JP5520537B2 - アミド化合物の製造法 - Google Patents
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Description
上記粉末触媒の銅含有量は0.1〜20質量%が好ましく、表面の一部に銅塩が存在する鉄粒子からなる粉末の銅塩含有量は0.1〜20質量%が好ましい。また、粉末触媒の平均粒径は0.1〜500μmが好ましい。
さらに、反応後において触媒、生成したアミド化合物、未反応の残留ニトリル化合物をそれぞれ分別回収でき、触媒を新たな反応に再度使用できると共に、未反応の残留ニトリル化合物を新たな反応に出発物質(原料)の一部として供することができる。
本発明で用いるニトリル化合物は脂肪族ニトリル、脂肪族ジニトリル、芳香族ニトリル、複素環式ニトリルなどのいずれのニトリル化合物をも用いることができる。
ここで、先ず、上記の脂肪族ニトリルとしては、アセトニトリルCH3CN、プロピオニトリルCH3CH2CN、ブチロニトリルCH3(CH2)2CN、バレロニトリルCH3(CH2)3CN、カプロニトリルCH3(CH2)4CN、エナントニトリルCH3(CH2)5CN、カプリロニトリルCH3(CH2)6CN、ペラルゴンニトリルCH3(CH2)7CN、カプリニトリルCH3(CH2)8CN、ラウロニトリルCH3(CH2)10CN、パルミトニトリルCH3(CH2)14CN、ステアロニトリルCH3(CH2)16CN、アクリロニトリルCH2=CHCN、メタクリロニトリルCH2=C(CH3)CN、クロトンニトリルCH3CH=CHCNの少なくとも一種を用いることができる。
次に、上記の脂肪族ジニトリルとしては、マロンニトリルNCCH2CN、スクシノニトリルNCCH2CH2CN、グルタルニトリルNC(CH2)3CN、アジポニトリルNC(CH2)4CNの少なくとも一種を使用することができる。
また、上記の芳香族ニトリルとしては、ベンゾニトリルC6H5CN、トルニトリル、シアン化ベンジルC6H5CH2CN、ケイ皮酸ニトリルC6H5CH=CHCN、ナフトニトリルの少なくとも一種を用いることができる。
さらに、複素環式ニトリルとしては、シアンピリジンを用いることができる。
ただし、上記のニトリル化合物は例示であって本発明で用いるニトリル化合物はこれらに限定されるものではない。
なお、本発明で製造され工業的に用いられる頻度の高いアミド化合物として、ホルムアミドHCONH2、アセトアミドCH3CONH2、アクリルアミドCH2=CHCONH2、メタクルアミドCH2=C(CH3)CONH2、プロピオンアミドC2H5CONH2、ブチロアミドC3H7CONH2、ベンズアミドC6H5CONH2、フェナセトアミドC6H5CH2CONH2、ニコチンアミド、オキサミドH2NCO−CONH2、マロンアミドCH2(CONH2)2、スクシンアミド、フタルアミドなどが挙げられるが、上記のアミド化合物は例示であって本発明で製造されるアミド化合物はこれらに限定されるものではない。
なお、表面の一部に銅が存在する鉄粒子からなる粉末の銅含有量は0.1〜20質量%であることが好ましく、0.1質量%未満では触媒作用が不足し、一方、20質量%を超えると銅含有量に対する触媒性能の向上効果は飽和するため、これ以上の銅含有量向上の効果は少ない。
なお、表面の一部に銅塩が存在する鉄粒子からなる粉末の銅塩含有量は0.1〜20質量%であることが好ましく、0.1質量%未満では触媒作用が不足し、一方、20質量%を超えると触媒作用は飽和することがある。
また、反応装置はオートクレーブ、耐圧試験管等の耐圧容器が好ましい。
また、反応雰囲気は非酸化性雰囲気が好ましく、窒素雰囲気が更に好ましい。
鉄鉱石と炭素粉を混合し窒素雰囲気中で1050℃にて還元処理することにより、比表面積(BET1点法)0.17m2/g、嵩密度2.80g/cm3、平均粒径29.7μmの還元鉄粉を得た。この還元鉄粉の主要組成(質量%を単に%で表す。)は、金属鉄91.9%、炭素0.24%、硫黄0.015%、酸素1.72%であった。
容量2.2Lの円筒形SUS(ステンレス鋼)製ポットに、イオン交換水1000mLとφ5mmのジルコニア・ボール5kg(ポット容量の60容量%)を投入し、上記還元鉄粉100gを該ポットに投入して、回転数70rpmにてローラーで回転させる粉砕処理を5時間実施した。粉砕終了後、スラリーを抜き出し、ろ過後、大気雰囲気40℃の条件で静置状態にて乾燥した。これらの処理により扁平状鉄粉が得られた。
次に、容量2.2Lの円筒形SUS(ステンレス鋼)製ポットに、φ5mmのジルコニア・ボール5kg(ポット容量の60容量%)と、上記扁平状鉄粉100gと、硫酸銅1水塩2.80gを投入し、回転数70rpmにてローラーで回転させる処理を20分間実施し、銅含有鉄粉を作製した。得られた銅含有鉄粉の銅含有量は0.97%であった。
硫酸銅5水塩20gをイオン交換水100mLに溶解させ、Cu濃度5.09%の硫酸銅水溶液を作製した。実施例1と同様の処理で得た扁平状鉄粉100gを、撹拌羽根が高速回転するサンプルミル中で撹拌させながら、該硫酸銅溶液19.6mlを滴下し、1分間撹拌を継続させた。サンプルミルの回転を停止し、得られた湿粉を回収し、大気雰囲気40℃の条件で静置状態にて乾燥し、銅含有鉄粉を作製した。得られた銅含有鉄粉の銅含有量は0.92%であった。
鉄鉱石と炭素粉を混合し窒素雰囲気中で1050℃にて還元処理することにより、比表面積(BET1点法)0.17m2/g、嵩密度2.80g/cm3、平均粒径29.7μmの還元鉄粉を作製した。この還元鉄粉の主要組成は、金属鉄91.9%、炭素0.24%、硫黄0.015%、酸素1.72%であった。
実施例1と同様の処理により扁平状鉄粉を作製した。その物性は比表面積(BET1点法)2.98m2/g、嵩密度1.77g/cm3、レーザー回折法による粉末平均径333.8μm、SEM評価による厚さの平均値13.5μm、粉末平均径を厚さ平均値で除した板状比は24.7であった。
ベンゾニトリル102μL(1mmol)に対して0.5mLの水を添加した。さらに実施例1で得た表面の一部に銅が存在する鉄粒子粉末を10mg添加し、スラリー状としてアルゴン雰囲気下、耐圧試験管内で180℃にて21時間反応させた。
同様の操作を実施例2〜4の各粉末でも行い、各例についてベンゾニトリルからベンズアミドへの転化率を求めた。この結果を表1に示す。
Claims (18)
- ニトリル化合物に水を付加反応させてアミド化合物を製造する方法において、該反応を表面の一部に炭素及び/又は硫黄が存在する鉄粒子からなる粉末触媒の存在下で行なうアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒の炭素含有量が0.01〜5質量%である請求項1記載のアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒の硫黄含有量が0.001〜0.1質量%である請求項1又は2に記載のアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒は平均粒径0.1〜500μmである請求項1〜3のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒の存在量が前記ニトリル化合物の量に対して0.001〜50質量%である請求項1〜4のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記反応を溶媒中で行なう請求項1〜5のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記溶媒が水である請求項6記載のアミド化合物の製造法。
- 前記反応後に磁力選別を施して前記粉末触媒を回収する請求項1〜7のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- ニトリル化合物に水を付加反応させてアミド化合物を製造する方法において、該反応を、表面に金属銅を置換析出させた鉄粒子及び鉄粒子と銅塩粒子を機械的に混合した粒子の一種または二種からなる粉末触媒の存在下で行なうアミド化合物の製造法。
- 前記粉末の金属銅及び銅塩の一種または二種の含有量が0.1〜20質量%である請求9記載のアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒は平均粒径0.1〜500μmである請求項9、10のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記粉末触媒の存在量が前記ニトリル化合物の量に対して0.001〜50質量%である請求項9〜11のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記反応を溶媒中で行なう請求項9〜12のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 前記溶媒が水である請求項13記載のアミド化合物の製造法。
- 前記反応後に磁力選別を施して前記粉末触媒を回収する請求項9〜14のいずれかに記載のアミド化合物の製造法。
- 請求項9〜15のいずれか1つの項に記載のアミド化合物の製造法で用いる粉末触媒であって、鉄粉の表面の少なくとも一部に、炭素、硫黄、銅及び銅塩からなる群より選ばれた少なくとも1種のものが存在してなる粉末触媒。
- 炭素含有量が0.01〜5質量%である請求項16に記載の粉末触媒。
- 硫黄含有量が0.001〜0.1質量%である請求項16又は17に記載の粉末触媒。
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