JP5561729B2 - カーボン材料の表面酸化方法 - Google Patents
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Description
カーボン材料表面の酸化処理方法としては、気相中での処理法と液相中での処理方法があるが、前者の気相中での表面処理としては、プラズマへの暴露、あるいはイオンビームを用いる等の高エネルギー粒子を用いる処理や、酸素雰囲気下における500℃以上での加熱処理、また真空下における1000℃以上での加熱処理があるが、ダイヤモンド結晶への欠陥生成や結晶表面への凹凸発生する欠点があった。
一方、液相中でのダイヤモンド表面処理として、例えば特許文献2にあるように、クロム酸と濃硫酸の飽和溶液中で200℃まで加熱して酸化処理を施す方法がある。
例えば、特許文献3では、形成されたDLC膜の表面にプラズマを照射することにより反応性の部位を前記DLC薄膜の表面に生起させるプラズマ照射工程と、前記反応性の部位と酸素を含む分子とを反応させることにより、前記DLC薄膜の表面に水酸基を導入する表面修飾工程とを備えている医療用材料の製造方法が記載されている。
また、特許文献2、4に記載された酸を用いる方法は、結晶への欠陥生成はないものの、加熱する必要があり、特に、混酸を用いた場合には、水分や酸などの不純物を表面へ付着させ、有害性により反応操作に煩雑さが伴うという欠点があることが知られている。
さらに、特許文献1に記載された紫外線を照射する方法は、プラズマ処理における凹凸の生成という欠点が回避されているものの、真空中で行う場合には、真空大型装置を必要とするものである。
[1]過酸化水素水の存在下において、ダイヤモンドライクカーボン(以下、「DLC」とする)膜に紫外光を照射することにより、DLC膜の表面に含酸素官能基を化学結合させることを特徴とするDLC膜の表面酸化方法。
[2]波長170〜300nmの紫外光を照射することを特徴とする上記[1]のDLC膜の表面酸化方法。
[3]照射する紫外光の光量が、0.1〜100mW/cm2の範囲であることを特徴とする上記[1]又は[2]のDLC膜の表面酸化方法。
[4]上記[1]〜[3]のいずれかの表面酸化方法により、表面に含酸素官能基を化学結合させたDLC膜に、水素化試薬を作用させることにより、DLC膜の表面を水酸基のみで化学修飾することを特徴とするDLC膜の表面処理方法。
本発明において、カーボン材料に、過酸化水素水の存在下で紫外光を照射する方法としては、特に限定されないが、例えば、カーボン材料を過酸化水素水に浸漬した状態で、カーボン材料に紫外光を照射する方法、或いは、カーボン材料の表面に過酸化水素水を全面又は所定の範囲のみに塗布した状態で、カーボン材料に紫外光を照射する方法等がある。
用いる過酸化水素水の濃度は、特に限定されないが、通常市販されている濃度が約30%程度のものを用いるのが簡便な方法である。
また、用いる紫外線の波長は170nm〜300nmとするのが好適であるが、反応の高効率化のためには、260nm以下の波長を有する紫外光照射下に反応を行うことが好ましい。
このようにして得られる含酸素官能基化カーボン材料を、分析機器により表面に含酸素官能基が化学結合しているかどうかを確認する。この確認には、各種の分析機器を用いることができるが、XPSなどにより含酸素官能基の存在を確認することができ、また炭素−酸素結合様式について確認することができる。さらに、水に対する接触角測定によっても親水性を確認することができる。
本発明において、水素化試薬としては、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウムなどを用いることができる。
本発明において、水素化試薬をカーボン材料に作用させる方法は、特に限定されないが、例えば、カーボン材料を水素化試薬の溶液に浸漬した状態で撹拌するか、或いは、カーボン材料の表面に水素化試薬の溶液を全面又は所定の範囲のみに塗布した状態で所定時間放置する方法等がある。
本発明においては、水素化試薬を作用させることによる反応も室温下で容易に進行し、また、用いる水素化試薬の濃度は、特に限定されないが、通常、約1〜3mol/L程度のものを用いるのが好ましい。
(使用したカーボン材料)
DLC膜は、シリコン基板上に、トルエンを原料として、熱電子励起プラズマCVD法を用いて平均膜厚1μmに製膜されたものを用いた。
また、カーボンナノチューブには、アルドリッチ製単層カーボンナノチューブ(直径0.9〜1.2nm、長さ10〜50μm)を用いた。
(分析方法)
表面の炭素−酸素結合様式について確認するために、XPS測定装置(PHI製 ESCA model5800 Al Kα線照射)を用いた。
また、表面の水に対する接触角の測定には、Elma製 G−1−1000を用いた。
合成石英製の反応容器に、DLC膜および30%過酸化水素水を入れ、紫外線照射装置として、英光社製EL−A20 20W低圧水銀灯を用いて、室温で6時間照射した。照射された光量は20mW/cm2とした。その後、DLC膜を蒸留水で洗浄し、減圧下で乾燥を行った。
反応前後のDLC膜のXPS測定を行ったところ、反応前のDLC膜のXPSスペクトル(図1a)と比較して、酸素に由来するピークが観測され、表面上に含酸素官能基が導入されたことが確認された(図1b)。
炭素ピークを、PHI製MultiPakデータ解析用ソフトウェアを用いて、詳細にピーク分離したところ、含酸素官能基は水酸基、カルボニル基、エポキシ基、カルボシキル基の混合体であることが確認された(図2)。
また、表面の水に対する接触角を測定したところ、接触角6°を示し、反応前の接触角83°と比較して、高い親水性が付与されていることが確認された。
合成石英製の反応容器に、カーボンナノチューブ及び30%過酸化水素水を入れ、前記紫外線照射装置を用いて、室温で7時間照射した。照射された光量は20mW/cm2とした。その後、カーボンナノチューブを蒸留水で洗浄し、減圧下で乾燥を行った。
反応後のカーボンナノチューブのXPS測定を行ったところ、反応前のカーボンナノチューブ(図3a)と比較して、酸素に由来するピークが観測され、表面上に含酸素官能基が導入されたことが確認された(図3b)。
炭素ピークをPHI製MultiPakデータ解析用ソフトウェアを用いて、詳細にピーク分離したところ、含酸素官能基は水酸基、カルボニル基、エポキシ基、カルボシキル基の混合体であることが確認された(図4)。
実施例1で作製された含酸素官能基化DLC膜に、水素化ホウ素リチウムのテトラヒドロフラン溶液(2mol/L)に浸漬し、室温で3時間撹拌した。その後、DLC膜を、テトラヒドロフラン、蒸留水で洗浄し、減圧下で乾燥を行った。
反応後のDLC膜の炭素XPS測定を行ったところ、図2bに示した含酸素官能基のカルボニル基、エポキシ基が水酸基に還元されたことが確認された(図5)。
また、反応後の表面の水に対する接触角を測定したところ、接触角21°を示した。
実施例1で作製された含酸素官能基化DLC膜を、水素化アルミニウムリチウムのテトラヒドロフラン溶液(2mol/L)に浸漬し、室温で6時間撹拌した。その後、DLC膜を、テトラヒドロフラン、蒸留水で洗浄し、減圧下で乾燥を行った。
反応後のDLC膜の炭素XPS測定を行ったところ、含酸素官能基のカルボニル基、エポキシ基、カルボシキル基が水酸基に還元され、水酸基のみで化学修飾されたDLC膜が作製されたことが確認された(図6)。
また、反応後の表面の水に対する接触角を測定したところ、接触角44°を示した。
Claims (4)
- 過酸化水素水の存在下において、ダイヤモンドライクカーボン(以下、「DLC」とする)膜に紫外光を照射することにより、DLC膜の表面に含酸素官能基を化学結合させることを特徴とするDLC膜の表面酸化方法。
- 波長170〜300nmの紫外光を照射することを特徴とする請求項1に記載のDLC膜の表面酸化方法。
- 照射する紫外光の光量が、0.1〜100mW/cm2の範囲であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のDLC膜の表面酸化方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面酸化方法により、表面に含酸素官能基を化学結合させたDLC膜に、水素化試薬を作用させることにより、DLC膜の表面を水酸基のみで化学修飾することを特徴とするDLC膜の表面処理方法。
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