JP5587628B2 - 薄膜の傾き測定装置及び傾き測定方法 - Google Patents
薄膜の傾き測定装置及び傾き測定方法 Download PDFInfo
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Description
0°の差厚=厚さA−厚さB=Tab
90°の差厚=厚さC−厚さD=Tcd
2 基準円形基材
10 位置決め部
11 挟持部
12 スライダ
13 スライダ
14 エアシリンダ
14a 出力軸
15 第1カム機構
16 カムブロック
17 側面用爪
18 基準面用爪
19(19A、19B) スライドプレート
20 コイルばね
21 カムフォロワ
22 ストッパ
23 フレーム
23a 下端部
24 第2カム機構
25 凹部
26(26A、26B) カムブラケット
27 円形基材受け
28 スライドプレート
29 コイルばね
30 カムフォロワ
31 側面用基準突起
32 ベースプレート
40 傾き測定部
41 ブラケット
42 変位計
43 スライダ
44 スライダ
50 変位計
C 円形基材
C’ 上面
F 薄膜
F’ 上面
Claims (6)
- 円形平面を有する円形基材の該円形平面上に位置する薄膜の該円形平面に対する傾きを測定する装置であって、
前記円形平面が所定の面に倣うように該円形基材を挟持する挟持手段と、
該挟持手段によって挟持された円形基材を、前記所定の面に対して平行な一方向に予め定められている所定の位置から所定の距離移動させて予め定められた基準位置からの変位を測定する変位測定手段と、
該変位測定手段によって測定された変位に基づいて、前記円形基材を位置決めする位置決め手段と、
該位置決め手段によって位置決めされた前記円形基材の前記円形平面上に位置する前記薄膜表面上の複数の点の、前記円形平面からの高さを測定する高さ測定手段と、
該高さ測定手段による測定値に基づいて、前記薄膜の前記円形平面に対する傾きを算出する傾き算出手段とを備えることを特徴とする薄膜の傾き測定装置。 - 前記挟持手段は、
前記所定の面を形成する面部材と、
カムの移動に伴い前記円形基材を挟持する方向及び挟持を開放する方向に移動する基準突起及び一対の爪部材と、
該カムの移動に伴い、載置した前記円形基材を昇降させ、該円形基材を前記面部材によって形成された所定の面に当接可能とする昇降機構とを備え、
該カムが所定の位置に移動したときに、前記円形基材が前記面部材によって形成された所定の面に当接した状態で前記基準突起及び一対の爪部材によって挟持されることを特徴とする請求項1に記載の薄膜の傾き測定装置。 - 前記変位測定手段は、前記挟持手段によって挟持した円形基材を、前記所定の面に対して平行な一方向に前記予め定められている所定の位置から前記所定の距離移動させるスライダと、
該スライダによって移動した前記円形基材に当接し、該円形基材の前記基準位置からの変位を測定するリニアセンサとを備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜の傾き測定装置。 - 前記位置決め手段は、前記変位測定手段によって測定された前記基準位置からの変位の半分の距離を、前記予め定められた所定の位置から変位させるスライダを備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜の傾き測定装置。
- 前記高さ測定手段は、前記薄膜の縁部近傍の点と、該縁部近傍の点に近接する前記円形平面上の点との差を計測する一対のリニアセンサと、
該円形基材を、該円形基材の前記円形平面の中心を通り該円形平面に対して垂直な軸線回りに回動させる回動手段とを備えることを特徴とする請求項1に記載の薄膜の傾き測定装置。 - 円形平面を有する円形基材の該円形平面上に位置する薄膜の該円形平面に対する傾きを測定する方法であって、
前記円形平面が所定の面に倣うように該円形基材を挟持した状態で、該円形基材を該所定の面に対して平行な一方向に予め定められている所定の位置から所定の距離移動させて予め定められた基準位置からの変位を測定し、
該測定された変位に基づいて、前記円形基材を位置決めし、
該位置決めした円形基材の前記円形平面上の前記薄膜表面上の複数の点の、前記円形平面からの高さを測定し、
該測定値に基づいて前記薄膜の前記円形平面に対する傾きを算出することを特徴とする薄膜の傾き測定方法。
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