JP5541508B2 - Light irradiation device - Google Patents
Light irradiation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5541508B2 JP5541508B2 JP2010134672A JP2010134672A JP5541508B2 JP 5541508 B2 JP5541508 B2 JP 5541508B2 JP 2010134672 A JP2010134672 A JP 2010134672A JP 2010134672 A JP2010134672 A JP 2010134672A JP 5541508 B2 JP5541508 B2 JP 5541508B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- excimer lamp
- housing
- heat transfer
- transfer screen
- light irradiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 14
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Description
この発明は光照射装置に関するものであり、特に、紫外線照射処理に使用されるエキシマランプを備えた光照射装置に係わるものである。 The present invention relates to a light irradiation apparatus, and more particularly to a light irradiation apparatus including an excimer lamp used for ultraviolet irradiation processing.
例えば、液晶表示パネルのガラス基板の紫外線照射による洗浄工程等においては、波長２００ｎｍ以下の真空紫外光を放射するエキシマランプを備えた光照射装置が使用されている。
特開２００９−２１２４２９号公報（特許文献１）には、例えば、波長１７２ｎｍの真空紫外光を放射するエキシマランプを備えた光照射装置が開示されている。
図５にその概略構造が示されていて、ハウジング１内にエキシマランプ２が収納されていて、ハウジング１の下方は光取出し用開口３となっている。
そして、前記エキシマランプ２の下方にはワークＷが配置されている。ハウジング１内の上方には窒素ブロー管４、４が設けられ、その噴出し口４ａ、４ａから窒素ガスＮ２が噴出されていて、エキシマランプ２からの真空紫外光が大気中の酸素によって吸収されることを抑制している。
噴出された窒素ガスＮ２はエキシマランプ２とワークＷの間隙に流入し、エキシマランプ２からワークＷに照射される真空紫外光が酸素に吸収されることを抑制している。
For example, in a cleaning process or the like of a glass substrate of a liquid crystal display panel by ultraviolet irradiation, a light irradiation apparatus including an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less is used.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-212429 (Patent Document 1) discloses a light irradiation apparatus including an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 172 nm, for example.
FIG. 5 shows a schematic structure thereof. An
A work W is disposed below the
The ejected nitrogen gas N2 flows into the gap between the
ところが、かかる従来技術においては、ハウジング１内に導入された窒素ガスは、エキシマランプ２からの照射熱を受けて加熱されてしまい、この加熱された窒素ガスがワークＷに吹き付けられるので、ワークＷが加熱され、該ワークＷが変形したり、損傷したりしてしまうという不具合があった。
However, in such a conventional technique, the nitrogen gas introduced into the
この発明が解決しようとする課題は、断面矩形状のエキシマランプを収容し、光取出用し開口が形成されたハウジングと、該ハウジングの内部に不活性ガスを供給するガス供給機構とからなる光照射装置において、ハウジング内に噴出されてエキシマランプによって加熱された不活性ガスが、加熱されたままの状態でワークに吹き付けられることを防止した構造を提供するものである。 The problem to be solved by the present invention is a light comprising a housing containing an excimer lamp having a rectangular cross section and having an opening for extracting light and a gas supply mechanism for supplying an inert gas into the housing. In the irradiation apparatus, a structure is provided in which an inert gas which is ejected into a housing and heated by an excimer lamp is prevented from being sprayed on the workpiece while being heated.
上記課題を解決するために、この発明に係る光照射装置は、エキシマランプを収容するケーシングの光取出し開口に伝熱性スクリーンが設けられ、該伝熱性スクリーンを冷却する冷却機構が設けられていることを特徴とするものである。
また、前記伝熱性スクリーンが、前記エキシマランプの放電容器の光取出し側の外表面に配置された外部電極を兼ねていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the light irradiation apparatus according to the present invention is provided with a heat transfer screen in a light extraction opening of a casing that houses an excimer lamp, and a cooling mechanism for cooling the heat transfer screen is provided. It is characterized by.
The heat transfer screen also serves as an external electrode disposed on the outer surface on the light extraction side of the discharge vessel of the excimer lamp.
この発明の光照射装置によれば、ガス供給機構からハウジング内に噴出されて、エキシマランプによって加熱された不活性ガスは、光取出し開口に設けられ、冷却機構によって冷却された伝熱性スクリーンを通過する際に冷却されるので、ワークに対して加熱状態のままで吹きつけられることがなく、ワークに悪影響を及ぼすことがない。
また、前記伝熱性スクリーンがエキシマランプの光取り出し側の外部電極を兼ねているので、部品点数の削減に寄与するものである。
According to the light irradiation apparatus of the present invention, the inert gas that is ejected from the gas supply mechanism into the housing and heated by the excimer lamp passes through the heat transfer screen that is provided in the light extraction opening and cooled by the cooling mechanism. Since it is cooled when it is done, it is not blown in a heated state against the work, and the work is not adversely affected.
Further, since the heat transfer screen also serves as an external electrode on the light extraction side of the excimer lamp, it contributes to a reduction in the number of parts.
図１は、本発明の光照射装置の断面図であり、図２は、その部分斜視図である。
図において、ハウジング１内には長尺の断面矩形状の放電容器２ａからなるエキシマランプ２が配置されており、該ハウジング１の下方は開放されていて光取出し開口３を形成している。前記ハウジング１内には、ブロー管４、４とガス噴出し口４ａ、４ａからなるガス供給機構５が設けられている。
前記ハウジング１の光取出し開口３には、網状体からなる伝熱性スクリーン６が設けられ、その両端は冷却ジャケット８を有する冷却機構７に当接支持されている。該冷却ジャケット８内には冷却水が流通し、これにより、前記伝熱性スクリーン６を冷却している。
FIG. 1 is a cross-sectional view of the light irradiation apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a partial perspective view thereof.
In the figure, an
The light extraction opening 3 of the
前記ハウジング１はアルミニウムやステンレス、あるいはそれらの合金などの金属製であり、伝熱性スクリーン６は耐紫外光性や熱伝導性に優れた材料、例えばステンレスで形成される。
また、その寸法の一例を示すと以下の通り。
ランプと伝熱性スクリーンとの距離２ｍｍ
伝熱性スクリーンとワークとの距離２ｍｍ
ワークとランプとの距離は、約４〜５ｍｍ
伝熱性スクリーンの素線径は１ｍｍ、好ましくは０．５ｍｍ
伝熱性スクリーンの網目のサイズは、２ｍｍ×２ｍｍ
The
An example of the dimensions is as follows.
2mm distance between lamp and heat transfer screen
2mm distance between heat transfer screen and workpiece
The distance between the workpiece and the lamp is about 4-5mm
The wire diameter of the heat transfer screen is 1 mm, preferably 0.5 mm
The mesh size of the heat transfer screen is 2mm x 2mm
上記構成において、エキシマランプ２の点灯時には、ブロー管４の噴出し口４ａから窒素ガスＮ２がハウジング１内に導入され、一方、冷却機構７のジャケット８には冷却水が流されていて、伝熱性スクリーン６は冷却されている。
窒素ガスＮ２は、エキシマランプ２とワークＷとの間に流入して酸素濃度を低下させ、エキシマランプ２からワークＷに照射される真空紫外光が酸素に吸収されることを抑制する。
そして、該窒素ガスＮ２は、エキシマランプ２とワークＷとの間に流入するまでに、エキシマランプ２によって加熱されるが、冷却されている伝熱性スクリーン６の網目を通過するときに冷却されるので、ワークＷが窒素ガスＮ２によって加熱されることが抑制される。
In the above configuration, when the
The nitrogen gas N2 flows between the
The nitrogen gas N2 is heated by the
また、前記伝熱性スクリーン６は図２では網状体のものを示したが、これに限られず、図３に示すように、素線を一方向に張り渡した形状のものであってもよい。
Further, although the heat
図４には別に実施例が示されている。この実施例では、エキシマランプ２の放電容器２ａの光取出し側の外表面の外部電極が省略されていて、前記放電容器２ａが前記伝熱性スクリーン６に当接されており、該伝熱性スクリーン６が外部電極を兼ねている。
そして、伝熱性スクリーン６は、前述のように、金属又は合金部材で形成され、この伝熱性スクリーン６が電気伝導性を有する冷却機構７及びハウジング１に電気的に接続され、このハウジング１を接地することで、前記伝熱性スクリーン６が低圧側の電極として機能する。
この実施例によれば、部品点数の削減が図られる。
FIG. 4 shows another embodiment. In this embodiment, the external electrode on the outer surface on the light extraction side of the
The
According to this embodiment, the number of parts can be reduced.
以上のように、本発明の光照射装置では、ハウジングの光取出し開口に伝熱性スクリーンを設け、該伝熱性スクリーンを冷却機構により冷却する構成としたので、ハウジング内に噴出した不活性ガスがエキシマランプによって加熱されても、伝熱性スクリーンを通過するときに冷却されるので、加熱状態の不活性ガスがそのままワークに吹き付けられることがない。 As described above, in the light irradiation device of the present invention, since the heat transfer screen is provided in the light extraction opening of the housing and the heat transfer screen is cooled by the cooling mechanism, the inert gas jetted into the housing is excimer. Even if heated by the lamp, it is cooled when passing through the heat transfer screen, so that the heated inert gas is not sprayed on the workpiece as it is.
１ ハウジング
２ エキシマランプ
３ 光取出し開口
４ 窒素ガスブロー管
４ａ ガス噴出し口
５ ガス供給機構
６ 伝熱性スクリーン
７ 冷却機構
８ 冷却ジャケット
Ｗ ワーク
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記ハウジングの真空紫外光取出し開口に不活性ガスを通す伝熱性スクリーンが設けられ、該伝熱性スクリーンを冷却する冷却機構が設けられていることを特徴とする光照射装置。 An excimer lamp having a rectangular cross section, a housing that accommodates the excimer lamp and has a vacuum ultraviolet light extraction opening , and a gas supply mechanism that supplies an inert gas to the inside of the housing. In the light irradiation device for irradiating the vacuum ultraviolet light to
A light irradiation apparatus, wherein a heat transfer screen for passing an inert gas is provided in a vacuum ultraviolet light extraction opening of the housing , and a cooling mechanism for cooling the heat transfer screen is provided.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010134672A JP5541508B2 (en) | 2010-06-14 | 2010-06-14 | Light irradiation device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010134672A JP5541508B2 (en) | 2010-06-14 | 2010-06-14 | Light irradiation device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012004144A JP2012004144A (en) | 2012-01-05 |
| JP5541508B2 true JP5541508B2 (en) | 2014-07-09 |
Family
ID=45535864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010134672A Active JP5541508B2 (en) | 2010-06-14 | 2010-06-14 | Light irradiation device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5541508B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7058177B2 (en) | 2018-05-22 | 2022-04-21 | 東京エレクトロン株式会社 | Board processing equipment |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06188227A (en) * | 1991-02-18 | 1994-07-08 | Nippon Seiko Kk | Photo ashing device |
| JPH1110101A (en) * | 1997-06-18 | 1999-01-19 | Nikon Corp | Photorinsing apparatus |
| JP3711870B2 (en) * | 2001-01-22 | 2005-11-02 | 株式会社デンソー | Substrate cleaning method |
| US7051743B2 (en) * | 2002-10-29 | 2006-05-30 | Yong Bae Kim | Apparatus and method for cleaning surfaces of semiconductor wafers using ozone |
| JP2005235869A (en) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Victor Co Of Japan Ltd | Uv-ray irradiator |
| JP5019156B2 (en) * | 2006-08-21 | 2012-09-05 | ウシオ電機株式会社 | Excimer lamp device |
| JP4994211B2 (en) * | 2007-12-20 | 2012-08-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate processing equipment |
| JP5083184B2 (en) * | 2008-11-26 | 2012-11-28 | ウシオ電機株式会社 | Excimer lamp device |
-
2010
- 2010-06-14 JP JP2010134672A patent/JP5541508B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012004144A (en) | 2012-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105228787A (en) | There is the gas welding torch of the maximized diffuser of area of dissipation | |
| JP4409439B2 (en) | Surface treatment equipment using atmospheric pressure plasma | |
| US6379024B1 (en) | Dielectric barrier excimer lamp and ultraviolet light beam irradiating apparatus with the lamp | |
| JP5092808B2 (en) | Ultraviolet irradiation unit and ultraviolet irradiation treatment device | |
| TWI445043B (en) | Excimer lamp device | |
| TWI423298B (en) | An excimer lamp and a method for manufacturing the excimer lamp | |
| JP2004525844A (en) | Method and apparatus for purifying glass melt using negative pressure device | |
| CN106537553B (en) | The patterning apparatus of self-assembled monolayer, the patterning method of light irradiation device and self-assembled monolayer | |
| JP5541508B2 (en) | Light irradiation device | |
| JP2006278191A (en) | Plasma jet generating electrode | |
| CN100472705C (en) | Quasi-molecular lampbulb | |
| JP4380591B2 (en) | Excimer lamp device | |
| CN2312518Y (en) | Low temp. plasma discharging tube | |
| CN102197713A (en) | Plasma processing device | |
| KR101158961B1 (en) | Ultraviolet irradiation processing apparatus | |
| JP2007188823A (en) | Treatment gas discharging device and surface treatment device equipped with the same | |
| JP4479466B2 (en) | Excimer light irradiation equipment | |
| JP2006108526A (en) | Heating unit | |
| JP5266871B2 (en) | Long arc discharge lamp and ultraviolet irradiator with long arc discharge lamp | |
| JP4123011B2 (en) | Excimer lamp device | |
| JP5093176B2 (en) | Excimer lamp device | |
| JP4495023B2 (en) | Plasma processing equipment | |
| JP2001155684A (en) | Dielectric barrier excimer lamp | |
| JP2003080191A (en) | Light irradiation device | |
| TWI317964B (en) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130313 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140110 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140210 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140314 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140410 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140423 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5541508 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |