JP5499282B2 - Aberration correction method and aberration correction apparatus in scanning transmission electron microscope - Google Patents

Aberration correction method and aberration correction apparatus in scanning transmission electron microscope Download PDF

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本発明は、走査透過電子顕微鏡における収差補正方法および収差補正装置に関する。   The present invention relates to an aberration correction method and an aberration correction apparatus in a scanning transmission electron microscope.

走査透過電子顕微鏡(STEM)は、収束させた電子線を試料上で走査し、この走査と同期させながら試料からの透過電子或いは散乱電子による検出信号の強度をマッピングすることで観察像(走査透過像、STEM像)を得る電子顕微鏡である。走査透過電子顕微鏡は、原子レベルの極めて高い空間分解能が得られる電子顕微鏡として近年注目を集めている。この空間分解能は、試料に入射する電子線のビーム径に依存しているため、高分解能化を図るには収差の低減が非常に重要になる。収差を低減する直接的な手段としては、四極子や六極子等の収差補正子が用いられる。   A scanning transmission electron microscope (STEM) scans a sample with a converged electron beam and maps the intensity of detection signals from transmitted or scattered electrons from the sample in synchronization with this scanning. It is an electron microscope which obtains an image, a STEM image. In recent years, the scanning transmission electron microscope has attracted attention as an electron microscope capable of obtaining a very high spatial resolution at the atomic level. Since this spatial resolution depends on the beam diameter of the electron beam incident on the sample, it is very important to reduce aberrations in order to achieve high resolution. As a direct means for reducing aberration, an aberration corrector such as a quadrupole or hexapole is used.

また、観察時に短時間で高空間分解能を得るには、その時点で生じている収差を計算し、これら予め把握しておくことが有効である。その計算方法として、特許文献1には、試料面内で直交する二方向に向かって既知の距離で入射電子線をシフトさせ、その前後で取得したロンチグラム(Ronchigram)を用いて、収差を補正する方法を開示している。具体的には、各ロンチグラムを複数の小領域に分割し、各領域の特定の構造について入射電子線の各シフト前後の移動量(即ち倍率)を相互相関関数を用いて算出する。各シフトに対する移動量から、試料面上のx、y方向に沿った2つの移動量が求まるので、各小領域毎に4つの移動量成分が算出される。これら移動量は、各小領域の像を形成した電子線の収束角及び方位角に対する収差関数χの2回偏微分に対応している。従って、求めた複数の移動量について最小二乗法を用いて上記2回偏微分をフィッティングし、そこから各収差係数を求める。そして、この収差係数を用いて収差補正子を制御することで各収差が低減される。   Further, in order to obtain a high spatial resolution in a short time during observation, it is effective to calculate aberrations occurring at that time and grasp them in advance. As a calculation method, Patent Document 1 discloses that an incident electron beam is shifted by a known distance in two directions orthogonal to each other in a sample plane, and aberrations are corrected by using Ronchigrams acquired before and after that. A method is disclosed. Specifically, each Ronchigram is divided into a plurality of small regions, and the amount of movement (that is, the magnification) of the incident electron beam before and after each shift is calculated using a cross-correlation function for a specific structure in each region. Since two movement amounts along the x and y directions on the sample surface are obtained from the movement amount for each shift, four movement amount components are calculated for each small region. These movement amounts correspond to the second partial differentiation of the aberration function χ with respect to the convergence angle and azimuth angle of the electron beam that forms the image of each small region. Therefore, the partial differential is fitted twice using the least square method for the obtained plurality of movement amounts, and each aberration coefficient is obtained therefrom. Each aberration is reduced by controlling the aberration corrector using this aberration coefficient.

また、別の収差計算方法として、特許文献1は、一枚のロンチグラムを小領域に分割し、各領域についてフーリエ変換を実行することで複数のディフラクトグラム(diffractogram)を求め、これらディフラクトグラムから収差係数を算出する手法を開示している。各ディフラクトグラムに現れる明暗輪の位置は、電子線の収束角及び方位角に対する収差関数χの2回偏微分に対応するので、上記と同様のフィッテングを行うことで、これらから各収差係数を求めている。   As another aberration calculation method, Patent Document 1 divides a single Ronchigram into small regions and obtains a plurality of diffractograms by executing Fourier transform for each region. Discloses a method of calculating an aberration coefficient from the above. The positions of the light and dark rings appearing in each diffractogram correspond to the double partial differentiation of the aberration function χ with respect to the convergence angle and azimuth angle of the electron beam, so by performing the same fitting as above, each aberration coefficient can be calculated from these. Seeking.

更に別の収差計算方法として、特許文献1は、相互に異なる位置に配置された微小な検出器を用いた収差計算方法を示している。この場合、各検出器から得られる明視野像に対し、互いの像の移動量が算出される。各検出器の位置を入射電子線の収束角および方位角に対応付けると、各像の移動量は、収束角または方位角に対する収差関数χの1回微分に対応する。従って、求めた複数の移動量について最小二乗法を用いて上記1回微分をフィッティングし、そこから各収差係数を求めている。   As yet another aberration calculation method, Patent Document 1 shows an aberration calculation method using minute detectors arranged at different positions. In this case, the movement amount of each image is calculated with respect to the bright field image obtained from each detector. When the position of each detector is associated with the convergence angle and azimuth angle of the incident electron beam, the amount of movement of each image corresponds to one-time differentiation of the aberration function χ with respect to the convergence angle or azimuth angle. Accordingly, the above-described one-time differentiation is fitted to the obtained plurality of movement amounts using the least square method, and each aberration coefficient is obtained therefrom.

米国特許6552340号公報US Pat. No. 6,552,340

上記特許文献1のロンチグラムを用いた収差補正方法では、ロンチグラムを観察するためのシンチレータ等の電子-光変換素子とCCDカメラ等の撮像装置が必要である。ところが、走査透過電子顕微鏡には、基本的に、明視野像及び暗視野像を形成する電子を検出する検出器が鏡筒内に固定されている。従って、ロンチグラムを観察するためには、この検出器の前に電子-光変換素子を退避可能に設置しなければならない。また、電子-光変換素子を退避させた後に、改めてその後段の検出器によって明視野像及び暗視野像するので、収差補正後に時間的な遅延が生ずる。原子レベルの高分解能観察では、電子線のドリフト等の経時変化により収差が変化する可能性があるので、上記の時間遅延は無視できない。また、撮像装置は非常に高価であり、製造コストが増大してしまう。   The aberration correction method using the Ronchigram of Patent Document 1 requires an electro-optical conversion element such as a scintillator for observing the Ronchigram and an imaging device such as a CCD camera. However, in a scanning transmission electron microscope, a detector for detecting electrons that form a bright field image and a dark field image is basically fixed in a lens barrel. Therefore, in order to observe the Ronchigram, the electron-light conversion element must be installed in a retractable manner in front of the detector. In addition, since the bright-field image and the dark-field image are newly formed by the subsequent detector after the electro-optical conversion element is retracted, a time delay occurs after aberration correction. In high-resolution observation at the atomic level, aberrations may change due to changes over time such as electron beam drift, so the above time delay cannot be ignored. Further, the imaging device is very expensive, and the manufacturing cost increases.

また、ロンチグラムを観察するので、高分解能観察中には収差計算を実行することができない。この点からも、収差補正後に時間的な遅延が生ずることになる。   Further, since the Ronchigram is observed, aberration calculation cannot be executed during high-resolution observation. Also from this point, a time delay occurs after aberration correction.

本発明は、高分解能観察において、収差の変化を伴う時間的遅延を最小に留め、且つ、収差係数の算出精度が高い収差補正方法及び収差補正装置の提供を目的とする。   An object of the present invention is to provide an aberration correction method and an aberration correction apparatus that minimizes a time delay accompanied by a change in aberration and has high accuracy in calculating an aberration coefficient in high-resolution observation.

本発明の第1の態様は収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡の収差補正方法であって、複数の検出面を備える検出器に対して電子線を入射させる工程と、前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像する工程と、前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出する工程と、算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する工程とを備えることを特徴とする。   A first aspect of the present invention is an aberration correction method for a scanning transmission electron microscope having an aberration corrector, the step of causing an electron beam to enter a detector having a plurality of detection surfaces, and a dark field by the electron beam. Simultaneously capturing a bright field image including angle information of the electron beam for each image and the detection surface; calculating an aberration coefficient from the plurality of bright field images using the dark field image as a position reference of an observation image; And a step of controlling the aberration corrector so as to reduce aberration based on the calculated aberration coefficient.

前記収差係数算出工程は、前記複数の明視野像間の像移動量を算出する工程と、各前記像移動量から各明視野像における幾何収差量を算出する工程とを含むことが好ましい。
前記像移動量は相互相関関数を用いて算出することが好ましい。
Preferably, the aberration coefficient calculating step includes a step of calculating an image movement amount between the plurality of bright field images and a step of calculating a geometric aberration amount in each bright field image from each of the image movement amounts.
The image movement amount is preferably calculated using a cross-correlation function.

前記検出器の前記複数の検出面は、角度方向及び動径方向において等間隔に配置されていることが好ましい。   The plurality of detection surfaces of the detector are preferably arranged at equal intervals in the angular direction and the radial direction.

前記検出器は、前記複数の検出面として、前記複数の明視野像を取得するための複数の検出面を有する明視野像検出器と、前記明視野像検出器の外側に設置され、前記暗視野像を取得するための1つの検出面を有する暗視野像検出器とを含むことが好ましい。   The detector is installed on the outside of the bright field image detector, a bright field image detector having a plurality of detection surfaces for acquiring the plurality of bright field images as the plurality of detection surfaces, and the dark field image detector. And a dark field image detector having one detection surface for acquiring a field image.

前記撮像工程は、更に、前記検出器上で前記試料からの電子線を回転させて暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像する工程を含むことが好ましい。   Preferably, the imaging step further includes a step of simultaneously capturing a dark field image and a plurality of bright field images by rotating an electron beam from the sample on the detector.

前記撮像工程は、更に、前記複数の検出面を回転させて暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像する工程を含むことが好ましい。   It is preferable that the imaging step further includes a step of rotating the plurality of detection surfaces to simultaneously capture a dark field image and a plurality of bright field images.

上記収差補正方法は、更に前記撮像工程の前工程として、デフォーカスするとともに、暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に取得する工程、および、前記デフォーカス時の暗視野像に対する前記デフォーカス時の明視野像の各位置ずれベクトルの合成が最も小さくなるように、前記試料からの透過電子線と前記検出器との相対位置を調整する工程、を備えることが好ましい。   The aberration correction method further includes defocusing as a pre-process of the imaging process, simultaneously acquiring a dark-field image and a bright-field image including angle information of the electron beam for each detection surface; Adjusting the relative position of the transmitted electron beam from the sample and the detector so that the composition of each positional deviation vector of the bright field image at the time of defocusing with respect to the dark field image at the time of focusing is minimized. It is preferable to provide.

上記収差補正方法は、更に、前記試料からの前記電子線を拡大又は縮小させる工程を備えることが好ましい。   The aberration correction method preferably further includes a step of enlarging or reducing the electron beam from the sample.

本発明の第2の態様は収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡の収差補正装置であって、電子線が入射する複数の検出面を有する検出器と、(a)前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、(b)前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、(c)算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する制御装置とを備えることを特徴とする。   A second aspect of the present invention is an aberration correction apparatus for a scanning transmission electron microscope having an aberration corrector, the detector having a plurality of detection surfaces on which an electron beam is incident, and (a) a dark field image by the electron beam. And simultaneously taking a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface, and (b) calculating an aberration coefficient from the plurality of bright field images using the dark field image as a position reference of an observation image, and c) a control device that controls the aberration corrector so as to reduce aberration based on the calculated aberration coefficient.

前記制御装置は、前記収差係数の算出の際に、更に、前記複数の明視野像間の像移動量を算出し、各前記像移動量から各明視野像における幾何収差量を算出することが好ましい。   When calculating the aberration coefficient, the control device further calculates an image movement amount between the plurality of bright field images, and calculates a geometric aberration amount in each bright field image from each of the image movement amounts. preferable.

前記制御装置において、前記像移動量は相互相関関数を用いて算出することが好ましい。   In the control device, the image movement amount is preferably calculated using a cross-correlation function.

前記検出器の前記複数の検出面は、角度方向及び動径方向において等間隔に配置されていることが好ましい。   The plurality of detection surfaces of the detector are preferably arranged at equal intervals in the angular direction and the radial direction.

前記検出器は、前記複数の検出面として、前記複数の明視野像を取得するための複数の検出面を有する明視野像検出器と、前記明視野像検出器の外側に設置され、前記暗視野像を取得するための1つの検出面を有する暗視野像検出器とを含むことが好ましい。   The detector is installed on the outside of the bright field image detector, a bright field image detector having a plurality of detection surfaces for acquiring the plurality of bright field images as the plurality of detection surfaces, and the dark field image detector. And a dark field image detector having one detection surface for acquiring a field image.

収差補正装置は、試料と前記検出器と間に設置される回転レンズを備え、前記制御装置は、更に、電子レンズを制御して前記検出器上で電子線を回転させるとともに、暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像することが好ましい。   The aberration correction device includes a rotating lens installed between a sample and the detector, and the control device further controls the electron lens to rotate the electron beam on the detector, It is preferable to capture a plurality of bright field images simultaneously.

前記検出器は、電子線を光に変換する電子-光変換素子と、前記電子-光変換素子を前記複数の検出面として分割するとともに、各前記検出面からの光を伝送する光伝送路と、前記光伝送路から伝送された光を前記複数の検出面毎に電気信号に変換する複数の光検出器と、を備えることが好ましい。   The detector includes an electron-light conversion element that converts an electron beam into light, and an optical transmission path that divides the electron-light conversion element as the plurality of detection surfaces and transmits light from each detection surface; It is preferable that a plurality of photodetectors convert light transmitted from the optical transmission path into electrical signals for the plurality of detection surfaces.

前記光伝送路は、光の伝送経路を変更することで前記電子-光変換素子の電子線入射面内で前記複数の検出面を回転させる回転機構を有することが好ましい。   It is preferable that the optical transmission path includes a rotation mechanism that rotates the plurality of detection surfaces within an electron beam incident surface of the electron-optical conversion element by changing a light transmission path.

前記制御装置は、前記暗視野像および前記複数の明視野像を撮像する前に、デフォーカスするとともに、暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に取得し、前記デフォーカス時の暗視野像に対する前記デフォーカス時の明視野像の各位置ずれベクトルの合成が最も小さくなるように、電子線と前記検出器との相対位置を調整することが好ましい。   The control device defocuses before capturing the dark field image and the plurality of bright field images, and simultaneously acquires a dark field image and a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface. It is preferable to adjust the relative position between the electron beam and the detector so that the composition of each positional deviation vector of the bright field image at the time of defocusing with respect to the dark field image at the time of defocusing is minimized.

上記の収差補正方法及び収差補正装置では、相互に位置の異なる複数の検出面の夫々から明視野像が取得され、これと同時に暗視野像を取得される。これら同時に取得した観察像を用いた各収差係数の算出において、ずれの少ない暗視野像を位置基準として用いるので、収差係数の算出精度を向上させることができ、この結果に基づく収差補正によって高分解能化が達成できる。   In the aberration correction method and the aberration correction apparatus, a bright field image is acquired from each of a plurality of detection surfaces having different positions, and a dark field image is acquired at the same time. In calculating each aberration coefficient using these simultaneously acquired observation images, a dark field image with little deviation is used as a position reference, so the aberration coefficient calculation accuracy can be improved, and aberration correction based on this result enables high resolution. Can be achieved.

また、観察像を用いて収差係数を算出するので観察モードの切替えは不要である。つまり、走査透過像の観察後、直ちに収差補正を実行することができるため、収差補正と実際の観察との間の時間的な遅延を最小に留めることができる。これは電子光学系の設定値変更を最小限に抑えたい原子レベルの高分解能観察において、非常に有効である。   Further, since the aberration coefficient is calculated using the observation image, it is not necessary to switch the observation mode. That is, since the aberration correction can be executed immediately after the scanning transmission image is observed, the time delay between the aberration correction and the actual observation can be kept to a minimum. This is very effective for high-resolution observation at the atomic level where it is desired to minimize changes in the set values of the electron optical system.

