JP5549908B2 - 損傷dna修復物質のスクリーニング方法 - Google Patents
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Description
〔1〕末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とアジド部分を含むレポーター分子、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と末端アルキンを含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを用いることを特徴とする、DNAが損傷した細胞におけるDNA修復能力を賦活する物質もしくは遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する物質もしくは遺伝子、DNA修復に影響を与える物質もしくは遺伝子、又はDNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法。
〔2〕下記の工程(a)、(b)、(c)及び(d)を含む、前記〔1〕記載のスクリーニング方法:
(a)細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(b)被験物質、工程(a)で処理した細胞及び末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c)上述の工程が終了した細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを対照群と比較する工程、並びに
(d)前記(c)の比較結果に基づいて、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を変化させる物質を選択する工程。
〔3〕下記の工程(a)、(b’)、(c’)及び(d’)を含む、前記〔1〕記載のスクリーニング方法:
(a)細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(b’)被験物質、工程(a)で処理した細胞及びアジド修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’)上述の工程が終了した細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを対照群と比較する工程、並びに
(d’)前記(c’)の比較結果に基づいて、アジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を変化させる物質を選択する工程。
〔4〕細胞と被験物質の接触が工程(a)の前で行われ、工程(a)で被験物質の接触が完了し、工程(b)又は(b’)で被験物質の接触が省略される、前記〔2〕又は〔3〕に記載のスクリーニング方法。
〔5〕工程(a)で用いる細胞における遺伝子の発現を制限する操作が工程(a)の前で行われ、
工程(a)で当該細胞における当該遺伝子の発現が制限されており、
工程(b)又は(b’)で被験物質の接触が省略され、かつ
工程(d)又は(d’)において取り込み率を変化させる、発現が制限された遺伝子を選択する、前記〔2〕又は〔3〕に記載のスクリーニング方法。
〔6〕DNAが損傷した細胞におけるDNA修復能力を賦活する遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する遺伝子又はDNA修復に影響を与える遺伝子を探索するための方法である、前記〔5〕に記載のスクリーニング方法。
〔7〕DNA修復欠損を伴う疾患あるいは正常ヒトにおいて自然発生したDNA修復欠損が原因となる疾患の治療剤の有効成分を探索するための方法である、前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のスクリーニング方法。
〔8〕DNA修復欠損を伴う疾患が、色素性乾皮症、コケイン症候群又は硫黄欠乏性毛髪発育異常症である、前記〔7〕に記載のスクリーニング方法。
〔9〕アンチエイジング効果を有する化粧品又は医薬品の成分を探索するための方法である、前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載のスクリーニング方法。
〔10〕アンチエイジング効果を有する化粧品又は医薬品が紫外線防護化粧品である、前記〔9〕に記載のスクリーニング方法。
〔11〕下記の工程(b’’)、(c’’)及び(d’’)を含む、DNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法である、前記〔1〕記載のスクリーニング方法:
(b’’)試験物質、細胞及び末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’’)試験物質を接触させた細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを試験物質を接触させない対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(d’’)前記(c’’)の比較結果に基づいて、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を有意に増加させる物質を細胞毒性を示す物質と判定する工程。
〔12〕下記の工程(b’’’)、(c’’’)及び(d’’’)を含む、DNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法である、前記〔1〕記載のスクリーニング方法:
