JP5483994B2 - Image forming method - Google Patents

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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
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Description

本発明は、電子写真における静電荷像を顕像化するための画像形成方法に使用されるトナー及び画像形成方法に関する。   The present invention relates to a toner used in an image forming method for visualizing an electrostatic charge image in electrophotography and an image forming method.

従来、電子写真法における画像形成方法としては、静電荷像担持体として感光体を使用し、一次帯電器を用いたコロナ帯電の如き帯電方法によって感光体表面を一様に帯電させる。その後、画像露光して感光体表面に静電荷像を形成し、ジャンピング現像法または磁気ブラシ法の如き現像方法により該静電荷像を現像することによって感光体表面にトナー画像を形成する。この後、必要に応じて転写前帯電器を用いて転写前処理を施し(通常はDCもしくはACによるコロナの付与、または光除電などを組み合わせたりする)、トナー画像を転写材上に転写帯電器により転写する。その後、定着装置に送ってトナー像を定着し画像が得られる。一方、感光体上の転写残りのトナーをクリーニング装置により除去し、次の画像形成に備える方法が一般的な方法として知られている。   Conventionally, as an image forming method in electrophotography, a photoreceptor is used as an electrostatic charge image carrier, and the surface of the photoreceptor is uniformly charged by a charging method such as corona charging using a primary charger. Thereafter, the image is exposed to form an electrostatic image on the surface of the photoconductor, and the electrostatic image is developed by a developing method such as a jumping development method or a magnetic brush method to form a toner image on the surface of the photoconductor. After this, if necessary, pre-transfer processing is performed using a pre-transfer charger (usually combining with application of corona by DC or AC, or light neutralization), and a toner image is transferred onto the transfer material. Transfer by. Thereafter, the toner image is sent to a fixing device to fix the image. On the other hand, a method is known as a general method in which the toner remaining on the photosensitive member after transfer is removed by a cleaning device to prepare for the next image formation.

近年では複写機及びプリンターの如き画像形成方法が広く普及するに従い、画像形成方法並びにトナーに要求される性能もより高度になってきており、更なる高画質化、高速化、小型化、高耐久安定性、高信頼性が求められている。   In recent years, as image forming methods such as copiers and printers have become widespread, the performance required for image forming methods and toners has become higher, and further higher image quality, higher speed, smaller size, and higher durability. Stability and high reliability are required.

更なる高画質化を目指す為には、トナーの帯電特性や流動特性を適切な値にコントロールする必要があり、その為にトナー粒子と無機微粉体を混合する方法が一般的に用いられている。   In order to achieve higher image quality, it is necessary to control the charging characteristics and flow characteristics of the toner to appropriate values. For this purpose, a method of mixing toner particles and inorganic fine powder is generally used. .

該無機微粉体としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウムなどが知られており、これらの無機微粉体は帯電特性や流動特性等の改善を目的として、疎水化処理を施す方法が種々提案されている。例えばシリカ微粒子では、ジメチルジクロロシラン、ヘキサメチルジシラザンなどのシランカップリング処理剤とシリカ微粒子の表面のシラノール基を反応させる方法や、シリコーンオイルで表面を処理することで疎水化する方法が知られている。   As the inorganic fine powder, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide and the like are known, and various methods for subjecting these inorganic fine powders to a hydrophobization treatment have been proposed for the purpose of improving charging characteristics and flow characteristics. ing. For example, in silica fine particles, there are known methods of reacting silane coupling treatment agents such as dimethyldichlorosilane and hexamethyldisilazane with silanol groups on the surface of silica fine particles, and methods of hydrophobizing by treating the surface with silicone oil. ing.

これらのうち、シリコーンオイル処理をしたシリカ微粒子は、十分な疎水性を有し、かつ帯電特性や流動特性、更に転写性が良好となることから好ましく用いられている。例えば、特許文献1では、シリコーンオイルの遊離率を10乃至70%にすることで優れた転写性を有するシリカ微粒子が提案されている。また、特許文献2では、シリコーンオイル処理後に、アルキルシラザン化合物とカップリング処理をする二段処理を施し、分散性を向上したシリカ微粒子が提案されている。   Of these, silica fine particles treated with silicone oil are preferably used because they have sufficient hydrophobicity and charge characteristics, flow characteristics, and transfer properties are improved. For example, Patent Document 1 proposes silica fine particles having excellent transferability by setting the release rate of silicone oil to 10 to 70%. Further, Patent Document 2 proposes silica fine particles having improved dispersibility by performing a two-step treatment for coupling with an alkylsilazane compound after the silicone oil treatment.

しかしながら、いずれのシリカ微粒子を用いたトナーでも、トナーからのシリカ微粒子の遊離による複写機内への飛散によりコロナ帯電器のワイヤーを汚染し、縦スジ等の画質を悪化させる問題が発生することがあった。   However, in any toner using silica fine particles, the corona charger wire may be contaminated by scattering of the silica fine particles from the toner into the copying machine due to the liberation of the silica fine particles, resulting in a problem of deteriorating image quality such as vertical stripes. It was.

ワイヤー汚染の原因は、疎水化処理を施されたシリカ微粒子は、疎水化処理時に凝集物を生じ易い。この凝集物は比表面積が小さく、トナーとの相互作用が弱くなるので、トナー粒子から離れ易く、シリカ微粒子の凝集物が単独で現像器から飛散し易い。   The cause of the wire contamination is that the silica fine particles that have been subjected to the hydrophobization treatment tend to form aggregates during the hydrophobization treatment. Since the aggregate has a small specific surface area and weak interaction with the toner, the aggregate is easily separated from the toner particles, and the aggregate of silica fine particles is easily scattered from the developing unit alone.

飛散したシリカ微粒子は、比重が小さいので複写機内の気流に従って、複写機内を飛翔し、コロナ帯電器の放電ワイヤーに到達し、帯電器のワイヤー汚染を生じると考えられる。   Since the scattered silica particles have a small specific gravity, it is considered that the silica fine particles fly in the copying machine according to the air flow in the copying machine, reach the discharge wire of the corona charger, and cause wire contamination of the charger.

この問題に対して、特許文献3では、シリカ微粉子の比表面積と嵩密度を規定の範囲内にすれば、シリカ微粒子の凝集体ができにくくなり、ワイヤー汚染に効果のあるトナーが提案されている。   With respect to this problem, Patent Document 3 proposes a toner that is difficult to form an aggregate of silica fine particles if the specific surface area and bulk density of the silica fine powder are within the specified ranges, and is effective in wire contamination. Yes.

一方、感光体としては、高耐久安定性、高信頼性が求められる高速複写機においては、水素化アモルファス炭化珪素(以下、「a−SiC」と称する。)感光体が好ましく用いられる。a−SiC感光体は可視光領域の全般にわたって高い感度を有し、表面硬度が高くて耐久性、耐熱性に優れるという長所を持っている。それ故、繰り返し使用による劣化もほとんど認められないことから、長期にわたり鮮明な静電荷像を形成できる感光体として期待されている。   On the other hand, as a photoconductor, a hydrogenated amorphous silicon carbide (hereinafter referred to as “a-SiC”) photoconductor is preferably used in a high-speed copying machine that requires high durability stability and high reliability. The a-SiC photoreceptor has advantages in that it has high sensitivity over the entire visible light region, has high surface hardness, and is excellent in durability and heat resistance. Therefore, since there is almost no deterioration due to repeated use, it is expected as a photoreceptor capable of forming a clear electrostatic charge image over a long period of time.

しかしながら、a−SiC系感光体は、多くのダングリングボンドを有しており、このダングリングボンドが光キャリアを補足することで鮮明な静電荷像の形成を阻害することが知られている。   However, it is known that the a-SiC photoconductor has many dangling bonds, and the dangling bonds supplement the optical carriers to inhibit the formation of a clear electrostatic charge image.

これに対して、特許文献4では、プラズマCVD法による感光体の形成方法において、プラズマ密度を規定した方法により感光体の層を形成することで、ダングリングボンドの少ない感光体を得る方法を提案している。   On the other hand, Patent Document 4 proposes a method for obtaining a photoconductor with less dangling bonds by forming a photoconductor layer by a method in which the plasma density is defined in the method of forming a photoconductor by plasma CVD. doing.

特開2002−174926号公報JP 2002-174926 A 特開2004−168559号公報JP 2004-168559 A 特開平05−066608号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-0666608 特開平08−211641号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-211641

しかしながら、上記従来例では、シリカ微粒子の遊離を抑制することは可能であるが、完全に無くすことはできておらず、微小ながらも遊離し、飛散するシリカ微粒子は存在している。また、高速化が進むにつれてトナー及びシリカ微粒子が受けるシェア及び遠心力も強くなり、シリカ微粒子の飛散については厳しい状況になってきている。   However, in the above-described conventional example, it is possible to suppress the release of silica fine particles, but it is not possible to eliminate them completely, and there are silica fine particles that are released even though they are minute. Further, as the speed increases, the share and centrifugal force received by the toner and silica fine particles become stronger, and the scattering of the silica fine particles has become severe.

更に、トナーが受けるシェア及び遠心力が強くなるにつれ、トナーの飛散にも厳しい状況になってきている。微小ながらもシリカ微粒子が付着しているトナーが帯電器のワイヤーに飛散すると、帯電器のワイヤーを汚染することがあった。   Further, as the share and centrifugal force received by the toner become stronger, the situation of toner scattering has become severe. When toner with fine silica particles adhering thereto is scattered on the charger wire, the charger wire may be contaminated.

すなわち、従来の方法によっても、更なる高速化が進んだことにより、シリカ微粒子やトナーの飛散及び帯電器のコロナ放電電流の増加によってワイヤー汚染が促進されるので、画質及び耐久性に問題がある場合があった。   That is, even with the conventional method, since the further increase in the speed has been achieved, wire contamination is promoted by the scattering of silica particles and toner and the increase of the corona discharge current of the charger, so there is a problem in image quality and durability. There was a case.

一方、耐久安定性に優れたa−SiC感光体は高速な電子写真装置用の感光体として秀でているが、所定の暗部表面電位を維持するためには、他の感光体と比較して、大容量のコロナ放電電流が必要となる場合がある。   On the other hand, the a-SiC photoconductor excellent in durability stability is excellent as a photoconductor for a high-speed electrophotographic apparatus, but in order to maintain a predetermined dark portion surface potential, it is in comparison with other photoconductors. In some cases, a large capacity corona discharge current is required.

更に、高速化が進むにつれて、a−SiC感光体が帯電領域を通過する時間も短くなる為に、所定の暗部電位を維持する為のコロナ放電電流が更に高くなる場合がある。   Further, as the speed increases, the time for the a-SiC photoconductor to pass through the charged region is also shortened, so that the corona discharge current for maintaining a predetermined dark portion potential may be further increased.

a−SiC感光体は、ダングリングボンドを有すると表面が構造的に弱くなり、コロナ放電により酸化されやすくなる。その結果、表面導電率が変化し、画像の流れ等の画像欠陥を引き起こす。   When the a-SiC photoreceptor has dangling bonds, the surface becomes structurally weak and is easily oxidized by corona discharge. As a result, the surface conductivity changes and causes image defects such as image flow.

それに対して、上記従来技術において、ダングリングボンドの少ない感光体を得る方法が提案されている。しかしながら、コロナ放電電流が高くなると、感光体表面の酸化は更に促進されることとなり、上記従来技術においても高耐久性、高画質化という点で十分でない場合があった。   On the other hand, in the above prior art, a method for obtaining a photoconductor with less dangling bonds has been proposed. However, when the corona discharge current is increased, the oxidation of the surface of the photoreceptor is further promoted, and even in the above prior art, it may not be sufficient in terms of high durability and high image quality.

また、シリコーンオイル処理を施したシリカ微粒子は、固定化率が低い状態で感光体表面に付着すると、微小ながら感光体表面にシリコーンオイルを残存させる。このシリコーンオイルが複写機内で揮発すると、コロナ放電電流が高い状態では帯電器のワイヤーに薄膜を形成し、汚染することがあった。   Further, when the silica fine particles subjected to the silicone oil treatment adhere to the surface of the photosensitive member with a low immobilization rate, the silicone oil remains on the surface of the photosensitive member although being minute. When this silicone oil volatilizes in the copying machine, a thin film is formed on the wire of the charger in a state where the corona discharge current is high, which may be contaminated.

また、感光体表面に付着したシリコーンオイルは、感光体に残ったトナーをクリーニングする際に、感光体とクリーニングブレードとの間で潤滑油のような役目を果たし、高い表面硬度を有したa−SiC感光体でも感光体の削れを促進してしまう場合があった。   Further, the silicone oil adhering to the surface of the photoconductor acts as a lubricating oil between the photoconductor and the cleaning blade when cleaning the toner remaining on the photoconductor, and has a high surface hardness. In some cases, the SiC photoconductor also promotes the abrasion of the photoconductor.

近年の電子写真装置には、更なる高速化、高画質化、高耐久性が求められている。特に高耐久性を目指す上で、部品の交換は可能な限り少なくする必要があるが、従来の手法のみでは高速化と高耐久安定性の両立は困難であった。   Recent electrophotographic apparatuses are required to have higher speed, higher image quality, and higher durability. In particular, when aiming for high durability, it is necessary to replace as few parts as possible. However, it has been difficult to achieve both high speed and high durability stability with only conventional methods.

本発明の目的は、上記問題を解消したトナー及び画像形成方法を提供することである。即ち、更なる高速化を目指した電子写真装置で、長期間使用してもワイヤー汚染が問題にならないトナー及び画像形成方法を提供することである。更に、感光体の削れ及び感光体表面の酸化反応を抑制し、高速化、高画質化、高耐久安定性を有したトナー及び画像形成方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a toner and an image forming method that solve the above problems. That is, it is an electrophotographic apparatus aiming at further speeding up, and to provide a toner and an image forming method in which wire contamination does not become a problem even when used for a long time. It is another object of the present invention to provide a toner and an image forming method that suppresses the photoconductor scraping and the oxidation reaction on the surface of the photoconductor and has high speed, high image quality, and high durability stability.

上記課題を解決する為の本発明は、静電荷像を担持するための静電荷像担持体を帯電し、帯電された該静電荷像担持体に静電荷像を形成し、該静電荷像を現像して該静電荷像担持体上にトナー像を形成し、該静電荷像担持体上の該トナー像を転写材に転写する工程を有する画像形成方法であって、
該静電荷像担持体は少なくとも光導電層と、水素化アモルファス炭化珪素で形成されている表面層とを順次積層した感光体であり、該感光体の表面層の珪素原子の原子密度と炭素原子の原子密度の和が6.60×1022原子/cm3以上であり、
該トナーが少なくとも結着樹脂と着色剤を含有するトナー粒子と、シリカ微粒子を有するトナーであり、該シリカ微粒子が、少なくともシリコーンオイルによる処理が施されており、且つ該シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率が30質量%以上95質量%以下であることを特徴とする画像形成方法に関する。
In order to solve the above problems, the present invention charges an electrostatic charge image carrier for carrying an electrostatic charge image, forms an electrostatic charge image on the charged electrostatic charge image carrier, developed to form a toner image on the electrostatic charge image bearing member, an image forming how having a step of transferring to a transfer material the toner image on the electrostatic charge image bearing member,
The electrostatic charge image carrier is a photoreceptor in which at least a photoconductive layer and a surface layer formed of hydrogenated amorphous silicon carbide are sequentially laminated, and the atomic density of carbon atoms and carbon atoms in the surface layer of the photoreceptor The sum of the atomic densities of 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or more,
The toner is toner having toner particles containing at least a binder resin and a colorant, and silica fine particles, the silica fine particles are at least treated with a silicone oil, and the carbon amount standard of the silicone oil is used. images formed how to, wherein the immobilization of not more than 30 mass% to 95 mass% relates.

本発明によれば、更なる高速化を目指した電子写真装置においても、トナーやシリカ微粒子及びシリコーンオイルによる帯電器のワイヤー汚染が問題にならないトナー及び画像形成方法を提供できる。更に、感光体表面の酸化及び削れを抑制し、高耐久安定性を有したトナー及び画像形成方法を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a toner and an image forming method in which the wire contamination of the charger due to toner, silica fine particles, and silicone oil does not become a problem even in an electrophotographic apparatus aiming at further speeding up. Further, it is possible to provide a toner and an image forming method that suppress the oxidation and abrasion of the surface of the photoreceptor and have high durability stability.

本発明の感光体の作製に用いられるプラズマCVD装置の一例の模式図である。It is a schematic diagram of an example of the plasma CVD apparatus used for preparation of the photoconductor of this invention. メタノール滴下透過曲線である。It is a methanol dripping permeation curve. 複数のトナー担持体を有する現像装置の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a developing device having a plurality of toner carriers.

本発明者らは、高速化を進めた電子写真装置において、帯電器のワイヤー汚染と正電荷像担持体(感光体)表面の酸化及び削れを抑制する為に、シリカ微粒子と水素化アモルファス炭化珪素(a−SiC)感光体に着目し、検討を行った。   In the electrophotographic apparatus that has been increased in speed, the present inventors have developed silica fine particles and hydrogenated amorphous silicon carbide in order to suppress wire contamination of the charger and oxidation and scraping of the surface of the positively charged image carrier (photoconductor). The investigation was conducted focusing on the (a-SiC) photoreceptor.

その結果、シリカ微粒子としては、シリコーンオイルの固定化率を制御し、a−SiC感光体においては、ある一定以上の原子密度の表面層を有した感光体を用いることで、上記課題を解決するに至った。   As a result, as the silica fine particles, the fixing rate of the silicone oil is controlled, and in the a-SiC photoconductor, the photoconductor having a surface layer having a certain atomic density or more is used to solve the above-mentioned problem. It came to.

本発明において、上記のような効果が得られる理由は、必ずしも明確ではないが、感光体とシリカ微粒子及びシリコーンオイルとの間に相互作用が効果的に働き、帯電器へ飛翔するシリカ微粒子やシリコーンオイルの揮発を抑制できるためであると考えられる。   In the present invention, the reason why the above-described effect can be obtained is not necessarily clear, but the silica particle or silicone flying to the charger effectively works as an interaction between the photoconductor, the silica fine particle and the silicone oil. This is considered to be because the volatilization of oil can be suppressed.

すなわち本発明は、感光体の表面層の珪素原子の原子密度と炭素原子の原子密度の和が6.60×1022原子/cm3以上であることを特徴とし、好ましくは6.81×1022原子/cm3以上であることが良い。 That is, the present invention is characterized in that the sum of the atomic density of silicon atoms and the atomic density of carbon atoms in the surface layer of the photoreceptor is 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or more, preferably 6.81 × 10 6. It is good that it is 22 atoms / cm 3 or more.

a−SiC感光体の表面層の珪素原子の原子密度と炭素原子の原子密度の和が6.60×1022原子/cm3以上という高い密度を有すると、シリカ微粒子及びシリコーンオイルと接触する単位面積あたりの原子数が多くなる。シリカ微粒子及びシリコーンオイルを構成している原子とa−SiC感光体表面層を構成している原子(Si及びC)は本質的に同じ原子であり、二つの間には引力が働くことが考えられる。単位面積あたりの原子数が多くなるということはそれだけ強い相互作用が働くことになり、a−SiC感光体表面に残存したシリカ微粒子の遊離及びシリコーンオイルの揮発を抑制していると考えられる。 When the sum of the atomic density of silicon atoms and the atomic density of carbon atoms in the surface layer of the a-SiC photoreceptor has a high density of 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or more, the unit is in contact with silica fine particles and silicone oil The number of atoms per area increases. The atoms constituting the silica fine particles and the silicone oil and the atoms (Si and C) constituting the surface layer of the a-SiC photoreceptor are essentially the same atoms, and it is considered that attractive force acts between the two. It is done. An increase in the number of atoms per unit area means that a strong interaction works, and it is considered that the release of silica fine particles remaining on the surface of the a-SiC photoreceptor and the volatilization of silicone oil are suppressed.

a−SiC感光体の表面層を構成する珪素原子及び炭素原子の原子密度の和が6.60×1022原子/cm3以下となると、帯電工程により感光体表面の炭素原子の酸化及び脱離が生じて、珪素原子との結合が切断されやすくなる。その結果生じたダングリングボンドに酸化物質が反応することでa−SiCの表面層の酸化反応が生じ、珪素原子と炭素原子の密度が粗になると考えられる。その結果シリコーンオイル処理をしたシリカ微粒子と単位面積当たりに接触する原子数が減少し、感光体とシリカ微粒子との間で相互作用が働き難くなり、ワイヤー汚染が発生すると考えられる。よって、a−SiC感光体の表面層の珪素原子の原子密度と炭素原子の原子密度の和は6.60×1022原子/cm3以上が必要となる。 When the sum of the atomic densities of silicon atoms and carbon atoms constituting the surface layer of the a-SiC photoconductor is 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or less, oxidation and desorption of carbon atoms on the photoconductor surface are performed by the charging step. Is generated, and the bond with the silicon atom is easily broken. It is considered that the oxidation reaction of the surface layer of a-SiC occurs due to the reaction of the oxidized substance with the resulting dangling bond, and the density of silicon atoms and carbon atoms becomes coarse. As a result, the number of atoms in contact with the silica fine particles treated with the silicone oil per unit area is reduced, and the interaction between the photoconductor and the silica fine particles becomes difficult to work, and wire contamination is considered to occur. Therefore, the sum of the atomic density of silicon atoms and the atomic density of carbon atoms in the surface layer of the a-SiC photoreceptor needs to be 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or more.

また、感光体の表面層を構成する、珪素原子の原子数、炭素原子の原子数及び水素原子の原子数の和に対する水素原子の原子数の比(以下、「H原子比」と称する。)が0.30以上0.45以下であることで更に効果的にワイヤー汚染を抑制することが可能となる。   The ratio of the number of hydrogen atoms to the sum of the number of silicon atoms, the number of carbon atoms and the number of hydrogen atoms constituting the surface layer of the photoreceptor (hereinafter referred to as “H atom ratio”). Is 0.30 or more and 0.45 or less, it becomes possible to suppress wire contamination more effectively.

原子密度の高いa−SiC表面層において、H原子比が0.30より少ない場合、光学的バンドギャップが狭くなり、感光体の感度が悪化する場合がある。その結果、所望の電位を得るためには、更に高いコロナ放電電流を必要とする場合があり、ワイヤーの汚染を加速することが考えられる。これにより、H原子比は0.30より大きくすることが好ましい。   In the a-SiC surface layer having a high atomic density, when the H atomic ratio is less than 0.30, the optical band gap is narrowed, and the sensitivity of the photoreceptor may be deteriorated. As a result, in order to obtain a desired potential, a higher corona discharge current may be required, and it is considered that the contamination of the wire is accelerated. Thereby, it is preferable to make H atomic ratio larger than 0.30.

また、H原子比が0.45より大きい場合、a−SiC表面層中には、メチル基のような水素原子の多い終端基が増加する傾向が見られる。すなわち、周囲に存在する原子間の結合にひずみを生じさせる。その結果、シリカ微粒子との相互作用が弱くなり、ワイヤー汚染を発生する場合が考えられる。このような理由により、H原子比は0.45以下とすることが好ましい。   Further, when the H atom ratio is larger than 0.45, a termination group having a large number of hydrogen atoms such as a methyl group tends to increase in the a-SiC surface layer. That is, distortion is generated in the bonds between atoms existing around. As a result, the interaction with the silica fine particles is weakened, and wire contamination may occur. For these reasons, the H atomic ratio is preferably 0.45 or less.

次に本発明の感光体の製造方法の一例について説明する。図1は、本発明のa−Si系感光体を作製するための高周波電源を用いたRFプラズマCVD法による感光体の堆積装置の一例を模式的に示したものである。   Next, an example of a method for producing a photoreceptor according to the present invention will be described. FIG. 1 schematically shows an example of an apparatus for depositing a photoconductor by an RF plasma CVD method using a high-frequency power source for producing the a-Si photoconductor of the present invention.

この装置は大別すると、反応容器1110を有する堆積装置1100、原料ガス供給装置1200、および、反応容器1110内を減圧する為の排気装置(図示せず)から構成されている。   This apparatus is roughly composed of a deposition apparatus 1100 having a reaction vessel 1110, a raw material gas supply apparatus 1200, and an exhaust device (not shown) for depressurizing the inside of the reaction container 1110.

堆積装置1100中の反応容器1110内にはアースに接続された導電性基体1112、導電性基体加熱用ヒーター1113、および、原料ガス導入管1114が設置されている。さらにカソード電極1111には高周波マッチングボックス1115を介して高周波電源1120が接続されている。   A conductive substrate 1112, a conductive substrate heating heater 1113, and a source gas introduction pipe 1114 connected to the ground are installed in the reaction vessel 1110 in the deposition apparatus 1100. Further, a high frequency power source 1120 is connected to the cathode electrode 1111 via a high frequency matching box 1115.

原料ガス供給装置1200は、SiH4,H2,CH4,NO,B26等の原料ガスボンベ1221乃至1225、バルブ1231乃至1235、圧力調整器1261乃至1265、流入バルブ1241乃至1245、流出バルブ1251乃至1255およびマスフローコントローラ1211乃至1215から構成されている。各原料ガスを封入したガスのボンベは補助バルブ1260を介して反応容器1110内の原料ガス導入管1114に接続されている。 The source gas supply device 1200 includes source gas cylinders 1221 to 1225 such as SiH 4 , H 2 , CH 4 , NO, and B 2 H 6 , valves 1231 to 1235, pressure regulators 1261 to 1265, inflow valves 1241 to 1245, and outflow valves. 1251 to 1255 and mass flow controllers 1211 to 1215. A gas cylinder filled with each source gas is connected to a source gas introduction pipe 1114 in the reaction vessel 1110 via an auxiliary valve 1260.

次にこの装置を使った堆積膜の形成方法について説明する。まず、あらかじめ脱脂洗浄した導電性基体1112を反応容器1110に受け台1123を介して設置する。次に、排気装置(図示せず)を運転し、反応容器1110内を排気する。真空計1119の表示を見ながら、反応容器1110内の圧力がたとえば1Pa以下の所定の圧力になったところで、基体加熱用ヒーター1113に電力を供給し、導電性基体1112を例えば50℃から350℃の所望の温度に加熱する。このとき、ガス供給装置1200より、Ar、He等の不活性ガスを反応容器1110に供給して、不活性ガス雰囲気中で加熱を行うこともできる。   Next, a method for forming a deposited film using this apparatus will be described. First, the conductive substrate 1112 that has been degreased and washed in advance is placed in the reaction vessel 1110 via a cradle 1123. Next, an exhaust device (not shown) is operated to exhaust the reaction vessel 1110. While viewing the display on the vacuum gauge 1119, when the pressure in the reaction vessel 1110 reaches a predetermined pressure of, for example, 1 Pa or less, power is supplied to the substrate heating heater 1113, and the conductive substrate 1112 is moved to, for example, 50 to 350 ° C. To the desired temperature. At this time, an inert gas such as Ar or He can be supplied from the gas supply apparatus 1200 to the reaction vessel 1110 and heated in an inert gas atmosphere.

