JP5570793B2 - リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド - Google Patents
リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド Download PDFInfo
- Publication number
- JP5570793B2 JP5570793B2 JP2009276066A JP2009276066A JP5570793B2 JP 5570793 B2 JP5570793 B2 JP 5570793B2 JP 2009276066 A JP2009276066 A JP 2009276066A JP 2009276066 A JP2009276066 A JP 2009276066A JP 5570793 B2 JP5570793 B2 JP 5570793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphorus
- group
- carbon atoms
- benzene ring
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
で表わされるリン含有テトラカルボン酸二無水物に関する。
で表わされる繰り返し単位を有するリン含有ポリイミドに関する。
本発明の一般式(I)で表わされるリン含有テトラカルボン酸二無水物は、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と下記式(1):
で表わされるリン化合物とを反応させることにより得ることができる。
で表わされるリン含有テトラカルボン酸二無水物を得ることができる。具体例としては、下記式(Ia):
本発明の難燃性のリン含有ポリイミドの製造は、まずその前駆体である下記一般式(III):
で表わされる繰り返し単位を有するリン含有ポリアミド酸を製造する。リン含有ポリアミド酸の製造は、上記の方法で得られたリン含有テトラカルボン酸二無水物と、式:H2N−R3−NH2で表わされるジアミン成分とを公知の方法で重合することによって製造できる。通常、重合反応は溶媒中で5〜80重量%、好ましくは10〜50重量%の溶質濃度で行われる。反応終了後、反応溶液は、そのままリン含有ポリアミド酸溶液(ワニス)として、続くイミド化反応で使用することができる。また、反応溶液からリン含有ポリアミド酸を単離し、次いで適切な溶媒に再溶解し、リン含有ポリアミド酸溶液を調製してもよい。
本発明の難燃性のリン含有ポリイミドの製造は、上記のようにして得られたリン含有ポリアミド酸を公知の方法によって脱水することによって製造される。例えば、リン含有ポリアミド酸溶液を、ガラス板、銅、アルミ、又はステンレス等の金属箔、あるいはポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリイミド、シリコン樹脂、又はフッ素樹脂等の樹脂フィルムなどの基材上に、乾燥後の厚みが0.1〜250μm、より好ましくは1.0〜100μmになるように塗布し、40〜500℃、より好ましくは70〜350℃で1分〜5時間、より好ましくは3分〜3時間乾燥させることによって、リン含有ポリイミドを得ることができる。得られたポリイミドは、基材から剥がしてフィルム形態として、又はそのまま積層体として使用することができる。
一般式(I)(R 1 及びR 2 が共にフェニル基である)で表わされるリン含有テトラカルボン酸二無水物の合成
攪拌機、温度計、窒素導入管及び冷却管を備えた四つ口フラスコに、ジフェニルホスフィンオキシド(アルドリッチ)2.8g(0.014mol)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(ダイセル化学社製)3.5g(0.011mol)及びトルエン25gを仕込み、窒素気流下、110℃で4時間攪拌した。反応終了後トルエンを全量留去し、80℃まで冷却した後、アセトニトリル10gを添加した。室温まで冷却後、析出した固体を濾別し、トルエンおよびアセトニトリルで洗浄した。得られた固体を60℃で一晩乾燥することで、粗精製物2.8gを純度94.2%で得た。この粗精製物をアセトニトリルで加熱洗浄することで、精製物を純度97.5%、融点151℃で得た。精製物の1H-NMRを図1に、13C-NMRを図2に、FT-IRチャートを図3に示す。
一般式(II)(R 1 及びR 2 が共にフェニル基であり、R 3 がジフェニルエーテル−4,4’−ジイルである)で表わされるリン含有ポリイミドの合成
温度計、窒素導入管を備えた四つ口フラスコに、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(和歌山精化社製)10.0118g(0.05mol)、実施例1で合成したリン含有テトラカルボン酸二無水物26.2207g(0.05mol)、NMP205gを仕込み、窒素気流下、室温で12時間撹拌を行い、リン含有ポリアミド酸を合成した。反応溶液(溶質濃度15%、粘度(B型粘度計:東京計器製)5,500mPa・s)をそのまま、リン含有ポリアミド酸溶液として使用した。得られたリン含有ポリアミド酸溶液をガラス板上に、乾燥後の厚みが25μmになるように塗布を行い、90℃、130℃、180℃各温度30分間乾燥を行ったのち、ガラス板から剥がし金属枠に固定して200℃、250℃各温度1時間熱処理を行った。厚み25μmのフィルム形態のリン含有ポリイミドを得た。
