JP5578377B2 - Substrate processing apparatus and method - Google Patents

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本発明は基板処理装置及び方法に関し、より詳細には液晶表示パネル等の工程処理を遂行する装置及び方法に関する。   The present invention relates to a substrate processing apparatus and method, and more particularly to an apparatus and method for performing process processing of a liquid crystal display panel or the like.

液晶表示パネルの製造工程は、ガラス基板表面に処理液を供給及び塗布する塗布工程と、処理液が塗布された基板にコーティング層を形成するコーティング工程と、を含む。塗布工程を遂行する装置として、インクジェット印刷方式で基板表面に直接処理液を印刷する装置が使用される。   The manufacturing process of the liquid crystal display panel includes an application process for supplying and applying a treatment liquid to the surface of the glass substrate, and a coating process for forming a coating layer on the substrate coated with the treatment liquid. As an apparatus for performing the coating process, an apparatus that directly prints the treatment liquid on the substrate surface by an inkjet printing method is used.

塗布工程とコーティング工程とは、工程に使用される装置が互いに異なり、独立した別個のチャンバーで工程が遂行されていた。そのため、塗布装置とコーティング装置との間で基板を移送するための移送装置が必要であった。このような装置は、全体設備面積を増加させるだけでなく、基板移送による全体工程時間を増加させるという問題がある。   The application process and the coating process are different from each other in apparatuses used in the processes, and the processes are performed in separate and independent chambers. Therefore, a transfer device for transferring the substrate between the coating device and the coating device is required. Such an apparatus not only increases the total equipment area, but also increases the total process time for substrate transfer.

韓国特許公開第１０−２０１０−００６０６９０号公報Korean Patent Publication No. 10-2010-0060690

本発明は、全体工程時間を短縮させ得る装置及び方法を提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide an apparatus and method that can shorten the overall process time.

また、本発明は、設備全体面積が減少され得る装置及び方法を提供することを課題とする。   Moreover, this invention makes it a subject to provide the apparatus and method which can reduce the whole installation area.

また、本発明は、１つの装置で複数個の処理液を塗布できる装置及び方法を提供することを課題とする。   Moreover, this invention makes it a subject to provide the apparatus and method which can apply | coat a several process liquid with one apparatus.

本発明の基板処理装置は、基板を支持する基板支持ユニットと、前記基板に第１処理液を吐出するインクジェットノズルと、前記基板に第１処理液と異なる第２処理液を吐出するコーティングノズルと、前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第１方向に直線移動させるガントリーユニットと、を含む。 The substrate processing apparatus of the present invention includes a substrate support unit that supports a substrate, an inkjet nozzle that discharges a first processing liquid to the substrate, and a coating nozzle that discharges a second processing liquid different from the first processing liquid to the substrate. A gantry unit that linearly moves the inkjet nozzle and the coating nozzle in a first direction so that positions of the inkjet nozzle and the coating nozzle are changed with respect to the substrate support unit.

また、前記ガントリーユニットは前記インクジェットノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動する第１ガントリーと、前記コーティングノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動する第２ガントリーと、を包含できる。 Also, the gantry unit supporting said ink jet nozzle, a first gantry which moves linearly in the first direction and from one side of the substrate supporting unit across the top of the substrate supporting unit to the other side, said coating nozzle And a second gantry that moves linearly in the first direction from one side of the substrate support unit to the other side across the top of the substrate support unit.

また、前記第１ガントリーと前記第２ガントリーとは、前記基板支持ユニットの両側に互いに対向して前記第１方向に長く配置された一対のガイドレールに沿って直線移動することができる。 In addition, the first gantry and the second gantry can be linearly moved along a pair of guide rails that are long in the first direction so as to face each other on both sides of the substrate support unit.

また、前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第２処理液を吐出するスリットホールが前記第２方向に長く形成され得る。   The coating nozzle has a length direction arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and a slit hole for discharging the second processing liquid is formed on the bottom surface in the second direction. Can be formed long.

また、前記第１ガントリーには前記インクジェットノズルが複数個装着され、前記インクジェットノズルは上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に配列され、前記第１ガントリーに対する前記インクジェットノズルの相対位置が変更されるように前記インクジェットノズルを前記第２方向に直線移動させるインクジェットノズル移動部をさらに包含できる。 The first gantry includes a plurality of ink jet nozzles, and the ink jet nozzles are arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and the ink jet nozzles with respect to the first gantry are arranged. An inkjet nozzle moving unit that linearly moves the inkjet nozzle in the second direction so that the relative position is changed can be further included.

また、前記インクジェットノズルは複数個が前記第２方向に配列されて１つの列を形成し、前記インクジェットノズルの列は少なくとも２つ以上設けられ得る。   A plurality of the inkjet nozzles may be arranged in the second direction to form one row, and at least two or more rows of the inkjet nozzles may be provided.

また、前記ガントリーユニットは上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に対して前記第１ガントリーの長さ方向が所定角度だけ傾いて配置されるように前記第１ガントリーを回転させるガントリー駆動部をさらに包含できる。 The gantry unit rotates the first gantry so that the length direction of the first gantry is inclined at a predetermined angle with respect to a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above. A gantry driving unit can be further included.

また、前記ガントリー駆動部は前記第１ガントリーの一端を回転中心として前記第１ガントリーの他端を回転させ得る。 Also, the gantry driving unit may rotate the other end of said first gantry as the center of rotation of one end of the first gantry.

また、前記ガントリーユニットは前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動するガントリーを包含できる。 Further, it encompasses gantry the gantry unit supports and the coating nozzle and the jet nozzle, which moves linearly in the first direction and from one side of the substrate supporting unit across the top of the substrate supporting unit to the other side it can.

また、前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第２処理液を吐出するスリットホールが前記第２方向に長く形成され、前記第１方向に沿って前記コーティングノズルの前方と後方の各々の位置に、複数個の前記インクジェットノズルが前記第２方向に配列され得る。   The coating nozzle has a length direction arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and a slit hole for discharging the second processing liquid is formed on the bottom surface in the second direction. The plurality of inkjet nozzles may be arranged in the second direction at positions in front of and behind the coating nozzle along the first direction.

本発明の基板処理方法は、基板支持ユニットの上部をインクジェットノズルが第１方向に直線移動し、第１処理液を前記基板支持ユニットに支持された基板に吐出する第１処理液吐出段階と、前記基板支持ユニットの上部をコーティングノズルが第１方向に直線移動し、前記第１処理液と異なる第２処理液を前記基板に吐出する第２処理液吐出段階と、を含み、前記第１処理液吐出段階と前記第２処理液吐出段階とは順次的に、且つ連続的に行われる。   The substrate processing method of the present invention includes a first processing liquid discharge stage in which an inkjet nozzle linearly moves in an upper direction of a substrate support unit in a first direction, and discharges a first processing liquid onto a substrate supported by the substrate support unit; A second processing liquid discharge stage in which a coating nozzle moves linearly in a first direction above the substrate support unit and discharges a second processing liquid different from the first processing liquid onto the substrate; The liquid discharge stage and the second treatment liquid discharge stage are performed sequentially and continuously.

また、前記インクジェットノズルは前記第１方向に直線移動可能である第１ガントリーに支持されて移動し、前記コーティングノズルは前記第１ガントリーと並べに配置され、前記第１方向に直線移動可能である第２ガントリーに支持されて移動することができる。 The inkjet nozzle is supported and moved by a first gantry that is linearly movable in the first direction, and the coating nozzle is arranged side by side with the first gantry and is linearly movable in the first direction. It is supported by the second gantry and can move.

また、前記インクジェットノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に沿って複数個が一列に配列され、隣接する前記インクジェットノズルの間隔が固定され、前記第１ガントリーを所定角度回転させることで、前記第２方向の前記インクジェットノズルの間隔を変更させ得る。 In addition, when viewed from above, the inkjet nozzles are arranged in a line along a second direction perpendicular to the first direction, the interval between the adjacent inkjet nozzles is fixed, and the first gantry is fixed. The interval between the inkjet nozzles in the second direction can be changed by rotating the image by a predetermined angle.

また、前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとは、前記第１方向に直線移動可能であるガントリーに支持されて移動し、前記インクジェットノズルは、前記第１方向に沿った前記コーティングノズルの前方と後方と両方又は一方に位置することができる。 The inkjet nozzle and the coating nozzle are supported and moved by a gantry that is linearly movable in the first direction, and the inkjet nozzle is arranged in front of and behind the coating nozzle along the first direction. It can be located in both or one.

