

[式中、*は不斉炭素を表し、式[A]の2位の絶対配置はS(L)体またはR(D)体を採り、式[A]の2位と4位の相対配置はトランスを採る。式[A]と式[B]の2位の立体化学は同じ絶対配置を採る]
[発明2]
一般式[1]

Figure 0005605008
[In the formula, * represents an asymmetric carbon, and the absolute configuration at the 2-position of the formula [A] is an S (L) isomer or an R (D) isomer, and the relative configuration between the 2-position and the 4-position of the formula [A]. Take a transformer. The stereochemistry at the 2-position of formula [A] and formula [B] takes the same absolute configuration]
[Invention 2]
General formula [1]
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、一般式[2]

Figure 0005605008
Which is obtained in a dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-L-proline represented by the general formula [2]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と一般式[3]

Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-L-proline (main product) represented by the general formula [3]
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、式[4]

Figure 0005605008
The reaction product containing the 3,4-dehydro-L-proline protector (by-product) represented by the following reaction is subjected to a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group. By doing the equation [4]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と式[5]

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the formula [5]
Figure 0005605008

で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−L−プロリンの製造方法。 A process for producing trans-4-fluoro-L-proline, wherein the reaction product containing L-proline (impurity) represented by formula (1) is induced to selectively recover only the target product.

[式中、Pはアルキル基、置換アルキル基、ベンジル基または置換ベンジル基を表し、Pはtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基またはトリフェニルメチル基を表す。]
[発明3]
式[6]

Figure 0005605008
[Wherein P 1 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group, and P 2 represents a tert-butoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group. Represents. ]
[Invention 3]
Formula [6]
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、式[7]

Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-L-proline represented by the formula [7]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と式[8]

Figure 0005605008
A trans-4-fluoro-L-proline protector (main product) represented by formula [8]
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の還元的脱保護反応を同時に行うことにより、式[4]

Figure 0005605008
A reaction product containing a 3,4-dehydro-L-proline protector (by-product) represented by the following formula: hydrogenation reaction and reductive deprotection of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group By carrying out the reaction simultaneously, the formula [4]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と式[5]

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the formula [5]
Figure 0005605008

で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−L−プロリンの製造方法。 A process for producing trans-4-fluoro-L-proline, wherein the reaction product containing L-proline (impurity) represented by formula (1) is induced to selectively recover only the target product.

[式中、Bnはベンジル基を表し、Cbzはベンジルオキシカルボニル基を表す]
[発明4]
一般式[9]

Figure 0005605008
[Wherein Bn represents a benzyl group and Cbz represents a benzyloxycarbonyl group]
[Invention 4]
General formula [9]
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、一般式[10]

Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-D-proline represented by the general formula [10]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン保護体(主生成物)と一般式[11]

Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-D-proline (main product) represented by the general formula [11]
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−D−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、式[12]

Figure 0005605008
The reaction product containing the 3,4-dehydro-D-proline protector (by-product) represented by the following formula is subjected to a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group. By doing the equation [12]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン(目的物)と式[13]

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-D-proline (target product) represented by the formula [13]
Figure 0005605008

で示されるD−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−D−プロリンの製造方法。 A process for producing trans-4-fluoro-D-proline, wherein the reaction product containing D-proline (impurities) represented by the formula (1) is induced to selectively recover only the target product.

[式中、Pはアルキル基、置換アルキル基、ベンジル基または置換ベンジル基を表し、Pはtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基またはトリフェニルメチル基を表す。]
[発明5]
式[14]

Figure 0005605008
[Wherein P 1 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group, and P 2 represents a tert-butoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group. Represents. ]
[Invention 5]
Formula [14]
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、式[15]

Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-D-proline represented by the formula [15]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン保護体(主生成物)と式[16]

Figure 0005605008
A trans-4-fluoro-D-proline protector (main product) represented by the formula [16]
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−D−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の還元的脱保護反応を同時に行うことにより、式[12]

Figure 0005605008
A reaction product containing a 3,4-dehydro-D-proline protector (by-product) represented by the following formula: hydrogenation reaction and reductive deprotection of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group By carrying out the reaction simultaneously, the formula [12]
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン(目的物)と式[13]

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-D-proline (target product) represented by the formula [13]
Figure 0005605008

で示されるD−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−D−プロリンの製造方法。 A process for producing trans-4-fluoro-D-proline, wherein the reaction product containing D-proline (impurities) represented by the formula (1) is induced to selectively recover only the target product.

[式中、Bnはベンジル基を表し、Cbzはベンジルオキシカルボニル基を表す] [Wherein Bn represents a benzyl group and Cbz represents a benzyloxycarbonyl group]

本発明が従来技術に比べて有利な点を以下に述べる。   The advantages of the present invention over the prior art will be described below.

本発明では、光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体(副生成物)から光学活性プロリン(不純物)への誘導が好適な反応条件において定量的に進行し、目的物の光学活性トランス−4−フルオロプロリンに残存する可能性のある光学活性プロリンは、その分析方法や毒性データ等が豊富に利用できるため、品質管理が格段に行い易い。また、実施例1で開示している通り、光学活性トランス−4−フルオロプロリンと光学活性プロリンの分離は熱時攪拌洗浄程度の格段に簡便な操作で対応することができ、除去効率も格段に高い。さらに、カルボキシル基と2級アミノ基の好適な保護基を組み合わせることにより、光学活性トランス−4−フルオロプロリン高純度品を短工程で収率良く製造することができる。   In the present invention, the induction of the optically active 3,4-dehydroproline protector (by-product) to the optically active proline (impurity) proceeds quantitatively under suitable reaction conditions, and the target optically active trans-4- Optically active proline that may remain in fluoroproline is much easier to perform quality control because of its abundant analytical methods and toxicity data. Further, as disclosed in Example 1, separation of optically active trans-4-fluoroproline and optically active proline can be handled by a remarkably simple operation such as hot stirring and washing, and the removal efficiency is remarkably improved. high. Furthermore, by combining a suitable protecting group for a carboxyl group and a secondary amino group, an optically active trans-4-fluoroproline high-purity product can be produced in a short process with a high yield.

本発明では、副生成物である光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体の炭素−炭素2重結合に対して還元的な処理を行っており、特許文献1の酸化的な処理とは発明の思想において好対照である。   In the present invention, the carbon-carbon double bond of the optically active 3,4-dehydroproline protector, which is a by-product, is subjected to a reductive treatment. It is a good contrast in thought.

また、本発明では、スキーム2の脱ヒドロキシフッ素化反応が立体保持で進行した光学活性シス−4−フルオロプロリン保護体(4位立体異性体)に由来する不純物(図2を参照)も同時に除去することができる。

Figure 0005605008
Further, in the present invention, impurities derived from the optically active cis-4-fluoroproline protector (4-position stereoisomer) in which the dehydroxyfluorination reaction in Scheme 2 proceeds with steric retention (see FIG. 2) are also removed. can do.
Figure 0005605008

この様に、本発明は従来技術の問題点を解決した光学活性トランス−4−フルオロプロリン高純度品の製造方法である。   Thus, the present invention is a method for producing optically active trans-4-fluoroproline high-purity products that solves the problems of the prior art.

本発明の光学活性トランス−4−フルオロプロリン高純度品の製造方法について詳細に説明する。   The method for producing the optically active trans-4-fluoroproline high-purity product of the present invention will be described in detail.

本発明の好適な製造方法は、「脱ヒドロキシフッ素化反応」、「水素化反応&脱保護反応」および「不純物除去」の3工程から成る。発明1は、不純物除去工程に対応する。   The preferred production method of the present invention comprises three steps of “dehydroxyfluorination reaction”, “hydrogenation reaction & deprotection reaction” and “impurity removal”. Invention 1 corresponds to an impurity removal step.

最初に、脱ヒドロキシフッ素化反応工程について詳細に説明する。   First, the dehydroxyfluorination reaction step will be described in detail.

脱ヒドロキシフッ素化反応工程では、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体を脱ヒドロキシフッ素化剤と反応させることにより、一般式[2]または一般式[10]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体(主生成物)と一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物を得る。この反応では、副生成物の光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体以外にさらに光学活性4,5−デヒドロプロリン保護体(図3を参照)を少量副生する場合もあるが、同じ不純物である光学活性プロリンに同様に誘導され除去することができる。

Figure 0005605008
In the dehydroxyfluorination reaction step, the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9] is reacted with a dehydroxyfluorinating agent to thereby react the general formula [2] or An optically active trans-4-fluoroproline protector represented by general formula [10] (main product) and an optically active 3,4-dehydroproline protector represented by general formula [3] or general formula [11] Product) is obtained. In this reaction, in addition to the by-product optically active 3,4-dehydroproline protector, a small amount of optically active 4,5-dehydroproline protector (see FIG. 3) may be produced as a by-product. It can be similarly induced and removed by certain optically active prolines.
Figure 0005605008

一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体のPは、アルキル基、置換アルキル基、ベンジル基または置換ベンジル基を表す。アルキル基は、炭素数が1から12の、直鎖または枝分れの鎖式、または環式(炭素数が3以上の場合)である。置換アルキル基は、該アルキル基の任意の炭素原子上に、任意の数でさらに任意の組み合わせで置換基を有する。係る置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基等である。本明細書における“低級”は、炭素数が1から6の、直鎖または枝分れの鎖式、または環式(炭素数が3以上の場合)を表す。置換ベンジル基は、フェニル基の任意の炭素原子上に、任意の数でさらに任意の組み合わせで置換基を有する。係る置換基は、フッ素原子、トリフルオロメチル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基等である。Pの具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジクロロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、ベンジル基、2−フルオロベンジル基、3−フルオロベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基、4−メチルベンジル基、2−メトキシベンジル基、3−メトキシベンジル基、4−メトキシベンジル基等が挙げられる。その中でもメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ベンジル基、2−メチルベンジル基、3−メチルベンジル基および4−メチルベンジル基が好ましく、ベンジル基が特に好ましい。 P 1 of the protected optically active cis-4-hydroxyproline represented by the general formula [1] or the general formula [9] represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a benzyl group, or a substituted benzyl group. The alkyl group is a straight chain or branched chain type having 1 to 12 carbon atoms, or cyclic (when the number of carbon atoms is 3 or more). The substituted alkyl group has a substituent in any number and in any combination on any carbon atom of the alkyl group. Such substituents include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, lower alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups, propoxy groups, and butoxy groups. In the present specification, “lower” represents a linear or branched chain or cyclic group having 1 to 6 carbon atoms (when the number of carbon atoms is 3 or more). The substituted benzyl group has substituents in any number and in any combination on any carbon atom of the phenyl group. Such substituents include fluorine atoms, trifluoromethyl groups, methyl groups, ethyl groups, propyl groups, lower alkyl groups such as butyl groups, lower alkoxy groups such as methoxy groups, ethoxy groups, propoxy groups, and butoxy groups. Specific examples of P 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, Cyclohexyl group, 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2-chloroethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group 2-methoxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, benzyl Group, 2-fluorobenzyl group, 3-fluorobenzyl group, 4-fluorobenzyl group, 2-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2- A methoxybenzyl group, 3-methoxybenzyl group, 4-methoxybenzyl group, etc. are mentioned. Among them, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, benzyl group, 2-methylbenzyl group, 3-methylbenzyl group and 4 -A methylbenzyl group is preferred, and a benzyl group is particularly preferred.

一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体のPは、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基またはトリフェニルメチル基を表す。その中でもtert−ブトキシカルボニル基およびベンジルオキシカルボニル基が好ましく、ベンジルオキシカルボニル基が特に好ましい。 P 2 in the protected optically active cis-4-hydroxyproline represented by general formula [1] or general formula [9] is a tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or tri Represents a phenylmethyl group. Among them, a tert-butoxycarbonyl group and a benzyloxycarbonyl group are preferable, and a benzyloxycarbonyl group is particularly preferable.

一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体は、特許文献2、第5版実験化学講座16有機化合物の合成IVカルボン酸・アミノ酸・ペプチド(日本化学会編平成17年丸善発行)の2アミノ酸・ペプチド、Tetrahedron Letters(英国),1998年,第39巻,p.1169−1172等を参考にして同様に製造することができる。   The optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9] is disclosed in Patent Document 2, Fifth Edition Experimental Chemistry Course 16 Synthesis of Organic Compounds IV Carboxylic Acids / Amino Acids / Peptides (Japan) 2 amino acids and peptides published by Maruzen in 2005), Tetrahedron Letters (UK), 1998, Vol. 39, p. It can be similarly produced with reference to 1169-1172 and the like.

脱ヒドロキシフッ素化剤としては、特に制限はないが、SO/有機塩基(式中、SOはスルフリルフルオリドを表す。有機塩基の存在下にSOと反応させることを意味する;特開2006−290870号公報)、RfSOF/有機塩基[式中、RfはCF(トリフルオロメチル基)またはn−C(n−ノナフルオロブチル基)を表す。有機塩基の存在下にRfSOFと反応させることを意味する;特開2005−336151号公報]、3フッ化ジエチルアミノイオウ(DAST;A)、3フッ化ビス(2−メトキシエチル)アミノイオウ(B)、ヤロベンコ試薬(CTT;C)、石川試薬(PPDA;D)、2,2−ジフルオロ−1,3−ジメチルイミダゾリジン(E)等が挙げられる(AからEは図4を参照)。その中でもSO/有機塩基、C、DおよびEが好ましく、SO/有機塩基が特に好ましい。CおよびDは、トリフルオロクロロエチレンまたはヘキサフルオロプロペンとジエチルアミンの付加物であるが、これら以外の類似する組み合わせ(例えば、テトラフルオロエチレン等のフルオロオレフィン、ジメチルアミン等の炭素数の異なるジアルキルアミン)から成る付加物も同様の脱ヒドロキシフッ素化能を期待することができるため、本発明における脱ヒドロキシフッ素化剤として扱う。上記の全ての脱ヒドロキシフッ素化剤は、低級アルコール、フッ化水素または「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」の存在下に用いることもでき、この様な態様も本発明における脱ヒドロキシフッ素化剤として扱う。その中でも好適なSO/有機塩基において、さらに「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」の存在下に脱ヒドロキシフッ素化反応を行う態様が特に好ましい。

Figure 0005605008
The dehydroxyfluorination agent, it is not particularly limited, SO 2 F 2 / organic bases (wherein, SO 2 F 2 is reacted with SO 2 F 2 in the presence of. An organic base representing the sulfuryl fluoride Means RfSO 2 F / organic base [wherein Rf represents CF 3 (trifluoromethyl group) or n-C 4 F 9 (n-nonafluorobutyl group). . This means reacting with RfSO 2 F in the presence of an organic base; JP 2005-336151 A; diethylaminosulfur trifluoride (DAST; A); bis (2-methoxyethyl) aminosulfur trifluoride (B ), Yarobenco reagent (CTT; C), Ishikawa reagent (PPDA; D), 2,2-difluoro-1,3-dimethylimidazolidine (E) and the like (see FIG. 4 for A to E). Among them, SO 2 F 2 / organic base, C, D and E are preferable, and SO 2 F 2 / organic base is particularly preferable. C and D are adducts of trifluorochloroethylene or hexafluoropropene and diethylamine, but other similar combinations (for example, fluoroolefins such as tetrafluoroethylene, dialkylamines having different carbon numbers such as dimethylamine) Since the adduct consisting of can be expected to have the same dehydroxyfluorination ability, it is treated as a dehydroxyfluorination agent in the present invention. All the above-mentioned dehydroxyfluorinating agents can be used in the presence of lower alcohol, hydrogen fluoride, or “a salt or complex comprising an organic base and hydrogen fluoride”. Treat as fluorinating agent. Among these, a preferable embodiment is one in which a suitable SO 2 F 2 / organic base is further subjected to a dehydroxyfluorination reaction in the presence of a “salt or complex comprising an organic base and hydrogen fluoride”.
Figure 0005605008

好適なSO/有機塩基におけるSOの使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.7モル以上を用いれば良く、0.8から10モルが好ましく、0.9から5モルが特に好ましい。 The amount of SO 2 F 2 to be used in a suitable SO 2 F 2 / organic base is 0.000 per mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9]. 7 mol or more may be used, 0.8 to 10 mol is preferable, and 0.9 to 5 mol is particularly preferable.

好適なSO/有機塩基における有機塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリn−ブチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、2,4,6−コリジン、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノン−5−エン(DBN)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)等が挙げられる。その中でもトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリn−ブチルアミン、ピリジン、2,6−ルチジンおよび2,4,6−コリジンが好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリn−プロピルアミン、トリn−ブチルアミンおよびピリジンが特に好ましい。これらの有機塩基は単独でまたは組み合わせて用いることができる。 Suitable organic bases in SO 2 F 2 / organic base include triethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 2,6-lutidine, 2,4,6-collidine, 4-dimethyl Aminopyridine (DMAP), 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN), 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene (DBU) and the like. It is done. Among them, triethylamine, diisopropylethylamine, tri n-propylamine, tri n-butylamine, pyridine, 2,6-lutidine and 2,4,6-collidine are preferable, and triethylamine, diisopropylethylamine, tri n-propylamine, tri n- Butylamine and pyridine are particularly preferred. These organic bases can be used alone or in combination.

好適なSO/有機塩基における有機塩基の使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.7モル以上を用いれば良く、0.8から20モルが好ましく、0.9から10モルが特に好ましい。 The amount of organic base used in a suitable SO 2 F 2 / organic base is 0.7 mol relative to 1 mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by general formula [1] or general formula [9]. The above may be used, preferably 0.8 to 20 moles, particularly preferably 0.9 to 10 moles.

「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」における有機塩基は、上記の好適なSO/有機塩基における有機塩基を好適に採用することができる。 As the organic base in the “salt or complex composed of an organic base and hydrogen fluoride”, the organic base in the above-mentioned preferable SO 2 F 2 / organic base can be preferably used.

