JP5487616B2 - I / O cell output circuit - Google Patents

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Description

この発明は、I/Oセルの出力回路に関するものである。   The present invention relates to an output circuit of an I / O cell.

近年、半導体記憶装置は動作速度の高速化、記憶容量の大容量化及び回路素子の微細化が進んでいる。そして、このような半導体記憶装置のI/Oセルにおいては、微細化にともなう特性のばらつきが生じやすくなっている。   In recent years, semiconductor memory devices have been increased in operating speed, increased storage capacity, and circuit elements. In such an I / O cell of a semiconductor memory device, variations in characteristics due to miniaturization are likely to occur.

図13は、I/Oセルの一例を示す。パッド1と高電位側電源VDEとの間には、抵抗R1とPチャネルMOSトランジスタで構成されるプルアップ側出力トランジスタT1が接続され、パッド1とグランドGNDとの間には、抵抗R2とNチャネルMOSトランジスタで構成されるプルダウン側出力トランジスタT2が接続される。また、パッド1には抵抗R3を介して入力回路2が接続される。   FIG. 13 shows an example of an I / O cell. A pull-up side output transistor T1 composed of a resistor R1 and a P-channel MOS transistor is connected between the pad 1 and the high potential side power supply VDE. Between the pad 1 and the ground GND, resistors R2 and N A pull-down output transistor T2 composed of a channel MOS transistor is connected. The input circuit 2 is connected to the pad 1 via a resistor R3.

このようなI/Oセルでは、出力モード時には出力トランジスタT1,T2のいずれかがオンされて、パッド1からHレベル若しくはLレベルの出力信号が出力される。このとき、抵抗R1,R2は、ダンピング抵抗として作用して、出力信号に含まれるノイズを低減する。   In such an I / O cell, in the output mode, one of the output transistors T1 and T2 is turned on, and an output signal of H level or L level is output from the pad 1. At this time, the resistors R1 and R2 act as damping resistors to reduce noise included in the output signal.

入力モード時には、パッド1に入力される入力信号が入力回路2を介して内部回路に供給される。このとき、例えば出力トランジスタT1,T2のいずれかがオンされ、あるいはともにオンされて、抵抗R1,R2はパッド1に所要の電位を供給する終端抵抗として作用する。   In the input mode, an input signal input to the pad 1 is supplied to the internal circuit via the input circuit 2. At this time, for example, one of the output transistors T1 and T2 is turned on, or both are turned on, and the resistors R1 and R2 function as termination resistors for supplying a required potential to the pad 1.

近年の微細化された半導体記憶装置では、上記のようなI/Oセルの微細化にともなってパッド1と出力トランジスタT1,T2との間の配線長の差が、出力特性に大きな影響を及ぼすようになっている。
特開2004−327602号公報 特開平11−177022号公報 特開2004−146485号公報
In recent miniaturized semiconductor memory devices, the difference in wiring length between the pad 1 and the output transistors T1 and T2 greatly affects the output characteristics as the I / O cell is miniaturized as described above. It is like that.
JP 2004-327602 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-177022 JP 2004-146485 A

微細化されたI/Oセルでは、パッド1と出力トランジスタT1,T2との間の配線長に差があると、配線抵抗あるいは寄生容量に差が生じる。そして、配線抵抗あるいは寄生容量の差が出力信号の立上り及び立下り速度にばらつきを生じさせ、出力特性を劣化させる原因となっている。   In a miniaturized I / O cell, if there is a difference in wiring length between the pad 1 and the output transistors T1 and T2, a difference in wiring resistance or parasitic capacitance occurs. The difference in wiring resistance or parasitic capacitance causes variations in the rising and falling speeds of the output signal, which causes the output characteristics to deteriorate.

特許文献1には、出力バッファ回路のレイアウトが開示されている(図17参照)。この出力バッファ回路では、パッドとPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタとの間に抵抗がレイアウトされている。   Patent Document 1 discloses a layout of an output buffer circuit (see FIG. 17). In this output buffer circuit, resistors are laid out between the pad and the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor.

従って、パッドと各出力トランジスタとの間の配線長に差が生じるため、上記問題点を解決することはできない。
特許文献2には、出力トランジスタを構成するPチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタの間に抵抗をレイアウトした出力バッファ回路が開示されている。しかし、PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタの間にパッドがレイアウトされ、PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタとの間隔が大きくなるため、レイアウト面積が増大する。
Therefore, a difference occurs in the wiring length between the pad and each output transistor, so that the above problem cannot be solved.
Patent Document 2 discloses an output buffer circuit in which resistors are laid out between a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor that constitute an output transistor. However, a pad is laid out between the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor, and the interval between the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor is increased, so that the layout area is increased.

特許文献3には、パッドに出力バッファ回路と終端抵抗回路とが並列に接続された半導体装置が開示されている。しかし、この半導体装置では、出力バッファ回路と終端抵抗回路が独立してレイアウトされるので、レイアウト面積が増大する。また、終端抵抗回路において、パッドとPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタとの間にそれぞれ抵抗がレイアウトされているが、パッドからPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタまでの配線長を等しくするための構成は開示されていない。   Patent Document 3 discloses a semiconductor device in which an output buffer circuit and a termination resistor circuit are connected in parallel to a pad. However, in this semiconductor device, since the output buffer circuit and the termination resistor circuit are laid out independently, the layout area increases. In the termination resistor circuit, resistors are laid out between the pad and the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor, respectively, but in order to make the wiring length from the pad to the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor equal. The configuration of is not disclosed.

この発明の目的は、終端抵抗若しくはダンピング抵抗として機能する抵抗を備えた出力バッファ回路の出力特性と面積効率を向上させることにある。   An object of the present invention is to improve output characteristics and area efficiency of an output buffer circuit having a resistor that functions as a termination resistor or a damping resistor.

上記目的は、プルアップ側トランジスタと、プルダウン側トランジスタとを有し、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードは、それぞれ抵抗及び配線を介してパッドに接続され、前記各抵抗が形成される領域の両側に複数の領域が相対向するようにレイアウトされ、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタがレイアウトされるとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタがレイアウトされ、前記複数の領域の外側に前記パッドがレイアウトされ、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線が等長であるI/Oセルの出力回路により達成される。 The object is to have a pull-up side transistor and a pull-down side transistor, and the output nodes of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor are connected to pads via resistors and wires, respectively, and the respective resistors are formed. A plurality of regions are laid out on opposite sides of the region, the pull-up transistor is laid out in one of the regions, and the pull-down transistor is laid out in the other region. The pad is laid out outside the region, and is achieved by an output circuit of an I / O cell in which wirings between the output nodes of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and the resistors are of equal length .

開示されたI/Oセルの出力回路では、終端抵抗若しくはダンピング抵抗として機能する抵抗を備えた出力バッファ回路の出力特性と面積効率を向上させることができる。   In the output circuit of the disclosed I / O cell, output characteristics and area efficiency of an output buffer circuit including a resistor that functions as a termination resistor or a damping resistor can be improved.

(第一の実施形態)
図1は、この発明を具体化した出力バッファ回路を示す。プルアップ側の出力トランジスタT11はPチャネルMOSトランジスタで構成され、その出力トランジスタT11のソースは電源VDEに接続され、ドレイン(出力ノード)は配線L1、抵抗R11、配線L2,L3を介してパッド11に接続される。
(First embodiment)
FIG. 1 shows an output buffer circuit embodying the present invention. The output transistor T11 on the pull-up side is composed of a P-channel MOS transistor, the source of the output transistor T11 is connected to the power supply VDE, and the drain (output node) is the pad 11 via the wiring L1, the resistor R11, and the wirings L2, L3. Connected to.

プルダウン側の出力トランジスタT12はNチャネルMOSトランジスタで構成され、その出力トランジスタT12のソースはグランドGNDに接続され、ドレイン(出力ノード)は配線L5、抵抗R12、配線L4,L3を介して前記パッド11に接続される。前記出力トランジスタT11,T12は、実際には多数のトランジスタを並列に接続して構成される。そして、出力トランジスタT11,T12は、そのゲートに入力される駆動信号dv1,dv2により、そのオン・オフ動作が制御される。   The pull-down output transistor T12 is composed of an N-channel MOS transistor, the source of the output transistor T12 is connected to the ground GND, and the drain (output node) is connected to the pad 11 via the wiring L5, the resistor R12, and the wirings L4 and L3. Connected to. The output transistors T11 and T12 are actually configured by connecting a number of transistors in parallel. The on / off operations of the output transistors T11 and T12 are controlled by the drive signals dv1 and dv2 input to the gates thereof.

図2は、前記出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11,T12は、それぞれ拡散領域12,13上に多数のゲート電極14が並設されて多数のトランジスタで構成される。   FIG. 2 shows an element layout of the output buffer circuit. The output transistors T11 and T12 are constituted by a large number of transistors in which a large number of gate electrodes 14 are arranged in parallel on the diffusion regions 12 and 13, respectively.

前記パッド11は、前記拡散領域12に隣接してレイアウトされ、前記抵抗R11,R12は拡散領域12,13に形成される各出力トランジスタT11,T12に対応する位置に交互にレイアウトされる。   The pad 11 is laid out adjacent to the diffusion region 12, and the resistors R11 and R12 are laid out alternately at positions corresponding to the output transistors T11 and T12 formed in the diffusion regions 12 and 13, respectively.

詳述すると、抵抗R11,R12は出力トランジスタT11,T12間で、前記拡散領域12,13の長手方向と直交する方向を長手方向とする矩形状にレイアウトされ、抵抗R11,R12が交互にレイアウトされる。そして、図3及び図4に示すように、抵抗R11,R12は基板15上にレイアウトされるポリシリコン層で形成される。   More specifically, the resistors R11 and R12 are laid out in a rectangular shape with the direction perpendicular to the longitudinal direction of the diffusion regions 12 and 13 as the longitudinal direction between the output transistors T11 and T12, and the resistors R11 and R12 are alternately laid out. The 3 and 4, the resistors R11 and R12 are formed of a polysilicon layer laid out on the substrate 15.

前記パッド11は前記配線L3,L2を介して抵抗R11の一端部に接続される。図4に示すように、前記配線L3は第四層の配線で形成され、前記配線L2は第三層の配線で形成される。   The pad 11 is connected to one end of the resistor R11 through the wirings L3 and L2. As shown in FIG. 4, the wiring L3 is formed of a fourth layer wiring, and the wiring L2 is formed of a third layer wiring.

そして、基板15から第四層配線までをそれぞれコンタクト16a〜16cで接続する構成とすると、パッド11は第二及び第三の配線層と各配線層を接続するコンタクト16a〜16cを介して配線L3に接続される。また、配線L3と配線L2とはコンタクト16cを介して接続され、配線L2と抵抗R11とはコンタクト16b、第二層配線及びコンタクト16aを介して接続される。   When the substrate 15 to the fourth layer wiring are connected by the contacts 16a to 16c, the pad 11 is connected to the wiring L3 via the contacts 16a to 16c that connect the second and third wiring layers to each wiring layer. Connected to. The wiring L3 and the wiring L2 are connected through a contact 16c, and the wiring L2 and the resistor R11 are connected through a contact 16b, a second layer wiring, and a contact 16a.

前記抵抗R11の他端部は配線L1を介して前記出力トランジスタT11のドレインに接続される。前記配線L1は、図4に示すように第三層配線で形成され、その両端部が第二層配線及びコンタクト16b,16aを介して抵抗R11と出力トランジスタT11に接続される。   The other end of the resistor R11 is connected to the drain of the output transistor T11 via a wiring L1. The wiring L1 is formed of a third layer wiring as shown in FIG. 4, and both ends thereof are connected to the resistor R11 and the output transistor T11 via the second layer wiring and contacts 16b and 16a.

また、前記パッド11は前記配線L3,L4を介して抵抗R12の一端部に接続される。図3に示すように、前記配線L4は第三層の配線で形成される。
そして、配線L3と配線L4とはコンタクト16cを介して接続され、配線L4と抵抗R12とはコンタクト16b、第二層配線及びコンタクト16aを介して接続される。
The pad 11 is connected to one end of the resistor R12 through the wirings L3 and L4. As shown in FIG. 3, the wiring L4 is formed of a third layer wiring.
The wiring L3 and the wiring L4 are connected through the contact 16c, and the wiring L4 and the resistor R12 are connected through the contact 16b, the second layer wiring, and the contact 16a.

前記抵抗R12の他端部は配線L5を介して前記出力トランジスタT12のドレインに接続される。前記配線L5は、図3に示すように第三層配線で形成され、その両端部が第二層配線及びコンタクト16b,16aを介して抵抗R12と出力トランジスタT12に接続される。   The other end of the resistor R12 is connected to the drain of the output transistor T12 via a wiring L5. The wiring L5 is formed of a third layer wiring as shown in FIG. 3, and both ends thereof are connected to the resistor R12 and the output transistor T12 via the second layer wiring and contacts 16b and 16a.

図2〜図4に示すように、上記各配線L1〜L5のうち、配線L1,L5は等長に形成され、配線L2,L4も等長に形成されている。また、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長の総和はL3+L2+L1であり、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長の総和はL3+L4+L5である。   As shown in FIGS. 2 to 4, among the wirings L1 to L5, the wirings L1 and L5 are formed to have the same length, and the wirings L2 and L4 are also formed to have the same length. The total wiring length from the pad 11 to the output transistor T11 is L3 + L2 + L1, and the total wiring length from the pad 11 to the output transistor T12 is L3 + L4 + L5.

従って、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長は等しくなる。
上記のような出力バッファ回路では、その出力モード時には駆動信号dv1,dv2により出力トランジスタT11,T12が交互にオンされる。そして、出力トランジスタT11がオンされると、出力パッド11からHレベルの出力信号が出力され、出力トランジスタT12がオンされると、出力パッド11からLレベルの出力信号が出力される。このとき、抵抗R11,R12は出力信号のノイズを低減するダンピング抵抗として動作する。
Accordingly, the wiring length from the pad 11 to the output transistor T11 is equal to the wiring length from the pad 11 to the output transistor T12.
In the output buffer circuit as described above, the output transistors T11 and T12 are alternately turned on by the drive signals dv1 and dv2 in the output mode. When the output transistor T11 is turned on, an H level output signal is output from the output pad 11, and when the output transistor T12 is turned on, an L level output signal is output from the output pad 11. At this time, the resistors R11 and R12 operate as damping resistors that reduce noise in the output signal.

また、入力モード時には、出力トランジスタT11,T12のいずれか一方、若しくは両方をオンさせる。すると、抵抗R11,R12はパッド11を高電位側電源VDEレベル、グランドGNDレベル若しくは高電位側電源VDEとグランドGNDとの中間レベルのいずれかに保持する終端抵抗として動作する。 そして、このような出力バッファ回路が入出力ビット数に応じて多数設けられる。   In the input mode, one or both of the output transistors T11 and T12 are turned on. Then, the resistors R11 and R12 operate as termination resistors that hold the pad 11 at any one of the high potential side power supply VDE level, the ground GND level, or the intermediate level between the high potential side power supply VDE and the ground GND. A large number of such output buffer circuits are provided according to the number of input / output bits.

図5は、上記のような出力バッファ回路の出力信号の立上り波形及び立下り波形を示す。同図に示す立上り波形p1〜p3と立下り波形n1〜n3は、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とした場合を示す。   FIG. 5 shows the rising waveform and falling waveform of the output signal of the output buffer circuit as described above. The rising waveforms p1 to p3 and the falling waveforms n1 to n3 shown in the figure show the case where the wiring length from the pad 11 to the output transistor T11 and the wiring length from the pad 11 to the output transistor T12 are made equal.

出力バッファ回路の立上り波形と立下り波形のクロスポイントは、高電位側電源VDEとグランドGNDとの中間レベル近傍であることが望ましく、高電位側電源VDEが1.5Vであるとき、クロスポイントはVDE/2±0.15Vとすることが規格で定められている。   The cross point between the rising waveform and the falling waveform of the output buffer circuit is preferably near an intermediate level between the high potential power source VDE and the ground GND. When the high potential power source VDE is 1.5 V, the cross point is The standard defines VDE / 2 ± 0.15V.

立上り波形p1〜p3と立下り波形n1〜n3は、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とした場合の出力信号のプロセス依存、温度依存による動作速度の変化を示す。   The rising waveforms p1 to p3 and the falling waveforms n1 to n3 are dependent on the process of the output signal when the wiring length from the pad 11 to the output transistor T11 is equal to the wiring length from the pad 11 to the output transistor T12. Changes in operating speed due to temperature dependence are shown.

配線長が等長であれば、立上り波形が同p1〜p3に変化するとき、立下り波形も同n1〜n3と変化するため、立上り波形と立下がり波形のクロスポイントc1〜c3はVDE/2±0.15V以内に収束している。   If the wiring length is equal, when the rising waveform changes from p1 to p3, the falling waveform also changes from n1 to n3. Therefore, the cross points c1 to c3 of the rising waveform and the falling waveform are VDE / 2. It converges within ± 0.15V.

一方、抵抗R11,R12を出力トランジスタ間にレイアウトせず、パッドから各出力トランジスタまでの配線長に大きな差がある場合、例えば立下り波形n1に対し立上り波形はp4となる。これは、配線長の差がプロセス依存や温度依存による配線寄生抵抗の変動をさらに増幅させるように影響するため、立上り速度が低下し、立上り波形p4の傾きが緩やかになっている。   On the other hand, when the resistors R11 and R12 are not laid out between the output transistors and there is a large difference in the wiring length from the pad to each output transistor, for example, the rising waveform is p4 with respect to the falling waveform n1. This is because the difference in the wiring length affects the variation of the wiring parasitic resistance due to the process dependence and temperature dependence, so that the rising speed is lowered and the slope of the rising waveform p4 is gentle.

この結果、立下り波形n1と立上り波形p4とのクロスポイントcxはVDE/2±0.15Vから0.03V外れている。この実施形態では、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とすることにより、立上り波形p1〜p3に対する立下り波形をn1〜n3としてこのような不具合を解消している。   As a result, the cross point cx between the falling waveform n1 and the rising waveform p4 deviates from VDE / 2 ± 0.15V by 0.03V. In this embodiment, by making the wiring length from the pad 11 to the output transistor T11 equal to the wiring length from the pad 11 to the output transistor T12, the falling waveforms with respect to the rising waveforms p1 to p3 are set to n1 to n3. Such a problem is solved.

上記のような出力バッファ回路では、次に示す作用効果を得ることができる。
(1)出力モード時には抵抗R11,R12をダンピング抵抗として作用させ、入力モード時には抵抗R11,R12を終端抵抗として作用させることができる。
(2)抵抗R11,R12をプルアップ側の出力トランジスタT11とプルダウン側の出力トランジスタT12との間にレイアウトして、パッド11と出力トランジスタT11,T12との間の配線長を等しくすることができる。
(3)パッド11と出力トランジスタT11,T12との間の配線長を等しくすることができるので、プロセス依存や温度依存による出力信号のクロスポイントの電圧変動を抑制することができる。
(4)抵抗R11,R12を出力トランジスタT11,T12の間にレイアウトし、パッド11は拡散領域12,13の外側、すなわち同パッド11と抵抗R11,R12との間に出力トランジスタT11若しくは同T12を挟む位置にレイアウトしたので、出力バッファ回路のレイアウト面積を縮小することができる。
(5)抵抗R11,R12を出力トランジスタT11,T12の並設方向に交互にレイアウトして1列としたので、出力トランジスタT11,T12間の間隔を縮小して、レイアウト面積を縮小することができる。
(第二の実施形態)
図6は、図1に示す出力バッファ回路の別のレイアウト例を示す。この実施形態は、出力トランジスタT11,T12間において、抵抗R11,R12をそれぞれ1列として2列にレイアウトし、各抵抗R11,R12とパッド11及び出力トランジスタT11,T12をそれぞれ配線L1,L3,L4,L5で接続して図1に示す出力バッファ回路を構成している。その他の構成は、前記第一の実施形態と同様である。
In the output buffer circuit as described above, the following operational effects can be obtained.
(1) The resistors R11 and R12 can act as damping resistors in the output mode, and the resistors R11 and R12 can act as termination resistors in the input mode.
(2) The resistors R11 and R12 can be laid out between the output transistor T11 on the pull-up side and the output transistor T12 on the pull-down side so that the wiring length between the pad 11 and the output transistors T11 and T12 can be made equal. .
(3) Since the wiring length between the pad 11 and the output transistors T11 and T12 can be made equal, it is possible to suppress voltage fluctuations at the cross point of the output signal due to process dependence and temperature dependence.
(4) The resistors R11 and R12 are laid out between the output transistors T11 and T12, and the pad 11 is located outside the diffusion regions 12 and 13, that is, between the pad 11 and the resistors R11 and R12. Since the layout is performed at the sandwiched position, the layout area of the output buffer circuit can be reduced.
(5) Since the resistors R11 and R12 are alternately laid out in the parallel direction of the output transistors T11 and T12 to form one column, the interval between the output transistors T11 and T12 can be reduced to reduce the layout area. .
(Second embodiment)
FIG. 6 shows another layout example of the output buffer circuit shown in FIG. In this embodiment, between the output transistors T11 and T12, the resistors R11 and R12 are respectively laid out in two columns, and the resistors R11 and R12 and the pad 11 and the output transistors T11 and T12 are respectively connected to the wirings L1, L3, and L4. , L5 are connected to form the output buffer circuit shown in FIG. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

このような構成では、パッド11と抵抗R11,R12との間の配線長が等長ではないが、パッド11と各出力トランジスタT11,T12との間の配線長の差は僅かである。
従って、前記第一の実施形態で得られた(1)〜(4)と同様な作用効果を得ることができる。また、抵抗R11,R12を2列にレイアウトしたので、第一の実施形態の抵抗R11,R12に比して、電流容量の大きな抵抗を容易に形成することができる。また、抵抗R11,R12を2列にレイアウトしたので、第一の実施形態に比して、抵抗R11,R12の並設方向のレイアウト長を縮小することができる。
(第三の実施形態)
図7及び図8は、第三の実施形態を示す。この実施の形態は、出力トランジスタT11,T12のドレインを、抵抗R13を介してパッド11に接続した出力バッファ回路を示す。この出力バッファ回路は、出力トランジスタT11,T12が交互にオンされて、Hレベル若しくはLレベルの出力信号をパッド11から出力する。抵抗R13は、ダンピング抵抗として作用する。
In such a configuration, the wiring length between the pad 11 and the resistors R11 and R12 is not equal, but the wiring length difference between the pad 11 and each of the output transistors T11 and T12 is slight.
Therefore, the same effects as (1) to (4) obtained in the first embodiment can be obtained. Further, since the resistors R11 and R12 are laid out in two rows, it is possible to easily form a resistor having a large current capacity as compared with the resistors R11 and R12 of the first embodiment. Further, since the resistors R11 and R12 are laid out in two rows, the layout length of the resistors R11 and R12 in the juxtaposed direction can be reduced as compared with the first embodiment.
(Third embodiment)
7 and 8 show a third embodiment. This embodiment shows an output buffer circuit in which the drains of the output transistors T11 and T12 are connected to the pad 11 via a resistor R13. In this output buffer circuit, the output transistors T11 and T12 are alternately turned on to output an output signal of H level or L level from the pad 11. The resistor R13 acts as a damping resistor.

図8は、図7に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11として複数のPチャネルMOSトランジスタが並設される拡散領域16と、出力トランジスタT12として複数のNチャネルMOSトランジスタが並設される拡散領域17の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。   FIG. 8 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. A plurality of polysilicon resistance elements are formed between a diffusion region 16 in which a plurality of P-channel MOS transistors are juxtaposed as the output transistor T11 and a diffusion region 17 in which a plurality of N-channel MOS transistors are juxtaposed as the output transistor T12. A resistor R13 is laid out.

パッド11は、第一の実施形態と同様に拡散領域16の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗素子の他端は、配線L7を介して出力トランジスタT11に接続され、配線L8を介して出力トランジスタT12に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。   The pad 11 is laid out on the side of the diffusion region 16 as in the first embodiment, and is connected to one end of each resistor R13 via the wiring L6. The other end of each resistance element is connected to the output transistor T11 via the wiring L7, and is connected to the output transistor T12 via the wiring L8. The wiring lengths of the wirings L7 and L8 are substantially equal.

このような構成により、出力トランジスタT11,T12間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、パッド11から出力トランジスタT11,T12までの配線長をほぼ等長として、プロセス依存や温度依存による出力信号のクロスポイントの電圧変動を抑制することができる。
(第四の実施形態)
図9及び図10は第四の実施形態を示す。この実施の形態は、プルアップ側の出力トランジスタT11を、抵抗R13を介してパッド11に接続した構成であり、プルダウン側の出力トランジスタは設けられない。
With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the output transistors T11 and T12, the area efficiency can be improved. Further, by making the wiring length from the pad 11 to the output transistors T11 and T12 substantially equal, it is possible to suppress voltage fluctuation at the cross point of the output signal due to process dependence and temperature dependence.
(Fourth embodiment)
9 and 10 show a fourth embodiment. In this embodiment, the pull-up output transistor T11 is connected to the pad 11 via a resistor R13, and the pull-down output transistor is not provided.

この出力バッファ回路は、出力モード時には出力トランジスタT11がオンされると、Hレベルの出力信号をパッド11から出力する。また、出力トランジスタT11がオフされるとパッド11の電位を不定とする。   This output buffer circuit outputs an output signal of H level from the pad 11 when the output transistor T11 is turned on in the output mode. Further, when the output transistor T11 is turned off, the potential of the pad 11 becomes indefinite.

入力モード時には、出力トランジスタT11がオンされて、抵抗R13が終端抵抗として動作する。
図10は、図9に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11は、並設される2つの拡散領域18,19にそれぞれ多数のPチャネルMOSトランジスタをレイアウトして構成される。
In the input mode, the output transistor T11 is turned on, and the resistor R13 operates as a termination resistor.
FIG. 10 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. The output transistor T11 is configured by laying a number of P-channel MOS transistors in two diffusion regions 18 and 19 arranged in parallel.

前記拡散領域18,19の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。
パッド11は、第一の実施形態と同様に拡散領域18の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗素子の他端は、配線L7を介して拡散領域17の出力トランジスタT11に接続され、配線L8を介して拡散領域18の出力トランジスタT11に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。
A resistor R13 composed of a plurality of polysilicon resistance elements is laid out between the diffusion regions 18 and 19.
The pad 11 is laid out on the side of the diffusion region 18 as in the first embodiment, and is connected to one end of each resistor R13 via the wiring L6. The other end of each resistance element is connected to the output transistor T11 in the diffusion region 17 through the wiring L7, and is connected to the output transistor T11 in the diffusion region 18 through the wiring L8. The wiring lengths of the wirings L7 and L8 are substantially equal.

このような構成により、出力トランジスタT11を形成する拡散領域18,19間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、出力トランジスタT11を2つの拡散領域に形成される多数のPチャネルMOSトランジスタで構成しながら、各トランジスタと抵抗R13との間の配線長をほぼ揃えることができる。従って、パッド11から出力トランジスタT11を構成する多数のトランジスタまでの配線長をほぼ等長とし、プロセス依存や温度依存による各トランジスタの出力特性の変動を揃えて、出力トランジスタT11の出力特性を向上させることができる。
(第五の実施形態)
図11及び図12は第五の実施形態を示す。この実施の形態は、プルダウン側の出力トランジスタT12を、抵抗R13を介してパッド11に接続した構成であり、プルアップ側の出力トランジスタは設けられない。
With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the diffusion regions 18 and 19 forming the output transistor T11, the area efficiency can be improved. In addition, while the output transistor T11 is composed of a large number of P-channel MOS transistors formed in two diffusion regions, the wiring length between each transistor and the resistor R13 can be made substantially uniform. Therefore, the wiring length from the pad 11 to the many transistors constituting the output transistor T11 is made substantially equal, and the variation in the output characteristics of each transistor due to process dependence and temperature dependence is made uniform, thereby improving the output characteristics of the output transistor T11. be able to.
(Fifth embodiment)
11 and 12 show a fifth embodiment. In this embodiment, the pull-down output transistor T12 is connected to the pad 11 via a resistor R13, and the pull-up output transistor is not provided.

この出力バッファ回路は、出力モード時には出力トランジスタT12がオンされると、Lレベルの出力信号をパッド11から出力する。また、出力トランジスタT12がオフされるとパッド11の電位を不定とする。   This output buffer circuit outputs an L level output signal from the pad 11 when the output transistor T12 is turned on in the output mode. Further, when the output transistor T12 is turned off, the potential of the pad 11 becomes indefinite.

入力モード時には、出力トランジスタT12がオンされて、抵抗R13が終端抵抗として動作する。
図12は、図10に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT12は、並設される2つの拡散領域20,21にそれぞれ多数のNチャネルMOSトランジスタをレイアウトして構成される。
In the input mode, the output transistor T12 is turned on and the resistor R13 operates as a termination resistor.
FIG. 12 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. The output transistor T12 is configured by laying out a large number of N-channel MOS transistors in two diffusion regions 20 and 21 arranged in parallel.

前記拡散領域20,21の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。
パッド11は、第四の実施形態と同様に拡散領域20の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗R13の他端は、配線L7を介して拡散領域20の出力トランジスタT12に接続され、配線L8を介して拡散領域21の出力トランジスタT12に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。
A resistor R13 composed of a plurality of polysilicon resistor elements is laid out between the diffusion regions 20 and 21.
The pad 11 is laid out on the side of the diffusion region 20 as in the fourth embodiment, and is connected to one end of each resistor R13 via the wiring L6. The other end of each resistor R13 is connected to the output transistor T12 in the diffusion region 20 through the wiring L7, and is connected to the output transistor T12 in the diffusion region 21 through the wiring L8. The wiring lengths of the wirings L7 and L8 are substantially equal.

このような構成により、出力トランジスタT12を形成する拡散領域20,21間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、出力トランジスタT12を2つの拡散領域に形成される多数のNチャネルMOSトランジスタで構成しながら、各トランジスタと抵抗R13との間の配線長をほぼ揃えることができる。従って、パッド11から出力トランジスタT12を構成する多数のトランジスタまでの配線長をほぼ等長とし、プロセス依存や温度依存による各トランジスタの出力特性の変動を揃えて、出力トランジスタT12の出力特性を向上させることができる。   With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the diffusion regions 20 and 21 forming the output transistor T12, the area efficiency can be improved. In addition, while the output transistor T12 is composed of a large number of N-channel MOS transistors formed in two diffusion regions, the wiring length between each transistor and the resistor R13 can be made substantially uniform. Therefore, the wiring length from the pad 11 to the many transistors constituting the output transistor T12 is made substantially equal, and the output characteristics of the output transistor T12 are improved by aligning variations in the output characteristics of each transistor due to process dependence and temperature dependence. be able to.

上記実施の形態は、以下に示す態様で実施することもできる。
・パッド11は、プルアップ側出力トランジスタとプルダウン側出力トランジスタのいずれの拡散領域側にレイアウトしてもよい。
The embodiment described above can also be carried out in the following manner.
The pad 11 may be laid out on any diffusion region side of the pull-up side output transistor and the pull-down side output transistor.

なお、本発明の諸態様を以下に付記としてまとめる。
(付記1)
出力トランジスタの出力ノードを配線及び抵抗を介してパッドに接続した出力回路において、
前記抵抗の両側に前記出力トランジスタを形成する複数の領域を相対向するようにレイアウトし、前記領域の外側に前記パッドをレイアウトしたことを特徴とするI/Oセルの出力回路。
(付記2)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタとプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードをそれぞれ抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトし、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記3)
前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とを一列にレイアウトしたことを特徴とする付記2記載のI/Oセルの出力回路。
(付記4)
前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とをそれぞれ一列ずつにレイアウトしたことを特徴とする付記2記載のI/Oセルの出力回路。
(付記5)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタとプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードを共通の抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトし、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記6)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタの出力ノードを抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、前記各領域の前記プルアップ側トランジスタの出力ノードと前記抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする請求項1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記7)
前記出力トランジスタをプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルダウン側トランジスタの出力ノードを抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトするとともに、前記各領域の前記プルダウン側トランジスタの出力ノードと前記抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記8)
前記抵抗をポリシリコンで形成したことを特徴とする付記1乃至7のいずれか1項に記載のI/Oセルの出力回路。
The various aspects of the present invention are summarized as additional notes below.
(Appendix 1)
In an output circuit in which an output node of an output transistor is connected to a pad via a wiring and a resistor,
An output circuit of an I / O cell, wherein a plurality of regions forming the output transistor are laid out on both sides of the resistor so as to face each other, and the pad is laid out outside the region.
(Appendix 2)
The output transistor is constituted by a pull-up side transistor and a pull-down side transistor, and output nodes of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor are connected to the pad via a resistor and a wiring, respectively, and the one of the plurality of regions The pull-up side transistor is laid out, the pull-down side transistor is laid out in the other region, and the wiring between the output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and each resistor is made equal in length. The output circuit of the I / O cell according to appendix 1.
(Appendix 3)
The I / according to claim 2, wherein the resistor connected between the pull-up side transistor and the pad and the resistor connected between the pull-down side transistor and the pad are laid out in a line. O cell output circuit.
(Appendix 4)
The resistor connected between the pull-up side transistor and the pad and the resistor connected between the pull-down side transistor and the pad are laid out in a line, respectively. I / O cell output circuit.
(Appendix 5)
The output transistor is composed of a pull-up side transistor and a pull-down side transistor, and an output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor is connected to the pad via a common resistor and wiring, and is connected to one of the plurality of regions. The pull-up side transistor is laid out, the pull-down side transistor is laid out in the other region, and the wiring between the output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and each resistor is made equal. The output circuit of the I / O cell according to Supplementary Note 1, wherein
(Appendix 6)
The output transistor is constituted by a pull-up side transistor, an output node of the pull-up side transistor is connected to the pad via a resistor and a wiring, the pull-up side transistor is laid out in the plurality of regions, 2. The output circuit of an I / O cell according to claim 1, wherein wiring between an output node of the pull-up side transistor in the region and the resistor is made equal in length.
(Appendix 7)
The output transistor is configured by a pull-down transistor, an output node of the pull-down transistor is connected to the pad via a resistor and a wiring, the pull-down transistor is laid out in the plurality of regions, 2. The output circuit of an I / O cell according to appendix 1, wherein wiring between an output node of a pull-down transistor and the resistor has an equal length.
(Appendix 8)
8. The I / O cell output circuit according to any one of appendices 1 to 7, wherein the resistor is formed of polysilicon.

第一の実施形態の出力バッファ回路を示す回路図である。It is a circuit diagram showing an output buffer circuit of a first embodiment. 第一の実施形態の出力バッファ回路を示す素子レイアウト図である。It is an element layout diagram showing an output buffer circuit of the first embodiment. 第一の実施形態の出力バッファ回路を示すチップ断面図である。It is a chip sectional view showing the output buffer circuit of a first embodiment. 第一の実施形態の出力バッファ回路を示すチップ断面図である。It is a chip sectional view showing the output buffer circuit of a first embodiment. 出力バッファ回路の出力特性図である。It is an output characteristic figure of an output buffer circuit. 第二の実施形態の出力バッファ回路を示す素子レイアウト図である。FIG. 6 is an element layout diagram showing an output buffer circuit of a second embodiment. 第三の実施形態を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows 3rd embodiment. 第三の実施形態を示す素子レイアウト図である。It is an element layout figure showing a third embodiment. 第四の実施形態を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows 4th embodiment. 第四の実施形態を示す素子レイアウト図である。It is an element layout figure showing a 4th embodiment. 第五の実施形態を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows 5th embodiment. 第五の実施形態を示す素子レイアウト図である。It is an element layout figure showing a 5th embodiment. I/Oセルを示す回路図である。It is a circuit diagram which shows an I / O cell.

符号の説明Explanation of symbols

11 パッド
12,13,16,17,18,19,20,21 拡散領域
T11,T12 出力トランジスタ
R11,R12,R13 抵抗
11 Pad 12, 13, 16, 17, 18, 19, 20, 21 Diffusion region T11, T12 Output transistor R11, R12, R13 Resistance

Claims (4)

プルアップ側トランジスタと、
プルダウン側トランジスタとを有し、
前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードは、それぞれ抵抗及び配線を介してパッドに接続され、前記各抵抗が形成される領域の両側に複数の領域が相対向するようにレイアウトされ、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタがレイアウトされるとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタがレイアウトされ、前記複数の領域の外側に前記パッドがレイアウトされ、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線が等長であることを特徴とするI/Oセルの出力回路。
A pull-up side transistor;
A pull-down transistor,
The output nodes of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor are connected to pads through resistors and wirings, respectively, and are laid out so that a plurality of regions face each other on both sides of the regions where the resistors are formed, The pull-up side transistor is laid out in one of a plurality of regions, the pull-down side transistor is laid out in the other region, the pad is laid out outside the plurality of regions, and the pull-up side transistor and the pull-down side are laid out An output circuit of an I / O cell, characterized in that wiring between an output node of a transistor and each of the resistors is of equal length.
前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とが前記各抵抗が形成される領域内で一列にレイアウトされることを特徴とする請求項1記載のI/Oセルの出力回路。   A resistor connected between the pull-up side transistor and the pad and a resistor connected between the pull-down side transistor and the pad are laid out in a line in the region where the resistors are formed. The output circuit of the I / O cell according to claim 1. 前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とが前記各抵抗が形成される領域内でそれぞれ一列ずつにレイアウトされることを特徴とする請求項1記載のI/Oセルの出力回路。   A resistor connected between the pull-up side transistor and the pad and a resistor connected between the pull-down side transistor and the pad are laid out in a line in the region where each resistor is formed. 2. The output circuit of an I / O cell according to claim 1, wherein プルアップ側トランジスタと、
プルダウン側トランジスタとを有し、
前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードは、共通の抵抗及び配線を介してパッドに接続され、前記抵抗が形成される領域の両側に複数の領域が相対向するようにレイアウトされ、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタがレイアウトされるとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタがレイアウトされ、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線が等長であることを特徴とするI/Oセルの出力回路。
A pull-up side transistor;
A pull-down transistor,
The output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor is connected to the pad via a common resistor and wiring, and is laid out so that a plurality of regions are opposed to each other on both sides of the region where the resistor is formed, The pull-up side transistor is laid out in one of the plurality of regions, and the pull-down side transistor is laid out in the other region, and the wiring between the output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and the respective resistors Is an equal length, an output circuit of an I / O cell.
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