JP5548505B2 - コヒーレント放射を一様化するための装置 - Google Patents
コヒーレント放射を一様化するための装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5548505B2 JP5548505B2 JP2010085878A JP2010085878A JP5548505B2 JP 5548505 B2 JP5548505 B2 JP 5548505B2 JP 2010085878 A JP2010085878 A JP 2010085878A JP 2010085878 A JP2010085878 A JP 2010085878A JP 5548505 B2 JP5548505 B2 JP 5548505B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- bundles
- lens
- periodic
- condenser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 title claims description 43
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 32
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 58
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 27
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 28
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 4
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005293 physical law Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/095—Refractive optical elements
- G02B27/0955—Lenses
- G02B27/0961—Lens arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/48—Laser speckle optics
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0225—Out-coupling of light
- H01S5/02253—Out-coupling of light using lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Lenses (AREA)
Description
Δ=b sinα (1)
が存在することが分かる。ここで、bは集光レンズ16の横幅を表す。部分的な光線束22、24は、コンデンサ12によって、照明フィールド14の焦点26に重なり合う光線の収束した部分的な光線束22’、24’に結像される。焦点26の位置xは、コンデンサ12の焦点距離f及び出射角αによって
x=f tanα (2)
と与えられる。
Δ=x b/f (3)
に従って変化して、交互の建設的及び破壊的干渉によって強度I(x)の周期的な変調30が生じる。
A10=A20*L (5)
ここで、アスタリスク(*)は、関数間の畳み込み積を表す。例えば、ガウシアンプロファイルについて、入射するコヒーレントな光線束20a、20b、20cそれぞれの横方向の振幅分布は、(一定の前因子を別にして)以下の形になる:
V=P/N (13)
であり、ここで、Nは、横方向にずらして結像されて、それ自体内においてコヒーレントである光線束20a、20b、20cの数である。それぞれN=3、N=2に対する図5及び図6に示されるように、この選択は、実際に(少なくとも上述の近似及び仮定の下において)、全強度36の実質的に一様な分布をもたらす。この理由は、対ごとに非コヒーレントな光線束20a、20b、20cの干渉が生じず、それらの強度Ik(x)が加算的に重ね合うからである:
200 レンズシステムの第一の更なる発展
300、400 本発明による装置
10 周期的レンズアレンジメント
12 コンデンサ
14 照明フィールド
16 集光レンズ
18 入射方向の伝播方向
20、20a、20b、20c コヒーレントな光線束
22、24 部分的な光線束
26 焦点
28 集光レンズ
30、30a、30b、30c 強度変調
32 再分割された集光レンズ
36 全強度
38 回転方向
40a、40b 同一平面上のプレート
42a、42b 干渉の最大
44、46 1D、2Dに対するオフセットベクトル
48 レーザ
50 光ガイド(光ファイバ)
52 放出されたレーザ放射
54 結合点
Claims (12)
- 所定の波長及び複数の光線束(20a、20b、20c)を有する光放射(20)を一様化するための装置(300;400)であって、前記光線束が該光線束自体内においてはコヒーレントであり、特定の前記光線束が対ごとに互いに非コヒーレントであり、該装置が、
前記光放射(20)の入射方向(18)に垂直に少なくとも一平面内に配置された複数のレンズ(16)を備えた周期的レンズアレンジメント(10)と、
前記周期的レンズアレンジメント(10)から発する光線を照明フィールド(14)に結像するように配置されたコンデンサ(12)であって、前記照明フィールド(14)が該コンデンサ(12)の焦点距離(f)に対応する距離に配置される、コンデンサ(12)とを備え、
前記周期的レンズアレンジメント(10)が、前記所定の波長を有する複数の光線束(20a、20b、20c)の各々の入射用の複数のセクション(10a、10b、10c)を備え、前記レンズ(16)に対して前記セクション内に周期的に形成されて、前記コンデンサ(12)が、横方向のオフセット(V)で前記照明フィールド(14)上に前記複数の光線束(20a、20b、20c)を結像するように配置され、前記オフセットが、前記周期的レンズアレンジメント(10)における前記複数の光線束(20a、20b、20c)の回折によって生じる強度変調(30a、30b、30c)を相互に補償するような寸法にされる、装置。 - 前記周期的レンズアレンジメント(10)の複数のセクション(10a、10b、10c)が、互いに或る一つの距離で横方向に配置される、請求項1に記載の装置。
- 回折によって生じる強度変調(30a、30b、30c)が横方向の周期(P)を有し、横方向のずれ(V)がP/Nに等しく、ここでNが前記複数の光線束(20a、20b、20c)の数である、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記コンデンサ(12)が複数の部分(32a、32b、32c)に再分割された少なくとも一つの集光レンズ(32)を備え、各部分(32a、32b、32c)が、前記複数の光線束(20a、20b、20c)の各々を、或る一つのオフセットで結像するように配置される、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記再分割された集光レンズ(32)の部分(32a、32b、32c)が、互いに或る一つの距離で横方向に存在し、及び/又は、互いに傾斜する、請求項4に記載の装置。