「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」における有機塩基とフッ化水素のモル比は、100:1から1:100の範囲で用いれば良く、50:1から1:50が好ましく、25:1から1:25が特に好ましい。アルドリッチ(Aldrich、2009−2010カタログ)から市販されている「トリエチルアミン1モルとフッ化水素3モルからなる錯体」または「ピリジン〜30%(〜10モル%)とフッ化水素〜70%(〜90モル%)からなる錯体」を用いるのが便利である。   The molar ratio of the organic base and hydrogen fluoride in the “salt or complex comprising organic base and hydrogen fluoride” may be used in the range of 100: 1 to 1: 100, preferably 50: 1 to 1:50, 25 1 to 1:25 is particularly preferred. "Complex consisting of 1 mol of triethylamine and 3 mol of hydrogen fluoride" or "pyridine ~ 30% (-10 mol%) and hydrogen fluoride ~ 70% (~ 90) commercially available from Aldrich (Aldrich, 2009-2010 catalog). It is convenient to use a “complex consisting of (mol%)”.

「有機塩基とフッ化水素からなる塩または錯体」の使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対してフッ化物イオン(F)として0.1モル以上を用いれば良く、0.3から30モルが好ましく、0.5から20モルが特に好ましい。 The amount of the “salt or complex comprising an organic base and hydrogen fluoride” used is fluoride ion relative to 1 mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9]. (F ) may be 0.1 mol or more, preferably 0.3 to 30 mol, particularly preferably 0.5 to 20 mol.

RfSOF/有機塩基におけるRfSOFの使用量、有機塩基および該使用量は、好適なSO/有機塩基において記載したSOの使用量、有機塩基および該使用量と同様である。 The amount of RfSO 2 F in RfSO 2 F / organic bases, organic bases and amount of use is, the amount of SO 2 F 2 as described in the preferred SO 2 F 2 / organic bases, as well as organic bases and the amount of use It is.

AからE等(類似付加物も対象)の使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.7モル以上を用いれば良く、0.8から10モルが好ましく、0.9から5モルが特に好ましい。   The amount of A to E etc. (including similar adducts) is 0.7 mol or more with respect to 1 mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9]. May be used, preferably 0.8 to 10 mol, particularly preferably 0.9 to 5 mol.

脱ヒドロキシフッ素化剤を低級アルコールまたはフッ化水素の存在下に用いる場合、該使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.01モル以上を用いれば良く、0.02から30モルが好ましく、0.03から20モルが特に好ましい。   When the dehydroxyfluorinating agent is used in the presence of a lower alcohol or hydrogen fluoride, the amount used is 1 mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or the general formula [9]. 0.01 mol or more may be used, preferably 0.02 to 30 mol, particularly preferably 0.03 to 20 mol.

反応溶媒としては、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル系、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のアミド系、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。その中でもn−ヘプタン、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルおよびジメチルスルホキシドが好ましく、トルエン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミドおよびアセトニトリルが特に好ましい。これらの反応溶媒は単独でまたは組み合わせて用いることができる。   Examples of the reaction solvent include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogens such as methylene chloride and 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, and tert-butylmethyl. Ethers such as ether, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, amides such as N, N-dimethylformamide and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile And dimethyl sulfoxide. Among these, n-heptane, toluene, methylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide, acetonitrile and dimethyl sulfoxide are preferable, and toluene, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide and acetonitrile are particularly preferable. These reaction solvents can be used alone or in combination.

反応溶媒の使用量は、一般式[1]または一般式[9]で示される光学活性シス−4−ヒドロキシプロリン保護体1モルに対して0.1L以上を用いれば良く、0.2から20Lが好ましく、0.3から10Lが特に好ましい。   The reaction solvent may be used in an amount of 0.1 L or more per 1 mol of the optically active cis-4-hydroxyproline protector represented by the general formula [1] or [9], from 0.2 to 20 L. Is preferable, and 0.3 to 10 L is particularly preferable.

反応温度は、−60から+150℃の範囲で行えば良く、−50から+125℃が好ましく、−40から+100℃が特に好ましい。   The reaction temperature may be in the range of −60 to + 150 ° C., preferably −50 to + 125 ° C., particularly preferably −40 to + 100 ° C.

反応時間は、24時間以内の範囲で行えば良く、原料基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴等の分析手段により反応の進行状況を追跡し、原料基質が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。   The reaction time may be in the range of 24 hours or less, and varies depending on the raw material substrate and reaction conditions. Therefore, the progress of the reaction is traced by analytical means such as gas chromatography, thin layer chromatography, liquid chromatography, and nuclear magnetic resonance. However, it is preferable that the end point is when the raw material substrate is almost lost.

後処理は、有機合成における一般的な操作を採用することにより、一般式[2]または一般式[10]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体(主生成物)と一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物を得ることができる。通常の後処理操作としては、反応終了液に無機塩基の水溶液を加えて有機溶媒で抽出し、回収有機層を水、食塩水または無機酸の水溶液で洗浄し、必要に応じて乾燥剤で乾燥し、有機溶媒を減圧除去することにより粗生成物を得ることができる。粗生成物は、必要に応じてカラムクロマトグラフィー等により高い純度に精製することができるが、副生成物の除去を簡便に且つ効率良く行うことは困難である。   The post-treatment employs a general procedure in organic synthesis, whereby the optically active trans-4-fluoroproline protector (main product) represented by the general formula [2] or the general formula [10] and the general formula [ 3] or an optically active 3,4-dehydroproline protector (byproduct) represented by the general formula [11] can be obtained. As usual post-treatment operation, an aqueous solution of an inorganic base is added to the reaction-terminated solution, followed by extraction with an organic solvent. The crude product can be obtained by removing the organic solvent under reduced pressure. The crude product can be purified to a high purity by column chromatography or the like as necessary, but it is difficult to easily and efficiently remove the by-product.

次に、水素化反応&脱保護反応工程について詳細に説明する。   Next, the hydrogenation reaction & deprotection reaction step will be described in detail.

水素化反応&脱保護反応工程では、一般式[2]または一般式[10]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体(主生成物)と一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、式[4]または式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と式[5]または式[13]で示される光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導する。この誘導では、光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体の炭素−炭素2重結合の水素化反応条件においてカルボキシル基の保護基(P)と2級アミノ基の保護基(P)の脱保護反応を同時に行うことができれば、光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体と光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体を含む反応生成物から光学活性トランス−4−フルオロプロリンと光学活性プロリンを含む反応処理物への誘導を1工程で行える。水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応の行う順序に制限はなく、任意の順序で行うことができる。また、好適な水素化反応条件を採用すれば4位フッ素原子の還元的脱フッ素化反応(水素原子への変換)は殆ど進行しない。仮に還元的脱フッ素化反応が少し進行しても、同じ不純物である光学活性プロリンに同様に誘導され除去することができる。 In the hydrogenation reaction & deprotection reaction step, the optically active trans-4-fluoroproline protector (main product) represented by general formula [2] or general formula [10] and general formula [3] or general formula [11] ] For the reaction product containing the optically active 3,4-dehydroproline protector (by-product) represented by formula (I), a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group By performing the reaction, an optically active trans-4-fluoroproline represented by formula [4] or formula [12] (target product) and an optically active proline (impurity) represented by formula [5] or formula [13] are contained. Guide to treatment. In this induction, deprotection of the protecting group for the carboxyl group (P 1 ) and the protecting group for the secondary amino group (P 2 ) under the hydrogenation reaction conditions of the carbon-carbon double bond of the protected optically active 3,4-dehydroproline. If the protection reaction can be carried out simultaneously, the reaction product containing the optically active trans-4-fluoroproline protector and the optically active 3,4-dehydroproline protector contains the optically active trans-4-fluoroproline and the optically active proline. Induction to the reaction product can be performed in one step. There is no restriction | limiting in the order which performs the hydrogenation reaction and the deprotection reaction of the protecting group of a carboxyl group, and the protecting group of a secondary amino group, It can carry out in arbitrary orders. Further, if suitable hydrogenation reaction conditions are employed, the reductive defluorination reaction (conversion to hydrogen atoms) of the 4-position fluorine atom hardly proceeds. Even if the reductive defluorination reaction proceeds slightly, it can be similarly induced and removed by the same impurity, optically active proline.

水素化反応について具体的に説明する。   The hydrogenation reaction will be specifically described.

水素化反応は、10族の遷移金属触媒の存在下に水素(H)と反応させることにより行う。本反応は、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、硫酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の酸または炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロヘキシルアミン等の塩基の存在下に行うことにより円滑に進行する場合がある。脱保護反応を水素化反応の先に行う場合は、酸または塩基を原料基質の塩の形で供することもできる。しかしながら、好適な反応条件を採用することにより、必ずしも酸または塩基の存在下に行う必要はない。 The hydrogenation reaction is performed by reacting with hydrogen (H 2 ) in the presence of a Group 10 transition metal catalyst. This reaction can be carried out with acids such as hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, formic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid or lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, water It may proceed smoothly by carrying out in the presence of a base such as lithium oxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, cyclohexylamine. When the deprotection reaction is carried out prior to the hydrogenation reaction, the acid or base can be provided in the form of a salt of the raw material substrate. However, by employing suitable reaction conditions, it is not necessary to carry out in the presence of an acid or a base.

