JP5595375B2 - 航空学および航空宇宙産業に応用するための特定のテキスチャリング剤を含むメソ構造塗膜 - Google Patents

航空学および航空宇宙産業に応用するための特定のテキスチャリング剤を含むメソ構造塗膜 Download PDF

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Description

本発明は航空学および航空宇宙産業用途に用いることを意図した、特定のテキスチャリング剤を含むメソ構造塗膜を備えた構造体に関係する。
航空学分野において、腐食防止は一般にクロムVIをベースとした表面処理、例えば、クロムの陽極酸化または変換層の方法によりもたらされる。
しかしながら、クロムVIは有毒であり、発ガン性がありかつ環境に危険であることが判ってきている。この使用はいずれは禁止されるべきである。
したがって、例えば腐食に対してしかも同様にひっかき傷またはかじりなどに対する保護をもたらす他のシステムで、少なくとも現行システムと同等の性能を提供できるものを見いだす必要がある。
産業界ではすでにゾル−ゲル処理により調合されるハイブリッド有機/無機材料が提案されている。
例えば、文献US2003/024432では酢酸のような有機触媒の下で、アルコキシジルコニウムのような有機金属化合物から、有機シランから、およびホウ酸塩、亜鉛またはリン酸塩を持つ1つ以上の化合物から調合される耐蝕特性を持つ塗膜について記載している。
文献US6216638および EP1097259では今度はそれぞれその分子鎖内に幾つかの硫黄原子を持つ多官能性シランおよび二官能性シランをベースとした処理溶液の塗布を含む金属の腐蝕を防ぐ方法について記載している。
しかしながら、これらの材料はミクロまたはナノ構造ではなく、すなわち材料内の有機および無機領域の分布をミクロンまたはナノメートルの尺度では制御できないという欠点がある。このランダムな分布のために特性が一つの材料から他の材料へ再現できないことになりかねない。
ゾル−ゲル処理の利点の一つは開始前駆物質からいわゆる緩条件、すなわち200℃未満の温度、および在来の表面処理に用いられるものより環境に対する有害性が少ない水または水/溶媒の媒体内で3次元ネットワークを構成することにある。
前記処理に通常用いられる開始前駆物質は1つ以上の加水分解性基を含む金属アルコキシド類である。
他の型の耐蝕特性を持ついわゆるメソ構造塗膜については最近S.V. Lamaka他のElectrochemistry Communications 8,2006,421−428による「耐蝕性自己回復の前処理のためのナノ構造容器としてテンプレート法により準備されたTiOx の自己集合ネットワーク」という記事に記載されている。
しかしながら、これらの塗膜はチタンアルコキシドから調合されているため、日光に曝されると急速に劣化する光触媒物質となる。
本発明者は驚くべきことに、有機/無機界面の性質をナノメートル尺度で制御することにより、特定の材料で、耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、機械的耐久性、フィルムの厚みおよび品質、密度、着色および疎水性特性のようなマクロ的性質の観点から要求通りに調整でき、しかも再現性の観点からもより優れた性能を達成することが可能であることを発見した。
この制御は少なくとも1つの特定のメソ構造層および金属製素地から構成される構造体により達成できる。
ハイブリッドおよび無機のメソ構造層はとりわけ知られていて、L.Nicole 他によるJ.Mater.Chem.2005,15,3598−3627の「メソ構造のハイブリッド有機−無機薄膜」という記事に記載されている。
これらのメソ構造層は制御された多孔性、すなわち例えばガスの吸脱着による測定で2および50nmの間の細孔寸法を持ち、しかもナノメートル尺度で構築されている。
これらはゾル−ゲル前駆物質および表面活性分子から開始して得ることができる。この特定の組合せにより表面活性分子のミセルの周りに無機またはハイブリッドのネットワークを構築することが可能となる。これによりメソ構造材料が得られ、ここでは表面活性分子のミセルがテンプレートとして作用しその構造は例えば、K.Robert Lange,Hanser Gardner Publications による「界面活性剤:実用ハンドブック」、また Drew Myers,Wiley−VCH による「界面活性剤の科学技術」または Soler−Illia,G.J.A.A.,Sanchez,C.,Lebeau,B.and Patarin,J.,Chemical Reviews 102,4093−4138(2002) による「テキスチャード材料を設計するための化学戦略:ミクロおよびメソ多孔性の酸化物からナノネットワークおよび階層構造体まで」に記載されているように詳細に記録されている。
これらのメソ構造層は種々の機能性を持つことが可能でそれは金属製素地(または表面)、とりわけアルミニウム、チタンまたはマグネシウムの合金、または鋼に、例えば耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、良好な機械的耐久性および/または着色性を与えおよび/または品質管理用のプローブを構築し、同時に金属製素地に優れた密着性をもたらすことができる。
さらに、これらの層は幾つかの異なる機能性の共在が可能で全ての在来技術、例えばディップコート、スピンコート、散布、スプレー、層状塗布および刷毛塗りにより堆積することができる。個別の成分は工業的周期と矛盾しない有効寿命、例えば12ヶ月以上となるように設計することが可能で、塗布する直前に混合することができる。これらの処方は環境規制に適合する成分を使用し、とりわけ大部分が水性媒体内にあるという追加的な有利性がある。
したがって本発明は:
− 金属製素地、
− 少なくとも1つの下記で定義するメソ構造層、および
− 随意的に少なくとも1つの高密度層
から構成される構造体に関係する。
前記のメソ構造層は以下に定義する化学式(1)、(2)、(3)または(4)の加水分解性基を1つ以上含む少なくとも1つの分子状金属前駆物質により、以下で定義する少なくとも1つの特定のテキスチャリング剤の存在の下でゾル−ゲル処理により調合される。テキスチャリング剤は最終材料内に保持され、これに少なくとも1つのマクロ的特性、および随意的にラテックスのそれを与える。
このゾル−ゲル処理による調合は通常は水および随意的にエタノールおよびプロパノールの様なアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン、ジオキサン、ジエーテル、クロロホルムまたはアセトニトリルのような少なくとも1つの揮発性溶媒の存在の下で実施される。
「加水分解性基」とは水と反応し−OH基を作ることができ、それ自身が重縮合する基を意味する。
1つ以上の加水分解性基を持つ前記の金属性分子状前駆物質は金属アルコキシドまたはハロゲン化物型のもので、金属アルコキシド、または次の化学式のアルキニル金属が好ましい:
MZ (1)
MZn−mx (2)
R’x’M’Z4−x’ (3)または
M’−R”−M’Z (4)
化学式(1)、(2)、(3)および(4)において:
M は Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Sn(IV)、Hf(IV)、Nb(V)、V(V)または Ta(V)を表し、Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Sn(IV)または Nb(V)、または Y(III)、La(III)および Eu(III)のような希土類が好ましく、括弧内の数値は原子Mの原子価である;
n は分子 M の原子価を表す:
x は 1 から n−1の範囲内の整数である;
M’ は Si(IV)または Sn(IV)を表す;
x’ は 1 から 3 の範囲内の整数である;
M または M’ が Sn を表さない場合、それぞれのZ は互いに独立して、−OR基が好ましいがハロゲン原子または−OR基を表す;
M または M’ が Sn を表す場合、それぞれのZ は互いに独立して、−OR基が好ましいがハロゲン原子または−OR基、またはアルキニル基 −C≡C−R’’’で、ここに R’’’ は水素原子、アルキル基の好ましくは C1−10 のメチル基またはブチル基のようなもの、C6−10 のアリール基のフェニル基のようなもの、C7−16 のアルカリルまたはアラルキル基のベンジル基のようなものを表す;
R はアルキル基の好ましくは炭素原子を1から4含む、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、s−ブチルまたは t−ブチル基、好ましくはメチル、エチルまたはi−プロピル、より好ましくは エチル のようなものを表す;
それぞれのR’ は、互いに独立して、非加水分解性基を表し、アルキル基、とりわけ C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルまたはブチル;アルケニル基、とりわけ C2−4 のビニル、1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、とりわけ C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、とりわけ C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルまたはメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;エポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、さらにアルコキシ基が炭素原子を1から10持つ、グリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの;C2−10 ハロアルキル基の3−クロロプロピルのようなもの;C2−10 ペルハロアルキル基のペルフルオロプロピルのようなもの;C2−10 メルカプトアルキル基のメルカプトプロピルのようなもの;C2−10 アミノアルキル基の 3−アミノプロピルのようなもの;(C2−10 アミノアルキル)アミノ(C2−10 アルキル)基の 3−[(2−アミノエチル)アミノ]プロピルのようなもの;ジ(C2−10 アルキレン)トリアミノ(C2−10 アルキル)基の 3−[ジエチレントリアミノ]プロピルおよびイミダゾリル(C2−10 アルキル)基、から選択される;
L は単座または多座の、好ましくは多座の錯体生成配位子で、例えばカルボン酸で好ましくは C1−18 の酢酸のようなもの、β−ジケトンで好ましくは C5−20 のアセチルアセトンのようなもの、β−ケトエステルで好ましくは C5−20 のメチルアセトアセテートのようなもの、β−ケトアミドで好ましくは C5−20 のN−メチルアセトアセトアミドのようなもの、αまたはβ−ヒドロキシ酸で好ましくは C3−20 の乳酸またはサリチル酸のようなもの、アミノ酸のアラニンのようなもの、ポリアミンのジエチレントリアミン(またはDETA)のようなもの、またはホスホン酸またはホスホナート、を表す;
m は配位子 L の水酸化指数を表す;および
R” は非加水分解性基を表し、アルキレン基の好ましくは C1−12 の、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、デシレンおよびドデシレン;アルキニレン基の好ましくは C1−12 の、例えばアセチレニレン(−C≡C−)、−C≡C−C≡C−、および −C≡C−C−C≡C−;N,N−ジ(C2−10 アルキレン)アミノ基でN,N−ジエチレンアミノのようなもの;ビス[N,N−ジ(C2−10 アルキレン)アミノ]基でビス[N−(3−プロピレン)−N−メチレンアミノ]のようなもの;C2−10 メルカプトアルキレンでメルカプトプロピレンのようなもの;(C2−10 アルキレン)ポリスルフィド基で二硫化プロピレンまたは四硫化プロピレンのようなもの;アルケニレン基のとりわけ C2−4 でビニレンのようなもの;アリーレン基のとりわけ C6−10 でフェニレンのようなもの;ジ(C2−10 アルキレン)−(C6−10 アリーレン)基でジ(エチレン)フェニレンのようなもの;N,N’−ジ(C2−10 アルキレン)ウレイド基でN,N’−ジプロピレンウレイドのようなもの;および次のような基、から選択される:
・ チオフェン型でn=1〜4の
のようなもの、
・ (ポリ)エーテルまたは(ポリ)チオエーテル型、アリファティック(脂肪族)およびアリーリック(芳香族)C2−50 の −(CH−X−(CH−、−(CH−C−X−C−(CH−、−C−X−C−、および −[(CH−X](CH−のようなもので、ここに X は O または S を表し、p=1〜4および q=2〜10である、
・ クラウンエーテル型の次のようなもの
・ オルガノシラン型で次のようなもの:
−CHCH−SiMe−C−SiMe−CHCH−、
−CHCH−SiMe−C−O−C−SiMe−CHCH−および
−CHCH−SiMe−C−SiMe−CHCH−、
・ C1−18 フルオロアルキレン型でr=1〜10の −(CF−、−CHCH−(CF−CHCH− および −(CH−(CF10−(CH− のようなもの、
・ ビオロゲン型の
または
・ トランス−1,2−ビス(4−ピリジルプロピル)エテン型の
化学式(2)では M は Si とは異なることが好ましい。
化学式(1)の化合物の例として、とりわけテトラ(C1−4 アルコキシ)シラン類および ジルコニウム n−プロポキシド Zr(OCHCHCHを挙げることができる。
化学式(2)の例として、とりわけ次のものを挙げることができる:
・ アルミニウム ジ−s−ブトキシ−エチルアセトアセテート
(CHCHOC(O)CHC(O)CH)Al(CHCHOCHCH
・ ビス(2,4−ペンタンジオネート)ジルコニウムジクロリド
[CHC(O)CHC(O)CHZrCl
・ ジイソプロポキシ−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナート)ジルコニウム
[(CHCC(O)CHC(O)C(CHZr[OCH(CHおよび
・ ビス(2,4−ペンタンジオナト)ジクロロスズ
[CHC(O)CHC(O)CHSnCl
化学式(3)のオルガノアルコキシシランの例として、とりわけ3−アミノプロピルトリアルコキシシラン (RO)Si−(CH−NH 、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリアルコキシシラン (RO)Si−(CH−NH−(CH−NH、3−(トリアルコキシシリル)プロピルジエチレントリアミン (RO)Si−(CH−NH−(CH−NH−(CH−NH;3−クロロプロピル−トリアルコキシシラン (RO)Si−(CHCl、3−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン (RO)Si−(CHSH;N−(3−トリアルコキシシリルプロピル)−4,5−ジヒドロイミダゾール型の有機シリル化アゾール類を挙げることができ、ここに R は上と同様の意味を持つ。
化学式(3)の化合物の他の例として、さらにトリクロロブチルスズCHCHCHCHSnCl、トリス(イソプロポキシ)ブチルスズ CHCHCHCHSn[OCH(CH、トリス(2−フェニルアセチレン)メチルスズ CHSn−(C≡C−C、およびトリス(プロピニル)ブチルスズ CHCHCHCHSn−(C≡C−CH を挙げることができる。
化学式(4)のビス−アルコキシシランの例として、ビス[トリアルコキシシリル]メタン (RO)Si−CH−Si(OR)、ビス[トリアルコキシシリル]エタン (RO)Si−(CH−Si(OR)、ビス[トリアルコキシシリル]オクタン (RO)Si−(CH−Si(OR)、ビス[トリアルコキシシリルプロピル]アミン (RO)Si−(CH−NH−(CH−Si(OR)、ビス−[トリアルコキシシリルプロピル]エチレンジアミン (RO)Si−(CH−NH−(CH−NH−(CH−Si(OR) ;ビス−[トリアルコキシシリルプロピル]ジスルフィド (RO)Si−(CH−S−(CH−Si(OR) 、ビス[トリアルコキシシリルプロピル]テトラスルフィド (RO)Si−(CH−S−(CH−Si(OR) 、ビス−[トリアルコキシシリルプロピル]尿素 (RO)Si−(CH−NH−CO−NH−(CH−Si(OR); ビス[トリアルコキシシリルエーテル]フェニル (RO)Si−(CH−C−(CH−Si(OR)を用いることが好適であり、R は上と同様の意味を持つ。
化学式(4)の化合物の他の例として、さらにビス(トリクロロスズ)フェニル ClSn−C−SnCl または ビス(トリプロピニルスズ)ブタン (CH−C≡C)−Sn−(CH−Sn−(C≡C−CH を挙げることができる。
本発明に用いられる前記テキスチャリング剤は次のものから選択される:
・ 原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとし、好ましくは腐蝕に対して活性である、または活性でない有機化合物で機能化されているクラスターまたはナノ粒子の形の基本的ナノブロック、
・界面活性剤が陰イオンの場合は対イオンがNd3+、Pr3+、Co3+、Ce3+およびCe4+から、界面活性剤が陽イオンの場合はバナジウム酸塩、モリブデン酸塩および過マンガン酸塩の陰イオンから選択される、陰イオンおよび陽イオンのようなイオン両親媒性界面活性剤、および
・ 追加的に次のものを持つ両親媒性界面活性剤:
* 1つ以上の活性有機耐蝕性官能基、および/または
* 1つ以上の金属イオンの錯化基。
構造物質として使用できる基本的ナノブロックはよく知られた材料で、とりわけC.Sanchez 他の、 Chem.Mater.,2001,13,3061−3083 による「機能性ナノビルディングブロックから設計されたハイブリッド有機−無機ナノ複合材料」の記事に記載されている。
本発明に用いた基本的ナノブロックはクラスターまたはナノ粒子の形で、寸法が2から100nmの範囲内のナノ粒子が好ましく、2から50nmがなおよく、2から20nmがなおさらよく、2から10nmがより好ましく、2から5nmがさらにより好ましく、これらのナノ粒子の直径は透過電子顕微鏡法(またはTEM)、X線回折および小角X線散乱または光の散乱により測定できる。
ナノ粒子の寸法分布は小さいことが好ましい。
これらの基本的ナノブロックは原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとし、金属酸化物は例えば、アルミニウム、セリウムIIIおよびIV、シリコン、ジルコニウム、チタンおよびスズの酸化物から、より好ましくはジルコニウムおよびセリウムIVの酸化物から選択される。これらを調合するために幾つかの合成方法を用いることができる。
第1の方法は金属塩から、沈澱によりこれらを合成することから成る。錯化剤を反応混合物内に導入することにより形成された基本ナノブロックの大きさを調整しさらにナノブロックの表面を単座または多座の錯化剤、例えばカルボン酸β−ジケトン、β−ケトエステル、α−またはβ−ヒドロキシ酸、ホスホナート、ポリアミンおよびアミノ酸で機能化することにより溶媒中に分散することを確実にすることができる。有機成分に対する無機物の重量割合は特に20および95%の間である。
基本的ナノブロックはさらに少なくとも1つの、金属アルコキシドが好ましいが、金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物から加水分解または非加水分解処理により得ることができる。加水分解処理の場合、次の一般化学式を持つ少なくとも1つの金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物の前駆物質に対し制御された加水分解がおこなわれる:
(Zn1 (5)、
(L m1x1’(Z4−m1x1’ (6) または
(R’)x1’(Zn1−x1 (7)。
化学式(5)、(6)および(7)において:
はAl(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Ti(IV)または Sn(IV)を表すが、Zr(IV)または Ce(IV)が好ましく、括弧内の数値は金属原子の原子価であり、
’ はSi(IV)または Sn(IV)を表し、
は M原子の原子価を表し、
は 1 から n−1 の範囲内の整数で、
’ は 1 から 3 の範囲内の整数で、
はハロゲン原子または −ORを表すが、−OR が好ましく;
はアルキル基を表し、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピルまたはブチル基のような1から4の炭素原子を含むものが好ましく、メチルまたはエチルが好ましい;
’ は非加水分解性基を表し、アルキル基、とりわけ C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルまたはブチル;アルケニル基、特に C2−4 のビニル、1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、特に C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、特に C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルまたはメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、かつアルコキシ基が1から10の炭素原子を持つグリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの、から選択される;
は単座または多座、好ましくは多座の、錯化剤で、例えば、カルボン酸の好ましくは C1−18 の酢酸のようなもの、β−ジケトンの好ましくは C5−20 のアセチルアセトンのようなもの、β−ケトエステルの好ましくは C5−20 のメチルアセトアセテートのようなもの、β−ケトアミドの好ましくは C5−20 のN−メチルアセトアミドのようなもの、αまたはβ−ヒドロキシ酸の好ましくは C5−20 の乳酸またはサリチル酸のようなもの、アミノ酸のアラニンのようなもの、ポリアミンのジエチレントリアミン(またはDETA)のようなもの、もしくはホスホン酸またはホスホナート;および
は配位子 L のヒドロキシル化指数を表す。
「制御された加水分解」は形成される化学種の成長を制限することを意味し、前駆物質の反応性を減少させるために混合物内に導入される水の量を制御することおよび随意的に中央金属原子の錯化剤を導入することにより行われる。
本発明に用いられる基本的ナノブロックはアモルファスまたは結晶質のナノ粒子であることが好ましく、さらにNBB用の機能化剤により表面を機能化できる。
これらはその合成の過程で直接、またはその合成に続く第2段階のいずれの過程でも、NBB用の機能化剤の存在の下で機能化されるが、第2段階の過程においてが好ましい。これはそれぞれ前−または後−機能化と呼ばれる。
後−機能化は2官能基分子をNBB用の機能化剤として選ぶことにより化学的に実行することが可能で、ここでは一方の官能基には基本的ナノブロックの表面に対して強い親和性があり他方の官能基にはマトリックスとは相互に作用するが基本的ナノブロックの表面に対してはほとんどか全く親和性がない。かくして、とりわけ基本的ナノブロックを含む溶液とNBB用の機能化剤を含む溶液の単純な混合で、化学的機能化によりナノブロックの表面を改質することが可能となる。
ナノブロックの表面に対し親和性を示す官能基の例として、特にカルボン酸官能基、ジケトン官能基もしくはリン酸塩または亜リン酸塩官能基を挙げることができる。
マトリックスと交互作用がある官能基の例としては、特に第1、第2または第3アミノ基のC1−8 アルキルアミノのようなもの、および重合性官能基のビニル、アクリレートまたはメタクリレートのようなものを挙げることができる。
NBB用の機能化剤として用いられる2官能性分子の例としては、特に6−アミノカプロン酸および2−アミノエチルホスホン酸を挙げることができる。
機能化の度合いは20%以上であることが好ましい。
基本的ナノブロックはC1−20 アルキル基に結合した以下で定義する1つ以上の金属錯化基を含む錯化剤により機能化できる。これらの錯体分子はこれらのナノブロックの周りに単分子層として配置されることが好ましい。第2層は両親媒性の界面活性剤で構成され、イオン性であることが好ましい。イオン性の界面活性剤の対イオンは、陰イオンの界面活性剤に対しては陽イオンの Nd3+、Pr3+、Co3+、Ce3+、Ce4+ が、陽イオンの界面活性剤に対してはバナジン酸、モリブデン酸、過マンガン酸の陰イオンが好ましい。
本発明でテキスチャリング剤として用いることができる両親媒性の界面活性剤はイオン性両親媒性活性剤の、陰イオン性または陽イオン性、両性または双曲性イオン、もしくは非イオン性のようなもので、さらには光−または熱−重合性のものであってもよい。この界面活性剤は両親媒性分子でもまたは両親媒性構造を持つ巨大分子(または高分子)であってもよい。
本発明で用いるのに好ましい陰イオン性界面活性剤は陰イオン性両親媒性分子で、リン酸塩の例えばC1225OPO;硫酸塩の例えば p=12、14、16または18の C2p+1OSONa ;スルホン酸塩の例えば C1633SOH および C1225SONa 、ならびにカルボン酸の例えばステアリン酸 C1735COH のようなものである。
陽イオン性の両親媒性界面活性剤の例として、とりわけ下の化学式(I)のような第4級アンモニウム塩、またはイミダゾリウムまたはピリジニウムの塩、またはホスホニウムのそれが挙げられる。
特定の第4級アンモニウム塩はとりわけ次の一般化学式(I)に対応するものから選択される:
ここに遊離基 Rから R11 は同一でも異なってもよいが、直鎖状または枝分かれしたアルキル基を表し、1から30の炭素原子を持ち、さらに
X はハロゲン原子を表し塩素または臭素の原子、または硫酸塩のようなものである。
化学式(I)の第4級アンモニウム塩の中では、とりわけテトラアルキルアンモニウムのハロゲン化物の、例えばジアルキルジメチルアンモニウムまたはアルキルトリメチルアンモニウムのハロゲン化物でそのアルキル遊離基が約12から22の炭素原子を持つもの、具体的にはベヘニルトリメチルアンモニウム、ジステアリルジメチルアンモニウム、セチルトリメチルアンモニウム、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムのハロゲン化物を挙げることができる。好適なハロゲン化物は塩化物および臭化物である。
両性または双曲性イオンの両親媒性界面活性剤の例として、とりわけアミノ酸の化学式が (R12−CH−CH−COO− のプロピオン酸アミノ酸を挙げることができ、ここにそれぞれの R12 は、同一または異なり、水素原子または C1−20 アルキル基のドデシルのようなもの、より具体的にはドデシルプロピオン酸アミノ酸を表す。
本発明で使用できる非イオン性分子の両親媒性界面活性剤は直鎖状のエトキシ化C12−22 アルコール類で 2 から 30 の酸化エチレンを持つもの、または脂肪酸エステルで 12 から 22 の炭素原子をもつもの、およびソルビタンが好ましい。例として、とりわけ Aldrich 社から商品名 BrijTM、SpanTM および TweenTM として市販されているものを挙げることができ、例えば BrijTM 56および78、TweenTM 20および SpanTM 80である。
非イオン性高分子両親媒性界面活性剤は親水性特性および疎水性特性の両方を持つ全ての両親媒性高分子である。前記の共重合物の例として、とりわけ次のものを挙げることができる:
− フッ化共重合物 CH−[CH−CH−CH−CH−O]−CO−Rで、R=C または C17 のもの、
− 生物学的共重合物のポリアミノ酸類のようなもので、例えばポリリシンおよびアルギン酸塩類、
− デンドリマー類の、G.J.A.A. Soler−Illia, L. Rozes, M.K. Boggiano, C. Sanchez, C.O. Turrin, A.M. Caminade, J.P. Majoral, Angew. Chem. Int. Ed. 2000, 39, No. 23, 4250−4254 に記載されているようなもので、例えば (S=)P[O−C−CH=N−N(CH)−P(=S)−[O−C−CH=CH−C(=O)−OH]
− ブロック共重合体で2ブロック、3ブロックの A−B−Aまたは A−B−C タイプ、または4ブロックから構成されるもの、および
− 当業者に知られている他の全ての両親媒性特性の共重合体で、さらにはとりわけAdv. Mater., S. Forster, M. Antonietti, 1998, 10, 195−217 または Angew. Chem. Int., S. Forster, T. Plantenberg, Ed, 2002, 41, 688−714 または Macromol. Rapid Commun, H. Colfen, 2001, 22, 219−252 に記載されたもの。
本発明の範囲内においては、以下のタイプの両親媒性ブロック共重合体が用いられることが好ましい:
ポリ((メタ)アクリル酸)をベースとした共重合体、
ポリジエン をベースとした共重合体、
水素化ジエン をベースとした共重合体、
ポリ(酸化プロピレン)をベースとした共重合体、
ポリ(酸化エチレン)をベースとした共重合体、
ポリイソブチレンをベースとした共重合体、
ポリスチレン をベースとした共重合体、
ポリシロキサン をベースとした共重合体、
ポリ(2−ビニル−ナフタレン)をベースとした共重合体、
ポリ(ビニルピリジンおよび N−メチルビニルピリジニウムヨウ化物)をベースとした共重合体、
ポリ(ビニルピロリドン)をベースとした共重合体。
ブロック共重合体は ポリ(酸化アルキレン)鎖から構成され、それぞれのブロックがポリ(酸化アルキレン)鎖から構成され、それぞれの鎖に対しアルキレンが異なる数の炭素原子を持つものが使用されることが好ましい。
例えば、2ブロックを伴う共重合体の場合、2ブロックの内の1つは親水性の性質のポリ(酸化アルキレン)鎖から構成され、他方のブロックは疎水性の性質のポリ(酸化アルキレン)鎖から構成される。3ブロックを伴う共重合体の場合、ブロックの内の2つは親水性の性質のもので、一方2つの親水性ブロックの間に位置する他のブロックは疎水性の性質のものである。3ブロックを伴う共重合体の場合、親水性の性質のポリ(酸化アルキレン)鎖は(POE)および(POE)で示されるポリ(酸化エチレン)鎖で、疎水性の性質のポリ(酸化アルキレン)鎖は(POP) で示されるポリ(酸化プロピレン)鎖、またはポリ(酸化ブチレン)鎖で、そうでない場合は混合鎖でそのそれぞれの鎖は酸化アルキレンの幾つかのモノマーの混合物である。3ブロックを伴う共重合体の場合、5<u<106、33<v<70および 5<w<106 である化学式 (POE)−(POP)−(POE)の化合物を用いることが可能である。例としては PluronicTM P123 (u=w=20および v=70)または PluronicTM F127 (u=w=106および v=70)が用いられ、これらの製品はBASF社またはAldrich社から販売されている。
両親媒性界面活性剤が陰イオン性または陽イオン性のようにイオン性の場合、対イオンは界面活性剤が陰イオン性ならNd3+、Pr3+、Co3+、Ce3+ および Ce4+ から、および界面活性剤が陽イオン性ならバナジン酸塩, モリブデン酸塩および過マンガン酸塩の陰イオンから選択することができる。
本発明に使用可能なテキスチャリング剤はさらに両親媒性界面活性剤で次のものを追加的に持つものであってもよい:
o 1つ以上の活性の有機耐蝕官能基、および/または
o 1つ以上の金属イオンの錯化基。
活性有機耐蝕性官能基の例として、とりわけベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾイミダゾール、安息香酸ナトリウム、ニトロクロロベンゼン、クロラニル、8−ヒドロキシキノリン、N−メチルピリジン、ピペリジン、ピペラジン、1,2−アミノエチルピペリジン、N−2−アミノエチルピペラジン、N−メチルフェノチアジン、イミダゾールまたはピリジンが挙げられる。これらの官能基は 2 から 30 の酸化エチレンユニットを持つ基を介して直接的または間接的に、C1−20アルキル基に結合している。イオン性界面活性剤の場合、界面活性剤の対イオンは陰イオン性の界面活性剤に対しては少なくとも1つの陽イオンNd3+、Pr3+、Co3+、 Ce3+、 Ce4+ であるか、または陽イオン性の界面活性剤に対しては少なくともバナジン酸塩、モリブデン酸塩、過酸化マンガン塩の陰イオンの1つであることが好ましい。
「金属イオンの錯化基」は−OH、−COOH、−NH、=NOH、−SH、−PO、−POH、=O、=S、=N−、−NH− から選択された1つ以上の官能基を持つとともに金属イオンの、例えばアルミニウムと半極性または配位結合を形成できるキレートまたは多座の基を意味し、この基は、飽和または不飽和の、Cから Cの直鎖状または枝分かれした、またはCから Cの環状の炭化水素基であり、1つ以上の前述の官能基で置換されていることが好ましい。これらの基は直接的または間接的に、2から 30 の酸化エチレンユニットを介して、C1−20アルキル基に結合されている。イオン性界面活性剤の場合、界面活性剤の対イオンは陰イオン性の界面活性剤に対しては少なくとも1つの陽イオン Nd3+、Pr3+、Co3+、Ce3+、Ce4+ であるか、または陽イオン性の界面活性剤に対しては少なくともバナジン酸塩、モリブデン酸塩、過マンガン酸塩の陰イオンの1つであることが好ましい。
本発明に使用できる界面活性剤の例としては、とりわけベンゾトリアゾール−5−カルボン酸を化学式 CH−(CH15−O(CH−CH−O)20−C(O)−CH に対応するポリオキシエチル化セチルエーテルと共にエステル化したもの、1−ヘキサデシル−3−メチルイミダゾリウムバナジン酸塩または 3−メチル−1−オクチルピリジニウムモリブデン酸塩を挙げることができる。
テキスチャリング剤は分子状金属前駆物質の全モル数に対して0.001 から 2モル%の範囲内の量で用いられることが好ましい。分子状金属前駆物質の全モル数には化学式(1)から(4)の分子状金属前駆物質の全モル数が含まれる。
メソ構造層を調合する間にさらにラテックスのような他の成分を加えることもできる。
メソ構造層は追加的に耐蝕性とは異なる他の機能性、すなわち、ひっかきおよびかじりに対する耐性、希望により変えられる機械的耐久性および疎水性特性、および/または品質管理用のプローブを構成するような、マクロ的性質を素地上に付与する基を少なくとも1つ追加的に保有することができる。
「プローブ」は例えば光学プローブ、pHに敏感なプローブ、特定の陽イオンまたは陰イオンに選択的な染料または蛍光プローブを意味する。
この機能化は、化学式(2)、(3)または(4)の少なくとも1つの出発分子状金属前駆物質に、機能性を付与する基(またはメソ構造層上に機能を付与する基)を表す基R’、L および/または R”が存在すること、またはメソ構造層の調合中に少なくとも1つの機能化剤を加えること、またはその製造後に少なくとも1つの機能化剤でメソ構造層の処理をおこなうこと、またはこれら3つの可能性の組合せ、のいずれかの結果である。
本発明の意味において、機能化物質は、メソ構造層にひっかきおよびかじりに対する耐性または機械的耐久性、またはハロゲン化合物を検出するための蛍光プローブ、pHに敏感なプローブの構築、または彩色の付与、のような機能を与える物質を意味する。
ひっかきおよびかじりに対する耐性を付与する物質として、チタンまたはアルミニウムアルコキシド、もしくはシリカまたはアルミナのナノ粒子を用いることが可能である。
機械的耐久性を付与する物質の例として、とりわけ酸化ジルコニウムを挙げることができる。
ハロゲン化合物を検出するための蛍光プローブを構築する物質はイミダゾリウム基を持つアントラセン分子から作ることができる。
pHに敏感なプローブを構築する物質として、好ましくはメチルオレンジまたはフェノールフタレインを用いることができる。
彩色を付与する物質の例として、とりわけローダミン、フルオレセンイ、キニザリン、メチレンブルーおよびエチルバイオレットを挙げることができる。
本発明の好適な実施態様において、メソ構造層の調合中に原料成分は次の順序で加えられる:
(1)随意的な揮発性溶媒、好ましくはエタノールのようなアルコール、
(2)上で定義したテキスチャリング剤、
(3)水、
(4)分子状金属前駆物質で上に定義した化学式(1)、(2)、(3)および(4)のそれらから選択されたもの、
(5)随意的に機能化剤、および随意的にラテックス、および
(6)酸、これにより電極による媒体のpH想定値が0 および 4 の間になる、
次いで溶液は 2hrおよび15日までの期間、好ましくは 40時間および6日の間かき混ぜられる。
構造体は幾つかのメソ構造層、例えば2 から 10層の、希望するなら異なるメソ構造を含むことができる。例えば、4つの充填または未充填の多孔性のメソ構造層、P1、P2、P3 および P4 のそれぞれを持つ場合、後者は2 および 50nmの間で、P1>P2>P3>P4、多孔質層であるP1は素地に直接接触しているかまたは素地に最も近くにある。
別の実施態様においては、構造体は単一の、同じメソ構造層内で多孔性に勾配を持つ。
本発明に用いることができる金属製素地はチタン、アルミニウムまたはそのそれぞれの合金の1つ、例えばチタンTA6V、2000系のアルミニウムのより具体的にはメッキしたまたはメッキ無しのAl2024、7000系のアルミニウムのより具体的には Al7075または Al7175および 6000または5000系のアルミニウム、またはステンレススチールの例えば 35NCD16または 15−5PH、またはマグネシウム合金である。
メソ構造層は金属製素地上に簡単に塗布できる方法、例えばディップコート、スピンコート、散布、スプレー、層状塗布または刷毛塗りにより堆積されるが、スプレーが好ましい。さらには、これらの方法は環境に優しい製品を使用する。
かくして得られた構造体はとりわけ耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、希望通りに調整できる着色および/または疎水特性を示すと共に、メソ構造層および金属製素地の間に優れた接着が認められる。
本発明によるある実施態様において、構造体はさらにゾル−ゲル処理により調合された、フランス特許出願書第2899906号に記載されたような、少なくとも1つの高密度層を含む。
「高密度層」はミクロ的およびメゾスコピックな尺度の、および電子顕微鏡で見える多孔性がなく、その上さらにはガスの吸脱着による測定で多孔性が1nm未満であることを意味する。
高密度層はとりわけ少なくとも1つの金属アルコキシドまたはハロゲン化物からゾル−ゲル処理により調合され、少なくとも1つの金属アルコキシドが上の化学式(5)から(7)で定義されたものであることが好ましい。
前記の追加的高密度層は上で定義した基本ナノブロック(またはナノビルディングブロック(NBB))、および高分子または有機/無機ハイブリッドマトリックスを含むことが好ましい。
ひとたび基本ナノブロックが合成され随意的に上述したように機能化されてしまうと、これらは高分子または無機/有機ハイブリッドマトリックスに導入されるが、ゾル−ゲルタイプのハイブリッドが好ましく、シリカをベースとしたものがより好ましく、シリカまたはシリカ/ジルコニウム酸化物から構成されることがさらにより好ましい。このマトリックスがリンカーとして作用し、これにより基本ナノブロックは3次元のネットワークを形成する。
無機/有機ハイブリッドマトリックスはとりわけ1つ以上の金属アルコキシドが好ましいが、1つ以上の金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物、溶媒、随意的に触媒の存在の下で重縮合することにより得られる。用いられる金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化合物はとりわけ次の一般化学式を持つものから選択される:
(Zn2 (8)
(L m2x2(Zn2−m2x2 (9)
(Rx2’(Zn2−x2 (10)
(Zn2−1’−R−M’(Zn2−1 (11)
ここに:
は金属原子 M の原子価を表し、3、4 または 5 が好ましい;
は 1 から n−1 の範囲内の整数である;
は Alの様な原子価 III の金属原子;Si、Ce、Zr および Ti の様な原子価 IV の金属原子;または Nb のような原子価 IV の金属原子を表す。Mはシリコン(n=4)、セリウム(n=4)またはジルコニウム(n=4)が好ましく、シリコンがさらにより好ましい;
’ はシリコン原子をあらわす;
はハロゲン原子;アルコキシ基の好ましくは C1−4 の、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、i−プロポキシおよびブトキシのようなもの;アリールオキシ基の特に C6−10 の、フェノキシのようなもの;および C1−10 のアルキルカルボニル基のアセチルのようなもの、から選択された加水分解性基を表す。Zは C1−4 のアルコキシ基を、より具体的には メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、n−ブトキシ、s−ブトキシ、i−ブトキシまたはt−ブトキシを表すことが好ましい;
は非加水分解性の1価の基で、アルキル基、好ましくは C1−4 の例えばメチル、エチル、プロピルおよびブチルのようなもの;アルケニル基、特に C2−4 のビニル,1−プロペニル、2−プロペニルおよびブテニルのようなもの;アルキニル基、特に C2−4 のアセチレニルおよびプロパルギルのようなもの;アリール基、特に C6−10 のフェニルおよびナフチルのようなもの;メタクリルおよびメタクリロキシ(C1−10 アルキル)基のメタクリロキシプロピルのようなもの;およびエポキシアルキルまたはエポキシアルコキシアルキル基でそのアルキル基が直鎖状、枝分かれまたは環状の C1−10 で、さらにアルコキシ基が 1 から 10 の炭素原子を持つグリシジルおよびグリシジルオキシ(C1−10 アルキル)のようなもの、から選択される。
は非加水分解性の2価の基で R” で記載したようなもの;および
は錯体形成配位子で上の L に記載したようなもの、および
は配位子 Lのヒドロキシル化指数を表す。
マトリックスの準備に用いられる溶媒は主に水で構成される。溶媒の全重量に対し80から100wt%の水、および随意的にC1−4 アルコール、好ましくはエタノールまたはイソプロパノールを含むことが好ましい。
触媒は酸が好ましく、酢酸、またはCOがより好ましい。
少なくとも1つの添加物を基本的ナノブロックの準備中に、または機能化した基本的ナノブロックおよびマトリックスの混合中に、またはこれら両方の段階のいずれかで随意的に加えることができる。
基本的ナノブロックの準備中に添加剤が加えられる場合、最終的な材料をコア/シェル型で形成することが可能で、コアが添加剤で構成されシェルが基本的ナノブロックで構成されている。
本発明において使用可能な添加物はとりわけ、既に存在するメソ多孔性の機能性層、または金属製素地の濡れ性を改善する界面活性剤で、3M社から商品名FC4432 および FC4430 として販売されている陰イオン性フッ化高分子;染料の例えばローダミン、フルオレセイン、メチレンブルーおよびエチルバイオレット;架橋剤のジエチレントリアミン(またはDETA)のようなもの;カップリング剤のアミノプロピルトリエトキシシラン(APTS)のようなもの;ナノ顔料、またはこれらの混合物である。
前記の高密度層は、基本的ナノブロックおよび有機/無機ハイブリッドマトリックスを含むことが好ましく、具体的には、一方では:
− 上述したような、とりわけ加水分解性または非加水分解性処理による基本的ナノブロックを準備し、次いで
− 随意的にそれらを機能化する、
ことにより、および他方では
− マトリックスを準備し、次いで
− 随意的に機能化された基本的ナノブロックおよびマトリックスを混合する、
ことにより、入手できる。
さらにこれはメソ構造層の堆積について上述した手法の1つにより堆積することができる。
前記の追加的な高密度層がある場合は、メソ構造層は素地に直接接していることが好ましく、かくして活性化合物のナノ容器の役割を担う。
別の実施態様において、高密度層または本来の層または別の性質のような層は、素地および本発明で定義した第1メソ構造層の間に位置させることができる。
具体的には、構造体は多層塗膜から構成され少なくとも上述した1つのメソ構造層、より具体的には少なくとも1つのメソ構造層および随意的に少なくとも1つの上述した高密度層を含む少なくとも2つの層、好ましくは2 から 10、より好ましくは 2 から 5層を含む。多層塗膜の合計厚みは 1 から 10μmの範囲内であることが好ましい。
本発明のもう一つの目的は上で定義した構造体を製造する方法で、次の工程を含む:
(a)酸の存在下で水溶性媒体または水/揮発性溶媒の、好ましくは水/アルコール、より好ましくは水/エタノールの中で上で定義した化学式(1)、(2)、(3)または(4)の少なくとも1つの分子状金属前駆物質、少なくとも1つの上で定義した機能性テキスチャリング剤、および随意的に少なくとも1つの追加的な機能化剤、および随意的にラテックスの存在の下で、加水分解−縮合によりゾル−ゲル材料を製造する、
(b)工程(a)で得られた材料を塗工済みまたは未塗工の金属製素地に、例えばディップコート、スピンコート、散布、スプレー、層状塗布または刷毛塗りにより堆積する、
(c)随意的に塗工された素地を熱的に、化学的に例えばアンモニア蒸気により、またはUVにより、または3つの処理を組み合わせて処理し、緻密なネットワークに誘導する、および
(d)随意的に(b)および(c)、または(a)から(c)の工程を繰り返す。
揮発性溶媒はエタノールまたはプロパノールの様なアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン、ジオキサン、ジ−エーテル、クロロホルムまたはアセトニトリルであってもよい。
本発明による好適な実施態様において,工程(a)のゾル−ゲル材料の製造は開始成分を次の順序で加えて実施される:
(1)エタノールのようなアルコールが好ましいが、随意的な揮発性溶媒、
(2)上に定義したテキスチャリング剤、
(3)水、
(4)分子状金属前駆物質の上で定義した化学式(1)、(2)、(3)および(4)のそれらから選択したもの、
(5)随意的に機能化剤、および随意的にラテックス、および
(6)電極による媒体のpH測定値が 0 および 4 の間になるための酸、
次いで溶液は 2hおよび 15日の期間、好ましくは 40時間および 6日の間かき混ぜられる。
かくして得られた溶液は涼しい場所で数週間、好ましくは4週間保管される。
テキスチャリング剤は分子状金属前駆物質の全モル数に対して0.001 から 2モル%の範囲内の量で用いられることが好ましい。
本方法はさらに上に定義した随意的に機能化した基本的ナノブロックおよびマトリックスの混合物を含む組成物による高密度層をディップコート、スピンコート、散布、スプレー、層状塗布または刷毛塗りのような周知の手法により堆積する工程を含むことができる。
本発明はさらに本発明により定義されたメソ構造層を航空学または航空宇宙産業分野において金属製素地の耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、機械的耐久性、プローブとして、着色および/または疎水性特性を改善するために用いることに関係する。
本発明およびこれがもたらす利点は下に説明を目的として示された実施例からよりよく理解されるであろう。
<実施例>
<実施例1>
5モルの水、0.15モルのオルトリン酸(HPO)、0.06モルの界面活性剤 CH−(CH15−O(CH−CH−O)20−C(O)−CH および 1モルのテトラエトキシシラン(TEOS)をかき混ぜながら、20モルのエタノールに連続的に加えた。それぞれを加える合間には数分間かき混ぜ均一な溶液を得た。
TEOSを加えた後、溶液を室温で約42時間かき混ぜた。
これに加えて、寸法が80x40x1.6mmのメッキ無しの合金 Al2024T3の素地を、当業者なら周知の、環境規制に適合した調合のアルカリ脱脂とこれに続く化学酸洗いのような手順により製造した。
金属製素地の上にフィルムを管理周囲条件(T=20〜22℃、相対湿度(またはRH)=40〜45%)の下で溶液中に引抜き速度3.4mm.s−1 で前記素地をディップコートして堆積した。堆積の直後、フィルムを周囲条件で放置して乾燥した。
<実施例2>
5モルの水、0.005モルのPluronic F127 の商品名で販売されている界面活性剤、0.1モルのベンゾトリアゾール、0.1モルの硝酸(III)セリウム、0.15モルのオルトリン酸 (HPO) および 1モルのテトラエトキシシラン(TEOS)をかき混ぜながら、20モルのエタノールに連続的に加えた。それぞれを加える合間には数分間かき混ぜ均一な溶液を得た。
TEOSを加えた後、溶液を室温で約42時間かき混ぜた。
さらに、寸法が 80x40x1.6mmのメッキ無し合金 Al2024T3の素地を、当業者なら周知の、環境規制に適合した調合のアルカリ脱脂とこれに続く化学酸洗いのような手順により製造した。
金属製素地の上にフィルムを管理周囲条件(T=20〜22℃、相対湿度(またはRH)=60%)の下で溶液中に引抜き速度 3.4mm.s−1 で前記素地をディップコートして堆積した。堆積の直後、フィルムを周囲条件で放置して乾燥した。

Claims (16)

  1. 次のものを含む構造体:
    金属製素地、および
    次の化学式の、金属アルコキシド型の少なくとも1つの分子状金属前駆物質から、追加的に少なくとも1つの活性有機耐蝕性官能基を持つ両親媒性界面活性剤から選択される少なくとも1つのテキスチャリング剤の存在の下において、ゾル−ゲル処理により調合される少なくとも1つのメソ構造層:
    MZ (1
    こに、化学式(1)において:
    はSi(IV)を表し、括弧内の数値は原子 M の原子価である;
    は原子 Mの 原子価を表す
    は互いに独立して、−OR基を表および
    R は1から4個の炭素原子を持つアルキル基を表す
  2. 前記少なくとも1つの活性有機耐蝕性官能基がベンゾトリアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾイミダゾール、安息香酸ナトリウム、ニトロクロロベンゼン、クロラニル、8−ヒドロキシキノリン、N−メチルピリジン、ピペリジン、ピペラジン、1,2−アミノエチルピペリジン、N−2−アミノエチルピペラジン、N−メチルフェノチアジン、イミダゾールおよびピリジンから選択され、さらにこれらが2から30の酸化エチレンユニットを持つ基を介して直接的または間接的に、C 1−20 アルキル基に結合している、請求項1に記載の構造体。
  3. 前記少なくとも1つのテキスチャリング剤が、さらに、原則的に少なくとも1つの金属酸化物をベースとする、クラスターまたはナノ粒子の形の基本的ナノブロックを含み、前記金属酸化物がアルミニウム、セリウムIII およびIV、シリコン、ジルコニウム、チタンならびにスズの酸化物から選択される、請求項1または2に記載の構造体。
  4. 前記基本的ナノブロックが 2 から 100nmの範囲内の寸法のナノ粒子の形である、請求項に記載の構造体。
  5. 前記基本的ナノブロックが、次の一般化学式を持つ少なくとも 1つの金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物の前駆物質の制御された加水分解により得られる、請求項3または4に記載の構造体:
    (Zn1 (5
    こに、化学式(5)において:
    は Al(III)、Ce(III)、Ce(IV)、Si(IV)、Zr(IV)、Ti(IV)または Sn(IV)を表し、括弧内の数値は金属原子の原子価であり
    は M原子の原子価を表す;
    はハロゲン原子または −ORを表および
    1から4の炭素原子を含むアルキル基を表す。
  6. 前記基本的ナノブロックの表面が基本的ナノブロック(NBB)用機能化剤により機能化されている、請求項から5の何れかに記載の構造体。
  7. 前記NBB用機能化剤が6−アミノカプロン酸、2−アミノエチルホスホン酸および1つ以上の金属の錯化基を含む錯化剤から選択される、請求項に記載の構造体。
  8. 前記錯化剤がカルボン酸、β−ジケトン、β−ケトエステル、β−ケトアミド、α−もしくはβ−ヒドロキシ酸、アミノ酸、ポリアミン、ホスホン酸またはホスホナートを含む、請求項7に記載の構造体。
  9. 前記少なくとも1つのテキスチャリング剤が、さらに、追加的に少なくとも1つの金属イオンの錯化基を持つ少なくとも1つの両親媒性界面活性剤を含み、前記少なくとも1つの錯化基が−OH、−COOH、−NH、=NOH、−SH、−PO、−POH、=O、=S、=N−、−NH− から選択された 1つ以上の官能基で置換された Cから Cの直鎖状または枝分かれした、または Cから Cの環状の飽和または不飽和の炭化水素基から選択され、これらの基は直接的または間接的に、2から30の酸化エチレンユニットを介して C1−20 アルキル基に結合されている、請求項1から8の何れかに記載の構造体。
  10. 前記金属製素地がチタン、アルミニウムまたはこれらの合金、ステンレススチールまたはマグネシウム合金のものである、請求項1から9の何れかに記載の構造体。
  11. 前記構造体がゾル−ゲル処理により製造された少なくとも1つの高密度層を含む、請求項1から10の何れかに記載の構造体。
  12. 前記高密度層が請求項3からの何れかで定義された基本的ナノブロック、および高分子または有機/無機のハイブリッドマトリックスを含む、請求項11に記載の構造体。
  13. 前記マトリックスが、1つ以上の金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物を、溶媒、および随意的に触媒、の存在の下で重縮合して得られる、請求項12に記載の構造体。
  14. 前記金属アルコキシドまたは金属ハロゲン化物が次の一般化学式を持つものから選択される、請求項13に記載の構造体:
    (Zn2 (8
    こに:
    は金属原子 M の原子価を表す;
    は原子価III、IVまたはVの金属原子を表す
    はハロゲン原子、C 1−4 のアルコキシ基、C 6−10 のアリールオキシ基および C1−10 のアルキルカルボニル基から選択され加水分解性基を表す
  15. 請求項1から14の何れかに定義された構造体を製造する方法で、次のものから成る工程を含むもの:
    (a) 酸の存在の下で、水溶性媒体または水/揮発性溶媒の中で、請求項1で定義した化学式(1)の少なくとも 1つの分子状金属前駆物質、請求項19で定義した少なくとも 1つの機能性テキスチャリング剤、および随意的に少なくとも 1つの追加的な機能化剤、ならびに随意的にラテックス、の存在の下で、加水分解−縮合によりゾル−ゲル材料を製造する、
    (b) 工程(a)で得られた材料を金属製素地上に堆積する、
    (c) 随意的に塗工された素地を熱的に、化学的にまたはUVにより、または3つの処理を組み合わせて処理し、緻密なネットワークに誘導する、および
    (d) 随意的に(b)および(c)、または(a)から(c)の工程を繰り返す。
  16. 請求項1から14の何れかに定義されたメソ構造層であって、航空学または航空宇宙産業分野において金属製素地の耐蝕性、ひっかきおよびかじりに対する耐性、機械的耐久性、プローブとしての用途、着色および/または疎水性特性を改善するために用いられるメソ構造層。
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