(b’’’)試験物質、細胞及びアジド修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’’’)試験物質を接触させた細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを試験物質を接触させない対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(d’’’)前記(c’’’)の比較結果に基づいて、アジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を有意に増加させる物質を細胞毒性を示す物質と判定する工程。
〔13〕DNA修復欠損を伴う細胞の検出方法であって、下記の工程(A)、(B)、(C)及び(D):
(A)被験者から採取した細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(B)工程(A)で処理した細胞と末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とを接触させる工程、
(C)紫外線処理した細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みをDNA損傷処理した対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(D)前記(C)の比較結果に基づいて、被験者におけるDNA修復欠損の有無を判定する工程、を含む方法。
〔14〕DNA修復欠損を伴う細胞の検出方法であって、下記の工程(A)、(B’)、(C’)及び(D’):
(A)被験者から採取した細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(B’)工程(A)で処理した細胞とアジド修飾ヌクレオシド誘導体とを接触させる工程、
(C’)紫外線処理した細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含むレポーター分子を用いて測定し、該取り込みをDNA損傷処理した対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(D’)前記(C’)の比較結果に基づいて、被験者におけるDNA修復欠損の有無を判定する工程、を含む方法。
〔15〕DNA修復欠損を伴う細胞が、色素性乾皮症、コケイン症候群又は硫黄欠乏性毛髪発育異常症の可能性がある患者に由来するものである、前記〔13〕又は〔14〕に記載の検出方法。
〔16〕末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とアジド部分を含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セット、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と末端アルキンを含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを含む、DNA修復欠損を伴う疾患の診断キット。
〔17〕末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とアジド部分を含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セット、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と末端アルキンを含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを含む、DNAが損傷した細胞における修復能力を賦活する物質もしくは遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する物質もしくは遺伝子、DNA修復に影響を与える物質もしくは遺伝子、又はDNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング用キット。
本発明のスクリーニング方法及び検出方法は、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とアジド部分を含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セット(1)、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と末端アルキンを含むレポーター分子とを組み合わせた試薬セット(2)を用いることを特徴とする。
試薬セット(1)に含まれる末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体は、ヌクレオシドの末端にアルキニル(好ましくは、エチニル)基を有するヌクレオシドを包含し、例えばUDS測定には、エチニルデオキシアデノシン(EdA)、エチニルデオキシグアノシン(EdG)、エチニルデオキシシチジン(EdC)、エチニルチミジン(EdT)及びエチニルデオキシウリジン(EdU)が、RRS測定にはエチニルアデノシン(EA)、エチニルグアノシン(EG)、エチニルシチジン(EC)、エチニルウリジン(EU)等が挙げられるが、これに限定されるものではない。末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体は、アプリケーションによっては、前記したヌクレオシド部分を含むヌクレオチド、例えば、エチニルデオキシアデノシン三リン酸(E-dATP)等であってもよい。これらの化合物は、公知の方法によって製造することができる(Synlett, 2000,1: pp.86-88)。本発明においては、市販品を好適に利用することができる。
本発明においては、UDS測定においてはEdA、EdG、EdC、EdT及びEdUからなる群より選ばれる少なくとも1種の末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を用いることが好ましく、EdUがより好ましい。またRRS測定においてはEA、EG、EC及びEUからなる群より選ばれる少なくとも1種の末端アルキン修飾ヌクレオチド誘導体を用いることが好ましく、EUがより好ましい。
試薬セット(2)に含まれるアジド修飾ヌクレオシド誘導体は、アジド化されたヌクレオシドを包含し、例えばUDS測定には、アジドデオキシアデノシン、アジドデオキシグアノシン、アジドデオキシシチジン、アジドチミジン及びアジドデオキシウリジン等が、RRS測定にはアジドアデノシン、アジドグアノシン、アジドシチジン、アジドウリジン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。アジド修飾ヌクレオシド誘導体は、前記したヌクレオシド部分を含むヌクレオチド、例えば、アジドデオキシアデノシン三リン酸(N3-dATP)、等であってもよい。これらの化合物は、公知の方法によって製造することができる(Anal. Biochem., 1998, 258:pp.195-201)。本発明においては、市販品を好適に利用することができる。
一実施態様として、本スクリーニング方法は、試薬セット(1)を用いる。
工程(a)で用いる細胞は、特に限定されるものではなく、あらゆる生物由来の、あらゆる組織由来の細胞であってもよい。ヒトに有用な物質の探索のためには、ヒト由来の細胞又は疾患モデルマウス等の細胞が好ましく、初代培養細胞であっても継代された細胞株であってもよい。例えば、正常1BR、48BR、142BR及び251BR等のヒト初代線維芽細胞、XP12BR、XP15BR、XP13BR及びXP20BE等のXP患者由来細胞が挙げられるが、これらに限定されない。これらの細胞は、動物の組織から常法により採取したものを用いてもよく、寄託機関から分譲される細胞株又は市販の細胞株を用いてもよい。スクリーニングの対象が遺伝子である場合には、RNA干渉法又は遺伝子破壊法、その他の手法により、スクリーニング対象遺伝子の発現を制限した被験細胞を用いる。
被験物質としては、いかなる公知物質及び新規物質であってもよく、例えば、核酸、糖質、脂質、タンパク質、ペプチド、有機低分子化合物、コンビナトリアルケミストリー技術を用いて作製された化合物ライブラリー、固相合成及び/又はファージディスプレイ法により作製されたランダムペプチドライブラリー、あるいは微生物、動植物、海洋生物等由来の天然成分等が挙げられる。スクリーニング対象が遺伝子である場合には別途の被験物質との接触工程は省略され得る。また、毒性試験においては工程(a)にて被験物質との接触が既になされている。
工程(b)で接触が完了した細胞を、界面活性剤を含むホルムアルデヒド溶液等を用いて、固定又は透過処理する。その後細胞を十分洗浄し、遊離の末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を除いた後、細胞内に取り込まれた末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を、アジド部分を含むレポーター分子を用いて測定する。末端アルキン基とアジドの結合反応は、Cuイオンの存在下、室温でインキュベートすることにより行われる。結合したレポーター分子は、レポーターの種類に応じて常法により測定することができるが、蛍光色素であるレポーター分子を用いる場合は、励起波長と検出波長を組み合わせて、蛍光色素から発する特定の波長の蛍光を容易に測定できるので好ましい。蛍光の測定は、細胞をカバーガラス上に固定して、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡で細胞の写真を取り込み、取り込み画像を処理し、ソフトウェアで解析することができる。S期の細胞は測定対象から除く。浮遊細胞の場合は、フローサイトメトリーにより解析することができる。
また、細胞をマイクロタイタープレート上で培養することで、ハイスループットスクリーニングに対応し、In−Cell−Analyzer等のハイスループットイメージングシステムにより解析することもできる。
対照となる細胞も同様に測定し、被験操作を行った細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを比較する。このようにして、本工程においてUDS又はRRSを測定することができる。
対照操作を行った細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み量に比べて、被験操作を行った細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み量が有意に変化する場合、当該被験操作に含まれるスクリーニング対象となる物質又は遺伝子は、末端アルキン修飾ヌクレオシドの取り込み率を変化させるものとして選択することができる。このようにして選択された物質又は遺伝子は、DNA損傷の修復を賦活させる、又はDNA損傷の発生を抑制する、あるいはDNA修復に関与する遺伝子の候補として、様々な用途に利用することができる。毒性試験においては、対象となる物質の毒性評価に利用できる。
(a)細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程
前記工程(a)と同様である。スクリーニングの対象が遺伝子である場合には、RNA干渉法又は遺伝子破壊法その他の手法により、スクリーニング対象遺伝子の発現を制限した被験細胞を用いる。また、毒性試験においては被験物質にて細胞を処理する工程のみを行い、別途の損傷誘発処理は行わない。
前記工程(b)において、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の代わりに、アジド修飾ヌクレオシド誘導体を用いること以外は、工程(b)と同様である。スクリーニング対象が遺伝子である場合には別途の被験物質との接触工程は省略され得る。また、毒性試験においては工程(a)にて被験物質との接触が既になされている。
前記工程(b’)で接触が完了した細胞を、アジド修飾レポーター分子の代わりに、末端アルキンを含むレポーター分子を用いて測定すること以外は、前記工程(c)と同様である。
被験物質を接触させない対照の細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み量に比べて、被験操作を行った細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み量が有意に変化する場合、当該被験操作に含まれるスクリーニング対象となる物質又は遺伝子は、アジド修飾ヌクレオシドの取り込み率を変化させるものとして選択することができる。このようにして選択された物質又は遺伝子は、DNA損傷の修復を賦活させる、又はDNA損傷の発生を抑制する、あるいはDNA修復に関与する遺伝子の候補として、様々な用途に利用することができる。毒性試験においては、対象となる物質の毒性評価に利用できる。
本発明は、前記試薬セット(1)又は(2)を用いて、DNA修復欠損を伴う細胞の検出方法を提供する。当該検出方法により得られた結果を利用して、DNA修復欠損を伴う疾患を診断することも可能である。一実施態様として、本検出方法は、試薬セット(1)を用い、ヌクレオチド除去修復欠損を伴う細胞を検出する。
DNA損傷処理対象の細胞は、被験者の生体組織の一部を採取し(皮膚生検等)、酵素処理により分散化し初期培養細胞とすることによって準備する。対照として、正常皮膚由来の線維芽細胞、XPの検出のためにはXP患者由来の線維芽細胞株(例えば、XP15BR(XP−A)、XP20BE(XP−G)、XP13BR(XP−C)、XP12BR(XP−D))、CSの検出のためにはCS患者由来の線維芽細胞(CS10LO(CS−B))を準備することも好ましい。
DNA損傷処理の条件としては、例えば、波長254nmの紫外線をヒト線維芽細胞に対して、5〜20J/m2の照射が例示される。
スクリーニング方法における工程(b)において、被験物質を添加しないこと以外は工程(b)と同様である。
スクリーニング方法における工程(c)と同様である。
被験者由来の細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みが、正常対照細胞における取り込みに比べて有意に低い場合、当該被験者は、ヌクレオチド除去修復能力が低下していると判定することができる。また、当該被験者由来の細胞における取り込みを、例えば、典型的なXP患者のタイプ別の細胞における取り込みとそれぞれ比較することにより、被験者がいずれかのタイプのXPに罹患しているか否かの目安とすることもできる。
前記工程(A)と同様である。
前記工程(B)において、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の代わりに、アジド修飾ヌクレオシド誘導体を用いること以外は、工程(B)と同様である。
前記工程(B’)で接触が完了した細胞を、アジド修飾レポーター分子の代わりに、末端アルキンを含むレポーター分子を用いて測定すること以外は、前記工程(C)と同様である。
前記工程(D)において、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の代わりに、アジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを検定すること以外は、工程(D)と同様である。
EdU取り込みによる紫外線誘発UDSの最適化
48BR細胞をカバーガラス上で培養し、コンフルエント密度で維持した。細胞をPBSで洗浄し、続いて異なる照射量(5−20J/m2)の紫外線(254nm)を照射した。紫外線照射後、直ちに10μMのEdUを含む無血清DMEMで、細胞を異なる期間(0.5、1、2及び4時間)培養した。次いで、細胞をPBSで洗浄し、2% ホルムアルデヒド、0.5% トリトンX−100及び300μM スクロース含有PBSで20分間固定・透過処理をした。PBSで徹底的に洗浄後、細胞を10% FBS加PBSで30分間処理した。取り込まれたEdUを、蛍光アジド結合反応により検出した(Click−iTR、インビトロジェン)。検出の手順は以下の通りである。4mMのCuSO4を添加したTBS中で、アジド結合Alexa Fluor488色素と共に、細胞を30分間インキュベートし、次いで、0.05% Tween−20(PBST)含有PBSで細胞を3回洗浄した。カバーガラスをPBSに浸漬し、3.7% ホルムアルデヒド加PBSで20分間固定し、アクアポリマウント(Polysciences)でガラススライド上に装着した。CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡(BIOREVO9000−KEYENCE)で細胞の写真を取り込み、取り込み画像をImageJ ソフトウェア(NIH)で解析した。一つの取り込んだ視野から少なくとも50個のS期でない細胞を無作為に選択し、核の平均蛍光強度を算出した。対照として、紫外線照射の過程において正常細胞を偽処理した以外は、同一の条件でEdUアッセイを行い、画像を解析した。
図1Aより、核の蛍光強度が紫外線照射量及びEdUインキュベーション時間の両方に比例していることが明らかになり、この評価項目が、半定量的にUDS活性へと直接転換でき、取り込まれたEdU量を示すことも分かった。また、比較的少ない紫外線照射において、紫外線照射後の短期間のEdUインキュベーションで、核蛍光シグナルを検出することができた。また、20J/m2の紫外線照射の後、細胞をEdUと共に2時間インキュベーションをすることが、UDSアッセイを行うにあったって最適条件であると示された。以後、特に規定がない限り全ての実施例にはこの条件を用いた。
図1Bより、3H−チミジンで標識しオートラジオグラフィーを用いた手法において見られたS期細胞における細胞周期DNA合成由来の強いシグナルは、修復合成に起因するより弱い細胞周期非依存的な不定期DNA合成によるEdU取り込みとは区別される。さらに、非特異的細胞質染色又はDNA複製非依存的核シグナルをほとんど検出しなかったことより、蛍光アジド結合反応は、取り込まれたEdUに特異的であると示された。
以上より、本技法がごく微量のUDS活性を検出するのに十分な感受性があることを示唆する。
EdU取り込みアッセイとBrdU取り込みアッセイとの比較
ヒト由来の正常な初代線維芽細胞48BR細胞及びXP−A患者由来の初代線維芽細胞であるXP15BR細胞において、紫外線照射(対照は偽処理)後にEdU又はBrdUを取り込ませて、UDS活性を比較した。
正常48BR(UDS陽性、図1C)及びXP欠損15BR(UDS陰性、図1D)線維芽細胞の両方に関する、EdUの取り込みに基づくUDSアッセイについての強度分散プロットは、確立されたオートラジオグラフィーに基づく実験のそれと似ているが、本試験例では、バックグラウンドUDSレベルが、オートラジオグラフィー由来のものよりも比較的高かったことを認めた。EdUアッセイは、常に小さなSD(10−15%)を提供した。
また、EdUに基づくアッセイとBrdUに基づくアッセイとの相対的感受性を比較したところ、BrdUの感受性及び解像度は、EdUと比較しても制限される(図1E及び図1F)。これは、BrdUを一般にS期標識に用いる報告がされているのに対して、UDSアッセイに用いる報告がほとんど無いことからも示唆される。正常48BR線維芽細胞及びXP欠損XP15BR線維芽細胞のヒストグラムは、BrdUに基づくアッセイによっても区別され得るが(図1E及び図1F)、解像度並びにSDは、EdU方法において両方とも顕著に改善されており、UDSアッセイにおいて、BrdUよりもEdUを用いる方が感受性が高いことを示している。
NER欠損初代線維芽細胞における紫外線誘発EdU取り込み
EdUの取り込みに基づくUDS測定法のXP診断方法への適用を検討するために、数種のNER欠損初代線維芽細胞並びに正常コントロールにおける、紫外線誘発EdU取り込みレベルを検討した(対照は紫外線処理なし)。使用した細胞は、48BR、1BR、XP15BR、XP20BE、XP13BR、XP12BR、CS10LOである。EdUに基づくUDS活性の測定は前述の通りである。
試験結果を図2A−Gのヒストグラム及び図2Iの写真に示す。XPは遺伝的な異種疾患(原因遺伝子が単一ではない疾患)であるため、異常を持つNER遺伝子及び変異の型の両方が、UDSにおける欠損の規模を決定する。XP15BR(XP−A)、XP20BE(XP−G/CS)、XP13BR(XP−C)、XP12BR(XP−D)及びCS患者由来CS10LO(CS−B)細胞におけるUDSを測定した。20J/m2で紫外線照射した結果、正常線維芽細胞48BR(図2A)及び1BR(図2B)における実質的UDSを観察した。深刻なXP患者由来のXP15BR(XP−A、図2C)及びXP20BE(XP−G、図2D)線維芽細胞におけるUDSをほとんど検出しなかったが、XP−C患者由来のXP13BR(図2E)線維芽細胞において、検出限界(正常の最大20%)に近いUDS活性を検出した。また図2Iより、正常細胞においてEdU取り込みが行われているのに対し、NER欠損細胞においてはEdU取り込みが確認されないことから、S期でない細胞における紫外線誘発EdU取り込みは、NERの修復DNA合成に特異的であることが示された。
3H−チミジン取り込みアッセイ
3H−チミジンに基づくUDSアッセイの詳細は、以下の通りである。静止細胞(XP15BR、XP13BR、XP12BR及び4つの異なる正常細胞(1BR、48BR、142BR及び251BR))を1% DMEM中で3日間培養した(3×105細胞/5cm直径プレート)。それらを10mM ヒドロキシウレア(HU)と共に1時間インキュベートした後、指示照射量で紫外線照射した。10μCi/ml 3H−チミジン及び10mM HU含有1% DMEMでさらに3時間インキュベートした。酸不溶性物質内に取り込まれた3H−チミジンを、液体シンチレーションカウントにより測定した。
図2Hより、UDS活性はXP15BRにおいてはほとんど検出されなかったが、XP13BR及びXP12BRにおいてはそれぞれ正常値の最大約20%及び最大約40%であり、これはEdUの取り込みに基づくアッセイの結果である図2C、図2E及び図2Fの示す結果と十分一致する。また、この結果から中間的なUDS活性(正常UDSレベルの20から40%)を示す細胞が、EdUの取り込みに基づくアッセイにより、正常なUDS活性及び深刻なUDS欠損の両方から区別され得ることが実証された。
免疫染色との適合性の比較
EdUの取り込みに基づくUDS測定法の臨床診断への適用を検討するために、本技法と内部標準を用いた他の標準技法によるUDSアッセイとの適合性を評価した。48BR細胞及びXP20BE細胞を1:1の比率で混合培養した(ki67染色については48BR単独)。紫外線照射、EdUインキュベーション並びに固定・透過処理工程を、前述の通り行った。抗体検出のために、PBS中10% FBSで30分間細胞を固定し、続いてマウスモノクローナル抗XPG(8H7、サンタクルーズバイオテクノロジー)抗体(PBSTで1:100に希釈)又はウサギモノクローナル抗ki67(SP6、サーモサイエンティフィック)抗体(PBSTで1:100に希釈)と共に1時間インキュベーションした。次いで、細胞をPBSTで三回洗浄し、続いて二次抗体(XPG及びki67検出のためにそれぞれ、Alexa Fluor594結合ヤギ抗マウスIgG(インビトロジェン、PBSTで1:1000に希釈)、及びAlexa Fluor594結合ヤギ抗ウサギIgG(インビトロジェン、PBSTで1:1000に希釈))と共に1時間インキュベーションした。不必要な核の蛍光を避けるために、DAPI染色を省いた。PBSTによる徹底的な洗浄の後、3.7% ホルムアルデヒド加PBSで20分間細胞を固定した。その後、EdU検出を前述の通り行った。
図3A及び図3Bより、EdUへの蛍光アジド結合が、免疫蛍光染色と完全に適合することが分かった。指標線維芽細胞並びに本試験例中の標的を同一カバーガラス上で共培養した結果、厳密な内部コントロールを得た。図3Aにおいて、正常線維芽細胞及びXPG欠損線維芽細胞を共培養し、続いてXPG抗体による免疫染色と組み合わせてUV−UDSアッセイを行った結果、EdU陽性細胞(S期を除く)は、XPG陽性細胞と完全に一致し、2つの異なる細胞集団がUDSアッセイにおいて区別され得ることが示された。同様に、図3Bにおいて、EdUアッセイについての細胞周期選択性があるかどうかを調べた結果、増殖マーカーki67による共免疫染色は、静止線維芽細胞(ki67染色なし)並びに増殖集団においてUDSを検出し得ることを実証した。
これまでの結果より、UDS活性におけるNER欠損のレベルは異なるXP患者の間で変動する。患者がNER不全であるかどうかを、患者由来の線維芽細胞の残留UDS活性と指標細胞のそれとを比較することにより評価されることが理想的である。このことを確認するために、実用的なUDSに基づくXP診断において、細胞質中にラテックスビーズを導入することで前処理した正常線維芽細胞を、患者由来の線維芽細胞と共に共培養した。「ビーズ標識細胞」は、試料から試料への染色の変動を除去する、位相差顕微鏡下で検出され得る内部標準を提供する。本技術がまた、EdUアッセイと適合するかどうかを検査した。まず、ラテックスビーズが核蛍光強度に作用しないかどうかを調べた。
正常48BR細胞を0.5μm直径ラテックスビーズで前標識し、カバーガラス上で指示XP線維芽細胞(48BR、XP12BR、XP15BR:ビーズなし)と共培養した。次いで、細胞を紫外線照射(20J/m2)し、続いて10μM EdUと共に2時間インキュベーションした。次いで、カバーガラスを比較例1と同様に処理した。
図4A上段及び対応するヒストグラム(図4B)に示すように、ビーズを導入した48BR細胞における蛍光強度は、ビーズのない細胞におけるそれと事実上同一であり、ビーズはEdUの取り込みに基づくUDSアッセイを妨げないことが示された。また、わずかな(XP12BR、図4A中段及び4C)並びに深刻な(XP15BR、図4A下段及び4D)UDS欠損線維芽細胞は両方とも、それらの核蛍光レベルにより、共培養した48BR線維芽細胞とは容易に区別することができた。内部コントロールのあるUDS測定値又は内部コントロールのないUDS測定値は、ほとんど同一であり(図2A、2C及び2Fと図4B、4D及び4Cとを比較)、EdUの取り込みに基づくアッセイにおける実験毎又は個別の実験内での個々のカバーガラスからカバーガラスの間の蛍光強度の変動は小さく、これは内部標準の使用が不適切な実験(例、GE’s In−Cell−Analyzer又はフローサイトメトリーを用いた蛍光に基づく高いスループットスクリーニング)に、EdUアッセイを適用する場合、利点となり得ることを示唆する。
FdU添加、より長期のインキュベーション及び酸抽出による感受性の改善
前述したEdUの取り込みに基づく実験は、通例のXPスクリーニング並びに多くのNER研究について十分であるが、UDS活性が完全にない状態と非常に低いUDS活性との間の区別のようなさらなる正確さを要求する実験には、高い感受性が必要となる。そこで、特異的なEdUの取り込みを増加すること並びに非特異的バックグラウンドを低減することを試みた。チミジンアナログのDNA内への取り込みは、ヌクレオチドプール中で内生的に合成されたチミジンヌクレオチドに関連するその(チミジンアナログの)濃度に依存する。フルオロデオキシウリジン(FdU)は、チミジル酸合成のインヒビターであり、これは外因的に添加されたチミジン又はそのアナログに由来するヌクレオチドの細胞内濃度を増加させる。そこで、FdUを用いて、紫外線照射後に、より長いインキュベーション期間(4時間)を行った。さらに、バックグラウンドを低減するために、ブアン固定液(Sigma)を用いたストリンジェントな酸抽出を試みた。具体的な手順は以下の通りである。正常48BR細胞をカバーガラス上で培養し、紫外線照射(20J/m2)し、続いて10μMのEdU及び1μMのFdU(Sigma)と共に4時間インキュベーションした。次いで、細胞を試験例1に示したように固定した。ブアン固定液を用いて酸抽出を30分間行い、続いてPBSでの徹底的な洗浄を行った。蛍光色素の結合及びEdUシグナルの検出は、比較例2における実験と同様である。
図5に示すように、劇的ではないが、バックグラウンド(白及び赤いバー並びにそれらの相当するアスタリスクを比較)及びUDS特異的EdU取り込み(黒及び青いバーを比較)の両方が改善した。バーは、指示クラスにおける蛍光レベルの頻度を示し、紫外線照射あり(黒、図2Aと同様;青、+FdU+4時間インキュベーション+酸抽出)又は紫外線照射なし(白、図2Aと同様;赤、+FdU+4時間インキュベーション+酸抽出)である。
96wellマイクロタイタープレート上に単層培養した正常ヒト初代線維芽細胞をPBSで洗浄し、20J/m2で紫外線照射(254nm)する。紫外線照射後、10μM EdU(インビトロジェン)を添加した無血清DMEMにおいて、被験物質と共に細胞を直ちに2時間培養する。培養後、細胞をPBSで洗浄し、2% ホルムアルデヒド、0.5% トリトンX−100及び300mM スクロース含有PBSで20分間、固定及び透過処理を行う。PBSで徹底的に洗浄後、細胞を10%FBS加PBSで30分間ブロックする。4mM CuSO4を添加したTBS中において、EdUとアジド結合Alexa Fluor488色素と共に、細胞を30分間インキュベートし、次いで、0.05% Tween−20(PBST)含有PBSで、細胞を3回洗浄する。各wellにPBSを100μlずつ加え、In−Cell−Analyser(http://www.gelifesciences.co.jp/catalog/web_catalog.asp?frame5_Value=675)(GE)で細胞の写真を全自動で取り込み、取り込み画像を統計処理し、平均核蛍光強度を算出する。
Claims (16)
- 末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体と、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを用いることを特徴とする、DNAが損傷した細胞におけるDNA修復能力を賦活する物質もしくは遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する物質もしくは遺伝子、DNA修復に影響を与える物質もしくは遺伝子、又はDNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法であって、
下記の工程(a)、(b)、(c)及び(d):
(a)細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(b)被験物質、工程(a)で処理した細胞及び末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c)上述の工程が終了した細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを対照群と比較する工程、並びに
(d)前記(c)の比較結果に基づいて、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を変化させる物質を選択する工程を含み、
工程(a)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、スクリーニング方法。 - アジド修飾ヌクレオシド誘導体と、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを用いることを特徴とする、DNAが損傷した細胞におけるDNA修復能力を賦活する物質もしくは遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する物質もしくは遺伝子、DNA修復に影響を与える物質もしくは遺伝子、又はDNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法であって、
下記の工程(a)、(b’)、(c’)及び(d’):
(a)細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(b’)被験物質、工程(a)で処理した細胞及びアジド修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’)上述の工程が終了した細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを対照群と比較する工程、並びに
(d’)前記(c’)の比較結果に基づいて、アジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を変化させる物質を選択する工程を含み、
工程(a)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、スクリーニング方法。 - 細胞と被験物質の接触が工程(a)の前で行われ、工程(a)で被験物質の接触が完了し、工程(b)又は(b’)で被験物質の接触が省略される、請求項1又は2に記載のスクリーニング方法。
- 工程(a)で用いる細胞における遺伝子の発現を制限する操作が工程(a)の前で行われ、
工程(a)で当該細胞における当該遺伝子の発現が制限されており、
工程(b)又は(b’)で被験物質の接触が省略され、かつ
工程(d)又は(d’)において取り込み率を変化させる、発現が制限された遺伝子を選択する、請求項1又は2に記載のスクリーニング方法。 - DNAが損傷した細胞におけるDNA修復能力を賦活する遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する遺伝子又はDNA修復に影響を与える遺伝子を探索するための方法である、請求項4に記載のスクリーニング方法。
- DNA修復欠損を伴う疾患あるいは正常ヒトにおいて自然発生したDNA修復欠損が原因となる疾患の治療剤の有効成分を探索するための方法である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のスクリーニング方法。
- DNA修復欠損を伴う疾患が、色素性乾皮症、コケイン症候群又は硫黄欠乏性毛髪発育異常症である、請求項6に記載のスクリーニング方法。
- アンチエイジング効果を有する化粧品又は医薬品の成分を探索するための方法である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のスクリーニング方法。
- アンチエイジング効果を有する化粧品又は医薬品が紫外線防護化粧品である、請求項8に記載のスクリーニング方法。
- 下記の工程(b’’)、(c’’)及び(d’’)を含む、DNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法:
(b’’)試験物質、細胞及び末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’’)試験物質を接触させた細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを試験物質を接触させない対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(d’’)前記(c’’)の比較結果に基づいて、末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を有意に増加させる物質を細胞毒性を示す物質と判定する工程、
ここで、工程(b’’)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、スクリーニング方法。 - 下記の工程(b’’’)、(c’’’)及び(d’’’)を含む、DNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング方法:
(b’’’)試験物質、細胞及びアジド修飾ヌクレオシド誘導体を接触させる工程、
(c’’’)試験物質を接触させた細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みを試験物質を接触させない対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(d’’’)前記(c’’’)の比較結果に基づいて、アジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込み率を有意に増加させる物質を細胞毒性を示す物質と判定する工程、
ここで、工程(b’’’)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、スクリーニング方法。 - DNA修復欠損を伴う細胞の検出方法であって、下記の工程(A)、(B)、(C)及び(D):
(A)被験者から採取した細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(B)工程(A)で処理した細胞と末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体とを接触させる工程、
(C)紫外線処理した細胞における末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みをDNA損傷処理した対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(D)前記(C)の比較結果に基づいて、被験者におけるDNA修復欠損の有無を判定する工程、を含み、
ここで、工程(A)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、検出方法。 - DNA修復欠損を伴う細胞の検出方法であって、下記の工程(A)、(B’)、(C’)及び(D’):
(A)被験者から採取した細胞を紫外線又は変異原で処理し、DNA損傷を誘発する工程、
(B’)工程(A)で処理した細胞とアジド修飾ヌクレオシド誘導体とを接触させる工程、
(C’)紫外線処理した細胞におけるアジド修飾ヌクレオシド誘導体の取り込みを、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子を用いて測定し、該取り込みをDNA損傷処理した対照細胞における取り込みと比較する工程、並びに
(D’)前記(C’)の比較結果に基づいて、被験者におけるDNA修復欠損の有無を判定する工程、を含み、
ここで、工程(A)の細胞はヌクレオシド誘導体の取り込みのイメージングにより同定された非S期細胞であり、
該取り込みは、S期細胞では測定されず、
該測定は、CCDカメラを備えた蛍光顕微鏡またはハイスループットイメージングシステムを用いて行われる、検出方法。 - DNA修復欠損を伴う細胞が、色素性乾皮症、コケイン症候群又は硫黄欠乏性毛髪発育異常症の可能性がある患者に由来するものである、請求項12又は13に記載の検出方法。
- 末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体と、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セット、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを含む、DNA修復欠損を伴う疾患の診断キット。
- 末端アルキン修飾ヌクレオシド誘導体と、アジド部分を含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セット、又はアジド修飾ヌクレオシド誘導体と、末端アルキンを含む蛍光標識されたレポーター分子とを組み合わせた試薬セットを含む、DNAが損傷した細胞における修復能力を賦活する物質もしくは遺伝子、DNA損傷の誘発を抑制する物質もしくは遺伝子、DNA修復に影響を与える物質もしくは遺伝子、又はDNA損傷を指標とした物質の毒性の有無のスクリーニング用キット。
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