10族の遷移金属触媒としては、ニッケル触媒、パラジウム触媒、白金触媒が挙げられる。その中でもパラジウム触媒が好ましく、パラジウムスポンジ、パラジウム黒、パラジウム炭、パラジウムアルミナ、パラジウム炭酸カルシウム、パラジウム硫酸バリウム、水酸化パラジウム、酢酸パラジウムおよび塩化パラジウムが特に好ましい。   Examples of Group 10 transition metal catalysts include nickel catalysts, palladium catalysts, and platinum catalysts. Among these, a palladium catalyst is preferable, and palladium sponge, palladium black, palladium charcoal, palladium alumina, palladium calcium carbonate, palladium barium sulfate, palladium hydroxide, palladium acetate, and palladium chloride are particularly preferable.

10族の遷移金属触媒の使用量は、反応生成物に含まれる一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体1モルに対して0.000001モル以上を用いれば良く、0.00001から0.3モルが好ましく、0.00005から0.2モルが特に好ましい。   The amount of Group 10 transition metal catalyst used is 0.000001 mol per mol of the optically active 3,4-dehydroproline protector represented by the general formula [3] or the general formula [11] contained in the reaction product. The above may be used, preferably from 0.00001 to 0.3 mol, particularly preferably from 0.00005 to 0.2 mol.

水素の使用量は、反応生成物に含まれる一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体1モルに対して1モル以上を用いれば良く、大過剰の水素雰囲気下(大気圧)で行うのが好ましく、大過剰の加圧条件下が特に好ましい。また、脱保護反応も同時に行う場合は、該反応に必要な水素の使用量を加味して用いれば良い。   The amount of hydrogen used may be 1 mol or more per 1 mol of the optically active 3,4-dehydroproline protector represented by the general formula [3] or the general formula [11] contained in the reaction product. It is preferable to carry out under an excessive hydrogen atmosphere (atmospheric pressure), and a large excess of pressure is particularly preferred. Further, when the deprotection reaction is also performed at the same time, it may be used in consideration of the amount of hydrogen used for the reaction.

大過剰の加圧条件下で行う場合の水素圧は、10MPa以下で行えば良く、0.01から5MPaが好ましく、0.05から3MPaが特に好ましい。   The hydrogen pressure when carried out under a large excess of pressure may be 10 MPa or less, preferably 0.01 to 5 MPa, particularly preferably 0.05 to 3 MPa.

水素化反応を酸または塩基の存在下に行う場合の該使用量は、一般式[2]または一般式[10]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体と一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体を含む反応生成物トータル1モルに対して0.1モル以上を用いれば良く、0.2から30モルが好ましく、0.3から20モルが特に好ましい。   The amount used when the hydrogenation reaction is carried out in the presence of an acid or a base is the optically active trans-4-fluoroproline protector represented by the general formula [2] or the general formula [10] and the general formula [3] or The total amount of the reaction product including the optically active 3,4-dehydroproline protector represented by the general formula [11] may be 0.1 mol or more, preferably 0.2 to 30 mol, 3 to 20 mol is particularly preferred.

反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル系、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のアミド系、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール系、水等が挙げられる。その中でもアルコール系および水が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよび水が特に好ましい。これらの反応溶媒は単独でまたは組み合わせて用いることができる。   Reaction solvents include ethers such as tetrahydrofuran and tert-butyl methyl ether, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, amides such as N, N-dimethylformamide and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. And alcohols such as dimethyl sulfoxide, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol, and water. Of these, alcohols and water are preferable, and methanol, ethanol, isopropanol and water are particularly preferable. These reaction solvents can be used alone or in combination.

反応溶媒の使用量は、一般式[2]または一般式[10]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン保護体と一般式[3]または一般式[11]で示される光学活性3,4−デヒドロプロリン保護体を含む反応生成物トータル1モルに対して0.1L以上を用いれば良く、0.2から30Lが好ましく、0.3から20Lが特に好ましい。   The reaction solvent is used in an optically active trans-4-fluoroproline protector represented by general formula [2] or general formula [10] and optically active 3, represented by general formula [3] or general formula [11]. What is necessary is just to use 0.1L or more with respect to 1 mol of total reaction products containing a 4-dehydroproline protector, 0.2-30L is preferable, and 0.3-20L is especially preferable.

反応時間は、48時間以内の範囲で行えば良く、原料基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴等の分析手段により反応の進行状況を追跡し、原料基質が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。   The reaction time may be within 48 hours, and varies depending on the raw material substrate and reaction conditions. Therefore, the progress of the reaction is traced by analytical means such as gas chromatography, thin layer chromatography, liquid chromatography, and nuclear magnetic resonance. However, it is preferable that the end point is when the raw material substrate is almost lost.

後処理は、有機合成における一般的な操作を採用することにより、一般式[4]または一般式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンと一般式[5]または一般式[13]で示される光学活性プロリンを含む反応処理物を得ることができる。通常の後処理操作としては、反応終了液をセライト濾過、必要に応じてメンブランフィルターで濾過し、残渣をメタノールまたは水で洗浄し、濾洗液を減圧濃縮し、必要に応じて共沸減圧濃縮し、真空乾燥することにより粗生成物を固形物として得ることができる。本発明では、光学活性トランス−4−フルオロプロリンと光学活性プロリンの物性の違いを利用して分離するが、不純物の除去効率は遊離アミノ酸(HN−COH)の状態で最大となる。よって、粗生成物が酸または塩基との塩として回収される場合は、塩基または酸による中和、イオン交換樹脂による脱塩等により遊離アミノ酸に誘導して不純物除去工程に供する。 The post-treatment employs a general procedure in organic synthesis, whereby the optically active trans-4-fluoroproline represented by the general formula [4] or the general formula [12] and the general formula [5] or the general formula [13]. ] The reaction processed material containing the optically active proline shown by this can be obtained. As usual post-treatment operation, the reaction completion liquid is filtered through Celite, and if necessary, through a membrane filter. The residue is washed with methanol or water, and the filtrate is concentrated under reduced pressure. The crude product can be obtained as a solid by vacuum drying. In the present invention, separation is performed utilizing the difference in physical properties between optically active trans-4-fluoroproline and optically active proline, but the removal efficiency of impurities is maximized in the state of free amino acid (HN—CO 2 H). Therefore, when the crude product is recovered as a salt with an acid or base, it is induced to a free amino acid by neutralization with a base or acid, desalting with an ion exchange resin, or the like, and subjected to an impurity removal step.

脱保護反応を水素化反応の先に行う場合、上記の10族の遷移金属触媒、水素、必要に応じて用いる酸または塩基、および反応溶媒の使用量における基準対象化合物は、脱保護反応後の対応する化合物に名称を置き換える。   When the deprotection reaction is performed prior to the hydrogenation reaction, the above-mentioned Group 10 transition metal catalyst, hydrogen, the acid or base used as necessary, and the reference target compound in the amount of the reaction solvent used are those after the deprotection reaction. Replace the name with the corresponding compound.

脱保護反応について具体的に説明する。   The deprotection reaction will be specifically described.

脱保護反応は、有機合成における一般的な方法を採用する。具体的には、Protective Groups in Organic Synthesis、Third Edition、1999、John Wiley & Sons、Inc.、第5版実験化学講座16有機化合物の合成IVカルボン酸・アミノ酸・ペプチド(日本化学会編平成17年丸善発行)の2アミノ酸・ペプチド、Tetrahedron Letters(英国),1998年,第39巻,p.1169−1172等を参考にして同様に行うことができる。これらの方法では、所望の脱保護反応のみが選択的に進行し、反応を通して主生成物の4位フッ素原子の立体化学は保持され、また副生成物の炭素−炭素2重結合は殆ど異性化しない。   The deprotection reaction employs a general method in organic synthesis. Specifically, Protective Groups in Organic Synthesis, Third Edition, 1999, John Wiley & Sons, Inc. , 5th edition, Laboratory Chemistry 16 Synthesis of Organic Compounds IV Carboxylic Acids / Amino Acids / Peptides (published by Maruzen in 2005 by the Chemical Society of Japan), Tetrahedron Letters (UK), 1998, Vol. 39, p. . 1169-1172 and the like can be used in the same manner. In these methods, only the desired deprotection reaction proceeds selectively, the stereochemistry of the 4-position fluorine atom of the main product is maintained throughout the reaction, and the by-product carbon-carbon double bond is almost isomerized. do not do.

最後に、不純物除去工程について詳細に説明する。   Finally, the impurity removal step will be described in detail.

式[A]および式[B]の*は、不斉炭素を表す。 * In the formula [A] and the formula [B] represents an asymmetric carbon.

式[A]の2位の絶対配置は、S(L)体またはR(D)体を採る。 The absolute configuration at the 2-position of the formula [A] takes an S (L) form or an R (D) form.

式[A]の2位と4位の相対配置は、トランスを採る。 The relative arrangement of the 2nd and 4th positions in the formula [A] takes a transformer.

式[A]と式[B]の2位の立体化学は、同じ絶対配置を採る。 The stereochemistry at the 2-position of Formula [A] and Formula [B] takes the same absolute configuration.

不純物除去工程では、式[4]または式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と式[5]または式[13]で示される光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物から目的物だけを選択的に回収する。この回収では、不純物の除去効率が格段に高いため、固形物の洗浄だけでも所望の効果を得ることができる。当然、再結晶を行えば洗浄を大幅に上回る効果を得ることもできるが、格段に簡便な洗浄だけでも十分な効果が得られることより、操作性の観点から本発明の好ましい態様である。このことは、再結晶の実施を制限するものではなく、必要に応じて有機合成における一般的な再結晶操作を採用することができる。具体的には、第5版実験化学講座1基礎編I実験・情報の基礎(日本化学会編平成15年丸善発行)、第5版実験化学講座4基礎編IV有機・高分子・生化学(日本化学会編平成15年丸善発行)、第5版実験化学講座5化学実験のための基礎技術(日本化学会編平成17年丸善発行)等を参考にして同様に行うことができる。また、再結晶溶媒は、下記の洗浄溶媒を好適に採用することができる。   The impurity removal step includes an optically active trans-4-fluoroproline (target product) represented by Formula [4] or Formula [12] and an optically active proline (impurity) represented by Formula [5] or Formula [13]. Only the target product is selectively recovered from the reaction product. In this recovery, since the removal efficiency of impurities is remarkably high, a desired effect can be obtained only by washing the solid matter. Naturally, if recrystallization is performed, an effect that greatly exceeds the cleaning can be obtained. However, since a sufficient effect can be obtained even by a much simpler cleaning, it is a preferred embodiment of the present invention from the viewpoint of operability. This does not limit the practice of recrystallization, and a general recrystallization operation in organic synthesis can be employed as necessary. Specifically, 5th edition Experimental Chemistry Course 1 Basics I Experiments and Information Basics (published by Maruzen in 2003, Chemical Society of Japan), 5th Edition Experimental Chemistry Course 4 Basics IV Organic, Polymer and Biochemistry ( The same can be done with reference to the Chemical Society of Japan, published by Maruzen in 2003), the 5th edition of Experimental Chemistry Course, 5 Basic Technology for Chemical Experiments (edited by the Chemical Society of Japan, published in 2005 by Maruzen). Moreover, the following washing | cleaning solvent can be employ | adopted suitably for a recrystallization solvent.

洗浄溶媒としては、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、トルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素系、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル等のエーテル系、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸tert−ブチル等のエステル系、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のアミド系、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール等のアルコール系、水等が挙げられる。その中でもn−ヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−ペンタノール、n−ヘキサノールおよび水が好ましく、n−ヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールおよび水が特に好ましい。これらの洗浄溶媒は単独でまたは組み合わせて用いることができる。   The washing solvent includes aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene, ethylbenzene and xylene, halogens such as methylene chloride, chloroform and 1,2-dichloroethane, Ethers such as tetrahydrofuran, diisopropyl ether, tert-butyl methyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, tert-butyl acetate, N, N-dimethylformamide Amides such as N, N-dimethylacetamide and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile, dimethyl sulfoxide, methanol, ethanol, n-propanol, Propanol, n- butanol, n- pentanol, alcohol such as n- hexanol, water and the like. Among them, n-hexane, n-heptane, toluene, xylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, tetrahydrofuran, tert-butyl methyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, acetonitrile, propionitrile, dimethyl sulfoxide, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, n-pentanol, n-hexanol and water are preferred, n- Hexane, n-heptane, toluene, xylene, tetrahydrofuran, tert-butyl methyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, acetonitrile, propionitrile, methanol, Ethanol, n- propanol, isopropanol, n- butanol and water is particularly preferred. These washing solvents can be used alone or in combination.

洗浄溶媒の使用量は、式[4]または式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンと式[5]または[13]で示される光学活性プロリンを含む反応処理物トータル1モルに対して0.05L以上を用いれば良く、0.1から30Lが好ましく、0.15から20Lが特に好ましい。   The amount of the washing solvent used is a total of 1 mol of the reaction product containing the optically active trans-4-fluoroproline represented by the formula [4] or [12] and the optically active proline represented by the formula [5] or [13]. 0.05L or more may be used, preferably 0.1 to 30L, particularly preferably 0.15 to 20L.

洗浄は、攪拌しながら行うことにより不純物の除去効率を高めることができる。よって、攪拌洗浄は本発明の好ましい態様である。   The cleaning can be performed while stirring to increase the efficiency of removing impurities. Therefore, stirring and cleaning is a preferred embodiment of the present invention.

洗浄温度は、−40から+200℃の範囲で行えば良く、−20から+175℃が好ましく、0から+150℃が特に好ましい。また、洗浄終了後は室温まで徐々に降温し、氷冷下で熟成することが好ましい。   The washing temperature may be in the range of −40 to + 200 ° C., preferably −20 to + 175 ° C., particularly preferably 0 to + 150 ° C. Further, it is preferable that after the washing is completed, the temperature is gradually lowered to room temperature and ripened under ice cooling.

洗浄時間は、24時間以内の範囲で行えば良く、不純物含有量および洗浄条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、核磁気共鳴等の分析手段により固形物の不純物含有状況を追跡し、不純物が殆ど除去できた時点を終点とすることが好ましい。   The washing time may be within a range of 24 hours or less, and varies depending on the impurity content and washing conditions. Therefore, the solid impurities are contained by an analytical means such as gas chromatography, thin layer chromatography, liquid chromatography, or nuclear magnetic resonance. It is preferable that the situation is traced and the end point is a point at which impurities are almost removed.

後処理は、有機合成における一般的な操作を採用することにより、式[4]または式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンの高純度品を得ることができる。通常の後処理操作としては、洗浄された固形物を濾過し、貧溶媒で洗浄し、真空乾燥することにより洗浄品を回収することができる。本発明では、回収された固形物の純度が向上し、濾洗液に不純物が濃縮される。また、洗浄操作を繰り返すことによりさらに高い純度に精製することができる。   In the post-treatment, a high-purity product of optically active trans-4-fluoroproline represented by the formula [4] or the formula [12] can be obtained by adopting a general operation in organic synthesis. As a normal post-treatment operation, the washed product can be recovered by filtering the washed solid, washing with a poor solvent, and vacuum drying. In the present invention, the purity of the collected solid matter is improved, and impurities are concentrated in the filtrate. Moreover, it can refine | purify in still higher purity by repeating washing | cleaning operation.

本発明で得られる式[4]または式[12]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンは、Protective Groups in Organic Synthesis、Third Edition、1999、John Wiley & Sons、Inc.、第5版実験化学講座16有機化合物の合成IVカルボン酸・アミノ酸・ペプチド(日本化学会編平成17年丸善発行)の2アミノ酸・ペプチド等を参考にして同様にカルボキシル基または(および)2級アミノ基を保護することができる。   The optically active trans-4-fluoroproline represented by the formula [4] or formula [12] obtained in the present invention can be obtained from Protective Groups in Organic Synthesis, Third Edition, 1999, John Wiley & Sons, Inc. , 5th edition Experimental Chemistry Lecture 16 Synthesis of Organic Compounds IV Carboxylic Acids / Amino Acids / Peptides (published by Maruzen in 2005 by The Chemical Society of Japan) The amino group can be protected.

[実施例]
実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[Example]
Embodiments of the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

ステンレス鋼(SUS)製耐圧反応容器に、下記式

Figure 0005605008
In a pressure resistant reaction vessel made of stainless steel (SUS), the following formula
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体(液体クロマトグラフィー純度85.8%)35.5g(85.7mmolとする、1.00eq)、トルエン200mL(2.33L/mol)、ジイソプロピルエチルアミン38.7g(299mmol、3.49eq)とジイソプロピルエチルアミン・3フッ化水素18.4g(97.2mmol、1.13eq)を加え、スルフリルフルオリド12.2g(120mmol、1.40eq)をボンベより吹き込み、45℃で3時間攪拌した。反応終了液の液体クロマトグラフィー分析より変換率は99%であった。反応終了液に炭酸カリウム水溶液[炭酸カリウム27.6g(200mmol、2.33eq)と水350mLから調製]を加え、酢酸エチル200mLで抽出し、回収水層を酢酸エチル150mLで再抽出し、回収有機層を合わせて飽和食塩水100mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
Protected cis-4-hydroxy-L-proline (liquid chromatography purity 85.8%) 35.5 g (85.7 mmol, 1.00 eq), toluene 200 mL (2.33 L / mol), diisopropyl 38.7 g (299 mmol, 3.49 eq) of ethylamine and 18.4 g (97.2 mmol, 1.13 eq) of diisopropylethylamine / hydrogen trifluoride were added, and 12.2 g (120 mmol, 1.40 eq) of sulfuryl fluoride was added from a cylinder. Blow and stir at 45 ° C. for 3 hours. The conversion rate was 99% from the liquid chromatography analysis of the reaction completion liquid. A potassium carbonate aqueous solution [prepared from 27.6 g (200 mmol, 2.33 eq) of potassium carbonate and 350 mL of water] was added to the reaction completion solution, extracted with 200 mL of ethyl acetate, the recovered aqueous layer was re-extracted with 150 mL of ethyl acetate, and recovered organic The layers were combined, washed with 100 mL of saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and vacuum dried to obtain the following formula.
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と下記式

Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-L-proline (main product) represented by the following formula
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物を34.4g得た(理論収量30.6g)。主生成物と副生成物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ67.3%、10.3%(86.7:13.3)であった。主生成物のH−NMRと19F−NMRを下に示す。 As a result, 34.4 g of a reaction product containing a protected 3,4-dehydro-L-proline (by-product) was obtained (theoretical yield: 30.6 g). The liquid chromatographic purity of the main product and by-products was 67.3% and 10.3% (86.7: 13.3), respectively. The 1 H-NMR and 19 F-NMR of the main product are shown below.

H−NMR[基準物質;(CHSi、重溶媒;CDCl]、δ ppm;2.11(m、1H)、2.62(m、1H)、3.68(m、1H)、3.97(m、1H)、4.57(m、1H)、5.02(d、2H)、5.17(m、1H)、5.21(m、1H)、5.21(m、1H)、7.28(Ar−H、10H)。 1 H-NMR [reference material; (CH 3 ) 4 Si, deuterated solvent; CDCl 3 ], δ ppm; 2.11 (m, 1H), 2.62 (m, 1H), 3.68 (m, 1H ), 3.97 (m, 1H), 4.57 (m, 1H), 5.02 (d, 2H), 5.17 (m, 1H), 5.21 (m, 1H), 5.21 (M, 1H), 7.28 (Ar-H, 10H).

19F−NMR[基準物質;C、重溶媒;CDCl]、δ ppm;−15.31(m、1Fの4割)、−15.96(m、1Fの6割)。 19 F-NMR [reference material: C 6 F 6 , heavy solvent: CDCl 3 ], δ ppm: −15.31 (m, 40% of 1F), −15.96 (m, 60% of 1F).

副生成物のH−NMRを下に示す。 The 1 H-NMR of the by-product is shown below.

H−NMR[基準物質;(CHSi、重溶媒;CDCl]、δ ppm;4.32(m、2H)、5.76(m、1H)、5.98(m、1H)/特徴的な領域のみ記載。 1 H-NMR [reference material; (CH 3 ) 4 Si, deuterated solvent; CDCl 3 ], δ ppm; 4.32 (m, 2H), 5.76 (m, 1H), 5.98 (m, 1H ) / Only characteristic areas are described.

上記で得られた主生成物と副生成物を含む反応生成物15.0g(37.4mmolとする、1.00eq)に、メタノール168mL(4.49L/mol)と5%パラジウム炭890mg(含水率50%、209μmol、0.00559eq)を加え、水素圧を500kPaに設定し、室温で終夜攪拌した。反応終了液のH−NMR分析より変換率は100%であった。反応終了液をセライト濾過し、さらにメンブランフィルターで濾過し、残渣をメタノールで洗浄し、濾洗液を減圧濃縮し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
To 15.0 g (37.4 mmol, 1.00 eq) of the reaction product containing the main product and by-products obtained above, 168 mL of methanol (4.49 L / mol) and 890 mg of 5% palladium on charcoal (containing water) 50%, 209 μmol, 0.00559 eq) was added, the hydrogen pressure was set to 500 kPa, and the mixture was stirred overnight at room temperature. From the 1 H-NMR analysis of the reaction completed liquid, the conversion rate was 100%. The reaction-terminated liquid was filtered through Celite, and further filtered through a membrane filter. The residue was washed with methanol, and the filtrate was concentrated under reduced pressure and vacuum dried to obtain the following formula.
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と下記式

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the following formula:
Figure 0005605008

で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物を5.60g得た(理論収量4.98g)。目的物と不純物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ85.2%、9.77%(89.7:10.3)であった。また、シス−4−フルオロ−L−プロリン(4位立体異性体)は1.57%含まれていた。目的物のH−NMRと19F−NMRを下に示す。 5.60 g of the reaction product containing L-proline (impurity) represented by the formula (theoretical yield: 4.98 g) was obtained. The liquid chromatographic purity of the target product and impurities was 85.2% and 9.77% (89.7: 10.3), respectively. Moreover, 1.57% of cis-4-fluoro-L-proline (4-position stereoisomer) was contained. 1 H-NMR and 19 F-NMR of the target product are shown below.

H−NMR[基準物質;3−トリメチルシリルプロピオン酸ナトリウム−d、重溶媒;DO]、δ ppm;2.28(m、1H)、2.76(m、1H)、3.61(m、1H)、3.73(m、1H)、4.41(m、1H)、5.53(m、1H)/カルボキシル基と2級アミノ基のプロトンは帰属できず。 1 H-NMR [reference material; sodium 3-trimethylsilylpropionate-d 4 , deuterated solvent; D 2 O], δ ppm; 2.28 (m, 1H), 2.76 (m, 1H), 3.61 (M, 1H), 3.73 (m, 1H), 4.41 (m, 1H), 5.53 (m, 1H) / protons of carboxyl group and secondary amino group cannot be assigned.

19F−NMR[基準物質;C、重溶媒;(CDSO]、δ ppm;−12.72(m、1F)。 19 F-NMR [reference material; C 6 F 6 , heavy solvent; (CD 3 ) 2 SO], δ ppm; -12.72 (m, 1F).

不純物のH−NMRを下に示す。 The 1 H-NMR of the impurities is shown below.

H−NMR[基準物質;3−トリメチルシリルプロピオン酸ナトリウム−d、重溶媒;DO]、δ ppm;2.04(m、3H)、2.36(m、1H)、3.34(m、1H)、3.43(m、1H)、4.13(m、1H)/カルボキシル基と2級アミノ基のプロトンは帰属できず。 1 H-NMR [reference material; sodium 3-trimethylsilylpropionate-d 4 , deuterated solvent; D 2 O], δ ppm; 2.04 (m, 3H), 2.36 (m, 1H), 3.34 (M, 1H), 3.43 (m, 1H), 4.13 (m, 1H) / Proton of carboxyl group and secondary amino group cannot be assigned.

上記で得られた目的物と不純物を含む反応処理物5.50g(36.7mmolとする)に、エタノール27.5mL(0.749L/mol)と水16.5mL(0.450L/mol)を加え、60℃で30分間攪拌し(完全に溶解しない懸濁状態)、室温まで徐々に降温し、氷冷下で1時間熟成した。洗浄された固形物を濾過し、少量のエタノールで洗浄し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
To 5.50 g (36.7 mmol) of the reaction product containing the target product and impurities obtained above, 27.5 mL (0.749 L / mol) of ethanol and 16.5 mL of water (0.450 L / mol) were added. In addition, the mixture was stirred at 60 ° C. for 30 minutes (a suspension state in which it was not completely dissolved), gradually cooled to room temperature, and aged for 1 hour under ice-cooling. The washed solid is filtered, washed with a small amount of ethanol, and vacuum dried to obtain the following formula:
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(洗浄品)を3.45g得た(理論収量4.89g)。脱ヒドロキシフッ素化反応からの3工程のトータル収率は70.6%であった。目的物と不純物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ98.6%、0.766%(99.2:0.8)であった。また、シス−4−フルオロ−L−プロリン(4位立体異性体)は検出されなかった。 3.45 g of trans-4-fluoro-L-proline (washed product) represented by the formula (theoretical yield: 4.89 g) was obtained. The total yield of the three steps from the dehydroxyfluorination reaction was 70.6%. The liquid chromatographic purity of the target product and impurities was 98.6% and 0.766% (99.2: 0.8), respectively. Further, cis-4-fluoro-L-proline (4-position stereoisomer) was not detected.

原料基質としてシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の代わりにシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体を用いても同様の結果を得ることができた。   Similar results could be obtained even when a protected cis-4-hydroxy-D-proline was used instead of the protected cis-4-hydroxy-L-proline as a raw material substrate.

ステンレス鋼(SUS)製耐圧反応容器に、下記式

Figure 0005605008
In a pressure resistant reaction vessel made of stainless steel (SUS), the following formula
Figure 0005605008

で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体(ガスクロマトグラフィー純度94.4%)22.0g(74.4mmolとする、1.00eq)、トルエン110mL(1.48L/mol)、ジイソプロピルエチルアミン30.5g(236mmol、3.17eq)とジイソプロピルエチルアミン・3フッ化水素14.9g(78.7mmol、1.06eq)を加え、氷冷下でスルフリルフルオリド9.64g(94.5mmol、1.27eq)をボンベより吹き込み、45℃で3時間攪拌した。反応終了液のガスクロマトグラフィー分析より変換率は100%であった。反応終了液に炭酸カリウム水溶液[炭酸カリウム10.0g(72.4mmol、0.973eq)と水90.0mLから調製]を加え、酢酸エチル200mLで抽出し、回収水層を酢酸エチル100mLで再抽出し、回収有機層を合わせて1N塩酸100mL(100mmol、1.34eq)で洗浄し、10%食塩水100mLで洗浄し、減圧濃縮し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
Protected cis-4-hydroxy-L-proline (gas chromatography purity 94.4%) 22.0 g (74.4 mmol, 1.00 eq), toluene 110 mL (1.48 L / mol), diisopropyl 30.5 g (236 mmol, 3.17 eq) of ethylamine and 14.9 g (78.7 mmol, 1.06 eq) of diisopropylethylamine / hydrogen trifluoride were added and 9.64 g (94.5 mmol, 14.5 eq) of sulfuryl fluoride was added under ice cooling. .27 eq) was blown from a cylinder and stirred at 45 ° C. for 3 hours. The conversion was 100% by gas chromatography analysis of the reaction completed liquid. A potassium carbonate aqueous solution [prepared from 10.0 g (72.4 mmol, 0.973 eq) of potassium carbonate and 90.0 mL of water] was added to the reaction completion solution, extracted with 200 mL of ethyl acetate, and the recovered aqueous layer was re-extracted with 100 mL of ethyl acetate. The recovered organic layers were combined and washed with 100 mL (100 mmol, 1.34 eq) of 1N hydrochloric acid, washed with 100 mL of 10% brine, concentrated under reduced pressure, and dried under vacuum to obtain the following formula.
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と下記式

Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-L-proline (main product) represented by the following formula
Figure 0005605008

で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物を19.5g得た(理論収量20.9g)。収率は93.3%であった。主生成物と副生成物のガスクロマトグラフィー純度はそれぞれ84.6%、13.2%(86.5:13.5)であった。 As a result, 19.5 g of a reaction product containing a 3,4-dehydro-L-proline protector (byproduct) represented by the following formula (theoretical yield: 20.9 g) was obtained. The yield was 93.3%. The gas chromatographic purity of the main product and by-product was 84.6% and 13.2% (86.5: 13.5), respectively.

上記で得られた主生成物と副生成物を含む反応生成物全量19.5g(69.3mmol、1.00eq)のメタノール溶液[溶媒使用量80.0mL(1.15L/mol)]に、氷冷下で水酸化ナトリウム水溶液23.3g[水酸化ナトリウム3.30g(82.5mmol、1.19eq)と水20.0mLから調製]を加え、室温で1時間攪拌した。反応終了液の薄層クロマトグラフィー分析より原料基質は検出されなかった。反応終了液を減圧濃縮し、トルエン80.0mLで共沸減圧濃縮し、残渣に2N塩酸60.0mL(120mmol、1.73eq)を加え、酢酸エチル100mLで抽出し、回収水層を酢酸エチル50.0mLで再抽出し、回収有機層を合わせて10%食塩水30.0mLで洗浄し、減圧濃縮し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
To a methanol solution [solvent use amount 80.0 mL (1.15 L / mol)] of the reaction product total amount 19.5 g (69.3 mmol, 1.00 eq) including the main product and by-products obtained above, Under ice cooling, 23.3 g of an aqueous sodium hydroxide solution [prepared from 3.30 g of sodium hydroxide (82.5 mmol, 1.19 eq) and 20.0 mL of water] was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The raw material substrate was not detected by thin layer chromatography analysis of the reaction completed solution. The reaction-terminated liquid was concentrated under reduced pressure, concentrated azeotropically under reduced pressure with 80.0 mL of toluene, 60.0 mL (120 mmol, 1.73 eq) of 2N hydrochloric acid was added to the residue, and the mixture was extracted with 100 mL of ethyl acetate. Re-extracted with 0.0 mL, and the collected organic layers were combined, washed with 30.0 mL of 10% brine, concentrated under reduced pressure, and vacuum dried to obtain the following formula.
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリンP保護体と下記式

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro -L- proline P 2 protecting member and the following formula shown in
Figure 0005605008

で示される副生成物由来不純物−1を含む反応生成物を19.5g得た(理論収量18.5g)。トランス−4−フルオロ−L−プロリンP保護体と副生成物由来不純物−1のガスクロマトグラフィー純度(トリメチルシリルジアゾメタンでメチルエステル化して分析)はそれぞれ84.1%、13.1%(86.5:13.5)であった。トランス−4−フルオロ−L−プロリンP保護体のH−NMRと19F−NMRを下に示す。 As a result, 19.5 g of a reaction product containing the by-product-derived impurity 1 represented by (18.5 g of theoretical yield) was obtained. Trans-4-fluoro -L- proline P 2 protecting body and by-products derived from impurities -1 Gas chromatographic purity (by methylation esterified with trimethylsilyldiazomethane analysis), respectively 84.1%, 13.1% (86. 5: 13.5). 1 H-NMR and 19 F-NMR of the trans-4-fluoro-L-proline P 2 protected product are shown below.

H−NMR[基準物質;(CHSi、重溶媒;CDOD]、δ ppm;2.18(m、1H)、2.64(m、1H)、3.63(m、1H)、3.88(m、1H)、4.44(m、1H)、5.08(d、1H)、5.15(d、1H)、5.26(m、1H)、7.35(Ar−H、5H)/カルボキシル基のプロトンは帰属できず。 1 H-NMR [reference material; (CH 3 ) 4 Si, deuterated solvent; CD 3 OD], δ ppm; 2.18 (m, 1H), 2.64 (m, 1H), 3.63 (m, 1H), 3.88 (m, 1H), 4.44 (m, 1H), 5.08 (d, 1H), 5.15 (d, 1H), 5.26 (m, 1H), 7. The proton of 35 (Ar—H, 5H) / carboxyl group cannot be assigned.

19F−NMR[基準物質;C、重溶媒;CDOD]、δ ppm;−13.71(m、1Fの4割)、−14.20(m、1Fの6割)。 19 F-NMR [reference material; C 6 F 6 , deuterated solvent; CD 3 OD], δ ppm; -13.71 (m, 40% of 1F), -14.20 (60% of m, 1F).

副生成物由来不純物−1のH−NMRを下に示す。 1 H-NMR of byproduct-derived impurity-1 is shown below.

H−NMR[基準物質;(CHSi、重溶媒;CDOD]、δ ppm;4.27(m、2H)、5.84(m、1H)、6.04(m、1H)/特徴的な領域のみ記載。 1 H-NMR [reference material; (CH 3 ) 4 Si, deuterated solvent; CD 3 OD], δ ppm; 4.27 (m, 2H), 5.84 (m, 1H), 6.04 (m, 1H) / Only characteristic areas are described.

上記で得られたトランス−4−フルオロ−L−プロリンP保護体と副生成物由来不純物−1を含む反応生成物全量19.5g(69.3mmolとする、1.00eq)に、メタノール150mL(2.16L/mol)と5%パラジウム炭1.73g(含水率50%、406μmol、0.00586eq)を加え、水素圧を1.00MPaに設定し、室温で2時間攪拌した。反応終了液の19F−NMR分析より変換率は100%であった。反応終了液をセライト濾過し、さらにメンブランフィルターで濾過し、残渣を水300mLで洗浄し、濾洗液を減圧濃縮し、トルエン50.0mLで2回共沸減圧濃縮し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
(A 69.3 mmol, 1.00 eq) the reaction product the total amount 19.5g containing trans-4-fluoro -L- proline P 2 protecting body and by-products derived from impurities -1 obtained above in methanol 150mL (2.16 L / mol) and 1.73 g of 5% palladium on charcoal (water content 50%, 406 μmol, 0.00586 eq) were added, the hydrogen pressure was set to 1.00 MPa, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The conversion rate was 100% from 19 F-NMR analysis of the reaction completed liquid. The reaction-terminated liquid was filtered through Celite, further filtered through a membrane filter, the residue was washed with 300 mL of water, the filtrate was concentrated under reduced pressure, azeotropically concentrated twice with 50.0 mL of toluene, and vacuum-dried. Following formula
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と下記式

Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the following formula:
Figure 0005605008

で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物を9.10g得た(理論収量9.23g)。加水分解反応からの2工程のトータル収率は98.6%であった。目的物と不純物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ84.1%、7.69%(91.6:8.4)であった。また、シス−4−フルオロ−L−プロリン(4位立体異性体)は1.12%含まれていた。 9.10 g of a reaction product containing L-proline (impurity) represented by the formula (theoretical yield: 9.23 g) was obtained. The total yield of the two steps from the hydrolysis reaction was 98.6%. The liquid chromatographic purity of the target product and impurities were 84.1% and 7.69% (91.6: 8.4), respectively. Further, 1.12% of cis-4-fluoro-L-proline (4-position stereoisomer) was contained.

上記で得られた目的物と不純物を含む反応処理物全量9.10g(68.4mmol)に、トルエン63.0mL(0.921L/mol)とメタノール36.0mL(0.526L/mol)を加え、70℃で3時間攪拌し(完全に溶解しない懸濁状態)、室温まで徐々に降温し、氷冷下で1時間熟成した。洗浄された固形物を濾過し、少量のトルエンで洗浄し、真空乾燥することにより、下記式

Figure 0005605008
69.0 mL (0.921 L / mol) of toluene and 36.0 mL of methanol (0.526 L / mol) were added to 9.10 g (68.4 mmol) of the total amount of the reaction product containing the target product and impurities obtained above. The mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours (suspension state in which it was not completely dissolved), gradually cooled to room temperature, and aged for 1 hour under ice-cooling. The washed solid is filtered, washed with a small amount of toluene, and vacuum dried to obtain the following formula:
Figure 0005605008

で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(洗浄1回目品)を7.34g得た。回収率は80.7%であった。目的物と不純物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ95.3%、1.90%(98.0:2.0)であった。また、シス−4−フルオロ−L−プロリン(4位立体異性体)は0.657%含まれていた。 In this way, 7.34 g of trans-4-fluoro-L-proline represented by the formula (first washed product) was obtained. The recovery rate was 80.7%. The liquid chromatographic purity of the target product and impurities were 95.3% and 1.90% (98.0: 2.0), respectively. Moreover, 0.657% of cis-4-fluoro-L-proline (4-position stereoisomer) was contained.

上記で得られた洗浄1回目品全量7.34g(55.1mmol)に、メタノール35.0mL(0.635L/mol)、イソプロパノール21.0mL(0.381L/mol)と水21.0mL(0.381L/mol)を加え、70℃で1時間攪拌し(完全に溶解しない懸濁状態)、室温まで徐々に降温し、氷冷下で30分間熟成した。洗浄された固形物を濾過し、少量のイソプロパノールで洗浄し、真空乾燥することにより、上記式で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(洗浄2回目品)を6.37g得た。回収率は86.8%であった。脱ヒドロキシフッ素化反応からの4工程のトータル収率は64.4%であった。目的物と不純物の液体クロマトグラフィー純度はそれぞれ98.8%、0.779%(99.2:0.8)であった。また、シス−4−フルオロ−L−プロリン(4位立体異性体)は検出されなかった。   The total amount of the first washing product obtained above was 7.34 g (55.1 mmol), methanol 35.0 mL (0.635 L / mol), isopropanol 21.0 mL (0.381 L / mol) and water 21.0 mL (0 .381 L / mol) was added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 1 hour (a suspension state in which it was not completely dissolved), gradually cooled to room temperature, and aged for 30 minutes under ice cooling. The washed solid was filtered, washed with a small amount of isopropanol, and vacuum-dried to obtain 6.37 g of trans-4-fluoro-L-proline (second washed product) represented by the above formula. The recovery rate was 86.8%. The total yield of the four steps from the dehydroxyfluorination reaction was 64.4%. The liquid chromatographic purity of the target product and impurities was 98.8% and 0.779% (99.2: 0.8), respectively. Further, cis-4-fluoro-L-proline (4-position stereoisomer) was not detected.

原料基質としてシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の代わりにシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体を用いても同様の結果を得ることができた。   Similar results could be obtained even when a protected cis-4-hydroxy-D-proline was used instead of the protected cis-4-hydroxy-L-proline as a raw material substrate.

本発明で対象とする光学活性トランス−4−フルオロプロリンは医薬中間体として利用できる。   The optically active trans-4-fluoroproline targeted in the present invention can be used as a pharmaceutical intermediate.

Claims (5)

式[A]
Figure 0005605008
で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリンの製造方法において、式[A]で示される光学活性トランス−4−フルオロプロリン(目的物)と式[B]
Figure 0005605008
で示される光学活性プロリン(不純物)を含む反応処理物から目的物だけを選択的に回収することを特徴とする製造方法。
[式中、*は不斉炭素を表し、式[A]の2位の絶対配置はS(L)体またはR(D)体を採り、式[A]の2位と4位の相対配置はトランスを採る。式[A]と式[B]の2位の立体化学は同じ絶対配置を採る]
Formula [A]
Figure 0005605008
In the method for producing optically active trans-4-fluoroproline represented by formula (A), the optically active trans-4-fluoroproline (target product) represented by formula [A] and formula [B]
Figure 0005605008
A method for selectively recovering only a target product from a reaction-treated product containing optically active proline (impurities) represented by
[In the formula, * represents an asymmetric carbon, and the absolute configuration at the 2-position of the formula [A] is an S (L) isomer or an R (D) isomer, and the relative configuration between the 2-position and the 4-position of the formula [A]. Take a transformer. The stereochemistry at the 2-position of formula [A] and formula [B] takes the same absolute configuration]
一般式[1]
Figure 0005605008
で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、一般式[2]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と一般式[3]
Figure 0005605008
で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、式[4]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と式[5]
Figure 0005605008
で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−L−プロリンの製造方法。
[式中、Pはアルキル基、置換アルキル基、ベンジル基または置換ベンジル基を表し、Pはtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基またはトリフェニルメチル基を表す。]
General formula [1]
Figure 0005605008
Which is obtained in a dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-L-proline represented by the general formula [2]
Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-L-proline (main product) represented by the general formula [3]
Figure 0005605008
The reaction product containing the 3,4-dehydro-L-proline protector (by-product) represented by the following reaction is subjected to a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group. By doing the equation [4]
Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the formula [5]
Figure 0005605008
A process for producing trans-4-fluoro-L-proline, wherein the reaction product containing L-proline (impurity) represented by formula (1) is induced to selectively recover only the target product.
[Wherein P 1 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group, and P 2 represents a tert-butoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group. Represents. ]
式[6]
Figure 0005605008
で示されるシス−4−ヒドロキシ−L−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、式[7]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン保護体(主生成物)と式[8]
Figure 0005605008
で示される3,4−デヒドロ−L−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の還元的脱保護反応を同時に行うことにより、式[4]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−L−プロリン(目的物)と式[5]
Figure 0005605008
で示されるL−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−L−プロリンの製造方法。
[式中、Bnはベンジル基を表し、Cbzはベンジルオキシカルボニル基を表す]
Formula [6]
Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-L-proline represented by the formula [7]
Figure 0005605008
A trans-4-fluoro-L-proline protector (main product) represented by formula [8]
Figure 0005605008
A reaction product containing a 3,4-dehydro-L-proline protector (by-product) represented by the following formula: hydrogenation reaction and reductive deprotection of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group By carrying out the reaction simultaneously, the formula [4]
Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-L-proline (target product) represented by the formula [5]
Figure 0005605008
A process for producing trans-4-fluoro-L-proline, wherein the reaction product containing L-proline (impurity) represented by formula (1) is induced to selectively recover only the target product.
[Wherein Bn represents a benzyl group and Cbz represents a benzyloxycarbonyl group]
一般式[9]
Figure 0005605008
で示されるシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、一般式[10]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン保護体(主生成物)と一般式[11]
Figure 0005605008
で示される3,4−デヒドロ−D−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の脱保護反応を行うことにより、式[12]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン(目的物)と式[13]
Figure 0005605008
で示されるD−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−D−プロリンの製造方法。
[式中、Pはアルキル基、置換アルキル基、ベンジル基または置換ベンジル基を表し、Pはtert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9−フルオレニルメトキシカルボニル基またはトリフェニルメチル基を表す。]
General formula [9]
Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-D-proline represented by the general formula [10]
Figure 0005605008
Protected trans-4-fluoro-D-proline (main product) represented by the general formula [11]
Figure 0005605008
The reaction product containing the 3,4-dehydro-D-proline protector (by-product) represented by the following formula is subjected to a hydrogenation reaction and a deprotection reaction of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group. By doing the equation [12]
Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-D-proline (target product) represented by the formula [13]
Figure 0005605008
A process for producing trans-4-fluoro-D-proline, wherein the reaction product containing D-proline (impurities) represented by the formula (1) is induced to selectively recover only the target product.
[Wherein P 1 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a benzyl group or a substituted benzyl group, and P 2 represents a tert-butoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a 9-fluorenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group. Represents. ]
式[14]
Figure 0005605008
で示されるシス−4−ヒドロキシ−D−プロリン保護体の脱ヒドロキシフッ素化反応において得られる、式[15]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン保護体(主生成物)と式[16]
Figure 0005605008
で示される3,4−デヒドロ−D−プロリン保護体(副生成物)を含む反応生成物に対して、水素化反応およびカルボキシル基の保護基と2級アミノ基の保護基の還元的脱保護反応を同時に行うことにより、式[12]
Figure 0005605008
で示されるトランス−4−フルオロ−D−プロリン(目的物)と式[13]
Figure 0005605008
で示されるD−プロリン(不純物)を含む反応処理物に誘導して、目的物だけを選択的に回収するトランス−4−フルオロ−D−プロリンの製造方法。
[式中、Bnはベンジル基を表し、Cbzはベンジルオキシカルボニル基を表す]
Formula [14]
Figure 0005605008
Which is obtained in the dehydroxyfluorination reaction of a protected cis-4-hydroxy-D-proline represented by the formula [15]
Figure 0005605008
A trans-4-fluoro-D-proline protector (main product) represented by the formula [16]
Figure 0005605008
A reaction product containing a 3,4-dehydro-D-proline protector (by-product) represented by the following formula: hydrogenation reaction and reductive deprotection of a protecting group for a carboxyl group and a protecting group for a secondary amino group By carrying out the reaction simultaneously, the formula [12]
Figure 0005605008
Trans-4-fluoro-D-proline (target product) represented by the formula [13]
Figure 0005605008
A process for producing trans-4-fluoro-D-proline, wherein the reaction product containing D-proline (impurities) represented by the formula (1) is induced to selectively recover only the target product.
[Wherein Bn represents a benzyl group and Cbz represents a benzyloxycarbonyl group]
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