次に、ガス供給装置1200より堆積膜形成に用いるガスを反応容器1110に供給する。すなわち、必要に応じバルブ1231乃至1235、流入バルブ1241乃至1245、流出バルブ1251乃至1255を開き、マスフローコントローラ1211乃至1215に流量設定を行う。各マスフローコントローラの流量が安定したところで、真空計1119の表示を見ながらメインバルブ1118を操作し、反応容器1110内の圧力が所望の圧力になるように調整する。所望の圧力が得られたところで高周波電源1120より高周波電力を印加すると同時に高周波マッチングボックス1115を操作し、反応容器1110内にプラズマ放電を生起する。その後、速やかに高周波電力を所望の電力に調整し、堆積膜の形成を行う。   Next, a gas used to form a deposited film is supplied from the gas supply device 1200 to the reaction vessel 1110. That is, if necessary, the valves 1231 to 1235, the inflow valves 1241 to 1245, and the outflow valves 1251 to 1255 are opened, and the flow rate is set in the mass flow controllers 1211 to 1215. When the flow rate of each mass flow controller is stabilized, the main valve 1118 is operated while viewing the display of the vacuum gauge 1119 to adjust the pressure in the reaction vessel 1110 to a desired pressure. When a desired pressure is obtained, high frequency power is applied from the high frequency power source 1120 and at the same time, the high frequency matching box 1115 is operated to generate plasma discharge in the reaction vessel 1110. Thereafter, the high frequency power is quickly adjusted to a desired power, and a deposited film is formed.

所定の堆積膜の形成が終わったところで、高周波電力の印加を停止し、バルブ1231乃至1235、流入バルブ1241乃至1245、流出バルブ1251乃至1255、および補助バルブ1260を閉じ、原料ガスの供給を終える。同時に、メインバルブ1118を全開にし、反応容器1110内を1Pa以下の圧力まで排気する。   When the formation of the predetermined deposited film is finished, the application of high-frequency power is stopped, the valves 1231 to 1235, the inflow valves 1241 to 1245, the outflow valves 1251 to 1255, and the auxiliary valve 1260 are closed, and the supply of the source gas is finished. At the same time, the main valve 1118 is fully opened, and the reaction vessel 1110 is evacuated to a pressure of 1 Pa or less.

以上で、堆積層の形成を終えるが、複数の堆積層を形成する場合、再び上記の手順を繰り返してそれぞれの層を形成すれば良い。原料ガス流量や、圧力等を光導電層形成用の条件に一定の時間で変化させて、接合領域の形成を行うこともできる。   The formation of the deposited layers is completed as described above. When a plurality of deposited layers are formed, the above procedure is repeated again to form each layer. The bonding region can also be formed by changing the raw material gas flow rate, pressure, and the like to the conditions for forming the photoconductive layer in a certain time.

すべての堆積膜形成が終わったのち、メインバルブ1118を閉じ、反応容器1110内に不活性ガスを導入し大気圧に戻した後、導電性基体1112を取り出す。   After all the deposited films are formed, the main valve 1118 is closed, an inert gas is introduced into the reaction vessel 1110 to return to atmospheric pressure, and then the conductive substrate 1112 is taken out.

本発明の電子写真感光体は、従来周知の電子写真感光体の表面層に比べてa−SiCを構成している珪素原子及び炭素原子の原子密度を上げて、原子密度の高い膜構造の表面層を形成している。上述したように、本発明の原子密度の高いa−SiC表面層を作製する場合には、表面層作成時の条件にもよるが、一般的に、ガス量と高周波電力とのバランスが重要である。すなわち、反応容器に供給するガス量が少ない方が良く、高周波電力は高い方が良く、反応容器内の圧力が高い方が良く、更に、導電性基板の温度が高い方が良い。   The electrophotographic photosensitive member of the present invention has a film structure having a high atomic density by increasing the atomic density of silicon atoms and carbon atoms constituting a-SiC as compared with the surface layer of a conventionally known electrophotographic photosensitive member. Forming a layer. As described above, when an a-SiC surface layer having a high atomic density according to the present invention is manufactured, the balance between the amount of gas and high-frequency power is generally important, although it depends on the conditions at the time of surface layer preparation. is there. That is, it is better that the amount of gas supplied to the reaction vessel is smaller, the high frequency power is better, the pressure in the reaction vessel is higher, and the temperature of the conductive substrate is higher.

まず、反応容器内に供給するガス量を減らし、且つ高周波電力を上げることにより、ガスの分解を促進させることができる。これにより、珪素原子供給源(例えば、SiH4)よりも分解し難い炭素原子供給源(例えば、CH4)を効率良く分解することができる。その結果、水素原子の少ない活性種が生成され、基体上に堆積した膜中の水素原子が減少するため原子密度の高いa−SiC表面層が形成可能となる。 First, the gas decomposition can be promoted by reducing the amount of gas supplied into the reaction vessel and increasing the high-frequency power. Thereby, a carbon atom supply source (for example, CH 4 ) that is harder to decompose than a silicon atom supply source (for example, SiH 4 ) can be efficiently decomposed. As a result, active species having a small number of hydrogen atoms are generated, and the number of hydrogen atoms in the film deposited on the substrate is reduced, so that an a-SiC surface layer having a high atomic density can be formed.

また、反応容器内の圧力を高めることで、反応容器内に供給された原料ガスの滞留時間が長くなり、また、原料ガスの分解により生じた水素原子により弱結合水素の引き抜き反応が生じるために、珪素原子と炭素原子のネットワーク化が促進したためだと考えている。   In addition, by increasing the pressure in the reaction vessel, the residence time of the raw material gas supplied into the reaction vessel becomes longer, and a weakly bonded hydrogen abstraction reaction occurs due to hydrogen atoms generated by the decomposition of the raw material gas. This is because the networking of silicon and carbon atoms has been promoted.

更に、導電性基板の温度を上げることにより、導電性基板に到達した活性種の表面移動距離が長くなり、より安定した結合をつくることができる。その結果、a−SiC表面層として、より構造的に安定した配置に各原子が結合しているためであると考えている。   Furthermore, by raising the temperature of the conductive substrate, the surface movement distance of the active species that has reached the conductive substrate is increased, and a more stable bond can be created. As a result, it is considered that each atom is bonded to a more structurally stable arrangement as the a-SiC surface layer.

Si+C原子密度、C原子比及びH原子比の測定方法について以下に示す。   The measuring method of Si + C atom density, C atom ratio, and H atom ratio is shown below.

まず、表1の電荷注入阻止層及び光導電層のみを積層させたリファレンス電子写真感光体を作製し、任意の周方向における長手方向の中央部を15mm四方で切り出し、リファレンス試料を作製した。次に、電荷注入阻止層、光導電層及び表面層を積層させた電子写真感光体を同様に切り出し、測定用試料を作製した。リファレンス試料と測定用試料を分光エリプソメトリー(J.A.Woollam社製:高速分光エリプソメトリー M−2000)により測定し、表面層の膜厚を求めた。   First, a reference electrophotographic photosensitive member in which only the charge injection blocking layer and the photoconductive layer shown in Table 1 were laminated was prepared, and a central portion in the longitudinal direction in an arbitrary circumferential direction was cut out in a 15 mm square to prepare a reference sample. Next, an electrophotographic photosensitive member in which the charge injection blocking layer, the photoconductive layer, and the surface layer were laminated was similarly cut out to prepare a measurement sample. The reference sample and the measurement sample were measured by spectroscopic ellipsometry (manufactured by JA Woollam: high-speed spectroscopic ellipsometry M-2000) to determine the film thickness of the surface layer.

分光エリプソメトリーの具体的な測定条件は、入射角:60°、65°、70°、測定波長:195nmから700nm、ビーム径:1mm×2mmである。   Specific measurement conditions of spectroscopic ellipsometry are incident angles: 60 °, 65 °, 70 °, measurement wavelengths: 195 nm to 700 nm, and beam diameter: 1 mm × 2 mm.

まず、リファレンス試料を分光エリプソメトリーにより各入射角で波長と振幅比Ψ及び位相差Δの関係を求めた。   First, the relationship between the wavelength, the amplitude ratio Ψ, and the phase difference Δ was determined for each reference angle of the reference sample by spectroscopic ellipsometry.

次に、リファレンス試料の測定結果をリファレンスとして、測定用試料をリファレンス試料と同様に分光エリプソメトリーにより各入射角で波長と振幅比Ψ及び位相差Δの関係を求めた。   Next, using the measurement result of the reference sample as a reference, the relationship between the wavelength, the amplitude ratio Ψ, and the phase difference Δ was determined at each incident angle by spectroscopic ellipsometry, similarly to the reference sample.

そして、電荷注入阻止層及び光導電層、表面層を順次積層し、最表面に表面層と空気層の体積比が8:2となる粗さ層を有する層構成を計算モデルとして用いて、解析ソフト:J.A.Woollam Co.,Inc.製 WVASE32により各入射角における波長とΨ及びΔの関係を計算により求めた。更に、この計算により求めた波長とΨ及びΔの関係と、測定用試料を測定して求めた波長とΨ及びΔの関係の平均二乗誤差が最小となるときの表面層の膜厚を算出し、この値を表面層の膜厚とした。   Then, a charge injection blocking layer, a photoconductive layer, and a surface layer are sequentially laminated, and a layer structure having a roughness layer with a volume ratio of the surface layer to the air layer of 8: 2 is used as a calculation model on the outermost surface. Software: J.M. A. Woollam Co. , Inc. The relationship between the wavelength, Ψ, and Δ at each incident angle was obtained by calculation using WVASE32 manufactured by WVASE32. Furthermore, the film thickness of the surface layer when the mean square error of the relationship between the wavelength obtained by this calculation and Ψ and Δ and the relationship between the wavelength obtained by measuring the measurement sample and Ψ and Δ is minimized is calculated. This value was taken as the film thickness of the surface layer.

分光エリプソメトリーによる測定が終了した後、上記測定用試料をRBS(ラザフォード後方散乱法)(日新ハイボルテージ(株)製:後方散乱測定装置 AN−2500)により、RBSの測定面積における表面層中の珪素原子及び炭素原子の原子数を測定し、C/(Si+C)を求めた。次に、RBSの測定面積から求めた珪素原子及び炭素原子の原子数に対し、分光エリプソメトリーにより求めた表面層の膜厚を用いて、珪素原子の原子密度、炭素原子の原子密度及びSi+C原子密度を求めた。   After the measurement by spectroscopic ellipsometry is completed, the sample for measurement is measured in the surface layer in the RBS measurement area by RBS (Rutherford backscattering method) (manufactured by Nissin High Voltage Co., Ltd .: Backscattering measurement device AN-2500). The number of silicon atoms and carbon atoms was measured, and C / (Si + C) was determined. Next, with respect to the number of silicon atoms and carbon atoms determined from the RBS measurement area, the atomic density of silicon atoms, the atomic density of carbon atoms, and the Si + C atoms are determined using the surface layer thickness determined by spectroscopic ellipsometry. The density was determined.

RBSと同時に、上記測定用試料をHFS(水素前方散乱法)(日新ハイボルテージ(株)製:後方散乱測定装置 AN−2500)により、HFSの測定面積における表面層中の水素原子の原子数を測定した。HFSの測定面積から求めた水素原子の原子数と、RBSの測定面積から求めた珪素原子の原子数及び炭素原子の原子数により、H原子比を求めた。次に、HFS測定面積から求めた水素原子数に対し、分光エリプソメトリーにより求めた表面層の膜厚を用いて、水素原子の原子密度を求めた。   Simultaneously with the RBS, the number of hydrogen atoms in the surface layer in the HFS measurement area was measured using the HFS (hydrogen forward scattering method) (manufactured by Nisshin High Voltage Co., Ltd .: backscattering measurement device AN-2500). Was measured. The H atom ratio was determined from the number of hydrogen atoms determined from the HFS measurement area and the number of silicon atoms and carbon atoms determined from the RBS measurement area. Next, the atomic density of hydrogen atoms was determined using the thickness of the surface layer determined by spectroscopic ellipsometry with respect to the number of hydrogen atoms determined from the HFS measurement area.

RBS及びHFSの具体的な測定条件は、入射イオン:4He+、入射エネルギー:2.3MeV、入射角:75°、試料電流:35nA、入射ビーム経:1mmであり、RBSの検出器は、散乱角:160°、アパーチャ径:8mm、HFSの検出器は、反跳角:30°、アパーチャ径:8mm+Slitで測定を行った。 Specific measurement conditions for RBS and HFS are incident ion: 4He + , incident energy: 2.3 MeV, incident angle: 75 °, sample current: 35 nA, incident beam length: 1 mm, and the detector of RBS is scattered. Angle: 160 °, aperture diameter: 8 mm, HFS detector measured with recoil angle: 30 °, aperture diameter: 8 mm + Slit.

以上のように、強い遠心力を受けてもシリカ微粒子の遊離を抑え、ワイヤー汚染を抑制する感光体について述べてきた。しかしながら、感光体の表面層の珪素原子と炭素原子の原子密度を高くしただけでは、完全にワイヤー汚染を抑制することは困難であり、効果的に感光体と相互作用するシリカ微粒子が必須である。   As described above, a photoconductor has been described that suppresses the release of silica fine particles and suppresses wire contamination even when subjected to a strong centrifugal force. However, it is difficult to completely suppress wire contamination only by increasing the atomic density of silicon atoms and carbon atoms in the surface layer of the photoreceptor, and silica fine particles that interact effectively with the photoreceptor are essential. .

すなわち、シリカ微粒子は、少なくともシリコーンオイルによる処理が施されており、且つ該シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率が30質量%以上95質量%以下、好ましくは60質量%以上90質量%以下であることを特徴とする。   That is, the silica fine particles are at least treated with silicone oil, and the carbon oil-based immobilization rate of the silicone oil is 30% by mass to 95% by mass, preferably 60% by mass to 90% by mass. It is characterized by being.

シリコーンオイルの固定化率が30質量%より少ない場合、シリカ微粒子の表面に付着しているシリコーンオイルはシリカ微粒子との付着力が弱いことが考えられる。そのために感光体上とシリカ微粒子の表面のシリコーンオイルが相互作用しても、シリカ微粒子が遊離する場合がある。更にはシリコーンオイルが過剰に感光体上に残ることでシリコーンオイルの揮発成分も増加し、ワイヤー汚染を発生させる。更に感光体上に過剰に残存したシリコーンオイルはクリーニングの際に感光体の削れを増加させる傾向にあり、耐久安定性に影響を及ぼす場合がある。   When the immobilization rate of the silicone oil is less than 30% by mass, it is considered that the silicone oil adhering to the surface of the silica fine particles has a weak adhesive force with the silica fine particles. Therefore, even if the silicone oil on the surface of the photoconductor and the surface of the silica fine particles interacts, the silica fine particles may be liberated. Furthermore, excessive silicone oil remains on the photoconductor, which increases the volatile components of the silicone oil and causes wire contamination. Furthermore, excessively remaining silicone oil on the photoreceptor tends to increase the abrasion of the photoreceptor during cleaning, which may affect durability stability.

また、シリコーンオイルの固定化率が95質量%より大きくする方法としては、シリコーンオイルの添加量を相対的に少なくする必要がある。すなわち、シリコーンオイルの固定化率は高くなるが、シリカ微粒子の表面を均一に処理できていない状態となる場合がある。その結果、シリカ微粒子表面の処理状態に微小なムラが生じる為に、感光体表面とシリカ微粒子表面との相互作用が弱くなり、ワイヤー汚染を発生させる。   Moreover, as a method for making the immobilization rate of the silicone oil greater than 95% by mass, it is necessary to relatively reduce the addition amount of the silicone oil. That is, the immobilization rate of the silicone oil is increased, but the surface of the silica fine particles may not be uniformly treated. As a result, minute unevenness occurs in the treatment state on the surface of the silica fine particles, so that the interaction between the surface of the photoreceptor and the surface of the silica fine particles becomes weak, and wire contamination occurs.

シリコーンオイルの固定化率の測定方法について以下に示す。   The method for measuring the immobilization rate of silicone oil will be described below.

(遊離シリコーンオイルの抽出)
1.ビーカーにシリカ微粒子0.5g、クロロホルム40mlを入れ、2時間攪拌する。
2.攪拌を止めて、12時間静置する。
3.サンプルをろ過して、クロロホルム40mlで3回洗浄する。
(Extraction of free silicone oil)
1. Place 0.5 g of silica fine particles and 40 ml of chloroform in a beaker and stir for 2 hours.
2. Stop stirring and let stand for 12 hours.
3. The sample is filtered and washed 3 times with 40 ml of chloroform.

(炭素量測定)
酸素気流下で1100℃で試料を燃焼させ、発生したCO、CO2量をIRの吸光度により測定して、試料中の炭素量を測定する。シリコーンオイルの抽出前後でのカーボン量を比較して、シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率を計算する。
1.試料2gを円筒金型に入れプレスする。
2.プレスした試料0.15gを精秤し、燃焼用ボードに乗せ、堀場製作所EMA−11 0で測定する。
3.100−(抽出前の炭素量−抽出後の炭素量)/抽出前の炭素量×100
をシリコーンオイルの炭素量基準の固定化率とする。
(Measurement of carbon content)
The sample is burned at 1100 ° C. under an oxygen stream, the amount of generated CO and CO 2 is measured by IR absorbance, and the amount of carbon in the sample is measured. The carbon amount before and after extraction of the silicone oil is compared to calculate the immobilization rate based on the carbon amount of the silicone oil.
1. 2 g of sample is put into a cylindrical mold and pressed.
2. 0.15 g of the pressed sample is precisely weighed, placed on a combustion board, and measured with HORIBA, Ltd. EMA-11.
3.100- (carbon amount before extraction-carbon amount after extraction) / carbon amount before extraction × 100
Is the immobilization rate based on the carbon content of silicone oil.

本発明のシリカ微粒子を得るのに用いられるシリカ微粒子の原体としては、ケイ素ハロゲン化合物の蒸気相酸化により生成された乾式法またはヒュームドシリカと称される乾式シリカ、及び、水ガラス等から製造される湿式シリカの両方が挙げられる。本発明では表面及び内部にあるシラノール基が少なく、製造残渣のない乾式シリカの方が好ましい。   The raw material of the silica fine particles used to obtain the silica fine particles of the present invention is produced from a dry process produced by vapor phase oxidation of a silicon halogen compound or dry silica called fumed silica, and water glass. Both wet silicas to be used are mentioned. In the present invention, dry silica having less silanol groups on the surface and inside and no production residue is preferred.

本発明に用いられるシリカ微粒子は硬度に疏水化処理されている必要があり、疏水化処理するには、シリカ原体と化学吸着あるいは物理吸着する有機ケイ素化合物で処理する方法が挙げられる。本発明の効果を得るには、少なくともシリコーンオイルによる処理が必要である。   The silica fine particles used in the present invention need to be subjected to a water-repellent treatment in terms of hardness. Examples of the water-repelling treatment include a method of treating with an organosilicon compound that is chemically or physically adsorbed with a silica base material. In order to obtain the effects of the present invention, at least treatment with silicone oil is required.

本発明のシリカ微粒子は、処理前のシリカ原体のBET比表面積が50m2/g以上400m2/g以下であることが均一にシリコーンオイル処理をする上で好ましい。 The silica fine particles of the present invention preferably have a BET specific surface area of the silica raw material before treatment of 50 m 2 / g or more and 400 m 2 / g or less for uniform silicone oil treatment.

本発明のシリカ微粒子を得るのに必要なシリコーンオイル処理の方法は、シリカ微粒子の原体とシリコーンオイルとをヘンシェルミキサーの如き混合機を用いて直接混合しても良いし、シリカ微粒子の原体へシリコーンオイルを噴射する方法によっても良い。あるいは適当な溶剤にシリコーンオイルを溶解あるいは分散せしめた後、シリカ微粒子の原体とを混合し、溶剤を除去して作製しても良い。   The method for treating the silicone oil necessary for obtaining the silica fine particles of the present invention may be obtained by directly mixing the silica fine particles and the silicone oil using a mixer such as a Henschel mixer. A method of spraying silicone oil may be used. Alternatively, it may be prepared by dissolving or dispersing silicone oil in a suitable solvent and then mixing with the silica fine particles and removing the solvent.

シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル等が使用できる。中でもジメチルシリコーンオイルが好ましく、且つ、シリコーンオイルの粘度は25℃において、300mm2/s以下が好ましい。 As the silicone oil, dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil and the like can be used. Among them, dimethyl silicone oil is preferable, and the viscosity of the silicone oil is preferably 300 mm 2 / s or less at 25 ° C.

本発明に用いられるシリカ微粒子は、シリカ原体100質量部に対して5質量部以上30.0質量部以下、好ましくは10.0質量部以上28.0質量部以下のシリコーンオイルによって処理されているのが好ましい。   The silica fine particles used in the present invention are treated with 5 to 30.0 parts by mass, preferably 10.0 to 28.0 parts by mass of silicone oil with respect to 100 parts by mass of the silica raw material. It is preferable.

シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率は、シリコーンオイルがシリカ原体表面に科学的に結合していると、炭素量基準の固定化率は高くなる。そのため添加するシリコーンオイル量が多くなるほど、シリカ原体表面と化学的に結合できないものも多くなるため、シリコーンオイルの処理量が30.0質量部より多くなると、遊離シリコーンオイルが増え過ぎて、帯電器のワイヤー汚染が起こり易い。   When the silicone oil is scientifically bonded to the surface of the silica base, the immobilization rate based on the carbon amount of the silicone oil increases. Therefore, as the amount of silicone oil added increases, the amount that cannot be chemically bonded to the surface of the silica bulk increases, so when the amount of silicone oil treated exceeds 30.0 parts by mass, the amount of free silicone oil increases and charging Contamination of the wire is easy to occur.

シリコーンオイルの処理量が5.0質量部未満だと、シリカ微粒子表面の処理状態にムラが生じ、本発明の効果が得られにくくなる。   If the treatment amount of the silicone oil is less than 5.0 parts by mass, the treatment state on the surface of the silica fine particles will be uneven, and the effect of the present invention will be difficult to obtain.

シリコーンオイルによるシリカ原体の表面処理方法には、公知の技術が用いられ、この処理の際、シリコーンオイルのシリカ原体への最適な固定化率を達成する為に、加熱しながら処理することが好ましい。   A known technique is used for the surface treatment method of the silica base with silicone oil. In this treatment, in order to achieve the optimum immobilization ratio of the silicone oil to the silica base, the silica base is treated with heating. Is preferred.

処理温度としては150℃以上350℃以下の範囲が好ましく、より好ましくは150℃以上250℃以下であることが望ましい。   The treatment temperature is preferably in the range of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower.

この処理温度範囲に設定することで、ムラなく均一にオイル処理ができ、更にシリコーンオイルのシリカ原体表面への固定化率を高めやすい。   By setting to this treatment temperature range, the oil treatment can be performed uniformly without unevenness, and the immobilization rate of the silicone oil to the surface of the silica base material can be easily increased.

本発明において、トナー粒子100質量部に対して上記シリコーンオイル固定化率を有するシリカ微粒子の含有量が0.01質量部以上3.00質量部以下の範囲において、優れた効果が得られる。3.00質量部を超える場合は、トナー粒子表面のシリカ微粒子の割合が多く成り過ぎ、シリカ微粒子自体の遊離が発生しやすくなり、帯電器のワイヤー汚染を促進する場合がある。   In the present invention, an excellent effect is obtained when the content of the silica fine particles having the silicone oil immobilization ratio is 0.01 parts by mass or more and 3.00 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the toner particles. When the amount exceeds 3.00 parts by mass, the ratio of the silica fine particles on the surface of the toner particles becomes too large, and the silica fine particles themselves are easily liberated, which may promote the wire contamination of the charger.

更に、シリカ微粒子はシリコーンオイルで表面処理した後に、シラン化合物及び/またはシラザン化合物で表面処理した疎水性シリカ微粒子であることがより好ましい。シリコーンオイル処理のみでは反応しきれないシリカ微粒子の表面を更にシラン化合物及び/またはシラザン化合物で補うことにより、シリカ微粒子表面と結合する処理剤の密度が高くなる。その結果、感光体表面との相互作用がより効果的に発現し、帯電器のワイヤー汚染を更に抑制する場合がある。   Further, the silica fine particles are more preferably hydrophobic silica fine particles that are surface-treated with silicone oil and then surface-treated with a silane compound and / or a silazane compound. By further supplementing the surface of the silica fine particles that cannot be reacted only with the silicone oil treatment with a silane compound and / or a silazane compound, the density of the treatment agent bonded to the surface of the silica fine particles is increased. As a result, the interaction with the surface of the photosensitive member is more effectively expressed, and the wire contamination of the charger may be further suppressed.

本発明で用いられるシラン化合物としては、メトキシシラン,エトキシシラン,プロポキシシラン等のアルコキシシラン類、クロルシラン,ブロモシラン,ヨードシラン等のハロシラン類、ハイドロシラン類、アルキルシラン類、アリールシラン類、ビニルシラン類、アクリルシラン類、エポキシシラン類、シリル化合物類、シロキサン類、シリルウレア類、シリルアセトアミド類、及びこれらのシラン化合物類が有する異種の置換基を同時に有するシラン化合物類があげられる。これらのシラン化合物を用いることにより、流動性,転写性,帯電安定化が得られる。これらのシラン化合物は複数用いても良い。   Examples of the silane compound used in the present invention include alkoxysilanes such as methoxysilane, ethoxysilane, and propoxysilane, halosilanes such as chlorosilane, bromosilane, and iodosilane, hydrosilanes, alkylsilanes, arylsilanes, vinylsilanes, and acrylics. Examples thereof include silanes, epoxy silanes, silyl compounds, siloxanes, silylureas, silylacetamides, and silane compounds having different substituents of these silane compounds at the same time. By using these silane compounds, fluidity, transferability and charge stabilization can be obtained. A plurality of these silane compounds may be used.

具体例として、トリメチルシラン、トリメチルクロルシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン、アリルフェニルジクロルシラン、ベンジルジメチルクロルシラン、ブロムメチルジメチルクロルシラン、α−クロルエチルトリクロルシラン、β−クロルエチルトリクロルシラン、クロルメチルジメチルクロルシラン、トリオルガノシリルメルカプタン、トリメチルシリルメルカプタン、トリオルガノシリルアクリレート、ビニルジメチルアセトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジフェニルテトラメチルジシロキサン、及び1分子当り2から12個のシロキサン単位を有し末端に位置する単位にそれぞれ1個宛のSiに結合した水酸基を含有するジメチルポリシロキサン等がある。これらは1種或いは2種以上の混合物として用いても良い。   Specific examples include trimethylsilane, trimethylchlorosilane, trimethylethoxysilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, allyldimethylchlorosilane, allylphenyldichlorosilane, benzyldimethylchlorosilane, bromomethyldimethylchlorosilane, α-chloroethyl. Trichlorosilane, β-chloroethyltrichlorosilane, chloromethyldimethylchlorosilane, triorganosilyl mercaptan, trimethylsilyl mercaptan, triorganosilyl acrylate, vinyldimethylacetoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, hexamethyldi Siloxane, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, 1,3-diphenyltetramethyldisiloxane And dimethylpolysiloxane containing 2 to 12 siloxane units per molecule and containing a hydroxyl group bonded to one Si at each terminal unit. You may use these as a 1 type, or 2 or more types of mixture.

本発明で用いられるシラザン化合物は、分子中にSi‐N結合を有する化合物の総称である。具体的には、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ペンタメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、オクタメチルトリシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、テトラエチルテトラメチルシクロテトラシラザン、テトラフェニルジメチルジシラザン、ジプロピルテトラメチルジシラザン、ジブチルテトラメチルジシラザン、ジヘキシルテトラメチルジシラザン、ジオクチルテトラメチルジシラザン、ジフェニルテトラメチルジシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザンなどが挙げられる。また、これらシラザン化合物を部分的にフッ素などで置換した、有機含フッ素シラザン化合物などを用いてもよい。特に本発明では、ヘキサメチルジシラザンが好ましく用いられる。   The silazane compound used in the present invention is a general term for compounds having a Si—N bond in the molecule. Specifically, dimethyldisilazane, trimethyldisilazane, tetramethyldisilazane, pentamethyldisilazane, hexamethyldisilazane, octamethyltrisilazane, hexamethylcyclotrisilazane, tetraethyltetramethylcyclotetrasilazane, tetraphenyldimethyldi Examples include silazane, dipropyltetramethyldisilazane, dibutyltetramethyldisilazane, dihexyltetramethyldisilazane, dioctyltetramethyldisilazane, diphenyltetramethyldisilazane, octamethylcyclotetrasilazane, and the like. Moreover, you may use the organic fluorine-containing silazane compound etc. which substituted these silazane compounds partially with the fluorine etc. Particularly in the present invention, hexamethyldisilazane is preferably used.

シラン化合物及び/またはシラザン化合物で処理する方法には公知の技術が用いられる。例えば、シリコーンオイルで処理されたシリカ微粒子を処理槽に投入して、処理槽内を撹拌翼の如き撹拌部材で撹拌混合しながら、シラン化合物及び/またはシラザン化合物を所定量滴下或いは噴霧して充分に混合する。このとき、シラン化合物及び/またはシラザン化合物をアルコールの如き溶媒で希釈して処理することもできる。混合分散した処理剤を含むシリカ微粒子を、窒素雰囲気中で処理温度150℃以上350℃以下(好ましくは150℃以上250℃以下)に加熱し、0.5乃至5時間、撹拌しながら還流する。   A well-known technique is used for the method of processing with a silane compound and / or a silazane compound. For example, silica particles treated with silicone oil are put into a treatment tank, and a predetermined amount of silane compound and / or silazane compound is dropped or sprayed while stirring inside the treatment tank with a stirring member such as a stirring blade. To mix. At this time, the silane compound and / or silazane compound can be diluted with a solvent such as alcohol. The silica fine particles containing the mixed and dispersed treatment agent are heated to a treatment temperature of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower (preferably 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower) in a nitrogen atmosphere and refluxed for 0.5 to 5 hours with stirring.

好ましい製法としては、シリコーンオイルで処理されたシリカ微粒子を処理槽に投入し、処理するシラン化合物及び/またはシラザン化合物の沸点以上、分解温度以下の温度に処理槽を保持する。ここに水蒸気を吹き込み、シリカ微粒子表面の水酸基がシラン化合物またはシラザン化合物と反応しやすい状態にしておく。さらにシラン化合物及び/またはシラザン化合物を投入し、気相反応でシリカ微粒子表面を処理することが好ましい。その後、必要に応じて余剰の処理剤の如き余剰物を除去することも可能である。   As a preferred production method, silica fine particles treated with silicone oil are put into a treatment tank, and the treatment tank is held at a temperature not lower than the boiling point of the silane compound and / or silazane compound to be treated and not higher than the decomposition temperature. Water vapor is blown here so that the hydroxyl groups on the surface of the silica fine particles are easily reacted with the silane compound or silazane compound. Further, it is preferable to add a silane compound and / or a silazane compound and treat the surface of the silica fine particles by a gas phase reaction. Thereafter, it is also possible to remove surplus materials such as surplus treatment agents as necessary.

また、シラン化合物及び/またはシラザン化合物を処理する前に、解砕処理を行うことが均一な処理を行う上で好ましい。   In addition, it is preferable to perform the crushing treatment before treating the silane compound and / or the silazane compound, in order to perform a uniform treatment.

これらアルコキシシランまたはシラザンの好ましい処理量は、シリカ原体100質量部に対して2.0質量部以上30.0質量部以下である。   The preferable processing amount of these alkoxysilanes or silazanes is 2.0 to 30.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silica base.

更に該シリカ微粒子のメタノール濡れ性が、透過率が90%のときのメタノール濃度をD90(体積%)、透過率が70%のときのメタノール濃度をD70(体積%)としたとき、下記式(1)の関係を満たすと更に好ましい。
D70−D90≦5.0 (1)
Further, when the methanol wettability of the silica fine particles is D90 (volume%) when the transmittance is 90% and the methanol concentration when the transmittance is 70% is D70 (volume%), the following formula ( It is more preferable to satisfy the relationship 1).
D70−D90 ≦ 5.0 (1)

すなわち、波長780nmの光の透過率90%のときのメタノール濃度をD90(体積%)、透過率が70%のときのメタノール濃度をD70(体積%)としたときの、その差分が5.0体積%以下であることを特徴とする。   That is, the difference when the methanol concentration when the transmittance of light having a wavelength of 780 nm is 90% is D90 (volume%) and the methanol concentration when the transmittance is 70% is D70 (volume%) is 5.0. It is characterized by being not more than volume%.

D70−D90の値が小さいほど、シリコーンオイルはシリカ微粒子の表面に均一に存在していることを表している。D70−D90の値が5.0よりも大きくなると、シリコーンオイルの存在の不均一さから、感光体表面との相互作用にムラが生じ、遊離したシリカ微粒子が発生し易くなって、ワイヤー汚染を発生させる場合がある。   The smaller the value of D70-D90, the more uniform the silicone oil is on the surface of the silica fine particles. When the value of D70-D90 is larger than 5.0, the non-uniformity of the presence of silicone oil causes unevenness in the interaction with the surface of the photoreceptor, and free silica fine particles are likely to be generated, resulting in wire contamination. May occur.

メタノール濡れ性の測定方法について以下に示す。   The measurement method of methanol wettability is shown below.

シリカ微粒子のメタノール濡れ性は、メタノール滴下透過率曲線を用いて測定する。具体的には、その測定装置として、例えば、粉体濡れ性試験機WET−100P(レスカ社製)を用い、下記の条件及び手順で測定したメタノール滴下透過率曲線を利用する。   The methanol wettability of the silica fine particles is measured using a methanol dropping transmittance curve. Specifically, as the measuring device, for example, a powder wettability tester WET-100P (manufactured by Reska Co.) is used, and a methanol dropping transmittance curve measured under the following conditions and procedures is used.

まず、メタノール60体積%と水40体積%とからなる含水メタノール液70mlを、直径5cm、厚さ1.75mmの円筒型ガラス容器中に入れ、その測定用サンプル中の気泡等を除去するために超音波分散器で5分間分散を行う。   First, in order to remove bubbles and the like in a measurement sample, 70 ml of a hydrated methanol solution composed of 60% by volume of methanol and 40% by volume of water is placed in a cylindrical glass container having a diameter of 5 cm and a thickness of 1.75 mm. Disperse for 5 minutes with an ultrasonic disperser.

この中に検体であるシリカ微粒子を0.1g精秤して添加し、シリカ微粒子の疎水特性を測定するためのサンプル液を調製する。そして、測定用サンプル液を粉体濡れ性試験機WET−100P(レスカ社製)にセットする。この測定用サンプル液を、マグネティックスターラーを用いて、6.7s-1(400rpm)の速度で攪拌する。尚、マグネティックスターラーの回転子として、フッ素樹脂コーティングされた、長さ25mm、最大胴径8mmの紡錘型回転子を用いる。 Into this, 0.1 g of fine silica particles as a specimen is precisely weighed and added to prepare a sample solution for measuring the hydrophobic properties of the fine silica particles. Then, the measurement sample liquid is set in a powder wettability tester WET-100P (manufactured by Reska). The sample liquid for measurement is stirred at a speed of 6.7 s −1 (400 rpm) using a magnetic stirrer. As the rotor of the magnetic stirrer, a spindle type rotor having a length of 25 mm and a maximum barrel diameter of 8 mm coated with a fluororesin is used.

次に、この測定用サンプル液中に、上記装置を通して、メタノールを1.3ml/minの滴下速度で連続的に添加しながら波長780nmの光で透過率を測定し、図2に示したようなメタノール滴下透過率曲線を作成する。   Next, the transmittance was measured with light having a wavelength of 780 nm while continuously adding methanol to the measurement sample solution at a dropping rate of 1.3 ml / min through the above-described apparatus, as shown in FIG. Create a methanol drop transmission curve.

本発明に用いられるシリカ微粒子のBET比表面積は100m2/g以上400m2/g以下であるのが好ましい。シリカ微粒子のBET比表面積が400m2/gより大きい場合は、シリカ微粒子同士の付着力が大きくなりすぎて凝集しやすくなる為、トナー粒子表面に均一に分散させることが難しくなる。一方、シリカ微粒子のBET比表面積が100m2/gより小さい場合は、トナーの流動性が低下してしまう場合がある。 The BET specific surface area of the silica fine particles used in the present invention is preferably 100 m 2 / g or more and 400 m 2 / g or less. When the BET specific surface area of the silica fine particles is larger than 400 m 2 / g, the adhesion force between the silica fine particles becomes too large and tends to aggregate, so that it is difficult to uniformly disperse the toner particle surfaces. On the other hand, when the BET specific surface area of the silica fine particles is smaller than 100 m 2 / g, the fluidity of the toner may be lowered.

また、トナー粒子からの外添剤遊離度を以下のように設計することが、本発明の効果を得る上で好ましい。   In addition, it is preferable to design the degree of liberation of the external additive from the toner particles as follows in order to obtain the effects of the present invention.

トナー粒子表面に存在するシリカ微粒子を含む外添剤粒子は、現像器内の攪拌等のメカニカルなシェアを受けることで遊離しやすい傾向がある。   The external additive particles containing silica fine particles present on the toner particle surface tend to be easily released by receiving a mechanical share such as stirring in the developing device.

しかしながら本発明の効果を最大限に発揮させるには、トナー粒子からの外添剤の遊離はできる限り少量にとどめることが好ましい。   However, in order to maximize the effect of the present invention, it is preferable to release the external additive from the toner particles as little as possible.

そのためには、トナー化時の外添工程が非常に重要となってくる。つまり、トナー粒子にシリカ微粒子を含む外添剤粒子をできる限り均一にしかも、最適な物理吸着力で付着させる必要がある。   For that purpose, the external addition process at the time of toner production becomes very important. In other words, it is necessary to make the external additive particles containing silica fine particles as uniform as possible to the toner particles and to adhere with the optimum physical adsorption force.

例えば、従来のヘンシェルミキサー等の混合機において、低速回転で外添させた後、高速回転で再度外添させるような、複数回に分け、混合することが、均一でしかも最適な付着力を得られるので、好ましい。   For example, in a conventional mixer such as a Henschel mixer, it is possible to obtain a uniform and optimum adhesive force by mixing and mixing multiple times, such as external addition at low speed and then external addition at high speed. Therefore, it is preferable.

このように作製されたトナーの外添剤遊離度は以下の手法で測定される。   The degree of liberation of the external additive of the toner thus prepared is measured by the following method.

(外添剤遊離度の測定)
[サンプルの調整]
1.ガラス製200mlビーカーに電解水溶液50mlを入れ、この中に分散剤としてコンタミノンN(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)をイオン交換水で約3質量倍に希釈した希釈液を約0.3ml加える。
2.発振周波数50kHzの発振器2個を位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力120Wの超音波分散器Ultrasonic Dispension System Tetora150(日科機バイオス社製)を準備する。超音波分散器の水槽内に約3.3lのイオン交換水を入れ、この水槽中にコンタミノンNを約2ml添加する。
3.前記1.のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
4.前記3.のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー粒子0.2gを前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。尚、超音波分散にあたっては、水槽の水温が10℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
5.60秒後、ビーカーを取り出し、すぐに磁石(例えば、ネオジ磁石 30φ×15mm アズワン社製)の上に静置し、30秒経過後、マイクロピペッターで10mlを上澄み部分から採取する。
(Measurement of external additive liberation)
[Adjust sample]
1. A 200 ml beaker made of glass was charged with 50 ml of an aqueous electrolytic solution. As a dispersant, 10 mass of neutral detergent for cleaning a precision measuring instrument having a pH of 7 consisting of non-ionic surfactant, anionic surfactant and organic builder. About 0.3 ml of a diluted solution obtained by diluting a 3% aqueous solution (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with ion-exchanged water about 3 times by mass is added.
2. Two oscillators with an oscillation frequency of 50 kHz are incorporated with the phase shifted by 180 degrees, and an ultrasonic disperser Ultrasonic Dissipation System Tetora 150 (manufactured by Nikkei Bios) with an electrical output of 120 W is prepared. About 3.3 l of ion-exchanged water is placed in the water tank of the ultrasonic disperser, and about 2 ml of Contaminone N is added to the water tank.
3. 1 above. Is set in the beaker fixing hole of the ultrasonic disperser, and the ultrasonic disperser is operated. And the height position of a beaker is adjusted so that the resonance state of the liquid level of the electrolyte solution in a beaker may become the maximum.
4). 3 above. In the state where the electrolytic aqueous solution in the beaker is irradiated with ultrasonic waves, 0.2 g of toner particles are added to the electrolytic aqueous solution and dispersed. Then, the ultrasonic dispersion process is continued for another 60 seconds. In the ultrasonic dispersion, the temperature of the water tank is appropriately adjusted so as to be 10 ° C. or higher and 40 ° C. or lower.
5. After 60 seconds, the beaker is taken out and immediately left on a magnet (for example, neodymium magnet 30φ × 15 mm manufactured by ASONE). After 30 seconds, 10 ml is collected from the supernatant with a micropipettor.

[外添剤遊離度の測定]
外添剤遊離度は、たとえば島津自記分光光度計UV3100PC(島津製作所社製)と、光路長1cmの石英セルを用いて測定を行うことができる。
[Measurement of liberty of external additives]
The degree of liberation of external additives can be measured using, for example, a Shimadzu spectrophotometer UV3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation) and a quartz cell having an optical path length of 1 cm.

得られた上澄み溶液を光路長1cmの石英セルに入れて装置にすばやくセッティングし、入射光の波長500nmにおける上澄み溶液の透過率Tを測定する。このとき対照セルにはトナーを溶解していない電解水溶液を入れておく。   The obtained supernatant solution is put in a quartz cell having an optical path length of 1 cm and quickly set in an apparatus, and the transmittance T of the supernatant solution at a wavelength of 500 nm of incident light is measured. At this time, an electrolytic aqueous solution in which toner is not dissolved is put in the control cell.

この透過率Tを外添剤遊離度と定義し、この値が大きいほど、遊離成分が少なく、トナー粒子から外添剤が遊離し難いことを表す。   The transmittance T is defined as the degree of liberation of the external additive. The larger the value, the smaller the amount of free components and the less the external additive is released from the toner particles.

このUV測定による透過率が55.0%以上、好ましくは70.0%以上、より好ましくは80.0質量%以上であることが好ましい。   The transmittance by UV measurement is 55.0% or more, preferably 70.0% or more, more preferably 80.0% by mass or more.

透過率55.0%以上であることは、トナー粒子に外添剤が最適な強度で付着していることを示し、本発明の効果をより得られやすくなる。   A transmittance of 55.0% or more indicates that the external additive adheres to the toner particles with an optimum strength, and the effects of the present invention can be more easily obtained.

一方、外添剤遊離度が55.0質量%よりも小さいことは、現像器内の攪拌等のメカニカルなシェアによって、トナー粒子から外添剤が遊離しやすいことを示す。特に、シリカ微粒子の処理が不均一である場合や、シリコーンオイルが遊離し過ぎる場合には、物理付着力が弱くなり、シリカ微粒子自体が遊離しやすくなる。その結果、遊離外添剤として帯電器のワイヤー汚染を促進する場合がある。   On the other hand, the degree of liberation of the external additive being less than 55.0% by mass indicates that the external additive is easily liberated from the toner particles due to a mechanical share such as stirring in the developing device. In particular, when the treatment of the silica fine particles is uneven or when the silicone oil is too liberated, the physical adhesion is weakened and the silica fine particles themselves are likely to be liberated. As a result, the wire contamination of the charger may be promoted as a free external additive.

更に、該トナー担持体として、第一トナー担持体と第二トナー担持体とを具備し、該静電荷像担持体の回転方向における上流側の第一トナー担持体が下流側の第二トナー担持体上のトナー量を所定量に規制すること画像形成方法を用いると更に好ましい。   Further, the toner carrier includes a first toner carrier and a second toner carrier, and the first toner carrier on the upstream side in the rotation direction of the electrostatic charge image carrier is the second toner carrier on the downstream side. More preferably, the amount of toner on the body is regulated to a predetermined amount using an image forming method.

上記構成では、第一トナー担持体にて感光体上にトナー像を形成し、第二トナー担持体にてトナー像のトリートメントを行うことが可能となる。すなわち、第一トナー担持体にて形成したトナー像の中で、付着力の弱いシリカ微粒子は、第二トナー担持体にて引き戻されて、複写機内を飛翔しなくなると考えられる。その結果、ワイヤー汚染を抑制する効果を有する。   In the above configuration, it is possible to form a toner image on the photosensitive member with the first toner carrier and to treat the toner image with the second toner carrier. That is, in the toner image formed by the first toner carrier, the silica fine particles having a weak adhesive force are pulled back by the second toner carrier and are considered not to fly in the copying machine. As a result, it has the effect of suppressing wire contamination.

本発明の最大の特徴は、上記感光体とトナーを組み合わせることで、感光体とシリカ微粒子の相互作用により、更なる高速化を目指した電子写真装置においても、トナーやシリカ微粒子による帯電器のワイヤー汚染が問題にならないことを見出したことである。更に、感光体表面の酸化及び削れを抑制し、高耐久安定性を有したトナー及び画像形成方法を提供することが可能となり、本発明を完成するに至った。   The most important feature of the present invention is that, in the electrophotographic apparatus aiming at further speedup by combining the photoconductor and the toner, the wire of the charger using the toner and the silica microparticles. It has been found that contamination is not a problem. Furthermore, it is possible to provide a toner and an image forming method having high durability stability by suppressing oxidation and scraping on the surface of the photoreceptor, and the present invention has been completed.

本発明のトナーに使用される結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、スチレン系共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニール、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロンインデン樹脂、石油系樹脂。中でも好ましく用いられる樹脂として、スチレン系共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステル樹脂とビニル系樹脂が混合、または両者が一部反応した、ハイブリッド樹脂。   Examples of the binder resin used in the toner of the present invention include the following. Vinyl resin, styrene resin, styrene copolymer resin, polyester resin, polyol resin, polyvinyl chloride resin, phenol resin, natural modified phenol resin, natural resin modified maleic acid resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl acetate, Silicone resin, polyurethane resin, polyamide resin, furan resin, epoxy resin, xylene resin, polyvinyl butyral, terpene resin, coumarone indene resin, petroleum resin. Among these, styrene copolymer resins, polyester resins, hybrid resins in which a polyester resin and a vinyl resin are mixed, or partially reacted are used as resins that are preferably used.

本発明においては、トナー粒子に対するシリカ微粒子の付着を制御する点で、過粉砕が起こりにくいポリエステル樹脂が好ましい。   In the present invention, a polyester resin that is less prone to over-pulverization is preferable from the viewpoint of controlling the adhesion of silica fine particles to toner particles.

本発明に用いられるポリエステル樹脂の成分は以下の通りである。   The components of the polyester resin used in the present invention are as follows.

2価のアルコール成分としては、以下のものが挙げられる。エチレングリコール、プロピレングリコール、1、3−ブタンジオール、1、4−ブタンジオール、2、3−ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1、5−ペンタンジオール、1、6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2−エチル−1、3−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール(CHDM)、水素化ビスフェノールA、式(1)で表されるビスフェノール及びその誘導体:   The following are mentioned as a bivalent alcohol component. Ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol (CHDM), hydrogenated bisphenol A, bisphenol represented by formula (1) and derivatives thereof:

Figure 0005483994
(式中、Rはエチレンまたはプロピレン基であり、x、yはそれぞれ0以上の整数であり、かつ、x+yの平均値は0乃至10である。)
Figure 0005483994
(In the formula, R is an ethylene or propylene group, x and y are each an integer of 0 or more, and the average value of x + y is 0 to 10.)

および式(2)で示されるジオール類。   And diols represented by formula (2).

Figure 0005483994
Figure 0005483994

これら中でも、トナー粒子の帯電制御及びガラス転移温度の維持において、ビスフェノール及びその誘導体が好ましい。   Among these, bisphenol and its derivatives are preferable in controlling charging of toner particles and maintaining the glass transition temperature.

2価の酸成分としては、以下のジカルボン酸又はその誘導体が挙げられる。フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、無水フタル酸の如きベンゼンジカルボン酸類又はその無水物又はその低級アルキルエステル;コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸の如きアルキルジカルボン酸類又はその無水物又はその低級アルキルエステル;n−ドデセニルコハク酸、n−ドデシルコハク酸の如きアルケニルコハク酸類もしくはアルキルコハク酸類、又はその無水物又はその低級アルキルエステル;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸の如き不飽和ジカルボン酸類又はその無水物又はその低級アルキルエステル。特にテレフタル酸、イソフタル酸が好ましい。   Examples of the divalent acid component include the following dicarboxylic acids or derivatives thereof. Benzene dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic anhydride or their anhydrides or lower alkyl esters thereof; alkyl dicarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid or their anhydrides or lower thereof Alkyl esters; alkenyl succinic acids or alkyl succinic acids such as n-dodecenyl succinic acid, n-dodecyl succinic acid, or anhydrides thereof or lower alkyl esters thereof; unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, maleic acid, citraconic acid, itaconic acid Or its anhydride or its lower alkyl ester. In particular, terephthalic acid and isophthalic acid are preferable.

本発明においては、トナーに離型性を与えるために必要に応じて離型剤(ワックス)を用いることができる。該ワックスとしては、トナー粒子中での分散のしやすさ、離型性の高さから、低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックスの如き炭化水素系ワックスが好ましく用いられる。必要に応じて一種または二種以上のワックスを、少量併用してもかまわない。例としては次のものが挙げられる。   In the present invention, a release agent (wax) can be used as necessary in order to impart releasability to the toner. As the wax, hydrocarbon waxes such as low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, microcrystalline wax, and paraffin wax are preferably used because of easy dispersion in toner particles and high releasability. If necessary, a small amount of one or two or more kinds of waxes may be used in combination. Examples include the following:

酸化ポリエチレンワックスの如き脂肪族炭化水素系ワックスの酸化物、または、それらのブロック共重合物;カルナバワックス、サゾールワックス、モンタン酸エステルワックスの如き脂肪酸エステルを主成分とするワックス類;脱酸カルナバワックスの如き脂肪酸エステル類を一部または全部を脱酸化したもの。さらに、以下のものが挙げられる。パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸の如き飽和直鎖脂肪酸類;ブラシジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸の如き不飽和脂肪酸類;ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールの如き飽和アルコール類;長鎖アルキルアルコール類;ソルビトールの如き多価アルコール類;リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミドの如き脂肪酸アミド類;メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミドの如き飽和脂肪酸ビスアミド類;エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、N,N’−ジオレイルアジピン酸アミド、N,N−ジオレイルセバシン酸アミドの如き不飽和脂肪酸アミド類;m−キシレンビスステアリン酸アミド、N,N−ジステアリルイソフタル酸アミドの如き芳香族系ビスアミド類;ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムの如き脂肪酸金属塩(一般に金属石けんといわれているもの);脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸の如きビニル系モノマーを用いてグラフト化させたワックス類;ベヘニン酸モノグリセリドの如き脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物;植物性油脂の水素添加によって得られるヒドロキシル基を有するメチルエステル化合物。   Oxides of aliphatic hydrocarbon waxes such as oxidized polyethylene wax, or block copolymers thereof; waxes based on fatty acid esters such as carnauba wax, sazol wax, and montanate ester wax; deacidified carnauba Deoxidized part or all of fatty acid esters such as wax. Furthermore, the following are mentioned. Saturated linear fatty acids such as palmitic acid, stearic acid and montanic acid; unsaturated fatty acids such as brassic acid, eleostearic acid and valinalic acid; stearyl alcohol, aralkyl alcohol, behenyl alcohol, carnauvyl alcohol, seryl alcohol, Saturated alcohols such as sil alcohols; long-chain alkyl alcohols; polyhydric alcohols such as sorbitol; fatty acid amides such as linoleic acid amide, oleic acid amide, lauric acid amide; methylene bis stearic acid amide, ethylene biscapric acid amide Saturated fatty acid bisamides such as ethylene bislauric acid amide and hexamethylene bis stearic acid amide; ethylene bisoleic acid amide, hexamethylene bisoleic acid amide, N, N′-dioleyl adipine Amides, unsaturated fatty acid amides such as N, N-dioleyl sebacic acid amide; m-xylene bisstearic acid amide, aromatic bisamides such as N, N-distearylisophthalic acid amide; calcium stearate, calcium laurate, Fatty acid metal salts such as zinc stearate and magnesium stearate (generally called metal soap); waxes grafted with aliphatic hydrocarbon waxes using vinyl monomers such as styrene and acrylic acid; behenine A partially esterified product of a fatty acid such as an acid monoglyceride and a polyhydric alcohol; a methyl ester compound having a hydroxyl group obtained by hydrogenation of a vegetable oil.

使用できる具体的な例としては、以下のものが挙げられる。ビスコール(登録商標)330−P、550−P、660−P、TS−200(三洋化成工業株式会社);ハイワックス400P、200P、100P、410P、420P、320P、220P、210P、110P(三井化学株式会社);サゾール H1、H2、C80、C105、C77(サゾールワックス社);HNP−1、HNP−3、HNP−9、HNP−10、HNP−11、HNP−12(日本精蝋株式会社)、ユニリン(登録商標)350、425、550、700、ユニシッド(登録商標)350、425、550、700(東洋ペトロライト社);木ろう、蜜ろう、ライスワックス、キャンデリラワックス、カルナバワックス(株式会社セラリカNODA)。   Specific examples that can be used include the following. Biscol (registered trademark) 330-P, 550-P, 660-P, TS-200 (Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.); High Wax 400P, 200P, 100P, 410P, 420P, 320P, 220P, 210P, 110P (Mitsui Chemicals) Sazol H1, H2, C80, C105, C77 (Sazol Wax); HNP-1, HNP-3, HNP-9, HNP-10, HNP-11, HNP-12 (Nippon Seiwa Co., Ltd.) ), Unilin (registered trademark) 350, 425, 550, 700, Unicid (registered trademark) 350, 425, 550, 700 (Toyo Petrolite); wood wax, beeswax, rice wax, candelilla wax, carnauba wax ( Celerica NODA).

該離型剤(ワックス)を添加するタイミングは、トナーの製造中の溶融混練時において添加しても良いが結着樹脂の製造時であっても良く、既存の方法から適宜選ばれる。また、これらの離型剤は単独で使用しても併用しても良い。   The timing of adding the release agent (wax) may be added at the time of melt kneading during the production of the toner, or may be at the time of producing the binder resin, and is appropriately selected from existing methods. These release agents may be used alone or in combination.

該離型剤は結着樹脂100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下添加することが好ましい。1質量部未満の場合は望まれる離型効果が十分に得られにくく、20質量部を超える場合はトナー中での分散も悪く、静電荷像担持体へのトナー付着や、現像部材やクリーニング部材の表面汚染が起こりやすく、トナー画像が劣化し易い。   The release agent is preferably added in an amount of 1 part by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin. When the amount is less than 1 part by mass, it is difficult to obtain a desired releasing effect. When the amount exceeds 20 parts by mass, the dispersion in the toner is poor, and the toner adheres to the electrostatic image bearing member, and the developing member or cleaning member. As a result, the toner image tends to deteriorate.

本発明のトナーは磁性トナーであっても非磁性トナーであっても良いが、高速機における耐久安定性などの点から磁性トナーであることが好ましい。   The toner of the present invention may be a magnetic toner or a non-magnetic toner, but is preferably a magnetic toner from the viewpoint of durability and stability in a high speed machine.

本発明で用いられる磁性材料としては、マグネタイト、マグヘマイト、フェライトなどの酸化鉄、及び他の金属酸化物を含む磁性酸化鉄;Fe,Co,Niのような金属、あるいは、これらの金属とAl,Co,Pb,Mg,Ni,Sn,Zn,Sb,Be,Bf,Cd,Ca,Mn,Se,Ti,W,Vのような金属との合金、及びこれらの混合物等が挙げられる。従来、四三酸化鉄(Fe34)、三二酸化鉄(γ−Fe23)、酸化鉄亜鉛(ZnFe24)、酸化鉄イットリウム(Y3Fe512)、酸化鉄カドミウム(Cd3Fe24)、酸化鉄ガドリニウム(Gd3Fe512)、酸化鉄銅(CuFe24)、酸化鉄鉛(PbFe1219)、酸化鉄ニッケル(NiFe24)、酸化鉄ネオジム(NdFe23)、酸化鉄バリウム(BaFe1219)、酸化鉄マグネシウム(MgFe24)、酸化鉄マンガン(MnFe24)、酸化鉄ランタン(LaFeO3)、鉄粉(Fe)、コバルト粉(Co)、ニッケル粉(Ni)等が知られている。特に好適な磁性材料は四三酸化鉄又はγ三二酸化鉄の微粉末である。また上述した磁性材料を単独で或いは2種以上の組合せで選択使用することもできる。 Magnetic materials used in the present invention include magnetic iron oxides including iron oxides such as magnetite, maghemite and ferrite, and other metal oxides; metals such as Fe, Co and Ni, or these metals and Al, Examples thereof include alloys with metals such as Co, Pb, Mg, Ni, Sn, Zn, Sb, Be, Bf, Cd, Ca, Mn, Se, Ti, W, and V, and mixtures thereof. Conventionally, triiron tetroxide (Fe 3 O 4 ), iron sesquioxide (γ-Fe 2 O 3 ), zinc iron oxide (ZnFe 2 O 4 ), iron yttrium oxide (Y 3 Fe 5 O 12 ), cadmium iron oxide (Cd 3 Fe 2 O 4 ), iron gadolinium oxide (Gd 3 Fe 5 O 12 ), iron oxide copper (CuFe 2 O 4 ), lead iron oxide (PbFe 12 O 19 ), nickel iron oxide (NiFe 2 O 4 ) , Iron oxide neodymium (NdFe 2 O 3 ), iron barium oxide (BaFe 12 O 19 ), iron oxide magnesium (MgFe 2 O 4 ), iron oxide manganese (MnFe 2 O 4 ), iron lanthanum oxide (LaFeO 3 ), iron Powder (Fe), cobalt powder (Co), nickel powder (Ni), and the like are known. A particularly suitable magnetic material is a fine powder of iron tetroxide or γ-iron sesquioxide. Further, the above-described magnetic materials can be selected and used alone or in combination of two or more.

該磁性体は、結着樹脂100質量部に対して、10質量部以上200質量部以下添加するのが好ましい。   The magnetic material is preferably added in an amount of 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

非磁性トナーとして用いる場合には、着色剤として以下のような顔料または染料を用いることができる。   When used as a non-magnetic toner, the following pigments or dyes can be used as colorants.

着色剤としては、カーボンブラックやその他、従来より知られているあらゆる顔料や染料の一種又は二種以上を用いることができる。   As the colorant, carbon black and other conventionally known pigments and dyes, one or more of them can be used.

染料としては、C.I.ダイレクトレッド1,C.I.ダイレクトレッド4、C.I.アシッドレッド1,C.I.べーシックレッド1,C.I.モーダントレッド30,C.I.ダイレクトブルー1,C.I.ダイレクトブルー2、C.I.アシッドブルー9、C.I.アシッドブルー15,C.I.べーシックブルー3,C.I.べーシックブルー5,C.I.モーダントトブルー7,C.I.ダイレクトグリーン6,C.I.べーシックグリーン4、C.I.べーシックグリーン6等がある。顔料としては、黄鉛、カドミウムイエロー、ミネラルファストイエロー、ネーブルイエロー、ナフトールイエローS、ハンザイエローG、パーマネントイエローNCG、タートラジンレーキ、赤口黄鉛、モリブデンオレンジ、パーマネントオレンジGTR、ピラゾロンオレンジ、ベンジジンオレンジG、カドミウムレッド、パーマネントレッド4R、ウオッチングレッドカルシウム塩、エオシンレーキ、ブリリアントカーミン3B、マンガン紫、ファストバイオレットB、メチルバイオレットレーキ、紺青、コバルトブルー、アルカリブルーレーキ、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、ファーストスカイブルー、インダンスレンブルーBC、クロムグリーン、酸化クロム、ピグメントグリーンB、マラカイトグリーンレーキ、ファイナルイエローグリーンG等がある。   Examples of the dye include C.I. I. Direct Red 1, C.I. I. Direct Red 4, C.I. I. Acid Red 1, C.I. I. Basic Red 1, C.I. I. Modern Tread 30, C.I. I. Direct Blue 1, C.I. I. Direct Blue 2, C.I. I. Acid Blue 9, C.I. I. Acid Blue 15, C.I. I. Basic Blue 3, C.I. I. Basic Blue 5, C.I. I. Modern Blue 7, C.I. I. Direct Green 6, C.I. I. Basic Green 4, C.I. I. Basic green 6 etc. As pigments, chrome yellow, cadmium yellow, mineral fast yellow, navel yellow, naphthol yellow S, Hansa yellow G, permanent yellow NCG, tartra gin lake, red mouth yellow lead, molybdenum orange, permanent orange GTR, pyrazolone orange, benzidine orange G , Cadmium Red, Permanent Red 4R, Watching Red Calcium Salt, Eosin Lake, Brilliant Carmine 3B, Manganese Purple, Fast Violet B, Methyl Violet Lake, Bitumen, Cobalt Blue, Alkaline Blue Lake, Victoria Blue Lake, Phthalocyanine Blue, Fast Sky Blue, Indanthrene Blue BC, Chrome Green, Chrome Oxide, Pigment Green B, Malachite Green Lake, There is § Lee Naru yellow green G and the like.

本発明のトナーをフルカラー画像形成用トナーとして使用する場合には、次の様な着色剤が挙げられる。マゼンタ用着色顔料としては、C.I.ピグメントレッド1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,21,22,23,30,31,32,37,38,39,40,41,48,49,50,51,52,53,54,55,57,58,60,63,64,68,81,83,87,88,89,90,112,114,122,123,163,202,206,207,209、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.バットレッド1,2,10,13,15,23,29,35等が挙げられる。   When the toner of the present invention is used as a full-color image forming toner, the following colorants can be mentioned. Examples of the color pigment for magenta include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 39, 40, 41, 48, 49, 50, 51, 52, 53, 54, 55, 57, 58, 60, 63, 64, 68, 81, 83, 87, 88, 89, 90, 112, 114, 122, 123, 163, 202, 206, 207, 209, C.I. I. Pigment violet 19, C.I. I. Bat red 1, 2, 10, 13, 15, 23, 29, 35, etc. are mentioned.

上記マゼンタ顔料を単独で使用しても構わないが、染料と顔料を併用してその鮮明度を向上させた方がフルカラー画像の画質の点からより好ましい。マゼンタ用染料としては、C.I.ソルベントレッド1,3,8,23,24,25,27,30,49,81,82,83,84,100,109,121、C.I.ディスパースレッド9、C.I.ソルベントバイオレット8,13,14,21,27、C.I.ディスパースバイオレット1などの油溶染料、C.I.ベーシックレッド1,2,9,12,13,14,15,17,18,22,23,24,27,29,32,34,35,36,37,38,39,40、C.I.ベーシックバイオレット1,3,7,10,14,15,21,25,26,27,28などの塩基性染料が挙げられる。   Although the magenta pigment may be used alone, it is more preferable from the viewpoint of the image quality of a full color image to improve the sharpness by using a dye and a pigment together. Examples of the magenta dye include C.I. I. Solvent Red 1, 3, 8, 23, 24, 25, 27, 30, 49, 81, 82, 83, 84, 100, 109, 121, C.I. I. Disper thread 9, C.I. I. Solvent Violet 8, 13, 14, 21, 27, C.I. I. Oil-soluble dyes such as disperse violet 1, C.I. I. Basic Red 1, 2, 9, 12, 13, 14, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 27, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, C.I. I. Basic violet 1,3,7,10,14,15,21,25,26,27,28 etc. are mentioned.

シアン用着色顔料としては、C.I.ピグメントブルー2,3,15,16,17、C.I.バットブルー6、C.I.アシッドブルー45などである。   Examples of the color pigment for cyan include C.I. I. Pigment blue 2, 3, 15, 16, 17, C.I. I. Bat Blue 6, C.I. I. Such as Acid Blue 45.

イエロー用着色顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1,2,3,4,5,6,7,10,11,12,13,14,15,16,17,23,35,73,83、C.I.バットイエロー1,3,20などが挙げられる。   Examples of the color pigment for yellow include C.I. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 23, 35, 73, 83, C.I. I. Examples include bat yellow 1, 3, 20 and the like.

着色剤は樹脂成分100.0質量部に対して、0.1質量部以上60.0質量部以下が好ましく、より好ましくは0.5質量部以上50.0質量部以下である。   The colorant is preferably 0.1 parts by mass or more and 60.0 parts by mass or less, and more preferably 0.5 parts by mass or more and 50.0 parts by mass or less with respect to 100.0 parts by mass of the resin component.

本発明のトナーには、その摩擦帯電性を安定化させるために電荷制御剤を用いることができる。電荷制御剤は、その種類や他のトナー粒子構成材料の物性によっても異なるが、一般に、トナー粒子中に結着樹脂100質量部当たり0.1質量部以上10.0質量部以下含まれることが好ましく、0.1質量部以上5.0質量部以下含まれることがより好ましい。このような電荷制御剤としては、トナーの種類や用途に応じて種々のものを一種又は二種以上用いることができる。   In the toner of the present invention, a charge control agent can be used to stabilize the triboelectric chargeability. Although the charge control agent varies depending on the type and physical properties of other toner particle constituent materials, generally, the toner particles are contained in an amount of 0.1 to 10.0 parts by mass per 100 parts by mass of the binder resin. Preferably, it is contained in an amount of 0.1 to 5.0 parts by mass. As such a charge control agent, one kind or two or more kinds can be used depending on the kind and use of the toner.