- 同一平面上のプレート(40a、40b)が、前記複数の光線束(20a、20b、20c)のうち一部の光路内においてそれぞれ、前記コンデンサ(12)の後方に配置される、請求項1から3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記同一平面上のプレート(40a、40b)が、互いに傾斜する、請求項6に記載の装置。
- 複数の光源を更に備え、各光源が、前記複数の光線束(20a、20b、20c)の各々を発生させるように構成されている、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記光源として、レーザ及び/又はレーザダイオードを備えるか、又は、周波数二倍化固体レーザを備える、請求項8に記載の装置。
- 前記光放射(20)を受光するための光ファイバ(50)を更に備え、前記光ファイバ(50)が前記複数の光線束(20a、20b、20c)の各々を結合する複数の結合点(54)を備え、前記結合点(54)間の光路長が、前記光放射(20)のコヒーレンス長よりも大きい、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。
- 前記コンデンサ(12)が少なくとも一つの集光レンズを備える、請求項1から10のいずれか一項に記載の装置。
- 所定の波長を有する光放射(20)を一様化するための方法であって、
前記所定の波長を有するコヒーレント光の複数の光線束を発生させる段階であって、各光線束(20a、20b、20c)が、該光線束自体内においてはコヒーレントであり、他の光線束(20a、20b、20c)の各々とは互いに非コヒーレントである、段階と、
請求項1から11のいずれか一項に記載の装置(300;400)の複数のセクション(10a、10b、10c)を有するレンズアレンジメント(10)に、前記複数の光線束(20a、20b、20c)を向けて、前記複数の光線束(20a、20b、20c)の各々が、前記複数のセクション(10a、10b、10c)の各々に当たるようにする段階とを備えた方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP09004991.7 | 2009-04-03 | ||
EP09004991.7A EP2237079B1 (de) | 2009-04-03 | 2009-04-03 | Vorrichtung zum Homogenisieren kohärenter Strahlung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010244044A JP2010244044A (ja) | 2010-10-28 |
JP5548505B2 true JP5548505B2 (ja) | 2014-07-16 |
Family
ID=40853875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010085878A Expired - Fee Related JP5548505B2 (ja) | 2009-04-03 | 2010-04-02 | コヒーレント放射を一様化するための装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP2237079B1 (ja) |
JP (1) | JP5548505B2 (ja) |
KR (1) | KR101686977B1 (ja) |
TW (1) | TWI485431B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102582652B1 (ko) | 2016-12-21 | 2023-09-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 결정화 장치 |
CN113296277A (zh) * | 2020-02-24 | 2021-08-24 | 宁波激智科技股份有限公司 | 一种准直膜、及一种减干涉准直膜及其制备方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4220705C2 (de) | 1992-06-24 | 2003-03-13 | Lambda Physik Ag | Vorrichtung zum Aufteilen eines Lichtstrahles in homogene Teilstrahlen |
US5923475A (en) * | 1996-11-27 | 1999-07-13 | Eastman Kodak Company | Laser printer using a fly's eye integrator |
JPH11223795A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-17 | Sony Corp | 光のコヒーレンス低減方法及びその装置、照明方法及びその装置、並びにバンドルファイバー |
JP4182580B2 (ja) * | 1999-01-18 | 2008-11-19 | ソニー株式会社 | 照明装置及び画像表示装置 |
US6393042B1 (en) * | 1999-03-08 | 2002-05-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Beam homogenizer and laser irradiation apparatus |
JP4588153B2 (ja) * | 1999-03-08 | 2010-11-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザー照射装置 |
DE10225674B4 (de) | 2002-06-10 | 2013-03-28 | Coherent Gmbh | Linsensystem zum Homogenisieren von Laserstrahlung |
LT5257B (lt) * | 2003-12-19 | 2005-08-25 | Uždaroji akcinė bendrovė MGF "Šviesos konversija" | Ryškį išsaugojantis lazerinių pluoštų formuotuvas |
WO2006066706A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Optical illumination system for creating a line beam |
TW200720808A (en) * | 2005-11-21 | 2007-06-01 | Academia Sinica | A tunable coherent light source and a device of obtaining microscopic image of an object |
EP1793269B1 (de) * | 2005-12-01 | 2011-04-27 | LIMO Patentverwaltung GmbH & Co. KG | Vorrichtung zur Beeinflussung von Licht |
US7728954B2 (en) * | 2006-06-06 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Reflective loop system producing incoherent radiation |
WO2007141185A2 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Homogenizer with reduced interference |
DE102006047941B4 (de) * | 2006-10-10 | 2008-10-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur Homogenisierung von Strahlung mit nicht regelmäßigen Mikrolinsenarrays |
JP4515473B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2010-07-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
-
2009
- 2009-04-03 EP EP09004991.7A patent/EP2237079B1/de not_active Not-in-force
-
2010
- 2010-03-29 TW TW099109351A patent/TWI485431B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-04-02 KR KR1020100030615A patent/KR101686977B1/ko active IP Right Grant
- 2010-04-02 JP JP2010085878A patent/JP5548505B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100110754A (ko) | 2010-10-13 |
JP2010244044A (ja) | 2010-10-28 |
EP2237079B1 (de) | 2013-05-29 |
TWI485431B (zh) | 2015-05-21 |
TW201037355A (en) | 2010-10-16 |
KR101686977B1 (ko) | 2016-12-16 |
EP2237079A1 (de) | 2010-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9273846B1 (en) | Apparatus for producing patterned illumination including at least one array of light sources and at least one array of microlenses | |
TWI666528B (zh) | 超連續譜輻射源及包含其之光學量測系統、對準標記量測系統及微影裝置 | |
US7277229B2 (en) | Linear light beam generating optical system | |
JP5168526B2 (ja) | 投射型映像表示装置 | |
JP4670876B2 (ja) | 照明光学系および画像表示装置 | |
CN109863445B (zh) | 用于从二极管激光器阵列生成线光束的装置 | |
US20080239498A1 (en) | Random phase mask for light pipe homogenizer | |
KR20210031920A (ko) | 가간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 | |
JP6383166B2 (ja) | 光照射装置および描画装置 | |
JP2011100012A (ja) | パターン投影装置、走査型共焦点顕微鏡、及びパターン照射方法 | |
KR20220116297A (ko) | 간섭성 레이저 빔을 결합하기 위한 장치, 레이저 시스템 및 방법 | |
JP2004536350A (ja) | 空間的に部分的にコヒーレントな光ビームの強度分布の回折成形 | |
JP5328512B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5207013B2 (ja) | 照明装置及び光学装置 | |
JP5965986B2 (ja) | 表面の構造化された露光のための露光装置 | |
JP5548505B2 (ja) | コヒーレント放射を一様化するための装置 | |
JP2005503018A (ja) | 空間的にコヒーレントな放射ビームの均等化並びに被工作物上のパターンのプリントおよび検査 | |
JP2022523598A (ja) | 明るい縁または暗い縁を伴う均質強度分布を形成するための装置 | |
KR20240054419A (ko) | Vcsel 기반의 패턴 프로젝터 | |
JP4511502B2 (ja) | 基板露光装置 | |
US20220360036A1 (en) | Apparatus, laser system and method for combining coherent laser beams | |
JP2004341299A (ja) | レーザビームの干渉パターン強度低減装置及び方法 | |
JP6345963B2 (ja) | 光照射装置および描画装置 | |
JP4841624B2 (ja) | 照明装置 | |
JP2015025988A (ja) | 光照射装置および描画装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130308 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140519 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5548505 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |