JP5498907B2 - Resin particles, insulated conductive particles and anisotropic conductive materials using the same - Google Patents

Resin particles, insulated conductive particles and anisotropic conductive materials using the same Download PDF

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Description

本発明は、例えば異方性導電フィルム(ACF)や異方性導電ペースト(ACP)などの異方性導電材料として電気的接続に用いた際に良好な接続信頼性を発揮する絶縁化導電性粒子を与えうる絶縁用の樹脂粒子に関するものである。   The present invention is an insulated conductive material that exhibits good connection reliability when used for an electrical connection as an anisotropic conductive material such as an anisotropic conductive film (ACF) or an anisotropic conductive paste (ACP). The present invention relates to insulating resin particles capable of providing particles.

従来、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのガラス基板やプリント配線基板に実装部品を電気的に接続する場合などに、異方性導電フィルム(ACF)や異方性導電ペースト(ACP)などの異方性導電材料が使用されている。かかる異方性導電材料は、一般に導電性粒子をバインダー樹脂中で分散させてフィルム状やペースト状にすることにより得られ、その際用いられる導電性粒子としては、基材粒子の表面を導電性金属層で被覆した粒子や金属粒子などが汎用されていた。ところが近年、電子機器や電子部品の小型化などに伴い、接続対象となる接続端子のパターンが微細化して隣接する電極間が狭ピッチになり、本来は絶縁されるべき隣接する電極間に横方向の導通(いわゆる横導通)が生じ、これに起因して短絡(ショート)が起こるという問題が起こるようになった。   Conventionally, an anisotropic conductive film (ACF) or anisotropic conductive paste (ACP) or the like is used when a mounting component is electrically connected to a glass substrate or printed wiring board such as a liquid crystal display or a plasma display. Conductive material is used. Such an anisotropic conductive material is generally obtained by dispersing conductive particles in a binder resin to form a film or a paste. Particles coated with a metal layer, metal particles, and the like have been widely used. However, with the recent miniaturization of electronic devices and electronic components, the pattern of connection terminals to be connected has become finer, and the pitch between adjacent electrodes has become narrower. This causes a problem that a short circuit occurs due to this conduction (so-called lateral conduction).

上述した問題を解決する手段としては、導電性粒子の導電性金属層表面を絶縁粒子で被覆した絶縁化導電性粒子を異方性導電材料に使用することが知られており、例えば、絶縁化導電性粒子として、平均粒子径、アスペクト比、CV値が特定範囲である導電性微粒子の表面に、特定の厚さの絶縁性樹脂からなる被覆層が形成された絶縁被覆導電性粒子(絶縁化導電性粒子)が提案されている(特許文献1)。   As a means for solving the above-mentioned problems, it is known to use insulated conductive particles in which conductive metal layer surfaces of conductive particles are coated with insulating particles as an anisotropic conductive material. Insulating coated conductive particles (insulating) in which a coating layer made of an insulating resin having a specific thickness is formed on the surface of conductive fine particles whose average particle diameter, aspect ratio, and CV value are in a specific range. Conductive particles) have been proposed (Patent Document 1).

特開2000−100249号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-100239

しかしながら、本発明者らの検討によれば、特許文献1の絶縁化導電性粒子を用いた異方性導電材料を電気的接続に供すると、やはり横導通が生じる。該文献において実施例として具体的に開示された絶縁化導電性粒子を覆う絶縁性樹脂のガラス転移温度(Tg)はいずれも60℃と低いものであり、その為に横導通が起こるのである。すなわち、Tgが低い絶縁性樹脂を用いた絶縁化導電性粒子の場合、異方性導電材料として電気的接続に供する際の熱圧着により、表面の絶縁性樹脂が大きく変形し、その結果、隣り合う絶縁化導電性粒子の導電性粒子同士が接触して横導通が生じてしまう。一方、特許文献1においては、Tgが低い理由について言及されていないが、導電性微粒子に対する密着性を確保するためであると推測される。つまり、導電性微粒子と絶縁性樹脂の密着性が不充分であると、異方性導電材料として電気的接続に供した際に絶縁性樹脂が脱落しやすく、充分な絶縁の効果が得られないこととなるのである。   However, according to the study by the present inventors, when the anisotropic conductive material using the insulated conductive particles of Patent Document 1 is used for electrical connection, lateral conduction still occurs. The glass transition temperature (Tg) of the insulating resin covering the insulated conductive particles specifically disclosed as an example in this document is as low as 60 ° C., and therefore, lateral conduction occurs. That is, in the case of insulated conductive particles using an insulating resin having a low Tg, the insulating resin on the surface is greatly deformed due to thermocompression when the anisotropic conductive material is used for electrical connection. The conductive particles of the matching insulated conductive particles come into contact with each other to cause lateral conduction. On the other hand, in Patent Document 1, although the reason for the low Tg is not mentioned, it is presumed that it is for ensuring the adhesion to the conductive fine particles. In other words, if the adhesion between the conductive fine particles and the insulating resin is insufficient, the insulating resin tends to fall off when subjected to electrical connection as an anisotropic conductive material, and a sufficient insulating effect cannot be obtained. It will be.

そこで、本発明の目的は、異方性導電材料として電気的接続に供した際に、対向する電極間の導通は良好に保ちつつ横導通を確実に抑制しうる絶縁化導電性粒子を提供することにある。本発明の他の目的は、ガラス転移温度(Tg)が低いにもかかわらず、熱圧着時に変形し難い絶縁用の樹脂粒子を提供することである。本発明の別の目的は、上記絶縁用の樹脂粒子の利用技術を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide insulated conductive particles that can reliably suppress lateral conduction while maintaining good conduction between opposing electrodes when subjected to electrical connection as an anisotropic conductive material. There is. Another object of the present invention is to provide insulating resin particles that are not easily deformed during thermocompression bonding even though the glass transition temperature (Tg) is low. Another object of the present invention is to provide a technique for using the insulating resin particles.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、導電性粒子を絶縁するための樹脂粒子を構成する重合性成分として(メタ)アクリル酸アルキルと特定の多価(メタ)アクリレートとの組み合わせを採用することにより、低Tgでありながら熱圧着時にも変形し難い樹脂粒子となることを見出し、かかる樹脂粒子で絶縁した絶縁化導電性粒子を用いた異方性導電材料にて電気的接続を行うと、対向する電極間の導通を良好に保ちつつ横導通は確実に抑制できることを確認し、本発明を完成した。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems. As a result, by adopting a combination of an alkyl (meth) acrylate and a specific polyvalent (meth) acrylate as the polymerizable component constituting the resin particles for insulating the conductive particles, the heat is reduced while the Tg is low. It is found that the resin particles are not easily deformed even when crimped, and electrical connection is made with an anisotropic conductive material using insulated conductive particles insulated with such resin particles, and conduction between opposing electrodes is good. It was confirmed that lateral conduction could be reliably suppressed while maintaining the above, and the present invention was completed.

すなわち、本発明に係る樹脂粒子は、導電性粒子の表面に存在して該導電性粒子を絶縁するための樹脂粒子であって、少なくともアルキル(メタ)アクリレートと多価(メタ)アクリレートとを必須とする重合性成分の共重合物を含み、前記多価(メタ)アクリレートは各(メタ)アクリル基が互いに3個以上の炭素原子を介して結合したものであることを特徴とする。好ましくは、前記多価(メタ)アクリレートは、(A)炭素数3以上のアルカンジオールから得られるジ(メタ)アクリレート、(B)ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートおよび(C)アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群より選ばれる1種以上である。前記多価(メタ)アクリレートが重合性成分の総量に対して5質量%以上であることが好ましい。   That is, the resin particles according to the present invention are resin particles that are present on the surface of the conductive particles to insulate the conductive particles, and at least an alkyl (meth) acrylate and a polyvalent (meth) acrylate are essential. The polyvalent (meth) acrylate is characterized in that each (meth) acrylic group is bonded to each other via three or more carbon atoms. Preferably, the polyvalent (meth) acrylate is (A) a di (meth) acrylate obtained from an alkanediol having 3 or more carbon atoms, (B) a polyalkylene glycol di (meth) acrylate, and (C) an alkylene oxide-modified tri. One or more selected from the group consisting of methylolpropane triacrylate. The polyvalent (meth) acrylate is preferably 5% by mass or more based on the total amount of the polymerizable components.

本発明の樹脂粒子においては、ガラス転移温度(Tg)が180℃以下であることが好ましく、特定の測定方法で求められる変形率が60%以下であることが好ましく、平均粒子径が500nm以下であり、その変動係数が50%以下であることが好ましい。   In the resin particles of the present invention, the glass transition temperature (Tg) is preferably 180 ° C. or less, the deformation rate obtained by a specific measurement method is preferably 60% or less, and the average particle size is 500 nm or less. And the coefficient of variation is preferably 50% or less.

本発明に係る絶縁化導電性粒子は、導電性粒子の表面の少なくとも一部に前記本発明の樹脂粒子が存在してなることを特徴とする。本発明の絶縁化導電性粒子においては、前記導電性粒子の平均粒子径は11μm以下であることが好ましい。
本発明に係る異方性導電材料は、前記本発明にかかる絶縁化導電性粒子がバインダー樹脂に分散してなることを特徴とする。
The insulated conductive particles according to the present invention are characterized in that the resin particles of the present invention are present on at least a part of the surface of the conductive particles. In the insulated conductive particles of the present invention, the average particle diameter of the conductive particles is preferably 11 μm or less.
The anisotropic conductive material according to the present invention is characterized in that the insulated conductive particles according to the present invention are dispersed in a binder resin.

本発明によれば、所定の重合性成分を共重合成分とすることにより、低Tgでありながら変形し難いという絶縁化に適した特性を有する樹脂粒子を得、当該樹脂粒子を用いて導電性粒子を絶縁するため、樹脂粒子と導電性粒子との良好な密着性を確保するとともに樹脂粒子の熱圧着時の変形を抑制でき、異方性導電材料として電気的接続に供したときに対向する電極間の導通は良好に保ちつつ横導通を確実に抑制することを可能にした絶縁化導電性粒子を提供できる、という効果を奏する。   According to the present invention, by using a predetermined polymerizable component as a copolymer component, resin particles having characteristics suitable for insulation that are low in Tg and difficult to be deformed are obtained, and the resin particles are used for conductivity. Insulates the particles, ensuring good adhesion between the resin particles and the conductive particles and suppressing deformation of the resin particles during thermocompression bonding, and facing when electrically connected as an anisotropic conductive material There is an effect that it is possible to provide insulated conductive particles capable of reliably suppressing lateral conduction while maintaining good conduction between the electrodes.

(樹脂粒子)
本発明の樹脂粒子は、導電性粒子を絶縁するために用いられるものであり、少なくともアルキル(メタ)アクリレートと特定の多価(メタ)アクリレートとを必須とする重合性成分(すなわち重合性基を有する化合物)の共重合物を含む。なお、本発明において「(メタ)アクリレート」とはアクリレート(アクリル酸エステル)および/またはメタクリレート(メタクリル酸エステル)を意味する。また、アルキル(メタ)アクリレートと特定の多価(メタ)アクリレートとを必須重合性成分ともいう。
(Resin particles)
The resin particles of the present invention are used to insulate conductive particles, and have at least a polymerizable component (that is, a polymerizable group) having at least an alkyl (meth) acrylate and a specific polyvalent (meth) acrylate. A copolymer of a compound having In the present invention, “(meth) acrylate” means acrylate (acrylic acid ester) and / or methacrylate (methacrylic acid ester). Moreover, alkyl (meth) acrylate and a specific polyvalent (meth) acrylate are also referred to as essential polymerizable components.

前記必須重合性成分であるアルキル(メタ)アクリレートとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−アミル、(メタ)アクリル酸イソアミル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどのアルキル基の炭素数が1〜18である(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。さらに(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸2−フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸3−フェニルプロピルなどの如く、アルキル基の水素原子の一部が芳香環で置換されたものである(メタ)アクリル酸エステルも本発明のアルキル(メタ)アクリレートに含まれる。特に、粒子径の揃った樹脂粒子を得やすいという観点から、前記アルキル(メタ)アクリレートとしては、少なくとも(メタ)アクリル酸メチルまたは(メタ)アクリル酸エチルを含むことが好ましく、より好ましくは少なくともメタクリル酸メチルを含むのがよい。   The alkyl (meth) acrylate that is the essential polymerizable component includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. n-butyl, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylic acid 2- Examples thereof include (meth) acrylic acid esters having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group, such as ethylhexyl, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate. Furthermore, a part of the hydrogen atom of the alkyl group is substituted with an aromatic ring such as benzyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenylpropyl (meth) acrylate ( A (meth) acrylic acid ester is also included in the alkyl (meth) acrylate of the present invention. In particular, from the viewpoint of easily obtaining resin particles having a uniform particle diameter, the alkyl (meth) acrylate preferably contains at least methyl (meth) acrylate or ethyl (meth) acrylate, more preferably at least methacrylic. It may contain methyl acid.

