JP2010153516A - Output circuit of i/o cell - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、I/Oセルの出力回路に関するものである。 The present invention relates to an output circuit of an I / O cell.
近年、半導体記憶装置は動作速度の高速化、記憶容量の大容量化及び回路素子の微細化が進んでいる。そして、このような半導体記憶装置のI/Oセルにおいては、微細化にともなう特性のばらつきが生じやすくなっている。 In recent years, semiconductor memory devices have been increased in operating speed, increased storage capacity, and circuit elements. In such an I / O cell of a semiconductor memory device, variations in characteristics due to miniaturization are likely to occur.
図13は、I/Oセルの一例を示す。パッド1と高電位側電源VDEとの間には、抵抗R1とPチャネルMOSトランジスタで構成されるプルアップ側出力トランジスタT1が接続され、パッド1とグランドGNDとの間には、抵抗R2とNチャネルMOSトランジスタで構成されるプルダウン側出力トランジスタT2が接続される。また、パッド1には抵抗R3を介して入力回路2が接続される。
FIG. 13 shows an example of an I / O cell. A pull-up side output transistor T1 composed of a resistor R1 and a P-channel MOS transistor is connected between the
このようなI/Oセルでは、出力モード時には出力トランジスタT1,T2のいずれかがオンされて、パッド1からHレベル若しくはLレベルの出力信号が出力される。このとき、抵抗R1,R2は、ダンピング抵抗として作用して、出力信号に含まれるノイズを低減する。
In such an I / O cell, in the output mode, one of the output transistors T1 and T2 is turned on, and an output signal of H level or L level is output from the
入力モード時には、パッド1に入力される入力信号が入力回路2を介して内部回路に供給される。このとき、例えば出力トランジスタT1,T2のいずれかがオンされ、あるいはともにオンされて、抵抗R1,R2はパッド1に所要の電位を供給する終端抵抗として作用する。
In the input mode, an input signal input to the
近年の微細化された半導体記憶装置では、上記のようなI/Oセルの微細化にともなってパッド1と出力トランジスタT1,T2との間の配線長の差が、出力特性に大きな影響を及ぼすようになっている。
微細化されたI/Oセルでは、パッド1と出力トランジスタT1,T2との間の配線長に差があると、配線抵抗あるいは寄生容量に差が生じる。そして、配線抵抗あるいは寄生容量の差が出力信号の立上り及び立下り速度にばらつきを生じさせ、出力特性を劣化させる原因となっている。
In a miniaturized I / O cell, if there is a difference in wiring length between the
特許文献1には、出力バッファ回路のレイアウトが開示されている(図17参照)。この出力バッファ回路では、パッドとPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタとの間に抵抗がレイアウトされている。
従って、パッドと各出力トランジスタとの間の配線長に差が生じるため、上記問題点を解決することはできない。
特許文献2には、出力トランジスタを構成するPチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタの間に抵抗をレイアウトした出力バッファ回路が開示されている。しかし、PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタの間にパッドがレイアウトされ、PチャネルMOSトランジスタとNチャネルMOSトランジスタとの間隔が大きくなるため、レイアウト面積が増大する。
Therefore, a difference occurs in the wiring length between the pad and each output transistor, so that the above problem cannot be solved.
特許文献3には、パッドに出力バッファ回路と終端抵抗回路とが並列に接続された半導体装置が開示されている。しかし、この半導体装置では、出力バッファ回路と終端抵抗回路が独立してレイアウトされるので、レイアウト面積が増大する。また、終端抵抗回路において、パッドとPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタとの間にそれぞれ抵抗がレイアウトされているが、パッドからPチャネルMOSトランジスタ及びNチャネルMOSトランジスタまでの配線長を等しくするための構成は開示されていない。 Patent Document 3 discloses a semiconductor device in which an output buffer circuit and a termination resistor circuit are connected in parallel to a pad. However, in this semiconductor device, since the output buffer circuit and the termination resistor circuit are laid out independently, the layout area increases. In the termination resistor circuit, resistors are laid out between the pad and the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor, respectively, but in order to make the wiring length from the pad to the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor equal. The configuration of is not disclosed.
