JP5595375B2 - 航空学および航空宇宙産業に応用するための特定のテキスチャリング剤を含むメソ構造塗膜 - Google Patents
航空学および航空宇宙産業に応用するための特定のテキスチャリング剤を含むメソ構造塗膜 Download PDFInfo
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Description
− 金属製素地、
− 少なくとも1つの下記で定義するメソ構造層、および
− 随意的に少なくとも1つの高密度層
から構成される構造体に関係する。
MZn (1)
Lm xMZn−mx (2)
R’x’M’Z4−x’ (3)または
Z3M’−R”−M’Z3 (4)
M は Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Sn(IV)、Hf(IV)、Nb(V)、V(V)または Ta(V)を表し、Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Sn(IV)または Nb(V)、または Y(III)、La(III)および Eu(III)のような希土類が好ましく、括弧内の数値は原子Mの原子価である;
n は分子 M の原子価を表す:
x は 1 から n−1の範囲内の整数である;
M’ は Si(IV)または Sn(IV)を表す;
x’ は 1 から 3 の範囲内の整数である;
M または M’ が Sn を表さない場合、それぞれのZ は互いに独立して、−OR基が好ましいがハロゲン原子または−OR基を表す;
M または M’ が Sn を表す場合、それぞれのZ は互いに独立して、−OR基が好ましいがハロゲン原子または−OR基、またはアルキニル基 −C≡C−R’’’で、ここに R’’’ は水素原子、アルキル基の好ましくは C1−10 のメチル基またはブチル基のようなもの、C6−10 のアリール基のフェニル基のようなもの、C7−16 のアルカリルまたはアラルキル基のベンジル基のようなものを表す;
R はアルキル基の好ましくは炭素原子を1から4含む、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、s−ブチルまたは t−ブチル基、好ましくはメチル、エチルまたはi−プロピル、より好ましくは エチル のようなものを表す;
それぞれのR’ は、互いに独立して、非加水分解性基を表し、アルキル基、とりわけ C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルまたはブチル;アルケニル基、とりわけ C2−4 のビニル、1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、とりわけ C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、とりわけ C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルまたはメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;エポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、さらにアルコキシ基が炭素原子を1から10持つ、グリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの;C2−10 ハロアルキル基の3−クロロプロピルのようなもの;C2−10 ペルハロアルキル基のペルフルオロプロピルのようなもの;C2−10 メルカプトアルキル基のメルカプトプロピルのようなもの;C2−10 アミノアルキル基の 3−アミノプロピルのようなもの;(C2−10 アミノアルキル)アミノ(C2−10 アルキル)基の 3−[(2−アミノエチル)アミノ]プロピルのようなもの;ジ(C2−10 アルキレン)トリアミノ(C2−10 アルキル)基の 3−[ジエチレントリアミノ]プロピルおよびイミダゾリル(C2−10 アルキル)基、から選択される;
L は単座または多座の、好ましくは多座の錯体生成配位子で、例えばカルボン酸で好ましくは C1−18 の酢酸のようなもの、β−ジケトンで好ましくは C5−20 のアセチルアセトンのようなもの、β−ケトエステルで好ましくは C5−20 のメチルアセトアセテートのようなもの、β−ケトアミドで好ましくは C5−20 のN−メチルアセトアセトアミドのようなもの、αまたはβ−ヒドロキシ酸で好ましくは C3−20 の乳酸またはサリチル酸のようなもの、アミノ酸のアラニンのようなもの、ポリアミンのジエチレントリアミン(またはDETA)のようなもの、またはホスホン酸またはホスホナート、を表す;
m は配位子 L の水酸化指数を表す;および
R” は非加水分解性基を表し、アルキレン基の好ましくは C1−12 の、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、デシレンおよびドデシレン;アルキニレン基の好ましくは C1−12 の、例えばアセチレニレン(−C≡C−)、−C≡C−C≡C−、および −C≡C−C6H4−C≡C−;N,N−ジ(C2−10 アルキレン)アミノ基でN,N−ジエチレンアミノのようなもの;ビス[N,N−ジ(C2−10 アルキレン)アミノ]基でビス[N−(3−プロピレン)−N−メチレンアミノ]のようなもの;C2−10 メルカプトアルキレンでメルカプトプロピレンのようなもの;(C2−10 アルキレン)ポリスルフィド基で二硫化プロピレンまたは四硫化プロピレンのようなもの;アルケニレン基のとりわけ C2−4 でビニレンのようなもの;アリーレン基のとりわけ C6−10 でフェニレンのようなもの;ジ(C2−10 アルキレン)−(C6−10 アリーレン)基でジ(エチレン)フェニレンのようなもの;N,N’−ジ(C2−10 アルキレン)ウレイド基でN,N’−ジプロピレンウレイドのようなもの;および次のような基、から選択される:
・ チオフェン型でn=1〜4の
・ (ポリ)エーテルまたは(ポリ)チオエーテル型、アリファティック(脂肪族)およびアリーリック(芳香族)C2−50 の −(CH2)p−X−(CH2)p−、−(CH2)p−C6H4−X−C6H4−(CH2)p−、−C6H4−X−C6H4−、および −[(CH2)p−X]q(CH2)p−のようなもので、ここに X は O または S を表し、p=1〜4および q=2〜10である、
・ クラウンエーテル型の次のようなもの
−CH2CH2−SiMe2−C6H4−SiMe2−CH2CH2−、
−CH2CH2−SiMe2−C6H4−O−C6H4−SiMe2−CH2CH2−および
−CH2CH2−SiMe2−C2H4−SiMe2−CH2CH2−、
・ C1−18 フルオロアルキレン型でr=1〜10の −(CF2)r−、−CH2CH2−(CF2)6−CH2CH2− および −(CH2)4−(CF2)10−(CH2)4− のようなもの、
・ ビオロゲン型の
・ トランス−1,2−ビス(4−ピリジルプロピル)エテン型の
・ アルミニウム ジ−s−ブトキシ−エチルアセトアセテート
(CH3CH2OC(O)CHC(O)CH3)Al(CH3CHOCH2CH3)2
・ ビス(2,4−ペンタンジオネート)ジルコニウムジクロリド
[CH3C(O)CHC(O)CH3]2ZrCl2
・ ジイソプロポキシ−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナート)ジルコニウム
[(CH3)3CC(O)CHC(O)C(CH3)3]2Zr[OCH(CH3)2]2 および
・ ビス(2,4−ペンタンジオナト)ジクロロスズ
[CH3C(O)CHC(O)CH3]2SnCl2
・ 原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとし、好ましくは腐蝕に対して活性である、または活性でない有機化合物で機能化されているクラスターまたはナノ粒子の形の基本的ナノブロック、
・界面活性剤が陰イオンの場合は対イオンがNd3+、Pr3+、Co3+、Ce3+およびCe4+から、界面活性剤が陽イオンの場合はバナジウム酸塩、モリブデン酸塩および過マンガン酸塩の陰イオンから選択される、陰イオンおよび陽イオンのようなイオン両親媒性界面活性剤、および
・ 追加的に次のものを持つ両親媒性界面活性剤:
* 1つ以上の活性有機耐蝕性官能基、および/または
* 1つ以上の金属イオンの錯化基。
これらの基本的ナノブロックは原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとし、金属酸化物は例えば、アルミニウム、セリウムIIIおよびIV、シリコン、ジルコニウム、チタンおよびスズの酸化物から、より好ましくはジルコニウムおよびセリウムIVの酸化物から選択される。これらを調合するために幾つかの合成方法を用いることができる。
M1(Z1)n1 (5)、
(L1 m1)x1’M1(Z1)4−m1x1’ (6) または
(R1’)x1M1’(Z1)n1−x1 (7)。
M1 はAl(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Ti(IV)または Sn(IV)を表すが、Zr(IV)または Ce(IV)が好ましく、括弧内の数値は金属原子の原子価であり、
M1’ はSi(IV)または Sn(IV)を表し、
n1 は M1 原子の原子価を表し、
x1 は 1 から n1−1 の範囲内の整数で、
x1’ は 1 から 3 の範囲内の整数で、
Z1 はハロゲン原子または −OR1を表すが、−OR1 が好ましく;
R1 はアルキル基を表し、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピルまたはブチル基のような1から4の炭素原子を含むものが好ましく、メチルまたはエチルが好ましい;
R1’ は非加水分解性基を表し、アルキル基、とりわけ C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルまたはブチル;アルケニル基、特に C2−4 のビニル、1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、特に C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、特に C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルまたはメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、かつアルコキシ基が1から10の炭素原子を持つグリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの、から選択される;
L1 は単座または多座、好ましくは多座の、錯化剤で、例えば、カルボン酸の好ましくは C1−18 の酢酸のようなもの、β−ジケトンの好ましくは C5−20 のアセチルアセトンのようなもの、β−ケトエステルの好ましくは C5−20 のメチルアセトアセテートのようなもの、β−ケトアミドの好ましくは C5−20 のN−メチルアセトアミドのようなもの、αまたはβ−ヒドロキシ酸の好ましくは C5−20 の乳酸またはサリチル酸のようなもの、アミノ酸のアラニンのようなもの、ポリアミンのジエチレントリアミン(またはDETA)のようなもの、もしくはホスホン酸またはホスホナート;および
m1 は配位子 L1 のヒドロキシル化指数を表す。
X はハロゲン原子を表し塩素または臭素の原子、または硫酸塩のようなものである。
− フッ化共重合物 CH3−[CH2−CH2−CH2−CH2−O]n−CO−R1 で、R1=C4F9 または C8F17 のもの、
− 生物学的共重合物のポリアミノ酸類のようなもので、例えばポリリシンおよびアルギン酸塩類、
− デンドリマー類の、G.J.A.A. Soler−Illia, L. Rozes, M.K. Boggiano, C. Sanchez, C.O. Turrin, A.M. Caminade, J.P. Majoral, Angew. Chem. Int. Ed. 2000, 39, No. 23, 4250−4254 に記載されているようなもので、例えば (S=)P[O−C6H4−CH=N−N(CH3)−P(=S)−[O−C6H4−CH=CH−C(=O)−OH]2]3 、
− ブロック共重合体で2ブロック、3ブロックの A−B−Aまたは A−B−C タイプ、または4ブロックから構成されるもの、および
− 当業者に知られている他の全ての両親媒性特性の共重合体で、さらにはとりわけAdv. Mater., S. Forster, M. Antonietti, 1998, 10, 195−217 または Angew. Chem. Int., S. Forster, T. Plantenberg, Ed, 2002, 41, 688−714 または Macromol. Rapid Commun, H. Colfen, 2001, 22, 219−252 に記載されたもの。
ポリ((メタ)アクリル酸)をベースとした共重合体、
ポリジエン をベースとした共重合体、
水素化ジエン をベースとした共重合体、
ポリ(酸化プロピレン)をベースとした共重合体、
ポリ(酸化エチレン)をベースとした共重合体、
ポリイソブチレンをベースとした共重合体、
ポリスチレン をベースとした共重合体、
ポリシロキサン をベースとした共重合体、
ポリ(2−ビニル−ナフタレン)をベースとした共重合体、
ポリ(ビニルピリジンおよび N−メチルビニルピリジニウムヨウ化物)をベースとした共重合体、
ポリ(ビニルピロリドン)をベースとした共重合体。
o 1つ以上の活性の有機耐蝕性官能基、および/または
o 1つ以上の金属イオンの錯化基。
(1)随意的な揮発性溶媒、好ましくはエタノールのようなアルコール、
(2)上で定義したテキスチャリング剤、
(3)水、
(4)分子状金属前駆物質で上に定義した化学式(1)、(2)、(3)および(4)のそれらから選択されたもの、
(5)随意的に機能化剤、および随意的にラテックス、および
(6)酸、これにより電極による媒体のpH想定値が0 および 4 の間になる、
次いで溶液は 2hrおよび15日までの期間、好ましくは 40時間および6日の間かき混ぜられる。
M2(Z2)n2 (8)
(L2 m2)x2M2(Z2)n2−m2x2 (9)
(R2)x2M2’(Z2)n2−x2 (10)
(Z2)n2−1M2’−R3−M2’(Z2)n2−1 (11)
ここに:
n2 は金属原子 M2 の原子価を表し、3、4 または 5 が好ましい;
x2 は 1 から n2 −1 の範囲内の整数である;
M2 は Alの様な原子価 III の金属原子;Si、Ce、Zr および Ti の様な原子価 IV の金属原子;または Nb のような原子価 IV の金属原子を表す。M2 はシリコン(n2 =4)、セリウム(n2 =4)またはジルコニウム(n2 =4)が好ましく、シリコンがさらにより好ましい;
M2’ はシリコン原子をあらわす;
Z2 はハロゲン原子;アルコキシ基の好ましくは C1−4 の、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシおよびブトキシのようなもの;アリールオキシ基の特に C6−10 の、フェノキシのようなもの;および C1−10 のアルキルカルボニル基のアセチルのようなもの、から選択された加水分解性基を表す。Z2 は C1−4 のアルコキシ基を、より具体的には メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ、s−ブトキシ、i−ブトキシまたはt−ブトキシを表すことが好ましい;
R2 は非加水分解性の1価の基で、アルキル基、好ましくは C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルおよびブチルのようなもの;アルケニル基、特に C2−4 のビニル,1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、特に C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、特に C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルおよびメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、さらにアルコキシ基が 1 から 10 の炭素原子を持つグリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの、から選択される。
R3 は非加水分解性の2価の基で R” で記載したようなもの;および
L2 は錯体形成配位子で上の L1 に記載したようなもの、および
m2 は配位子 L2 のヒドロキシル化指数を表す。
− 上述したような、とりわけ加水分解性または非加水分解性処理による基本的ナノブロックを準備し、次いで
− 随意的にそれらを機能化する、
ことにより、および他方では
− マトリックスを準備し、次いで
− 随意的に機能化された基本的ナノブロックおよびマトリックスを混合する、
ことにより、入手できる。
(a)酸の存在下で水溶性媒体または水/揮発性溶媒の、好ましくは水/アルコール、より好ましくは水/エタノールの中で上で定義した化学式(1)、(2)、(3)または(4)の少なくとも1つの分子状金属前駆物質、少なくとも1つの上で定義した機能性テキスチャリング剤、および随意的に少なくとも1つの追加的な機能化剤、および随意的にラテックスの存在の下で、加水分解−縮合によりゾル−ゲル材料を製造する、
(b)工程(a)で得られた材料を塗工済みまたは未塗工の金属製素地に、例えばディップコート、スピンコート、散布、スプレー、層状塗布または刷毛塗りにより堆積する、
(c)随意的に塗工された素地を熱的に、化学的に例えばアンモニア蒸気により、またはUVにより、または3つの処理を組み合わせて処理し、緻密なネットワークに誘導する、および
(d)随意的に(b)および(c)、または(a)から(c)の工程を繰り返す。
(1)エタノールのようなアルコールが好ましいが、随意的な揮発性溶媒、
(2)上に定義したテキスチャリング剤、
(3)水、
(4)分子状金属前駆物質の上で定義した化学式(1)、(2)、(3)および(4)のそれらから選択したもの、
(5)随意的に機能化剤、および随意的にラテックス、および
(6)電極による媒体のpH測定値が 0 および 4 の間になるための酸、
次いで溶液は 2hおよび 15日の期間、好ましくは 40時間および 6日の間かき混ぜられる。
<実施例>
5モルの水、0.15モルのオルトリン酸(H3PO4)、0.06モルの界面活性剤 CH3−(CH2)15−O(CH2−CH2−O)20−C(O)−C6H3N3H および 1モルのテトラエトキシシラン(TEOS)をかき混ぜながら、20モルのエタノールに連続的に加えた。それぞれを加える合間には数分間かき混ぜ均一な溶液を得た。
5モルの水、0.005モルのPluronic F127 の商品名で販売されている界面活性剤、0.1モルのベンゾトリアゾール、0.1モルの硝酸(III)セリウム、0.15モルのオルトリン酸 (H3PO4) および 1モルのテトラエトキシシラン(TEOS)をかき混ぜながら、20モルのエタノールに連続的に加えた。それぞれを加える合間には数分間かき混ぜ均一な溶液を得た。
Claims (16)
- 次のものを含む構造体:
金属製素地、および
次の化学式の、金属アルコキシド型の少なくとも1つの分子状金属前駆物質から、追加的に少なくとも1つの活性有機耐蝕性官能基を持つ両親媒性界面活性剤から選択される少なくとも1つのテキスチャリング剤の存在の下において、ゾル−ゲル処理により調合される少なくとも1つのメソ構造層:
MZn (1)
ここに、化学式(1)において:
M はSi(IV)を表し、括弧内の数値は原子 M の原子価である;
n は原子 Mの 原子価を表す;
Z は互いに独立して、−OR基を表す;および
R は1から4個の炭素原子を持つアルキル基を表す。 - 前記少なくとも1つの活性有機耐蝕性官能基がベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾイミダゾール、安息香酸ナトリウム、ニトロクロロベンゼン、クロラニル、8−ヒドロキシキノリン、N−メチルピリジン、ピペリジン、ピペラジン、1,2−アミノエチルピペリジン、N−2−アミノエチルピペラジン、N−メチルフェノチアジン、イミダゾールおよびピリジンから選択され、さらにこれらが2から30の酸化エチレンユニットを持つ基を介して直接的または間接的に、C 1−20 アルキル基に結合している、請求項1に記載の構造体。
