JP5512742B2 - Work collection device - Google Patents
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Description
本発明は、ワークを収容した処理容器を、一連の装置に順次搬送して各装置における作業に供することによって、表面処理されたワークを得る、ワークの表面処理システム、において特に用いられ、処理容器からワークを回収する、ワーク回収装置、に関する。ワークとしては、例えば、０．５〜５０００μｍの粉体、チップコンデンサー、ダイオード、コネクタ、リードスイッチ、釘、ボルト、ナット、ワッシャ等の、小物（小型部品）がある。また、表面処理としては、（１）電気めっき処理、（２）無電解めっき処理；例えば、浸漬めっき処理、化学めっき処理、（３）複合めっき処理、化学複合めっき処理、（４）電着塗装処理；例えば、アニオン電着塗装処理、カチオン電着塗装処理、（５）前処理；例えば、脱脂処理、電解脱脂処理、バレル研磨処理、アルカリ浸漬洗浄処理、酸洗い処理、酸電解処理、化学研磨処理、電解研磨処理、中和処理、（６）後処理；例えば、水切り変色防止処理、水溶性樹脂処理、クロメート処理、がある。 The present invention is particularly used in a surface processing system for a workpiece, in which a processing container containing a workpiece is sequentially transferred to a series of apparatuses and used for work in each apparatus to obtain a surface-treated workpiece. It relates to a work collection device for collecting a work from a work. Examples of the work include small items (small parts) such as powder of 0.5 to 5000 μm, chip capacitors, diodes, connectors, reed switches, nails, bolts, nuts, and washers. The surface treatment includes (1) electroplating treatment, (2) electroless plating treatment; for example, immersion plating treatment, chemical plating treatment, (3) composite plating treatment, chemical composite plating treatment, and (4) electrodeposition coating. Treatment: for example, anion electrodeposition coating treatment, cationic electrodeposition coating treatment, (5) pretreatment; for example, degreasing treatment, electrolytic degreasing treatment, barrel polishing treatment, alkali dipping washing treatment, pickling treatment, acid electrolysis treatment, chemical polishing Treatment, electrolytic polishing treatment, neutralization treatment, (6) post-treatment; for example, draining discoloration prevention treatment, water-soluble resin treatment, chromate treatment.
ワークを表面処理するための表面処理装置としては、例えば特許文献１、２に示された装置が知られている。これらの装置では、処理容器を受板に載せた状態で、ワークの表面処理や水洗を行ったり、処理容器の洗浄等を行ったりしている。
しかしながら、従来の上記装置においては、１台の装置で表面処理や水洗などの種々の処理を行うため、効率が悪く、また、各処理自体が不十分となってしまう恐れがあった。また、処理容器からワークを回収するのが面倒であった。 However, in the conventional apparatus, since various processes such as surface treatment and water washing are performed with one apparatus, the efficiency is low and each process itself may be insufficient. Moreover, it was troublesome to collect the workpiece from the processing container.
そこで、表面処理されたワークを簡単な作動で回収できる、ワーク回収装置が、望まれていた。 Therefore, a workpiece recovery device that can recover the surface-treated workpiece with a simple operation has been desired.
本発明は、処理容器を載せる受板と、受板上の処理容器を上方から覆うホッパと、処理容器を覆ったホッパを受板及び処理容器と共に上下反転させる反転機構と、を備えており、上下反転された処理容器内に、ホッパに設けられた噴出部から水を吹きかけて、処理容器内のワークを、ホッパ内へ洗い出してホッパから回収槽へ排出させて捕集するよう、構成されていることを特徴とするワーク回収装置である。 The present invention includes a receiving plate on which the processing container is placed, a hopper that covers the processing container on the receiving plate from above, and a reversing mechanism that vertically inverts the hopper that covers the processing container together with the receiving plate and the processing container. Water is sprayed from the jetting part provided in the hopper into the processing container that is turned upside down, and the work in the processing container is washed out into the hopper and discharged from the hopper to the collection tank and collected. It is the workpiece collection device characterized by being.
本発明によれば、表面処理されたワークを簡単な作動で回収できる。また、処理容器内のワークをホッパで受けるので、ワークが飛散するのを防止でき、したがって、ワークを回収槽に確実に捕集することができる。 According to the present invention, the surface-treated workpiece can be collected with a simple operation. Moreover, since the workpiece | work in a processing container is received with a hopper, it can prevent that a workpiece | work disperses, Therefore A workpiece | work can be reliably collected by a collection tank.
［第１実施形態］
（１）全体構成
図１は本発明の第１実施形態のワーク回収装置を備えたワークの表面処理システムを示す斜視図である。このシステム１は、搬送装置２と、搬入搬出装置３と、表面処理装置４と、本発明のワーク回収装置５と、剥離装置６と、水洗装置７と、を備えている。ワークは、例えばチップコンデンサーである。表面処理は、例えばニッケルめっき処理である。
[First Embodiment]
(1) Overall Configuration FIG. 1 is a perspective view showing a workpiece surface treatment system provided with a workpiece collection apparatus according to a first embodiment of the present invention. The
搬送装置２は、処理容器９をシステム１内の一連の装置４、５、６、７に順次搬送する。具体的には、搬送装置２は、図２に示されるように、処理容器９を、表面処理装置４、ワーク回収装置５、剥離装置６、及び水洗装置７に、この順で搬送する。
The
搬入搬出装置３は、処理容器９を搬送装置２に搬入し、また、処理容器９を搬送装置２から搬出する。搬入搬出装置３は、搬送カート３１を備えている。
The carry-in / carry-out
表面処理装置４は、搬送装置２から処理容器９を受け取り、処理容器９を回転させながら処理容器９内に表面処理液を供給して、ワークに表面処理を施す。
The
ワーク回収装置５は、搬送装置２から処理容器９を受け取り、処理容器９を上下反転させ、処理容器９内に下方から水を吹きかけてワークを流し出して、ワークを捕集する。
The
剥離装置６は、搬送装置２から処理容器９を受け取り、処理容器９を回転させながら処理容器９内に剥離液を供給して、処理容器９内面に剥離処理を施す。
The
水洗装置７は、搬送装置２から処理容器９を受け取り、処理容器９を上下反転させ、処理容器９内に下方から水を吹きかけて、処理容器９内を水洗する。
The
（２）搬入搬出装置３
図３は搬入搬出装置３を示す斜視図である。搬入搬出装置３は、搬送装置２の一端に設けられた受取部３２と、受取部３２へ連結可能な搬送カート３１と、を備えている。受取部３２は、立設された支持柱３３と、支持柱３３に沿って上下動可能な載置部３４と、搬送カート３１を支持柱３３近傍の所定位置へガイドするガイド部３５と、を備えている。
(2) Loading /
FIG. 3 is a perspective view showing the loading / unloading
搬送カート３１は、略直方体状に組み立てられた枠体３１１からなっており、ハンドル３１２を有している。搬送カート３１の上面の４箇所には、処理容器９を支持する支持片３１３が設けられている。支持片３１３の上端部３１３１は外側に折れ曲がっており、処理容器９は、４本の支持片３１３の上端部３１３１によって、下方から支持される。４本の支持片３１３で囲まれた部分は、下方に、載置部３４を上下動可能に収容し得る空間３１４を有している。
The
ガイド部３５は、搬送カート３１に両側から当接するガイド板３５１を有している。ガイド部３５は、搬送カート３１をストッパ３５２に当接するまでガイドして、空間３１４を、載置部３４が上下動する範囲に位置させる。
The
載置部３４は、一端が支持柱３３に連結された水平アーム３４１と、水平アーム３４１の他端から上方に延びた垂直アーム３４２と、垂直アーム３４２の上端縁から水平に且つ十字方向に延びたバー３４３とで、構成されている。バー３４３は、処理容器９を載置可能な長さだけ延びている。水平アーム３４１の端部３４４は、図３のIV矢視縦断面図である図４に示されるように、支持柱３３のレール３３１を摺動しながら上下動するよう、支持柱３３に連結されている。なお、垂直アーム３４２の上端には、処理容器９の凸部９０２が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器９を垂直アーム３４２の中心に置くことができる。したがって、搬送装置２に対する処理容器９の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置２によって処理容器９を確実に把持できる。
The
支持柱３３には、チェーン３３２が上下に渡されている。水平アーム３４１の端部３４４は、チェーン３３２に連結されている。チェーン３３２の駆動ギヤ３３２１は、ギヤ３３２２、チェーン３３２３、及びギヤ３３２４を介して、モータ３３２５に連結されている。これにより、チェーン３３２は、水平アーム３４１の端部３４４と共に上下動するよう駆動される。
A
（３）搬送装置２
図５は搬送装置２の斜視部分図である。搬送装置２は、作動部２１及びレール部２２を備えている。レール部２２は、水平な下レール２２１と、水平な上レール２２２とを、有している。
(3)
FIG. 5 is a perspective partial view of the
作動部２１は、下レール２２１上を摺動する基台部２３と、基台部２３から上に延びた垂直な柱部２４と、柱部２４に沿って上下動する把持部２６と、を備えている。なお、柱部２４は、柱部２４から横に延びており、上レール２２２上を摺動する、支持部２５を、備えている。
The
図６は図５のVI−VI断面図である。基台部２３は、箱体である。基台部２３は、下レール２２１の水平板部２２１１に上方から当接している駆動車輪２３１を、内部に有している。車輪２３１は、基台部２３に外付けされているモータ２３２から延びた駆動軸２３３に連結されている。駆動軸２３３は、２つの軸受２３４、２３５で支持されている。基台部２３の下面には、水平板部２２１１の両縁に両側から当接するローラ２３６、２３７と、水平板部２２１１の下面に当接するローラ２３８と、が設けられている。基台部２３は、モータ２３２を作動させると、下レール２２１に対してローラ２３６、２３７、２３８によって支持された状態で、車輪２３１の回転によって、下レール２２１上を摺動する。
6 is a cross-sectional view taken along the line VI-VI in FIG. The
柱部２４は、間隔を開けて配置された２枚の垂直な縦板２４１、２４２を天板２４３で連結して構成されている。２枚の縦板２４１、２４２は、下レール２２１に沿って間隔を開けて配置されており、互いに平行であり、対向している。縦板２４１は、内面の幅方向中央に、縦に延びた板状のレール２４４を有している。縦板２４２も、同様に、板状のレール２４５を有している。レール２４４とレール２４５は対向している。２枚の縦板２４１、２４２の間には、縦方向に回動するよう、チェーン２４６が設けられている。チェーン２４６は、上側の駆動軸２４７と、下側の従動軸２４８と、の間に張り渡されている。駆動軸２４７は、柱部２４に外付けされたモータ２４９に連結されている。
The
把持部２６は、柱部２４に連結された連結部２７と、連結部２７から水平に延びたアーム２８と、アーム２８の先端に設けられ、処理容器９を保持するための、保持部２９と、を備えている。
The
連結部２７は、柱部２４の内部空間に位置しており、箱体２７１と多数のローラとで構成されている。図７は図６のVII−VII断面矢視図である。箱体２７１の底板２７１１には、チェーン２４６が固定された固定部２４６１とチェーン２４６が通過する貫通孔２４６２とが形成されている。箱体２７１の天板２７１２には、チェーン２４６が通過する貫通孔（図示せず）が２個形成されている。箱体２７１の両側板２７１３、２７１４には、それぞれ６個のローラが設けられている。側板２７１３において、上部にはローラ２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃが設けられ、下部にはローラ２７Ｄ、２７Ｅ、２７Ｆが設けられている。ローラ２７Ａ、２７Ｂは、レール２４４に両側から当接している。ローラ２７Ｃは、箱体２７１のフランジ２７１５に設けられており、縦板２４１の内面２４１１に当接している。ローラ２７Ｄ、２７Ｅは、レール２４４に両側から当接している。ローラ２７Ｆは、箱体２７１のフランジ２７１５に設けられており、縦板２４１の内面２４１１に当接している。側板２７１４においても、同様に、６個のローラ２７Ａ、２７Ｂ、２７Ｃ、２７Ｄ、２７Ｅ、２７Ｆが設けられている。すなわち、ローラ２７Ａ、２７Ｂは、レール２４５に両側から当接している。ローラ２７Ｃは、箱体２７１のフランジ２７１６に設けられており、縦板２４２の内面２４２１に当接している。ローラ２７Ｄ、２７Ｅは、レール２４５に両側から当接している。ローラ２７Ｆは、箱体２７１のフランジ２７１６に設けられており、縦板２４２の内面２４２１に当接している。
The
図８は保持部２９の斜視図である。保持部２９は、アーム２８の先端から垂下された２本のアーム２９１、２９２と、２本のアーム２９１、２９２の下端にそれぞれ設けられた把持具２９３、２９４と、を備えている。２本のアーム２９１、２９２は、処理容器９の直径より少し大きな間隔を開けて、設けられている。把持具２９３、２９４は、２本のアーム２９１、２９２の下端において、対向して設けられている。把持具２９３は、水平な支持板２９３１と、支持板２９３１の両縁にて起立しているガイド板２９３２、２９３３と、からなっている。把持具２９４も、水平な支持板２９４１と、支持板２９４１の両縁にて起立しているガイド板２９４２、２９４３と、からなっている。保持部２９は、図９に示されるように、処理容器９の下方から把持具２９３、２９４を処理容器９にアクセスさせて、処理容器９を支持板２９３１及び支持板２９４１の上に載せるとともに、処理容器９の周面をガイド板２９３２、２９３３及びガイド板２９４２、２９４３の端縁で支持するようになっている。
FIG. 8 is a perspective view of the holding
（４）表面処理装置４
図１０は作動前の表面処理装置４の縦断面図である。表面処理装置４は、処理容器９を図１１に示されように載せるための水平な受板４１１と、受板４１１を水平面内で回転させる回転駆動機構４２と、受板４１１の下方に位置し、表面処理液及び洗浄水を受ける、受槽４１２と、受板４１１上の処理容器９を上方から覆うためのカバー体４１３と、カバー体４１３を図１１に示されるように処理容器９に対して開閉させる開閉機構４３と、受板４１１上の処理容器９に対して表面処理液と洗浄水とを別々に供給する供給機構４４と、受槽４１２に連通したドレイン機構４５と、を備えている。
(4)
FIG. 10 is a longitudinal sectional view of the
図１２及び図１３は受板４１１と処理容器９との関係を示す縦断面図である。処理容器９は、導電性の基板９３と、非導電性の底板９４と、電極リング９１と、カバー９５とを、この順に下から重ねて、電極リング９１を貫通するボルト９６によって一体化して構成されるとともに、処理容器９の内から外へ表面処理液を流出させる流出機構を有している。電極リング９１は、垂直回転軸４２１、基板９３、及びボルト９６を経て、通電可能となっている。すなわち、垂直回転軸４２１、基板９３、及びボルト９６によって、電極リング９１へ通電させるための通電機構が構成されている。そして、表面処理装置４は、ワークを収容した処理容器９を回転させてワークを電極リング９１へ接触させながら、且つ、表面処理液を流出機構を介して処理容器９の内から外へ流通させながら、処理容器９内の表面処理液に電極（図示せず）から通電することによって、ワークに表面処理を施すようになっている。流出機構として、底板９４と電極リング９１との間に構成した間隙通路を採用している。間隙通路は、底板９４と電極リング９１との間の円周方向適当間隔置きに、同じ大きさの樹脂製のシート部材９２を配置して、該シート部材９２を底板９４と電極リング９１とで挟むことによって、隣接するシート部材９２間に構成されている。
12 and 13 are longitudinal sectional views showing the relationship between the receiving
なお、処理容器９の流出機構としては、次の構成（ａ）、（ｂ）を採用してもよい。
（ａ）底板９４、電極リング９１、又はカバー９５に、処理容器９の内から外へ通じる溝を形成する。この溝が上記間隙通路となる。溝の深さは、ワークの径よりも浅く設定する。この構成によれば、処理容器９を分解して洗浄することができ、したがって、処理容器９のメンテナンスを簡素化できる。
（ｂ）電極リング９１と底板９４との間に、又は、電極リング９１とカバー９５との間に、多孔質材料でできたリングを挟む。リングの多数の孔が、上記間隙通路となる。この構成によれば、間隙通路の大きさが１０μｍ程度であっても、表面処理液が流出するので、より小さなワークを扱うことができる。これに対して、上述したシート部材９１を挟む場合、及び、上記構成（ａ）の場合には、間隙通路の大きさが３０μｍ以下であると、表面処理液の流出が少なく、流出機構として機能しない。
In addition, as the outflow mechanism of the
(A) Grooves are formed in the
(B) A ring made of a porous material is sandwiched between the
処理容器９は、着脱機構９０を介して、受板４１１上に載置される。着脱機構９０は、処理容器９を垂直回転軸４２１に対して着脱自在に固定するための機構である。受板４１１は、垂直回転軸４２１の上端に固定されている。着脱機構９０は、受板４１１の回転中心に形成された凹部９０１と、処理容器９の基板９３の下面の回転中心に設けられた凸部９０２と、受板４１１の複数箇所に設けられた突部９０３と、処理容器９の基板９３及び底板９４に形成された穴部９０４と、で構成されている。凹部９０１は、テーパ状に窄まった形態を有している。凸部９０２は、凹部９０１に嵌合する形態を有している。突部９０３は、受板４１１の上面から突出することができるよう設けられている。穴部９０４は、受板４１１の上面から突出した突部９０３が嵌合する形態を有している。なお、突部９０３は、受板４１１において、円周方向等間隔置きに位置するのが好ましく、その数は、例えば、２個、４個、５個、６個、８個等である。穴部９０４は、突部９０３と同じ配置で同じ数だけ設けられている。穴部９０４は、ここでは４個設けられている。
The
より具体的には、突部９０３は、受板４１１に設けられた凹部９１１内に、ピン９１３で支持されたスプリング９１２によって上向きに付勢された状態で、設けられている。突部９０３の上端面９１０は球面である。そして、基板９３の下面の平坦部分が凹部９１１に面した場合には、突部９０３は、当該平坦部分によって下方へ押されて、凹部９１１内に押し込められる。また、基板９３及び底板９４に形成された穴部９０４が凹部９１１に面した場合には、突部９０３は、スプリング９１２によって上向きに押されて、穴部９０４内に嵌合する。
More specifically, the
上記着脱機構９０により、処理容器９は、凸部９０２を受板４１１の凹部９０１に嵌合させ且つ穴部９０４に受板４１１の突部９０３を嵌合させた状態で、受板４１１を介して垂直回転軸４２１に固定される。そして、固定された処理容器９には、垂直回転軸４２１の回転力が受板４１１を介して伝達される。したがって、処理容器９は、受板４１１を介して垂直回転軸４２１に固定された状態で、垂直回転軸４２１と共に回転することができる。
By the attachment /
回転駆動機構４２は、垂直回転軸４２１をモータ４２２で回転させるようになっている。
The
カバー体４１３は、中央に開口４１３１を有している。開閉機構４３は、カバー体４１３の側部から延びたアーム４３１と、アーム４３１を移動させるシリンダ機構４３２とで、構成されている。アーム４３１は、ロッド４３３に回動自在に連結されている。シリンダ機構４３２は、ロッド４３３を上下動させる。アーム４３１の途中には、アーム４３１から直交方向に分岐したアーム４３４が形成されており、アーム４３４の先端にはローラ４３５が設けられている。ローラ４３５は、装置本体４０のフランジ４０１の先端部に回転自在に固定されている。開閉機構４３は、図１０の状態において、ロッド４３３が上方に移動すると、アーム４３１が、ローラ４３５を支点として矢印Ａ方向に回動し、その結果、カバー体４１３を、図１０の垂直状態から図１１の水平状態へ変える。すなわち、開閉機構４３は、カバー体４１３を閉じる。カバー体４１３を開く場合には、上記とは逆に、ロッド４３３を下方へ移動させればよい。
The
供給機構４４は、図１１に示されるように、垂直柱４４１と、垂直柱４４１から水平に延びたアーム４４２と、表面処理液供給管４４３と、洗浄水供給管４４４と、を備えている。アーム４４２は、先端にヘッド部４４５を有している。ヘッド部４４５には、ケース４４５１と、電極端子４４５２と、が設けられている。また、表面処理液供給管４４３の供給口及び洗浄水供給管４４４の供給口は、ヘッド部４４５に位置している。アーム４４２の基端部は、ブロック４４２１を介して、垂直柱４４１に沿って延びたレール４４１１に対して摺動するようになっている。よって、アーム４４２は、シリンダ機構４４６によって、垂直柱４４１に沿って上下動可能となっている。垂直柱４４１は、図１１の紙面の表裏方向に延びた水平レール４４７上を移動可能に設けられている。なお、垂直柱４４１から直交方向に分岐したアーム４４１２の先端には、２個のローラ４４１３、４４１４が設けられている。２個のローラ４４１３、４４１４は、装置本体４０の水平レール４４８に両側から当接しており、これによって、垂直柱４４１が装置本体４０において支持されている。水平レール４４８は水平レール４４７と平行である。
As shown in FIG. 11, the
ドレイン機構４５は、受槽４１２の排出口４１２１に連通して設けられている。図１４はドレイン機構４５の斜視図である。ドレイン機構４５は、排出口４１２１に連通した受容器４５１と、受容器４５１に連通して下方に延びている可撓性のホース４５２と、ホース４５２の先端部４５２１が挿し込まれた分別槽４５３と、ホース４５２の先端部４５２１を水平面内の所定範囲で移動させる移動機構４５４と、を備えている。分別槽４５３は、上面に、ホース４５２の先端部４５２１が挿し込まれる長孔４５３１を有している。分別槽４５３は、内部が隔壁４５３２によって、２つの部屋４５３３、４５３４に仕切られている。移動機構４５４は、モータ４５４１と、アーム４５４２と、を備えている。アーム４５４２の一端は、ホース４５２の先端部４５２１に連結されており、他端はモータ４５４１の駆動軸４５４３に連結されている。移動機構４５４は、モータ４５４１を作動させることにより、アーム４５４２を、駆動軸４５４３を支点として回動させることができる。これにより、ホース４５２の先端部４５２１が、長孔４５３１の両端の間で、移動する。ドレイン機構４５において、ホース４５２の先端部４５２１が長孔４５３１の一端に位置している場合には、先端部４５２１は、分別槽４５３の一方の部屋４５３３上に位置し、ホース４５２の先端部４５２１が長孔４５３１の他端に位置している場合には、先端部４５２１は、分別槽４５３の他方の部屋４５３４上に位置する。２つの部屋４５３３、４５３４の底面からは、それぞれ、配管４５５１、４５５２が延びている。
The
カバー体４１３は、図１５に示されるように、洗浄機構４７及び吸気機構４８を備えている。洗浄機構４７は、カバー体４１３の内面に環状に設けられた給水管４７１で構成されている。給水管４７１は、カバー体４１３の内面に向いた多数の噴出口４７２と、処理容器９のカバー９５の外面に向いた多数の噴出口４７３と、を有している。吸気機構４８は、カバー体４１３の開口４１３１の周縁に沿って設けられた吸気通路４８１で構成されている。吸気通路４８１は、開口４１３１の中心に向かって開いた多数の吸気口４８２を有している。
As shown in FIG. 15, the
（５）ワーク回収装置５
図１６はワーク回収装置５の斜視図、図１７は図１６のＸVII矢視図、図１８は図１６のＸVIII矢視図である。ワーク回収装置５は、処理容器９が載せられる水平な受板５１と、ホッパ５２と、受板５１上の処理容器９とホッパ５２とを共に上下反転させる反転機構５３と、ワークを回収するための回収槽５４と、を備えている。なお、受板５１には、処理容器９の凸部９０２が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器９を受板５１の中心に置くことができる。したがって、搬送装置２に対する処理容器９の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置２によって処理容器９を確実に把持できる。
(5)
16 is a perspective view of the
ホッパ５２は、拡開された受入部５２１と、筒状の本体部５２２と、傾斜した排出部５２６と、排出口５２３と、スプリンクラー５２５と、を有している。排出口５２３は、外側から、蓋５２４によって開閉自在に塞がれている。蓋５２４は、排出部５２６に設けられた軸を中心として回動して開閉するようになっている。蓋５２４は、蓋５２４と本体部５２２との間に掛け渡されたバネ５２９によって、常時閉状態となるよう付勢されている。蓋５２４が常時閉状態となるよう付勢されているので、蓋５２４を開けるまでは、ワークがホッパ５２から出ることはなく、したがって、全てのワークを回収槽５４に確実に回収することができる。スプリンクラー５２５は、本体部５２２側から受入部５２１側へ向けて洗浄水を噴出するように、設けられている。ホッパ５２は、ホッパ５２を、矢印（図１７）に示されるように、９０度回動させて処理容器９に装着するための、回動機構５５を備えている。図１７は非装着状態のホッパ５２を示し、図１８は装着状態のホッパ５２を示している。ホッパ５２は、装着状態においては、受板５１に載せられた処理容器９を上方から軽く押さえ付けている。なお、受入部５２１、本体部５２２、及び排出部５２６の、内面は、鏡面研磨されているので、全てのワークをホッパ５２内から円滑に滑り落とすことができ、したがって、全てのワークを回収槽５４に確実に回収することができる。
The
回動機構５５は、Ｌ形アーム５５１と、水平な回動軸５５２と、回動軸５５２を回動させるシリンダ機構５５３と、を備えている。Ｌ形アーム５５１の一端は、ホッパ５２に側方から連結されており、他端は、回動軸５５２に固定されている。回動軸５５２は、アーム５５４を介して、シリンダ機構５５３のロッド５５３１の先端に連結されている。アーム５５４は、ロッド５５３１に回動自在に連結されている。図１７においては、ロッド５５３１は後退した状態にある。回動機構５５は、ロッド５５３１を前進させることにより、アーム５５４を介して、回動軸５５２を回動させ、それに伴って、ホッパ５２を、矢印に示されるように、回動させる。なお、ホッパ５２の受入部５２１は、ホッパ５２が回動すると、処理容器９の開口９５１に密着するようになっている。したがって、処理容器９及びホッパ５２が反転する際に、ワークが漏出するのを防止でき、それ故、全てのワークを回収槽５４に確実に回収することができる。
The
反転機構５３は、回動軸５３１と、回動軸５３１を駆動するモータ（図示せず）と、を備えている。上述したホッパ５２及び回動機構５５と、受板５１とは、回動軸５３１に固定されている。反転機構５３は、回動軸５３１を回動させることにより、受板５１、処理容器９、及び装着状態のホッパ５２を、矢印（図１８）に示されるように、反転させる。
The reversing
回収槽５４は、反転機構５３の回動軸５３１に対して直交する方向（Ｙ方向）に長い形状を有している。回収槽５４内には、ワークを捕集するためのバスケット５６が設けられている。バスケット５６は、カート５６１によってＹ方向に移動可能に支持されている。カート５６１は、回収槽５４の縁５４１上をローラ５６２によって移動するようになっている。バスケット５６は、回収槽５４内の水中に位置している。したがって、回収したワークが空気に触れるのを防止でき、それ故、表面処理で形成された被膜が酸化されるのを防止して、表面処理後のワークの品質を高く保持できる。回収槽５４の一端側は、反転されたホッパ５２の排出口５２３の下方に位置している。回収槽５４の一端側には、シリンダ機構５７が設けられている。シリンダ機構５７は、図１８に示されるように、水平方向にロッド５７１を移動させることにより、ロッド５７１の先端によって、ホッパ５２の排出口５２３を塞いでいる蓋５２４を、バネ５２９の力に抗して開くようになっている。
The
（６）剥離装置６
剥離装置６は、一部のみが表面処理装置４と異なるだけである。すなわち、剥離装置６は、表面処理液供給管４４３の代わりに剥離液供給管４４３を備えている。
(6)
The
（７）水洗装置７
図１９は水洗装置７の斜視図、図２０は図１９のＸＸ矢視図である。水洗装置７は、処理容器９が載せられる水平な受板７１と、受板７１上に処理容器９を固定する固定機構７２と、受板７１と共に処理容器９を反転させる反転機構７３と、ホッパ７４と、を備えている。なお、受板７１には、処理容器９の凸部９０２が嵌合する凹部が形成されているので、処理容器９を受板７１の中心に置くことができる。したがって、搬送装置２に対する処理容器９の位置を高精度で決めることができ、それ故、搬送装置２によって処理容器９を確実に把持できる。
(7)
FIG. 19 is a perspective view of the
反転機構７３は、水平な回動軸７３１と、回動軸７３１を回動させるモータ（図示せず）と、を備えている。
The reversing
受板７１は、回動軸７３１に固定されている。
The receiving
固定機構７２は、受板７１の下面に固定された２個のシリンダ機構７２１、７２２で構成されている。シリンダ機構７２１、７２２は、受板７１の直径方向に並設されており、ロッド７２１１、７２２１を外向きに進退させるように設けられている。ロッド７２１１、７２２１は、先端に、把持板７２１２、７２２２を有している。固定機構７２は、シリンダ機構７２１、７２２のロッド７２１１、７２２１を進退させることにより、把持板７２１２、７２２２の間隔を拡縮するようになっており、把持板７２１２、７２２２の間隔を縮めた場合に、処理容器９を両側から挟持するようになっている。把持板７２１２、７２２２の先端縁７２１３、７２２３は円弧状である。把持板７２１２、７２２２は、先端縁７２１３、７２２３が処理容器９の最大径よりも小さい径の部分に当接するので、処理容器９を受板７１に押さえ付ける役割も有している。
The fixing
ホッパ７４は、下方の受槽７６に通じている。ホッパ７４の入口７４１は、反転された処理容器９のカバー９５の開口９５１に下方から対向している。ホッパ７４内には、上向きに洗浄水を噴出するスプリンクラー７４２が設けられている。スプリンクラー７４２は、可撓性のホース７４３を経て、洗浄水供給源（図示せず）に接続されている。
The
ホッパ７４は、昇降機構７５を備えている。昇降機構７５は、アーム７５１と、シリンダ機構７５２と、を備えている。アーム７５１は、一端がホッパ７４に連結され、他端がシリンダ機構７５２のロッド７５２１の先端に連結されている。昇降機構７５は、ロッド７５２１を上下動させることによって、ホッパ７４を上下動させる。なお、ホッパ７４の入口７４１は、ホッパ７４が上昇すると、処理容器９の開口９５１に密着するようになっている。したがって、水洗装置７の周囲に水が飛散するのを防止でき、それ故、水洗装置７の周囲が汚染されるのを防止できる。
The
（８）次に、上記構成の表面処理システム１の作動について説明する。
(8) Next, the operation of the
（Ａ）搬入工程
まず、搬送カート３１の４本の支持片３１３上に処理容器９を載せる。次に、処理容器９にワークを入れる。そして、搬送カート３１を、移動させて、受取部３２へ連結させる。その後、システムの作動開始ボタンを押す。これにより、まず、受取部３２が作動する。
受取部３２が作動すると、載置部３４が、搬送カート３１に載せられている処理容器９を下方から支持して、図４において矢印Ｃで示されるように、上昇する。このとき、処理容器９は、凸部９０２が垂直アーム３４２の上端の凹部に嵌合するので、垂直アーム３４２の中央に案内される。そして、載置部３４は、搬送装置２の保持部２９の高さ位置で停止する。
(A) Loading Step First, the
When the receiving
（Ｂ）搬送工程［１］
次に、搬送装置２が作動を開始する。まず、保持部２９が載置部３４上の処理容器９を把持する。そして、作動部２１が、図２の経路[1-1]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に移動する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[1-2]に示されるように、下降して、表面処理装置４の受板４１１に処理容器９を載せた後、処理容器９より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部２６の把持具２９３、２９４が水平移動する際に、ガイド板２９３２、２９３３、２９４２、２９４３が処理容器９に衝突しない高さ位置である。その後、作動部２１は、図２の経路[1-3]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部２６が待機位置となる。
(B) Conveying process [1]
Next, the
Next, as shown in the path [1-2] in FIG. 2, the gripping
（Ｃ）表面処理工程
（C-1）カバー体閉工程
把持部２６が待機位置となると、表面処理装置４が作動を開始する。まず、開閉機構４３が作動して、カバー体４１３が閉じる。すなわち、カバー体４１３が受板４１１上の処理容器９を覆う。
(C) Surface treatment step (C-1) Cover body closing step When the gripping
（C-2）ドレイン作動工程［１］
次に、ドレイン機構４５が作動して、ホース４５２の先端部４５２１が、分別槽４５３の、洗浄水を回収する部屋４５３４上に、位置する。
(C-2) Drain operation process [1]
Next, the
（C-3）洗浄工程［１］
次に、供給機構４４において、垂直柱４４１が水平に移動した後、アーム４４２が下降して、ヘッド部４４５が、受板４１１上の処理容器９の開口９５１中に位置する。
次に、供給機構４４の洗浄水供給管４４４から処理容器９内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構４２が作動して、処理容器９が回転する。これにより、処理容器９内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器９は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体４１３の洗浄機構４７が作動する。これにより、カバー体４１３の内面及び処理容器９のカバー９５の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構４７は停止し、処理容器９の回転も停止する。
(C-3) Cleaning process [1]
Next, in the
Next, cleaning water is introduced into the
Next, the
（C-4）ドレイン作動工程［２］
次に、ドレイン機構４５が作動して、ホース４５２の先端部４５２１が、分別槽４５３の、表面処理液を回収する部屋４５３３上に、位置する。
(C-4) Drain operation process [2]
Next, the
（C-5）処理工程
次に、供給機構４４の表面処理液供給管４４３から処理容器９内に表面処理液が投入されるとともに、回転駆動機構４２が作動して、処理容器９が回転する。また、カバー体４１３の吸気機構４８が作動して、吸気口４８２から吸気が行われる。このとき、表面処理液の成分を含んだミストが吸気口４８２から吸引されるので、表面処理装置４の周辺の空気が汚染されるのを防止できる。また、表面処理が電解処理である場合には、処理容器９の電極リング９１への通電が行われる。そして、一定時間後、表面処理液の投入が停止され、更に、一定時間後、処理容器９の回転が停止される。これにより、脱液処理が行われる。
(C-5) Treatment Step Next, the surface treatment liquid is introduced into the
（C-6）ドレイン作動工程［３］
次に、ドレイン機構４５が作動して、ホース４５２の先端部４５２１が、分別槽４５３の、洗浄水を回収する部屋４５３４上に、位置する。
(C-6) Drain operation process [3]
Next, the
（C-7）洗浄工程［２］
次に、供給機構４４の洗浄水供給管４４４から処理容器９内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構４２が作動して、処理容器９が回転する。これにより、処理容器９内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器９は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体４１３の洗浄機構４７が作動する。これにより、カバー体４１３の内面及び処理容器９のカバー９５の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構４７は停止し、処理容器９の回転も停止する。
そして、吸気機構４８も停止する。
(C-7) Cleaning process [2]
Next, cleaning water is introduced into the
Next, the
Then, the
（C-8）カバー体開工程
そして、開閉機構４３が作動して、カバー体４１３が開く。
(C-8) Cover Body Opening Step Then, the opening /
（Ｄ）搬送工程［２］
次に、搬送装置２が作動する。まず、作動部２１が、図２の経路[2-1]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部２６が、待機位置から受板４１１上の処理容器９の位置まで移動する。そして、把持部２６が処理容器９を保持する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[2-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部２１が、図２の経路[2-3]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に移動し、ワーク回収装置５の位置で停止する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[2-4]に示されるように、下降して、ワーク回収装置５の受板５１に処理容器９を載せた後、処理容器９より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部２６の把持具２９３、２９４が水平移動する際に、ガイド板２９３２、２９３３、２９４２、２９４３が処理容器９に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器９は、凸部９０２が受板５１の凹部に嵌合するので、受板５１の中央に案内される。その後、作動部２１は、図２の経路[2-5]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部２６が待機位置となる。
(D) Conveying process [2]
Next, the
Next, the gripping
Next, as shown in the route [2-4] in FIG. 2, the gripping
（Ｅ）ワーク回収工程
受板５１上に処理容器９が載せられたこと、及び、バスケット５６が所定の回収位置にあることが、センサー（図示せず）によって検知されると、回動機構５５が作動して、ホッパ５２が処理容器９に装着されるとともに、チャイムが鳴る。
次に、反転機構５３が作動して、処理容器９及びホッパ５２が反転される。
次に、スプリンクラー５２５から水が噴出され、その直後に、シリンダ機構５７が作動して、蓋５２４が開かれる。このとき、水はスプリンクラー５２５から噴出されるので、処理容器９の内面全体に水を吹きかけることができ、したがって、処理容器９内のワークを確実に流れ落とすことができる。これにより、処理容器９内のワークが、水と共に処理容器９から流出し、ホッパ５２の排出口５２３から排出される。排出されたワークは、バスケット５６に貯まる。
一定時間後、スプリンクラー５２５が停止し、その後、シリンダ機構５７が作動して、蓋５２４が閉じられる。
次に、反転機構５３が作動して、処理容器９及びホッパ５２が再び反転されて、元の状態に戻る。そして、回動機構５５が作動して、ホッパ５２が非装着状態となるとともに、チャイムが鳴る。
なお、ワークは、バスケット５６をカート５６１によって手前に移動させて、バスケット５６を取り出して、回収する。
(E) Workpiece collection step When a sensor (not shown) detects that the
Next, the reversing
Next, water is spouted from the
After a certain time, the
Next, the reversing
Note that the workpiece is collected by moving the
（Ｆ）搬送工程［３］
次に、搬送装置２が作動する。まず、作動部２１が、図２の経路[3-1]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部２６が、待機位置から受板５１上の処理容器９の位置まで移動する。そして、把持部２６が処理容器９を保持する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[3-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部２１が、図２の経路[3-3]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に移動し、剥離装置６の位置で停止する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[3-4]に示されるように、下降して、剥離装置６の受板４１１に処理容器９を載せた後、処理容器９より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部２６の把持具２９３、２９４が水平移動する際に、ガイド板２９３２、２９３３、２９４２、２９４３が処理容器９に衝突しない高さ位置である。その後、作動部２１は、図２の経路[3-5]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部２６が待機位置となる。
(F) Conveying process [3]
Next, the
Next, the gripping
Next, as shown in the path [3-4] of FIG. 2, the gripping
（Ｇ）剥離処理工程
（G-1）カバー体閉工程
把持部２６が待機位置となると、剥離装置６が作動を開始する。まず、開閉機構４３が作動して、カバー体４１３が閉じる。すなわち、カバー体４１３が受板４１１上の処理容器９を覆う。
(G) Peeling process step (G-1) Cover body closing step When the gripping
（G-2）ドレイン作動工程［１］
次に、ドレイン機構４５が作動して、ホース４５２の先端部４５２１が、分別槽４５３の、剥離液を回収する部屋（図示せず）上に位置する。
(G-2) Drain operation process [1]
Next, the
（G-3）処理工程
次に、供給機構４４において、垂直柱４４１が水平に移動した後、アーム４４２が下降して、ヘッド部４４５が、受板４１１上の処理容器９の開口９５１中に位置する。
次に、供給機構４４の剥離液供給管４４３から処理容器９内に剥離液が投入されるとともに、回転駆動機構４２が作動して、処理容器９が回転する。また、カバー体４１３の吸気機構４８が作動して、吸気口４８２から吸気が行われる。これにより、処理容器９の内面への付着物（例えばめっき被膜）が剥離される。一定時間後、剥離液の供給は停止されるが、処理容器９は回転を続ける。これにより、脱液処理が行われる。そして、処理容器９の回転が停止する。
(G-3) Processing Step Next, in the
Next, the stripping liquid is introduced into the
（G-4）ドレイン作動工程［２］
次に、ドレイン機構４５が作動して、ホース４５２の先端部４５２１が、分別槽４５３の、洗浄水を回収する部屋４５３４上に、位置する。
(G-4) Drain operation process [2]
Next, the
（G-5）洗浄工程
次に、供給機構４４の洗浄水供給管４４４から処理容器９内に洗浄水が投入されるとともに、回転駆動機構４２が作動して、処理容器９が回転する。これにより、処理容器９内が洗浄される。一定時間後、洗浄水の供給は停止されるが、処理容器９は回転を続ける。これにより、脱水処理が行われる。
次に、カバー体４１３の洗浄機構４７が作動する。これにより、カバー体４１３の内面及び処理容器９のカバー９５の外面が、洗浄される。一定時間後、洗浄機構４７は停止し、処理容器９の回転も停止する。
そして、吸気機構４８も停止する。
(G-5) Cleaning Step Next, cleaning water is introduced into the
Next, the
Then, the
（G-6）カバー体開工程
そして、開閉機構４３が作動して、カバー体４１３が開く。
(G-6) Cover Body Opening Step Then, the opening /
（Ｈ）搬送工程［４］
次に、搬送装置２が作動する。まず、作動部２１が、図２の経路[4-1]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部２６が、待機位置から受板４１１上の処理容器９の位置まで移動する。そして、把持部２６が処理容器９を保持する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[4-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部２１が、図２の経路[4-3]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に移動し、水洗装置７の位置で停止する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[4-4]に示されるように、下降して、水洗装置７の受板７１に処理容器９を載せた後、処理容器９より低い位置まで下降して停止する。その停止位置は、把持部２６の把持具２９３、２９４が水平移動する際に、ガイド板２９３２、２９３３、２９４２、２９４３が処理容器９に衝突しない高さ位置である。このとき、処理容器９は、凸部９０２が受板７１の凹部に嵌合するので、受板７１の中央に案内される。その後、作動部２１は、図２の経路[4-5]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動し、これにより、把持部２６が待機位置となる。
(H) Conveyance process [4]
Next, the
Next, the gripping
Next, as shown in the path [4-4] in FIG. 2, the gripping
（Ｉ）水洗工程
把持部２６が待機位置となると、水洗装置７が作動を開始する。まず、固定機構７２が作動して、受板７１上に処理容器９が固定される。
次に、反転機構７３が作動して、受板７１と共に処理容器９が反転される。
次に、昇降機構７５が作動して、ホッパ７４が処理容器９の直近まで上昇する。
次に、スプリンクラー７４２から水が噴出される。これにより、処理容器９の内面全体に水が吹きかけられ、処理容器９内に残留している剥離液や付着物の全てが、確実に、処理容器９から流出して、ホッパ７４を通って受槽７６へ回収される。
一定時間後、スプリンクラー７４２が停止する。
次に、昇降機構７５が作動して、ホッパ７４が下降する。
次に、反転機構７３が作動して、受板７１と共に処理容器９が再び反転されて、元の状態に戻る。
そして、固定機構７２が作動して、処理容器９の固定が解除される。
(I) Rinsing step When the gripping
Next, the reversing
Next, the elevating
Next, water is spouted from the
After a certain time, the
Next, the elevating
Next, the reversing
Then, the fixing
（Ｊ）搬送工程［５］
次に、搬送装置２が作動する。まず、作動部２１が、図２の経路[5-1]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に少しだけ移動する。すなわち、把持部２６が、待機位置から受板７１上の処理容器９の位置まで移動する。そして、把持部２６が処理容器９を保持する。
次に、作動部２１の把持部２６が、図２の経路[5-2]に示されるように、上昇する。次に、作動部２１が、図２の経路[5-3]に示されるように、レール部２２に沿って横方向に移動し、受取部３２の位置で停止する。
(J) Conveying process [5]
Next, the
Next, the gripping
（Ｋ）搬出工程
そして、受取部３２が作動する。まず、載置部３４が、搬送装置２の保持部２９の処理容器９を下方から支持するよう、上昇する。
次に、搬送装置２の作動部２１が少しだけ横方向に移動して、保持部２９が載置部３４から退避する。
次に、載置部３４が、処理容器９を載せたまま下降していく。この途中、処理容器９は、搬送カート３１の４本の支持片３１３上に載る。
そして、搬送カート３１を、受取部３２から移動させて、処理容器９を搬送カート３１から取り外し、新たな処理容器９を搬送カート３１に載せる。
そして、上述したのと同様の作動を行う。
(K) Unloading step Then, the receiving
Next, the
Next, the mounting
Then, the
Then, the same operation as described above is performed.
以上の作動により、上記構成の表面処理システムによれば、ワークを収容した処理容器９を、自動で、表面処理装置４、ワーク回収装置５、剥離装置６、及び水洗装置７に、この順で供することができるので、作業効率良く、表面処理されたワークを得ることができ、更には、洗浄された処理容器９も得ることができる。
With the above operation, according to the surface treatment system configured as described above, the
［変形例］
上記構成の表面処理システム１は、次のような変形構成を採用してもよい。
（１）図２１に示されるように、上記構成のシステム１において、剥離装置６及び水洗装置７を省略してもよい。図２２は、その場合における処理容器９の搬送経路を示している。このシステムによっても、表面処理されたワークを得ることができる。
[Modification]
The
(1) As shown in FIG. 21, in the
（２）図２３に示されるように、上記構成のシステム１において、剥離装置６及び水洗装置７に処理容器９を搬送しないで、処理を終了してもよい。
(2) As shown in FIG. 23, in the
（３）図２４に示されるように、上記構成のシステム１の各装置３、４、５、６、７を平面視円形に配置してもよい。この場合の搬送装置２は、図２５に示されるように、回動ポール２９１と、アーム２９２と、アーム２９２の昇降機構２９３と、アーム２９２の先端に設けられ、処理容器９を保持するための、保持部２９と、を備えている。搬送装置２は、回動ポール２９１を回動させて、アーム２９２を回動させることにより、保持部２９に保持した処理容器９を、各装置３、４、５、６、７に搬送するようになっている。昇降機構２９３は、アーム２９２を昇降させることにより、保持部２９に保持した処理容器９を昇降させるようになっている。
(3) As shown in FIG. 24, the
（４）図２６に示されるように、上記構成のシステム１の水洗装置７において、スプリンクラー７４２を受槽７６に固定して設けてもよい。具体的には、スプリンクラー７４２から、管７４２１を、鉛直に延ばして、リング７４２２及び支柱７４２３で支持して、横方向に延ばす。
(4) As shown in FIG. 26, the
（５）図２７に示されるように、ホッパ７４を、大径の大型として、受槽７６を兼ねるようにしてもよい。
(5) As shown in FIG. 27, the
（６）図２８に示されるように、第１実施形態のワーク回収装置５と水洗装置７とを一体に設けてもよい。この場合では、第１実施形態のワーク回収装置５において、回収槽５４と受槽７６とが並設されている。また、ホッパ５２において、排出部５２６が、本体部５２２に対して、回転継ぎ目５２６１を介して、回動可能となっている。また、シリンダ機構５７が排出部５２６と一体に設けられている。この装置は、ワーク回収工程においては、排出部５２６が回収槽５４側に向けられて作動し、水洗工程においては、排出部５２６が受槽７６側に向けられて作動する。
(6) As shown in FIG. 28, the
（７）表面処理装置４を複数設けてもよい。これによれば、各表面処理装置４で異なる表面処理を行うことができ、したがって、ワークの表面に、２層以上の処理被膜を形成することができる。
(7) A plurality of
（８）図２９に示されるように、第１実施形態のワーク回収装置５におけるホッパ５２に代えて、大口のホッパ５２０を回収槽５４の上方に設けてもよい。これによれば、ワーク回収装置５の反転機構５３を、水洗装置７の反転機構７３と共通の部品で構成できるので、部品の種類を低減して生産性を向上できる。
(8) As shown in FIG. 29, a
（９）図３０に示されるように、上記構成のシステム１の搬送カート３１の支持片３１３のそれぞれに、内向きの水平板３１５を設けてもよい。処理容器９は、水平板３１５上に載せられる。これによれば、水平板３１５上に載せられた処理容器９の側面に、支持片３１３が接するので、処理容器９が水平方向に動くのを、確実に防止できる。
(9) As shown in FIG. 30, an inward
本発明のワーク回収装置は、表面処理されたワークを簡単な作動で回収できるので、産業上の利用価値が大である。 Since the workpiece collection apparatus of the present invention can collect a surface-treated workpiece with a simple operation, it has great industrial utility value.
１ 表面処理システム ２ 搬送装置 ２１ 作動部 ２２ レール部 ２３ 基台部 ２４ 柱部 ２６ 把持部 ３ 搬入搬出装置 ４ 表面処理装置 ５ ワーク回収装置 ５１ 受板 ５２ ホッパ ５２５ スプリンクラー ５３ 反転機構 ５４ 回収槽 ７１ 受板 ７２ 固定機構 ７３ 反転機構 ７４ ホッパ ７４２ スプリンクラー
DESCRIPTION OF
Claims (1)
受板上の処理容器を上方から覆うホッパと、
処理容器を覆ったホッパを受板及び処理容器と共に上下反転させる反転機構と、を備えており、
上下反転された処理容器内に、ホッパに設けられた噴出部から水を吹きかけて、処理容器内のワークを、ホッパ内へ洗い出してホッパから回収槽へ排出させて捕集するよう、構成されていることを特徴とするワーク回収装置。 A receiving plate on which the processing container is placed;
A hopper that covers the processing vessel on the receiving plate from above;
A reversing mechanism that flips the hopper covering the processing container upside down together with the receiving plate and the processing container,
Water is sprayed from an ejection part provided in the hopper into the processing container that is turned upside down, and the work in the processing container is washed out into the hopper and discharged from the hopper to the collection tank and collected. A workpiece collection device characterized by comprising:
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2012113194A JP5512742B2 (en) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | Work collection device |
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