一般式(II)(R 1 及びR 2 が共にフェニル基であり、R 3 が1,4−フェニレンオキシ−ビフェニル−4,4’−ジイルオキシ−1,4−フェニレンである)で表わされるリン含有ポリイミドの合成
温度計、窒素導入管を備えた四つ口フラスコに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物8.5602g(0.027mol)、ジフェニルホスフィンオキシド(DPO)5.3713g(0.027mol)、ジグリム47.4gを仕込み、160℃で3時間加熱を行い、リン含有テトラカルボン酸二無水物を合成した。この酸二無水物を含む溶液を室温まで冷却し、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)9.7876g(0.027mol)、NMP47.4gを仕込み、窒素気流下、室温で12時間撹拌を行い、リン含有ポリアミド酸を合成した。反応溶液(溶質濃度20%、粘度(B型粘度計:東京計器製)8,000mPa・s)をそのまま、リン含有ポリアミド酸溶液として使用した。実施例2と同様にガラス板への塗布、乾燥及び熱処理を行い、厚み20μmのフィルム形態のリン含有ポリイミドを得た。
温度計、窒素導入管を備えた四つ口フラスコに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物16.1113g(0.05mol)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル10.0118g(0.05mol)、NMP148gを仕込み、窒素気流下、室温で12時間撹拌を行い、リン含有ポリアミド酸を合成した。反応溶液(溶質濃度15%、粘度(B型粘度計:東京計器製)12,000mPa・s)をそのまま、ポリアミド酸溶液として使用した。実施例2と同様にガラス板への塗布、乾燥及び熱処理を行い、厚み20μmのフィルム形態のリンを含有しないポリイミドを得た。
ジアミン化合物を4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)18.4214g(0.05mol)に変更する以外は比較例1と同様の操作を行い、厚み20μmのフィルム形態のリンを含有しないポリイミドを得た。
実施例2及び3、並びに比較例1及び2で得られたポリイミドの評価を行った。結果を表1に示す。
金属積層体の製造
実施例2で製造したリン含有ポリアミド酸溶液を、厚み18μmの銅箔(三井金属(株)製、3EC−VLP)上に、乾燥後の樹脂の厚みが25μmになるように塗布を行い、90℃、130℃、180℃各温度30分間乾燥を行ったのち、真空乾燥機中で250℃、1時間の熱処理を行い、リン含有ポリイミド/金属積層体を得た。
芳香族ポリマー積層体の製造
実施例2で製造したリン含有ポリアミド酸溶液を、厚み25μmの芳香族ポリイミドフィルム(デュポン(株)製、カプトン(登録商標)H)上に、乾燥後の樹脂の厚みが25μmになるように塗布を行い、90℃、130℃、180℃各温度30分間乾燥を行ったのち、乾燥機中で250℃、1時間の熱処理を行い、リン含有ポリイミド/芳香族ポリマー積層体を得た。
芳香族ポリマー金属複合積層体の製造
実施例2で製造したリン含有ポリアミド酸溶液を、厚み18μmの銅箔(三井金属(株)製、3EC−VLP)上に、乾燥後の樹脂の厚みが5μmになるように塗布を行い、160℃の温度で3分間乾燥を行った。次いで、塗布面に厚み40μmの芳香族ポリイミドフィルム(デュポン(株)製、カプトン(登録商標)EN)を重ね、200℃の温度でラミネートを行った。得られた積層体を350℃の温度で熱処理を行い、金属/リン含有ポリイミド/芳香族ポリマー複合積層体を得た。
Claims (11)
- 一般式(I)において、R1及びR2が、共にフェニル基であるか、又はR1とR2の一方がフェニル基であり、他方がフェノキシ基であって、それぞれのベンゼン環上の炭素原子の一つが、互いに単結合で結ばれている(ここで、ベンゼン環上の水素原子の少なくとも一つが、炭素数1〜6のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されていてもよい)、請求項1に記載のリン含有テトラカルボン酸二無水物。
- 下記一般式(II):
(式中、
R1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、フェニル基又はフェノキシ基であり、
ここでR1とR2それぞれのベンゼン環上の水素原子の少なくとも一つが、炭素数1〜6のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されていてもよく、及び/又はR1とR2それぞれのベンゼン環上の炭素原子の一つが、互いに単結合で結ばれていてもよく、
R3は、2価の有機基である)
で表される繰り返し単位を有する、リン含有ポリイミド
[但し、
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて得られるポリアミド酸を、下記一般式(1):
(式中、R 1 及びR 2 は、同一であっても異なっていてもよく、フェニル又はフェノキシ基であり、
ここで、R 1 とR 2 のベンゼン環上の水素原子の少なくとも一つが、炭素数1〜6のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されていてもよく、及び/又はR 1 とR 2 それぞれのベンゼン環上の炭素原子の一つが、互いに単結合で結ばれていてもよい)
で表されるリン化合物の存在下、イミド化することを特徴とする、含リンポリイミドの製造方法により得られる含リンポリイミドを除く]。 - 一般式(II)において、R1及びR2が、共にフェニル基であるか、又はR1とR2の一方がフェニル基であり、他方がフェノキシ基であって、それぞれのベンゼン環上の炭素原子の一つが、互いに単結合で結ばれている(ここで、ベンゼン環上の水素原子の少なくとも一つが、炭素数1〜6のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されていてもよい)、請求項4記載のリン含有ポリイミド。
- 請求項4又は5記載のリン含有ポリイミドの少なくとも片面に金属箔を積層させてなる金属積層体。
- 請求項4又は5記載のリン含有ポリイミドの少なくとも片面に芳香族ポリマーを積層させてなる芳香族ポリマー積層体。
- 請求項4又は5記載のリン含有ポリイミドを介して、金属箔と芳香族ポリマーとを積層させてなる芳香族ポリマー金属複合積層体。
- 請求項6記載の金属積層体からなる電子回路。
- 請求項8記載の金属複合積層体からなる電子回路。
- 下記一般式(III):
(式中、R 1 及びR 2 は、同一であっても異なっていてもよく、フェニル基又はフェノキシ基であり、ここでR 1 とR 2 それぞれのベンゼン環上の水素原子の少なくとも一つが、炭素数1〜6のアルキル基若しくはアルコキシル基で置換されていてもよく、及び/又はR 1 とR 2 それぞれのベンゼン環上の炭素原子の一つが、互いに単結合で結ばれていてもよく、R 3 は二価の有機基を表す)
で表わされる繰り返し単位を有するリン含有ポリアミド酸を、熱的又は化学的にイミド化させることを特徴とする、下記一般式(II):
(式中、R 1 、R 2 及びR 3 は、上記一般式(III)と同義である)
で表される繰り返し単位を有する、リン含有ポリイミドの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009276066A JP5570793B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド |
PCT/JP2010/071701 WO2011068207A1 (ja) | 2009-12-04 | 2010-12-03 | リン含有ポリイミド及びその製造方法 |
CN201080054983.7A CN102639547B (zh) | 2009-12-04 | 2010-12-03 | 含磷聚酰亚胺及其制造方法 |
CN201410643564.7A CN104478932B (zh) | 2009-12-04 | 2010-12-03 | 含磷聚酰亚胺及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009276066A JP5570793B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011116706A JP2011116706A (ja) | 2011-06-16 |
JP5570793B2 true JP5570793B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=44282463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009276066A Active JP5570793B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5570793B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113667184B (zh) * | 2021-09-07 | 2022-08-05 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种双亲性相容剂及其制备方法及一种聚碳酸酯-聚丙烯合金材料 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3222378A (en) * | 1963-06-24 | 1965-12-07 | Pennsalt Chemicals Corp | Phthalimidomethyl phosphorus compounds |
US6841652B2 (en) * | 2001-05-17 | 2005-01-11 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Space environmentally durable polyimides and copolyimides |
JP2006251715A (ja) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Kaneka Corp | 難燃性を有する感光性樹脂組成物及び感光性ドライフィルムレジスト |
JP4918057B2 (ja) * | 2008-03-14 | 2012-04-18 | マナック株式会社 | 含リンエステル基含有テトラカルボン酸またはその二無水物及び含リンポリエステルイミド |
JP5489682B2 (ja) * | 2009-12-04 | 2014-05-14 | マナック株式会社 | 含リンポリイミドの製造方法 |
-
2009
- 2009-12-04 JP JP2009276066A patent/JP5570793B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011116706A (ja) | 2011-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI716524B (zh) | 覆銅積層體及印刷線路板 | |
JP7044200B2 (ja) | ポリイミド、接着剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法 | |
JP2018172685A (ja) | ポリイミド前駆体、及びポリイミド | |
CN108690194B (zh) | 聚酰亚胺、胶粘剂、胶粘材料、胶粘层、胶粘片、铜箔、覆铜层叠板、布线板及制造方法 | |
CN108690552B (zh) | 胶粘剂、胶粘材料、胶粘层、胶粘片、铜箔、覆铜层叠板、布线板及制造方法 | |
JP4918057B2 (ja) | 含リンエステル基含有テトラカルボン酸またはその二無水物及び含リンポリエステルイミド | |
JP2024040228A (ja) | 金属張積層板の製造方法 | |
WO2016013403A1 (ja) | ポリイミド、ポリアミド酸、樹脂組成物、及びフレキシブルディスプレイ用基板 | |
TW202012501A (zh) | 樹脂膜、覆蓋膜、電路基板、帶樹脂的銅箔、覆金屬層壓板、多層電路基板、聚醯亞胺及黏接劑樹脂組成物 | |
JP2020055299A (ja) | 金属張積層板及び回路基板 | |
JP2018168369A (ja) | ポリイミド、接着剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法 | |
JP2021160148A (ja) | 樹脂フィルム、金属張積層板及び回路基板 | |
JP2008308551A (ja) | 新規ポリアミド酸、ポリイミド並びにその用途 | |
JP2019172989A (ja) | ポリイミド、接着剤、架橋剤、フィルム状接着材、接着層、接着シート、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板、並びに多層配線板及びその製造方法 | |
JP2021161387A (ja) | ポリイミド、架橋ポリイミド、接着剤フィルム、積層体、カバーレイフィルム、樹脂付き銅箔、金属張積層板、回路基板及び多層回路基板 | |
JP2008303372A (ja) | 非対称構造を有するポリイミド前駆体、ポリイミドおよびそれらの製造方法 | |
JP5570793B2 (ja) | リン含有テトラカルボン酸二無水物及び難燃性ポリイミド | |
JP5555007B2 (ja) | リン含有ジアミン化合物および難燃性ポリイミド | |
JP5489682B2 (ja) | 含リンポリイミドの製造方法 | |
CN106032406B (zh) | 聚合物、绝缘膜以及软性铜箔基板 | |
WO2011068207A1 (ja) | リン含有ポリイミド及びその製造方法 | |
TW200401703A (en) | Metallic laminate | |
JP2023097185A (ja) | ポリイミド組成物、架橋ポリイミド、接着剤フィルム、積層体、カバーレイフィルム、樹脂付き銅箔、金属張積層板、回路基板及び多層回路基板 | |
WO2023190687A1 (ja) | フレキシブル配線基板用ポリイミド前駆体組成物、ポリイミドフィルムおよびポリイミド金属積層体 | |
JP2022101116A (ja) | ポリイミド、接着剤フィルム、積層体、カバーレイフィルム、樹脂付き銅箔、金属張積層板、回路基板及び多層回路基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20140401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140529 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5570793 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |