JP5593970B2 - Reflector for solar power generation - Google Patents

Reflector for solar power generation Download PDF

Info

Publication number
JP5593970B2
JP5593970B2 JP2010191903A JP2010191903A JP5593970B2 JP 5593970 B2 JP5593970 B2 JP 5593970B2 JP 2010191903 A JP2010191903 A JP 2010191903A JP 2010191903 A JP2010191903 A JP 2010191903A JP 5593970 B2 JP5593970 B2 JP 5593970B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
power generation
mirror
resin
solar power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010191903A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012048102A (en
Inventor
英之 石原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP2010191903A priority Critical patent/JP5593970B2/en
Publication of JP2012048102A publication Critical patent/JP2012048102A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5593970B2 publication Critical patent/JP5593970B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40Solar thermal energy, e.g. solar towers

Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

本発明は太陽熱発電用反射装置に関し、詳しくは結露防止機能を有する太陽熱発電用反射装置に関するものである。   The present invention relates to a solar power generation reflection device, and more particularly to a solar power generation reflection device having a dew condensation prevention function.

近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーを利用した際に排出される二酸化炭素による温暖化問題が国際上の共通認識となっており、二酸化炭素削減が急務になっている。二酸化炭素を削減するには、化石燃料から自然エネルギーへのシフトが重要であり、その中でも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、総エネルギー量の多い太陽エネルギーが注目されている。太陽エネルギーの利用技術として、多数の鏡を利用して光を集光し、焦点で得られる高密度の熱エネルギーを用いた発電(太陽熱発電)が、ヨーロッパやアメリカなどの各国で活発化している。   In recent years, global warming due to carbon dioxide emitted when using fossil fuel energy such as oil and natural gas has become a common international recognition, and carbon dioxide reduction has become an urgent task. In order to reduce carbon dioxide, it is important to shift from fossil fuels to natural energy. Among them, solar energy, which is the most stable alternative energy for fossil fuels and has a large total energy, is attracting attention. As a solar energy utilization technology, power generation (solar thermal power generation) using high-density thermal energy obtained by concentrating light using a number of mirrors and being obtained at the focal point has become active in countries such as Europe and the United States. .

しかし、太陽熱発電に用いるミラーに起こる問題点として、汚れによる反射率低下が挙げられる。太陽熱発電に適した地域は、年間太陽エネルギー総量の多い地域であり、これらには砂漠地帯や、乾燥地帯が多い。これらの国では砂埃のミラーへの付着による汚れが起き易い。   However, a problem that occurs in mirrors used in solar thermal power generation is a decrease in reflectance due to dirt. Areas suitable for solar power generation are areas with a large total amount of solar energy per year, and there are many desert areas and dry areas. In these countries, dirt due to adhesion of dust to the mirror is likely to occur.

特にミラーへの汚れ付着を助長するものとして、結露がある。太陽熱発電に適した砂漠地帯、乾燥地帯では、放射冷却が強く、昼夜の構造物の温度差が大きい。したがってしばしば空気の露点温度を下回る。空気の露点温度を下回った構造物によって冷やされた空気は、含有される水蒸気が凝集し構造物に付着する、これが結露である。結露によって生じた水滴は、空気中の塵埃を吸着し、太陽の日射によって水分が蒸発する際に、塵埃が構造物表面に残留する。これが結露による汚れの原因である。この汚れによって鏡の反射率が低下すると発電プラント自体の効率低下につながる。そのためプラントのメンテナンスのためにミラーの清掃が行われているが、プラントが大規模になるほど、ミラー総面積が増大するため、メンテナンスが困難になる。そこで、ミラーへの結露を防止することで、汚れの付着頻度を低減する技術が開発されてきた。   In particular, dew condensation is a factor that promotes adhesion of dirt to the mirror. In desert and dry areas suitable for solar thermal power generation, radiant cooling is strong and the temperature difference between day and night structures is large. Therefore, often below the dew point temperature of air. In the air cooled by the structure that is below the dew point temperature of the air, the water vapor contained in the structure aggregates and adheres to the structure. This is condensation. Water droplets generated by condensation absorb dust in the air, and when moisture evaporates due to solar radiation, the dust remains on the surface of the structure. This is the cause of contamination due to condensation. If the reflectivity of the mirror decreases due to this contamination, the efficiency of the power plant itself decreases. Therefore, although the mirror is cleaned for the maintenance of the plant, the larger the plant is, the larger the total area of the mirror becomes, so that the maintenance becomes difficult. Therefore, a technique has been developed that reduces the frequency of dirt adhesion by preventing condensation on the mirror.

例えば特許文献1には夜間のミラーの温度低下を防ぐために、ヒーターを取り付ける技術が開示されている。電気を流すことにより発熱体を発熱させ、結露を防止する技術は従来から知られているが、結露防止のために電力を消費することは好ましくなく、また太陽熱発電用の反射ミラーが砂漠地帯等に設置されることが多いことを考慮すると、電源の確保が難しく、解決手段としては好ましくない。また、数千から数万にわたるミラーそれぞれに取り付けるのは現実的ではない。   For example, Patent Document 1 discloses a technique for attaching a heater in order to prevent a temperature drop of a mirror at night. Conventionally known technologies to generate heat by flowing electricity to prevent condensation, but it is not preferable to consume power to prevent condensation, and reflective mirrors for solar thermal power generation are used in desert areas, etc. In view of the fact that it is often installed in the network, it is difficult to secure a power source, which is not preferable as a solution. Moreover, it is not realistic to attach to each of thousands to tens of thousands of mirrors.

別の方法として、特許文献2には蓄熱材として水を用いミラー自身の熱容量を増大させて、放射冷却による温度低下を防ぐという方法が開示されている。この先行例では、ステンレス製のカーブミラーの裏面に熱容量の大きい水の入った袋を設置している。この場合、ミラーから放射冷却による冷却が行われるが、ステンレスは熱伝導率が高いため、裏面の水からの熱量の供給を受け易く、急激な温度の低下がない。この公知例は、熱伝導性の良いミラーが必要となる。この例ではカーブミラーに適用されるため、ミラーの位置は固定されているが、太陽熱発電用のミラーは太陽追尾が必要なために、ミラーの方向が変化する。したがって、液体の蓄熱材を用いた場合、ミラーが天頂方向を向くと蓄熱材とミラーが接触しなくなってしまう。また従来の太陽熱発電では、ガラス裏面に銀金属層を裏うちした裏面ミラーが使われているが、ガラスの熱伝導率は低く、水からの熱供給が伝わらずにガラス表面で結露が生じてしまう。金属銀は反射率・熱伝導率共に高い優れた反射材ではあるが、耐候性がなく銀をそのままミラーとしてそのまま適用することはできない。   As another method, Patent Document 2 discloses a method in which water is used as a heat storage material to increase the heat capacity of the mirror itself to prevent a temperature drop due to radiation cooling. In this preceding example, a bag containing water having a large heat capacity is installed on the back surface of a stainless steel curved mirror. In this case, although cooling by radiation cooling is performed from the mirror, since stainless steel has high thermal conductivity, it is easy to receive supply of heat from the water on the back surface, and there is no sudden temperature drop. This known example requires a mirror having good thermal conductivity. Since this example is applied to a curved mirror, the position of the mirror is fixed. However, since a mirror for solar power generation requires solar tracking, the direction of the mirror changes. Therefore, when a liquid heat storage material is used, when the mirror faces the zenith direction, the heat storage material and the mirror are not in contact with each other. In addition, in conventional solar thermal power generation, a back mirror with a silver metal layer on the back side of the glass is used, but the thermal conductivity of the glass is low, and condensation is generated on the glass surface without transferring heat from water. End up. Metallic silver is an excellent reflector with high reflectivity and thermal conductivity, but it has no weather resistance and cannot be used as it is as a mirror.

また特許文献3及び4には、送風装置を道路反射鏡に併設し、センサー感知方式で閾値を検知して送風を送り、外気と鏡表面との温度差を少なくして、結露を防止する方法が開示されている。この場合も電源が必要となり、解決手段としては好ましくない。   In Patent Documents 3 and 4, a method for preventing dew condensation by installing a blower device on a road reflector, detecting a threshold value by a sensor sensing method, sending air, and reducing a temperature difference between the outside air and the mirror surface. Is disclosed. In this case as well, a power source is required, which is not preferable as a solution.

特開平10−5090号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-5090 特許第4157867号公報Japanese Patent No. 4157867 特開2008−88644号公報JP 2008-88644 A 特開2009−167782号公報JP 2009-167782 A

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、昼と夜の寒暖差が大きい過酷な条件下でもミラーへの結露がしにくい太陽熱発電用反射装置を提供することにあり、特に、砂漠のような気温の変化が激しく夜間、冷え込んで湿度が上がっても、ミラーへの結露がしにくい太陽熱発電用反射装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a solar power generation reflection device that hardly causes condensation on a mirror even under severe conditions where the temperature difference between day and night is large. In particular, it is an object to provide a solar power generation reflector that is unlikely to form a dew on a mirror even when the temperature changes drastically in the desert, even if it cools at night and the humidity increases.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.樹脂基材上に銀反射層を有するフィルムミラーと該フィルムミラーを支持する支持体とを有する太陽熱発電用反射装置において、前記支持体が、前記フィルムミラー背面1mあたり90kJ/K以上の熱容量と50W/(m・K)以上の熱伝導率を有することを特徴とする太陽熱発電用反射装置。 1. In a solar power generation reflecting device having a film mirror having a silver reflecting layer on a resin substrate and a support for supporting the film mirror, the support has a heat capacity of 90 kJ / K or more per 1 m 2 of the film mirror back surface. A solar power generation reflector having a thermal conductivity of 50 W / (m · K) or more.

2.前記フィルムミラーの厚さが50μm以上200μm以内であることを特徴とする前記1に記載の太陽熱発電用反射装置。   2. 2. The solar power generation reflecting device according to 1 above, wherein the film mirror has a thickness of 50 μm or more and 200 μm or less.

3.前記支持体は、太陽光入射面以外が0.10W/(m・K)以下の熱伝導率を持つ断熱材で覆われていることを特徴とする前記1または2に記載の太陽熱発電用反射装置。   3. The said support body is covered with the heat insulating material which has a thermal conductivity of 0.10 W / (m * K) or less except a sunlight incident surface, The reflection for solar power generation of said 1 or 2 characterized by the above-mentioned. apparatus.

本発明により、昼と夜の寒暖差が大きい過酷な条件下でもミラーへの結露がしにくい太陽熱発電用反射装置を提供することとができた。   According to the present invention, it has been possible to provide a solar power generation reflecting device in which dew condensation on a mirror is difficult even under severe conditions where the temperature difference between day and night is large.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、樹脂基材上に銀反射層を有するフィルムミラーと該フィルムミラーを支持する支持体とを有する太陽熱発電用反射装置において、前記支持体が、前記フィルムミラー背面1mあたり90kJ/K以上の熱容量と50W/(m・K)以上の熱伝導率を有することを特徴とする太陽熱発電用反射装置により、昼間の高温時、支持体に蓄熱された熱が、夜間低温になってもフィルムミラーを露点以下になることを防ぐため、ミラーへの結露がしにくい太陽熱発電用反射装置を実現することができることを見出し、本発明に至った次第である。 As a result of intensive studies in view of the above problems, the inventor of the present invention has a film mirror having a silver reflection layer on a resin substrate and a support for supporting the film mirror. Has a heat capacity of 90 kJ / K or more per 1 m 2 of the film mirror back surface and a thermal conductivity of 50 W / (m · K) or more. In order to prevent the stored heat from falling below the dew point even when the temperature becomes low at night, it has been found that a reflector for solar power generation that is difficult to condense on the mirror can be realized, leading to the present invention. It depends on you.

(太陽熱発電用反射装置の構成概要)
本発明の太陽熱発電用反射装置は少なくともフィルムミラーと支持体から構成される。前記ミラーは、樹脂基材と銀反射層を有するフィルムミラーであり、支持体は高い蓄熱性と高い熱伝導率を有している。
(Summary of the configuration of the solar power generation reflector)
The reflector for solar power generation according to the present invention includes at least a film mirror and a support. The said mirror is a film mirror which has a resin base material and a silver reflection layer, and a support body has high heat storage property and high heat conductivity.

[フィルムミラー]
前記フィルムミラーは、樹脂基材上に、構成層として、接着層、銀反射層、及び上部隣接層、保護層がこの順に設けられたフィルムミラーであることが好ましい。該構成層として、さらに、ガスバリア層、傷防止層等の特別な機能層を設けることができる。
[Film mirror]
The film mirror is preferably a film mirror in which an adhesive layer, a silver reflective layer, an upper adjacent layer, and a protective layer are provided in this order as constituent layers on a resin substrate. As the constituent layer, special functional layers such as a gas barrier layer and a scratch-preventing layer can be further provided.

上記したフィルムミラーの厚さは50μm以上200μm以内であることが好ましい。   The thickness of the film mirror described above is preferably 50 μm or more and 200 μm or less.

好ましくは80μm以上150μmである。50μmより厚い場合は強度や、後述する支持体に貼り付ける際の操作性に優れ、また200μmより薄い場合は特に樹脂基材が反射層と支持体の間にあるとき、支持体に蓄熱した熱が、フィルム表面に伝わり易くなり、結露防止効果が良好である。   Preferably they are 80 micrometers or more and 150 micrometers. If it is thicker than 50 μm, it is excellent in strength and operability when pasting on a support described later, and if it is thinner than 200 μm, the heat stored in the support is particularly when the resin substrate is between the reflective layer and the support. However, it is easy to be transmitted to the film surface and the effect of preventing condensation is good.

[樹脂基材層]
本発明に係る樹脂基材層としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが挙げられる。
[Resin substrate layer]
As the resin base material layer according to the present invention, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films. Among these, polycarbonate film, polyester film, norbornene resin film, and cellulose ester film are exemplified.

特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。   In particular, it is preferable to use a polyester film or a cellulose ester film, and it may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.

当該樹脂基材の厚さは、10〜300μmの範囲内で好ましく使用できるが、更に好ましくは50〜195μm、特に好ましくは80〜145μmである。   Although the thickness of the said resin base material can be preferably used within the range of 10-300 micrometers, More preferably, it is 50-195 micrometers, Most preferably, it is 80-145 micrometers.

また、樹脂基材層には、その目的に応じて、後述のような腐食防止剤や紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。   Moreover, it is preferable to make the resin base material layer contain a corrosion inhibitor and an ultraviolet absorber as described later according to the purpose.

[反射層]
前記反射層は金属を蒸着またはメッキすることにより設けることが出来る。中でも銀を蒸着またはメッキすることにより作製される銀反射層は、反射率が高く太陽熱発電用反射装置の反射層として特に好ましい。前記銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
[Reflective layer]
The reflective layer can be provided by depositing or plating a metal. Among them, a silver reflective layer produced by vapor deposition or plating of silver has a high reflectance and is particularly preferable as a reflective layer of a solar power generation reflective device. As a method for forming the silver reflective layer, either a wet method or a dry method can be used.

湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。   The wet method is a general term for a plating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction.

一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。   On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film-forming method. Specific examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And sputtering method. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, it is preferable that it is a manufacturing method of the aspect which has the process of forming the said silver reflection layer by silver vapor deposition as a manufacturing method of the film mirror which manufactures the film mirror of this invention.

当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、10〜200nmが好ましく、より好ましくは30〜150nmである。   The thickness of the silver reflective layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.

本発明において、銀反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあっても良いが、支持体が樹脂であることから、光線による樹脂劣化を防止する目的から、光線入射側に位置する方が好ましい。   In the present invention, the silver reflective layer may be on the light incident side with respect to the support or on the opposite side, but since the support is a resin, for the purpose of preventing resin degradation due to light, It is preferable to be positioned on the light incident side.

[上部隣接層]
本発明のフィルムミラーに用いられる上部隣接層は、銀反射層の樹脂基材から遠い側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止及び、上部隣接層の外側に形成されるバリア層や傷防止層との接着力向上に寄与するものである。最上層に用いて、保護層とすることもできる。
[Upper adjacent layer]
The upper adjacent layer used in the film mirror of the present invention is adjacent to the side of the silver reflective layer that is far from the resin base material, and prevents corrosion deterioration of the silver and prevents damage to the silver reflective layer and is formed outside the upper adjacent layer. This contributes to the improvement of the adhesive strength with the barrier layer and the scratch prevention layer. It can also be used as the uppermost layer as a protective layer.

当該上部隣接層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used as the binder for the upper adjacent layer may be a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a mixture of these resins. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin or an acrylic resin may be used. The resin is preferably a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.

イソシアネートは、TDI(トリレンジイソシアネート)系、XDI(キシレンジイソシアネート)系、MDI(メチレンジイソシアネート)系、HMDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、XDI系、MDI系、HMDI系のイソシアネートを使用するのが好ましい。   As the isocyanate, various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.

上部隣接層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。   The thickness of the upper adjacent layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, weather resistance, and the like.

上部隣接層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As a method for forming the upper adjacent layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、上記隣接層には、目的に応じて、後述のような腐食防止剤や紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。   The adjacent layer preferably contains a corrosion inhibitor or an ultraviolet absorber as described later depending on the purpose.

[接着層]
接着層は樹脂基材(樹脂フィルム)上に設けて樹脂基材と反射層との接着性を高める機能を有する。該接着層は樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材(樹脂フィルム)と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
[Adhesive layer]
The adhesive layer has a function of improving the adhesiveness between the resin base material and the reflective layer by being provided on the resin base material (resin film). The adhesive layer is preferably made of a resin. Therefore, the adhesive layer has adhesiveness for closely adhering the resin base material (resin film) and the metal reflective layer, heat resistance that can withstand heat when the metal reflective layer is formed by a vacuum deposition method, and the metal reflective layer. Smoothness is required to bring out the high reflection performance inherent in

該接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。   The resin used as the binder for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness, and polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable. Furthermore, it is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.

該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、0.01〜3μmが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。   The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflecting material, and the like.

該接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。   As the method for forming the adhesive layer, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

また、該接着層には、その目的に応じて、後述のような腐食防止剤や紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。   Further, the adhesive layer preferably contains a corrosion inhibitor and an ultraviolet absorber as described later depending on the purpose.

