JP5559952B2 - Active energy ray adhesive strength-reducing adhesive composition and adhesive tape - Google Patents

Active energy ray adhesive strength-reducing adhesive composition and adhesive tape Download PDF

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本発明は、電子部品やプリント回路基板、特にフレキシブルプリント回路基板の製造時に表面保護用または裏面補強用として使用され、製造後には糊残り無く剥離可能な粘着剤 と、それを用いた粘着テープに関する。   The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive that can be used for surface protection or back surface reinforcement during the manufacture of electronic components and printed circuit boards, particularly flexible printed circuit boards, and can be peeled off without adhesive residue after production, and a pressure-sensitive adhesive tape using the same. .

フレキシブルプリント回路基板(FPC)の製造は、一般的に銅等の導電層とポリイミド等の絶縁層からなるCCLに、サブトラクティブ法により導電回路を形成して行われる場合が多く、例えばロール状のCCLを枚葉にカットして、さらに絶縁層側へ補強用として粘着シートを貼付してからFPC製造工程へ投入することで、製造工程中のCCLの折れ曲がりやシワ等の発生による歩留まり低下を防止できることが知られている。製造工程へ投入する前には、粘着シートの絶縁への貼付作業で貼付位置を間違った際の、貼り直し性が要求されている。また製造工程で外部回路との接続端子形成のためメッキ工程を行うこともあり、粘着シートの粘着剤層にはメッキ液耐性も要求されている。さらには、FPCが製造された後には、粘着シートは糊残りなく容易に剥離されることが要求される。   In general, a flexible printed circuit board (FPC) is often manufactured by forming a conductive circuit by a subtractive method on a CCL made of a conductive layer such as copper and an insulating layer such as polyimide. By cutting the CCL into single sheets and attaching an adhesive sheet to the insulating layer for reinforcement, and then feeding it into the FPC manufacturing process, yield loss due to bending or wrinkling of the CCL during the manufacturing process is prevented. It is known that it can be done. Before being put into the manufacturing process, re-pasteability is required when the sticking position is wrong in the sticking work to the insulating adhesive sheet. In addition, a plating process may be performed to form a connection terminal with an external circuit in the manufacturing process, and the adhesive layer of the adhesive sheet is also required to have a plating solution resistance. Furthermore, after the FPC is manufactured, the pressure-sensitive adhesive sheet is required to be easily peeled without any adhesive residue.

それに対して特許文献1では、ダイシング工程用として耐水性を有し、放射線照射により粘着力が低下する電子部材粘着テープが提案されている。しかし前記粘着テープは水酸基の当量がイソシアネート基の当量の1.0〜2.0倍使用しているため、粘着剤層を架橋した後、水酸基が必ず残存する。しかし前記粘着テープが使用される工程で要求されるのは、剥離性等を除くと耐水性であり、より厳しい薬液耐性は要求されていないため、プリント回路基板製造工程で使用されるエッチング液やメッキ液等の存在下で使用されると水酸基の存在が前記薬液への耐性を低下させ、粘着テープ剥離時に不具合が生じる等の問題があった。   On the other hand, Patent Document 1 proposes an electronic member pressure-sensitive adhesive tape that has water resistance for a dicing process and whose adhesive strength is reduced by radiation irradiation. However, the pressure-sensitive adhesive tape uses a hydroxyl group equivalent of 1.0 to 2.0 times the isocyanate group equivalent, so that the hydroxyl group always remains after the pressure-sensitive adhesive layer is crosslinked. However, what is required in the process in which the adhesive tape is used is water resistance excluding releasability and the like, and stricter chemical resistance is not required. When used in the presence of a plating solution or the like, there is a problem that the presence of a hydroxyl group reduces the resistance to the chemical solution and causes problems when the adhesive tape is peeled off.

また特許文献2の粘着テープはFPC製造時の補強テープで、特定組成のモノマーを使用したポリマーと重合禁止剤を組合わせたことで高熱高圧条件下を経過した後も粘着力を保持でき、その後に紫外線照射により粘着力が低下する光重合型接着剤組成物を粘着テープとして使用することが提案されている。しかし当該粘着テープは紫外線照射前の粘着力が非常に高く、貼り直しが出来ないという課題があった。
特開2004−75940号公報 特許第3525938号公報
Moreover, the adhesive tape of patent document 2 is a reinforcing tape at the time of FPC manufacture, and can maintain the adhesive strength even after a high heat and high pressure condition by combining a polymer using a monomer having a specific composition and a polymerization inhibitor, and thereafter In addition, it has been proposed to use a photopolymerizable adhesive composition whose adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation as an adhesive tape. However, the pressure-sensitive adhesive tape has a very high adhesive force before ultraviolet irradiation, and has a problem that it cannot be re-attached.
JP 2004-75940 A Japanese Patent No. 3525938

本発明は、電子部品や、プリント回路基板等へ表面保護や、裏面の補強用として貼付し、その貼り直し性が良好で、エッチング液やメッキ液等への薬液耐性を有し、製造工程後は活性エネルギー線照射により粘着力が低下し、糊残りなく容易に剥離可能な、活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物とそれを塗工した粘着テープを提供することを目的とする。 The present invention is applied to electronic parts, printed circuit boards and the like for surface protection and reinforcement of the back surface, has good re-stickability, has chemical resistance to etching liquid and plating liquid, etc., after the manufacturing process An object of the present invention is to provide an active energy ray-adhesive adhesive composition and an adhesive tape coated with the same, which can be easily peeled off with no adhesive residue when the adhesive energy decreases.

本発明は、水酸基を有するポリマー(A)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)、光重合開始剤(C)およびイソシアネート系硬化剤(D)を含んでなり、前記(A)〜(C)が有する水酸基の合計に対する、(D)中のイソシアネート基の当量比が1を超え30以下であることを特徴とする活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物に関する。   The present invention comprises a polymer (A) having a hydroxyl group, an active energy ray-curable compound (B), a photopolymerization initiator (C) and an isocyanate-based curing agent (D), and the above (A) to (C). The equivalent ratio of the isocyanate group in (D) with respect to the total of the hydroxyl groups possessed by is greater than 1 and 30 or less.

また本発明は、水酸基を有するポリマー(A)が、さらにカルボキシル基を有するポリマー(A−1)であって、前記(A−1)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)、および光重合開始剤(C)が有する水酸基と、カルボキシル基との合計に対する、イソシアネート系硬化剤(D)中のイソシアネート基の当量比が0.05〜0.35であることを特徴とする上記活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物に関する。   In the present invention, the polymer (A) having a hydroxyl group is a polymer (A-1) further having a carboxyl group, the (A-1), the active energy ray-curable compound (B), and the initiation of photopolymerization. The above active energy ray adhesive, wherein the equivalent ratio of isocyanate groups in the isocyanate-based curing agent (D) to the total of hydroxyl groups and carboxyl groups in the agent (C) is 0.05 to 0.35 The present invention relates to a force disappearing pressure-sensitive adhesive composition.