- 前記少なくとも1つのテキスチャリング剤が、さらに、原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとする、クラスターまたはナノ粒子の形の基本的ナノブロックを含み、前記金属酸化物がアルミニウム、セリウムIII およびIV、シリコン、ジルコニウム、チタンならびにスズの酸化物から選択される、請求項1または2に記載の構造体。
- 前記基本的ナノブロックが 2 から 100nmの範囲内の寸法のナノ粒子の形である、請求項3に記載の構造体。
- 前記基本的ナノブロックが、次の一般化学式を持つ少なくとも 1つの金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物の前駆物質の制御された加水分解により得られる、請求項3または4に記載の構造体:
M1(Z1)n1 (5)
ここに、化学式(5)において:
M1 は Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Ti(IV)または Sn(IV)を表し、括弧内の数値は金属原子の原子価であり、
n 1 は M1 原子の原子価を表す;
Z 1 はハロゲン原子または −OR1 を表す;および
R1は1から4の炭素原子を含むアルキル基を表す。 - 前記基本的ナノブロックの表面が基本的ナノブロック(NBB)用機能化剤により機能化されている、請求項3から5の何れかに記載の構造体。
- 前記NBB用機能化剤が6−アミノカプロン酸、2−アミノエチルホスホン酸および1つ以上の金属の錯化基を含む錯化剤から選択される、請求項6に記載の構造体。
- 前記錯化剤がカルボン酸、β−ジケトン、β−ケトエステル、β−ケトアミド、α−もしくはβ−ヒドロキシ酸、アミノ酸、ポリアミン、ホスホン酸またはホスホナートを含む、請求項7に記載の構造体。
- 前記少なくとも1つのテキスチャリング剤が、さらに、追加的に少なくとも1つの金属イオンの錯化基を持つ少なくとも1つの両親媒性界面活性剤を含み、前記少なくとも1つの錯化基が−OH、−COOH、−NH2、=NOH、−SH、−PO3H2、−PO2H、=O、=S、=N−、−NH− から選択された 1つ以上の官能基で置換された C1 から C6 の直鎖状または枝分かれした、または C3 から C6 の環状の飽和または不飽和の炭化水素基から選択され、これらの基は直接的または間接的に、2から30の酸化エチレンユニットを介して C1−20 アルキル基に結合されている、請求項1から8の何れかに記載の構造体。
- 前記金属製素地がチタン、アルミニウムまたはこれらの合金、ステンレススチールまたはマグネシウム合金のものである、請求項1から9の何れかに記載の構造体。
- 前記構造体がゾル−ゲル処理により製造された少なくとも1つの高密度層を含む、請求項1から10の何れかに記載の構造体。
- 前記高密度層が請求項3から8の何れかで定義された基本的ナノブロック、および高分子または有機/無機のハイブリッドマトリックスを含む、請求項11に記載の構造体。
- 前記マトリックスが、1つ以上の金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物を、溶媒、および随意的に触媒、の存在の下で重縮合して得られる、請求項12に記載の構造体。
- 前記金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物が次の一般化学式を持つものから選択される、請求項13に記載の構造体:
M2(Z2)n2 (8)
ここに:
n2 は金属原子 M2 の原子価を表す;
M 2 は原子価III、IVまたはVの金属原子を表す;
Z 2 はハロゲン原子、C 1−4 のアルコキシ基、C 6−10 のアリールオキシ基および C1−10 のアルキルカルボニル基から選択される加水分解性基を表す。 - 請求項1から14の何れかに定義された構造体を製造する方法で、次のものから成る工程を含むもの:
(a) 酸の存在の下で、水溶性媒体または水/揮発性溶媒の中で、請求項1で定義した化学式(1)の少なくとも 1つの分子状金属前駆物質、請求項1〜9で定義した少なくとも 1つの機能性テキスチャリング剤、および随意的に少なくとも 1つの追加的な機能化剤、ならびに随意的にラテックス、の存在の下で、加水分解−縮合によりゾル−ゲル材料を製造する、
(b) 工程(a)で得られた材料を金属製素地上に堆積する、
(c) 随意的に塗工された素地を熱的に、化学的にまたはUVにより、または3つの処理を組み合わせて処理し、緻密なネットワークに誘導する、および
(d) 随意的に(b)および(c)、または(a)から(c)の工程を繰り返す。 - 請求項1から14の何れかに定義されたメソ構造層であって、航空学または航空宇宙産業分野において金属製素地の耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、機械的耐久性、プローブとしての用途、着色および/または疎水性特性を改善するために用いられるメソ構造層。
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