(腐食防止剤)
本発明のフィルムミラーには反射層の腐食防止剤を用いても良い。該腐食防止剤は大別して、金属反射層に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤を用いることが出来る。
(Corrosion inhibitor)
In the film mirror of the present invention, a corrosion inhibitor for the reflective layer may be used. The corrosion inhibitor can be broadly classified into a corrosion inhibitor and an antioxidant having an adsorptive group for the metal reflection layer.

ここで、「腐食」とは、金属(特に銀)がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう(JIS Z0103−2004参照)。   Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which a metal (particularly silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004). .

本発明のフィルムミラーは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様であってもよい。   The film mirror of the present invention may be an embodiment in which the adhesive layer contains an antioxidant and the upper adjacent layer contains a corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver.

なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、0.1〜1.0/mの範囲内であることが好ましい。 The content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but in general, it is preferably in the range of 0.1 to 1.0 / m 2 .

(銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤)
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
(Corrosion inhibitor having an adsorptive group for silver)
Corrosion inhibitors having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, indazole It is desirable to select from a compound having a ring, a copper chelate compound, a thiourea, a compound having a mercapto group, at least one kind of naphthalene, or a mixture thereof.

アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−n−ブチルアミン、O−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、2N−ジメチルエタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、p−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, O-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2N- Dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolaminebenzoate, dicyclohexylammonium benzoate, diisopropyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium nitrite Cyclohexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexylammonium cyclohexanecarboxylate, cyclohexylamine cyclohexane carboxylate, dicyclohexylammonium acrylate, cyclohexylamine acrylate, or mixtures thereof.

ピロール環を有する物としては、N−ブチル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−3−ホルミル−2,5−ジメチルピロール、N−フェニル−3,4−ジホルミル−2,5−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, and N-phenyl-3. , 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, or a mixture thereof.

トリアゾール環を有する化合物としては、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−ヒドロキシ−1,2,4−トリアゾール、3−メチル−1,2,4−トリアゾール、1−メチル−1,2,4−トリアゾール、1−メチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、4−メチル−1,2,3−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、4,5,6,7−テトラハイドロトリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy 5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4-octoxyphenyl) benzo A triazole etc. or these mixtures are mentioned.

ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、3,5−ジメチルピラゾール、3−メチル−5−ヒドロキシピラゾール、4−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.

チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、2−N,N−ジエチルチオベンゾチアゾール、P−ジメチルアミノベンザルロダニン、2−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole and the like. Or a mixture thereof.

イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、4−フォルミルイミダゾール、2−メチル−4−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−フォルミルイミダゾール、4−メチル−5−フォルミルイミダゾール、2−エチル−4−メチル−5−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−4−フォルミルイミダゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl. Imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4- Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc., or These mixtures are mentioned.

インダゾール環を有する化合物としては、4−クロロインダゾール、4−ニトロインダゾール、5−ニトロインダゾール、4−クロロ−5−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.

銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and a mixture thereof.

チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   Examples of thioureas include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.

メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、1,2−エタンジオール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、1−メチル−3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。   As the compound having a mercapto group, mercaptoacetic acid, thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto can be used by adding the above-described materials. -1,2,4-triazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, glycol dimercaptoacetate, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like, or a mixture thereof.

ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。   Examples of the naphthalene type include thionalide.

(酸化防止剤)
本発明のフィルムミラーに用いられる銀反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
(Antioxidant)
An antioxidant can also be used as a corrosion inhibitor for the silver reflective layer used in the film mirror of the present invention.

酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。   As the antioxidant, it is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a phosphite-based antioxidant.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、テトラキス−〔メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕メタン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、3,9−ビス[1,1−ジ−メチル−2−〔β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−2,4,8,10−テトラオキオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が550以上のものが好ましい。   Examples of the phenolic antioxidant include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane and 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t-). Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propio Triethyl glycol bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [1,1-di-methyl-2- [β- (3 -T-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4 , 6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like. In particular, the phenolic antioxidant preferably has a molecular weight of 550 or more.

チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−3,3′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)等を挙げられる。   Examples of the thiol antioxidant include distearyl-3,3′-thiodipropionate and pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate).

ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(2,6−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)4,4′−ビフェニレン−ジホスホナイト、2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト等が挙げられる。   Examples of the phosphite antioxidant include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol. Diphosphite, bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4'-biphenylene-diphosphonite 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite.

なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。   In the present invention, the above antioxidant and the following light stabilizer can be used in combination.

ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、1−メチル−8−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、1−[2−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]−4−〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2、6,6−テトラメチルピペリジン、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン等が挙げられる。   Examples of hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-tetramethyl Piperidine, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, triethylenediamine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9 , 9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane-2,4-dione.

その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔2,2′−チオビス(4−t−オクチルフェノレート)〕−2−エチルヘキシルアミンニッケル(II)、ニッケルコンプレックス−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。   Other nickel-based UV stabilizers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl-dithiocarbamate and the like can also be used.

特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、3級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、または1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノール/トリデシルアルコールと1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。   In particular, the hindered amine light stabilizer is preferably a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine, specifically, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl). -Sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, or A condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.

(紫外線吸収剤)
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。前記樹脂基材上に設けられた構成層のうちいずれか一層に、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
(UV absorber)
In the present invention, it is preferable to add an ultraviolet absorber for the purpose of preventing deterioration due to sunlight or ultraviolet rays. It is preferable that any one of the constituent layers provided on the resin substrate contains an ultraviolet absorber.

紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, and triazine.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2- Hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetra And hydroxy-benzophenone.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−(2′−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等が挙げられる。   Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole and the like.

サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、2−4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート等が挙げられる。   Examples of the phenyl salicylate ultraviolet absorber include phenylsulcylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like. Examples of hindered amine ultraviolet absorbers include bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。   Examples of triazine ultraviolet absorbers include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-triazi 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-benzyloxyphenyl) -1 , 3,5-triazine and the like.

紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。   In addition to the above, the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy or the like. Furthermore, those that exhibit an effect when used in combination with an antioxidant, a colorant, or the like, or a light stabilizer that acts as a light energy conversion agent, called a quencher, can be used in combination. However, when using the above-mentioned ultraviolet absorber, it is necessary to select one in which the light absorption wavelength of the ultraviolet absorber does not overlap with the effective wavelength of the photopolymerization initiator.

通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。   In the case of using a normal ultraviolet ray inhibitor, it is effective to use a photopolymerization initiator that generates radicals with visible light.

紫外線吸収剤の使用量は、0.1〜20質量%、好ましくは1〜15質量%、さらに好ましくは3〜10質量%である。20質量%よりも多いと密着性が悪くなり、0.1質量%より少ないと耐候性改良効果が小さい。   The usage-amount of a ultraviolet absorber is 0.1-20 mass%, Preferably it is 1-15 mass%, More preferably, it is 3-10 mass%. When it is more than 20% by mass, the adhesion is deteriorated, and when it is less than 0.1% by mass, the effect of improving weather resistance is small.

[粘着層]
太陽熱発電用反射装置の支持体とフィルムミラーを接着するための粘着層を設けることが好ましい。粘着剤としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、などのいずれもが用いられる。
[Adhesive layer]
It is preferable to provide an adhesive layer for bonding the support of the solar power generation reflecting device and the film mirror. The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and for example, any of a dry laminating agent, a wet laminating agent, a pressure-sensitive adhesive, a heat sealant, and the like is used.

例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどが用いられる。   For example, polyester resin, urethane resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, nitrile rubber, etc. are used.

ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。   The laminating method is not particularly limited, and for example, it is preferable to carry out continuously by a roll method from the viewpoint of economy and productivity.

粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常5〜50μm程度の範囲であることが好ましい。この厚みでは全体の熱伝導については問題はないが、粘着剤自身に熱伝導性(1W/(m・K)以上)があるとより好ましい。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually preferably in the range of about 5 to 50 μm from the viewpoint of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like. With this thickness, there is no problem with the overall thermal conductivity, but it is more preferable that the adhesive itself has thermal conductivity (1 W / (m · K) or more).

具体的な粘着層としては、ADY社のHS80−S、綜研化学社製「SKダインシリーズ」、東洋インキ社製Oribain BPWシリーズ、BPSシリーズ」、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」、スリーボンド社製1225B等の粘着剤が好適に用いられる。熱伝導性のあるものとしては、これらの中でもADY社のHS80−Sが好ましい。   Specific adhesive layers include ADY's HS80-S, Soken Chemical's "SK Dyne Series", Toyo Ink's Oribain BPW Series, BPS Series, Arakawa Chemical's "Arcon" "Superester" "High Pale" ”, A pressure sensitive adhesive such as 1225B manufactured by Three Bond Co., Ltd. is preferably used. Among these, HS80-S manufactured by ADY is preferable among these.

また熱伝達の観点から、できるだけ支持体とフィルムミラーを密着させることが重要である。本発明ではフィルムミラー背面の95%以上が密着していることが好ましい。好ましくは98%〜100%密着していることである。   From the viewpoint of heat transfer, it is important that the support and the film mirror are as close as possible. In the present invention, it is preferable that 95% or more of the back surface of the film mirror is in close contact. It is preferably 98% to 100% in close contact.

[支持体]
本発明の支持体は、フィルムミラーの温度低下を低減させるための高い熱容量と熱伝導性を持つ蓄熱体であることが必要とされる。フィルムミラー背面に位置する支持体に、昼間の高温時はフィルムミラーを介して外部の大気からの熱量が流入する。このとき、外部の熱量は支持体に蓄えられる。夜間、熱輻射が減少し、フィルムミラー自身から熱放射のみになったとき、フィルムミラーには支持体から熱量が供給され、急激な温度低下が起きず、露点温度以下になることを防ぐことが可能になる。
[Support]
The support of the present invention is required to be a heat storage body having a high heat capacity and thermal conductivity for reducing the temperature drop of the film mirror. The amount of heat from the outside air flows into the support located on the back of the film mirror through the film mirror at high temperatures during the daytime. At this time, the external heat quantity is stored in the support. At night, when heat radiation decreases and only the film mirror itself emits heat, the film mirror is supplied with heat from the support, preventing a sudden drop in temperature and preventing the temperature from dropping below the dew point temperature. It becomes possible.

本発明では支持体は蓄熱性を有し、本発明の効果を奏すにはフィルムミラー背面1mあたり90kJ/K以上の熱容量が必要であることがわかった。120kJ/K以上材料の熱容量があることが好ましい。熱容量は支持体の材料の比熱容量にその質量を乗じた値である。比熱容量が高い場合は、支持体の質量は少なくて良く、且つ体積も大きくならないため好ましい。支持体の比熱容量は材料で決まるが、100J/(kg・K)以上であることが好ましい。上限に特に制限はないが、材料の性質上から1000J/(kg・K)程度が限度である。 In this invention, it turned out that a support body has heat storage property and in order to show the effect of this invention, the heat capacity of 90 kJ / K or more per 1 m < 2 > of film mirror back surfaces is required. It is preferable that the material has a heat capacity of 120 kJ / K or more. The heat capacity is a value obtained by multiplying the specific heat capacity of the support material by its mass. A high specific heat capacity is preferable because the mass of the support may be small and the volume does not increase. The specific heat capacity of the support is determined by the material, but is preferably 100 J / (kg · K) or more. The upper limit is not particularly limited, but the upper limit is about 1000 J / (kg · K) due to the properties of the material.

支持体の熱伝導率は50W/(m・K)以上であることが必要である。この値が低い場合は、熱が効率的に移動しない。好ましくは100W/(m・K)以上であることである。この値も材料の性質できまり、400W/(m・K)程度が上限である。   The thermal conductivity of the support needs to be 50 W / (m · K) or more. When this value is low, heat does not move efficiently. Preferably, it is 100 W / (m · K) or more. This value is also determined by the properties of the material, and the upper limit is about 400 W / (m · K).

このような比熱容量と熱伝導率をみたす支持体の材料としては、純アルミニウム、アルミニウム合金、純銅、黄銅、純鉄、タングステン鋼(W含有率5%以下)、クロム鋼(Cr含有率2%以下)、炭素鋼(C含有率0.5%以下)マンガン鋼(Mn含有率1%以下)を挙げることができる。比重が2.7g/cmであり、耐食性に優れるアルミニウム合金5000系、6000系、7000系が、質量の点からより好ましい。 Examples of the support material that satisfies such specific heat capacity and thermal conductivity include pure aluminum, aluminum alloy, pure copper, brass, pure iron, tungsten steel (W content 5% or less), and chromium steel (Cr content 2%). And carbon steel (C content 0.5% or less) and manganese steel (Mn content 1% or less). Aluminum alloys 5000 series, 6000 series, and 7000 series having a specific gravity of 2.7 g / cm 3 and excellent corrosion resistance are more preferable in terms of mass.

また、支持体はフィルムミラーの面精度を保つための剛体でもあり、支持体のフィルムミラー側の表面の表面粗さは15〜100nmの範囲であることが好ましい。この範囲にあると、支持体の表面の僅かな凹凸は粘着層で吸収され、フィルムミラーの平面性や、フィルムミラーと支持体の密着性が影響されることが少なくなる。   The support is also a rigid body for maintaining the surface accuracy of the film mirror, and the surface roughness of the support on the film mirror side is preferably in the range of 15 to 100 nm. Within this range, slight irregularities on the surface of the support are absorbed by the adhesive layer, and the flatness of the film mirror and the adhesion between the film mirror and the support are less affected.

上記の特性値は一般的な方法で測定することができる。   The above characteristic values can be measured by a general method.

表面粗さは一般的な方法で測定することができる。例えば、Veeco社製 Wyko NT9300 オプティカル プロファイラや、パナソニック社製超高精度三次元測定機(UA3P)などで行うことができる。   The surface roughness can be measured by a general method. For example, it can be carried out using a Wyko NT9300 optical profiler manufactured by Veeco or an ultra-high precision three-dimensional measuring machine (UA3P) manufactured by Panasonic.

金属の熱容量の値は周知であり、また例えばBrukerAXS社製 示差走査熱量計(DSC3000SA シリーズ)などで測定できる。   The value of the heat capacity of the metal is well known and can be measured, for example, by a differential scanning calorimeter (DSC3000SA series) manufactured by Bruker AXS.

金属の熱伝導率も周知であり、またJISR1650−3等などに準じて測定できる。   The thermal conductivity of metals is also well known and can be measured according to JIS R1650-3 or the like.

[断熱材]
支持体は断熱材により、太陽光入射面以外の部分を覆われていることが好ましい。断熱材層の厚みは特に限定されず、所望の断熱性に応じて適宜設定できるが、好ましくは10〜50mm、更に好ましくは20〜40mm程度である。
[Insulation]
The support is preferably covered with a heat insulating material other than the sunlight incident surface. Although the thickness of a heat insulating material layer is not specifically limited, Although it can set suitably according to desired heat insulation, Preferably it is 10-50 mm, More preferably, it is about 20-40 mm.

断熱材層の熱伝導率としては0.10W/(m・K)以下が好ましく、より好ましくは0.06W/(m・K)以下である。熱伝導率の下限については、熱伝導率は低いほど好ましいが、そのためにはコストや厚みの増大を伴うことなどから、0.02W/(m・K)以上が好ましい。   The thermal conductivity of the heat insulating material layer is preferably 0.10 W / (m · K) or less, more preferably 0.06 W / (m · K) or less. As for the lower limit of the thermal conductivity, the lower the thermal conductivity, the better. However, 0.02 W / (m · K) or more is preferable because it involves an increase in cost and thickness.

用いることができる断熱材は、公知の断熱材から選択すればよい。例えば、ポリスチレン系、ポリウレタン系、ポリエチレン系などのプラスチック製発泡体を用いることができる。これらは、形状に対する加工性がよく、取り扱いやすく、また、周辺環境中の水分が、比較的に断熱材中に浸透しにくいためである。特に好ましいのはポリスチレン系の発泡体である。   What is necessary is just to select the heat insulating material which can be used from a well-known heat insulating material. For example, plastic foams such as polystyrene, polyurethane, and polyethylene can be used. These are because the workability with respect to the shape is good and easy to handle, and moisture in the surrounding environment is relatively difficult to penetrate into the heat insulating material. Particularly preferred are polystyrene foams.

また周辺環境の空気中の水分が断熱材を浸透して結露するのを極力防止するため、水分の透過性が低いポリ塩化ビニリデン製のラテックスをコーティングしたり、同様のフィルムやアルミニウム箔などを断熱材の外側に接着剤などで貼り付けたりしてもよい。   In addition, in order to prevent the moisture in the air in the surrounding environment from permeating the heat insulating material and condensing as much as possible, it is possible to coat a latex made of polyvinylidene chloride with low moisture permeability, or to insulate similar films and aluminum foil, etc. It may be attached to the outside of the material with an adhesive or the like.

また、断熱材は、支持体できるだけ密着するように型決めされている。これは、周辺に空間があると、その空間に含まれる水分が冷却に伴い結露するためである。従って、断熱材の加工が複雑になりすぎない範囲で、周辺空間はできるだけ小さくし、断熱材が支持体に密着するようにするのがよい。   Further, the heat insulating material is typed so as to be as close as possible to the support. This is because if there is a space in the periphery, moisture contained in the space is condensed with cooling. Therefore, it is preferable to make the surrounding space as small as possible so that the processing of the heat insulating material is not too complicated, and to make the heat insulating material adhere to the support.

断熱材の配置は、フィルムミラー支持体から空気への放熱を防ぐために裏面に固定するのが良いが、さらには側面も覆っているとなお望ましい。また突然の降雨を想定して、内部に水が浸透しないような構造、例えば表面を樹脂などで防水保護するとより好ましい。   The heat insulating material is preferably fixed to the back surface in order to prevent heat radiation from the film mirror support to the air, but it is more desirable that the side surface is also covered. In addition, it is more preferable that the structure prevents water from penetrating into the inside, for example, the surface is waterproofed with a resin or the like, assuming sudden rain.

断熱材の固定法は、断熱材の吹き付け、あるいはシート状断熱材の接着剤による貼り付け、ビス止めなどでも良い。   The fixing method of the heat insulating material may be spraying of the heat insulating material, attaching the sheet-like heat insulating material with an adhesive, screwing, or the like.

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples.

(フィルムミラーの作製)
樹脂基材として、2軸延伸ポリエステルフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ100μm)を用いた。
(Production of film mirror)
A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 μm) was used as the resin substrate.

該ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)、メラミン樹脂(スーパーベッカミンJ−820 DIC製)、TDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)、HDMI系イソシアネート(1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で20:1:1:2に、固形分濃度10%となるようにトルエン中に混合した溶液中に、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に0.2μmの膜厚となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして接着層を形成した。   On one side of the polyethylene terephthalate film, a polyester resin (Polyester SP-181 manufactured by Nippon Synthetic Chemical), a melamine resin (manufactured by Super Becamine J-820 DIC), TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate), HDMI In a solution in which isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) is mixed in toluene at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 and a solid content concentration of 10%, glycol diisocyanate is further added as a corrosion inhibitor. An amount adjusted to a film thickness of 0.2 μm after application of mercaptoacetate was added, and coating was performed by a gravure coating method to form an adhesive layer.

更に接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ80nmの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂(ポリエスター SP−181 日本合成化学製)とTDI系イソシアネート(2,4−トリレンジイソシアネート)を樹脂固形分比率で10:2に混合した樹脂中に、更にベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、Tinuvin 928(BASFジャパン社)を塗布後に0.3μmの膜厚となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして保護層を形成し、これを縦横45cm×45cmの大きさに断裁しフィルムミラー1を得た。   Further, a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed on the adhesive layer as a silver reflective layer by vacuum deposition, and a polyester resin (Polyester SP-181, Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and TDI isocyanate are formed on the silver reflective layer. In a resin in which (2,4-tolylene diisocyanate) is mixed at a resin solid content ratio of 10: 2, Tinuvin 928 (BASF Japan) is further applied as a benzotriazole-based ultraviolet absorber, and the film thickness is 0.3 μm. An amount adjusted so as to be added was added, and a protective layer was formed by coating by a gravure coating method, and this was cut into a size of 45 cm × 45 cm in length and width to obtain a film mirror 1.

実施例1:(太陽熱発電用反射装置1の作製)
上記フィルムミラー1を、縦横45cm×45cm、厚さ45mmのアルミニウム合金5056番(住友軽金属工業株式会社製)支持体の片面に、粘着剤として綜研化学株式会社製SKダイン1717を用いて貼り付けた。
Example 1: (Preparation of solar power generation reflector 1)
The film mirror 1 was attached to one side of an aluminum alloy No. 5056 (manufactured by Sumitomo Light Metal Industry Co., Ltd.) having a length of 45 cm × 45 cm and a thickness of 45 mm using an SK dyne 1717 manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. as an adhesive. .

(断熱材の作成)
ビーズ発泡用ポリスチレン(ハイビーズ、日立化成社製)を使用し、型内成形法により45cm×45cmのサイズに収まるよう加熱成形して、肉厚20mm、成形品密度35kg/mの断熱箱1を作製した。作製した断熱箱1の熱伝導率は0.0082W/(m・K)(0℃の値)であった。
(Creation of insulation)
Using polystyrene for bead foaming (High Beads, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), heat-molded to fit into a size of 45 cm × 45 cm by an in-mold molding method, and a heat insulation box 1 having a wall thickness of 20 mm and a molded product density of 35 kg / m 3 is obtained. Produced. The heat conductivity of the manufactured heat insulation box 1 was 0.0082 W / (m · K) (value at 0 ° C.).

これを、フィルムミラー1を貼り合わせたアルミニウム合金5056番支持体に、側面と背面(フィルムミラーが貼り付けられていない側)が密着するように、及び高さはフィルム面と断熱材面が同一になるように取り付けて太陽熱発電用反射装置1を作成した。   This is so that the side and the back (the side where the film mirror is not attached) are in close contact with the aluminum alloy 5056 support to which the film mirror 1 is attached, and the height is the same on the film surface and the insulation surface. It attached so that it might become, and the solar power generation reflective apparatus 1 was created.

実施例2:(太陽熱発電用反射装置2の作製)
実施例1と同様にして、但し支持体の材料のみを表1のように銅に代えて、太陽熱発電用反射装置2を作成した。
Example 2: (Preparation of solar power generation reflector 2)
In the same manner as in Example 1, except that the support material alone was replaced with copper as shown in Table 1, a solar power generation reflecting device 2 was produced.

比較例1〜4:(太陽熱発電用反射装置3〜6の作製)
実施例1と同様にして、但し支持体の材料とその厚みを表1のように代えて、及びフィルム面と断熱材面の高さが同一になるように断熱材の高さを調節して太陽熱発電用反射装置3〜6を作成した。
Comparative Examples 1-4: (Preparation of solar power generation reflectors 3-6)
As in Example 1, except that the material of the support and its thickness are changed as shown in Table 1, and the height of the heat insulating material is adjusted so that the film surface and the heat insulating material surface have the same height. Reflectors 3 to 6 for solar thermal power generation were created.

(結露試験)
太陽熱発電装置設置場所のモデルとして日射量の多いアブダビを選択した。
(Dew condensation test)
Abu Dhabi with a large amount of solar radiation was selected as a model for the location of the solar power generation equipment.

実験を簡略化するために、湿度が高い日を選択し、現地での結露試験を行った。   In order to simplify the experiment, a day with high humidity was selected and a dew condensation test was conducted in the field.

日中、平均気温40℃露点温度20℃、夜間:平均気温15℃、露点温度10℃となる砂漠地帯において、地表から1mの位置にフィルムミラー構造体太陽熱発電用反射装置1〜6を設置し、晴天時の夜18時から朝4時まで水平状態で設置し、朝4時における表面の結露を観察した。このときの気温は10℃であった。   Daytime, average temperature 40 ° C dew point temperature 20 ° C, nighttime: in a desert area where average temperature 15 ° C, dew point temperature 10 ° C, film mirror structure solar power generation reflectors 1-6 are installed 1m from the ground surface It was installed in a horizontal state from 18:00 on a clear day to 4 o'clock in the morning, and dew condensation on the surface at 4 o'clock in the morning was observed. The temperature at this time was 10 ° C.

以下の様にランク分けをして評価した。   Evaluation was performed by ranking as follows.

○ :結露が生じなかった
△ :微細な結露の水滴がフィルムミラーの縁部に生じた
× :結露に覆われ、水滴同士が成長して結合し、大きな水滴となっていた
各反射装置の構成と結露試験結果を表1にまとめた。
○: Condensation did not occur △: Fine water droplets of condensation formed on the edge of the film mirror ×: Covered by condensation, the water droplets grew and joined to form large water droplets The results of the condensation test are summarized in Table 1.

なお表中熱容量は、支持体の材料の熱容量に質量を乗じた値(kJ/K)であり、フィルムミラー背面1mあたりの熱容量を表す。 The heat capacity in the table is a value (kJ / K) obtained by multiplying the heat capacity of the material of the support by the mass, and represents the heat capacity per 1 m 2 of the film mirror back surface.

Figure 0005593970
Figure 0005593970

表1より、熱容量と熱伝導率が共に本発明の範囲にある実施例1、2の試料の太陽熱発電用反射装置については、熱容量のみ本発明の範囲内であると比較例3や、熱伝導率のみ本発明の範囲内であると比較例1,2の試料に比べ、フィルムミラー上に結露が生じにくいことがわかる。   As shown in Table 1, regarding the solar power generation reflectors of the samples of Examples 1 and 2 in which both the heat capacity and the heat conductivity are within the scope of the present invention, only the heat capacity is within the scope of the present invention. It can be seen that condensation is less likely to occur on the film mirror than the samples of Comparative Examples 1 and 2 when only the rate is within the scope of the present invention.

Claims (3)

樹脂基材上に銀反射層を有するフィルムミラーと該フィルムミラーを支持する支持体とを有する太陽熱発電用反射装置において、前記支持体が、前記フィルムミラー背面1mあたり90kJ/K以上の熱容量と50W/(m・K)以上の熱伝導率を有することを特徴とする太陽熱発電用反射装置。 In a solar power generation reflecting device having a film mirror having a silver reflecting layer on a resin substrate and a support for supporting the film mirror, the support has a heat capacity of 90 kJ / K or more per 1 m 2 of the film mirror back surface. A solar power generation reflector having a thermal conductivity of 50 W / (m · K) or more. 前記フィルムミラーの厚さが50μm以上200μm以内であることを特徴とする請求項1に記載の太陽熱発電用反射装置。   The thickness of the said film mirror is 50 micrometers or more and 200 micrometers or less, The solar power generation reflective apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記支持体は、太陽光入射面以外が0.10W/(m・K)以下の熱伝導率を持つ断熱材で覆われていることを特徴とする請求項1または2に記載の太陽熱発電用反射装置。   3. The solar power generation according to claim 1, wherein the support is covered with a heat insulating material having a thermal conductivity of 0.10 W / (m · K) or less except for a sunlight incident surface. Reflector.
JP2010191903A 2010-08-30 2010-08-30 Reflector for solar power generation Active JP5593970B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010191903A JP5593970B2 (en) 2010-08-30 2010-08-30 Reflector for solar power generation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010191903A JP5593970B2 (en) 2010-08-30 2010-08-30 Reflector for solar power generation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012048102A JP2012048102A (en) 2012-03-08
JP5593970B2 true JP5593970B2 (en) 2014-09-24

Family

ID=45903015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010191903A Active JP5593970B2 (en) 2010-08-30 2010-08-30 Reflector for solar power generation

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5593970B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7118016B2 (en) * 2018-03-02 2022-08-15 大阪瓦斯株式会社 radiative cooling device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09277422A (en) * 1996-04-16 1997-10-28 Mitsui Toatsu Chem Inc Reflector and reflecting member using the same
JP2002286916A (en) * 2001-03-28 2002-10-03 Sekisui Jushi Co Ltd Self-cleanable beam-condensing reflector and solar light collecting power generator
JP2003069070A (en) * 2001-08-29 2003-03-07 Canon Inc Solar cell module
JP2006162746A (en) * 2004-12-03 2006-06-22 Sanesu:Kk Reflecting mirror and method for manufacturing reflecting mirror

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012048102A (en) 2012-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012176650A1 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system having solar light collecting mirror
WO2011158677A1 (en) Film mirror for reflecting sunlight and reflective device for solar thermal power generation
JPWO2011162154A1 (en) Reflector for solar power generation and reflector for solar power generation
JP2011158751A (en) Film mirror, method of manufacturing the same, and reflecting device for solar power generation using the same
US20130283793A1 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system comprising the solar light collecting mirror
WO2011096151A1 (en) Film mirror and process for production thereof, and sunlight collection mirror
JP2011128501A (en) Film mirror, method of manufacturing film mirror and mirror for condensing sunlight
JP5962014B2 (en) Film mirror and manufacturing method thereof
JP2015121806A (en) Film mirror, film mirror manufacturing method, and film mirror for sunlight collection
JP5660051B2 (en) FILM MIRROR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SOLAR POWER GENERATOR REFLECTOR USING THE SAME
JP2012047861A (en) Film mirror, manufacturing method thereof, and film mirror for condensing solar light
US20120257273A1 (en) Film mirror, and method of manufacturing the same and reflection device for solar heat power generation
JPWO2011078156A1 (en) FILM MIRROR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SOLAR POWER GENERATOR REFLECTOR USING THE SAME
JP5593970B2 (en) Reflector for solar power generation
JP2015087625A (en) Reflector and manufacturing method therefor
JP2011158752A (en) Film mirror, method of manufacturing the same, and reflecting apparatus for solar thermal power generation
WO2011114861A1 (en) Solar concentrating mirror, and trough solar thermal power generation device and trough solar power generation device using same
JP2011203553A (en) Film mirror, method of producing the same and solar light reflecting mirror
JPWO2012026311A1 (en) Film mirror, film mirror manufacturing method, and solar power generation reflector
WO2013015190A1 (en) Solar light collecting mirror and solar thermal power generation system using said solar light collecting mirror
JPWO2011096248A1 (en) Light reflecting film for solar power generation, method for producing the same, and reflector for solar power generation using the same
WO2014199906A1 (en) Solar reflection panel
JP2012053382A (en) Light-reflecting film for solar power generation and reflecting device for solar power generation
JP2012251695A (en) Solar light collection system and mirror
JP2011215445A (en) Reflection device for solar power generation

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121221

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130207

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20130415

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130911

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131029

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140708

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140721

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5593970

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150