JP5536437B2 - 光強度測定装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
RFパワー:100-1000W
圧力:133-13300Pa (1-100Torr)
水素流量:5-500sccm
エッチング時間:1-100分
Win = E1 + E2 + E3 (1)
但し、E1は空気中の対流により単位時間当り失う対流エネルギーであって、
E1 = ηA(T-T0)
で表わされ、E2は輻射により単位時間当り失う輻射エネルギーであって、
E2 = σA(T4-T0 4)
で表わされ、E3は感熱素子602に伝達される単位時間当りの伝達エネルギーであって、
E3 = κA∂T/∂x
で表わされる。ここで、
T0は室温で300K
κは光吸収体601の熱伝導率で230W/mK
Aは光吸収体601の面積で1×10-4m2
ηは対流による熱伝達係数で、たとえば約1W/m2K
σはステファンボルツマン定数で5.67×10-8W/K4m2
dは光吸収体601の厚さで1×10-3m
Tは光吸収体601の表面温度
とする。従って、(1)式は(2)式となる。
-κA∂T/∂x = ηA(T-T0) + σA(T4-T0 4) - Win (2)
光吸収体601の厚さdは1mmと小さく、また、感熱素子602の温度TDは室温T0とすれば、(2)式は次の4次方程式の(3)式となる。
-κA(T-T0)/d = ηA(T-T0) + σA(T4-T0 4) - Win (3)
(3)式において、各項の熱損失を評価してみると、
κA(T-T0)/d ≫ ηA(T-T0) + σA(T4-T0 4)
となるので、(3)式は(4)式で表わせる。
κA(T-T0)/d = Win (4)
つまり、入射エネルギーWinのほとんどは感熱素子602に運び込まれることになる。ところで、感熱素子602の感度は約104V/Wであり、一般的なS/N比より読み取り可能な電圧値を1μVとすると、これに対応する光強度は100pW(10-10W)という、非常に低強度となる。従って、非常に低強度の光を測定することが可能となる。
501:不規則的周期のミクロン(サブミクロン)機械的凹凸構造加工ステップ
502:不規則的周期のミクロン(サブミクロン)レーザ照射凹凸構造加工ステップ
601:光吸収体(炭素系基板)
602:感熱素子
Claims (9)
- 表面にナノオーダの第1の凹凸構造を形成した炭素系基板を光吸収体材料として具備し、
前記第1の凹凸構造は、該第1の凹凸構造のサイズより大きい不規則的周期の第2の凹凸構造上に形成されている光強度測定装置。 - 前記第2の凹凸構造のサイズがサブミクロンオーダ以上である請求項1に記載の光強度測定装置。
- 前記第2の凹凸構造が前記炭素系基板の表面に設けられた剣山構造である請求項1に記載の光強度測定装置。
- さらに、
前記炭素系基板の前記第1の凹凸構造の反対面に結合された感熱素子を具備する請求項1に記載の光強度測定装置。 - 光吸収体材料としての炭素系基板の表面をナノオーダの第1の凹凸構造に加工する第1の凹凸構造加工工程と、
前記第1の凹凸構造のサイズより大きい不規則的周期の第2の凹凸構造を前記炭素系基板の表面に加工する第2の凹凸構造加工工程と
を具備する光強度測定装置の製造方法。 - 前記第2の凹凸構造のサイズがサブミクロンオーダ以上である請求項5に記載の光強度測定装置の製造方法。
- 前記第1の凹凸構造加工工程がプラズマエッチング工程である請求項5に記載の光強度測定装置の製造方法。
- 前記第2の凹凸構造加工工程が、
前記不規則的周期のパターンを有するフォトレジスト層を形成するフォトリソグラフィ工程と、
該フォトレジスト層を用いて前記炭素系基板の表面に前記凹みを形成するエッチング工程と、
該凹みの形成後に前記フォトレジスト層を除去する工程と
を具備する請求項5に記載の光強度測定装置の製造方法。 - 前記第2の凹凸構造が前記炭素系基板の表面に設けられた剣山構造である請求項5に記載の光強度測定装置の製造方法。
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2009
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