JP5574133B2 - Capacitive input device - Google Patents

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Description

本発明は、同一レイヤに配列された複数の透光性電極を備え、指等が接触した電極の位置を検出できる静電容量型入力装置に関するものである。   The present invention relates to a capacitance-type input device that includes a plurality of translucent electrodes arranged in the same layer and can detect the position of an electrode that is in contact with a finger or the like.

近年、携帯電話機や、携帯情報端末、カーナビゲーションシステムを始め、様々な電子機器の操作部にタッチパネルが採用されている。タッチパネルは、液晶パネル等の表示装置の表示画面上に、指等の接触位置を検出可能な入力装置を貼り合わせて構成される。タッチパネルを構成する入力装置には、その構造及び検出方式の違いにより、抵抗膜型や静電容量型等の様々なタイプがある。このうち、静電容量型入力装置は、1枚の基板上に透光性導電膜(透光性電極)を有し、指等がタッチすることによって形成される静電容量を介して流れる微弱電流量の変化を検出することによって被接触位置を特定するものであり、抵抗膜型入力装置と比べて、より高い透過率が得られるという利点がある。   In recent years, touch panels have been adopted for operation units of various electronic devices such as mobile phones, portable information terminals, and car navigation systems. The touch panel is configured by attaching an input device capable of detecting a contact position of a finger or the like on a display screen of a display device such as a liquid crystal panel. There are various types of input devices constituting the touch panel, such as a resistance film type and a capacitance type, depending on the structure and detection method. Among these, the capacitance-type input device has a light-transmitting conductive film (translucent electrode) on a single substrate and flows through a capacitance formed by touching a finger or the like. By detecting a change in the amount of current, the contacted position is specified, and there is an advantage that a higher transmittance can be obtained as compared with the resistance film type input device.

図6は、特許文献1に記載されている従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図7は、図6に示すVII−VIIラインの拡大断面図である。   FIG. 6 is a plan view showing a schematic configuration of a conventional capacitive input device described in Patent Document 1, and FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the VII-VII line shown in FIG.

静電容量型入力装置91は、基板92上に、X軸方向(図の上下方向)に延びる複数のX軸トレース93と、Y軸方向(図の左右方向)に延び、X軸トレース93と交差して配置される複数のY軸トレース94とを備え、X軸方向及びY軸方向における指等の接触位置をそれぞれ検出する。   The capacitive input device 91 has a plurality of X-axis traces 93 extending on the substrate 92 in the X-axis direction (vertical direction in the figure), and extending in the Y-axis direction (left-right direction in the figure). A plurality of Y-axis traces 94 arranged to intersect with each other, and detect the contact position of a finger or the like in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively.

X軸トレース93は、X軸方向に整列する複数の透明電極95を相互に連結することによって形成されている。一方、Y軸トレース94は、Y軸方向に間欠的に配置される複数の透明電極96を導電性の材料よりなるジャンパー99を介して電気的に接続することによって形成されている。ジャンパー99は、X軸トレースの一部(隣接する一対の透明電極95の連結部分)の上方を跨ぐように、X軸トレース93及びY軸トレース94上に積層された絶縁膜97上に形成され、透明電極96上に位置するスルーホール98を通じて透明電極96に接続されている。   The X-axis trace 93 is formed by interconnecting a plurality of transparent electrodes 95 aligned in the X-axis direction. On the other hand, the Y-axis trace 94 is formed by electrically connecting a plurality of transparent electrodes 96 arranged intermittently in the Y-axis direction via a jumper 99 made of a conductive material. The jumper 99 is formed on the insulating film 97 stacked on the X-axis trace 93 and the Y-axis trace 94 so as to straddle the upper part of a part of the X-axis trace (the connecting portion of the adjacent pair of transparent electrodes 95). The through hole 98 located on the transparent electrode 96 is connected to the transparent electrode 96.

このように、特許文献1に記載された構成では、X軸トレース93とこれを跨いで形成されるジャンパー99との間を絶縁するために、基板92の全面に絶縁膜を成膜し、ジャンパー99と透明電極96との接続箇所にのみスルーホール98を設けている。   As described above, in the configuration described in Patent Document 1, an insulating film is formed on the entire surface of the substrate 92 in order to insulate between the X-axis trace 93 and the jumper 99 formed across the X-axis trace 93. Through holes 98 are provided only at the connection points between 99 and the transparent electrode 96.

また、特許文献2には、基板の全面に絶縁膜を設ける代わりに、ジャンパーが跨ぐ部分にのみ絶縁膜を形成した構成が記載されている。   Further, Patent Document 2 describes a configuration in which an insulating film is formed only on a portion where a jumper straddles instead of providing an insulating film on the entire surface of the substrate.

登録実用新案第3144563号公報Registered Utility Model No. 3144563 登録実用新案第3144241号公報Registered Utility Model No. 3144241

上記の従来の静電容量型入力装置は、基板上に、透光性電極、絶縁膜、ジャンパー(導電体)をこの順に積層することにより形成される。この場合、次のような問題がある。   The above-described conventional capacitive input device is formed by laminating a translucent electrode, an insulating film, and a jumper (conductor) in this order on a substrate. In this case, there are the following problems.

第1に、ジャンパーが人に近い側(液晶パネルと反対側)に形成されるので、ジャンパーを金属光沢を有する導電材料で形成した場合、ジャンパーが見た目に目立ちやすくなってしまう。   First, since the jumper is formed on the side closer to the person (the side opposite to the liquid crystal panel), when the jumper is formed of a conductive material having a metallic luster, the jumper is easily noticeable.

第2に、絶縁膜の一部がオーバーハング状態にある場合、ジャンパーがオーバーハング部分を跨ぐ可能性が高く、ジャンパーの断線に繋がりやすいという問題がある。   Secondly, when a part of the insulating film is in an overhang state, there is a high possibility that the jumper straddles the overhang portion, and the jumper is likely to be disconnected.

図8は、図6に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図9は、図8に示すIX−IXラインの断面図である。   8 is a plan view for explaining a case where an overhang of the insulating film occurs in the capacitive input device shown in FIG. 6, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line IX-IX shown in FIG. It is.

スルーホール98は、基板92上の全体に渡って絶縁膜97を積層した後、その一部を選択的にエッチングすることによって形成される。しかしながら、エッチングの処理時間が長くなり過ぎると、絶縁膜97の表面から深い部分でエッチングがより進行して、図9の断面図に示すように、絶縁膜97の表面側の部分がスルーホール98の中心側に向かってせり出した形状(オーバーハング)となる場合がある。   The through hole 98 is formed by laminating an insulating film 97 over the entire substrate 92 and then selectively etching a part thereof. However, if the etching processing time becomes too long, the etching further proceeds deeper from the surface of the insulating film 97, and as shown in the cross-sectional view of FIG. There is a case where the shape protrudes toward the center side (overhang).

例えば、図8に示す矢印で示した範囲にオーバーハングが生じると、図9の二点鎖線で模式的に示すように、隣接する一対の透明電極96を接続するためのジャンパー99が断線し、Y軸トレース94の導通状態が得られなくなってしまう。ここで、スルーホールの半周にオーバーハングが生じると仮定すると、およそ50%の確率でジャンパー99の形成領域とオーバーハング領域とが重なるので、かなりの確率で断線が生じてしまうことがわかる。   For example, when an overhang occurs in a range indicated by an arrow shown in FIG. 8, as schematically shown by a two-dot chain line in FIG. 9, the jumper 99 for connecting a pair of adjacent transparent electrodes 96 is disconnected, The conduction state of the Y-axis trace 94 cannot be obtained. Here, if it is assumed that an overhang occurs in the half circumference of the through hole, the jumper 99 formation region and the overhang region overlap each other with a probability of approximately 50%, and it can be seen that the disconnection occurs with a considerable probability.

図10は、特許文献2に記載の従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図であり、図11は、図10に示すXI−XIラインの断面図である。   FIG. 10 is a plan view for explaining a case where an overhang of the insulating film occurs in the conventional capacitance type input device described in Patent Document 2, and FIG. 11 is a diagram of XI-XI shown in FIG. It is sectional drawing of a line.

同様の問題は、ジャンパー99がX軸トレース93を跨ぐ部分にのみ絶縁膜97を設けた特許文献2に記載の構造でも生じ得る。例えば、図10に矢印で示した範囲(絶縁膜97の短辺部分)にオーバーハングが生じると、図11の二点鎖線で模式的に示すように、ジャンパー99が断線してしまい、Y軸トレース94が導通しなくなる。   A similar problem may occur even in the structure described in Patent Document 2 in which the insulating film 97 is provided only in a portion where the jumper 99 straddles the X-axis trace 93. For example, when an overhang occurs in the range indicated by the arrow in FIG. 10 (the short side portion of the insulating film 97), the jumper 99 is disconnected as schematically shown by the two-dot chain line in FIG. Trace 94 no longer conducts.

それ故に、本発明は、同一レイヤに2軸方向の透光性電極を配列した構造であって、一方の軸方向の透光性電極を相互に接続するジャンパーが目立ちにくく、断線する可能性の低い構造を有する静電容量型入力装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has a structure in which biaxial translucent electrodes are arranged in the same layer, and the jumper that connects the translucent electrodes in one axial direction is not conspicuous and may be disconnected. An object of the present invention is to provide a capacitive input device having a low structure.

本発明に係る静電容量型入力装置は、基板と、基板の表面に形成され、第1の方向及びこれと直交する第2の方向に配列される複数の導電体と、複数の導電体の各々を部分的に覆うように、複数の導電体の各々に対して1対1で対応するように設けられる複数の絶縁膜と、第1及び第2の方向に配列される複数の第1の透光性電極と、第1及び第2の方向に配列されると共に、各々が第1の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第2の透光性電極とを備える。第1の方向に整列する第1の透光性電極の各々は、導電体のうち、絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、導電体によって相互に電気的に接続され、第2の方向に整列する第2の透光性電極の各々は、絶縁膜上において相互に接続され、第1の透光性電極の各々は、導電体のうち、絶縁膜によって覆われていない部分の全体を覆うように、絶縁膜の表面から基板の表面に渡って形成される。 A capacitance-type input device according to the present invention includes a substrate, a plurality of conductors formed on the surface of the substrate, arranged in a first direction and a second direction orthogonal thereto, and a plurality of conductors A plurality of insulating films provided so as to correspond to each of the plurality of conductors on a one-to-one basis so as to partially cover each of the plurality of conductors, and a plurality of first films arranged in the first and second directions A translucent electrode and a plurality of second translucent electrodes that are arranged in first and second directions and are respectively disposed between rows and columns of the first translucent electrode. Each of the first translucent electrodes aligned in the first direction is electrically connected to each other by the conductor by contacting a portion of the conductor that is not covered with the insulating film, and the second The second translucent electrodes aligned in the direction are connected to each other on the insulating film, and each of the first translucent electrodes is a portion of the conductor not covered by the insulating film. so that the entire covering, Ru is formed from the surface of the insulating film over the surface of the substrate.

本発明によれば、同一レイヤに複数の透光性電極を配列した静電容量型入力装置において、透光性電極同士を接続するために用いられる導電体が基板上(すなわち、入力装置の内部)に形成されるため、導電体を目立ちにくくすることができる。また、導電体のうち絶縁層で覆われていない部分の全体を覆うように第1の透光性電極の各々を形成することにより、絶縁膜の断面形状にかかわらず、導電体の断線を防止することが可能となる。   According to the present invention, in a capacitance-type input device in which a plurality of translucent electrodes are arranged in the same layer, a conductor used to connect the translucent electrodes is placed on the substrate (that is, the inside of the input device). ), The conductor can be made inconspicuous. Further, by forming each of the first translucent electrodes so as to cover the entire portion of the conductor that is not covered with the insulating layer, the conductor is prevented from being disconnected regardless of the cross-sectional shape of the insulating film. It becomes possible to do.

本発明の第1の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図The top view which shows schematic structure of the capacitive input device which concerns on the 1st Embodiment of this invention 図1に示すII−IIラインの拡大断面図The expanded sectional view of the II-II line shown in FIG. 図1に示すスルーホール近傍の拡大図Enlarged view of the vicinity of the through hole shown in FIG. 本発明の第2の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図The top view which shows schematic structure of the capacitive input device which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図4に示すV−Vラインの拡大端面図Enlarged end view of the VV line shown in FIG. 従来の静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図A plan view showing a schematic configuration of a conventional capacitance-type input device 図6に示すVII−VIIラインの拡大断面図VII-VII line enlarged sectional view shown in FIG. 図6に示す静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図The top view for demonstrating the case where the overhang of an insulating film generate | occur | produced in the electrostatic capacitance type input device shown in FIG. 図8に示すIX−IXラインの断面図Sectional drawing of the IX-IX line shown in FIG. 従来の静電容量型入力装置において、絶縁膜のオーバーハングが発生した場合を説明するための平面図The top view for demonstrating the case where the overhang of an insulating film generate | occur | produced in the conventional electrostatic capacitance type input device 図10に示すXI−XIラインの断面図Sectional drawing of the XI-XI line shown in FIG.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図2は、図1に示すII−IIラインの拡大断面図である。また、図3は、図1に示すスルーホール近傍の拡大図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of the capacitive input device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along the line II-II shown in FIG. FIG. 3 is an enlarged view of the vicinity of the through hole shown in FIG.

静電容量型入力装置1は、基板2と、複数のジャンパー8と、絶縁膜6と、複数の第1の透光性電極3と、複数の第2の透光性電極4とを備える。ジャンパー8、絶縁膜6、透光性電極(第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4)は、基板2上にこの順序で形成されたものである。   The capacitive input device 1 includes a substrate 2, a plurality of jumpers 8, an insulating film 6, a plurality of first light-transmissive electrodes 3, and a plurality of second light-transmissive electrodes 4. The jumper 8, the insulating film 6, and the translucent electrodes (the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4) are formed on the substrate 2 in this order.

ジャンパー8は、導電性を有する材料によって形成され、基板2の表面に行列上に配列されている。ジャンパー8の各々は、第1の透光性電極3をX軸方向に接続するためのものであり、両端部がX軸方向に隣接する一対の第1の透光性電極3の各々と重なり合うような位置及び寸法に形成されている。ジャンパー8は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、Mo/Al/Moの積層体、Ag、Ag合金、導電性高分子により形成することができる。   The jumpers 8 are formed of a conductive material, and are arranged in a matrix on the surface of the substrate 2. Each of the jumpers 8 is for connecting the first translucent electrode 3 in the X-axis direction, and both end portions thereof overlap with each of the pair of first translucent electrodes 3 adjacent in the X-axis direction. These positions and dimensions are formed. The jumper 8 can be made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), a Mo / Al / Mo laminate, Ag, an Ag alloy, or a conductive polymer.

絶縁膜6は、絶縁材料をジャンパー8及び基板2の表面全体を覆うように積層することにより形成され、第1の透光性電極3とジャンパー8とが重なり合う部分には、ジャンパー8の表面にまで達するスルーホール7が設けられている。   The insulating film 6 is formed by laminating an insulating material so as to cover the entire surface of the jumper 8 and the substrate 2, and a portion where the first translucent electrode 3 and the jumper 8 overlap is formed on the surface of the jumper 8. Through holes 7 reaching up to are provided.

第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4は、同一レイヤ内で、X軸方向及びこれと直交するY軸方向にマトリクス状に配列されている。第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4は、ITO等の透光性の導電材料を用いて、同一工程で形成される。   The first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4 are arranged in a matrix in the same layer in the X-axis direction and the Y-axis direction orthogonal thereto. The first translucent electrode 3 and the second translucent electrode 4 are formed in the same process using a translucent conductive material such as ITO.

第1の透光性電極3の各々は、図1に示されるように、絶縁膜6上においてはX軸方向及びY軸方向のいずれにも相互に接続されていないが、スルーホール7を介して基板2上のジャンパー8に接続されている。この結果、X軸方向に整列する第1の透光性電極3が相互に電気的に接続された状態となる。   As shown in FIG. 1, each of the first translucent electrodes 3 is not connected to either the X axis direction or the Y axis direction on the insulating film 6, but through the through hole 7. Are connected to a jumper 8 on the substrate 2. As a result, the first translucent electrodes 3 aligned in the X-axis direction are electrically connected to each other.

一方、第2の透光性電極4の各々は、第1の透光性電極3の行間及び列間に配置され、絶縁膜6上において、第2の透光性電極4と同時にパターニングされる接続部5を介してY軸方向に相互に連結されている。   On the other hand, each of the second translucent electrodes 4 is disposed between the rows and the columns of the first translucent electrodes 3 and patterned on the insulating film 6 simultaneously with the second translucent electrodes 4. They are connected to each other in the Y-axis direction via the connecting portion 5.

X軸方向に接続される第1の透光性電極3と、Y軸方向に接続される第2の透光性電極4とを同一レイヤに配列する場合、交差部分が生じるため、いずれか一方向の接続を行うためにジャンパー8のような配線部が必要となる。本実施形態に係る静電容量型入力装置1では、ジャンパー8を基板2の表面に形成し、その上方に絶縁膜6と第1及び第2の透光性電極3及び4を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー8を目立ちにくくすることができる。   When the first translucent electrode 3 connected in the X-axis direction and the second translucent electrode 4 connected in the Y-axis direction are arranged in the same layer, an intersecting portion is generated. In order to make a connection in the direction, a wiring portion such as a jumper 8 is required. In the capacitive input device 1 according to the present embodiment, the jumper 8 is formed on the surface of the substrate 2, and the insulating film 6 and the first and second translucent electrodes 3 and 4 are formed thereon. Therefore, the jumper 8 can be made inconspicuous when viewed from the front side.

本実施形態では、スルーホール7の開口部全体が第1の透光性電極3によって覆われているため、例えば、図3に示す矢印の範囲に絶縁膜のオーバーハング(図9参照)が生じた場合でも、オーバーハングのないスルーホール7の内壁に沿って第1の透光性電極3がジャンパー8の表面に到達することができる。したがって、スルーホール7内壁の断面形状にかかわらず、ジャンパー8の断線を防止することができる。   In the present embodiment, since the entire opening of the through hole 7 is covered with the first translucent electrode 3, for example, an overhang of the insulating film (see FIG. 9) occurs in the range of the arrow shown in FIG. Even in this case, the first translucent electrode 3 can reach the surface of the jumper 8 along the inner wall of the through hole 7 without overhang. Therefore, disconnection of the jumper 8 can be prevented regardless of the cross-sectional shape of the inner wall of the through hole 7.

上述したように、ジャンパー8は導電性を有する様々な材料によって形成することができるが、遮光性を有する材料を用いる場合、更に以下のような利点がある。   As described above, the jumper 8 can be formed of various conductive materials. However, when a light-shielding material is used, there are the following advantages.

ジャンパー8を遮光性材料で形成する場合、ジャンパー8のパターニングと同一工程で、ジャンパー8と同一材料を用いて基板2上に位置決め用のアライメントマークを形成することができる。この結果、アライメントマーク形成プロセスを削減することができると共に、2層目以降の膜を形成するために用いる露光機に特段の改造を施すことなく、標準的な読み取り機構を用いて露光時の位置決めをすることが可能となる。   When the jumper 8 is formed of a light-shielding material, a positioning alignment mark can be formed on the substrate 2 using the same material as the jumper 8 in the same process as the patterning of the jumper 8. As a result, it is possible to reduce the alignment mark formation process, and positioning at the time of exposure using a standard reading mechanism without any special modification to the exposure machine used to form the second and subsequent layers. It becomes possible to do.

また、2層目以降の膜の形成時に顕微鏡等で目視確認して位置合わせを行う場合、1層目のジャンパー8が遮光性材料で形成されていることによって、視認性が向上するので、位置合わせを容易に行うことが可能となる。   In addition, when the alignment is performed by visually confirming with a microscope or the like when forming the second and subsequent layers, the visibility is improved because the first-layer jumper 8 is formed of a light-shielding material. It is possible to easily perform alignment.

更に、遮光性材料として導電性高分子材料を採用することもできる。一般に、高分子膜は、透光性と導電性がトレードオフの関係にあるが、ジャンパー8が形成される限られた範囲であれば遮光性があっても入力装置全体の光透過性に与える影響は小さい。また、導電性についても、ITO程度の抵抗値を有する材料であれば良いため、生産性の高い導電性高分子を利用することができる。   Furthermore, a conductive polymer material can be employed as the light shielding material. In general, a polymer film has a trade-off relationship between translucency and conductivity. However, as long as the jumper 8 is formed in a limited range, even if there is a light-shielding property, it gives the light transmittance of the entire input device. The impact is small. In addition, regarding the conductivity, any material having a resistance value comparable to that of ITO may be used, so that a highly conductive conductive polymer can be used.

遮光性材料として金属を用いる場合、ジャンパー8と、基板2上の図示しない金属配線層(透光性電極に接続される配線等)とを、1工程で同時にパターニングすることができるので、工程数を削減してコストダウンを図ることも可能となる。   When a metal is used as the light-shielding material, the jumper 8 and a metal wiring layer (not shown) on the substrate 2 (wiring connected to the translucent electrode, etc.) can be patterned simultaneously in one process. It is also possible to reduce costs by reducing the cost.

(第2の実施形態)
図4は、本発明の第2の実施形態に係る静電容量型入力装置の概略構成を示す平面図であり、図5は、図4に示すV−Vラインの拡大端面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of a capacitive input device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is an enlarged end view of the VV line shown in FIG.

本実施形態に係る静電容量型入力装置は、第1の実施形態と同様に、基板2上にジャンパー8、絶縁膜6、透光性電極(第1の透光性電極3及び第2の透光性電極4)を順に積層して構成されているが、絶縁膜6の形成領域が第1の実施形態とは相違する。以下、本実施形態と第1の実施形態との相違点を中心に説明する。   As in the first embodiment, the capacitive input device according to the present embodiment has a jumper 8, an insulating film 6, and a translucent electrode (the first translucent electrode 3 and the second translucent electrode) on the substrate 2. Although the transparent electrode 4) is sequentially laminated, the region where the insulating film 6 is formed is different from that of the first embodiment. Hereinafter, the difference between the present embodiment and the first embodiment will be mainly described.

本実施形態では、隣接する第2の透光性電極4を接続する接続部5と交差する部分にのみ絶縁膜6が設けられている。より詳細には、絶縁膜6は、ジャンパー8と隣接する第1の透光性電極3の各々とが重なり合う部分のうち一部(斜線部)を除いて、ジャンパー8の各々を部分的に覆うように形成されている。尚、本実施形態では、ジャンパー8の両方の端部に絶縁膜6で覆われていない部分が設けられているが、絶縁膜6で覆われない領域は、必ずしも端部である必要はなく、ジャンパー8と透光性電極との重なり部分の一部であれば良い。   In the present embodiment, the insulating film 6 is provided only in a portion that intersects with the connection portion 5 that connects the adjacent second translucent electrodes 4. More specifically, the insulating film 6 partially covers each of the jumpers 8 except for a part (shaded portion) of a portion where the jumper 8 and each of the adjacent first translucent electrodes 3 overlap. It is formed as follows. In the present embodiment, both end portions of the jumper 8 are provided with portions that are not covered with the insulating film 6, but the region that is not covered with the insulating film 6 does not necessarily have to be end portions. What is necessary is just to be a part of the overlap part of the jumper 8 and a translucent electrode.

また、第1の透光性電極3の各々は、ジャンパー8の表面のうち、絶縁膜6によって覆われていない一部(斜線部)の全体を覆うように形成され、ジャンパー8の当該一部に当接する。これにより、X軸方向に整列する第1の透光性電極3が相互に電気的に接続された状態となる。一方、Y軸方向に整列する第2の透光性電極4の各々は、ジャンパー8を覆う絶縁膜6上において、接続部5を介して接続されている。   In addition, each of the first translucent electrodes 3 is formed so as to cover a part of the surface of the jumper 8 that is not covered by the insulating film 6 (shaded portion), and the part of the jumper 8 is covered. Abut. As a result, the first translucent electrodes 3 aligned in the X-axis direction are electrically connected to each other. On the other hand, each of the second translucent electrodes 4 aligned in the Y-axis direction is connected via the connection portion 5 on the insulating film 6 covering the jumper 8.

本実施形態に係る静電容量型入力装置1においても、ジャンパー8を基板2の表面に形成し、その上に絶縁膜6と第1及び第2の透光性電極3及び4を形成しているため、表面側から見た際にジャンパー8を目立ちにくくすることができる。   Also in the capacitive input device 1 according to the present embodiment, the jumper 8 is formed on the surface of the substrate 2, and the insulating film 6 and the first and second translucent electrodes 3 and 4 are formed thereon. Therefore, the jumper 8 can be made inconspicuous when viewed from the front side.

また、本実施形態に係る静電容量型入力装置1では、絶縁膜6によって覆われていないジャンパー8の一部と、第1の透光性電極3とが面接触できるので、エッチング処理によって、図5の断面に示すように、オーバーハング(絶縁膜6の外周壁の断面のうち、絶縁膜6の表面側の部分がより外方にせり出した状態)が生じた場合でも、第1の透光性電極3とジャンパー8との接続を確保することができる。   Further, in the capacitive input device 1 according to the present embodiment, a part of the jumper 8 that is not covered with the insulating film 6 and the first translucent electrode 3 can be in surface contact with each other. As shown in the cross section of FIG. 5, even when an overhang (a state in which the surface side portion of the insulating film 6 protrudes further outward in the cross section of the outer peripheral wall of the insulating film 6) occurs, The connection between the photoelectrode 3 and the jumper 8 can be ensured.

尚、上記の各実施形態では、透光性電極のX軸方向の接続をジャンパーを介して行った例を示したが、図1の例のX軸とY軸とを逆にして、X軸方向の透光性電極の接続を接続部を介して行い、Y軸方向の透光性電極の接続をジャンパーで行っても良い。   In each of the above embodiments, the example in which the translucent electrode is connected in the X-axis direction via the jumper is shown. However, the X-axis and the Y-axis in the example of FIG. The translucent electrode in the direction may be connected through the connecting portion, and the translucent electrode in the Y-axis direction may be connected with a jumper.

本発明は、各種電子機器の入出力機器として用いられるタッチパネル等を構成するために利用できる。   The present invention can be used to configure a touch panel used as an input / output device of various electronic devices.

1 静電容量型入力装置
2 基板
3 第1の透光性電極
4 第2の透光性電極
6 絶縁膜
7 スルーホール
8 ジャンパー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Capacitance type input device 2 Board | substrate 3 1st translucent electrode 4 2nd translucent electrode 6 Insulating film 7 Through hole 8 Jumper

Claims (7)

静電容量型入力装置であって、
基板と、
前記基板の表面に形成され、第1の方向及びこれと直交する第2の方向に配列される複数の導電体と、
複数の前記導電体の各々を部分的に覆うように、複数の前記導電体の各々に対して1対1で対応するように設けられる複数の絶縁膜と、
前記第1及び第2の方向に配列される複数の第1の透光性電極と、
前記第1及び第2の方向に配列されると共に、各々が前記第1の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第2の透光性電極とを備え、
前記第1の方向に整列する前記第1の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分に当接することで、前記導電体によって相互に電気的に接続され、
前記第2の方向に整列する前記第2の透光性電極の各々は、前記絶縁膜上において相互に接続され
前記第1の透光性電極の各々は、前記導電体のうち、前記絶縁膜によって覆われていない部分の全体を覆うように、前記絶縁膜の表面から前記基板の表面に渡って形成される、静電容量型入力装置。
A capacitive input device,
A substrate,
A plurality of conductors formed on the surface of the substrate and arranged in a first direction and a second direction perpendicular thereto;
A plurality of insulating films provided to have a one-to-one correspondence with each of the plurality of conductors so as to partially cover each of the plurality of conductors;
A plurality of first translucent electrodes arranged in the first and second directions;
A plurality of second translucent electrodes arranged in the first and second directions, each disposed between rows and columns of the first translucent electrodes,
Each of the first translucent electrodes aligned in the first direction is in contact with a portion of the conductor that is not covered with the insulating film, thereby being electrically connected to each other by the conductor. Connected,
Each of the second translucent electrodes aligned in the second direction is connected to each other on the insulating film ,
Each of the first translucent electrodes is formed from the surface of the insulating film to the surface of the substrate so as to cover the entire portion of the conductor that is not covered with the insulating film. , Capacitive input device.
前記絶縁膜は、前記導電体の表面と前記基板の表面とに渡って形成される、請求項1に記載の静電容量型入力装置。   The capacitive input device according to claim 1, wherein the insulating film is formed across a surface of the conductor and a surface of the substrate. 前記第2の透光性電極の各々は、前記絶縁膜の表面と前記基板の表面とに渡って形成される、請求項1または2に記載の静電容量型入力装置。   3. The capacitive input device according to claim 1, wherein each of the second translucent electrodes is formed across a surface of the insulating film and a surface of the substrate. 前記導電体は、遮光性を有する材料よりなる、請求項1〜のいずれかに記載の静電容量型入力装置。 The conductor is made of a light-shielding material, capacitive input device according to any one of claims 1-3. 前記基板上に、前記導電体と同一材料より形成され、製造時の位置決めに用いられるアライメントマークを更に備える、請求項に記載の静電容量型入力装置。 The capacitance-type input device according to claim 4 , further comprising an alignment mark formed on the substrate from the same material as the conductor and used for positioning during manufacturing. 前記導電体の材料が金属であり、
前記基板上に、前記導電体と同一材料より形成され、前記第1の透光性電極及び前記第2の透光性電極に接続される金属配線層を更に備える、請求項1〜のいずれかに記載の静電容量型入力装置。
The material of the conductor is a metal;
The metal wiring layer which is formed from the same material as the said conductor on the said board | substrate, and is further connected to a said 1st translucent electrode and a said 2nd translucent electrode, The any one of Claims 1-5 The capacitance-type input device according to the above.
前記第2の方向における前記導電体の幅は、隣接する前記第2の透光性電極を接続する接続部の前記第1の方向における幅より小さい、請求項6に記載の静電容量型入力装置。The capacitance-type input according to claim 6, wherein a width of the conductor in the second direction is smaller than a width in the first direction of a connection portion that connects the adjacent second translucent electrodes. apparatus.
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