また本発明は、基材、上記活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物から形成される粘着剤層(I)および剥離シートが順次積層されてなる粘着テープであって、前記剥離シートの剥離処理面の算術平均粗さ(Ra)が0.10〜2μmであることを特徴とする粘着テープに関する。   The present invention is also a pressure-sensitive adhesive tape comprising a base material, a pressure-sensitive adhesive layer (I) formed from the above active energy ray-adhesive pressure-sensitive adhesive composition, and a release sheet, wherein the release sheet is peeled off. It is related with the adhesive tape characterized by arithmetic mean roughness (Ra) of a process surface being 0.10-2 micrometers.

本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物を用いることにより、プリント回路基板等へ補強用として貼付するときの貼り直し性が良好で、エッチング液やメッキ液等への薬液耐性を有し、製造工程後は活性エネルギー線照射により糊残りなく容易に剥離可能な粘着テープを提供することができるようになった。その結果、プリント回路基板の製造時のロスを低減することが可能になり、歩留まりを向上することができた。   By using the active energy ray adhesive disappearance type pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, good re-sticking property when applied to a printed circuit board or the like for reinforcement, and chemical resistance to an etching solution or a plating solution is provided. In addition, after the production process, it has become possible to provide an adhesive tape that can be easily peeled off without any adhesive residue by irradiation with active energy rays. As a result, it was possible to reduce the loss during the production of the printed circuit board and to improve the yield.

本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物および粘着テープが使用される好ましい態様について説明する。   The preferable aspect in which the active energy ray adhesive strength disappearance type adhesive composition and adhesive tape of this invention are used is demonstrated.

本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物は、加熱等の所作により、水酸基を有するポリマー(A)中の水酸基とイソシアネート系硬化剤(D)とが反応し、架橋構造を形成する(この過程を「硬化」とも称す)。したがって、例えば、基材上に活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物を塗工し、加熱等の所作により必要に応じて含有される溶媒を揮発させ、組成物を架橋させて粘着剤層(I)を形成する。ここに、粘着剤層(I)とは、未だ活性エネルギー線が照射されていない状態のものをいう。   The active energy ray-adhesive pressure-sensitive adhesive composition of the present invention forms a cross-linked structure by reacting the hydroxyl group in the polymer (A) having a hydroxyl group with the isocyanate curing agent (D) by an operation such as heating. (This process is also called “curing”). Therefore, for example, the active energy ray adhesive strength disappearing pressure-sensitive adhesive composition is coated on a base material, the solvent contained as needed is volatilized by an operation such as heating, and the composition is cross-linked to form a pressure-sensitive adhesive layer. Form (I). Here, the pressure-sensitive adhesive layer (I) refers to a state in which active energy rays are not yet irradiated.

次いで、形成された上記粘着剤層(I)と、剥離シートの剥離処理面とを貼り合わせることにより、粘着シートを得ることができる。   Next, the pressure-sensitive adhesive sheet can be obtained by bonding the formed pressure-sensitive adhesive layer (I) and the release treatment surface of the release sheet.

その後粘着テープを、例えばFPC製造用として使用するときは、剥離シートを剥離し、CCLの絶縁層側へ補強用として貼付される。CCLは、例えばサブトラクティブ法によりエッチング等が行われ、さらにメッキ等の工程を経て製造されるFPC製造工程で使用されることが一般的であるが、前記法等を行うとき、粘着テープは製造工程中にエッチング液やメッキ液等に暴露されるため、薬液耐性が必要とされる。エッチング液に用いられる薬剤としては、例えば塩化第二鉄、塩化第二銅等が挙げられる。エッチング工程のあとは、例えばカセイソーダ水溶液によるエッチングレジスト剥離工程があり、その後酸性水溶液による中和工程を経ることもある。その後メッキ工程、例えば無電解もしくは電解のすずメッキ、ニッケルメッキおよび金メッキ等が、酸性もしくはアルカリ性の条件で行われることもある。このようにFPCが製造されたのち、もしくは補強用粘着テープが不要になったとき、粘着シートの粘着剤層(I)に活性エネルギー線を照射することにより、粘着剤層(I)のさらなる3次元架橋が起こり粘着力が低下もしくは消失して、粘着テープを糊残り無く剥離することができる。   Then, when using an adhesive tape for FPC manufacture, for example, a peeling sheet is peeled and it affixes on the insulating layer side of CCL for reinforcement. CCL is generally used in FPC manufacturing processes that are manufactured by, for example, etching by a subtractive method, and further through processes such as plating, but when performing the above methods, adhesive tapes are manufactured. Since it is exposed to an etching solution or a plating solution during the process, chemical resistance is required. Examples of the chemical used in the etching solution include ferric chloride and cupric chloride. After the etching process, for example, there is an etching resist stripping process using an aqueous caustic soda solution, followed by a neutralizing process using an acidic aqueous solution. Thereafter, a plating process such as electroless or electrolytic tin plating, nickel plating, and gold plating may be performed under acidic or alkaline conditions. After the FPC is manufactured in this way or when the reinforcing adhesive tape is no longer necessary, the adhesive layer (I) of the adhesive sheet is irradiated with active energy rays to further increase the pressure-sensitive adhesive layer (I). Dimensional cross-linking occurs and the adhesive strength decreases or disappears, and the adhesive tape can be peeled without any adhesive residue.

本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物は、活性エネルギー線照射より光重合開始剤(C)及び活性エネルギー線硬化性化合物(B)が反応し、粘着剤層(I)がさらに高度に3次元架橋することで、照射前より粘着力が低下もしくは消失し、被着体から容易に剥離可能になるという効果を奏するものである。   In the active energy ray-adhesive pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, the photopolymerization initiator (C) and the active energy ray-curable compound (B) react by irradiation with active energy rays, and the adhesive layer (I) further By highly three-dimensionally cross-linking, the adhesive strength is reduced or disappears from before irradiation, and it is possible to easily peel from the adherend.

一般的に粘着剤は、硬化剤との架橋点となる官能基を含むポリマーと硬化剤とを含むことにより、粘着テープへ加工したときに、硬化剤によって架橋することで、粘着剤層に凝集力が付与され、粘着力が発現する。本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物に含まれる水酸基を有するポリマー(A)の水酸基も、イソシアネート系硬化剤(D)との架橋点としての役割を果たしている。前記水酸基は水酸基含有モノマーに由来する。水酸基含有モノマーは、その他共重合可能なモノマーと共重合することでポリマーとなる。活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物として使用できるポリマーとして、例えばアクリル系、ウレタン系、ポリエステル系等が挙げられるが、粘着物性のバランスや組成変更の容易さからアクリル系が好ましい。   Generally, a pressure-sensitive adhesive contains a polymer containing a functional group that serves as a cross-linking point with a curing agent and a curing agent. When processed into a pressure-sensitive adhesive tape, the pressure-sensitive adhesive is aggregated in the pressure-sensitive adhesive layer by crosslinking with the curing agent. Force is applied and adhesive strength is developed. The hydroxyl group of the polymer (A) having a hydroxyl group contained in the active energy ray-adhesive adhesive composition of the present invention also serves as a crosslinking point with the isocyanate curing agent (D). The hydroxyl group is derived from a hydroxyl group-containing monomer. The hydroxyl group-containing monomer becomes a polymer by copolymerizing with other copolymerizable monomers. Examples of the polymer that can be used as the active energy ray-adhesive adhesive composition include acrylics, urethanes, and polyesters, but acrylics are preferred because of the balance of adhesive properties and ease of composition change.

水酸基含有モノマーは、共重合する全てのモノマー100重量部のうち、0.01〜5重量部を使用することが好ましく、0.05〜2重量部がより好ましく、0.05〜1重量部がさらに好ましい。水酸基はイソシアネート系硬化剤(D)との架橋点になるため、水酸基含有モノマーが0.01重量部に満たないと架橋密度が低下して凝集力が不足する恐れがあり、5重量部を超えると架橋が過剰となりタックや粘着力が不足する恐れがある。水酸基を有するポリマー(A)のガラス転移温度は、凝集力と粘着性等のバランスから−60〜−10℃が好ましい。また重量平均分子量は凝集力やタック等の面から、20万〜200万が好ましく、40万から150万がより好ましい。水酸基を有するポリマー(A)を得るための共重合方法は、例えば溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合、活性エネルギー線照射重合等が挙げられるが、反応制御や原料選択の容易さから溶液重合が好ましい。重量平均分子量(Mw)はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したものである。   The hydroxyl group-containing monomer is preferably used in an amount of 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.05 to 2 parts by weight, and 0.05 to 1 part by weight among 100 parts by weight of all monomers to be copolymerized. Further preferred. Since the hydroxyl group becomes a crosslinking point with the isocyanate curing agent (D), if the hydroxyl group-containing monomer is less than 0.01 part by weight, the crosslinking density may be reduced and the cohesive force may be insufficient. And there is a risk that cross-linking will be excessive and tack and adhesive strength will be insufficient. The glass transition temperature of the polymer (A) having a hydroxyl group is preferably −60 to −10 ° C. from the balance of cohesive force and adhesiveness. The weight average molecular weight is preferably 200,000 to 2,000,000, more preferably 400,000 to 1,500,000 from the viewpoints of cohesion and tack. Examples of the copolymerization method for obtaining the polymer (A) having a hydroxyl group include solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, active energy ray irradiation polymerization, and the like. Solution polymerization is preferred. The weight average molecular weight (Mw) is measured using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography.

アクリル系ポリマーを得るために用いられる、前記水酸基含有モノマーとしては、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸−4ヒドロキシブチル、メチロールアクリルアミド、ビニルアルコール、エチレングリコールモノメタクリレート等があげられる。   Examples of the hydroxyl group-containing monomer used to obtain an acrylic polymer include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, -4-hydroxybutyl acrylate, methylol acrylamide, vinyl alcohol, ethylene glycol monomethacrylate, and the like. It is done.

前記その他共重合可能なモノマーとしては、水酸基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば良く、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリルアミド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、ジメチルアミノメタクリレート、ジエチルアミノメタクリレレート、メチルアクリレート、メタクリレートメチル、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエン等を挙げることができる。   The other copolymerizable monomer may be any monomer copolymerizable with a hydroxyl group-containing monomer, such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, itaconic anhydride, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, acrylamide. Glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, dimethylamino methacrylate, diethylaminomethacrylate, methyl acrylate, methacrylate methyl, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate , Isobutyl methacrylate, isopropyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl Methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, alpha-methyl styrene, and vinyl toluene.

また水酸基を有するポリマー(A)は、さらに側鎖にアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有することも好ましい。側鎖にアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を導入すると、活性エネルギー線照射後の3次元架橋密度がさらに向上して粘着力消失性も向上する。側鎖へアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を導入する方法として、例えば、
(1)ポリマーの水酸基に、イソシアネート基とメタクリロイル基とを分子内に有する化合物である2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートのイソシアネート基を付加させる方法;
(2)モノマーの一部としてアクリル酸を使用し、側鎖にカルボキシル基を有するアクリルポリマーを得、当該カルボキシル基に、エポキシ基とメタクリロイル基とを分子内に有する化合物であるグリシジルメタクリレートのエポキシ基を付加させる方法;
等の公知の方法を使用することができる。
The polymer (A) having a hydroxyl group preferably further has an acryloyl group or a methacryloyl group in the side chain. When an acryloyl group or a methacryloyl group is introduced into the side chain, the three-dimensional crosslinking density after irradiation with active energy rays is further improved, and the adhesiveness disappearance is also improved. As a method for introducing an acryloyl group or a methacryloyl group into a side chain, for example,
(1) A method of adding an isocyanate group of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate which is a compound having an isocyanate group and a methacryloyl group in the molecule to the hydroxyl group of the polymer;
(2) Acrylic acid is used as part of the monomer to obtain an acrylic polymer having a carboxyl group in the side chain, and the epoxy group of glycidyl methacrylate which is a compound having an epoxy group and a methacryloyl group in the molecule. A method of adding
Any known method can be used.

本発明では、イソシアネート系硬化剤(D)を使用するが、粘着剤層(I)を形成した際に、イソシアネート系硬化剤(D)と反応していない、未反応の水酸基が存在すると、水酸基が前記薬液を粘着剤層へ呼び込み、FPC製造工程において粘着テープの浮き、剥がれが生じやすくなり、さらには剥離時の糊残りの恐れがある。   In the present invention, the isocyanate curing agent (D) is used, but when the pressure-sensitive adhesive layer (I) is formed, if there is an unreacted hydroxyl group that has not reacted with the isocyanate curing agent (D), However, the chemical solution is drawn into the pressure-sensitive adhesive layer, and the pressure-sensitive adhesive tape is liable to float and peel off in the FPC manufacturing process, and there is a risk of adhesive residue at the time of peeling.

イソシアネート硬化剤(D)の使用量としては、水酸基を有するポリマー(A)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)が有する水酸基の合計に対する、(D)中のイソシアネート基の当量比が1を超え30以下となるような割合で使用することが重要であり、前記当量比が1.01〜25となるような割合で使用することが好ましい。   The isocyanate curing agent (D) is used in an amount of the isocyanate in (D) with respect to the total of hydroxyl groups in the polymer (A) having a hydroxyl group, the active energy ray-curable compound (B) and the photopolymerization initiator (C). It is important to use the group at a ratio such that the equivalent ratio of the group exceeds 1 and is 30 or less, and it is preferable to use the group at a ratio such that the equivalent ratio is 1.01 to 25.

水酸基を有するポリマー(A)以外のものとして、活性エネルギー線硬化性化合物(B)および光重合開始剤(C)等は水酸基を有するものを必ずしも使用しなければならないわけではなく、粘着テープの使用目的に応じて適宜選択すればよい。ただし薬液耐性を考慮すると、水酸基を有するポリマー(A)以外に水酸基を含まないことが好ましい。また粘着剤には微量の水の混入が避けられない。そのためイソシアネート系硬化剤(D)は水とも反応してしまい、その一部はポリマーの水酸基と反応することができない。そのため水酸基に対するイソシアネート基の当量比が1以下では水酸基が残り薬液耐性を低下させる。30を超えると剥離時に糊残りの恐れがある。   As other than the polymer (A) having a hydroxyl group, the active energy ray-curable compound (B), the photopolymerization initiator (C), etc. do not necessarily have to have a hydroxyl group. What is necessary is just to select suitably according to the objective. However, in consideration of chemical resistance, it is preferable not to contain a hydroxyl group other than the polymer (A) having a hydroxyl group. In addition, a very small amount of water is unavoidable in the adhesive. For this reason, the isocyanate curing agent (D) also reacts with water, and a part thereof cannot react with the hydroxyl group of the polymer. Therefore, when the equivalent ratio of the isocyanate group to the hydroxyl group is 1 or less, the hydroxyl group remains and lowers the chemical resistance. If it exceeds 30, there is a risk of adhesive residue at the time of peeling.

前記イソシアネート系硬化剤(D)としては、例えば、トリレンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシアネートや、それらのトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体およびイソシアヌレート環を有する3量体等が挙げられる。
また水酸基を有するポリマー(A)が、さらにカルボキシル基を有するポリマー(A−1)であることが好ましい。全ての水酸基がイソシアネート系硬化剤(D)と反応すると、粘着剤層(I)の粘着力が不足しやすくなり、FPCの製造工程中に粘着テープが被着体から浮き、剥がれの恐れが生じる。そのためカルボキシル基を含むことにより、粘着力を向上させ製造工程中に粘着テープの浮き、剥がれを生じさせなくすることが好ましい。水酸基を有するポリマー(A)がカルボキシル基を含むポリマー(A−1)であるとき、イソシアネート系硬化剤(D)の使用量としては、前記(A−1)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)が有する水酸基およびカルボキシル基の合計に対する、イソシアネート系硬化剤(D)中のイソシアネート基の当量比が0.05〜0.35となるような割合で使用することが好ましい。前記よりカルボキシル基は、粘着力を高くするために水酸基の合計より多く使用することが好ましい。また水酸基を有するポリマー(A)は、カルボキシル基以外に他の官能基を適宜含んでも良い。
イソシアネート系硬化剤(D)はカルボキシル基とも反応するが、水酸基との反応がより早いため、カルボキシル基は未反応で残存する場合が多い。粘着剤層にカルボキシル基が残存した場合は、薬液耐性への影響が少ないが、水酸基が残存すると極少量の残存で、薬液耐性が大幅に低下する。
As said isocyanate type hardening | curing agent (D), it reacted with diisocyanates, such as tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, those trimethylol propane adduct bodies, and water, for example. Examples include a burette body and a trimer having an isocyanurate ring.
Moreover, it is preferable that the polymer (A) having a hydroxyl group is a polymer (A-1) further having a carboxyl group. When all the hydroxyl groups react with the isocyanate curing agent (D), the adhesive strength of the adhesive layer (I) tends to be insufficient, and the adhesive tape floats from the adherend during the FPC manufacturing process, which may cause peeling. . Therefore, it is preferable to include a carboxyl group to improve the adhesive force and prevent the pressure-sensitive adhesive tape from floating and peeling off during the production process. When the polymer (A) having a hydroxyl group is a polymer (A-1) containing a carboxyl group, the amount of the isocyanate curing agent (D) used is (A-1), an active energy ray-curable compound (B). ) And the photopolymerization initiator (C) should be used at a ratio such that the equivalent ratio of isocyanate groups in the isocyanate-based curing agent (D) to the total of hydroxyl groups and carboxyl groups of the photopolymerization initiator (C) is 0.05 to 0.35. Is preferred. From the above, it is preferable to use more carboxyl groups than the total of hydroxyl groups in order to increase the adhesive strength. Further, the polymer (A) having a hydroxyl group may appropriately contain other functional groups in addition to the carboxyl group.
The isocyanate curing agent (D) also reacts with the carboxyl group, but since the reaction with the hydroxyl group is faster, the carboxyl group often remains unreacted. When a carboxyl group remains in the pressure-sensitive adhesive layer, there is little influence on chemical resistance, but when a hydroxyl group remains, the chemical resistance is greatly reduced with a very small amount remaining.

活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)の作用としては、活性エネルギー線照射により、光重合開始剤(C)が反応し、さらに活性エネルギー線硬化性化合物(B)がより高度な3次元架橋を起こすことにより、粘着剤層(I)の粘着力が低下もしくは消失して、被着体から容易に剥離可能となる。活性エネルギー線硬化性化合物(B)は官能基として(メタ)アクリロイル基(「アクリロイル基」と「メタクリロイル基」とをあわせて「(メタ)アクリロイル基」と称す)を有する化合物で、(メタ)アクリロイル基を3個以上有する多官能モノマーおよび/または(メタ)アクリロイル基を6個以上有するウレタンアクリレートオリゴマーを使用することが好ましい。活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、水酸基を有するポリマー(A)100重量部に対して20〜300重量部使用することが好ましく、30〜150重量部使用することがより好ましい。   The action of the active energy ray-curable compound (B) contained in the active energy ray-adhesive adhesive-type pressure-sensitive adhesive composition is as follows. When the functional compound (B) undergoes a more advanced three-dimensional crosslinking, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer (I) is reduced or eliminated, and can be easily peeled off from the adherend. The active energy ray-curable compound (B) is a compound having a (meth) acryloyl group (referred to as “(meth) acryloyl group” together with “acryloyl group” and “methacryloyl group”) as a functional group. It is preferable to use a polyfunctional monomer having 3 or more acryloyl groups and / or a urethane acrylate oligomer having 6 or more (meth) acryloyl groups. The active energy ray-curable compound (B) is preferably used in an amount of 20 to 300 parts by weight, more preferably 30 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer (A) having a hydroxyl group.

活性エネルギー線硬化性化合物(B)として用いられる(メタ)アクリロイル基を3個以上有する多官能モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチルイソシアヌレート)トリアクリレート、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、1,4−ブタンジオールオリゴアクリレート、1,6−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional monomer having three or more (meth) acryloyl groups used as the active energy ray-curable compound (B) include trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, and propoxy. Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tetramethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, tri (2-hydroxy Ethyl isocyanurate) triacrylate, propoxylate glyceryl triacryl , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, neopentyl glycol oligoacrylate, 1,4-butanediol oligoacrylate, 1,6- Examples include hexanediol oligoacrylate, trimethylolpropane oligoacrylate, and pentaerythritol oligoacrylate.

ウレタンアクリレートオリゴマーについては、分子内にウレタン結合を有し、かつ(メタ)アクリロイル基を6個以上有するオリゴマーであればよい。ウレタンアクリレートオリゴマーの重量平均分子量は600〜20000が好ましく、さらに600〜10000が好ましい。20000を超えると活性エネルギー線照射後の粘着力消失性が不足する恐れがある。またウレタンアクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイル基を分子内に6〜20個有することが好ましい。6個に満たないときは活性エネルギー線照射後の粘着力消失性が不足する恐れがあり、20個を超えても活性エネルギー線照射後の粘着力消失性をさらに向上させることは難しい。   The urethane acrylate oligomer may be an oligomer having a urethane bond in the molecule and having 6 or more (meth) acryloyl groups. The weight average molecular weight of the urethane acrylate oligomer is preferably 600 to 20,000, and more preferably 600 to 10,000. If it exceeds 20,000, there is a risk that the adhesiveness disappearance after irradiation with active energy rays will be insufficient. The urethane acrylate oligomer preferably has 6 to 20 (meth) acryloyl groups in the molecule. When it is less than 6, there is a possibility that the adhesiveness disappearance after irradiation with active energy rays may be insufficient, and even when it exceeds 20, it is difficult to further improve the adhesiveness disappearance after irradiation with active energy rays.

前記光重合開始剤(C)は、活性エネルギー線硬化性化合物(B)100重量部に対して0.1〜20重量部使用することが好ましく、さらに1〜10重量部使用することが好ましい。光重合開始剤(C)は1種類または、2種類以上使用しても良い。   The photopolymerization initiator (C) is preferably used in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound (B). One type or two or more types of photopolymerization initiators (C) may be used.

光重合開始剤(C)について説明すると、ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノン、4,4−ジエチルアミノベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルサルファイド等が挙げられる。また、チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、2−クロロオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、イソプロピルキサントン等が挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、2−メチル−1−[(4−メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2,2−ジメチル−2−ヒドロキシアセエトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチルケタール等が挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。ビスイミダゾール系開始剤としては、例えば、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テトラ(4−メチルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール等が挙げられる。アクリジン系開始剤としては、例えば、1,7−ビス(9−アクリジル)ヘプタン、カルバゾール−フェノン系開始剤としては、例えば、3,6−ビス(1−ケト−2−メチル−2−モルホリノプロピル)−9−オクチルカルバゾール、トリアジン系光開始剤としては、例えば、2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペロニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン等が挙げられる。その他、オキシム系開始剤等が挙げられる。   The photopolymerization initiator (C) will be described. Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, and 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone. 4-benzoyl-4-methyldiphenyl sulfide, and the like. Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include thioxanthone, 2-chlorooxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and isopropylxanthone. Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 2-methyl-1-[(4-methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -butanone-1,1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,2-dimethyl-2-hydroxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4-phenoxydichloroacetophenone, diethoxyacetophenone 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like. Examples of the benzoin photopolymerization initiator include benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl methyl ketal. Examples of the acylphosphine oxide photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) acylphosphine oxide, and the like. Examples of bisimidazole initiators include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis ( o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetra (4-methylphenyl) -1,2′-biimidazole and the like. Examples of the acridine initiator include 1,7-bis (9-acridyl) heptane. Examples of the carbazole-phenone initiator include 3,6-bis (1-keto-2-methyl-2-morpholinopropyl). ) -9-octylcarbazole and triazine photoinitiators include, for example, 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-piperonyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6 Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-trichloromethyl- (piperonyl) -6 -Triazine, 2,4-trichloromethyl (4'-methoxystyryl) -6-triazine and the like. Other examples include oxime initiators.

光重合開始剤(C)と増感剤を併用することも好ましい。増感剤としては例えばトリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N,N’−ジメチルエタノールアミン、N−メチルモルホリンなどが挙げられる。   It is also preferable to use a photopolymerization initiator (C) and a sensitizer in combination. Examples of the sensitizer include triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N, N′-dimethylethanolamine, N-methylmorpholine and the like.

本発明で用いる活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、放射線等の電磁波が挙げられるが、本発明では紫外線が好ましい。紫外線照射は、公知の光源を用いて行うことができる。活性エネルギー線照射は1回若しくは複数回照射することができる。積算照射量は、照射後に粘着力を低下させることができれば良く、特に限定しない。   Examples of active energy rays used in the present invention include electromagnetic waves such as electron beams, ultraviolet rays, and radiation. In the present invention, ultraviolet rays are preferable. Ultraviolet irradiation can be performed using a known light source. The active energy ray irradiation can be performed once or a plurality of times. The integrated dose is not particularly limited as long as the adhesive strength can be reduced after irradiation.

活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物は、他に粘着付与剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収材料、濡れ剤、充填剤、顔料、染料、希釈剤、防錆剤、硬化促進剤等の公知の各種添加剤を含んでいてもよい。これらの添加剤は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を適宜用いてもよい。また、添加剤の添加量は、目的とする物性が得られる量とすればよく、特に限定するものではない。   The active energy ray adhesive strength-removing pressure-sensitive adhesive composition includes a tackifier, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an infrared absorbing material, a wetting agent, a filler, a pigment, Various known additives such as dyes, diluents, rust inhibitors and curing accelerators may be included. Only one type of these additives may be used, or two or more types may be appropriately used. Moreover, the addition amount of an additive should just be taken as the quantity from which the target physical property is obtained, and is not specifically limited.

また本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物は、基材、活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物から形成される粘着剤層(I)および剥離シートが順次積層されてなる粘着テープという形態で使用されることが好ましい。剥離シートの剥離処理面が、算術平均粗さ(Ra)0.10〜2μmの凹凸を有することが好ましく、0.10〜1μmがより好ましい。剥離処理面に凹凸を設けることで、接触する粘着剤面にその凹凸のレプリカが形成される。そのため粘着テープを貼付するとき粘着面に形成された凹凸により、被着体との接触面積が減少することでCCLの絶縁層、例えばポリミドへ貼付時する際の、貼り直しが容易になった。ここで剥離処理面のRaが0.10μmに満たないときは被着体との接触面積が広く、貼り直しが困難になる恐れがある。2μmを超えると貼付後も凹凸が粘着剤層によっても緩和されずCCL/粘着テープ間に凹凸が残り、そこへ薬液が浸入することで工程中の浮き・剥がれや、剥離後の糊残りもしくは汚染の恐れがある。剥離シートは、支持体の表面へシリコン系化合物やフッソ系化合物等をコーティングすることにより剥離性を持たせたシートである。ここで算術平均粗さ(Ra)はJIS B0601−1994に規定され、平均線から絶対値偏差の平均値である。Raは表面粗さ測定機(Dektak ET−4000:日本ビーコ株式会社製)を用いて測定されたものである。   The active energy ray adhesive strength-removing pressure-sensitive adhesive composition of the present invention comprises a base material, a pressure-sensitive adhesive layer (I) formed from the active energy ray adhesive strength-removing pressure-sensitive adhesive composition, and a release sheet. It is preferably used in the form of an adhesive tape. It is preferable that the release treatment surface of the release sheet has irregularities with an arithmetic average roughness (Ra) of 0.10 to 2 μm, and more preferably 0.10 to 1 μm. By providing unevenness on the release treatment surface, a replica of the unevenness is formed on the pressure-sensitive adhesive surface that comes into contact. Therefore, when the adhesive tape is applied, the unevenness formed on the adhesive surface reduces the contact area with the adherend, thereby facilitating reattachment when applying to the CCL insulating layer, for example, polyimide. Here, when the Ra of the release treatment surface is less than 0.10 μm, the contact area with the adherend is large, and it may be difficult to reattach. If it exceeds 2 μm, the unevenness will not be relaxed by the adhesive layer even after sticking, and the unevenness will remain between the CCL / adhesive tape, and the chemical solution will enter there, so that floating / peeling in the process, adhesive residue after peeling or contamination There is a fear. The release sheet is a sheet that is made release by coating the surface of the support with a silicon compound, a fluorine compound, or the like. Here, the arithmetic average roughness (Ra) is defined in JIS B0601-1994, and is an average value of absolute value deviation from the average line. Ra is measured using a surface roughness measuring machine (Dektak ET-4000: manufactured by Beiko Japan Ltd.).

なお貼り直し性について説明すると、CCLの補強用として粘着テープを貼付する際に、CCL/粘着シート界面へエアが混入することがあるが、その場合粘着テープ付きCCLにエア由来の凹凸が生じ、そのままの状態でFPC製造工程を行うと、CCLシート全体として均一な薬液処理が難しく、凹凸部やその周辺で導電回路やメッキの形成に不良が生じる。そのためエアが混入した時は、粘着シートをエアが抜けるように一旦剥離してから再貼付する必要があり、そのため貼り直し性が要求される。貼り直し性という課題に対して、粘着テープの粘着力を下げて対処する方法と、粘着面に物理的な凹凸を設けて、貼付時のエア抜けを良くする方法が挙げられる。前者は貼り直し性を優先して粘着力を低く設定しすぎると、製造工程中に浮きや剥がれが生じる恐れがあった。そこで本発明では後者の手段をとることにした。   In addition, when explaining the re-sticking property, when sticking the adhesive tape for reinforcing the CCL, air may be mixed into the CCL / adhesive sheet interface, but in that case, unevenness derived from air occurs in the CCL with the adhesive tape, If the FPC manufacturing process is performed as it is, it is difficult to uniformly treat the CCL sheet as a whole, and defects occur in the formation of conductive circuits and plating in the concavo-convex portion and its periphery. Therefore, when air is mixed, it is necessary to peel the adhesive sheet once so that the air can escape, and then re-paste it. There are a method of dealing with the problem of re-sticking by reducing the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive tape, and a method of improving the air escape during sticking by providing physical unevenness on the adhesive surface. In the former case, if the adhesive strength is set too low in order to give priority to re-sticking, there is a possibility that floating or peeling occurs during the manufacturing process. Therefore, in the present invention, the latter means is taken.

本発明において、基材は活性エネルギー線の透過可能な、可とう性を有するプラスチックフィルムであることが好ましい、具体的には、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル類、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロースおよびシクロオレフィン樹脂等のフィルムが挙げられる。入手や取り扱いの容易さからPETが好ましい。   In the present invention, the base material is preferably a plastic film capable of transmitting active energy rays and having flexibility, and specifically, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN). , Polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, ethylene / vinyl acetate copolymer (EVA), vinyls such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polycarbonate, polyamide, polyimide, Examples of the film include acrylic resin, triacetyl cellulose, and cycloolefin resin. PET is preferable because it is easily available and handled.

基材は、プリント回路基板製造工程を通過するため、薬液耐性を有することが好ましい。基材の厚みは、5〜200μmが好ましい。5μm未満では取扱い性が悪くなり、200μmを越えると柔軟性が無くなり、取扱い性が悪くなる。粘着剤層が形成される基材面には、密着性向上のため易接着処理を施すことも好ましい。易接着処理としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、フレーム処理等の乾式処理と、プライマー処理等の湿式処理が挙げられる。   Since the base material passes through the printed circuit board manufacturing process, the base material preferably has chemical resistance. As for the thickness of a base material, 5-200 micrometers is preferable. When the thickness is less than 5 μm, the handleability is deteriorated, and when it exceeds 200 μm, the flexibility is lost and the handleability is deteriorated. It is also preferable to subject the base material surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed to easy adhesion treatment in order to improve adhesion. Examples of the easy adhesion treatment include dry treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, and flame treatment, and wet treatment such as primer treatment.

粘着シートの作製方法として、例えば以下の2つの方法が挙げられる。
(1):基材に直接、活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物を塗工して乾燥・硬化し、剥離シートの剥離処理面を貼り合わせる方法。
(2):剥離シートの剥離処理面上に活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物を塗工して乾燥・硬化し、基材と貼り合わせる方法。
As a method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet, for example, the following two methods may be mentioned.
(1): A method in which an active energy ray adhesive strength-removing pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to a substrate, dried and cured, and a release treatment surface of a release sheet is bonded.
(2): A method in which an active energy ray adhesive strength-removing pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a release-treated surface of a release sheet, dried and cured, and bonded to a substrate.

活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物の塗工方法としては、例えばコンマコート、リップコート、カーテンコート、ブレードコート、グラビアコート、キスコート、リバースコート、マイクログラビアコート、ロール、バーコートおよびスクリーンコート等が挙げられる。   Examples of the application method of the active energy ray-adhesive adhesive composition include comma coat, lip coat, curtain coat, blade coat, gravure coat, kiss coat, reverse coat, micro gravure coat, roll, bar coat and screen coat. Etc.

形成される粘着剤層(I)の厚みは、0.5μm〜100μm程度であることが好ましい。厚みが0.5μm未満のときは十分な粘着物性が得られず、また100μmを越えると経済的に不利である。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (I) to be formed is preferably about 0.5 μm to 100 μm. When the thickness is less than 0.5 μm, sufficient adhesive physical properties cannot be obtained, and when it exceeds 100 μm, it is economically disadvantageous.

前記剥離シートは、少なくともその一方の面に剥離処理がされており、前記の通り剥離処理面に凹凸を有している。支持体としては、例えば紙またはプラスチックフィルム使用することが好ましい。凹凸の作成方法として、例えば剥離シートへの型押しにより作成する方法や、所期の表面粗さを有する紙を支持体として、そこに、剥離処理剤を塗工する方法が挙げられるが、所定のRaを有する剥離シートであれば良く、限定しない。また支持体の厚みは1〜200μmが好ましい。1μmに満たないときは取り扱いが困難になり、200μmを超えると経済的に不利である。   The release sheet has been subjected to a release treatment on at least one surface thereof, and has an uneven surface on the release treatment surface as described above. For example, paper or plastic film is preferably used as the support. Examples of the method for creating the unevenness include a method of creating by embossing on a release sheet, and a method of applying a release treatment agent to a paper having a desired surface roughness as a support. There is no limitation as long as it is a release sheet having Ra. The thickness of the support is preferably 1 to 200 μm. When it is less than 1 μm, handling becomes difficult, and when it exceeds 200 μm, it is economically disadvantageous.

以下実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における「部」は、「重量部」を表す。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples do not limit the scope of rights of the present invention. In the examples, “part” represents “part by weight”.

<ポリマー合成例1>
ブチルアクリレート99.3部、2−ヒドロキシエチルアクリレート0.7部、アゾビスイソブチロニトリル0.1部および酢酸エチル150部を原料として、窒素雰囲気下で加熱還流して、溶液重合によりポリマー合成を行った。その結果、不揮発分40%の水酸基を有するポリマー(A)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量(Mw)は42万であった。
<Polymer synthesis example 1>
Using 99.3 parts of butyl acrylate, 0.7 part of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.1 part of azobisisobutyronitrile and 150 parts of ethyl acetate, the mixture was heated to reflux in a nitrogen atmosphere and polymerized by solution polymerization. Went. As a result, a polymer (A) solution having a hydroxyl group with a nonvolatile content of 40% was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer was 420,000.

<ポリマー合成例2>
ブチルアクリレート86.8部、メチルアクリレート10部、アクリル酸3部、4−ヒドロキシブチルアクリレート0.2部、アゾビスイソブチロニトリル0.08部および酢酸エチル212.5部を原料として、窒素雰囲気下で加熱還流して、溶液重合によりポリマー合成を行った。その結果、不揮発分32%のさらにカルボキシル基を有するポリマー(A−1)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量70万であった。
<Polymer synthesis example 2>
Nitrogen atmosphere starting from 86.8 parts butyl acrylate, 10 parts methyl acrylate, 3 parts acrylic acid, 0.2 parts 4-hydroxybutyl acrylate, 0.08 parts azobisisobutyronitrile and 212.5 parts ethyl acetate The polymer was synthesized by solution polymerization with heating under reflux. As a result, a polymer (A-1) solution having a carboxyl group having a nonvolatile content of 32% was obtained. The weight average molecular weight of the polymer was 700,000.

<ポリマー合成例3>
ブチルアクリレート84.7部、メチルアクリレート15部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート0.3部、アゾビスイソブチロニトリル0.06部、アセトン185部およびトルエン169部を原料として、窒素雰囲気下で加熱して、溶液重合によりポリマー合成を行った。その結果、不揮発分22%の水酸基を有するポリマー(A)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量110万であった。
<Polymer synthesis example 3>
Heat in a nitrogen atmosphere using 84.7 parts of butyl acrylate, 15 parts of methyl acrylate, 0.3 part of 2-hydroxyethyl methacrylate, 0.06 part of azobisisobutyronitrile, 185 parts of acetone and 169 parts of toluene as raw materials. The polymer was synthesized by solution polymerization. As a result, a polymer (A) solution having a hydroxyl group with a nonvolatile content of 22% was obtained. The weight average molecular weight of the polymer was 1.1 million.

<ポリマー合成例4>
ブチルアクリレート85.9部、メチルアクリレート10部、アクリル酸4部、4−ヒドロキシブチルアクリレート0.1部、アゾビスイソブチロニトリル0.08部および酢酸エチル212.5部を原料として、窒素雰囲気下で加熱還流して、溶液重合によりポリマー合成を行った。その結果、不揮発分32%のさらにカルボキシル基を有するポリマー(A−1)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量68万であった。
<Polymer synthesis example 4>
Nitrogen atmosphere starting from 85.9 parts butyl acrylate, 10 parts methyl acrylate, 4 parts acrylic acid, 0.1 part 4-hydroxybutyl acrylate, 0.08 part azobisisobutyronitrile and 212.5 parts ethyl acetate The polymer was synthesized by solution polymerization with heating under reflux. As a result, a polymer (A-1) solution having a carboxyl group having a nonvolatile content of 32% was obtained. The weight average molecular weight of the polymer was 680,000.

<ポリマー合成例5>
ポリマー合成例1で合成した水酸基を有するポリマー(A)溶液100部に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート0.32部およびジブチルヒドロキシトルエン0.00032部を加え、酸素雰囲気下で加熱して、合成を行った。その結果、不揮発分41%の側鎖にメタクリロイル基を有するポリマー(A)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量44万であった。
<Polymer synthesis example 5>
To 100 parts of the polymer (A) solution having a hydroxyl group synthesized in Polymer Synthesis Example 1, 0.32 part of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate and 0.00032 part of dibutylhydroxytoluene are added and heated in an oxygen atmosphere to synthesize. went. As a result, a polymer (A) solution having a methacryloyl group in the side chain having a nonvolatile content of 41% was obtained. The weight average molecular weight of the polymer was 440,000.

<ポリマー合成例6>
ブチルアクリレート94部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6部、アゾビスイソブチロニトリル0.1部および酢酸エチル185部を原料として、酸素雰囲気下で加熱して、溶液重合によりポリマー合成を行った。その結果、不揮発分35%の水酸基を有するポリマー(A)溶液を得た。ポリマーの重量平均分子量40万であった。
<Polymer synthesis example 6>
Polymer synthesis was carried out by solution polymerization using 94 parts of butyl acrylate, 6 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 0.1 part of azobisisobutyronitrile, and 185 parts of ethyl acetate, and heating in an oxygen atmosphere. As a result, a polymer (A) solution having a hydroxyl group with a nonvolatile content of 35% was obtained. The weight average molecular weight of the polymer was 400,000.

<粘着シート作成>
表1の上段に示す配合組成で攪拌混合した粘着剤組成物を、コンマコーターを使用して厚さ100μmの易接着処理PETフィルム(U426 東レ製)へ乾燥膜厚が20μmになるように塗工し、熱風乾燥オーブン通過後に、表1の下段に示す剥離シートの剥離処理面を貼り合わせて実施例1〜7および比較例1〜の粘着テープを得た。
<Creation of adhesive sheet>
Using a comma coater, apply the pressure-sensitive adhesive composition, which is stirred and mixed in the composition shown in the upper part of Table 1, to a 100 μm-thick easy-adhesion-treated PET film (U426 Toray) so that the dry film thickness is 20 μm. Then, after passing through a hot air drying oven, the release treatment surfaces of the release sheets shown in the lower part of Table 1 were bonded together to obtain adhesive tapes of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 .

実施例及び比較例で得られた粘着テープについて、下記の項目の物性測定を行った。測定結果を表2に示す。   About the adhesive tape obtained by the Example and the comparative example, the physical property measurement of the following item was performed. The measurement results are shown in Table 2.

[粘着力]
剥離シートを剥がした粘着テープとポリイミドフィルム(カプトン100H 東レデュポン製)をハンドローラーで貼付後に、80℃−0.4MPa―1m/minの条件でラミネートを行った後、引っ張り試験機(テスター産業製「TE−503」)を使用してJIS K6854に準拠したT型剥離試験(幅25mm、剥離速度300mm/min)で、下記測定を行った。
貼付20分後粘着力:貼付20分後に測定(単位N/25mm)。
永久粘着力:貼付24時間後に測定。
照射後粘着力:貼付2時間以内に高圧水銀ランプを使用して、活性エネルギー線を積算照度が500mJ/cm2になるまで照射し、照射24時間後に粘着力を測定した。
[Adhesive force]
After applying the adhesive tape and polyimide film (Kapton 100H Toray DuPont) peeled from the release sheet with a hand roller, laminating under conditions of 80 ° C-0.4MPa-1m / min, a tensile tester (manufactured by Tester Sangyo) The following measurements were performed in a T-type peel test (width 25 mm, peel speed 300 mm / min) in accordance with JIS K6854 using “TE-503”).
Adhesive strength 20 minutes after application: Measured 20 minutes after application (unit: N / 25 mm).
Permanent adhesion: measured 24 hours after application.
Adhesive strength after irradiation: Using a high-pressure mercury lamp within 2 hours of application, active energy rays were irradiated until the integrated illuminance reached 500 mJ / cm 2 , and the adhesive strength was measured 24 hours after irradiation.

[貼り直し性]
A4サイズにカットしたポリイミドフィルムへ、B5サイズにカットし、剥離シートを剥がした粘着テープをハンドローラーで貼付し、その直後に粘着テープを剥離して、剥離性について5段階で評価をおこなった。
1:糊残り有り。
2:点状の糊残り有り。
3:剥離音有り。
4:剥離音無し。
5:剥離が容易。
[Pasteability]
The adhesive tape cut to B5 size and peeled off the release sheet was applied to the polyimide film cut to A4 size with a hand roller, and the adhesive tape was peeled off immediately after that, and the peelability was evaluated in 5 stages.
1: There is adhesive residue.
2: There is a dotted adhesive residue.
3: There is peeling sound.
4: No peeling sound.
5: Easy to peel.

[薬液耐性テスト]
メッキ工程は、酸性もしくはアルカリ性の水溶液で行われるため、酸性側はpH2の希硫酸溶液、アルカリ性側はpH11のカセイソーダ溶液を用いて評価用溶液とした。
テスト条件は、縦4cm横4cmにカットした粘着テープを縦6cm横6cmにカットしたポリイミドフィルムへハンドローラーで貼付後に、80℃−0.4MPa―1m/minの条件でラミネートを行った後、50℃の酸性溶液またはアルカリ溶液中へ1時間浸漬して、水洗したのち目視で浮き剥がれの有無を5段階評価した。
1:粘着テープが剥がれた。
2:粘着テープの一部が浮いた。
3:粘着テープの外周が膨潤した。
4:粘着テープの外周がわずかに膨潤した。
5:異常なし。
[Chemical resistance test]
Since the plating step is performed with an acidic or alkaline aqueous solution, a pH 2 dilute sulfuric acid solution is used on the acidic side and a caustic soda solution pH 11 is used as the evaluation solution.
The test conditions were as follows. Adhesive tape cut to 4 cm in length and 4 cm in width was applied to a polyimide film cut in 6 cm in length and 6 cm in width with a hand roller, and then laminated under the condition of 80 ° C.−0.4 MPa−1 m / min. After immersing in an acidic solution or alkaline solution at 1 ° C. for 1 hour and washing with water, the presence / absence of floating off was visually evaluated in five stages.
1: The adhesive tape was peeled off.
2: A part of the adhesive tape floated.
3: The outer periphery of the adhesive tape swelled.
4: The outer periphery of the adhesive tape slightly swelled.
5: No abnormality.

[糊残り評価]
薬液耐性テストで使用した試料を、乾燥後に高圧水銀ランプを使用して、積算照度が500mJ/cm2になるまで活性エネルギー線を照射した。照射1時間以内に粘着テープを剥離して、ポリイミド面の糊残りを目視にて5段階評価した。
1:点状糊残りあり。
2:粘着テープ外周状の糊残りあり。
3:粘着テープ外周上の一部に糊残りあり。
4:外周状の曇りが確認されるが糊残りはない。
5:糊残り・汚染がない。
[Adhesive residue evaluation]
The sample used in the chemical resistance test was irradiated with active energy rays until the integrated illuminance reached 500 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp after drying. The adhesive tape was peeled off within 1 hour of irradiation, and the adhesive residue on the polyimide surface was visually evaluated in five stages.
1: There is a dotted glue residue.
2: There is adhesive residue on the outer periphery of the adhesive tape.
3: There is adhesive residue on a part of the outer periphery of the adhesive tape.
4: Although peripheral cloudiness is confirmed, there is no adhesive residue.
5: No adhesive residue or contamination.

[総合評価]
前記4項目の物性結果から、粘着テープがプリント回路基板の製造工程で使用できるかどうかの判定を○×法でおこなった。
○:使用可能。
×:使用不可。
[Comprehensive evaluation]
From the physical property results of the above four items, it was determined by the XX method whether the adhesive tape can be used in the printed circuit board manufacturing process.
○: Available.
×: Unusable.

Figure 0005559952
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Figure 0005559952
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表2の物性結果に示すように、実施例1〜7の通り本発明の粘着テープは、貼り直し性、薬液耐性が良好で糊残りが無かったのに対し、比較例1〜4は、貼り直し性、薬液耐性および糊残り評価を全て満たすものが無かった。本発明の活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物を塗工した粘着テープは、電子回路やプリント回路基板等の製造工程で、補強用の粘着テープとして特に有用であるといえる。   As shown in the physical property results in Table 2, as in Examples 1 to 7, the adhesive tape of the present invention had good re-stickability and chemical resistance and no adhesive residue, whereas Comparative Examples 1 to 4 were attached. There was nothing that satisfied all of the repairability, chemical resistance, and adhesive residue evaluation. It can be said that the adhesive tape coated with the active energy ray adhesive strength-reducing adhesive composition of the present invention is particularly useful as a reinforcing adhesive tape in the production process of electronic circuits, printed circuit boards and the like.

Claims (3)

水酸基含有モノマー0.01〜5重量部、およびその他共重合可能なモノマーを共重合してなる水酸基を有するポリマー(A)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)、光重合開始剤(C)およびイソシアネート系硬化剤(D)を含んでなり、前記(A)〜(C)が有する水酸基の合計に対する、(D)中のイソシアネート基の当量比が1を超え30以下、前記水酸基を有するポリマー(A)100重量部に対して、活性エネルギー線硬化性化合物(B)30〜150重量部を含むことを特徴とするプリント回路基板製造用活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物。 Polymer (A) having a hydroxyl group obtained by copolymerizing 0.01 to 5 parts by weight of a hydroxyl group-containing monomer and other copolymerizable monomers , an active energy ray-curable compound (B), a photopolymerization initiator (C) and A polymer comprising an isocyanate-based curing agent (D), wherein the equivalent ratio of isocyanate groups in (D) is more than 1 and not more than 30 with respect to the total number of hydroxyl groups of (A) to (C) ( A) 30 to 150 parts by weight of the active energy ray-curable compound (B) is contained with respect to 100 parts by weight of the active energy ray adhesive disappearing pressure-sensitive adhesive composition for producing a printed circuit board . 水酸基を有するポリマー(A)が、さらにカルボキシル基を有するポリマー(A−1)であって、前記(A−1)、活性エネルギー線硬化性化合物(B)、および光重合開始剤(C)が有する水酸基と、カルボキシル基との合計に対する、イソシアネート系硬化剤(D)中のイソシアネート基の当量比が0.05〜0.35であることを特徴とする請求項1記載のプリント回路基板製造用活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物。 The polymer (A) having a hydroxyl group is a polymer (A-1) further having a carboxyl group, and (A-1), the active energy ray-curable compound (B), and the photopolymerization initiator (C) are 2. The printed circuit board production according to claim 1, wherein an equivalent ratio of the isocyanate group in the isocyanate curing agent (D) to the total of the hydroxyl groups and carboxyl groups is 0.05 to 0.35 . Active energy ray adhesive strength disappearing pressure-sensitive adhesive composition. 基材、請求項1または2記載のプリント回路基板製造用活性エネルギー線粘着力消失型粘着剤組成物から形成される粘着剤層(I)および剥離シートが順次積層されてなるプリント回路基板製造用活性エネルギー線粘着力消失型粘着テープであって、前記剥離シートの剥離処理面の算術平均粗さ(Ra)が0.10〜2μmであることを特徴とするプリント回路基板製造用活性エネルギー線粘着力消失型粘着テープ。 3. For printed circuit board production , comprising a base material, an adhesive layer (I) formed from the active energy ray-adhesive adhesive composition for printed circuit board production according to claim 1 or 2, and a release sheet, which are sequentially laminated . An active energy ray adhesive tape for producing a printed circuit board , wherein the adhesive sheet is an active energy ray adhesive strength disappearing type adhesive tape, wherein the release sheet has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.10 to 2 μm. Power loss type adhesive tape.
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