本発明によれば、装置との間に基板移送が必要とされないので、全体工程時間が短縮される。   According to the present invention, no substrate transfer is required between the apparatus and the entire process time.

また、本発明によれば、１つの装置で複数工程が遂行できるので、設備面積が減少される。   In addition, according to the present invention, since a plurality of processes can be performed with one apparatus, the facility area is reduced.

本発明の一実施形態による基板処理装置を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図１の基板処理装置を示す平面図である。It is a top view which shows the substrate processing apparatus of FIG. 図１の第１駆動部を示す図面である。2 is a diagram illustrating a first driving unit of FIG. 1. 図１の第２駆動部を示す図面である。2 is a diagram illustrating a second driving unit of FIG. 1. 第１ガントリーが回転する形態を示す図面である。It is drawing which shows the form which a 1st gantry rotates. 第１ガントリーの回転にしたがうインクジェットノズルの位置を示す図面である。4 is a diagram illustrating the position of an inkjet nozzle according to the rotation of a first gantry . 第１処理液吐出段階を示す図面である。3 is a diagram illustrating a first processing liquid discharge stage. 第１処理液吐出段階を示す図面である。3 is a diagram illustrating a first processing liquid discharge stage. 第１処理液吐出段階を示す図面である。3 is a diagram illustrating a first processing liquid discharge stage. 第２処理液吐出段階を示す図面である。6 is a diagram illustrating a second processing liquid discharge stage. 第２処理液が基板に吐出される形態を示す図面である。4 is a diagram illustrating a mode in which a second processing liquid is discharged onto a substrate. 本発明の他の実施形態による基板処理装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the substrate processing apparatus by other embodiment of this invention. 図１２の基板処理装置を示す平面図である。It is a top view which shows the substrate processing apparatus of FIG. 図１２のガントリーと処理液供給部とを示す正面図である。It is a front view which shows the gantry and the process liquid supply part of FIG. 本発明のその他の実施形態による基板処理装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the substrate processing apparatus by other embodiment of this invention. 図１５の装置を利用して処理液を吐出する過程を示す図面である。16 is a diagram illustrating a process of discharging a processing liquid using the apparatus of FIG.

以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態による基板処理装置及び方法を詳細に説明する。本発明を説明するに際して、関連する公知構成や機能に対する具体的な説明が本発明の要旨の理解を阻害すると判断される場合には、その詳細な説明は省略する。   Hereinafter, a substrate processing apparatus and method according to exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, if it is determined that a specific description of related known configurations and functions impedes understanding of the gist of the present invention, detailed description thereof will be omitted.

図１は本発明の一実施形態による基板処理装置を示す斜視図であり、図２は図１の基板処理装置を示す平面図である。   FIG. 1 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing the substrate processing apparatus of FIG.

図１及び図２に示すように、基板処理装置１０は基板Ｓに処理液を塗布するものであり、基板支持ユニット１００、ガントリーユニット２００、第１処理液供給ユニット３００、第２処理液供給ユニット４００、ビジョン検査ユニット５００、及びノズル洗浄ユニット６００を含む。基板支持ユニット１００は基板Ｓを支持し、ガントリーユニット２００は第１処理液供給ユニット３００のインクジェットノズル３１０と第２処理液供給ユニット４００のコーティングノズル４１０とを直線移動させる。第１処理液供給ユニット３００は基板Ｓに第１処理液を供給し、第２処理液供給ユニット４００は第２処理液を供給する。ビジョン検査ユニット５００はインクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の異常の有無を検査し、ノズル洗浄ユニット６００はインクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０とを洗浄する。以下、各構成に対して詳細に説明する。 As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate processing apparatus 10 applies a processing liquid to the substrate S, and includes a substrate support unit 100, a gantry unit 200, a first processing liquid supply unit 300, and a second processing liquid supply unit. 400, a vision inspection unit 500, and a nozzle cleaning unit 600. The substrate support unit 100 supports the substrate S, and the gantry unit 200 linearly moves the inkjet nozzle 310 of the first processing liquid supply unit 300 and the coating nozzle 410 of the second processing liquid supply unit 400. The first processing liquid supply unit 300 supplies the first processing liquid to the substrate S, and the second processing liquid supply unit 400 supplies the second processing liquid. The vision inspection unit 500 inspects whether the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 are abnormal, and the nozzle cleaning unit 600 cleans the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410. Hereinafter, each configuration will be described in detail.

基板支持ユニット１００はベースＢの上面に配置される。ベースＢは一定の厚さを有する直六面体ブロックで設けられる。基板支持ユニット１００は支持部材１１０、回転駆動部材（図示せず）、及び直線駆動部材１２０を含む。   The substrate support unit 100 is disposed on the upper surface of the base B. The base B is provided by a rectangular parallelepiped block having a certain thickness. The substrate support unit 100 includes a support member 110, a rotation drive member (not shown), and a linear drive member 120.

支持部材１１０は基板Ｓを支持する。支持部材１１０は直四角形状の板で提供され、その上面に基板Ｓが置かれる。支持部材１１０は基板Ｓより大きい面積を有する。支持部材１１０の下部には回転駆動部材（図示せず）が配置される。回転駆動部材は支持部材１１０を回転させる。基板Ｓは支持部材１１０と共に回転される。   The support member 110 supports the substrate S. The support member 110 is provided as a rectangular plate, and the substrate S is placed on the upper surface thereof. The support member 110 has a larger area than the substrate S. A rotation driving member (not shown) is disposed below the support member 110. The rotation driving member rotates the support member 110. The substrate S is rotated together with the support member 110.

直線駆動部材１２０は、支持部材１１０と回転駆動部材とをレール１３０に沿って直線移動させる。以下、支持部材１１０が直線移動される方向を第１方向（Ｘ）とし、上部からみたとき、第１方向（Ｘ）と垂直になる方向を第２方向（Ｙ）とする。そして、第１及び第２方向（Ｘ、Ｙ）と垂直になる方向を第３方向（Ｚ）とする。レール１３０はベースＢの中心領域に第１方向（Ｘ）に沿って配置される。   The linear drive member 120 linearly moves the support member 110 and the rotational drive member along the rail 130. Hereinafter, a direction in which the support member 110 is linearly moved is a first direction (X), and a direction perpendicular to the first direction (X) when viewed from above is a second direction (Y). A direction perpendicular to the first and second directions (X, Y) is defined as a third direction (Z). The rail 130 is disposed in the central region of the base B along the first direction (X).

ガントリーユニット２００は、基板支持ユニット１００に対してインクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の位置が変更されるように、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０を第１方向（Ｘ）に直線移動させるものである。ガントリーユニット２００は第１ガントリー２１０、第１ガントリー駆動部２２０、第２ガントリー２５０、及び第２ガントリー駆動部２６０を含む。 The gantry unit 200 linearly moves the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 in the first direction (X) so that the positions of the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 are changed with respect to the substrate support unit 100. The gantry unit 200 includes a first gantry 210, a first gantry driving unit 220, a second gantry 250, and a second gantry driving unit 260.

第１ガントリー２１０は、支持部材１１０の移動経路の上部に配置する。第１ガントリー２１０は、ベースＢの上面から上方に所定距離だけ離隔して配置される。第１ガントリー２１０は、その長さ方向が第２方向（Ｙ）に平行となるように配置される。 The first gantry 210 is disposed on the upper part of the movement path of the support member 110. The first gantry 210 is disposed above the upper surface of the base B by a predetermined distance. The first gantry 210 is arranged such that its length direction is parallel to the second direction (Y).

第１ガントリー駆動部２２０は第１ガントリー２１０を第１方向（Ｘ）に直線移動させる。第１ガントリー駆動部２２０は、支持部材１１０の上部を横切って支持部材１１０の一側から他側へと第１方向（Ｘ）に直線移動させる。そして、第１ガントリー駆動部２２０は、第１ガントリー２１０が第２方向（Ｙ）に対して所定角度に傾いて配置されるように、第１ガントリー２１０を回転させる。第１ガントリー駆動部２２０は、第１ガントリー２１０の一端を回転中心として第１ガントリー２１０を回転させる。なお、第１ガントリー駆動部２２０は、第１ガントリー２１０の中心を軸として第１ガントリー２１０を回転させるものでもよい。第１ガントリー駆動部２２０は第１駆動部２３０と第２駆動部２４０とを含む。第１駆動部２３０は第１ガントリー２１０の一端の下部に設けられ、第２駆動部２４０は第１ガントリー２１０の他端の下部に設けられる。 The first gantry driving unit 220 moves the first gantry 210 linearly in the first direction (X). The first gantry driving unit 220 linearly moves in the first direction (X) from one side of the support member 110 to the other side across the upper portion of the support member 110. The first gantry driving unit 220, as the first gantry 210 is tilted at a predetermined angle with respect to the second direction (Y), rotating the first gantry 210. The first gantry driver 220, a first gantry 210 is rotated about one end of the first gantry 210. The first gantry driving unit 220 may rotates the first gantry 210 the center of the first gantry 210 as an axis. The first gantry driving unit 220 includes a first driving unit 230 and a second driving unit 240. The first driving unit 230 is provided at a lower portion of one end of the first gantry 210, and the second driving unit 240 is provided at a lower portion of the other end of the first gantry 210.

図３は図１の第１駆動部を示す図面である。図３に示すように、第１駆動部２３０は第１スライダー２３１、第１回転支持部材２３２、及び第１直線駆動部材２３４を含む。   FIG. 3 is a diagram illustrating the first driving unit of FIG. As shown in FIG. 3, the first drive unit 230 includes a first slider 231, a first rotation support member 232, and a first linear drive member 234.

第１スライダー２３１は、第１ガントリー２１０の底面にその横方向に沿って形成されたガイド溝２１４に案内されて直線移動する。第１スライダー２３１の下端部には第１回転支持部材２３２が結合する。第１回転支持部材２３２は第１直線駆動部材２３４に対して第１スライダー２３１が相対回転できるように設けられる。第１回転支持部材２３２はベアリングを含む。 The first slider 231 is linearly moved by being guided by a guide groove 214 formed on the bottom surface of the first gantry 210 along the lateral direction thereof. A first rotation support member 232 is coupled to the lower end of the first slider 231. The first rotation support member 232 is provided so that the first slider 231 can rotate relative to the first linear drive member 234. The first rotation support member 232 includes a bearing.

第１回転支持部材２３２の下端には第１直線駆動部材２３４が結合される。第１直線駆動部材２３４は第１回転支持部材２３２を第１方向（Ｘ）に直線移動させる。第１直線駆動部材２３４はスライダー２３５とガイドレール２３６とを含む。ガイドレール２３６はベースＢの一側にて第１方向（Ｘ）に沿って配置される。ガイドレール２３６にはスライダー２３５が移動自在に結合される。スライダー２３５の上端には第１回転支持部材２３２が結合する。スライダー２３５にはリニアモーターが内装され、スライダー２３５はリニアモーターの駆動力によって、ガイドレール２３６に沿って第１方向（Ｘ）に直線移動することができる。   A first linear drive member 234 is coupled to the lower end of the first rotation support member 232. The first linear drive member 234 linearly moves the first rotation support member 232 in the first direction (X). The first linear drive member 234 includes a slider 235 and a guide rail 236. The guide rail 236 is disposed on one side of the base B along the first direction (X). A slider 235 is movably coupled to the guide rail 236. A first rotation support member 232 is coupled to the upper end of the slider 235. The slider 235 includes a linear motor, and the slider 235 can move linearly in the first direction (X) along the guide rail 236 by the driving force of the linear motor.

図４は第２駆動部を示す図面である。図４に示すように、第２駆動部２４０は第１ガントリー２１０が第１方向（Ｘ）に直線移動する場合、第１ガントリー２１０の他端を第１方向（Ｘ）に移動させる。そして、第２駆動部２４０は第１ガントリー２１０が回転する場合、第１ガントリー２１０の回転軸として動作する。第２駆動部２４０は連結部材２４１、第２回転支持部材２４２、及び第２直線駆動部材２４３を含む。連結部材２４１は第１ガントリー２１０の他端の底面に結合する。連結部材２４１の下端には第２回転支持部材２４２が結合する。第２回転支持部材２４２は第２直線駆動部材２４３に対して連結部材２４１が相対回転できるように設けられる。第２回転支持部材２４２はベアリングを含む。 FIG. 4 illustrates the second driving unit. As shown in FIG. 4, the second driver 240 when the first gantry 210 moves linearly in a first direction (X), moving the other end of the first gantry 210 in a first direction (X). Then, the second driver 240 when the first gantry 210 rotates, operates as the rotation axis of the first gantry 210. The second driving unit 240 includes a connecting member 241, a second rotation support member 242, and a second linear driving member 243. The connecting member 241 is coupled to the bottom surface of the other end of the first gantry 210. A second rotation support member 242 is coupled to the lower end of the connecting member 241. The second rotation support member 242 is provided so that the connection member 241 can rotate relative to the second linear drive member 243. The second rotation support member 242 includes a bearing.

第２回転支持部材２４２の下端には第２直線駆動部材２４３が結合する。第２直線駆動部材２４３は第２回転支持部材２４２を第１方向（Ｘ）に直線移動させる。第２回転支持部材２４２の直線移動により、連結部材２４１と第１ガントリー２１０は共に直線移動する。 A second linear drive member 243 is coupled to the lower end of the second rotation support member 242. The second linear drive member 243 linearly moves the second rotation support member 242 in the first direction (X). As the second rotation support member 242 moves linearly, both the connecting member 241 and the first gantry 210 move linearly.

第２直線駆動部材２４３はスライダー２４４とガイドレール２４５とを含む。ガイドレール２４５はベースＢの他側にて第１方向（Ｘ）に沿って配置される。ガイドレール２４５は第１直線駆動部材２３４のガイドレール２３６と並んで配置される。ガイドレール２４５にはスライダー２４４が移動自在に結合する。スライダー２４４の上端には第２回転支持部材２４２が結合する。スライダー２４４にはリニアモーターが内装され、スライダー２４４はリニアモーターの駆動力によって、ガイドレール２４５に沿って第１方向（Ｘ）に直線移動することができる。   The second linear drive member 243 includes a slider 244 and a guide rail 245. The guide rail 245 is disposed on the other side of the base B along the first direction (X). The guide rail 245 is arranged side by side with the guide rail 236 of the first linear drive member 234. A slider 244 is movably coupled to the guide rail 245. A second rotation support member 242 is coupled to the upper end of the slider 244. The slider 244 includes a linear motor, and the slider 244 can linearly move in the first direction (X) along the guide rail 245 by the driving force of the linear motor.

図５は第１ガントリーが回転する形態を示す図面である。図３乃至図５に示すように、第１ガントリー２１０はその長さ方向が第２方向（Ｙ）に対して傾くように回転可能であり、第１方向（Ｘ）に直線移動可能である。 FIG. 5 is a view showing a form in which the first gantry rotates. As shown in FIGS. 3 to 5, the first gantry 210 can rotate such that its length direction is inclined with respect to the second direction (Y), and can move linearly in the first direction (X).

第１ガントリー２１０が回転する過程は、以下のとおりである。先ず、第２直線駆動部材２４３が固定された状態で第１直線駆動部材２３４が第１方向（Ｘ）に直線移動する。第１直線駆動部材２３４の移動にしたがって第１回転支持部材２３２が第１方向（Ｘ）に直線移動する。第１直線駆動部材２３４とスライダー２３１の相対移動によって第１回転支持部材２３２は回転する。スライダー２３１は第１ガントリー２１０のガイド溝２１４に沿って移動する。第１回転支持部材２３２は第１ガントリー２１０の動きによって回転する。このような動きによって、第１ガントリー２１０は回転されて第２方向（Ｙ）に対して所定角度に傾くように配置され得る。 The process of rotating the first gantry 210 is as follows. First, the first linear drive member 234 moves linearly in the first direction (X) with the second linear drive member 243 fixed. As the first linear drive member 234 moves, the first rotation support member 232 linearly moves in the first direction (X). The first rotation support member 232 is rotated by the relative movement of the first linear drive member 234 and the slider 231. The slider 231 moves along the guide groove 214 of the first gantry 210. The first rotation support member 232 is rotated by the movement of the first gantry 210. Due to such movement, the first gantry 210 may be rotated and disposed at a predetermined angle with respect to the second direction (Y).

図１及び図２に示すように、第２ガントリー２５０は支持部材１１０の移動経路の上部に配置される。第２ガントリー２５０は第１ガントリー２１０と並んで配置される。 As shown in FIGS. 1 and 2, the second gantry 250 is disposed on the upper part of the movement path of the support member 110. The second gantry 250 is arranged side by side with the first gantry 210.

第２ガントリー駆動部２６０は第２ガントリー２５０を第１方向（Ｘ）に直線移動させる。第２ガントリー駆動部２６０は第２ガントリー２５０の両端の下端に各々設けられる。第２ガントリー駆動部２６０はガイドレール２３６、２４５に沿って第１方向（Ｘ）に直線移動する。 The second gantry driving unit 260 moves the second gantry 250 linearly in the first direction (X). The second gantry driving unit 260 is provided at the lower end of each end of the second gantry 250. The second gantry driving unit 260 linearly moves along the guide rails 236 and 245 in the first direction (X).