本発明の原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle of this invention. 本発明の原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle of this invention. 本発明の第1実施形態に係る収差補正装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the aberration correction apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る検出器の検出面を示す図である。It is a figure which shows the detection surface of the detector which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1及び第2実施形態に係る収差補正子制御装置の機能ブロック図である。It is a functional block diagram of the aberration corrector control device according to the first and second embodiments of the present invention. 本発明の第1及び第2実施形態に係る光伝送路において検出面を回転させる手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which rotates a detection surface in the optical transmission line which concerns on 1st and 2nd embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る収差補正装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the aberration correction apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る検出器の検出面を示す図である。It is a figure which shows the detection surface of the detector which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の各実施形態に係る収差補正装置を搭載した走査透過電子顕微鏡の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the scanning transmission electron microscope carrying the aberration correction apparatus which concerns on each embodiment of this invention.

(原理)
本発明に係る収差補正の原理について図面を参照して説明する。図1は、走査透過電子顕微鏡(STEM)(図9参照)による明視野像の取得において、STEM内に導入された試料41近傍から検出器11までの電子線1の軌道の一例を模式的に示した図である。試料41は、対物レンズ57の前方焦点面57aから焦点距離だけ離れた位置に設置され、検出器11は試料41からカメラ長だけ離れた位置に設置されている。この図では、電子線1が対物レンズ57の前方焦点面57aを通過し、対物レンズの収束作用によって試料41に向かって収束する様子を示している。
(principle)
The principle of aberration correction according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 schematically shows an example of the trajectory of the electron beam 1 from the vicinity of the sample 41 introduced into the STEM to the detector 11 in the acquisition of a bright field image by a scanning transmission electron microscope (STEM) (see FIG. 9). FIG. The sample 41 is installed at a position away from the front focal plane 57a of the objective lens 57 by a focal length, and the detector 11 is installed at a position away from the sample 41 by the camera length. This figure shows a state in which the electron beam 1 passes through the front focal plane 57a of the objective lens 57 and converges toward the sample 41 by the convergence action of the objective lens.

なお、αは試料41に対する電子線1の収束角(入射角)、θは試料41上での電子線1の方位角である。収差が無い場合、各電子線はその収束角α及び方位角θに関わりなく、点線で示すように試料41の一点に集中するはずである。ところが実際には収差(幾何収差)があるため、電子線1は試料41への収束角αが大きいほど、試料41の手前で光軸2と交差し、その照射位置は、当該電子線の収束角αが大きいほど、想定する照射位置から遠ざかる。この収差が対物レンズ57の球面収差によるものであれば、良く知られているように、このずれは収束角αの3乗に比例する。   Α is the convergence angle (incident angle) of the electron beam 1 with respect to the sample 41, and θ is the azimuth angle of the electron beam 1 on the sample 41. When there is no aberration, each electron beam should be concentrated at one point of the sample 41 as shown by the dotted line regardless of the convergence angle α and the azimuth angle θ. However, since there is actually aberration (geometric aberration), the electron beam 1 crosses the optical axis 2 in front of the sample 41 as the convergence angle α to the sample 41 increases, and the irradiation position is the convergence of the electron beam. The larger the angle α, the farther away from the assumed irradiation position. If this aberration is due to the spherical aberration of the objective lens 57, as is well known, this deviation is proportional to the cube of the convergence angle α.

このような収差の影響下で、光軸2上を通過した電子線1aが図2(a)に示す明視野像を形成した場合、試料41に対して収束角α(α≠0)の電子線1bが形成する明視野像は、図2(b)に示すように、図2(a)の明視野像に対する位置ずれを伴う。これは、収差による照射位置のずれにより、原子Aの像を形成するために(換言すれば、原子Aに照射するために)電子線1bを更にシフトさせる必要があるためである。   Under the influence of such aberration, when the electron beam 1a that has passed on the optical axis 2 forms the bright field image shown in FIG. 2A, electrons having a convergence angle α (α ≠ 0) with respect to the sample 41. As shown in FIG. 2B, the bright field image formed by the line 1b is accompanied by a positional shift with respect to the bright field image of FIG. This is because the electron beam 1b needs to be further shifted in order to form an image of the atom A (in other words, to irradiate the atom A) due to the deviation of the irradiation position due to the aberration.

つまり、収束角αの異なる電子線によって形成される複数の明視野像は、収差によって必然的に相互の位置ズレを伴うことになる。即ち、試料41についての一観察像を基準とし、これらの明視野像の位置ずれ量を位置ずれベクトルFα、θで表したとすると、その逆方向のベクトルは各明視野像に現れる収差を示す幾何収差ベクトルGα、θに対応する。   That is, a plurality of bright field images formed by electron beams with different convergence angles α are necessarily accompanied by positional deviations due to aberration. That is, assuming that one observation image of the sample 41 is used as a reference and the amount of positional deviation of these bright field images is represented by positional deviation vectors Fα and θ, the vector in the opposite direction indicates the aberration appearing in each bright field image. This corresponds to the geometric aberration vectors Gα and θ.

一方、対物レンズ57の前方焦点面(開口面とも称する)57aは、電子線1の角度空間面である。即ち、図1の上部で概念的に示すように、前方焦点面57a上の電子線の各位置を極座標で表すと、その動径成分および角度成分は、それぞれ、収束角α及び方位角θにより一義的に表すことができる。また、前方焦点面57aでの収差関数χは、これら収束角α及び方位角θの関数である次の各波面収差の和で表される。原子レベルでの高分解能観察では軸上収差のみを扱うことを考慮すると、収差関数χ(α,θ)は、次の(1)式で表される。   On the other hand, a front focal plane (also referred to as an aperture plane) 57 a of the objective lens 57 is an angular space plane of the electron beam 1. That is, as conceptually shown in the upper part of FIG. 1, when each position of the electron beam on the front focal plane 57a is expressed in polar coordinates, the radial component and the angular component are expressed by the convergence angle α and the azimuth angle θ, respectively. It can be expressed uniquely. The aberration function χ at the front focal plane 57a is expressed as the sum of the following wavefront aberrations that are functions of the convergence angle α and the azimuth angle θ. In consideration of handling only the axial aberration in the high-resolution observation at the atomic level, the aberration function χ (α, θ) is expressed by the following equation (1).

χ(α,θ)= 焦点ズレ(デフォーカス)+2回非点
+軸上コマ+3回非点
+球面収差+スター収差+4回非点
+4次のコマ+Threelobe収差+5回非点
+5次の球面収差+6回非点…
即ち、
χ (α, θ) = defocus (defocus) + 2 times astigmatism
+ On-axis frame + 3 times astigmatism
+ Spherical aberration + star aberration +4 astigmatism
+ 4th order coma + Threelobe aberration +5 times astigmatism
+ 5th order spherical aberration + 6th astigmatism ...
That is,

である。 It is.

幾何収差ベクトルGα,θの収束角方向および方位角方向における各成分Gα、Gθは、この収差関数χについて収束角αおよび方位角θのそれぞれで偏微分することで得られる。
The components Gα and Gθ in the convergence angle direction and the azimuth direction of the geometric aberration vectors Gα and θ are obtained by partial differentiation of the aberration function χ with respect to the convergence angle α and the azimuth angle θ, respectively.

つまり、収束角α及び方位角θの複数の組のそれぞれにおける明視野像を取得することで、その組の数だけ幾何収差ベクトルGα,θが得られ、これらに対して最小二乗法等の数学的処理を行うことで、各収差係数を算出することができる。 That is, by obtaining bright field images in each of a plurality of sets of the convergence angle α and the azimuth angle θ, geometrical aberration vectors Gα and θ are obtained for the number of the sets. Each aberration coefficient can be calculated by performing the target process.

電子線の収束角α及び方位角θについては、例えば、電子線の検出面の位置を特定すればよい。例えば、収束角α及び方位角θを対応付けた検出位置の異なる複数の検出面を有する多分割検出器を用いて、それぞれの検出面に入射した電子線から明視野像をその検出面の位置情報(即ち、当該検出面に入射した電子線1の角度情報(収束角α及び方位角θ))と共に複数、同時に取得し、これらから各明視野像に対する幾何収差ベクトルGα,θを複数算出する。なお、各収差は収束角αと位相角θ(前方焦点面では動径成分と角度成分)を変数にもつ関数であるため、両変数に対して検出面を少なくとも二分割する必要がある。好ましくは、 For the electron beam convergence angle α and azimuth angle θ, for example, the position of the electron beam detection surface may be specified. For example, using a multi-segment detector having a plurality of detection surfaces with different detection positions associated with the convergence angle α and the azimuth angle θ, a bright-field image is detected from the electron beam incident on each detection surface. A plurality of information (ie, angle information (convergence angle α and azimuth angle θ) of the electron beam 1 incident on the detection surface) are simultaneously acquired, and a plurality of geometric aberration vectors Gα and θ for each bright-field image are calculated from these. . Each aberration is a function having the convergence angle α and the phase angle θ (radial component and angular component in the front focal plane) as variables, and therefore the detection surface must be divided into at least two for both variables. Preferably,

また、各収差係数の算出に必要な幾何収差ベクトルGα,θの数が多いほど(即ち分割された検出面の数が多いほど)、次数の低い収差について高い精度で算出できる。 Further, as the number of geometric aberration vectors Gα and θ necessary for calculating each aberration coefficient increases (that is, as the number of divided detection surfaces increases), aberrations with lower orders can be calculated with higher accuracy.

各明視野像に対する幾何収差ベクトルGα,θの始点を定義する基準画像として、複数の明視野像のうちの1つを用いることもできるが、本発明では、この基準画像として上述の複数の明視野像と同時に取得する暗視野像を用いる。周知の通り、明視野像はコヒーレントな透過電子線(0次の回折電子線)によって形成される像であり、試料厚さやフォーカスによるコントラストの反転が生じるため、像内の特定の構造(例えば原子)の認識が困難となる場合がある。また、明視野像は、幾何収差等による電子線の入射角の変化によって容易にずれるため、幾何収差ベクトルGα,θの基準位置を設定する像としては適さない。一方、暗視野像は、インコヒーレントである散乱電子によって形成されるため、像の反転が生じず、特定の構造に認識が容易である。また、STEMによる像観察の条件下では、入射電子に対する散乱強度の角度依存性は緩やかであるため、幾何収差等による電子線の入射角の変化に対して暗視野像は殆どずれない。さらに、明視野像と同時に暗視野像を取得するので、電子光学系等が生成する磁場又は電場の経時変化によって原子レベルの高分解能測定で憂慮されるナノオーダーの像のドリフトも排除される。従って、このような暗視野像を各検出面から得られる明視野像と同時に取得し、この暗視野像を各明視野像のずれに関する位置基準とすることで、幾何収差ベクトルGα,θの算出精度を向上させることができる。 Although one of a plurality of bright field images can be used as a reference image that defines the starting point of the geometric aberration vectors Gα and θ for each bright field image, in the present invention, the above-described plurality of bright field images are used as the reference image. A dark field image acquired simultaneously with the field image is used. As is well known, a bright-field image is an image formed by a coherent transmission electron beam (0th-order diffracted electron beam), and contrast inversion occurs due to the sample thickness or focus. ) May be difficult to recognize. Further, since the bright field image is easily displaced by a change in the incident angle of the electron beam due to geometric aberration or the like, it is not suitable as an image for setting the reference position of the geometric aberration vectors Gα and θ. On the other hand, since the dark field image is formed by scattered electrons that are incoherent, the image is not reversed and the specific structure can be easily recognized. In addition, under the conditions of image observation by STEM, the angle dependence of the scattering intensity with respect to the incident electrons is gentle, so that the dark field image hardly shifts with respect to the change in the incident angle of the electron beam due to geometric aberration or the like. Further, since the dark field image is acquired simultaneously with the bright field image, the drift of the nano-order image which is concerned in the high resolution measurement at the atomic level due to the temporal change of the magnetic field or electric field generated by the electron optical system or the like is eliminated. Therefore, such a dark field image is acquired simultaneously with the bright field image obtained from each detection surface, and the dark field image is used as a position reference regarding the deviation of each bright field image, thereby calculating the geometric aberration vectors Gα and θ. Accuracy can be improved.

算出した各収差係数は、例えばSTEMの照射系側に設置された収差補正子において、収差を抑制するために用いられる。この場合、同時に取得した明視野像と暗視野像から各収差係数を直ちに求めることができるので、収差補正子の制御を短時間で実行することができ、上述のドリフト等が発生する前に高分解能な観察が可能になる。   Each calculated aberration coefficient is used, for example, in an aberration corrector installed on the STEM irradiation system side to suppress aberration. In this case, since each aberration coefficient can be obtained immediately from the bright field image and dark field image acquired at the same time, the aberration corrector can be controlled in a short time, and high before the above-mentioned drift occurs. A resolution observation is possible.

本発明の基本的な原理は上記の通りであるが、実際に多分割検出器を用いて複数の明視野像を取得する場合、収差に基づく像の位置ズレを全ての検出器が検出できるように、試料41からの透過電子線の中心軸に多分割検出器の中心を合わせることが望ましい。この位置合わせとして、対物レンズ57を用いて電子線1をデフォーカスさせて暗視野像および複数の明視野像を同時に取得し、上述の幾何収差ベクトルGα,θの算出と同様の手法を用いて、デフォーカス時の暗視野像に対する各明視野像の位置ずれベクトルFα、θを算出し、その合成が最も小さくなるように、透過電子線と多分割検出器の相対位置を調整する。 The basic principle of the present invention is as described above. However, when a plurality of bright-field images are actually acquired using a multi-division detector, all detectors can detect image misalignment based on aberrations. Further, it is desirable to align the center of the multi-segment detector with the central axis of the transmission electron beam from the sample 41. For this alignment, the electron beam 1 is defocused using the objective lens 57 to simultaneously acquire a dark field image and a plurality of bright field images, and using the same method as the calculation of the geometric aberration vectors Gα and θ described above. Then, the positional deviation vectors Fα and θ of the bright field images with respect to the dark field image at the time of defocusing are calculated, and the relative positions of the transmission electron beam and the multi-divided detector are adjusted so that the combination is minimized.

具体的には、多分割検出器を用いた明視野像の観察において、試料41への入射電子線をデフォーカスさせたとき、各明視野像の移動方向は、ある一点を中心にして放射状に移動する性質を利用する。つまり、入射電子線の光軸と多分割検出器の中心が一致している場合には、暗視野像を基準位置とした各明視野像の位置ずれベクトルFα、θは略等しい大きさで放射状に分布するが、入射電子線の光軸から多分割検出器の中心が外れている場合(極端な例では、入射電子線の光軸の光軸が多分割検出器の外側にある場合)には、各収差係数を算出するための明視野像の取得、およびその位置ずれベクトル算出が困難になる。そこで、デフォーカス時の各位置ずれベクトルF´α、θを算出し、その合成が最小となるように、透過電子線を偏向させる、或いは、多分割検出器を光軸に垂直な面上で機械的に移動させる。これにより、透過電子線の中心軸と多分割検出器の中心を一致させることができる。   Specifically, in the observation of the bright field image using the multi-segment detector, when the incident electron beam to the sample 41 is defocused, the movement direction of each bright field image is radially centered on a certain point. Take advantage of the nature of moving. That is, when the optical axis of the incident electron beam coincides with the center of the multi-divided detector, the positional deviation vectors Fα and θ of the bright field images with the dark field image as the reference position are substantially equal in size and radial. However, when the center of the multi-segment detector is off the optical axis of the incident electron beam (in an extreme example, the optical axis of the optical axis of the incident electron beam is outside the multi-segment detector) This makes it difficult to obtain a bright-field image for calculating each aberration coefficient and to calculate a positional deviation vector thereof. Therefore, each positional deviation vector F′α, θ at the time of defocusing is calculated, and the transmission electron beam is deflected so that the combination is minimized, or the multi-divided detector is placed on a plane perpendicular to the optical axis. Move mechanically. Thereby, the center axis | shaft of a transmission electron beam and the center of a multi-division detector can be made to correspond.

また、明視野像および暗視野像の取得に使用される検出面の数は、試料41からの電子線を、例えば試料41前段の投影レンズ等の電子レンズで拡大・縮小させることで適宜調整できる。電子線を拡大すれば、明視野像を取得するための検出面の数を増やすことができ、各収差係数の算出精度を向上させることができる。一方、電子線を縮小すれば、暗視野像の形成に必要な電子の検出面積を広げることができ、且つ、その検出散乱角は拡大するので、上記位置基準としてのSN比の良い暗視野像を取得できる。   Further, the number of detection surfaces used for acquiring the bright field image and the dark field image can be adjusted as appropriate by enlarging or reducing the electron beam from the sample 41 with an electron lens such as a projection lens in front of the sample 41, for example. . If the electron beam is enlarged, the number of detection surfaces for acquiring a bright field image can be increased, and the calculation accuracy of each aberration coefficient can be improved. On the other hand, if the electron beam is reduced, the detection area of electrons necessary for forming the dark field image can be increased and the detection scattering angle is enlarged, so that the dark field image having a good S / N ratio as the position reference. Can be obtained.

(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係る収差補正装置について図3〜7を参照して説明する。
(First embodiment)
The aberration correction apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

以下、本実施形態に係る収差補正装置10は、STEM50(図9参照)に搭載される多分割検出器としての検出器11と、試料41と検出器11との間に設置される偏向器31と、検出器11からの検出信号を処理し、その処理結果に基づいて収差補正子55や偏向器56(図9参照)を制御する収差補正子制御装置20を備える。以下、これらの詳細を述べる。   Hereinafter, the aberration correction apparatus 10 according to the present embodiment includes a detector 11 as a multi-segment detector mounted on the STEM 50 (see FIG. 9), and a deflector 31 installed between the sample 41 and the detector 11. And an aberration corrector control device 20 that processes the detection signal from the detector 11 and controls the aberration corrector 55 and the deflector 56 (see FIG. 9) based on the processing result. These details will be described below.

まず、検出器11について説明する。図3に示すように検出器11は、電子線を光に変換する電子-光変換素子12と、電子-光変換素子12を複数の検出面として分割するとともに、各検出面からの光を伝送する光伝送路13と、光伝送路13から伝送された前記複数の検出面毎の光を電気信号に変換する複数の光検出器14とを備える。   First, the detector 11 will be described. As shown in FIG. 3, the detector 11 divides the electron-light conversion element 12 that converts an electron beam into light and the electron-light conversion element 12 as a plurality of detection surfaces, and transmits light from each detection surface. And a plurality of photodetectors 14 for converting the light for each of the plurality of detection surfaces transmitted from the optical transmission path 13 into an electrical signal.

電子-光変換素子12は、例えば一枚のシンチレータや蛍光板であり、入射した電子を後段の光検出器14で検出可能な程度の強度をもつ光に変換する。   The electron-light conversion element 12 is, for example, a single scintillator or a fluorescent plate, and converts incident electrons into light having an intensity that can be detected by the subsequent photodetector 14.

光伝送路13は、例えば多数の光ファイバが束ねられた所謂バンドル光ファイバであり、電子-光変換素子12側の端部は電子-光変換素子12全面からの光を受光するように一体に纏められ、その反対側は受光した光をその受光位置に応じて各光検出器に伝送するように分岐している。即ち、光伝送路13は、電子-光変換素子12の発光面を、収束角αと方位角θを対応付けた相互に位置の異なる複数の検出面D1〜D16として、複数の光検出領域に分割するように構成される。   The optical transmission line 13 is, for example, a so-called bundle optical fiber in which a large number of optical fibers are bundled, and an end portion on the side of the electron-light conversion element 12 is integrally formed so as to receive light from the entire surface of the electron-light conversion element 12. The other side is branched so that the received light is transmitted to each photodetector according to the light receiving position. In other words, the light transmission path 13 has a light emitting surface of the electro-optical conversion element 12 as a plurality of detection surfaces D1 to D16 having different positions and corresponding to the convergence angle α and the azimuth angle θ in a plurality of light detection regions. Configured to split.

光検出器14は、例えば光電子増倍管(フォトマルチプライヤ)と前置増幅器の複合装置であり、分岐した光伝送路13から出射した光を電気信号に変換し、増幅する。この信号は、各発光面に入射した電子線の検出信号として、収差補正子制御装置20の画像処理部22(後述)に入力される。   The photodetector 14 is, for example, a combined device of a photomultiplier tube (photomultiplier) and a preamplifier, and converts the light emitted from the branched optical transmission path 13 into an electric signal and amplifies it. This signal is input to an image processing unit 22 (described later) of the aberration corrector control device 20 as a detection signal of an electron beam incident on each light emitting surface.

原理の項で述べた通り、各収差は収束角αと位相角θ(前方焦点面では動径成分と角度成分)を変数にもつ関数であるため、両変数に対して検出面を少なくとも二分割する必要がある。一方、各収差係数の算出に必要な幾何収差ベクトルGα,θの数が多いほど、次数の低い収差について高い精度で算出ができる。従って、光伝送路13は、電子-光変換素子12の発光面を位相角方向(角度方向)および動径方向において等間隔に分割される。図4はこの分割の一例であり、位相角方向に4分割、収束角方向に4分割し、電子-光変換素子12の発光面を検出面D1〜D16として16分割している。この場合、光伝送路13の分岐数は16であり、光検出器14の台数も16である。 As described in the principle section, each aberration is a function having a convergence angle α and a phase angle θ (radial component and angular component on the front focal plane) as variables, so the detection surface is divided into at least two parts for both variables. There is a need to. On the other hand, the greater the number of geometric aberration vectors Gα and θ necessary for calculating each aberration coefficient, the higher the accuracy of aberrations with lower orders. Therefore, the light transmission path 13 is divided at equal intervals in the phase angle direction (angular direction) and the radial direction of the light emitting surface of the electro-optical conversion element 12. FIG. 4 shows an example of this division, which is divided into four in the phase angle direction and four in the convergence angle direction, and the light-emitting surface of the electron-light conversion element 12 is divided into 16 as detection surfaces D1 to D16. In this case, the number of branches of the optical transmission line 13 is 16, and the number of photodetectors 14 is also 16.

本実施形態では、これら検出面D1〜D16のうち、外側に位置する検出面D13〜D16を暗視野像用検出器の検出面として使用し、その内側に位置する検出面D1〜D12を明視野像用検出器の検出面として使用する。ただし、暗視野像用検出器および明視野像用検出器として使用する各検出面の数は上記に限定されず、観察する試料や電子線の強度や加速電圧等の状況に応じて適宜設定可能である。   In this embodiment, out of these detection surfaces D1 to D16, the detection surfaces D13 to D16 located outside are used as the detection surfaces of the dark field image detector, and the detection surfaces D1 to D12 located inside thereof are used as the bright field. Used as the detection surface of the image detector. However, the number of detection surfaces used as the dark field image detector and the bright field image detector is not limited to the above, and can be set as appropriate according to the conditions of the sample to be observed, the intensity of the electron beam, the acceleration voltage, etc. It is.

次に、本実施形態の収差補正子制御装置20について説明する。図5は収差補正子制御装置20の機能ブロック図である。この図に示すように、収差補正子制御装置20は、演算部21と、画像処理部22と、電源制御部23とを備え、STEM全般を制御するSTEM制御装置62と通信回線26等を経由して接続されている。なお、収差補正子制御装置20は、演算部21による収差の計算結果等を表示する表示装置24やオペレータからの操作を受付ける入力装置25を備えてもよい。また、収差補正子制御装置20は、通信回線26を用いずに、STEM制御装置62内に搭載する構成でもよい。   Next, the aberration corrector control device 20 of the present embodiment will be described. FIG. 5 is a functional block diagram of the aberration corrector controller 20. As shown in this figure, the aberration corrector control device 20 includes a calculation unit 21, an image processing unit 22, and a power supply control unit 23, and passes through a STEM control device 62 that controls the overall STEM, a communication line 26, and the like. Connected. The aberration corrector control device 20 may include a display device 24 that displays the calculation result of the aberration by the calculation unit 21 and an input device 25 that receives an operation from the operator. The aberration corrector control device 20 may be mounted in the STEM control device 62 without using the communication line 26.

画像処理部22は、検出面D13〜D16に対応する光検出器14から出力される検出信号に基づいて暗視野像を作成する。また、これと同時に、検出面D1〜D12に対応する光検出器14から出力される検出信号に基づいて明視野像を作成する。暗視野像の画像データは、収差補正子制御装置20内のメモリ等の記憶装置(図示せず)に記憶される。また、各明視野像の画像データも、各検出面に対応付けられた収束角α及び方位角θと共に記憶装置(図示せず)に記憶される。   The image processing unit 22 creates a dark field image based on the detection signal output from the photodetector 14 corresponding to the detection surfaces D13 to D16. At the same time, a bright field image is created based on detection signals output from the photodetectors 14 corresponding to the detection surfaces D1 to D12. The image data of the dark field image is stored in a storage device (not shown) such as a memory in the aberration corrector controller 20. The image data of each bright field image is also stored in a storage device (not shown) together with the convergence angle α and the azimuth angle θ associated with each detection surface.

演算部21は、記憶装置(図示せず)から暗視野像を読み出し、この像を位置基準とし、相互相関関数等の数学的処理により各明視野像の幾何収差ベクトルGα,θを算出する。この結果、各収束角α並びに各方位角θにおける幾何収差ベクトルGα,θの各成分Gα、Gθが得られる。演算部21は、収束角α及び方位角θと、得られた幾何収差ベクトルGα,θとによる複数の組の中から所定数の組を選択し、最小二乗法等の数学的処理を用いて、幾何収差の各収差係数を算出する。 The computing unit 21 reads out a dark field image from a storage device (not shown), uses this image as a position reference, and calculates geometric aberration vectors Gα and θ of each bright field image by mathematical processing such as a cross-correlation function. As a result, the components Gα and Gθ of the geometric aberration vectors Gα and θ at the convergence angles α and the azimuth angles θ are obtained. The calculation unit 21 selects a predetermined number of sets from a plurality of sets based on the convergence angle α and the azimuth angle θ and the obtained geometric aberration vectors Gα and θ, and uses a mathematical process such as a least square method. Then, each aberration coefficient of the geometric aberration is calculated.

電源制御部23は、演算部21が算出した収差係数に基づいて収差補正子55の励磁電流等を制御し、収差を低減させる。具体的には、例えば、演算部21が算出した収差係数に基づいて、収差を低減させる励磁電流等の設定値を決定し、この設定値に基づく制御信号を通信回線26を介してSTEM制御装置62に送信する。この場合、この設定値に基づいて、STEM制御装置62は収差補正子55の励磁電流等を設定し、収差の低減が図られる。   The power supply control unit 23 controls the excitation current and the like of the aberration corrector 55 based on the aberration coefficient calculated by the calculation unit 21 to reduce the aberration. Specifically, for example, based on the aberration coefficient calculated by the calculation unit 21, a setting value such as an excitation current for reducing aberration is determined, and a control signal based on this setting value is transmitted via the communication line 26 to the STEM control device. 62. In this case, based on this set value, the STEM control device 62 sets the excitation current of the aberration corrector 55 and the like, and the aberration is reduced.

また、デフォーカスを用いて入射電子線の光軸と検出器11の中心を一致させる場合、電源制御部23はSTEM制御装置62に対物レンズ57(図9参照)への設定信号を送信し、STEM制御装置62はこの信号に基づいて対物レンズ57の焦点距離を変更する。その後は、幾何収差ベクトルGα,θの算出と同様に、画像処理部22が暗視野像と各明視野像を同時に取得して、演算部21が各明視野像の位置ずれベクトルFα、θを算出し、且つ、その合成が最小となるような偏向器31の設定値を決定する。電源制御部23はこの設定値に基づいて、偏向器31に電流又は電圧を印加し、試料41からの電子線を偏向して入射電子線の光軸と検出器11の中心を一致させる。 When the defocus is used to match the optical axis of the incident electron beam with the center of the detector 11, the power supply control unit 23 transmits a setting signal to the objective lens 57 (see FIG. 9) to the STEM control device 62, The STEM control device 62 changes the focal length of the objective lens 57 based on this signal. Thereafter, similarly to the calculation of the geometric aberration vectors Gα and θ, the image processing unit 22 simultaneously acquires the dark field image and each bright field image, and the calculation unit 21 calculates the positional deviation vectors Fα and θ of each bright field image. The setting value of the deflector 31 is determined so as to calculate and minimize the combination. Based on this set value, the power supply controller 23 applies a current or voltage to the deflector 31 to deflect the electron beam from the sample 41 so that the optical axis of the incident electron beam coincides with the center of the detector 11.

なお、光伝送路13は、光の伝送経路を変更することで電子-光変換素子12の電子線入射面内で前記複数の検出面D1〜D16を回転させる回転機構17を有してもよい。この場合、光伝送路13は、真空側に配置される光伝送路13aと、大気側に配置される光伝送路13bとに相互に回転可能に構成される。回転機構17は、光伝送路13全体の中心軸を維持しつつ、その中心軸の周りで光伝送路13bを回転させ、光伝送路13aの端面13cを光伝送路13bの端面13dに密着させる。例えば図6において、光伝送路13a、13bの各端面13c、13dが各検出面毎に実線で示すように境界線で区分されているとすると、光伝送路13bをその軸方向の周りで回転させ、光伝送路13bの端面13dの境界線を光伝送路13aの端面13cの点線で示す位置に合わせ、互いを付き合わせる。この回転によって検出面全体が回転するので、回転前の収束角α及び方位角θの組とは異なる収束角α及び方位角θの組が定義できる。例えば、図6に示すように光伝送路13bを45°回転させた場合、新たに得られる収束角は(α+22.5)°になる。このように、回転前後で検出面の位置が変えることで、収差係数の算出に用いる明視野像の数が倍増させることができ、収差係数の算出精度を向上させることができる。また、大気側にある光伝送路を回転させるので、そのその操作は簡便であり、短時間で済む。従って、収差の経時変化は最小に抑えられる。   The optical transmission path 13 may include a rotation mechanism 17 that rotates the plurality of detection surfaces D1 to D16 within the electron beam incident surface of the electron-light conversion element 12 by changing the light transmission path. . In this case, the optical transmission line 13 is configured to be rotatable between an optical transmission line 13a arranged on the vacuum side and an optical transmission line 13b arranged on the atmosphere side. The rotation mechanism 17 rotates the optical transmission path 13b around the central axis while maintaining the central axis of the entire optical transmission path 13, and closely contacts the end surface 13c of the optical transmission path 13a with the end surface 13d of the optical transmission path 13b. . For example, in FIG. 6, assuming that the end faces 13c and 13d of the optical transmission lines 13a and 13b are separated by boundary lines as indicated by solid lines for each detection surface, the optical transmission line 13b is rotated around its axial direction. Then, the boundary line of the end face 13d of the optical transmission path 13b is aligned with the position indicated by the dotted line of the end face 13c of the optical transmission path 13a, and they are attached to each other. Since the whole detection surface is rotated by this rotation, a set of convergence angle α and azimuth angle θ different from the set of convergence angle α and azimuth angle θ before rotation can be defined. For example, when the optical transmission line 13b is rotated by 45 ° as shown in FIG. 6, the newly obtained convergence angle is (α + 22.5) °. Thus, by changing the position of the detection surface before and after rotation, the number of bright-field images used for calculating the aberration coefficient can be doubled, and the calculation accuracy of the aberration coefficient can be improved. Further, since the optical transmission path on the atmosphere side is rotated, the operation is simple and requires a short time. Therefore, the change with time of aberration is minimized.

以上の検出面の回転は、試料41と電子-光変換素子12の間に試料41からの電子線を回転させる回転レンズ(図示せず)を設けて行ってもよい。回転レンズは軸対称レンズであり、例えば、中間レンズ59と投影レンズ60の間の焦点面に配置される。   The detection surface may be rotated by providing a rotating lens (not shown) for rotating the electron beam from the sample 41 between the sample 41 and the electron-light conversion element 12. The rotating lens is an axisymmetric lens, and is disposed, for example, on the focal plane between the intermediate lens 59 and the projection lens 60.

(第2実施形態)
本発明の第2実施形態に係る収差補正装置について図7及び図8を参照して説明する。本実施形態に係る収差補正装置10´と第1実施形態に係る収差補正装置10とは、検出器11の構成が異なるだけであるので、第1実施形態と重複する部分についてはその説明を割愛する。
(Second Embodiment)
An aberration correction apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Since the aberration correction apparatus 10 ′ according to the present embodiment and the aberration correction apparatus 10 according to the first embodiment are different only in the configuration of the detector 11, the description of the same parts as those in the first embodiment is omitted. To do.

第1実施形態に係る検出器11では、電子-光変換素子12の一部が暗視野像検出器として使用されているのに対し、第2実施形態に係る検出器11では、電子-光変換素子12の全面が明視野像検出器として使用され、その外側に暗視野像検出器としての環状の暗視野検出面12bが設置される。暗視野検出面12bはマルチチャンネルプレート等で高感度に電子を検出するものである。従って、本実施形態にでは、光検出器14に加えて、暗視野検出面12bからの検出信号を増幅する前置増幅器15が設けられる。前置増幅器15の出力信号は画像処理部22に入力され、そこで暗視野像の画像データが作成される。   In the detector 11 according to the first embodiment, a part of the electron-light conversion element 12 is used as a dark field image detector, whereas in the detector 11 according to the second embodiment, the electron-light conversion is performed. The entire surface of the element 12 is used as a bright-field image detector, and an annular dark-field detection surface 12b as a dark-field image detector is installed outside the element 12. The dark field detection surface 12b is a multi-channel plate or the like that detects electrons with high sensitivity. Therefore, in this embodiment, in addition to the photodetector 14, a preamplifier 15 for amplifying the detection signal from the dark field detection surface 12b is provided. The output signal of the preamplifier 15 is input to the image processing unit 22, where image data of a dark field image is created.

本実施形態における光伝送路13の構成は、第1実施形態で述べたものと同様である。電子-光変換素子12の発光面は、収束角αと方位角θを対応付けた相互に位置の異なる複数の明視野像の検出面として分割される。   The configuration of the optical transmission line 13 in the present embodiment is the same as that described in the first embodiment. The light-emitting surface of the electro-optical conversion element 12 is divided as a plurality of bright-field image detection surfaces that are associated with the convergence angle α and the azimuth angle θ and have different positions.

原理の項で述べたように、暗視野像は各明視野像の幾何収差ベクトルGα,θを算出するための位置基準として用いるため、複数の検出面を用いて個別に暗視野像を形成する重要性は低い。従って、本実施形態によれば、光検出器の個数を削減でき、収差補正装置の構成は簡略化される。 As described in the principle section, since the dark field image is used as a position reference for calculating the geometric aberration vectors Gα and θ of each bright field image, a dark field image is individually formed using a plurality of detection surfaces. Less important. Therefore, according to this embodiment, the number of photodetectors can be reduced, and the configuration of the aberration correction apparatus is simplified.

上記各実施形態に係る収差補正装置が搭載される走査透過電子顕微鏡(STEM)について説明する。この走査透過電子顕微鏡は、収差補正子制御装置20を除いて、周知の構成のものを適用できる。図9はその一例であって、走査透過電子顕微鏡50は、第2実施形態に係る収差補正装置10´を搭載している。   A scanning transmission electron microscope (STEM) in which the aberration correction apparatus according to each of the above embodiments is mounted will be described. A scanning transmission electron microscope having a known configuration can be applied except for the aberration corrector controller 20. FIG. 9 shows an example, and the scanning transmission electron microscope 50 is equipped with an aberration correction apparatus 10 ′ according to the second embodiment.

走査透過電子顕微鏡50は、電子線1を発生する電子銃51と、少なくとも1段の収束レンズ52と、収差補正子55と、スキャン及び軸合わせ用の偏向器56と、対物レンズ57と、試料41を電子線1の照射領域に導入する試料ステージ58と、中間レンズ59と、投影レンズ60と、検出器11、及び上記の電子光学系を制御するSTEM制御装置62とを備える。なお、各レンズ間に電子線の軸合わせを行う偏向器(図示せず)が適宜設けられる。   The scanning transmission electron microscope 50 includes an electron gun 51 that generates an electron beam 1, a converging lens 52 of at least one stage, an aberration corrector 55, a deflector 56 for scanning and axial alignment, an objective lens 57, and a sample. A sample stage 58 for introducing 41 into the irradiation region of the electron beam 1, an intermediate lens 59, a projection lens 60, a detector 11, and a STEM control device 62 for controlling the electron optical system are provided. A deflector (not shown) for adjusting the axis of the electron beam is appropriately provided between the lenses.

STEM制御装置62は、電子銃51や上記の電子光学系等に電圧又は電流を印加する電源63と、この電源の出力電圧又は出力電流を制御する電源制御部64と、検出器11からの検出信号を用いて明視野像及び暗視野像等の観察像を作成する画像処理部65と、観察像及び操作画面を表示する表示装置66と、及びオペレータからの入力(例えば観察倍率や観察領域などの入力値)を受付ける入力装置67とを備える。これらは、バス等によって相互に接続され、演算部68の演算処理によって制御されている。   The STEM control device 62 includes a power source 63 that applies a voltage or current to the electron gun 51 and the above-described electron optical system, a power source control unit 64 that controls the output voltage or output current of the power source, and detection from the detector 11. An image processing unit 65 that creates an observation image such as a bright-field image and a dark-field image using the signal, a display device 66 that displays the observation image and an operation screen, and input from an operator (for example, an observation magnification and an observation region) And an input device 67 for receiving the input value. These are connected to each other by a bus or the like, and are controlled by arithmetic processing of the arithmetic unit 68.

高電圧に印加された電子銃51によって生成された電子線1は、収束レンズ52に向かって加速される。電子線1は収束レンズ52によって収束され、収差補正子55及び偏向器56を通過する。その後、対物レンズ57によって更に細いビームに収束され、試料41に照射される。このとき、収差補正子55は球面収差等の各収差を補正し、偏向器56は走査透過像を得るために光軸2に垂直な二方向に向かって電子線1を偏向させ、試料41上で電子線1を走査する。各実施形態で述べたように、収差補正子55は、収差補正装置10´からも制御される。試料41を透過した或いは試料41から散乱した電子線1は対物レンズ57の後焦点面(図示せず)において一旦収束した後、中間レンズ59及び投影レンズ60を通過して、検出器11に入射する。   The electron beam 1 generated by the electron gun 51 applied with a high voltage is accelerated toward the converging lens 52. The electron beam 1 is converged by the converging lens 52 and passes through the aberration corrector 55 and the deflector 56. Thereafter, the light is converged to a thinner beam by the objective lens 57 and irradiated onto the sample 41. At this time, the aberration corrector 55 corrects each aberration such as spherical aberration, and the deflector 56 deflects the electron beam 1 in two directions perpendicular to the optical axis 2 in order to obtain a scanning transmission image. Then, the electron beam 1 is scanned. As described in each embodiment, the aberration corrector 55 is also controlled from the aberration corrector 10 '. The electron beam 1 transmitted through the sample 41 or scattered from the sample 41 once converges on the back focal plane (not shown) of the objective lens 57, then passes through the intermediate lens 59 and the projection lens 60 and enters the detector 11. To do.

検出器11には、入射した電子線1に基づき検出信号を出力する。この検出信号はSTEM制御装置62の画像処理部65に入力される。収差補正を行う場合には、この検出信号は収差補正装置10´の画像処理部22にも入力される。STEM制御装置62の画像処理部65は、この検出信号に基づき明視野像や暗視野像等の観察像(画像データ)を作成する。この観察像は、メモリやハードディスク等の記憶装置(図示せず)に適宜記録され表示装置24によって表示される。   A detection signal is output to the detector 11 based on the incident electron beam 1. This detection signal is input to the image processing unit 65 of the STEM control device 62. When aberration correction is performed, this detection signal is also input to the image processing unit 22 of the aberration correction apparatus 10 ′. The image processing unit 65 of the STEM control device 62 creates an observation image (image data) such as a bright field image and a dark field image based on this detection signal. This observation image is appropriately recorded in a storage device (not shown) such as a memory or a hard disk and displayed on the display device 24.

1 電子線
2 光軸
10、10´ 収差補正装置
11 検出器
12 電子‐光変換素子
13 光伝送路
20 収差補正子制御装置
31 偏向器
D1〜D16 検出面
50 走査透過電子顕微鏡
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron beam 2 Optical axis 10, 10 'Aberration correction apparatus 11 Detector 12 Electron-light conversion element 13 Optical transmission path 20 Aberration corrector control apparatus 31 Deflector D1-D16 Detection surface 50 Scanning transmission electron microscope

Claims (18)

収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡における収差補正方法であって、
複数の検出面を備える検出器に対して試料からの電子線を入射させる工程と、
前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像する工程と、
前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出する工程と、
算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する工程と
を備えることを特徴とする走査透過電子顕微鏡における収差補正方法。
An aberration correction method in a scanning transmission electron microscope having an aberration corrector,
A step of causing an electron beam from a sample to enter a detector having a plurality of detection surfaces;
Simultaneously capturing a dark field image by the electron beam and a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface;
Calculating an aberration coefficient from the plurality of bright field images using the dark field image as a position reference of an observation image;
And a step of controlling the aberration corrector so as to reduce aberration based on the calculated aberration coefficient. A method of correcting aberrations in a scanning transmission electron microscope.
前記収差係数算出工程は、
前記複数の明視野像間の像移動量を算出する工程と、
各前記像移動量から各明視野像における幾何収差量を算出する工程と
を含むことを特徴とする請求項1に記載の収差補正方法。
The aberration coefficient calculating step includes:
Calculating an image movement amount between the plurality of bright-field images;
The aberration correction method according to claim 1, further comprising: calculating a geometric aberration amount in each bright-field image from each of the image movement amounts.
前記像移動量は相互相関関数を用いて算出することを特徴とする請求項2に記載の収差補正方法。 The aberration correction method according to claim 2, wherein the image movement amount is calculated using a cross-correlation function. 前記検出器の前記複数の検出面は、角度方向及び動径方向において等間隔に配置されている
ことを特徴とする請求項3に記載の収差補正方法。
The aberration correction method according to claim 3, wherein the plurality of detection surfaces of the detector are arranged at equal intervals in the angular direction and the radial direction.
前記検出器は、
前記複数の検出面として、前記複数の明視野像を取得するための複数の検出面を有する明視野像検出器と、
前記明視野像検出器の外側に設置され、前記暗視野像を取得するための1つの検出面を有する暗視野像検出器と
を含むことを特徴とする請求項3に記載の収差補正方法。
The detector is
A bright field image detector having a plurality of detection surfaces for acquiring the plurality of bright field images as the plurality of detection surfaces;
The aberration correction method according to claim 3, further comprising: a dark field image detector that is installed outside the bright field image detector and has a single detection surface for acquiring the dark field image.
前記撮像工程は、更に、前記検出器上で前記試料からの電子線を回転させて暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の収差補正方法。 The aberration according to claim 1, wherein the imaging step further includes a step of simultaneously imaging a dark field image and a plurality of bright field images by rotating an electron beam from the sample on the detector. Correction method. 前記撮像工程は、更に、前記複数の検出面を回転させて暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の収差補正方法。 The aberration correction method according to claim 1, wherein the imaging step further includes a step of rotating the plurality of detection surfaces to simultaneously capture a dark field image and a plurality of bright field images. 更に前記撮像工程の前工程として、
デフォーカスするとともに、暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に取得する工程と、
前記デフォーカス時の暗視野像に対する前記デフォーカス時の各明視野像の位置ずれベクトルの合成が最も小さくなるように、前記試料からの透過電子線と前記検出器との相対位置を調整する工程と
を備えることを特徴とする請求項1に記載の収差補正方法。
Furthermore, as a pre-process of the imaging process,
Defocusing and simultaneously obtaining a dark field image and a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface;
Adjusting the relative position between the transmitted electron beam from the sample and the detector so that the composition of the positional deviation vector of each bright field image at the time of defocusing with respect to the dark field image at the time of defocusing is minimized. The aberration correction method according to claim 1, further comprising:
前記試料からの前記電子線を拡大又は縮小させる工程を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の収差補正方法。 The aberration correction method according to claim 1, further comprising a step of enlarging or reducing the electron beam from the sample. 収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡の収差補正装置であって、
電子線が入射する複数の検出面を有する検出器と、
(a)前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、
(b)前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、
(c)算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する制御装置と
を備えることを特徴とする走査透過電子顕微鏡の収差補正装置。
An aberration correction apparatus for a scanning transmission electron microscope having an aberration corrector,
A detector having a plurality of detection surfaces on which an electron beam is incident;
(A) simultaneously capturing a dark field image by the electron beam and a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface;
(B) calculating an aberration coefficient from the plurality of bright field images using the dark field image as a position reference of an observation image;
(C) An aberration correction apparatus for a scanning transmission electron microscope, comprising: a control device that controls the aberration corrector so as to reduce aberration based on the calculated aberration coefficient.
前記制御装置は、前記収差係数の算出の際に、更に、前記複数の明視野像間の像移動量を算出し、各前記像移動量から各明視野像における幾何収差量を算出することを特徴とする請求項10に記載の収差補正装置。 When calculating the aberration coefficient, the control device further calculates an image movement amount between the plurality of bright field images, and calculates a geometric aberration amount in each bright field image from each of the image movement amounts. The aberration correction device according to claim 10, wherein 前記像移動量は相互相関関数を用いて算出することを特徴とする請求項11に記載の収差補正装置。 The aberration correction apparatus according to claim 11, wherein the image movement amount is calculated using a cross-correlation function. 前記検出器の前記複数の検出面は、角度方向及び動径方向において等間隔に配置されている
ことを特徴とする請求項12に記載の収差補正装置。
The aberration correction apparatus according to claim 12, wherein the plurality of detection surfaces of the detector are arranged at equal intervals in an angular direction and a radial direction.
前記検出器は、
前記複数の検出面として、前記複数の明視野像を取得するための複数の検出面を有する明視野像検出器と、
前記明視野像検出器の外側に設置され、前記暗視野像を取得するための1つの検出面を有する暗視野像検出器と
を含むことを特徴とする請求項12に記載の収差補正装置。
The detector is
A bright field image detector having a plurality of detection surfaces for acquiring the plurality of bright field images as the plurality of detection surfaces;
The aberration correction apparatus according to claim 12, further comprising: a dark field image detector that is installed outside the bright field image detector and has one detection surface for acquiring the dark field image.
さらに、試料と前記検出器と間に設置される回転レンズを備え、
前記制御装置は、更に、回転レンズを制御して前記検出器上で電子線を回転させるとともに、暗視野像および複数の明視野像を同時に撮像する
ことを特徴とする請求項10に記載の収差補正装置。
In addition, a rotating lens installed between the sample and the detector,
The aberration according to claim 10, wherein the control device further controls a rotating lens to rotate an electron beam on the detector and simultaneously captures a dark field image and a plurality of bright field images. Correction device.
前記検出器は、
電子線を光に変換する電子-光変換素子と、
前記電子-光変換素子を前記複数の検出面として分割するとともに、各前記検出面からの光を伝送する光伝送路と、
前記光伝送路から伝送された光を前記複数の検出面毎に電気信号に変換する複数の光検出器と、
を備えることを特徴とする請求項13又は14に記載の収差補正装置。
The detector is
An electron-light conversion element that converts an electron beam into light;
Dividing the electro-optical conversion element as the plurality of detection surfaces, and an optical transmission path for transmitting light from each of the detection surfaces;
A plurality of photodetectors for converting the light transmitted from the optical transmission path into electrical signals for each of the plurality of detection surfaces;
The aberration correction device according to claim 13 or 14, characterized by comprising:
前記光伝送路は、光の伝送経路を変更することで前記電子-光変換素子の電子線入射面内で前記複数の検出面を回転させる回転機構を有する
ことを特徴とする請求項16に記載の収差補正装置。
17. The optical transmission path includes a rotation mechanism that rotates the plurality of detection surfaces within an electron beam incident surface of the electron-optical conversion element by changing a light transmission path. Aberration correction device.
前記制御装置は、前記暗視野像および前記複数の明視野像を撮像する前に、
デフォーカスするとともに、暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に取得し、
前記デフォーカス時の暗視野像に対する前記デフォーカス時の明視野像の各位置ずれベクトルの合成が最も小さくなるように、電子線と前記検出器との相対位置を調整することを特徴とする請求項10に記載の収差補正装置。
The control device, before capturing the dark field image and the plurality of bright field images,
While defocusing, simultaneously obtaining a dark field image and a bright field image including angle information of the electron beam for each detection surface,
The relative position between the electron beam and the detector is adjusted so that the composition of each displacement vector of the bright field image at the time of defocusing with respect to the dark field image at the time of the defocusing is minimized. Item 11. The aberration correction device according to Item 10.
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