前記必須重合性成分である前記特定の多価(メタ)アクリレートは、各(メタ)アクリル基(アクリル基および/またはメタクリル基)が互いに3個以上の炭素原子を介して結合したもの(以下「特定多価(メタ)アクリレート」と称する)であることが重要である。換言すれば、多価(メタ)アクリレートが有する複数の(メタ)アクリル基のうち何れの2つをとっても、その間に存在する炭素原子数が3個以上である。このように各(メタ)アクリル基間の距離が長い多価(メタ)アクリレートで構成された共重合物を含む粒子であると、低いTgを有し導電性粒子に対して良好な密着性を保持しながら変形もしにくいという絶縁化に適した樹脂粒子となる。各(メタ)アクリル基間に存在する炭素原子数は、少なくとも3個以上であればよいが、好ましくは4個以上である。また、特定多価(メタ)アクリレートにおける(メタ)アクリル基の数は、Tgを制御する観点から、5個以下であるのが好ましく、より好ましくは4個以下、さらに好ましくは3個以下、最も好ましくは2個であるのがよい。なお、特定多価(メタ)アクリレートは、各(メタ)アクリル基間に炭素原子以外の原子が存在するものであってもよく、例えば酸素原子や窒素原子等が介在していてもよい。これら炭素原子以外の原子の数は特に制限されないが、各(メタ)アクリル基間に存在する全ての原子(炭素原子および炭素原子以外の原子)の数は、好ましくは4個以上、さらに好ましくは5個以上である。   The specific polyvalent (meth) acrylate that is the essential polymerizable component is one in which each (meth) acrylic group (acrylic group and / or methacrylic group) is bonded to each other via three or more carbon atoms (hereinafter, “ It is important that the specific polyvalent (meth) acrylate is referred to. In other words, any two of the plurality of (meth) acryl groups possessed by the polyvalent (meth) acrylate have 3 or more carbon atoms present therebetween. Thus, when the particles include a copolymer composed of a polyvalent (meth) acrylate having a long distance between each (meth) acrylic group, the particles have a low Tg and have good adhesion to the conductive particles. Resin particles suitable for insulation that are difficult to deform while being held. The number of carbon atoms present between each (meth) acryl group may be at least 3 or more, but is preferably 4 or more. The number of (meth) acryl groups in the specific polyvalent (meth) acrylate is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, still more preferably 3 or less, most preferably from the viewpoint of controlling Tg. Two is preferable. The specific polyvalent (meth) acrylate may be one in which an atom other than a carbon atom exists between each (meth) acryl group, and for example, an oxygen atom or a nitrogen atom may intervene. The number of atoms other than these carbon atoms is not particularly limited, but the number of all atoms (carbon atoms and atoms other than carbon atoms) present between each (meth) acryl group is preferably 4 or more, more preferably 5 or more.

前記特定多価(メタ)アクリレートの具体例としては、(A)炭素数3以上のアルカンジオールから得られるジ(メタ)アクリレート、(B)ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートおよび(C)アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群より選ばれる1種以上が好ましく挙げられる。かかる特定多価(メタ)アクリレートは、1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。   Specific examples of the specific polyvalent (meth) acrylate include (A) di (meth) acrylate obtained from alkanediol having 3 or more carbon atoms, (B) polyalkylene glycol di (meth) acrylate, and (C) alkylene oxide. One or more selected from the group consisting of modified trimethylolpropane triacrylate is preferred. The specific polyvalent (meth) acrylate may be only one kind or two or more kinds.

前記(A)炭素数3以上のアルカンジオールから得られるジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレートおよび2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましい。   Examples of the di (meth) acrylate obtained from the (A) alkanediol having 3 or more carbon atoms include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1, One or more selected from the group consisting of 9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate and 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate It is preferable that

前記(B)ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレートおよびポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上であるであることが好ましい。   Examples of the (B) polyalkylene glycol di (meth) acrylate include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, and poly (ethylene glycol-tetramethylene). Glycol) di (meth) acrylate, poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) di (meth) acrylate, and polyethylene glycol-polypropylene glycol-polyethylene glycol di (meth) acrylate. Is preferred.

前記(C)アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートとしては、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートおよびプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましい。   The (C) alkylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate is preferably at least one selected from the group consisting of ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate and propylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate.

前記特定多価(メタ)アクリレートとしては、前記(A)〜前記(C)以外にも、例えばトリアクリル酸ペンタエリスリトール、トリアクリル酸トリメチロールプロパン、テトラアクリル酸テトラメチロールメタン、トリメタクリル酸トリメチロールプロパン等を用いることができる。   As the specific polyvalent (meth) acrylate, in addition to the above (A) to (C), for example, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, trimethyloltrimethacrylate Propane or the like can be used.

前記アルキル(メタ)アクリレートと前記特定多価(メタ)アクリレートとの比率(前者/後者;質量比)は、49以下であるのが好ましく、より好ましくは12以下、さらに好ましくは10以下であり、1.0以上であるのが好ましく、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは2.0以上である。アルキル(メタ)アクリレートと特定多価(メタ)アクリレートとの比率が前記範囲よりも大きいと、樹脂粒子の変形率が大きくなる傾向があり、一方、前記範囲よりも小さいと、Tgが高くなる傾向がある。   The ratio of the alkyl (meth) acrylate and the specific polyvalent (meth) acrylate (the former / the latter; mass ratio) is preferably 49 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, It is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and still more preferably 2.0 or more. When the ratio of the alkyl (meth) acrylate and the specific polyvalent (meth) acrylate is larger than the above range, the deformation rate of the resin particles tends to increase, whereas when smaller than the above range, the Tg tends to increase. There is.

前記アルキル(メタ)アクリレートおよび前記特定多価(メタ)アクリレートの合計量は、重合性成分総量に対して70質量%以上、好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、最も好ましくは100質量%である。アルキル(メタ)アクリレートおよび特定多価(メタ)アクリレートの合計量が前記範囲であると、低Tgと変形し難さを両立しやすくなる。   The total amount of the alkyl (meth) acrylate and the specific polyvalent (meth) acrylate is 70% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, most preferably based on the total amount of the polymerizable components. 100% by mass. When the total amount of the alkyl (meth) acrylate and the specific polyvalent (meth) acrylate is within the above range, it is easy to achieve both low Tg and difficulty of deformation.

前記重合性成分としては、アルキル(メタ)アクリレートと特定多価(メタ)アクリレートのほかに、重合性二重結合を1個もしくは2個以上有するその他の重合性単量体を含んでいてもよい。その他の重合性単量体としては、以下のものが挙げられる。   As the polymerizable component, in addition to the alkyl (meth) acrylate and the specific polyvalent (meth) acrylate, other polymerizable monomers having one or more polymerizable double bonds may be included. . Examples of other polymerizable monomers include the following.

すなわち、重合性二重結合を1個有する重合性単量体としては、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸グリシジル;などの(メタ)アクリル系単量体が挙げられる。また重合性二重結合を1個有する重合性単量体として、スチレン、α−メチルスチレン、パラメチルスチレン、イソプロペニルスチレン、クロルスチレンなどのスチレン類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル、フェニルアクリロニトリルなどの不飽和ニトリル類;イタコン酸、マレイン酸、フマル酸またはそれらの半エステル化合物;ビニルトルエン;アリルグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有単量体;なども挙げられる。   That is, examples of the polymerizable monomer having one polymerizable double bond include hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, and the like. (Meth) acrylic monomers may be mentioned. Moreover, as a polymerizable monomer having one polymerizable double bond, styrenes such as styrene, α-methylstyrene, paramethylstyrene, isopropenylstyrene, chlorostyrene; acrylonitrile, methacrylonitrile, ethacrylonitrile, phenyl Examples thereof also include unsaturated nitriles such as acrylonitrile; itaconic acid, maleic acid, fumaric acid or half-ester compounds thereof; vinyl toluene; and epoxy group-containing monomers such as allyl glycidyl ether.

重合性二重結合を2個以上有する重合性単量体としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジアリル、シアン酸トリアリルなどが挙げられる。その他の重合性単量体は1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。
なお、前記重合性成分が上述したその他の重合性単量体をも含有する場合、それらの合計含有量は、必須重合性成分であるアルキル(メタ)アクリレートおよび特定多価(メタ)アクリレートの合計量が前記範囲になるようにするのがよい。
Examples of the polymerizable monomer having two or more polymerizable double bonds include ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl phthalate, triallyl cyanate, and the like. The other polymerizable monomer may be only one kind or two or more kinds.
In addition, when the said polymerizable component also contains the other polymerizable monomer mentioned above, those total content is the sum total of alkyl (meth) acrylate and specific polyvalent (meth) acrylate which are essential polymerizable components The amount should be within the above range.

前記特定多価(メタ)アクリレートが重合性成分総量に対して5質量%以上であることが好ましい。より好ましくは特定多価(メタ)アクリレートは重合性成分総量に対して8質量%以上であり、さらに好ましくは10質量%以上である。重合性成分総量に対する特定多価(メタ)アクリレートの含有割合が多いほど、樹脂粒子の変形率を小さくすることができるので好ましい。ただし重合性成分総量に対する特定多価(メタ)アクリレートの含有割合があまりに多すぎると、Tgが高くなる懸念が生じるので、特定多価(メタ)アクリレートの含有割合は、重合性成分総量に対して50質量%以下であるのが好ましく、40質量%以下がより好ましく、35質量%以下がさらに好ましい。   The specific polyvalent (meth) acrylate is preferably 5% by mass or more based on the total amount of the polymerizable components. More preferably, the specific polyvalent (meth) acrylate is 8% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more, based on the total amount of the polymerizable components. It is preferable that the content ratio of the specific polyvalent (meth) acrylate with respect to the total amount of the polymerizable component is larger because the deformation rate of the resin particles can be reduced. However, if the content ratio of the specific polyvalent (meth) acrylate with respect to the total amount of the polymerizable component is too large, there is a concern that the Tg becomes high. Therefore, the content ratio of the specific polyvalent (meth) acrylate is based on the total amount of the polymerizable component. It is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and further preferably 35% by mass or less.

本発明の樹脂粒子は、上述した重合性成分とともに、必要に応じて重合開始剤、乳化剤、溶媒等を含む重合性組成物を共重合させてなる共重合物を含むものである。さらに本発明の樹脂粒子は、前記共重合物(上述した重合性成分で構成される重合体)以外のポリマー成分や微粒子成分を含むことができる。ただし、本発明の樹脂粒子が所定の効果を発揮するには、前記共重合物を主成分とすることが好ましく、具体的には、前記共重合物が80質量%以上、好ましくは90質量%以上、より好ましくは95質量%以上、さらに好ましくは98質量%以上であるのがよい。   The resin particles of the present invention include a copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable composition containing a polymerization initiator, an emulsifier, a solvent and the like as necessary together with the above-described polymerizable component. Furthermore, the resin particles of the present invention can contain a polymer component and a fine particle component other than the copolymer (a polymer composed of the above-described polymerizable component). However, in order for the resin particles of the present invention to exhibit a predetermined effect, it is preferable that the copolymer is a main component. Specifically, the copolymer is 80% by mass or more, preferably 90% by mass. As mentioned above, it is more preferable that it is 95 mass% or more, More preferably, it is 98 mass% or more.

本発明の樹脂粒子のガラス転移温度(Tg)は、180℃以下であることが好ましい。より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは120℃以下である。樹脂粒子のTgが前記範囲の如く低いと、導電性粒子に対して良好な密着性を発現させることができる。ただし、樹脂粒子のTgがあまりに低すぎると変形し易くなるので、樹脂粒子のTgは、40℃以上であるのが好ましく、より好ましくは50℃以上、さらに好ましくは60℃以上である。なお、本発明において樹脂粒子のガラス転移温度(Tg)は、例えば後述する実施例に記載の方法で測定することができる。   The glass transition temperature (Tg) of the resin particles of the present invention is preferably 180 ° C. or lower. More preferably, it is 150 degrees C or less, More preferably, it is 120 degrees C or less. When the Tg of the resin particles is as low as the above range, good adhesion to the conductive particles can be exhibited. However, if the Tg of the resin particles is too low, the resin particles are easily deformed. Therefore, the Tg of the resin particles is preferably 40 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and further preferably 60 ° C. or higher. In the present invention, the glass transition temperature (Tg) of the resin particles can be measured, for example, by the method described in Examples described later.

本発明の樹脂粒子は、下記測定方法で求められる変形率が60%以下であることが好ましい。より好ましくは55%以下、さらに好ましくは50%以下である。かかる変形率は、一定の加熱加圧下における粒子の変形し易さを表したものであり、かかる数値が前記範囲であれば、該樹脂粒子を導電性粒子の表面に存在させた絶縁化導電性粒子を異方性導電材料とし、これを電気的接続に供したときに、対向する電極間の導通は良好に保ちつつ横導通を確実に抑制することができる。ただし、樹脂粒子の変形率があまりに小さすぎると、電極間の導通が不十分となる虞があるため、変形率は5%以上であることが好ましく、より好ましくは10%以上、さらに好ましくは15%以上である。   The resin particles of the present invention preferably have a deformation rate of 60% or less determined by the following measurement method. More preferably, it is 55% or less, More preferably, it is 50% or less. The deformation rate represents the ease of deformation of the particles under a constant heating and pressurization, and if the numerical value is within the above range, the insulating conductivity in which the resin particles are present on the surface of the conductive particles. When the particles are made of an anisotropic conductive material and used for electrical connection, it is possible to reliably suppress lateral conduction while maintaining good conduction between the opposing electrodes. However, if the deformation rate of the resin particles is too small, there is a possibility that conduction between the electrodes may be insufficient. Therefore, the deformation rate is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and even more preferably 15 % Or more.

変形率の測定方法は、以下の通りである。すなわち、所定量の樹脂粒子を円柱型容器に充填し、まず0.5MPaの一定荷重下で40℃まで昇温したときの高さh1を計測し、次いで0.5MPaの一定荷重下で100℃まで昇温したときの高さh2を計測し、得られた高さh1および高さh2から以下の式に基づき変形率(%)を算出する。
変形率(%)=[(h1−h2)/(H1−H2)]×100
ここで、H1は、上記所定量の樹脂粒子を上記容器に六方最密充填(充填率:74%)したときの高さであり、式:H1=(樹脂粒子の全体積/0.74)/容器内部の断面積、で求められ、H2は、上記所定量の樹脂粒子を上記容器内で完全に溶融させたときの高さであり、式:H2=樹脂粒子の全体積/容器内部の断面積、で求められる。なお、樹脂粒子の全体積は、充填した樹脂粒子の質量を樹脂粒子の比重で除することにより算出でき、容器内部の断面積は、容器の内径から算出できる。
The method for measuring the deformation rate is as follows. That is, a predetermined amount of resin particles are filled in a cylindrical container, and the height h1 is first measured when the temperature is raised to 40 ° C. under a constant load of 0.5 MPa, and then 100 ° C. under a constant load of 0.5 MPa. The height h2 when the temperature is raised to is measured, and the deformation rate (%) is calculated from the obtained height h1 and height h2 based on the following formula.
Deformation rate (%) = [(h1-h2) / (H1-H2)] × 100
Here, H1 is the height when the container is filled with the predetermined amount of resin particles in the hexagonal closest packing (filling ratio: 74%), and the formula: H1 = (total volume of resin particles / 0.74) H2 is a height when the predetermined amount of resin particles are completely melted in the container, and the formula: H2 = total volume of resin particles / inside of the container The cross-sectional area is obtained by The total volume of the resin particles can be calculated by dividing the mass of the filled resin particles by the specific gravity of the resin particles, and the cross-sectional area inside the container can be calculated from the inner diameter of the container.

本発明の樹脂粒子の平均粒子径は、500nm以下であることが好ましい。より好ましくは400nm以下、さらに好ましくは300nm以下、特に好ましくは180nm以下である。例えば絶縁化導電性粒子を微細なパターンの接続端子を接続対象とする異方性導電材料に用いる場合には絶縁化導電性粒子の粒子径は小さい方が望ましく、前記範囲の如く粒子径が小さい樹脂粒子であれば、粒子径の小さい導電性粒子に対しても良好な密着性で付着させることができる。一方、樹脂粒子の平均粒子径があまりに小さすぎると、絶縁化導電性粒子とした場合に隣接する電極間の横導通の抑制が不十分となる傾向があるので、樹脂粒子の平均粒子径は10nm以上が好ましく、30nm以上がより好ましく、50nm以上がさらに好ましい。   The average particle size of the resin particles of the present invention is preferably 500 nm or less. More preferably, it is 400 nm or less, More preferably, it is 300 nm or less, Most preferably, it is 180 nm or less. For example, when insulating conductive particles are used for an anisotropic conductive material whose connection target is a fine pattern, it is desirable that the particle diameter of the insulating conductive particles is small, and the particle diameter is small as in the above range. If it is a resin particle, it can be made to adhere with favorable adhesiveness also to electroconductive particle with a small particle diameter. On the other hand, if the average particle size of the resin particles is too small, the insulation particle conductive particles tend to have insufficient suppression of lateral conduction between adjacent electrodes, and therefore the average particle size of the resin particles is 10 nm. The above is preferable, 30 nm or more is more preferable, and 50 nm or more is more preferable.

なお、本発明における樹脂粒子の平均粒子径は、動的光散乱法により測定される体積平均粒子径を意味するものである。   In addition, the average particle diameter of the resin particle in this invention means the volume average particle diameter measured by a dynamic light scattering method.

本発明の樹脂粒子の粒子径における変動係数(CV値)は、導電性粒子に対して良好な密着性で均一に付着させるうえで、50%以下であるのが好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、最も好ましくは20%以下である。なお、粒子径の変動係数とは、動的光散乱法により測定される体積平均粒子径と、粒子径の標準偏差とを下記式に当てはめて求められる値である。
粒子径の変動係数(%)=100×(粒子径の標準偏差/体積平均粒子径)
The coefficient of variation (CV value) in the particle diameter of the resin particles of the present invention is preferably 50% or less, more preferably 40% or less in order to uniformly adhere to the conductive particles with good adhesion. More preferably, it is 30% or less, and most preferably 20% or less. The variation coefficient of the particle diameter is a value obtained by applying the volume average particle diameter measured by the dynamic light scattering method and the standard deviation of the particle diameter to the following formula.
Variation coefficient of particle diameter (%) = 100 × (standard deviation of particle diameter / volume average particle diameter)

本発明の樹脂粒子の体積平均粒子径は、絶縁対象とする導電性粒子の個数平均粒子径の0.005倍以上であるのが好ましく、より好ましくは0.01倍以上、さらに好ましくは0.03倍以上であり、絶縁対象とする導電性粒子の個数平均粒子径の0.3倍以下であるのが好ましく、より好ましくは0.1倍以下、さらに好ましくは0.08倍以下である。導電性粒子に対する樹脂粒子の大きさ(平均粒子径)が前記範囲であれば、導電性粒子の表面に良好な密着性で樹脂粒子を付着させることができる。   The volume average particle diameter of the resin particles of the present invention is preferably 0.005 times or more, more preferably 0.01 times or more, and still more preferably 0.005 times or more the number average particle diameter of conductive particles to be insulated. It is preferably not less than 03 times and not more than 0.3 times the number average particle diameter of the conductive particles to be insulated, more preferably not more than 0.1 times, and further preferably not more than 0.08 times. If the size (average particle diameter) of the resin particles with respect to the conductive particles is within the above range, the resin particles can be adhered to the surface of the conductive particles with good adhesion.

本発明の樹脂粒子は、例えば、上述した重合性成分を含む前記重合性組成物を乳化重合することにより得ることができる。勿論、重合性組成物の重合法は乳化重合法に限定されるものではないが、特に、後述する乳化重合法を採用することが、粒子径の小さい(具体的には1μm以下、好ましくは500nm以下)粒子が得られやすい点で好ましい。以下、重合性組成物を重合する際の好ましい乳化重合の態様を説明する。   The resin particles of the present invention can be obtained, for example, by emulsion polymerization of the polymerizable composition containing the above-described polymerizable component. Of course, the polymerization method of the polymerizable composition is not limited to the emulsion polymerization method, but in particular, the emulsion polymerization method described later may be employed to reduce the particle size (specifically, 1 μm or less, preferably 500 nm). The following is preferable in that particles are easily obtained. Hereinafter, preferred embodiments of emulsion polymerization when polymerizing the polymerizable composition will be described.

好ましい乳化重合の態様は、前記重合性成分とともに重合開始剤と界面活性剤(乳化剤)を含む重合性組成物を乳化重合する重合工程と、該重合工程の後さらに界面活性剤を添加して熟成する熟成工程とを含む。乳化重合は、通常水性分散媒中で行う。   A preferred embodiment of emulsion polymerization is a polymerization step in which a polymerizable composition containing a polymerization initiator and a surfactant (emulsifier) together with the polymerizable component is emulsion-polymerized, and after the polymerization step, a surfactant is further added and ripened. A maturing step. Emulsion polymerization is usually performed in an aqueous dispersion medium.

前記乳化重合に用いる重合開始剤としては、過酸化水素水と、アスコルビン酸、酒石酸およびソルビン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種類の還元剤とを組合せてなるレドックス系重合開始剤を用いることが好ましい。これにより、粒子径が小さく、かつ粒度分布の狭い粒子重合体を得ることができる。重合開始剤の添加方法としては、過酸化水素水と還元剤とをそれぞれ水溶液とした後、該水溶液を連続的もしくは断続的に反応容器内に添加してもよく、また、過酸化水素水の全量を反応容器内に前もって添加しておき還元剤を連続的に添加してもよい。   As the polymerization initiator used in the emulsion polymerization, a redox polymerization initiator formed by combining a hydrogen peroxide solution and at least one reducing agent selected from the group consisting of ascorbic acid, tartaric acid and sorbic acid may be used. preferable. Thereby, a particle polymer having a small particle size and a narrow particle size distribution can be obtained. As a method for adding the polymerization initiator, the aqueous hydrogen peroxide solution and the reducing agent may be made into aqueous solutions, respectively, and then the aqueous solution may be continuously or intermittently added to the reaction vessel. The total amount may be added in advance to the reaction vessel and the reducing agent may be added continuously.

前記重合工程で使用される界面活性剤としては、アニオン系乳化剤が好ましい。これにより、粒子径が小さく、かつ粒度分布の狭い粒子重合体を得ることができる。アニオン系乳化剤としては、例えば、ラウリルスルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられ、これらの中でも特に、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい。重合工程において用いる界面活性剤の量としては、重合性成分総量100質量部に対して、0.05〜10質量部が好ましく、0.1〜7質量部がさらに好ましい。   As the surfactant used in the polymerization step, an anionic emulsifier is preferable. Thereby, a particle polymer having a small particle size and a narrow particle size distribution can be obtained. Examples of the anionic emulsifier include sodium lauryl sulfonate and sodium dodecyl benzene sulfonate. Among these, sodium dodecyl benzene sulfonate is particularly preferable. The amount of the surfactant used in the polymerization step is preferably 0.05 to 10 parts by mass and more preferably 0.1 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of polymerizable components.

前記重合工程における乳化重合は、公知の乳化重合法で行えばよく、例えばモノマー滴下法、プレエマルジョン法、一括仕込み重合法などを採用することができるが、粒度分布の狭い架橋粒子重合体を得るうえでは、モノマー滴下法を採用するのが好ましい。重合性成分、重合開始剤、界面活性剤の仕込み方法などは、特に制限はなく、適宜設定すればよいが、好ましくは、予め重合性成分総量の5質量%以上と重合開始剤の一部と界面活性剤とからなる重合用混合液を用いて乳化重合を開始した後、残りの重合性成分および重合開始剤を別々にあるいは混合して滴下するのがよい。前記重合工程における重合温度としては、30〜90℃が好ましい。重合時間は、重合性成分の仕込み量と反応液中の残存量とから求められる反応率に応じて適宜設定すればよいが、通常1〜12時間、好ましくは2〜8時間程度である。   The emulsion polymerization in the polymerization step may be carried out by a known emulsion polymerization method. For example, a monomer dropping method, a pre-emulsion method, a batch charging polymerization method, etc. can be adopted, and a crosslinked particle polymer having a narrow particle size distribution is obtained. In addition, it is preferable to employ a monomer dropping method. The charging method of the polymerizable component, the polymerization initiator, the surfactant and the like are not particularly limited and may be appropriately set. Preferably, however, 5% by mass or more of the total polymerizable component and a part of the polymerization initiator are preliminarily set. After starting the emulsion polymerization using a polymerization mixture composed of a surfactant, the remaining polymerizable component and the polymerization initiator may be dropped separately or mixed. The polymerization temperature in the polymerization step is preferably 30 to 90 ° C. The polymerization time may be appropriately set according to the reaction rate determined from the charged amount of the polymerizable component and the residual amount in the reaction solution, but is usually about 1 to 12 hours, preferably about 2 to 8 hours.

前記熟成工程は、重合工程の後で、未反応の重合性成分を減少させたり、または、乳化重合で得られた粒子重合体を含む分散液を安定化させたりする目的で行われる。このとき界面活性剤を添加することにより、熟成時の架橋粒子重合体の凝集を防止することができる。熟成工程で使用される界面活性剤としては、前記重合工程で例示した界面活性剤(好ましくはアニオン系乳化剤)を用いることができ、特に好ましくは、重合工程で使用したものと同じ界面活性剤を使うことがよいが、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテルなどのノニオン性界面活性剤を用いることも可能である。熟成工程で用いる界面活性剤の量としては、乳化重合で使用した重合性成分総量100質量部に対して、0.05〜10質量部が好ましく、0.1〜7質量部がより好ましい。   The aging step is performed after the polymerization step for the purpose of reducing unreacted polymerizable components or stabilizing the dispersion containing the particle polymer obtained by emulsion polymerization. At this time, by adding a surfactant, it is possible to prevent aggregation of the crosslinked particle polymer during aging. As the surfactant used in the aging step, the surfactant exemplified in the polymerization step (preferably an anionic emulsifier) can be used, and particularly preferably, the same surfactant as that used in the polymerization step is used. It is preferable to use a nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkyl ether, for example. The amount of the surfactant used in the aging step is preferably 0.05 to 10 parts by mass and more preferably 0.1 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of polymerizable components used in the emulsion polymerization.

前記熟成工程における熟成温度としては、50〜90℃が好ましく、70〜85℃がより好ましい。熟成温度を前記範囲内とすることにより、粒子の凝集を抑えながら、未反応の重合性成分の量を減少させることができる。熟成時間は、重合性成分の仕込み量と反応液中の残存量とから求められる反応率に応じて適宜設定すればよいが、通常1〜12時間、好ましくは2〜8時間程度である。   The aging temperature in the aging step is preferably 50 to 90 ° C, more preferably 70 to 85 ° C. By setting the aging temperature within the above range, the amount of the unreacted polymerizable component can be reduced while suppressing the aggregation of particles. The aging time may be appropriately set according to the reaction rate determined from the charged amount of the polymerizable component and the remaining amount in the reaction solution, but is usually about 1 to 12 hours, preferably about 2 to 8 hours.

(絶縁化導電性粒子)
本発明の絶縁化導電性粒子は、導電性粒子の表面の少なくとも一部に前記本発明の樹脂粒子が存在してなるものである。このような絶縁化導電性粒子は、導電性粒子の表面に良好な密着性で変形し難い樹脂粒子が付着したものとなるので、異方性導電材料として電気的接続に供したときに対向する電極間の導通は良好に保ちつつ横導通を確実に抑制することができる。
まず、導電性粒子について説明する。
前記導電性粒子は、金属粒子であってもよく、基材粒子と該基材粒子表面の少なくとも一部を被覆する導電性金属層とから構成される複合粒子であってもよい。好ましくは後者の複合粒子であるのがよい。
(Insulated conductive particles)
The insulated conductive particles of the present invention are those in which the resin particles of the present invention are present on at least a part of the surface of the conductive particles. Such insulated conductive particles are such that resin particles that are hard to be deformed with good adhesion adhere to the surface of the conductive particles, and thus face each other when subjected to electrical connection as an anisotropic conductive material. It is possible to reliably suppress lateral conduction while maintaining good conduction between the electrodes.
First, the conductive particles will be described.
The conductive particles may be metal particles, or composite particles composed of base particles and a conductive metal layer covering at least a part of the surface of the base particles. The latter composite particles are preferred.

前記金属粒子としては、例えば、金、銀、銅、白金、鉄、鉛、アルミニウム、クロム、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、スズ、コバルト、インジウム、ニッケル−リン、ニッケル−ホウ素などの金属や金属化合物、および、これらの合金などからなる粒子が挙げられる。これらの中でも、導電性に優れ、工業的に安価である点で、金、銀、銅、ニッケルから選ばれる金属の粒子が好ましい。
前記金属粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、回転楕円体状、金平糖状、薄板状、針状、まゆ状などのいずれでも良いが、球状が好ましく、特に真球状が好ましい。
Examples of the metal particles include gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, cobalt, indium, nickel-phosphorus, nickel- Examples thereof include particles made of metals such as boron, metal compounds, and alloys thereof. Among these, metal particles selected from gold, silver, copper, and nickel are preferable in that they are excellent in conductivity and industrially inexpensive.
The shape of the metal particles is not particularly limited, and may be any of a spherical shape, a spheroid shape, a confetti shape, a thin plate shape, a needle shape, an eyebrow shape, etc., but a spherical shape is preferable, and a true spherical shape is particularly preferable. .

前記複合粒子に用いる基材粒子としては、特に制限はなく、汎用されているものを用いることができる。基材粒子の材料としては、例えば、シリカなどの無機材料;シリコーン樹脂(ポリメチルシルセスキオキサン、ポリフェニルシルセスキオキサン)、ポリオレフィン樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリブタジエンなど)、ビニル重合体樹脂((メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂、(メタ)アクリル−スチレン樹脂など)、ポリスルホン、ポリカーボネート、フェノール樹脂、アミノ樹脂(メラミン樹脂、メラミン−ベンゾグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂など)、尿素樹脂などの有機材料;無機質成分であるポリシロキサン(好ましくは、(メタ)アクリロキシ基含有シリコーン化合物を含む無機化合物原料を加水分解・縮合して得られるポリシロキサン)と有機質成分であるビニル系重合体とが任意の適切な形態(例えば、一方が他方に分散している形態、一方をコア粒子とし他方がシェル層であるコア・シェル形態、両者が分子レベルで複合または混合されている形態など)で複合したものである有機無機複合材料;などが挙げられる。これらの中でも、適度な弾性率や回復特性を有する点で、ビニル重合体樹脂((メタ)アクリル樹脂、スチレン樹脂、(メタ)アクリル−スチレン樹脂など)、アミノ樹脂(メラミン樹脂、メラミン−ベンゾグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂など)、有機無機複合材料が好ましい。特に、有機無機複合材料としては、特開2003−183337号公報や特開平8−81561号公報などに記載されているものが好ましく用いられる。   There is no restriction | limiting in particular as base particle used for the said composite particle, What is used widely can be used. Examples of the material of the base particle include inorganic materials such as silica; silicone resin (polymethylsilsesquioxane, polyphenylsilsesquioxane), polyolefin resin (polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, poly Tetrafluoroethylene, polybutadiene, etc.), vinyl polymer resin ((meth) acrylic resin, styrene resin, (meth) acrylic-styrene resin, etc.), polysulfone, polycarbonate, phenolic resin, amino resin (melamine resin, melamine-benzoguanamine resin, Organic materials such as benzoguanamine resins) and urea resins; polysiloxanes obtained by hydrolysis / condensation of inorganic compounds such as polysiloxanes (preferably (meth) acryloxy group-containing silicone compounds) ) And an organic component vinyl polymer in any appropriate form (for example, one is dispersed in the other, one is a core particle and the other is a shell layer, the other is a shell / shell form, both at the molecular level) Or a mixed or mixed form of the organic-inorganic composite material. Among these, vinyl polymer resin ((meth) acrylic resin, styrene resin, (meth) acrylic-styrene resin, etc.), amino resin (melamine resin, melamine-benzoguanamine resin) in terms of having an appropriate elastic modulus and recovery characteristics. Benzoguanamine resin, etc.) and organic-inorganic composite materials are preferred. In particular, as the organic-inorganic composite material, those described in JP-A No. 2003-183337 and JP-A No. 8-81561 are preferably used.

前記複合粒子に用いる基材粒子の粒子径は、個数平均粒子径で0.5μm以上、10.0μm以下であることが好ましい。平均粒子径が小さすぎると、無電解めっきなどで導電性金属層を被覆する際に、粒子が凝集し易くなり、均一な導電性金属層を形成できない虞がある。一方、平均粒子径が大きすぎると、隣接する電極間の間隔が狭い場合には適用しにくいなど適用用途が限られて、工業上の利用分野が少なくなる傾向がある。基材粒子の平均粒子径は、より好ましくは1.0μm以上、5.0μm以下であり、さらに好ましくは1.2μm以上、3.0μm以下であり、最も好ましくは1.5μm以上、2.7μm以下である。
なお、個数平均粒子径は、具体的には、コールター原理を利用した精密粒度分布測定装置(例えば、ベックマンコールター(株)製「コールターマルチサイザーIII型」)により測定される個数基準の値とする。
The particle diameter of the base particles used for the composite particles is preferably 0.5 μm or more and 10.0 μm or less in number average particle diameter. If the average particle size is too small, the particles tend to aggregate when the conductive metal layer is coated by electroless plating or the like, and there is a possibility that a uniform conductive metal layer cannot be formed. On the other hand, if the average particle size is too large, the application uses are limited, such as difficulty in application when the interval between adjacent electrodes is narrow, and there is a tendency that the industrial application fields are reduced. The average particle diameter of the substrate particles is more preferably 1.0 μm or more and 5.0 μm or less, further preferably 1.2 μm or more and 3.0 μm or less, and most preferably 1.5 μm or more and 2.7 μm. It is as follows.
The number average particle diameter is specifically a number-based value measured by a precision particle size distribution measuring apparatus using the Coulter principle (for example, “Coulter Multisizer III type” manufactured by Beckman Coulter, Inc.). .

前記複合粒子に用いる基材粒子の粒子径における変動係数(CV値)は、好ましくは10%以下、より好ましくは7%以下、さらに好ましくは5%以下、最も好ましくは4%以下である。なお、粒子径の変動係数とは、コールター原理を利用した精密粒度分布測定装置により測定される粒子の平均粒子径と、粒子の粒子径の標準偏差とを下記式に当てはめて求められる値である。
粒子径の変動係数(%)=100×(粒子径の標準偏差/個数平均粒子径)
The coefficient of variation (CV value) in the particle diameter of the base particles used for the composite particles is preferably 10% or less, more preferably 7% or less, still more preferably 5% or less, and most preferably 4% or less. The coefficient of variation of the particle diameter is a value obtained by applying the following equation to the average particle diameter of the particles measured by a precision particle size distribution measuring apparatus using the Coulter principle and the standard deviation of the particle diameter of the particles. .
Coefficient of variation of particle diameter (%) = 100 × (standard deviation of particle diameter / number average particle diameter)

前記複合粒子に用いる基材粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、回転楕円体状、金平糖状、薄板状、針状、まゆ状などのいずれでも良いが、球状が好ましく、特に真球状が好ましい。   The shape of the base particles used for the composite particles is not particularly limited, and may be any of, for example, a spherical shape, a spheroid shape, a confetti shape, a thin plate shape, a needle shape, an eyebrows shape, and a spherical shape is preferable. A true spherical shape is particularly preferable.

前記導電性金属層を構成する金属は、導電性を持つ化合物であればよく特に限定されない。例えば、金、銀、銅、白金、鉄、鉛、アルミニウム、クロム、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、スズ、コバルト、インジウム、ニッケル−リン、ニッケル−ホウ素などの金属や金属化合物、および、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れ、工業的に安価である点で、金、銀、銅、ニッケルが好ましい。また、導電性金属層は、単層でもよいし複層であってもよく、複層の場合には、例えば、ニッケル−金、ニッケル−パラジウム、ニッケル−パラジウム−金、ニッケル−銀などが好ましく挙げられる。   The metal constituting the conductive metal layer is not particularly limited as long as it is a conductive compound. For example, metals and metals such as gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, cobalt, indium, nickel-phosphorus, nickel-boron Examples thereof include compounds and alloys thereof. Among these, gold, silver, copper, and nickel are preferable because they are excellent in conductivity and industrially inexpensive. Further, the conductive metal layer may be a single layer or multiple layers. In the case of multiple layers, for example, nickel-gold, nickel-palladium, nickel-palladium-gold, nickel-silver and the like are preferable. Can be mentioned.

前記導電性金属層の厚みは、特に制限されないが、好ましくは10〜500nm、より好ましくは20〜400nm、さらに好ましくは50〜300nmである。導電性金属層の厚みが10nm未満であると、絶縁化導電性粒子としたときに安定した電気的接続を発現し難くなるおそれがある。導電性金属層の厚みが500nmを超えると、導電性粒子としたときの表面の硬度が高くなりすぎ、回復率などの機械的特性が低下するおそれがある。   The thickness of the conductive metal layer is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 400 nm, and still more preferably 50 to 300 nm. When the thickness of the conductive metal layer is less than 10 nm, there is a possibility that stable electrical connection is difficult to be obtained when insulating conductive particles are used. When the thickness of the conductive metal layer exceeds 500 nm, the surface hardness of the conductive particles becomes too high, and the mechanical properties such as the recovery rate may decrease.

前記複合粒子における導電性金属層は、基材粒子表面の少なくとも一部を被覆していればよいが、導電性金属層の表面には、実質的な割れや、導電性金属層が形成されていない面が存在しないことが好ましい。ここで、「実質的な割れや、導電性金属層が形成されていない面が存在しない」とは、電子顕微鏡(倍率2000倍)を用いて任意の10000個の導電性粒子の表面を観察したときに、導電性金属層の割れまたは基材粒子表面の露出が認められる割合が全体の5%以下であることを意味する。   The conductive metal layer in the composite particles only needs to cover at least a part of the surface of the base particle, but the surface of the conductive metal layer has substantial cracks or a conductive metal layer formed. It is preferred that no surface is present. Here, “there is no substantial crack or surface on which no conductive metal layer is formed” means that the surface of any 10,000 conductive particles was observed using an electron microscope (magnification 2000 times). Sometimes it means that the proportion of cracking of the conductive metal layer or exposure of the surface of the substrate particles is 5% or less.

前記基材粒子の表面に導電性金属層を被覆する方法は、特に限定されず、従来公知の方法、例えば、無電解めっき法、電解めっき法などのめっきを施す方法;金属微粉を単独でもしくはバインダーに混ぜ合わせたペースト状で基材粒子にコーティングする方法;真空蒸着、イオンプレーティング、イオンスパッタリングなどの物理的蒸着方法;などを採用すればよい。これらの中でも特に無電解めっき法が、大掛かりな装置を必要とせず容易に導電性金属層を形成できる点で好ましい。   The method of coating the surface of the substrate particles with the conductive metal layer is not particularly limited, and a conventionally known method, for example, a method of performing plating such as an electroless plating method or an electrolytic plating method; A method of coating the base particles with a paste mixed with a binder; a physical vapor deposition method such as vacuum deposition, ion plating, ion sputtering, etc. may be employed. Among these, the electroless plating method is particularly preferable in that a conductive metal layer can be easily formed without requiring a large-scale apparatus.

前記無電解めっき法では、まず基材粒子の表面に、次に行う無電解めっき処理の基点となる触媒層を形成する。触媒層を形成する方法としては、例えば、二塩化パラジウムと二塩化スズとを含む溶液を触媒化試薬とし、これに基材粒子を浸漬することにより基材粒子表面に触媒金属を吸着させ、その後、硫酸や塩酸などの酸や水酸化ナトリウムなどのアルカリ溶液で前記パラジウムイオンを還元することにより、基材粒子表面にパラジウムを析出させる方法(キャタリスト−アクセレレーション法)や、基材粒子を二塩化スズと接触させることによりスズイオンを基材粒子表面に吸着させた後、二塩化パラジウム溶液に浸漬させることにより、基材粒子表面にパラジウムを析出させる方法(センシタイジング−アクチベーション法)などが挙げられる。   In the electroless plating method, first, a catalyst layer is formed on the surface of the base particle as a base point for the next electroless plating treatment. As a method for forming the catalyst layer, for example, a solution containing palladium dichloride and tin dichloride is used as a catalyst reagent, and the catalyst particles are adsorbed on the surface of the substrate particles by immersing the substrate particles in the solution. In addition, by reducing the palladium ions with an alkali solution such as sulfuric acid or hydrochloric acid or an alkali solution such as sodium hydroxide, a method of depositing palladium on the surface of the substrate particles (catalyst-acceleration method), A method (sensitizing-activation method) in which palladium is deposited on the surface of the substrate particles by adsorbing tin ions on the surface of the substrate particles by contacting with tin dichloride and then dipping in a palladium dichloride solution. Can be mentioned.

前記無電解めっき法では、続いて、触媒層を形成した基材粒子表面に、無電解めっき処理を施して導電性金属層を形成する。無電解めっき処理は、還元剤と所望の導電性金属塩を溶解しためっき液中に触媒層を形成した基材粒子を浸漬することにより、触媒を起点として、めっき液中の金属イオンを還元剤で還元し、基材粒子表面に所望の金属を析出させて、導電性金属層を形成するものである。無電解めっき液に含有させる導電性金属塩としては、導電性金属層を構成する金属として先に例示した金属の塩化物、硫酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
前記無電解めっき処理は、必要に応じて繰返し行ってもよい。例えば金属種の異なる無電解めっき液を用いて無電解めっき処理を繰返すことにより、基材粒子の表面に異種金属を幾層にも被覆できる。具体的には、基材粒子にニッケルめっきを施してニッケル被覆粒子を得た後、該ニッケル被覆粒子をさらに無電解金めっき液に投入して金置換めっきを行うことにより、最外層が金層で覆われ、その内側にニッケル層を有する導電性粒子が得られる。
In the electroless plating method, subsequently, the surface of the substrate particles on which the catalyst layer is formed is subjected to an electroless plating treatment to form a conductive metal layer. The electroless plating treatment involves immersing the base material particles on which the catalyst layer is formed in a plating solution in which a reducing agent and a desired conductive metal salt are dissolved, thereby starting metal ions in the plating solution from the catalyst. And a desired metal is deposited on the surface of the substrate particles to form a conductive metal layer. Examples of the conductive metal salt contained in the electroless plating solution include chlorides, sulfates, acetates, and the like of the metals exemplified above as the metal constituting the conductive metal layer.
The electroless plating treatment may be repeated as necessary. For example, by repeating the electroless plating process using electroless plating solutions having different metal types, the surface of the substrate particles can be coated with several layers of different metals. Specifically, after nickel plating is performed on the substrate particles to obtain nickel-coated particles, the outermost layer is a gold layer by adding the nickel-coated particles to an electroless gold plating solution and performing gold displacement plating. The electroconductive particle which is covered with and has a nickel layer inside is obtained.

以上のようにして得られた導電性粒子の平均粒子径は、11μm以下であることが好ましく、より好ましくは6.0μm以下であり、さらに好ましくは4.0μm以下であり、特に好ましくは2.8μm以下である。前記範囲の如く粒子径が小さい導電性粒子であれば、例えば微細なパターンの接続端子を接続対象とする異方性導電材料に用いる場合に適しており、電極間距離が小さくなるほど、本発明の樹脂粒子を備えてなる導電性粒子(絶縁化導電性粒子)を用いる必要性が高まり、本発明の効果はさらに顕著なものとなる。導電性粒子の平均粒子径は、好ましくは1.1μm以上、より好ましくは1.3μm以上、さらに好ましくは1.6μm以上である。
なお、本発明における導電性粒子の平均粒子径は、フロー式粒子像解析装置(例えば、シスメックス社製「FPIA−3000」)により測定される個数平均粒子径を意味するものである。
The average particle size of the conductive particles obtained as described above is preferably 11 μm or less, more preferably 6.0 μm or less, still more preferably 4.0 μm or less, and particularly preferably 2. 8 μm or less. Conductive particles having a small particle diameter as in the above range are suitable for use in, for example, an anisotropic conductive material having a connection terminal with a fine pattern as a connection target. The necessity of using conductive particles (insulated conductive particles) provided with resin particles is increased, and the effects of the present invention are further remarkable. The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1.1 μm or more, more preferably 1.3 μm or more, and further preferably 1.6 μm or more.
In addition, the average particle diameter of the electroconductive particle in this invention means the number average particle diameter measured by a flow type particle image analyzer (for example, "FPIA-3000" by Sysmex Corporation).

導電性粒子の表面に上述した本発明の樹脂粒子を固定する方法としては、従来公知の被覆方法を採用することができる。例えば、無電解めっき処理後の導電性粒子と本発明の樹脂粒子とを有機溶媒あるいは水性媒体などの液体中に分散させた後、スプレードライを行う方法;有機溶媒あるいは水性媒体などの液体中で導電性粒子の表面に樹脂粒子を付着させた後、導電性粒子と樹脂粒子を化学結合させる方法;導電性粒子の粉体と樹脂粒子の粉体の共存下で高速撹拌機による撹拌やハイブリダイゼーション処理を行う方法;などが挙げられる。   As a method for fixing the above-described resin particles of the present invention on the surface of the conductive particles, a conventionally known coating method can be employed. For example, a method in which conductive particles after electroless plating treatment and the resin particles of the present invention are dispersed in a liquid such as an organic solvent or an aqueous medium and then spray-dried; in a liquid such as an organic solvent or an aqueous medium Method of attaching resin particles to the surface of conductive particles and then chemically bonding the conductive particles and resin particles; stirring and hybridization using a high-speed stirrer in the presence of conductive powder and resin particle powder And the like.

樹脂粒子は導電性粒子の表面の少なくとも一部に存在していればよく、導電性粒子の全表面に占める樹脂粒子の存在比率(換言すれば、樹脂粒子による導電性粒子の被覆率)は、好ましくは1%以上95%以下、より好ましくは5%以上90%以下、さらに好ましくは10%以上85%以下である。樹脂粒子による導電性粒子の被覆率が前記範囲であることにより、充分な導通性を確保しつつ、隣接する絶縁化導電性粒子間を確実に絶縁することができる。なお、上記被覆率は、例えば電子顕微鏡(倍率5000倍)を用いて任意の100個の絶縁化導電性粒子の表面を観察したときに、絶縁化導電性粒子の正投影面における樹脂粒子の被覆されている部分と樹脂粒子の被覆されていない部分の面積比率を測定することにより評価できる。   The resin particles only need to be present on at least part of the surface of the conductive particles, and the abundance ratio of the resin particles in the entire surface of the conductive particles (in other words, the coverage of the conductive particles by the resin particles) is: Preferably they are 1% or more and 95% or less, More preferably, they are 5% or more and 90% or less, More preferably, they are 10% or more and 85% or less. When the coverage of the conductive particles by the resin particles is within the above range, it is possible to reliably insulate adjacent insulated conductive particles while ensuring sufficient electrical conductivity. In addition, the said coverage is the coating | cover of the resin particle in the orthographic projection surface of insulated conductive particles, when the surface of arbitrary 100 insulated conductive particles is observed using an electron microscope (5000 times magnification), for example It can be evaluated by measuring the area ratio of the portion that is not covered with the resin particles.

(異方性導電材料)
本発明の異方性導電材料は、前記本発明の絶縁化導電性粒子がバインダー樹脂に分散してなるものである。異方性導電材料の形態としては、特に制限されないが、例えば、異方性導電フィルム、異方性導電ペースト、異方性導電接着剤、異方性導電インクなど、相対向する基材間や電極端子間に設けることで電気的な接続を可能にするものが挙げられる。また、本発明の異方性導電材料には、導通スペーサーおよびその組成物などの液晶表示素子用導通材料も包含される。
(Anisotropic conductive material)
The anisotropic conductive material of the present invention is obtained by dispersing the insulated conductive particles of the present invention in a binder resin. The form of the anisotropic conductive material is not particularly limited. For example, the anisotropic conductive film, the anisotropic conductive paste, the anisotropic conductive adhesive, the anisotropic conductive ink, or the like between the opposing substrates or The thing which enables an electrical connection by providing between electrode terminals is mentioned. The anisotropic conductive material of the present invention also includes a conductive material for liquid crystal display elements such as a conductive spacer and its composition.

前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、従来公知のバインダー樹脂を用いることができる。例えば、(メタ)アクリレート樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体などの熱可塑性樹脂;グリシジル基を有するモノマーやオリゴマー及びイソシアネートなどの硬化剤との反応により得られる硬化性樹脂組成物などの光や熱による硬化性樹脂組成物;などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said binder resin, A conventionally well-known binder resin can be used. For example, thermoplastic resins such as (meth) acrylate resins, ethylene-vinyl acetate resins, styrene-butadiene block copolymers; curable resin compositions obtained by reaction with curing agents such as monomers and oligomers having glycidyl groups and isocyanates Examples thereof include curable resin compositions by light and heat.

異方性導電フィルムは、例えば、本発明の絶縁化導電性粒子とバインダー樹脂などを含むフィルム形成用組成物に溶媒を加えて液状にし、この液をポリエチレンテレフタレート製などのフィルム上に塗布した後、溶媒を蒸発させることにより得ることができる。得られた異方性導電フィルムは、例えば、電極上に配置され、この異方性導電フィルム上に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   For example, the anisotropic conductive film is made into a liquid by adding a solvent to the film-forming composition containing the insulated conductive particles of the present invention and a binder resin, and this liquid is applied on a film made of polyethylene terephthalate or the like. It can be obtained by evaporating the solvent. The obtained anisotropic conductive film is disposed on electrodes, for example, and is used for connection between the electrodes by superposing a counter electrode on the anisotropic conductive film and heating and compressing it.

異方性導電ペーストは、例えば、本発明の絶縁化導電性粒子とバインダー樹脂などを含む樹脂組成物をペースト状にすることにより得られる。得られた異方性導電ペーストは、例えば、適当なディスペンサーに入れられ、接続すべき電極上に所望の厚さで塗工され、塗工された異方性導電ペースト上に対向電極を重ね合わせ、加熱しながら加圧して樹脂を硬化させることにより、電極間の接続に使用される。   An anisotropic conductive paste is obtained by making the resin composition containing the insulated conductive particle of this invention, binder resin, etc. into paste form, for example. The obtained anisotropic conductive paste is placed in, for example, a suitable dispenser, applied on the electrode to be connected with a desired thickness, and the counter electrode is superimposed on the coated anisotropic conductive paste. It is used for connection between electrodes by curing the resin by applying pressure while heating.

異方性導電接着剤は、例えば、本発明の絶縁化導電性粒子とバインダー樹脂などを含む樹脂組成物を所望の粘度に調整することにより得られる。得られた異方性導電接着剤は、異方性導電ペーストと同様、電極上に所望の厚さで塗工した後、対向電極を重ね合わせ、両者を接着することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive adhesive is obtained, for example, by adjusting a resin composition containing the insulated conductive particles of the present invention and a binder resin to a desired viscosity. The obtained anisotropic conductive adhesive is used to connect between electrodes by coating the electrodes with a desired thickness, then overlaying the counter electrodes and bonding them together, as with the anisotropic conductive paste. Is done.

異方性導電インクは、例えば、本発明の絶縁化導電性粒子とバインダー樹脂などを含む樹脂組成物に溶媒を加えて印刷に適した粘度に調整することにより得られる。得られた異方性導電インクは、例えば、接着すべき電極上にスクリーン印刷し、溶媒を蒸発させた後、異方性導電インクによる印刷面に対向電極を重ね合わせ、加熱圧縮することにより電極間の接続に使用される。   The anisotropic conductive ink can be obtained, for example, by adding a solvent to the resin composition containing the insulated conductive particles of the present invention and a binder resin to adjust the viscosity to be suitable for printing. The obtained anisotropic conductive ink is obtained by, for example, screen-printing on the electrode to be bonded, evaporating the solvent, superimposing the counter electrode on the printing surface with the anisotropic conductive ink, and heating and compressing the electrode. Used for connection between.

本発明の異方性導電材料において、本発明の絶縁化導電性粒子の含有量は、用途に応じて適宜決定すればよいが、例えば、異方導電性材料の全量に対して2〜70体積%が好ましい。より好ましくは5体積%以上、さらに好ましくは10体積%以上であり、より好ましくは50体積%以下、さらに好ましくは40体積%以下である。絶縁化導電性粒子の含有量が少なすぎると、充分な電気的導通が得られ難い場合があり、一方、絶縁化導電性粒子の含有量が多すぎると、粒子同士が接触してしまい、異方性導電材料としての機能が発揮され難い場合がある。   In the anisotropic conductive material of the present invention, the content of the insulated conductive particles of the present invention may be appropriately determined according to the application, for example, 2 to 70 volumes with respect to the total amount of the anisotropic conductive material. % Is preferred. More preferably, it is 5 volume% or more, More preferably, it is 10 volume% or more, More preferably, it is 50 volume% or less, More preferably, it is 40 volume% or less. If the content of insulated conductive particles is too small, it may be difficult to obtain sufficient electrical continuity. On the other hand, if the content of insulated conductive particles is too large, the particles may come into contact with each other, resulting in a difference. In some cases, the function as an anisotropic conductive material is difficult to be exhibited.

本発明の異方性導電材料におけるフィルム膜厚、ペーストや接着剤の塗工膜厚、印刷膜厚などについては、使用する本発明の絶縁化導電性粒子の粒子径と、接続すべき電極の仕様とを考慮し、接続すべき電極間に絶縁化導電性粒子が狭持され、且つ接続すべき電極が形成された接合基板同士の空隙がバインダー樹脂層により充分に満たされるように、適宜設定することが好ましい。   About the film thickness in the anisotropic conductive material of the present invention, the coating thickness of the paste or adhesive, the printed film thickness, etc., the particle diameter of the insulated conductive particles of the present invention to be used and the electrode to be connected Considering the specifications, the insulating conductive particles are sandwiched between the electrodes to be connected, and appropriately set so that the gap between the bonding substrates on which the electrodes to be connected are formed is sufficiently filled with the binder resin layer It is preferable to do.

本発明の異方性導電材料を用いて接続部位間を電気的に接続する際の接続方法は、特に制限されない。例えば、接続時の温度は、好ましくは190℃以下、より好ましくは170℃以下、さらに好ましくは150℃以下であり、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120℃以上である。接続時の圧力は、通常1〜100MPaである。接続時間(熱および圧力を加える時間)は、温度や圧力に応じて適宜設定すればよいが、通常10秒〜3600秒である。   There is no particular limitation on the connection method when the connection parts are electrically connected using the anisotropic conductive material of the present invention. For example, the temperature at the time of connection is preferably 190 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower, further preferably 150 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and further preferably 120 ° C. or higher. is there. The pressure at the time of connection is usually 1 to 100 MPa. The connection time (time for applying heat and pressure) may be appropriately set according to temperature and pressure, but is usually 10 seconds to 3600 seconds.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を意味する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.
In the following description, “part” means “part by mass” unless otherwise specified.

以下の実施例、比較例において得られた樹脂粒子の各種物性は下記の方法で測定した。
<平均粒子径・変動係数(CV値)>
樹脂粒子が分散した分散液について、動的光散乱粒度分布測定装置(ピーエスエスジャパン社製「NICOMP380」)による測定を行い、体積平均粒子径を求めるとともに、下記式に従って粒子径の変動係数(CV値)を算出した。
粒子径の変動係数(%)=100×(粒子径の標準偏差/体積平均粒子径)
Various physical properties of the resin particles obtained in the following examples and comparative examples were measured by the following methods.
<Average particle size and coefficient of variation (CV value)>
The dispersion in which the resin particles are dispersed is measured by a dynamic light scattering particle size distribution measuring device (“NICOMP 380” manufactured by PS Japan Co., Ltd.) to determine the volume average particle size, and the coefficient of variation (CV) of the particle size according to the following formula: Value).
Variation coefficient of particle diameter (%) = 100 × (standard deviation of particle diameter / volume average particle diameter)

<ガラス転移温度(Tg)>
樹脂粒子が分散した分散液から、遠心分離機にて固液分離した沈降ケーキを取り出し、さらに真空乾燥機にて水分を除去することにより樹脂粒子のみを単離し、これを試料とした。
示差走査熱量計(セイコーインスツルメンツ(株)社製「EXSTAR6000」)を使用し、試料量10mg〜20mg、窒素気流下(流量50mL/分)で、−10℃から200℃まで昇温速度を10℃/分とする条件で試料を昇温し、測定を行った。具体的には、まず、規定のアルミパンに試料を計り取り、レファレンスのアルミパン(試料を入れていないもの)とともに示差走査熱量計の所定の位置にセットし、窒素が規定流量(50mL/分)流れるように調整し、装置が安定した後、1回目の昇温を開始した。−10℃から200℃まで昇温した後、一旦冷却し、次いで1回目と同条件で2回目の昇温を行った。このとき得られたDSC曲線のベースラインシフトをもとに、樹脂粒子のガラス転移温度を算出した。
<Glass transition temperature (Tg)>
From the dispersion liquid in which the resin particles are dispersed, the precipitated cake that has been subjected to solid-liquid separation with a centrifugal separator is taken out, and further, moisture is removed with a vacuum dryer to isolate only the resin particles, and this is used as a sample.
Using a differential scanning calorimeter ("EXSTAR6000" manufactured by Seiko Instruments Inc.), the sample rate is 10 mg to 20 mg under a nitrogen stream (flow rate 50 mL / min), and the heating rate is 10 ° C from -10 ° C to 200 ° C. The sample was heated under the conditions of / min and measured. Specifically, first, a sample is weighed in a specified aluminum pan, and set together with a reference aluminum pan (without a sample) at a predetermined position of a differential scanning calorimeter, and nitrogen is supplied at a specified flow rate (50 mL / min). ) After the flow was adjusted and the apparatus was stabilized, the first temperature increase was started. After the temperature was raised from −10 ° C. to 200 ° C., it was once cooled, and then the second temperature was raised under the same conditions as the first time. Based on the baseline shift of the DSC curve obtained at this time, the glass transition temperature of the resin particles was calculated.

<変形率>
樹脂粒子が分散した分散液から、遠心分離機にて固液分離した沈降ケーキを取り出し、さらに真空乾燥機にて水分を除去することにより樹脂粒子のみを単離し、これを試料とした。
得られた試料(樹脂粒子)約0.5gを精秤し、フローテスタ(島津製作所製「CFT−500」)に備えられている円柱型のシリンダ(内径10mmφ、ダイ穴無し)に充填し、まず0.5MPaの一定荷重下で40℃まで昇温したときの試料の高さh1(mm)を計測した。次いで0.5MPaの一定荷重下で100℃まで昇温したときの高さh2(mm)を計測した。そして、得られた高さh1および高さh2から以下の式に基づき変形率(%)を算出した。
変形率(%)=[(h1−h2)/(H1−H2)]×100
<Deformation rate>
From the dispersion liquid in which the resin particles are dispersed, the precipitated cake that has been subjected to solid-liquid separation with a centrifugal separator is taken out, and further, moisture is removed with a vacuum dryer to isolate only the resin particles, and this is used as a sample.
About 0.5 g of the obtained sample (resin particles) is precisely weighed and filled into a cylindrical cylinder (inner diameter 10 mmφ, no die hole) provided in a flow tester (“CFT-500” manufactured by Shimadzu Corporation) First, the height h1 (mm) of the sample when the temperature was raised to 40 ° C. under a constant load of 0.5 MPa was measured. Subsequently, the height h2 (mm) when the temperature was raised to 100 ° C. under a constant load of 0.5 MPa was measured. Then, the deformation rate (%) was calculated based on the following formula from the obtained height h1 and height h2.
Deformation rate (%) = [(h1-h2) / (H1-H2)] × 100

なお、上記式において、H1は、上記所定量(精秤した質量)の樹脂粒子を上記容器(シリンダ)に六方最密充填(充填率:74%)したときの高さ(mm)であり、式:
H1=(樹脂粒子の全体積/0.74)/容器内部の断面積
により求められる値である。また、H2は、上記所定量(精秤した質量)の樹脂粒子を上記容器(シリンダ)内で完全に溶融させたときの高さ(mm)であり、式:
H2=樹脂粒子の全体積/容器内部の断面積
により求められる値である。ここで、樹脂粒子の全体積は、充填した樹脂粒子の質量を樹脂粒子の比重で除することにより算出でき、容器内部の断面積は、シリンダの内径から算出できる。
In the above formula, H1 is a height (mm) when the predetermined amount (the precisely weighed mass) of resin particles is hexagonally close packed (filling rate: 74%) in the container (cylinder). formula:
H1 = (total volume of resin particles / 0.74) / value obtained from the cross-sectional area inside the container. H2 is the height (mm) when the predetermined amount (the precisely weighed mass) of resin particles is completely melted in the container (cylinder).
H2 = value obtained from the total volume of resin particles / the cross-sectional area inside the container. Here, the total volume of the resin particles can be calculated by dividing the mass of the filled resin particles by the specific gravity of the resin particles, and the cross-sectional area inside the container can be calculated from the inner diameter of the cylinder.

(実施例1)
[樹脂粒子の作製]
攪拌機、温度計および冷却機を備えたステンレス製の反応釜に、脱イオン水820部およびドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.8部(有効成分60質量%;以下「DBSNa」と称する)を加え、内温を75℃まで昇温し、同温度に保った。
他方、上記反応釜とは異なる容器で、メチルメタクリレート(以下「MMA」と称する)180部とポリエチレングリコールジアクリレート(以下「PEGDA」と称する)20部とを混合して、重合性成分の混合物200部を調製した。
Example 1
[Production of resin particles]
To a stainless steel reaction kettle equipped with a stirrer, a thermometer and a cooler, 820 parts of deionized water and 0.8 part of sodium dodecylbenzenesulfonate (active ingredient 60% by mass; hereinafter referred to as “DBSNa”) were added. The temperature was raised to 75 ° C. and kept at the same temperature.
On the other hand, in a container different from the reaction kettle, 180 parts of methyl methacrylate (hereinafter referred to as “MMA”) and 20 parts of polyethylene glycol diacrylate (hereinafter referred to as “PEGDA”) are mixed to obtain a mixture 200 of polymerizable components. Parts were prepared.

上記反応釜内を窒素ガスで置換した後、上記重合性成分の混合物20部(重合性成分総量の10質量%)、0.4質量%過酸化水素水50部、および0.4質量%L−アスコルビン酸水溶液50部を上記反応釜内に添加して、初期重合反応を行った。
次いで、上記重合性成分の混合物の残部(重合性成分総量の90質量%)180部、0.4質量%過酸化水素水450部、および0.4質量%L−アスコルビン酸水溶液450部を、各々異なる投入口より反応釜へ6時間かけて均一に滴下した。その後、内温を90℃まで昇温し、同温度で6時間保持して熟成した後、反応溶液を冷却して、樹脂粒子(1)が分散した樹脂粒子分散液(1)を得た。樹脂粒子(1)の各種物性は表1に示すとおりであった。
After replacing the inside of the reaction kettle with nitrogen gas, 20 parts of the mixture of the polymerizable components (10% by mass of the total amount of the polymerizable components), 50 parts of 0.4% by mass hydrogen peroxide, and 0.4% by mass L -An initial polymerization reaction was carried out by adding 50 parts of an ascorbic acid aqueous solution to the reaction kettle.
Then, 180 parts of the mixture of the polymerizable components (90% by mass of the total polymerizable component), 450 parts by mass of 0.4% by mass hydrogen peroxide water, and 450 parts by mass of 0.4% by mass L-ascorbic acid aqueous solution, It was dripped uniformly into the reaction kettle over 6 hours from different charging ports. Thereafter, the internal temperature was raised to 90 ° C. and held at the same temperature for 6 hours for aging, and then the reaction solution was cooled to obtain a resin particle dispersion (1) in which the resin particles (1) were dispersed. Various physical properties of the resin particles (1) were as shown in Table 1.

[導電性粒子の作製]
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、界面活性剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製「ハイテノール(登録商標)NF−08」)2部を脱イオン水に溶解した水溶液150部を仕込んだ。次いで、予め調製しておいたジビニルベンゼン(有効成分81質量%、以下「DVB」と称する)45部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート50部およびメタクリル酸5部からなる混合物と、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製「V−65」)2部とを添加し、乳化分散させて、懸濁液を調製した。得られた懸濁液に、さらに脱イオン水250部を加え、窒素雰囲気下で65℃まで昇温し、同温度で2時間保持して、ラジカル重合を行った。
[Preparation of conductive particles]
Polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt (Daiichi Kogyo Seiyaku "Hitenol (registered trademark) NF-08") as a surfactant in a four-necked flask equipped with a condenser, thermometer, and dripping port ) 150 parts of an aqueous solution prepared by dissolving 2 parts in deionized water. Then, a mixture of 45 parts of divinylbenzene (active ingredient 81% by mass, hereinafter referred to as “DVB”), 50 parts of 1,6-hexanediol diacrylate and 5 parts of methacrylic acid prepared in advance, and a polymerization initiator 2 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (“V-65” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and emulsified and dispersed to prepare a suspension. To the obtained suspension, 250 parts of deionized water was further added, the temperature was raised to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere, and the mixture was held at the same temperature for 2 hours to perform radical polymerization.

次に、ラジカル重合で得られた乳濁液を固液分離し、得られたケーキを脱イオン水で洗浄し、続いてメタノールで洗浄し、さらに分級操作を行った後、窒素雰囲気下120℃で2時間真空乾燥して、ビニル重合体粒子を得た。この重合体粒子の粒子径を粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製「コールターマルチサイザーIII型」)により測定したところ、個数平均粒子径は2.5μm、変動係数は3.9%であった。   Next, the emulsion obtained by radical polymerization is subjected to solid-liquid separation, and the obtained cake is washed with deionized water, subsequently washed with methanol, and further subjected to a classification operation, followed by 120 ° C. in a nitrogen atmosphere. And vacuum drying for 2 hours to obtain vinyl polymer particles. When the particle size of the polymer particles was measured with a particle size distribution analyzer (“Coulter Multisizer III type” manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the number average particle size was 2.5 μm and the variation coefficient was 3.9%.

上記重合体粒子を基材粒子として、該基材粒子に二塩化スズ(SnCl)溶液によるセンシタイジングを施し、続いて二塩化パラジウム(PdCl)溶液によるアクチベーションを行い、基材粒子表面にPd核を形成した。このようにしてPd核を形成した粒子を無電解ニッケルめっき浴に浸漬することにより粒子表面にNiめっきを施し、次いで、得られた粒子のニッケル層表面にさらに置換めっきにより金めっきを施して、金属層の膜厚が0.1μmであり、個数平均粒子径が2.7μmである導電性粒子(1)を得た。 Using the polymer particles as base particles, the base particles are sensitized with a tin dichloride (SnCl 2 ) solution and subsequently activated with a palladium dichloride (PdCl 2 ) solution. Pd nuclei were formed. By soaking the particles in which the Pd nuclei are formed in an electroless nickel plating bath, Ni particles are applied to the surface of the particles, and then the nickel layer surface of the obtained particles is further subjected to gold plating by displacement plating, Conductive particles (1) having a metal layer thickness of 0.1 μm and a number average particle diameter of 2.7 μm were obtained.

なお、本明細書の実施例において、導電性粒子の個数平均粒子径、金属層の膜厚は、以下のようにして測定し算出した。
導電性粒子の個数平均粒子径:フロー式粒子像解析装置(シスメックス社製「FPIA−3000」)により測定し、個数基準の平均粒子径を導電性粒子の個数平均粒子径とした。
金属層の膜厚:基材粒子に用いる重合体粒子の個数平均粒子径を上述のフロー式粒子像解析装置により測定し、得られた個数平均粒子径と上述の測定により得られた導電性粒子の個数平均粒子径との差分の1/2を金属層の膜厚とした。
In the examples of the present specification, the number average particle diameter of the conductive particles and the film thickness of the metal layer were measured and calculated as follows.
Number average particle diameter of conductive particles: measured by a flow type particle image analyzer (“FPIA-3000” manufactured by Sysmex Corporation), and the average particle diameter based on the number was defined as the number average particle diameter of the conductive particles.
Film thickness of the metal layer: The number average particle diameter of the polymer particles used for the base particles is measured by the above flow type particle image analyzer, and the obtained number average particle diameter and the conductive particles obtained by the above measurement 1/2 of the difference from the number average particle diameter was taken as the film thickness of the metal layer.

[絶縁化導電性粒子の作製]
樹脂粒子分散液(1)を、粒子濃度が5.0質量%になるように脱イオン水で希釈した。得られた樹脂粒子分散液100部に導電性粒子(1)50部を加え、均一に分散させた後、エバポレーターで水を留去して、導電性粒子の表面を樹脂粒子で被覆した絶縁化導電性粒子(1)を得た。
[Preparation of insulated conductive particles]
The resin particle dispersion (1) was diluted with deionized water so that the particle concentration was 5.0% by mass. After adding 50 parts of conductive particles (1) to 100 parts of the obtained resin particle dispersion and dispersing uniformly, water is distilled off with an evaporator, and the surface of the conductive particles is covered with resin particles. Conductive particles (1) were obtained.

[異方性導電材料の作製]
絶縁化導電性粒子(1)20部、バインダー樹脂としてエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「YL980」)65部、エポキシ硬化剤(旭化成社製「ノバキュア(登録商標)HX3941HP」)35部、および1mmφのジルコニアビーズ200部を混合し、30分間ビーズミル分散を行い、異方性導電材料として異方性導電接着剤(1)を得た。
[Production of anisotropic conductive material]
Insulated conductive particles (1) 20 parts, epoxy resin (“YL980” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 65 parts, epoxy curing agent (“Novacure (registered trademark) HX3941HP” manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) 35 parts, and 1 mmφ 200 parts of zirconia beads were mixed and subjected to bead mill dispersion for 30 minutes to obtain an anisotropic conductive adhesive (1) as an anisotropic conductive material.

得られた異方性導電接着剤を用いて導電接続構造体を作製し、下記の評価を行った。結果を表1に示す。
導電接続構造体の作製は、まず、離型フィルム(シリコーン樹脂またはフッ素樹脂により片面に離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム)の離型処理面に、乾燥厚みが25μmとなるように異方性導電接着剤を塗布することにより接着層を形成して、離型フィルムの片面に接着剤層を備えた異方性導電シートを作製した。
次に、得られた異方性導電シートから離型フィルムを剥がし、接着剤層のみを、150μm幅のパターンを有するITO透明電極膜が内面に形成された2枚のITO付きガラス基板の間に挟み、5MPa、185℃で15秒間加熱加圧して、導電接続構造体を得た。
A conductive connection structure was prepared using the obtained anisotropic conductive adhesive, and the following evaluation was performed. The results are shown in Table 1.
The production of the conductive connection structure is first anisotropic so that the release thickness of the release film (polyethylene terephthalate film that has been subjected to release treatment on one side with silicone resin or fluororesin) is 25 μm. The anisotropic conductive sheet which formed the contact bonding layer by apply | coating a conductive conductive adhesive, and was equipped with the adhesive bond layer on the single side | surface of the release film was produced.
Next, the release film is peeled from the obtained anisotropic conductive sheet, and only the adhesive layer is placed between two ITO-attached glass substrates on which an ITO transparent electrode film having a 150 μm wide pattern is formed on the inner surface. The conductive connection structure was obtained by heating and pressurizing at 5 MPa and 185 ° C. for 15 seconds.

<導通性>
導電接続構造体を測定試料として、対向する電極間の導通抵抗を四端子法により測定した。n=50で測定を行い、抵抗値が20Ω以下となった割合(%)を求めた。
<Conductivity>
Using the conductive connection structure as a measurement sample, the conduction resistance between the opposing electrodes was measured by the four-terminal method. Measurement was performed at n = 50, and the ratio (%) at which the resistance value was 20Ω or less was determined.

<絶縁性>
導電接続構造体を測定試料として、隣接する電極間の絶縁抵抗を四端子法により測定した。n=50で測定を行い、抵抗値が1000MΩ以上となった割合(%)を求めた。
<Insulation>
Using the conductive connection structure as a measurement sample, the insulation resistance between adjacent electrodes was measured by the four-terminal method. The measurement was performed at n = 50, and the ratio (%) at which the resistance value was 1000 MΩ or more was obtained.

(実施例2)
実施例1の[樹脂粒子の作製]において、重合性成分の混合物を調製するにあたり、MMA180部とトリメチロールプロパントリアクリレートの6モルエチレンオキサイド付加物(以下「TMP−6EO−3A」と称する)20部とを混合したこと以外は実施例1と同様にして、樹脂粒子(2)が分散した樹脂粒子分散液(2)を得た。樹脂粒子(2)の各種物性は表1に示すとおりであった。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、樹脂粒子分散液(1)に代えて樹脂粒子分散液(2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(2)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(2)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 2)
In the preparation of the resin component in Example 1 [Preparation of resin particles], 180 parts of MMA and a 6-mole ethylene oxide adduct of trimethylolpropane triacrylate (hereinafter referred to as “TMP-6EO-3A”) 20 A resin particle dispersion (2) in which the resin particles (2) are dispersed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the parts were mixed. Various physical properties of the resin particles (2) were as shown in Table 1.
Next, in Example 1 [Production of insulated conductive particles], the insulated conductive film was used in the same manner as in Example 1 except that the resin particle dispersion liquid (2) was used instead of the resin particle dispersion liquid (1). Conductive particles (2) were obtained, and in Example 1 [Production of anisotropic conductive material], the insulated conductive particles (2) were used instead of the insulated conductive particles (1). In the same manner as in Example 1, an anisotropic conductive adhesive (2) was obtained.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
実施例1の[導電性粒子の作製]において、界面活性剤として用いたポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩の使用量を2部から5部に変更したこと以外は実施例1と同様にして、重合体粒子を得た。この重合体粒子の粒子径を粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製「コールターマルチサイザーIII型」)により測定したところ、個数平均粒子径は1.8μm、変動係数は4.2%であった。この重合体粒子を基材粒子として用いたこと以外は実施例1と同様にして、金属層の膜厚が0.1μmであり、個数平均粒子径が2.0μmである導電性粒子(3)を得た。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、導電性粒子(1)に代えて導電性粒子(3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(3)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(3)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 3)
The same as Example 1 except that the amount of polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate ammonium salt used as the surfactant in [Production of conductive particles] in Example 1 was changed from 2 parts to 5 parts. Thus, polymer particles were obtained. When the particle size of the polymer particles was measured with a particle size distribution analyzer (“Coulter Multisizer III type” manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the number average particle size was 1.8 μm and the coefficient of variation was 4.2%. Conductive particles (3) having a metal layer thickness of 0.1 μm and a number average particle diameter of 2.0 μm, as in Example 1, except that the polymer particles were used as base particles. Got.
Then, in [Production of insulated conductive particles] in Example 1, insulated conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the conductive particles (3) were used instead of the conductive particles (1). Example 3 was obtained, except that the insulated conductive particles (3) were used instead of the insulated conductive particles (1) in Example 1 [Production of anisotropic conductive material]. In the same manner, an anisotropic conductive adhesive (3) was obtained.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
実施例1の[樹脂粒子の作製]において、重合性成分の混合物を調製するにあたり、MMA160部とDVB40部とを混合したこと以外は実施例1と同様にして、比較用の樹脂粒子(C1)が分散した樹脂粒子分散液(C1)を得た。樹脂粒子(C1)の各種物性は表1に示すとおりであった。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、樹脂粒子分散液(1)に代えて樹脂粒子分散液(C1)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(C1)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(C1)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(C1)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
Resin particles for comparison (C1) in the same manner as in Example 1 except that MMA 160 parts and DVB 40 parts were mixed in preparing the mixture of polymerizable components in [Production of resin particles] in Example 1. A resin particle dispersion (C1) in which was dispersed was obtained. Various physical properties of the resin particles (C1) were as shown in Table 1.
Next, in Example 1 [Production of insulated conductive particles], the insulated conductive film was used in the same manner as in Example 1 except that the resin particle dispersion liquid (C1) was used instead of the resin particle dispersion liquid (1). Conductive particles (C1) were obtained, and in Example 1 [Production of anisotropic conductive material], the insulated conductive particles (C1) were used in place of the insulated conductive particles (1). An anisotropic conductive adhesive (C1) was obtained in the same manner as in Example 1.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
実施例1の[樹脂粒子の作製]において、重合性成分の混合物を調製するにあたり、MMA190部とDVB10部とを混合したこと以外は実施例1と同様にして、比較用の樹脂粒子(C2)が分散した樹脂粒子分散液(C2)を得た。樹脂粒子(C2)の各種物性は表1に示すとおりであった。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、樹脂粒子分散液(1)に代えて樹脂粒子分散液(C2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(C2)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(C2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(C2)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
Resin particles for comparison (C2) in the same manner as in Example 1 except that MMA 190 parts and DVB 10 parts were mixed in preparing the mixture of polymerizable components in [Production of resin particles] in Example 1. A resin particle dispersion (C2) in which was dispersed was obtained. Various physical properties of the resin particles (C2) were as shown in Table 1.
Then, in [Production of insulated conductive particles] in Example 1, insulated conductive material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin particle dispersion (C2) was used instead of the resin particle dispersion (1). Conductive particles (C2) were obtained, and in Example 1 [Production of anisotropic conductive material], the insulated conductive particles (C2) were used in place of the insulated conductive particles (1). In the same manner as in Example 1, an anisotropic conductive adhesive (C2) was obtained.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
実施例1の[樹脂粒子の作製]において、重合性成分の混合物を調製するにあたり、MMA198部とDVB2部とを混合したこと以外は実施例1と同様にして、比較用の樹脂粒子(C3)が分散した樹脂粒子分散液(C3)を得た。樹脂粒子(C3)の各種物性は表1に示すとおりであった。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、樹脂粒子分散液(1)に代えて樹脂粒子分散液(C3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(C3)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(C3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(C3)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
Resin particles for comparison (C3) in the same manner as in Example 1 except that 198 parts of MMA and 2 parts of DVB were mixed in preparing the mixture of polymerizable components in [Production of resin particles] in Example 1. A resin particle dispersion (C3) in which was dispersed was obtained. Various physical properties of the resin particles (C3) were as shown in Table 1.
Then, in [Production of insulated conductive particles] of Example 1, insulated conductive material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin particle dispersion (C3) was used instead of the resin particle dispersion (1). Conductive particles (C3) were obtained, and in Example 1 [Production of anisotropic conductive material], the insulated conductive particles (C3) were used in place of the insulated conductive particles (1). In the same manner as in Example 1, an anisotropic conductive adhesive (C3) was obtained.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

(比較例4)
実施例1の[樹脂粒子の作製]において、重合性成分の混合物を調製するにあたり、MMA198部とエチレングリコールジメタクリレート2部とを混合したこと以外は実施例1と同様にして、比較用の樹脂粒子(C4)が分散した樹脂粒子分散液(C4)を得た。樹脂粒子(C4)の各種物性は表1に示すとおりであった。
次いで、実施例1の[絶縁化導電性粒子の作製]において、樹脂粒子分散液(1)に代えて樹脂粒子分散液(C4)を用いたこと以外は実施例1と同様にして絶縁化導電性粒子(C4)を得、さらに実施例1の[異方性導電材料の作製]において、絶縁化導電性粒子(1)に代えて絶縁化導電性粒子(C4)を用いたこと以外は実施例1と同様にして異方性導電接着剤(C4)を得た。
得られた異方性導電接着剤について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
Resin for comparison in the same manner as in Example 1 except that 198 parts of MMA and 2 parts of ethylene glycol dimethacrylate were mixed in preparing the mixture of polymerizable components in [Production of resin particles] in Example 1. A resin particle dispersion (C4) in which the particles (C4) were dispersed was obtained. Various physical properties of the resin particles (C4) were as shown in Table 1.
Next, in Example 1 [Production of insulated conductive particles], the insulated conductive film was used in the same manner as in Example 1 except that the resin particle dispersion (C4) was used instead of the resin particle dispersion (1). Conductive particles (C4) were obtained, and in Example 1 [Production of anisotropic conductive material], the insulated conductive particles (C4) were used in place of the insulated conductive particles (1). An anisotropic conductive adhesive (C4) was obtained in the same manner as in Example 1.
Evaluation similar to Example 1 was performed about the obtained anisotropic conductive adhesive. The results are shown in Table 1.

Figure 0005498907
Figure 0005498907

表1から、本発明にかかる特定多価(メタ)アクリレートで構成される実施例1〜3の樹脂粒子は、低Tgでありながら変形率が低いものであることが分かる。かかる樹脂粒子はTgが低いので、導電性粒子に対して良好な密着性を発現することができ、しかも変形率が低いので、導電性粒子の表面に存在させた状態で5MPaという高圧条件で熱圧着しても変形し難く、結果として、対向する電極間の導通性は良好に保ちつつ横導通を確実に抑制することができた。   From Table 1, it can be seen that the resin particles of Examples 1 to 3 composed of the specific polyvalent (meth) acrylate according to the present invention have low Tg and low deformation rate. Since such resin particles have a low Tg, they can exhibit good adhesion to the conductive particles and have a low deformation rate. Therefore, the resin particles are heated under a high pressure condition of 5 MPa while being present on the surface of the conductive particles. Even if it is crimped, it is difficult to be deformed. As a result, it was possible to reliably suppress lateral conduction while maintaining good conductivity between the opposing electrodes.

Claims (10)

導電性粒子の表面に存在して該導電性粒子を絶縁するための樹脂粒子であって、少なくともアルキル(メタ)アクリレートと多価(メタ)アクリレートとを必須とする重合性成分の共重合物を含み、前記多価(メタ)アクリレートは各(メタ)アクリル基が互いに3個以上の炭素原子を介して結合したものであり、(A)炭素数3以上のアルカンジオールから得られるジ(メタ)アクリレート、(B)ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートおよび(C)アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群より選ばれる1種以上であり、該多価(メタ)アクリレートの含有割合が重合性成分の総量に対して5質量%以上であることを特徴とする樹脂粒子。 A resin particle which is present on the surface of conductive particles and insulates the conductive particles, and is a copolymer of a polymerizable component which essentially contains at least alkyl (meth) acrylate and polyvalent (meth) acrylate. wherein the polyvalent (meth) acrylates, each (meth) all SANYO acrylic group is bonded through three or more carbon atoms from each other, di- obtained from (a) having 3 or more alkanediol carbon ( It is at least one selected from the group consisting of (meth) acrylate, (B) polyalkylene glycol di (meth) acrylate and (C) alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate, and the content ratio of the polyvalent (meth) acrylate is resin particles, characterized in der Rukoto 5 wt% or more based on the total amount of the polymerizable components. 前記(A)炭素数3以上のアルカンジオールから得られるジ(メタ)アクリレートは、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレートおよび2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上である、請求項に記載の樹脂粒子。 The di (meth) acrylate obtained from the (A) alkanediol having 3 or more carbon atoms is 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonane. One or more selected from the group consisting of diol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate and 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, The resin particle according to claim 1 . 前記(B)ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートは、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレートおよびポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる1種以上である、請求項に記載の樹脂粒子。 The (B) polyalkylene glycol di (meth) acrylate is polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) di (meth) acrylates, poly (propylene glycol - tetramethylene glycol) di (meth) acrylate and polyethylene glycol - polypropylene glycol - is polyethylene glycol di (meth) one or more selected from the group consisting of acrylate, according to claim 1 Resin particles. 前記(C)アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートは、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートおよびプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレートからなる群より選ばれる1種以上である、請求項に記載の樹脂粒子。 The resin according to claim 1 , wherein the (C) alkylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate is at least one selected from the group consisting of ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate and propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate. particle. ガラス転移温度(Tg)が180℃以下である、請求項1〜のいずれかに記載の樹脂粒子。 The resin particles according to any one of claims 1 to 4 , wherein the glass transition temperature (Tg) is 180 ° C or lower. 下記測定方法で求められる変形率が60%以下である、請求項1〜のいずれかに記載の樹脂粒子。
変形率の測定方法:所定量の樹脂粒子を円柱型容器に充填し、まず0.5MPaの一定荷重下で40℃まで昇温したときの高さh1を計測し、次いで0.5MPaの一定荷重下で100℃まで昇温したときの高さh2を計測し、得られた高さh1および高さh2から以下の式に基づき変形率(%)を算出する。
変形率(%)=[(h1−h2)/(H1−H2)]×100
ここで、H1は、上記所定量の樹脂粒子を上記容器に六方最密充填(充填率:74%)したときの高さであり、式:H1=(樹脂粒子の全体積/0.74)/容器内部の断面積、で求められ、
H2は、上記所定量の樹脂粒子を上記容器内で完全に溶融させたときの高さであり、式:H2=樹脂粒子の全体積/容器内部の断面積、で求められる。
The resin particle according to any one of claims 1 to 5 , wherein a deformation rate obtained by the following measurement method is 60% or less.
Deformation rate measuring method: A predetermined amount of resin particles are filled into a cylindrical container, and the height h1 is first measured when the temperature is raised to 40 ° C. under a constant load of 0.5 MPa, and then a constant load of 0.5 MPa. The height h2 when the temperature is raised to 100 ° C. is measured below, and the deformation rate (%) is calculated from the obtained height h1 and height h2 based on the following formula.
Deformation rate (%) = [(h1-h2) / (H1-H2)] × 100
Here, H1 is the height when the container is filled with the predetermined amount of resin particles in the hexagonal closest packing (filling ratio: 74%), and the formula: H1 = (total volume of resin particles / 0.74) / The cross-sectional area inside the container,
H2 is the height when the predetermined amount of the resin particles are completely melted in the container, and is determined by the formula: H2 = total volume of resin particles / cross-sectional area inside the container.
平均粒子径が500nm以下であり、その変動係数が50%以下である、請求項1〜のいずれかに記載の樹脂粒子。 The resin particles according to any one of claims 1 to 6 , having an average particle diameter of 500 nm or less and a coefficient of variation of 50% or less. 導電性粒子の表面の少なくとも一部に請求項1〜のいずれかに記載の樹脂粒子が存在してなることを特徴とする絶縁化導電性粒子。 Insulated conductive particles, wherein the resin particles according to any one of claims 1 to 7 are present on at least a part of the surface of the conductive particles. 前記導電性粒子の平均粒子径が11μm以下である、請求項に記載の絶縁化導電性粒子。 The insulated conductive particles according to claim 8 , wherein the conductive particles have an average particle diameter of 11 μm or less. 請求項8または9に記載の絶縁化導電性粒子がバインダー樹脂に分散してなることを特徴とする異方性導電材料。 An anisotropic conductive material, wherein the insulated conductive particles according to claim 8 or 9 are dispersed in a binder resin.
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