この発明の目的は、終端抵抗若しくはダンピング抵抗として機能する抵抗を備えた出力バッファ回路の出力特性と面積効率を向上させることにある。 An object of the present invention is to improve output characteristics and area efficiency of an output buffer circuit having a resistor that functions as a termination resistor or a damping resistor.
上記目的は、出力トランジスタの出力ノードを配線及び抵抗を介してパッドに接続した出力回路において、前記抵抗の両側に前記出力トランジスタを形成する複数の領域を相対向するようにレイアウトし、前記領域の外側に前記パッドをレイアウトしたI/Oセルの出力回路により達成される。 In the output circuit in which the output node of the output transistor is connected to the pad via a wiring and a resistor, the above-described object is laid out so that a plurality of regions for forming the output transistor are opposed to each other on both sides of the resistor. This is achieved by an output circuit of an I / O cell in which the pads are laid out on the outside.
開示されたI/Oセルの出力回路では、終端抵抗若しくはダンピング抵抗として機能する抵抗を備えた出力バッファ回路の出力特性と面積効率を向上させることができる。 In the output circuit of the disclosed I / O cell, output characteristics and area efficiency of an output buffer circuit including a resistor that functions as a termination resistor or a damping resistor can be improved.
(第一の実施形態)
図1は、この発明を具体化した出力バッファ回路を示す。プルアップ側の出力トランジスタT11はPチャネルMOSトランジスタで構成され、その出力トランジスタT11のソースは電源VDEに接続され、ドレイン(出力ノード)は配線L1、抵抗R11、配線L2,L3を介してパッド11に接続される。
(First embodiment)
FIG. 1 shows an output buffer circuit embodying the present invention. The output transistor T11 on the pull-up side is composed of a P-channel MOS transistor, the source of the output transistor T11 is connected to the power supply VDE, and the drain (output node) is the
プルダウン側の出力トランジスタT12はNチャネルMOSトランジスタで構成され、その出力トランジスタT12のソースはグランドGNDに接続され、ドレイン(出力ノード)は配線L5、抵抗R12、配線L4,L3を介して前記パッド11に接続される。前記出力トランジスタT11,T12は、実際には多数のトランジスタを並列に接続して構成される。そして、出力トランジスタT11,T12は、そのゲートに入力される駆動信号dv1,dv2により、そのオン・オフ動作が制御される。
The pull-down output transistor T12 is composed of an N-channel MOS transistor, the source of the output transistor T12 is connected to the ground GND, and the drain (output node) is connected to the
図2は、前記出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11,T12は、それぞれ拡散領域12,13上に多数のゲート電極14が並設されて多数のトランジスタで構成される。
FIG. 2 shows an element layout of the output buffer circuit. The output transistors T11 and T12 are constituted by a large number of transistors in which a large number of
前記パッド11は、前記拡散領域12に隣接してレイアウトされ、前記抵抗R11,R12は拡散領域12,13に形成される各出力トランジスタT11,T12に対応する位置に交互にレイアウトされる。
The
詳述すると、抵抗R11,R12は出力トランジスタT11,T12間で、前記拡散領域12,13の長手方向と直交する方向を長手方向とする矩形状にレイアウトされ、抵抗R11,R12が交互にレイアウトされる。そして、図3及び図4に示すように、抵抗R11,R12は基板15上にレイアウトされるポリシリコン層で形成される。
More specifically, the resistors R11 and R12 are laid out in a rectangular shape with the direction perpendicular to the longitudinal direction of the
前記パッド11は前記配線L3,L2を介して抵抗R11の一端部に接続される。図4に示すように、前記配線L3は第四層の配線で形成され、前記配線L2は第三層の配線で形成される。
The
そして、基板15から第四層配線までをそれぞれコンタクト16a〜16cで接続する構成とすると、パッド11は第二及び第三の配線層と各配線層を接続するコンタクト16a〜16cを介して配線L3に接続される。また、配線L3と配線L2とはコンタクト16cを介して接続され、配線L2と抵抗R11とはコンタクト16b、第二層配線及びコンタクト16aを介して接続される。
When the
前記抵抗R11の他端部は配線L1を介して前記出力トランジスタT11のドレインに接続される。前記配線L1は、図4に示すように第三層配線で形成され、その両端部が第二層配線及びコンタクト16b,16aを介して抵抗R11と出力トランジスタT11に接続される。
The other end of the resistor R11 is connected to the drain of the output transistor T11 via a wiring L1. The wiring L1 is formed of a third layer wiring as shown in FIG. 4, and both ends thereof are connected to the resistor R11 and the output transistor T11 through the second layer wiring and
また、前記パッド11は前記配線L3,L4を介して抵抗R12の一端部に接続される。図3に示すように、前記配線L4は第三層の配線で形成される。
そして、配線L3と配線L4とはコンタクト16cを介して接続され、配線L4と抵抗R12とはコンタクト16b、第二層配線及びコンタクト16aを介して接続される。
The
The wiring L3 and the wiring L4 are connected through the
前記抵抗R12の他端部は配線L5を介して前記出力トランジスタT12のドレインに接続される。前記配線L5は、図3に示すように第三層配線で形成され、その両端部が第二層配線及びコンタクト16b,16aを介して抵抗R12と出力トランジスタT12に接続される。
The other end of the resistor R12 is connected to the drain of the output transistor T12 via a wiring L5. The wiring L5 is formed of a third layer wiring as shown in FIG. 3, and both ends thereof are connected to the resistor R12 and the output transistor T12 via the second layer wiring and
図2〜図4に示すように、上記各配線L1〜L5のうち、配線L1,L5は等長に形成され、配線L2,L4も等長に形成されている。また、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長の総和はL3+L2+L1であり、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長の総和はL3+L4+L5である。
As shown in FIGS. 2 to 4, among the wirings L1 to L5, the wirings L1 and L5 are formed to have the same length, and the wirings L2 and L4 are also formed to have the same length. The total wiring length from the
従って、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長は等しくなる。
上記のような出力バッファ回路では、その出力モード時には駆動信号dv1,dv2により出力トランジスタT11,T12が交互にオンされる。そして、出力トランジスタT11がオンされると、出力パッド11からHレベルの出力信号が出力され、出力トランジスタT12がオンされると、出力パッド11からLレベルの出力信号が出力される。このとき、抵抗R11,R12は出力信号のノイズを低減するダンピング抵抗として動作する。
Accordingly, the wiring length from the
In the output buffer circuit as described above, the output transistors T11 and T12 are alternately turned on by the drive signals dv1 and dv2 in the output mode. When the output transistor T11 is turned on, an H level output signal is output from the
また、入力モード時には、出力トランジスタT11,T12のいずれか一方、若しくは両方をオンさせる。すると、抵抗R11,R12はパッド11を高電位側電源VDEレベル、グランドGNDレベル若しくは高電位側電源VDEとグランドGNDとの中間レベルのいずれかに保持する終端抵抗として動作する。 そして、このような出力バッファ回路が入出力ビット数に応じて多数設けられる。
In the input mode, one or both of the output transistors T11 and T12 are turned on. Then, the resistors R11 and R12 operate as termination resistors that hold the
図5は、上記のような出力バッファ回路の出力信号の立上り波形及び立下り波形を示す。同図に示す立上り波形p1〜p3と立下り波形n1〜n3は、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とした場合を示す。
FIG. 5 shows the rising waveform and falling waveform of the output signal of the output buffer circuit as described above. The rising waveforms p1 to p3 and the falling waveforms n1 to n3 shown in the figure show the case where the wiring length from the
出力バッファ回路の立上り波形と立下り波形のクロスポイントは、高電位側電源VDEとグランドGNDとの中間レベル近傍であることが望ましく、高電位側電源VDEが1.5Vであるとき、クロスポイントはVDE/2±0.15Vとすることが規格で定められている。 The cross point between the rising waveform and the falling waveform of the output buffer circuit is preferably near an intermediate level between the high potential power source VDE and the ground GND. When the high potential power source VDE is 1.5 V, the cross point is The standard defines VDE / 2 ± 0.15V.
立上り波形p1〜p3と立下り波形n1〜n3は、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とした場合の出力信号のプロセス依存、温度依存による動作速度の変化を示す。
The rising waveforms p1 to p3 and the falling waveforms n1 to n3 are dependent on the process of the output signal when the wiring length from the
配線長が等長であれば、立上り波形が同p1〜p3に変化するとき、立下り波形も同n1〜n3と変化するため、立上り波形と立下がり波形のクロスポイントc1〜c3はVDE/2±0.15V以内に収束している。 If the wiring length is equal, when the rising waveform changes from p1 to p3, the falling waveform also changes from n1 to n3. Therefore, the cross points c1 to c3 of the rising waveform and the falling waveform are VDE / 2. It converges within ± 0.15V.
一方、抵抗R11,R12を出力トランジスタ間にレイアウトせず、パッドから各出力トランジスタまでの配線長に大きな差がある場合、例えば立下り波形n1に対し立上り波形はp4となる。これは、配線長の差がプロセス依存や温度依存による配線寄生抵抗の変動をさらに増幅させるように影響するため、立上り速度が低下し、立上り波形p4の傾きが緩やかになっている。 On the other hand, when the resistors R11 and R12 are not laid out between the output transistors and there is a large difference in the wiring length from the pad to each output transistor, for example, the rising waveform is p4 with respect to the falling waveform n1. This is because the difference in the wiring length affects the variation of the wiring parasitic resistance due to the process dependence and temperature dependence, so that the rising speed is lowered and the slope of the rising waveform p4 is gentle.
この結果、立下り波形n1と立上り波形p4とのクロスポイントcxはVDE/2±0.15Vから0.03V外れている。この実施形態では、パッド11から出力トランジスタT11までの配線長と、パッド11から出力トランジスタT12までの配線長とを等長とすることにより、立上り波形p1〜p3に対する立下り波形をn1〜n3としてこのような不具合を解消している。
As a result, the cross point cx between the falling waveform n1 and the rising waveform p4 deviates from VDE / 2 ± 0.15V by 0.03V. In this embodiment, by making the wiring length from the
上記のような出力バッファ回路では、次に示す作用効果を得ることができる。
(1)出力モード時には抵抗R11,R12をダンピング抵抗として作用させ、入力モード時には抵抗R11,R12を終端抵抗として作用させることができる。
(2)抵抗R11,R12をプルアップ側の出力トランジスタT11とプルダウン側の出力トランジスタT12との間にレイアウトして、パッド11と出力トランジスタT11,T12との間の配線長を等しくすることができる。
(3)パッド11と出力トランジスタT11,T12との間の配線長を等しくすることができるので、プロセス依存や温度依存による出力信号のクロスポイントの電圧変動を抑制することができる。
(4)抵抗R11,R12を出力トランジスタT11,T12の間にレイアウトし、パッド11は拡散領域12,13の外側、すなわち同パッド11と抵抗R11,R12との間に出力トランジスタT11若しくは同T12を挟む位置にレイアウトしたので、出力バッファ回路のレイアウト面積を縮小することができる。
(5)抵抗R11,R12を出力トランジスタT11,T12の並設方向に交互にレイアウトして1列としたので、出力トランジスタT11,T12間の間隔を縮小して、レイアウト面積を縮小することができる。
(第二の実施形態)
図6は、図1に示す出力バッファ回路の別のレイアウト例を示す。この実施形態は、出力トランジスタT11,T12間において、抵抗R11,R12をそれぞれ1列として2列にレイアウトし、各抵抗R11,R12とパッド11及び出力トランジスタT11,T12をそれぞれ配線L1,L3,L4,L5で接続して図1に示す出力バッファ回路を構成している。その他の構成は、前記第一の実施形態と同様である。
In the output buffer circuit as described above, the following operational effects can be obtained.
(1) The resistors R11 and R12 can act as damping resistors in the output mode, and the resistors R11 and R12 can act as termination resistors in the input mode.
(2) The resistors R11 and R12 can be laid out between the output transistor T11 on the pull-up side and the output transistor T12 on the pull-down side so that the wiring length between the
(3) Since the wiring length between the
(4) The resistors R11 and R12 are laid out between the output transistors T11 and T12, and the
(5) Since the resistors R11 and R12 are alternately laid out in the parallel direction of the output transistors T11 and T12 to form one column, the interval between the output transistors T11 and T12 can be reduced to reduce the layout area. .
(Second embodiment)
FIG. 6 shows another layout example of the output buffer circuit shown in FIG. In this embodiment, between the output transistors T11 and T12, the resistors R11 and R12 are respectively laid out in two columns, and the resistors R11 and R12 and the
このような構成では、パッド11と抵抗R11,R12との間の配線長が等長ではないが、パッド11と各出力トランジスタT11,T12との間の配線長の差は僅かである。
従って、前記第一の実施形態で得られた(1)〜(4)と同様な作用効果を得ることができる。また、抵抗R11,R12を2列にレイアウトしたので、第一の実施形態の抵抗R11,R12に比して、電流容量の大きな抵抗を容易に形成することができる。また、抵抗R11,R12を2列にレイアウトしたので、第一の実施形態に比して、抵抗R11,R12の並設方向のレイアウト長を縮小することができる。
(第三の実施形態)
図7及び図8は、第三の実施形態を示す。この実施の形態は、出力トランジスタT11,T12のドレインを、抵抗R13を介してパッド11に接続した出力バッファ回路を示す。この出力バッファ回路は、出力トランジスタT11,T12が交互にオンされて、Hレベル若しくはLレベルの出力信号をパッド11から出力する。抵抗R13は、ダンピング抵抗として作用する。
In such a configuration, the wiring length between the
Therefore, the same effects as (1) to (4) obtained in the first embodiment can be obtained. Further, since the resistors R11 and R12 are laid out in two rows, it is possible to easily form a resistor having a large current capacity as compared with the resistors R11 and R12 of the first embodiment. Further, since the resistors R11 and R12 are laid out in two rows, the layout length of the resistors R11 and R12 in the juxtaposed direction can be reduced as compared with the first embodiment.
(Third embodiment)
7 and 8 show a third embodiment. This embodiment shows an output buffer circuit in which the drains of the output transistors T11 and T12 are connected to the
図8は、図7に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11として複数のPチャネルMOSトランジスタが並設される拡散領域16と、出力トランジスタT12として複数のNチャネルMOSトランジスタが並設される拡散領域17の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。
FIG. 8 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. A plurality of polysilicon resistance elements are formed between a
パッド11は、第一の実施形態と同様に拡散領域16の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗素子の他端は、配線L7を介して出力トランジスタT11に接続され、配線L8を介して出力トランジスタT12に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。
The
このような構成により、出力トランジスタT11,T12間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、パッド11から出力トランジスタT11,T12までの配線長をほぼ等長として、プロセス依存や温度依存による出力信号のクロスポイントの電圧変動を抑制することができる。
(第四の実施形態)
図9及び図10は第四の実施形態を示す。この実施の形態は、プルアップ側の出力トランジスタT11を、抵抗R13を介してパッド11に接続した構成であり、プルダウン側の出力トランジスタは設けられない。
With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the output transistors T11 and T12, the area efficiency can be improved. Further, by making the wiring length from the
(Fourth embodiment)
9 and 10 show a fourth embodiment. In this embodiment, the pull-up output transistor T11 is connected to the
この出力バッファ回路は、出力モード時には出力トランジスタT11がオンされると、Hレベルの出力信号をパッド11から出力する。また、出力トランジスタT11がオフされるとパッド11の電位を不定とする。
This output buffer circuit outputs an output signal of H level from the
入力モード時には、出力トランジスタT11がオンされて、抵抗R13が終端抵抗として動作する。
図10は、図9に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT11は、並設される2つの拡散領域18,19にそれぞれ多数のPチャネルMOSトランジスタをレイアウトして構成される。
In the input mode, the output transistor T11 is turned on, and the resistor R13 operates as a termination resistor.
FIG. 10 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. The output transistor T11 is configured by laying a number of P-channel MOS transistors in two
前記拡散領域18,19の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。
パッド11は、第一の実施形態と同様に拡散領域18の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗素子の他端は、配線L7を介して拡散領域17の出力トランジスタT11に接続され、配線L8を介して拡散領域18の出力トランジスタT11に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。
A resistor R13 composed of a plurality of polysilicon resistance elements is laid out between the
The
このような構成により、出力トランジスタT11を形成する拡散領域18,19間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、出力トランジスタT11を2つの拡散領域に形成される多数のPチャネルMOSトランジスタで構成しながら、各トランジスタと抵抗R13との間の配線長をほぼ揃えることができる。従って、パッド11から出力トランジスタT11を構成する多数のトランジスタまでの配線長をほぼ等長とし、プロセス依存や温度依存による各トランジスタの出力特性の変動を揃えて、出力トランジスタT11の出力特性を向上させることができる。
(第五の実施形態)
図11及び図12は第五の実施形態を示す。この実施の形態は、プルダウン側の出力トランジスタT12を、抵抗R13を介してパッド11に接続した構成であり、プルアップ側の出力トランジスタは設けられない。
With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the
(Fifth embodiment)
11 and 12 show a fifth embodiment. In this embodiment, the pull-down output transistor T12 is connected to the
この出力バッファ回路は、出力モード時には出力トランジスタT12がオンされると、Lレベルの出力信号をパッド11から出力する。また、出力トランジスタT12がオフされるとパッド11の電位を不定とする。
This output buffer circuit outputs an L level output signal from the
入力モード時には、出力トランジスタT12がオンされて、抵抗R13が終端抵抗として動作する。
図12は、図10に示す出力バッファ回路の素子レイアウトを示す。出力トランジスタT12は、並設される2つの拡散領域20,21にそれぞれ多数のNチャネルMOSトランジスタをレイアウトして構成される。
In the input mode, the output transistor T12 is turned on and the resistor R13 operates as a termination resistor.
FIG. 12 shows an element layout of the output buffer circuit shown in FIG. The output transistor T12 is configured by laying out a large number of N-channel MOS transistors in two
前記拡散領域20,21の間に複数のポリシリコン抵抗素子で構成される抵抗R13がレイアウトされる。
パッド11は、第四の実施形態と同様に拡散領域20の側方にレイアウトされ、各抵抗R13の一端と配線L6を介して接続される。各抵抗R13の他端は、配線L7を介して拡散領域20の出力トランジスタT12に接続され、配線L8を介して拡散領域21の出力トランジスタT12に接続される。配線L7,L8の配線長はほぼ等長である。
A resistor R13 composed of a plurality of polysilicon resistor elements is laid out between the
The
このような構成により、出力トランジスタT12を形成する拡散領域20,21間に抵抗R13をレイアウトしたので、面積効率を向上させることができる。また、出力トランジスタT12を2つの拡散領域に形成される多数のNチャネルMOSトランジスタで構成しながら、各トランジスタと抵抗R13との間の配線長をほぼ揃えることができる。従って、パッド11から出力トランジスタT12を構成する多数のトランジスタまでの配線長をほぼ等長とし、プロセス依存や温度依存による各トランジスタの出力特性の変動を揃えて、出力トランジスタT12の出力特性を向上させることができる。
With such a configuration, since the resistor R13 is laid out between the
上記実施の形態は、以下に示す態様で実施することもできる。
・パッド11は、プルアップ側出力トランジスタとプルダウン側出力トランジスタのいずれの拡散領域側にレイアウトしてもよい。
The embodiment described above can also be carried out in the following manner.
The
なお、本発明の諸態様を以下に付記としてまとめる。
(付記1)
出力トランジスタの出力ノードを配線及び抵抗を介してパッドに接続した出力回路において、
前記抵抗の両側に前記出力トランジスタを形成する複数の領域を相対向するようにレイアウトし、前記領域の外側に前記パッドをレイアウトしたことを特徴とするI/Oセルの出力回路。
(付記2)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタとプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードをそれぞれ抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトし、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記3)
前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とを一列にレイアウトしたことを特徴とする付記2記載のI/Oセルの出力回路。
(付記4)
前記プルアップ側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗と、前記プルダウン側トランジスタと前記パッドとの間に接続される抵抗とをそれぞれ一列ずつにレイアウトしたことを特徴とする付記2記載のI/Oセルの出力回路。
(付記5)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタとプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードを共通の抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域の一方に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、他方の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトし、前記プルアップ側トランジスタ及びプルダウン側トランジスタの出力ノードと前記各抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記6)
前記出力トランジスタをプルアップ側トランジスタで構成し、前記プルアップ側トランジスタの出力ノードを抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域に前記プルアップ側トランジスタをレイアウトするとともに、前記各領域の前記プルアップ側トランジスタの出力ノードと前記抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする請求項1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記7)
前記出力トランジスタをプルダウン側トランジスタで構成し、前記プルダウン側トランジスタの出力ノードを抵抗及び配線を介して前記パッドに接続し、前記複数の領域に前記プルダウン側トランジスタをレイアウトするとともに、前記各領域の前記プルダウン側トランジスタの出力ノードと前記抵抗との間の配線を等長としたことを特徴とする付記1記載のI/Oセルの出力回路。
(付記8)
前記抵抗をポリシリコンで形成したことを特徴とする付記1乃至7のいずれか1項に記載のI/Oセルの出力回路。
The various aspects of the present invention are summarized as additional notes below.
(Appendix 1)
In an output circuit in which an output node of an output transistor is connected to a pad via a wiring and a resistor,
An output circuit of an I / O cell, wherein a plurality of regions forming the output transistor are laid out on both sides of the resistor so as to face each other, and the pad is laid out outside the region.
(Appendix 2)
The output transistor is constituted by a pull-up side transistor and a pull-down side transistor, and output nodes of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor are connected to the pad via a resistor and a wiring, respectively, and the one of the plurality of regions is connected to the pad. The pull-up side transistor is laid out, the pull-down side transistor is laid out in the other region, and the wiring between the output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and each resistor is made equal in length. The output circuit of the I / O cell according to
(Appendix 3)
The I / according to
(Appendix 4)
The resistor connected between the pull-up side transistor and the pad and the resistor connected between the pull-down side transistor and the pad are laid out in a line, respectively. I / O cell output circuit.
(Appendix 5)
The output transistor is composed of a pull-up side transistor and a pull-down side transistor, and an output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor is connected to the pad via a common resistor and wiring, and is connected to one of the plurality of regions. The pull-up side transistor is laid out, the pull-down side transistor is laid out in the other region, and the wiring between the output node of the pull-up side transistor and the pull-down side transistor and each resistor is made equal. The output circuit of the I / O cell according to
(Appendix 6)
The output transistor is constituted by a pull-up side transistor, an output node of the pull-up side transistor is connected to the pad via a resistor and a wiring, the pull-up side transistor is laid out in the plurality of regions, 2. The output circuit of an I / O cell according to
(Appendix 7)
The output transistor is configured by a pull-down transistor, an output node of the pull-down transistor is connected to the pad via a resistor and a wiring, the pull-down transistor is laid out in the plurality of regions, 2. The output circuit of an I / O cell according to
(Appendix 8)
8. The I / O cell output circuit according to any one of
11 パッド
12,13,16,17,18,19,20,21 拡散領域
T11,T12 出力トランジスタ
R11,R12,R13 抵抗
11
Claims (5)
前記抵抗の両側に前記出力トランジスタを形成する複数の領域を相対向するようにレイアウトし、前記領域の外側に前記パッドをレイアウトしたことを特徴とするI/Oセルの出力回路。 In an output circuit in which an output node of an output transistor is connected to a pad via a wiring and a resistor,
An output circuit of an I / O cell, wherein a plurality of regions forming the output transistor are laid out on both sides of the resistor so as to face each other, and the pad is laid out outside the region.
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