第１処理液供給ユニット３００は基板Ｓに第１処理液を吐出する。第１処理液供給ユニット３００はインクジェットノズル３１０、インクジェットノズル移動部３２０、及び第１処理液供給部３３０を含む。   The first processing liquid supply unit 300 discharges the first processing liquid onto the substrate S. The first processing liquid supply unit 300 includes an inkjet nozzle 310, an inkjet nozzle moving unit 320, and a first processing liquid supply unit 330.

インクジェットノズル３１０は第１ガントリー２１０に設置される。インクジェットノズル３１０は複数個設けられる。インクジェットノズル３１０は第１方向（Ｘ）を前後方向としたときの第１ガントリー２１０の前面に、又は前面及び後面の各々に設置される。インクジェットノズル３１０は第１ガントリー２１０の横方向に離隔して複数配置される。インクジェットノズル３１０の間隔は固定されている。インクジェットノズル３１０は第２方向（Ｙ）に沿って互いに異なる直線上に配置され、図示のようなジグザグ状に配置される。インクジェットノズル３１０の底面には、基板Ｓに第１処理液を吐出する吐出口が各々形成される。吐出口は基板Ｓに形成されたパターン間の空間に第１処理液を吐出する。インクジェットノズル３１０はインクジェット印刷方式で基板Ｓのパターン間の空間に第１処理液を直接印刷させることができる。第１ガントリー２１０の回転によって、インクジェットノズル３１０の第２方向（Ｙ）の間隔が調節される。第１ガントリー２１０が回転されて第２方向（Ｙ）に対して所定角度に傾いて配置される場合、図６のようにインクジェットノズル３１０も共に回転されて第２方向（Ｙ）に対して傾くように配置される。このようなインクジェットノズル３１０の配置はインクジェットノズル３１０の第２方向（Ｙ）の間の間隔を狭くする。例えば、第１ガントリー２１０が回転する前に、インクジェットノズル３１０ａの間の間隔Ｄ１がｌであるとする場合、第１ガントリー２１０が角度θ回転されると、インクジェットノズル３１０ｂの第２方向（Ｙ）の間隔Ｄ２はｌ・ｃｏｓθとなる。第１ガントリー２１０が回転される角度の大きさは、インクジェットノズル３１０の間隔と基板Ｓのパターン間隔とを考慮して決定される。このようなインクジェットノズル３１０の第２方向（Ｙ）間隔調節によれば、基板Ｓのパターン間隔の変更にしたがってインクジェットノズル３１０の間の間隔を個別的に調節しなければならないという不便が解消される。 The inkjet nozzle 310 is installed in the first gantry 210. A plurality of inkjet nozzles 310 are provided. The inkjet nozzle 310 is installed on the front surface of the first gantry 210 when the first direction (X) is the front-rear direction, or on each of the front surface and the rear surface. A plurality of ink jet nozzles 310 are arranged apart from each other in the lateral direction of the first gantry 210. The interval between the inkjet nozzles 310 is fixed. The inkjet nozzles 310 are arranged on different straight lines along the second direction (Y) and arranged in a zigzag shape as shown. On the bottom surface of the inkjet nozzle 310, discharge ports for discharging the first processing liquid to the substrate S are formed. The discharge port discharges the first processing liquid into a space between patterns formed on the substrate S. The inkjet nozzle 310 can directly print the first processing liquid in the space between the patterns of the substrate S by an inkjet printing method. By the rotation of the first gantry 210, the interval in the second direction (Y) of the inkjet nozzle 310 is adjusted. When the first gantry 210 is rotated and disposed at a predetermined angle with respect to the second direction (Y), the inkjet nozzle 310 is also rotated together and inclined with respect to the second direction (Y) as shown in FIG. Are arranged as follows. Such an arrangement of the inkjet nozzles 310 narrows the interval between the second directions (Y) of the inkjet nozzles 310. For example, when the interval D1 between the inkjet nozzles 310a is 1 before the first gantry 210 rotates, when the first gantry 210 is rotated by an angle θ, the second direction (Y) of the inkjet nozzle 310b The interval D2 is 1 · cos θ. The angle at which the first gantry 210 is rotated is determined in consideration of the interval between the inkjet nozzles 310 and the pattern interval of the substrate S. According to such adjustment of the interval in the second direction (Y) of the inkjet nozzle 310, the inconvenience that the interval between the inkjet nozzles 310 must be individually adjusted according to the change in the pattern interval of the substrate S is eliminated. .

インクジェットノズル移動部３２０はインクジェットノズル３１０を第２方向（Ｙ）に移動させる。インクジェットノズル移動部３２０はインクジェットノズル３１０と第１ガントリー２１０とを連結する連結ブロックを移動させ、これによりインクジェットノズル３１０は一体に移動される。インクジェットノズル３１０は第２方向（Ｙ）に所定距離だけ移動することができる。インクジェットノズル３１０は第１方向（Ｘ）に第１処理液を吐出した後、第２方向（Ｙ）に所定距離だけ移動する。そして、第１方向（Ｘ）に第１処理液を吐出する。このような第１処理液吐出によって基板Ｓの各領域に第１処理液が吐出される。 The inkjet nozzle moving unit 320 moves the inkjet nozzle 310 in the second direction (Y). The inkjet nozzle moving unit 320 moves a connecting block that connects the inkjet nozzle 310 and the first gantry 210, and thereby the inkjet nozzle 310 is moved together. The inkjet nozzle 310 can move a predetermined distance in the second direction (Y). The inkjet nozzle 310 moves a predetermined distance in the second direction (Y) after discharging the first processing liquid in the first direction (X). Then, the first processing liquid is discharged in the first direction (X). The first processing liquid is discharged to each region of the substrate S by such first processing liquid discharge.

第１処理液供給部３３０はインクジェットノズル３１０の各々に第１処理液を供給する。第１処理液供給部３３０は、第１ガントリー２１０の上端に設置される。第１処理液供給部３３０は第１処理液格納部に供給される第１処理液を複数の股に分配してインクジェットノズル３１０の各々に供給する。これと異なり、第１処理液供給部３３０を、複数個の第１処理液格納部の各々から第１処理液をインクジェットノズル３１０の各々に供給するように設けてもよい。第１処理液は電気的特性を有するインキを含む。インキは印加された電流の大きさにしたがってその形状が変わる。インキは印加された電流の大きさにしたがって拡散程度が異なることもある。第１処理液は低い親水性を有することができ、例えば油性インキ（ｏｉｌ ｉｎｋ）を含む。 The first processing liquid supply unit 330 supplies the first processing liquid to each of the inkjet nozzles 310. The first processing liquid supply unit 330 is installed at the upper end of the first gantry 210. The first processing liquid supply unit 330 distributes the first processing liquid supplied to the first processing liquid storage unit to the plurality of crotches and supplies the first processing liquid to each of the inkjet nozzles 310. Unlike this, the first processing liquid supply unit 330 may be provided so as to supply the first processing liquid from each of the plurality of first processing liquid storage units to each of the inkjet nozzles 310. The first processing liquid contains ink having electrical characteristics. The shape of the ink changes according to the magnitude of the applied current. The degree of diffusion of the ink may vary depending on the magnitude of the applied current. The first processing liquid may have low hydrophilicity, and includes, for example, oil-based ink.

第２処理液供給ユニット４００は基板Ｓに第２処理液を吐出する。第２処理液供給ユニット４００はコーティングノズル４１０、第２処理液供給部４２０、コーティングノズル制御部４３０を含む。   The second processing liquid supply unit 400 discharges the second processing liquid onto the substrate S. The second processing liquid supply unit 400 includes a coating nozzle 410, a second processing liquid supply unit 420, and a coating nozzle control unit 430.

コーティングノズル４１０は第２ガントリー２５０の下部に位置し、第２ガントリー２５０に装着される。コーティングノズル４１０はその長さ方向が第２方向（Ｙ）と平行になるように配置される。コーティングノズル４１０の底面には吐出口４１１が形成される。吐出口４１１はスリットホールから成り、コーティングノズル４１０の横方向に沿って形成される。吐出口４１１は基板Ｓの第２方向（Ｙ）の幅に相当する長さか、或いはそれより長く設けられる。吐出口４１１は第２処理液を吐出する。 The coating nozzle 410 is located below the second gantry 250 is mounted to the second gantry 250. The coating nozzle 410 is disposed such that its length direction is parallel to the second direction (Y). A discharge port 411 is formed on the bottom surface of the coating nozzle 410. The discharge port 411 includes a slit hole and is formed along the lateral direction of the coating nozzle 410. The discharge port 411 is provided with a length corresponding to the width of the substrate S in the second direction (Y) or longer. The discharge port 411 discharges the second processing liquid.

第２処理液供給部４２０は第２ガントリー２５０の上端に設置される。第２処理液供給部４２０は第２処理液格納部に格納された第２処理液を、供給ラインを通じてコーティングノズル４１０に供給する。第２処理液は第１処理液と異なるものであり、第１処理液とは混合されない。第２処理液は親水性が高い薬液であることができ、例えば水（ｗａｔｅｒ）を含む。 The second processing liquid supply unit 420 is installed at the upper end of the second gantry 250. The second processing liquid supply unit 420 supplies the second processing liquid stored in the second processing liquid storage unit to the coating nozzle 410 through a supply line. The second treatment liquid is different from the first treatment liquid and is not mixed with the first treatment liquid. The second treatment liquid may be a highly hydrophilic chemical, and includes, for example, water.

コーティングノズル制御部４３０は、第２ガントリー２５０の前面に設置される。コーティングノズル制御部４３０はコーティングノズル４１０の動作を制御し、詳しくは、コーティングノズル４１０が吐出する第２処理液の流量及び吐出の周期等を制御することができる。 The coating nozzle controller 430 is installed on the front surface of the second gantry 250. The coating nozzle control unit 430 controls the operation of the coating nozzle 410, and more specifically, can control the flow rate of the second processing liquid discharged from the coating nozzle 410, the discharge cycle, and the like.

ビジョン検査ユニット５００は、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０とを検査する。ビジョン検査ユニット５００は第１方向（Ｘ）を前後方向としたときのベースＢの後部に設置される。ビジョン検査ユニット５００はカメラ５１０とカメラ移動部５２０とを含む。カメラ５１０はノズル３１０、４１０の吐出口を撮影する。撮影された映像からノズル３１０、４１０の吐出口の異常の有無を確認できる。カメラ移動部５２０は第２方向（Ｙ）にカメラ５１０を移動させる。カメラ移動部５２０はガイドレール５２１と駆動器（図示せず）とを含む。ガイドレール５２１はその長さ方向が第２方向（Ｙ）と平行に配置される。駆動器はカメラ５１０がガイドレール５２１に沿って移動するように駆動力を提供する。カメラ５１０はガイドレール５２１に沿って移動し、ノズル３１０、４１０の吐出口を連続的に撮影することができる。例えば、ビジョン検査ユニット５００の上部にコーティングノズル４１０が位置する場合、カメラ５１０はコーティングノズル４１０の一端から他端へと第２方向（Ｙ）に移動し、吐出口４１１を連続撮影することができる。   The vision inspection unit 500 inspects the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410. The vision inspection unit 500 is installed at the rear portion of the base B when the first direction (X) is the front-rear direction. The vision inspection unit 500 includes a camera 510 and a camera moving unit 520. The camera 510 images the discharge ports of the nozzles 310 and 410. The presence or absence of abnormality of the ejection ports of the nozzles 310 and 410 can be confirmed from the captured image. The camera moving unit 520 moves the camera 510 in the second direction (Y). The camera moving unit 520 includes a guide rail 521 and a driver (not shown). The length direction of the guide rail 521 is arranged in parallel with the second direction (Y). The driver provides a driving force so that the camera 510 moves along the guide rail 521. The camera 510 moves along the guide rail 521 and can continuously photograph the discharge ports of the nozzles 310 and 410. For example, when the coating nozzle 410 is positioned above the vision inspection unit 500, the camera 510 can move from one end of the coating nozzle 410 to the other end in the second direction (Y), and the discharge port 411 can be continuously photographed. .

第１方向（Ｘ）を前後方向としたときのビジョン検査ユニット５００の後方には、ノズル洗浄ユニット６００が位置する。ノズル洗浄ユニット６００は、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の吐出口を洗浄する。ノズル洗浄ユニット６００はハウジング６１０とローラー６２０とを含む。ハウジング６１０には、上面が開放された空間が内部に形成され、この空間内には洗浄液が格納される。ローラー６２０はハウジング６１０の内部で回転自在に装着される。ローラー６２０の上端はハウジング６１０の上端より高く位置する。ローラー６２０はその長さがコーティングノズル４１０の第２方向（Ｙ）幅に対応するか、或いはそれより長く設けられる。ローラー６２０の上端はインクジェットノズル３１０の吐出口とコーティングノズル４１０の吐出口に相応する高さに位置される。また、ローラー６２０は高低が調節できるように設けられる。ローラー６２０は、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の吐出口に接触された状態で回転し、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の吐出口に残留する処理液や異物質を除去する。ローラー６２０表面に付いた処理液等は、ハウジング６１０内の洗浄液によって洗浄される。   The nozzle cleaning unit 600 is located behind the vision inspection unit 500 when the first direction (X) is the front-rear direction. The nozzle cleaning unit 600 cleans the discharge ports of the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410. The nozzle cleaning unit 600 includes a housing 610 and a roller 620. In the housing 610, a space having an open upper surface is formed inside, and cleaning liquid is stored in this space. The roller 620 is rotatably mounted inside the housing 610. The upper end of the roller 620 is positioned higher than the upper end of the housing 610. The roller 620 has a length corresponding to or longer than the width in the second direction (Y) of the coating nozzle 410. The upper end of the roller 620 is positioned at a height corresponding to the discharge port of the inkjet nozzle 310 and the discharge port of the coating nozzle 410. The roller 620 is provided so that the height can be adjusted. The roller 620 rotates while being in contact with the ejection ports of the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410, and removes the processing liquid and foreign substances remaining at the ejection ports of the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410. The processing liquid or the like attached to the surface of the roller 620 is cleaned with the cleaning liquid in the housing 610.

以下においては、上述の基板処理装置を利用して基板を処理する方法について説明する。   Hereinafter, a method of processing a substrate using the above-described substrate processing apparatus will be described.

本発明の一実施形態による基板処理方法は、第１処理液吐出段階と第２処理液吐出段階とを含む。第１処理液吐出段階では第１処理液を基板Ｓに吐出し、第２処理液吐出段階では、第１処理液が吐出された基板Ｓに対して第２処理液を吐出する。第１処理液吐出段階と第２処理液吐出段階とは順次的であり、且つ連続的に遂行される。   A substrate processing method according to an embodiment of the present invention includes a first processing liquid discharge stage and a second processing liquid discharge stage. In the first processing liquid discharge stage, the first processing liquid is discharged onto the substrate S, and in the second processing liquid discharge stage, the second processing liquid is discharged onto the substrate S on which the first processing liquid has been discharged. The first treatment liquid discharge stage and the second treatment liquid discharge stage are sequential and performed continuously.

図７乃至図９は第１処理液吐出段階を示す図面である。   7 to 9 are views illustrating a first processing liquid discharge stage.

先ず、図７に示すように、インクジェットノズル３１０の第２方向（Ｙ）の間隔が基板Ｓに形成されたパターンＰの間隔と対応するように、第１ガントリー２１０が回転する。第１ガントリー２１０は、第１駆動部２３０と連結された一端が第１方向（Ｘ）に直線移動し、第２駆動部２４０と連結された他端が固定して位置し、これによって、第１ガントリー２１０は他端を中心として回転し、第２方向（Ｙ）に対して所定角度（θ）傾くように配置される。また、第１駆動部２３０と第２駆動部２４０の駆動によって第１ガントリー２１０は第１方向（Ｘ）に直線移動する。第１ガントリー２１０は支持部材１１０の後部から前部へと直線移動する。インクジェットノズル３１０は基板Ｓ上部を通過する間に、第１処理液Ｌ１を基板Ｓに吐出する。図８のように、インクジェットノズル３１０の各々は基板ＳパターンＰ間の空間Ａに第１処理液Ｌ１を吐出する。インクジェットノズル３１０はインクジェット印刷回路方式で第１処理液Ｌ１を基板Ｓに印刷させることができる。 First, as shown in FIG. 7, the first gantry 210 rotates so that the interval in the second direction (Y) of the inkjet nozzle 310 corresponds to the interval of the pattern P formed on the substrate S. The first gantry 210 has one end connected to the first driving unit 230 linearly moves in the first direction (X) and the other end connected to the second driving unit 240 is fixedly positioned. The one gantry 210 rotates around the other end and is arranged to be inclined at a predetermined angle (θ) with respect to the second direction (Y). Further, the first gantry 210 is linearly moved in the first direction (X) by the driving of the first driving unit 230 and the second driving unit 240. The first gantry 210 moves linearly from the rear part to the front part of the support member 110. The inkjet nozzle 310 discharges the first processing liquid L1 to the substrate S while passing over the substrate S. As shown in FIG. 8, each of the inkjet nozzles 310 discharges the first processing liquid L <b> 1 into the space A between the substrate S patterns P. The inkjet nozzle 310 can print the first treatment liquid L1 on the substrate S by an inkjet printing circuit method.

支持部材１１０の前部に移動した第１ガントリー２１０は図９のように、第１方向（Ｘ）に沿って支持部材１１０の後部に移動する。第１ガントリー２１０が移動する前に、インクジェットノズル３１０は第１ガントリー２１０の横方向に沿って所定距離を移動する。インクジェットノズル３１０は第１処理液Ｌ１が供給されない基板Ｓ領域の上部に移動する。インクジェットノズル３１０が移動した後、第１ガントリー２１０は支持部材１１０の後部に移動する。インクジェットノズル３１０は基板Ｓ上部を通過する間に、第１処理液Ｌ１を基板Ｓに吐出する。 The first gantry 210 moved to the front part of the support member 110 moves to the rear part of the support member 110 along the first direction (X) as shown in FIG. Before the first gantry 210 moves, the inkjet nozzle 310 moves a predetermined distance along the lateral direction of the first gantry 210. The inkjet nozzle 310 moves to the upper part of the substrate S area where the first processing liquid L1 is not supplied. After the inkjet nozzle 310 moves, the first gantry 210 moves to the rear part of the support member 110. The inkjet nozzle 310 discharges the first processing liquid L1 to the substrate S while passing over the substrate S.

第１ガントリー２１０が支持部材１１０の上部領域を横切って、支持部材１１０の前部と後部との間の区間を反復移動し、インクジェットノズル３１０が第１ガントリー２１０の横方向に沿って所定距離を移動することによって、基板Ｓの全体領域に第１処理液Ｌ１が吐出される。第１処理液吐出が完了した後、第１ガントリー２１０はベースＢの後部に移動して控える。 The first gantry 210 repeatedly moves across the upper region of the support member 110 and the section between the front portion and the rear portion of the support member 110, and the inkjet nozzle 310 moves a predetermined distance along the lateral direction of the first gantry 210. By moving, the first processing liquid L1 is discharged to the entire region of the substrate S. After the first treatment liquid discharge is completed, the first gantry 210 moves to the rear part of the base B and refrains.

第１処理液吐出段階が完了されれば、第２処理液吐出段階が順次的に、且つ連続的に進行される。   When the first treatment liquid discharge stage is completed, the second treatment liquid discharge stage proceeds sequentially and continuously.

図１０は第２処理液吐出段階を示す図面である。図１０に示すように、第２ガントリー２５０が支持部材１１０の前部から後部に直線移動する。第２ガントリー２５０が基板Ｓの上部を通過する間に、コーティングノズル４１０は第１処理液が塗布された基板Ｓに対して第２処理液を吐出する。コーティングノズル４１０は基板Ｓの第２方向（Ｙ）の幅に相応する吐出口４１１を有するので、図１１のように１回の吐出で基板Ｓの全体領域に第２処理液Ｌ２を吐出することができる。第２ガントリー２５０は支持部材１１０の後部に移動した後、再び支持部材１１０の前部に復帰する。第２ガントリー２５０が復帰する過程で、コーティングノズル４１０は基板Ｓに再び第２処理液Ｌ２を吐出することができる。第２処理液Ｌ２は、第１処理液Ｌ１が塗布された空間Ａに供給され、第１処理液Ｌ１上に塗布される。第２処理液Ｌ２は第１処理液Ｌ１が空気中に露出することを遮断する。 FIG. 10 is a diagram illustrating a second processing liquid discharge stage. As shown in FIG. 10, the second gantry 250 moves linearly from the front part to the rear part of the support member 110. While the second gantry 250 passes over the substrate S, the coating nozzle 410 discharges the second processing liquid onto the substrate S coated with the first processing liquid. Since the coating nozzle 410 has a discharge port 411 corresponding to the width in the second direction (Y) of the substrate S, the second processing liquid L2 is discharged to the entire region of the substrate S by one discharge as shown in FIG. Can do. The second gantry 250 moves to the rear part of the support member 110 and then returns to the front part of the support member 110 again. In the process of returning the second gantry 250, the coating nozzle 410 can discharge the second processing liquid L2 to the substrate S again. The second processing liquid L2 is supplied to the space A where the first processing liquid L1 is applied, and is applied onto the first processing liquid L1. The second processing liquid L2 blocks exposure of the first processing liquid L1 to the air.

図１２は本発明の他の実施形態による基板処理装置を示す斜視図であり、図１３は図１２の基板処理装置を示す平面図であり、図１４は図１２のガントリーと処理液供給部を示す正面図である。 12 is a perspective view showing a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention, FIG. 13 is a plan view showing the substrate processing apparatus of FIG. 12, and FIG. 14 shows the gantry and the processing liquid supply unit of FIG. FIG.

図１２乃至図１４に示すように、基板処理装置は基板支持ユニット１００、ガントリーユニット２００、第１処理液供給ユニット３００、第２処理液供給ユニット４００、ビジョン検査ユニット５００、及びノズル洗浄ユニット６００を含む。基板支持ユニット１００、ビジョン検査ユニット５００、及びノズル洗浄ユニット６００は図１の実施形態と同一の構造で設けられる。 12 to 14, the substrate processing apparatus includes a substrate support unit 100, a gantry unit 200, a first processing liquid supply unit 300, a second processing liquid supply unit 400, a vision inspection unit 500, and a nozzle cleaning unit 600. Including. The substrate support unit 100, the vision inspection unit 500, and the nozzle cleaning unit 600 are provided with the same structure as that of the embodiment of FIG.

ガントリーユニット２００は、基板支持ユニット１００に対してインクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０の位置が変更されるように、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０を第１方向（Ｘ）に直線移動させるものである。ガントリーユニット２００はガントリー２１０、ガントリー駆動部２３０、２４０を含む。 The gantry unit 200 linearly moves the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 in the first direction (X) so that the positions of the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 are changed with respect to the substrate support unit 100. The gantry unit 200 includes a gantry 210 and gantry driving units 230 and 240.

図１の実施形態と異なり、ガントリーユニット２００は単一のガントリー２１０を含む。ガントリー２１０は支持部材１１０の移動経路の上部に配置され、その長さ方向が第２方向（Ｙ）と平行となるように配置される。 Unlike the embodiment of FIG. 1, the gantry unit 200 includes a single gantry 210. The gantry 210 is disposed at the upper part of the movement path of the support member 110, and is disposed such that its length direction is parallel to the second direction (Y).

ガントリー駆動部２３０、２４０はガントリー２１０を第１方向（Ｘ）に直線移動させる。ガントリー駆動部２３０、２４０は第１方向（Ｘ）に支持部材１１０の上部を横切って支持部材１１０の一側から他側へとガントリー２１０を移動させる。そして、ガントリー駆動部２３０、２４０はガントリー２１０が第２方向（Ｙ）に対して所定角度だけ傾いて配置されるように、第１ガントリー２１０を回転させることができる。ガントリー駆動部２３０、２４０は図１の実施形態で説明した第１ガントリー駆動部（図１の２３０、２４０）と同一の構造で設けられる。 The gantry driving units 230 and 240 move the gantry 210 linearly in the first direction (X). The gantry driving units 230 and 240 move the gantry 210 from one side of the support member 110 to the other side across the upper portion of the support member 110 in the first direction (X). The gantry driving unit 230 and 240 so that the gantry 210 is tilted by a predetermined angle with respect to the second direction (Y), it is possible to rotate the first gantry 210. The gantry driving units 230 and 240 are provided with the same structure as the first gantry driving unit (230 and 240 in FIG. 1) described in the embodiment of FIG.

第１処理液供給ユニット３００と第２処理液供給ユニット４００はガントリー２１０に設置される。第１処理液供給ユニット３００は基板Ｓに第１処理液を吐出する。第１処理液供給ユニット３００はインクジェットノズル３１０、インクジェットノズル移動部３２０ａ、３２０ｂ、及び第１処理液供給部３３０を含む。 The first processing liquid supply unit 300 and the second processing liquid supply unit 400 are installed in the gantry 210. The first processing liquid supply unit 300 discharges the first processing liquid onto the substrate S. The first processing liquid supply unit 300 includes an inkjet nozzle 310, inkjet nozzle moving units 320 a and 320 b, and a first processing liquid supply unit 330.

インクジェットノズル３１０はガントリー２１０に複数個設けられる。インクジェットノズル３１０は、第１方向（Ｘ）を前後方向としてガントリー２１０の前部と後部に各々設置される。インクジェットノズル３１０ａ、３１０ｂは第２方向（Ｙ）に沿って一列又は複数列に配列される。同一の列に配置されたインクジェットノズル３１０ａ、３１０ｂは第２方向（Ｙ）に沿って互いに離隔して配置される。インクジェットノズル３１０の底面には吐出口が各々形成される。吐出口は第１処理液を吐出する。 A plurality of inkjet nozzles 310 are provided in the gantry 210. The inkjet nozzles 310 are respectively installed at the front part and the rear part of the gantry 210 with the first direction (X) as the front-rear direction. The inkjet nozzles 310a and 310b are arranged in one or a plurality of rows along the second direction (Y). The inkjet nozzles 310a and 310b arranged in the same row are arranged apart from each other along the second direction (Y). Discharge ports are respectively formed on the bottom surface of the inkjet nozzle 310. The discharge port discharges the first processing liquid.

インクジェットノズル移動部３２０ａ、３２０ｂはインクジェットノズル３１０を第２方向（Ｙ）へと一体に移動させる。   The inkjet nozzle moving units 320a and 320b move the inkjet nozzle 310 integrally in the second direction (Y).

第１処理液供給部３３０はガントリー２１０に設置される。第１処理液供給部３３０はインクジェットノズル３１０の各々に第１処理液を供給する。 The first processing liquid supply unit 330 is installed in the gantry 210. The first processing liquid supply unit 330 supplies the first processing liquid to each of the inkjet nozzles 310.

第２処理液供給ユニット４００は基板Ｓに第２処理液を吐出する。第２処理液供給ユニット４００はコーティングノズル４１０、第２処理液供給部４２０、及びコーティングノズル制御部４３０を含む。   The second processing liquid supply unit 400 discharges the second processing liquid onto the substrate S. The second processing liquid supply unit 400 includes a coating nozzle 410, a second processing liquid supply unit 420, and a coating nozzle control unit 430.

コーティングノズル４１０はガントリー２１０の下部に位置し、ガントリー２１０に支持される。コーティングノズル４１０はその長さ方向がガントリー２１０の長さ方向と平行となるように配置される。コーティングノズル４１０はガントリー２１０の前部に位置したインクジェットノズル３１０ａとガントリー２１０の後部に位置したインクジェットノズル３１０ｂとの間の領域に配置される。コーティングノズル４１０の底面には吐出口４１１が形成される。吐出口４１１は基板Ｓの第２方向（Ｙ）の幅に相応する長さか、或いはそれより長く設けられる。吐出口４１１は第２処理液を吐出する。 The coating nozzle 410 is located at the bottom of the gantry 210 is supported by the gantry 210. The coating nozzle 410 is arranged so that its length direction is parallel to the length direction of the gantry 210. The coating nozzle 410 is disposed in a region between the inkjet nozzle 310 a located at the front of the gantry 210 and the inkjet nozzle 310 b located at the rear of the gantry 210. A discharge port 411 is formed on the bottom surface of the coating nozzle 410. The discharge port 411 is provided with a length corresponding to the width of the substrate S in the second direction (Y) or longer. The discharge port 411 discharges the second processing liquid.

第２処理液供給部４２０はガントリー２１０に設置される。第２処理液供給部４２０はコーティングノズル４１０に第２処理液を供給する。 The second processing liquid supply unit 420 is installed in the gantry 210. The second processing liquid supply unit 420 supplies the second processing liquid to the coating nozzle 410.

コーティングノズル制御部４３０はガントリー２１０に設置される。コーティングノズル制御部４３０はコーティングノズル４１０の動作を制御し、詳しくは、コーティングノズル４１０が吐出する第２処理液の流量及び吐出の周期等を制御することができる。 The coating nozzle control unit 430 is installed in the gantry 210. The coating nozzle control unit 430 controls the operation of the coating nozzle 410, and more specifically, can control the flow rate of the second processing liquid discharged from the coating nozzle 410, the discharge cycle, and the like.

上述した基板処理装置による場合、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０とは１つのガントリー２１０によって移動する。ガントリー２１０が支持部材１１０の上部領域を横切って支持部材１１０の前部から後部に反復移動し、このとき、インクジェットノズル３１０とコーティングノズル４１０が基板Ｓに処理液を吐出する。インクジェットノズル３１０が基板Ｓの全体領域に第１処理液を吐出した後、順次的にコーティングノズル４１０が第２処理液を吐出することができる。 In the case of the substrate processing apparatus described above, the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 are moved by one gantry 210. The gantry 210 repeatedly moves from the front part to the rear part of the support member 110 across the upper region of the support member 110, and at this time, the inkjet nozzle 310 and the coating nozzle 410 discharge the processing liquid onto the substrate S. After the inkjet nozzle 310 discharges the first processing liquid to the entire area of the substrate S, the coating nozzle 410 can sequentially discharge the second processing liquid.

図１５は本発明のその他の実施形態による基板処理装置を示す図面である。図１５に示すように、図１３の実施形態と異なり、コーティングノズル４１０の第２方向（Ｙ）の長さはインクジェットノズル３１０が第２方向（Ｙ）に配列された幅Ｗ１と相応する長さに設けられる。コーティングノズル４１０には、吐出口４１１が第２方向（Ｙ）に長く形成される。吐出口４１１はインクジェットノズル３１０が１回に処理液を吐出できる領域の第２方向（Ｙ）の幅に相応する長さを有する。コーティングノズル４１０はコーティングノズル移動部によって、ガントリー２１０の長さ方向に移動することができる。コーティングノズル４１０はインクジェットノズル３１０と一体に移動するように設けてもよい。コーティングノズル移動部はガントリー２１０に設置される。 FIG. 15 is a view showing a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 15, unlike the embodiment of FIG. 13, the length of the coating nozzle 410 in the second direction (Y) corresponds to the width W1 in which the inkjet nozzles 310 are arranged in the second direction (Y). Is provided. In the coating nozzle 410, a discharge port 411 is formed long in the second direction (Y). The ejection port 411 has a length corresponding to the width in the second direction (Y) of the region where the inkjet nozzle 310 can eject the processing liquid at a time. The coating nozzle 410 can be moved in the length direction of the gantry 210 by the coating nozzle moving unit. The coating nozzle 410 may be provided so as to move integrally with the inkjet nozzle 310. The coating nozzle moving unit is installed in the gantry 210.

ガントリー２１０が支持部材１１０の上部領域を移動する間に、コーティングノズル４１０とインクジェットノズル３１０とは図１６のように、第１処理液Ｌ１と第２処理液Ｌ２を同時に基板Ｓに吐出することができる。ガントリー２１０が支持部材１１０の後部から前部に移動する間に、ガントリー２１０の前部に位置したインクジェットノズル３１０ａが基板Ｓに第１処理液Ｌ１を吐出する。これと反対に、ガントリー２１０が支持部材１１０の前部から後部に移動する間に、ガントリー２１０の後部に位置したインクジェットノズル３１０ｂが基板Ｓに第１処理液を吐出する。基板Ｓに形成されたパターン間の空間には第１処理液Ｌ１が塗布された後、第２処理液Ｌ２が塗布される。コーティングノズル４１０とインクジェットノズル３１０ａ、３１０ｂは第１方向（Ｘ）への処理液吐出を完了した後、第２方向（Ｙ）に所定距離だけ移動して、処理液が吐出されない基板Ｓ領域に第１及び第２処理液を順次的に吐出する。 While the gantry 210 moves in the upper region of the support member 110, the coating nozzle 410 and the inkjet nozzle 310 can simultaneously discharge the first processing liquid L1 and the second processing liquid L2 to the substrate S as shown in FIG. it can. While the gantry 210 moves from the rear part to the front part of the support member 110, the inkjet nozzle 310a located at the front part of the gantry 210 discharges the first processing liquid L1 onto the substrate S. On the contrary, while the gantry 210 is moved from the front of the support member 110 to the rear, jet nozzles 310b positioned at the rear of the gantry 210 is discharged first treatment liquid to the substrate S. After the first treatment liquid L1 is applied to the space between the patterns formed on the substrate S, the second treatment liquid L2 is applied. The coating nozzle 410 and the ink jet nozzles 310a and 310b are moved by a predetermined distance in the second direction (Y) after completing the discharge of the processing liquid in the first direction (X), and are moved to the substrate S region where the processing liquid is not discharged. The first and second processing liquids are sequentially discharged.

図１６の実施形態による場合、ガントリー２１０の１回移動に第１及び第２処理液Ｌ１、Ｌ２が吐出できるので、図１３の実施形態よりガントリー２１０の第１方向（Ｘ）への移動回数を減少させることができる。 If according to the embodiment of FIG. 16, the first and second treatment liquid L1, L2 in a single movement of the gantry 210 can be discharged, the number of movements in the first direction (X) of the gantry 210 from the embodiment of FIG. 13 Can be reduced.

以上の説明は、本発明の技術思想を例示的に説明するものに過ぎず、当業者であれば、本発明の本質的な特性を逸脱しない範囲で多様な修正及び変形が可能である。つまり、本発明の上述の実施形態は本発明の技術思想を限定するものではなく、単に説明するためのものであり、これらの実施形態によって本発明の技術思想の範囲は限定されない。本発明の保護範囲は特許請求の範囲によって解釈され、それと同等な範囲内にある全て技術思想は本発明の権利範囲に含まれる。   The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and various modifications and variations can be made by those skilled in the art without departing from the essential characteristics of the present invention. In other words, the above-described embodiments of the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but merely for explanation, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention is construed by the claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto are included in the scope of the right of the present invention.

１０ 基板処理装置
１００ 基板支持ユニット
２００ ガントリーユニット
３００ 第１処理液供給ユニット
４００ 第２処理液供給ユニット
５００ ビジョン検査ユニット
６００ ノズル洗浄ユニット DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate processing apparatus 100 Substrate support unit 200 Gantry unit 300 1st process liquid supply unit 400 2nd process liquid supply unit 500 Vision inspection unit 600 Nozzle cleaning unit

Claims (8)

基板を支持する基板支持ユニットと、
前記基板に第１処理液を吐出するインクジェットノズルと、
前記基板に第１処理液と異なる第２処理液を吐出するコーティングノズルと、
前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第１方向に直線移動させるガントリーユニットと、を含み、
前記ガントリーユニットは、
前記インクジェットノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動する第１ガントリーと、
前記コーティングノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動する第２ガントリーと、
上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に対して前記第１ガントリーの長さ方向が所定角度だけ傾いて配置されるように前記第１ガントリーを回転させるガントリー駆動部と、を含むことを特徴とする基板処理装置。 A substrate support unit for supporting the substrate;
An inkjet nozzle for discharging a first treatment liquid onto the substrate;
A coating nozzle for discharging a second processing liquid different from the first processing liquid to the substrate;
See containing and a gantry unit for linearly moving the ink jet nozzles and said coating nozzle in a first direction so that the position of the coating nozzle and the jet nozzle is changed relative to the substrate supporting unit,
The gantry unit is
A first gantry that supports the inkjet nozzle and moves linearly in the first direction from one side of the substrate support unit to the other side across the top of the substrate support unit;
A second gantry that supports the coating nozzle and moves linearly in the first direction from one side of the substrate support unit to the other side across the top of the substrate support unit;
A gantry driving unit that rotates the first gantry so that a length direction of the first gantry is inclined by a predetermined angle with respect to a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above; a substrate processing apparatus which comprises a. 前記第１ガントリーと前記第２ガントリーとは、前記基板支持ユニットの両側に互いに対向して前記第１方向に長く配置された一対のガイドレールに沿って直線移動することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。  2. The first gantry and the second gantry are linearly moved along a pair of guide rails that are long in the first direction so as to face each other on both sides of the substrate support unit. 2. The substrate processing apparatus according to 1. 前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第２処理液を吐出するスリットホールが前記第２方向に長く形成されたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。  The coating nozzle has a length direction arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and a slit hole for discharging the second treatment liquid is long in the second direction on the bottom surface. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is formed. 前記第１ガントリーには前記インクジェットノズルが複数個装着され、  A plurality of the inkjet nozzles are mounted on the first gantry,
前記インクジェットノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に配列され、  The inkjet nozzles are arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above,
前記第１ガントリーに対する前記インクジェットノズルの相対位置が変更されるように前記インクジェットノズルを前記第２方向に直線移動させるインクジェットノズル移動部をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。  The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an inkjet nozzle moving unit that linearly moves the inkjet nozzle in the second direction so that a relative position of the inkjet nozzle with respect to the first gantry is changed. . 前記インクジェットノズルは複数個が前記第２方向に配列されて１つの列を形成し、  A plurality of the inkjet nozzles are arranged in the second direction to form one row,
前記インクジェットノズルの列は少なくとも２つ以上設けられることを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。  The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein at least two rows of the inkjet nozzles are provided. 前記ガントリー駆動部は、  The gantry driving unit is
前記第１ガントリーの一端を回転中心として前記第１ガントリーの他端を回転させることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。  The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the other end of the first gantry is rotated with one end of the first gantry as a rotation center. 基板を支持する基板支持ユニットと、  A substrate support unit for supporting the substrate;
前記基板に第１処理液を吐出するインクジェットノズルと、  An inkjet nozzle for discharging a first treatment liquid onto the substrate;
前記基板に第１処理液と異なる第２処理液を吐出するコーティングノズルと、  A coating nozzle for discharging a second processing liquid different from the first processing liquid to the substrate;
前記基板支持ユニットに対して前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルの位置が変更されるように前記インクジェットノズルと前記コーティングノズルとを第１方向に直線移動させるガントリーユニットと、を含み、  A gantry unit that linearly moves the inkjet nozzle and the coating nozzle in a first direction so that the positions of the inkjet nozzle and the coating nozzle are changed with respect to the substrate support unit,
前記ガントリーユニットは、  The gantry unit is
前記コーティングノズルを支持し、前記基板支持ユニットの上部を横切って前記基板支持ユニットの一側から他側へと前記第１方向に直線移動するガントリーを含み、  A gantry that supports the coating nozzle and moves linearly in the first direction from one side of the substrate support unit to the other side across the top of the substrate support unit;
前記コーティングノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向にその長さ方向が配置され、底面には前記第２処理液を吐出するスリットホールが前記第２方向に長く形成され、  The coating nozzle has a length direction arranged in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and a slit hole for discharging the second treatment liquid is long in the second direction on the bottom surface. Formed,
前記第１方向に沿って前記コーティングノズルの前方と後方の各々の位置に、複数個の前記インクジェットノズルが前記第２方向に配列されることを特徴とする基板処理装置。  A substrate processing apparatus, wherein a plurality of the ink jet nozzles are arranged in the second direction at respective positions in front of and behind the coating nozzle along the first direction. 基板支持ユニットの上部をインクジェットノズルが第１方向に直線移動し、第１処理液を前記基板支持ユニットに支持された基板に吐出する第１処理液吐出段階と、  A first processing liquid discharge stage in which an inkjet nozzle moves linearly in a first direction above the substrate support unit and discharges the first processing liquid onto the substrate supported by the substrate support unit;
前記基板支持ユニットの上部をコーティングノズルが第１方向に直線移動し、前記第１処理液と異なる第２処理液を前記基板に吐出する第２処理液吐出段階と、を含み、  A second processing liquid discharge stage in which a coating nozzle moves linearly in a first direction above the substrate support unit and discharges a second processing liquid different from the first processing liquid onto the substrate;
前記第１処理液吐出段階と前記第２処理液吐出段階とは順次的に、且つ連続的に行われ、  The first treatment liquid discharge step and the second treatment liquid discharge step are performed sequentially and continuously,
前記インクジェットノズルは、前記第１方向に直線移動できる第１ガントリーに支持されて移動し、  The inkjet nozzle is supported and moved by a first gantry that can move linearly in the first direction,
前記コーティングノズルは、前記第１ガントリーと並んで配置され、前記第１方向に直線移動できる第２ガントリーに支持されて移動し、  The coating nozzle is arranged side by side with the first gantry and is supported and moved by a second gantry that can move linearly in the first direction.
前記インクジェットノズルは、上部からみたとき、前記第１方向と垂直になる第２方向に沿って複数個が一列に配列され、隣接する前記インクジェットノズルの間隔が固定され、  The inkjet nozzles are arranged in a line along a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and the interval between the adjacent inkjet nozzles is fixed,
前記第１ガントリーを所定角度回転させることで、前記第２方向の前記インクジェットノズルの間隔を変更させることを特徴とする基板処理方法。  A substrate processing method, wherein the interval between the inkjet nozzles in the second direction is changed by rotating the first gantry by a predetermined angle.
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