トナーを負帯電性に制御するものとしては、以下のものが挙げられる。有機金属錯体(モノアゾ金属錯体;アセチルアセトン金属錯体);芳香族ヒドロキシカルボン酸又は芳香族ジカルボン酸の金属錯体又は金属塩。その他にも、トナーを負帯電性に制御するものとしては、芳香族モノ及びポリカルボン酸及びその金属塩や無水物;エステル類やビスフェノール等のフェノール誘導体が挙げられる。この中でも特に、安定な帯電性能が得られる芳香族ヒドロキシカルボン酸の金属錯体又は金属塩が好ましく用いられる。   Examples of toners that are negatively charged include the following. Organometallic complexes (monoazo metal complexes; acetylacetone metal complexes); metal complexes or metal salts of aromatic hydroxycarboxylic acids or aromatic dicarboxylic acids. In addition, examples of toners that are negatively charged include aromatic mono- and polycarboxylic acids and metal salts and anhydrides thereof; phenol derivatives such as esters and bisphenol. Among these, in particular, a metal complex or metal salt of an aromatic hydroxycarboxylic acid capable of obtaining stable charging performance is preferably used.

また、電荷制御樹脂も用いることができ、上述の電荷制御剤と併用することもできる。   Moreover, charge control resin can also be used and can also be used together with the above-mentioned charge control agent.

本発明のトナーには、必要に応じてシリカ微粒子以外の外部添加剤を併用して添加しても良い。このような外部添加剤としては、例えば、帯電補助剤、導電性付与剤、流動性付与剤、ケーキング防止剤、熱ローラ定着時の離型剤、滑剤、研磨剤等の働きをする樹脂微粒子や無機微粒子が挙げられる。   If necessary, an external additive other than silica fine particles may be added to the toner of the present invention. Examples of such external additives include charging aids, conductivity-imparting agents, fluidity-imparting agents, anti-caking agents, release agents at the time of heat roller fixing, lubricants, abrasives, etc. Inorganic fine particles are exemplified.

滑剤としては、ポリフッ化エチレン粉末、ステアリン酸亜鉛粉末、ポリフッ化ビニリデン粉末が挙げられ、中でもポリフッ化ビニリデン粉末が好ましい。また研磨剤としては、酸化セリウム粉末、炭化ケイ素粉末、チタン酸ストロンチウム粉末が挙げられ、中でもチタン酸ストロンチウム粉末が好ましい。流動性付与剤としては、酸化チタン粉末、酸化アルミニウム粉末が挙げられ、中でも疎水化処理したものが好ましい。導電性付与剤としては、カーボンブラック粉末、酸化亜鉛粉末、酸化アンチモン粉末が挙げられる。   Examples of the lubricant include polyethylene fluoride powder, zinc stearate powder, and polyvinylidene fluoride powder. Among these, polyvinylidene fluoride powder is preferable. Examples of the abrasive include cerium oxide powder, silicon carbide powder, and strontium titanate powder. Of these, strontium titanate powder is preferable. Examples of the fluidity-imparting agent include titanium oxide powder and aluminum oxide powder. Among them, a hydrophobized one is preferable. Examples of the conductivity imparting agent include carbon black powder, zinc oxide powder, and antimony oxide powder.

またさらに、逆極性の白色微粒子及び黒色微粒子を現像性向上剤として少量用いることもできる。   Furthermore, a small amount of white and black fine particles having opposite polarity can be used as a developing improver.

シリカ微粒子及びシリカ原体のBET比表面積の測定を以下に示す。   The measurement of the BET specific surface area of the silica fine particles and the silica base is shown below.

シリカ微粒子のBET比表面積の測定は、JIS Z8830(2001年)に準じて行なう。具体的な測定方法は、以下の通りである。   The BET specific surface area of the silica fine particles is measured according to JIS Z8830 (2001). A specific measurement method is as follows.

測定装置としては、定容法によるガス吸着法を測定方式として採用している「自動比表面積・細孔分布測定装置 TriStar3000(島津製作所社製)」を用いる。測定条件の設定および測定データの解析は、本装置に付属の専用ソフト「TriStar3000 Version4.00」を用いて行い、また装置には真空ポンプ、窒素ガス配管、ヘリウムガス配管が接続される。窒素ガスを吸着ガスとして用い、BET多点法により算出した値を本発明におけるBET比表面積とする。   As a measuring device, an “automatic specific surface area / pore distribution measuring device TriStar 3000 (manufactured by Shimadzu Corporation)” which employs a gas adsorption method by a constant volume method as a measuring method is used. Setting of measurement conditions and analysis of measurement data are performed using dedicated software “TriStar3000 Version 4.00” attached to the apparatus, and a vacuum pump, a nitrogen gas pipe, and a helium gas pipe are connected to the apparatus. The value calculated by the BET multipoint method using nitrogen gas as the adsorption gas is defined as the BET specific surface area in the present invention.

尚、BET比表面積は以下のようにして算出する。   The BET specific surface area is calculated as follows.

まず、シリカ微粒子に窒素ガスを吸着させ、その時の試料セル内の平衡圧力P(Pa)とシリカ微粒子の窒素吸着量Va(モル・g-1)を測定する。そして、試料セル内の平衡圧力P(Pa)を窒素の飽和蒸気圧Po(Pa)で除した値である相対圧Prを横軸とし、窒素吸着量Va(モル・g-1)を縦軸とした吸着等温線を得る。次いで、シリカ微粒子の表面に単分子層を形成するのに必要な吸着量である単分子層吸着量Vm(モル・g-1)を、下記のBET式を適用して求める。
Pr/Va(1−Pr)=1/(Vm×C)+(C−1)×Pr/(Vm×C)
(ここで、CはBETパラメーターであり、測定サンプル種、吸着ガス種、吸着温度により変動する変数である。)
First, nitrogen gas is adsorbed on silica fine particles, and then the equilibrium pressure P (Pa) in the sample cell and the nitrogen adsorption amount Va (mol · g −1 ) of the silica fine particles are measured. The relative pressure Pr, which is a value obtained by dividing the equilibrium pressure P (Pa) in the sample cell by the saturated vapor pressure Po (Pa) of nitrogen, is plotted on the horizontal axis, and the nitrogen adsorption amount Va (mol · g −1 ) is plotted on the vertical axis. The adsorption isotherm is obtained. Next, a monomolecular layer adsorption amount Vm (mol · g −1 ), which is an adsorption amount necessary for forming a monomolecular layer on the surface of the silica fine particles, is determined by applying the following BET equation.
Pr / Va (1-Pr) = 1 / (Vm * C) + (C-1) * Pr / (Vm * C)
(Here, C is a BET parameter, which is a variable that varies depending on the measurement sample type, adsorbed gas type, and adsorption temperature.)

BET式は、X軸をPr、Y軸をPr/Va(1−Pr)とすると、傾きが(C−1)/(Vm×C)、切片が1/(Vm×C)の直線と解釈できる(この直線をBETプロットという)。
直線の傾き=(C−1)/(Vm×C)
直線の切片=1/(Vm×C)
The BET equation is interpreted as a straight line with an inclination of (C-1) / (Vm × C) and an intercept of 1 / (Vm × C), where Pr is X axis and Pr / Va (1-Pr) is Y axis. Yes (this line is called a BET plot).
Straight line slope = (C-1) / (Vm × C)
Straight line intercept = 1 / (Vm × C)

Prの実測値とPr/Va(1−Pr)の実測値をグラフ上にプロットして最小二乗法により直線を引くと、その直線の傾きと切片の値が算出できる。これらの値を用いて上記の傾きと切片の連立方程式を解くと、VmとCが算出できる。   When the measured value of Pr and the measured value of Pr / Va (1-Pr) are plotted on a graph and a straight line is drawn by the least square method, the slope and intercept value of the straight line can be calculated. Vm and C can be calculated by solving the above slope and intercept simultaneous equations using these values.

さらに、上記で算出したVmと窒素分子の分子占有断面積(0.162nm2)から、下記の式に基づいて、シリカ微粒子のBET比表面積S(m2・g-1)を算出する。
S=Vm×N×0.162×10-18
(ここで、Nはアボガドロ数(モル-1)である。)
Furthermore, the BET specific surface area S (m 2 · g −1 ) of the silica fine particles is calculated from the Vm calculated above and the molecular occupation cross-sectional area (0.162 nm 2 ) of the nitrogen molecule based on the following formula.
S = Vm × N × 0.162 × 10 −18
(N is Avogadro's number (mole- 1 ).)

本装置を用いた測定は、装置に付属の「TriStar3000 取扱説明書V4.0」に従うが、具体的には、以下の手順で測定する。   The measurement using this apparatus follows the “TriStar 3000 Instruction Manual V4.0” attached to the apparatus, and specifically, the measurement is performed according to the following procedure.

充分に洗浄、乾燥した専用のガラス製試料セル(ステム直径3/8インチ、容積約5ml)の風袋を精秤する。そして、ロートを使ってこの試料セルの中に約0.1gのシリカ微粒子を入れる。   Thoroughly weigh the tare of a dedicated glass sample cell (stem diameter 3/8 inch, volume about 5 ml) that has been thoroughly cleaned and dried. Then, about 0.1 g of silica fine particles are put into the sample cell using a funnel.

シリカ微粒子を入れた前記試料セルを真空ポンプと窒素ガス配管を接続した「前処理装置 バキュプレップ061(島津製作所社製)」にセットし、23℃にて真空脱気を約10時間継続する。尚、真空脱気の際には、シリカ微粒子が真空ポンプに吸引されないよう、バルブを調整しながら徐々に脱気する。セル内の圧力は脱気とともに徐々に下がり、最終的には約0.4Pa(約3ミリトール)となる。真空脱気終了後、窒素ガスを徐々に注入して試料セル内を大気圧に戻し、試料セルを前処理装置から取り外す。そして、この試料セルの質量を精秤し、風袋との差からシリカ微粒子の正確な質量を算出する。尚、この際に、試料セル内のシリカ微粒子が大気中の水分等で汚染されないように、秤量中はゴム栓で試料セルに蓋をしておく。   The sample cell containing the silica fine particles is set in a “pretreatment apparatus Bacrepprep 061 (manufactured by Shimadzu Corporation)” connected with a vacuum pump and a nitrogen gas pipe, and vacuum degassing is continued at 23 ° C. for about 10 hours. In vacuum degassing, the gas is gradually degassed while adjusting the valve so that silica fine particles are not sucked into the vacuum pump. The pressure in the cell gradually decreases with deaeration and finally becomes about 0.4 Pa (about 3 mTorr). After completion of vacuum degassing, nitrogen gas is gradually injected to return the inside of the sample cell to atmospheric pressure, and the sample cell is removed from the pretreatment device. Then, the mass of the sample cell is precisely weighed, and the accurate mass of the silica fine particles is calculated from the difference from the tare. At this time, the sample cell is covered with a rubber plug during weighing so that the silica fine particles in the sample cell are not contaminated by moisture in the atmosphere.

次に、シリカ微粒子が入った前記の試料セルのステム部に専用の「等温ジャケット」を取り付ける。そして、この試料セル内に専用のフィラーロッドを挿入し、前記装置の分析ポートに試料セルをセットする。尚、等温ジャケットとは、毛細管現象により液体窒素を一定レベルまで吸い上げることが可能な、内面が多孔性材料、外面が不浸透性材料で構成された筒状の部材である。   Next, a dedicated “isothermal jacket” is attached to the stem portion of the sample cell containing the silica fine particles. Then, a dedicated filler rod is inserted into the sample cell, and the sample cell is set in the analysis port of the apparatus. The isothermal jacket is a cylindrical member having an inner surface made of a porous material and an outer surface made of an impermeable material capable of sucking liquid nitrogen to a certain level by capillary action.

続いて、接続器具を含む試料セルのフリースペースの測定を行なう。フリースペースは、23℃においてヘリウムガスを用いて試料セルの容積を測定し、続いて液体窒素で試料セルを冷却した後の試料セルの容積を同様にヘリウムガスを用いて測定して、これらの容積の差から換算して算出する。また、窒素の飽和蒸気圧Po(Pa)は、装置に内蔵されたPoチューブを使用して、別途に自動で測定される。   Subsequently, the free space of the sample cell including the connection tool is measured. Free space is measured by measuring the volume of the sample cell with helium gas at 23 ° C., and then measuring the volume of the sample cell after cooling the sample cell with liquid nitrogen in the same manner using helium gas. Calculated from the difference in volume. Further, the saturated vapor pressure Po (Pa) of nitrogen is automatically measured separately using a Po tube built in the apparatus.

次に、試料セル内の真空脱気を行った後、真空脱気を継続しながら試料セルを液体窒素で冷却する。その後、窒素ガスを試料セル内に段階的に導入してシリカ微粒子に窒素分子を吸着させる。この際、平衡圧力P(Pa)を随時計測することにより前記した吸着等温線が得られるので、この吸着等温線をBETプロットに変換する。尚、データを収集する相対圧Prのポイントは、0.05、0.10、0.15、0.20、0.25、0.30の合計6ポイントに設定する。得られた測定データに対して最小二乗法により直線を引き、その直線の傾きと切片からVmを算出する。さらに、このVmの値を用いて、前記したようにシリカ微粒子のBET比表面積を算出する。   Next, after performing vacuum deaeration in the sample cell, the sample cell is cooled with liquid nitrogen while continuing the vacuum deaeration. Thereafter, nitrogen gas is gradually introduced into the sample cell to adsorb nitrogen molecules on the silica fine particles. At this time, the adsorption isotherm is obtained by measuring the equilibrium pressure P (Pa) as needed, and the adsorption isotherm is converted into a BET plot. Note that the points of the relative pressure Pr for collecting data are set to a total of 6 points of 0.05, 0.10, 0.15, 0.20, 0.25, and 0.30. A straight line is drawn from the obtained measurement data by the least square method, and Vm is calculated from the slope and intercept of the straight line. Furthermore, using the value of Vm, the BET specific surface area of the silica fine particles is calculated as described above.

本発明のトナーを作製するには、結着樹脂、着色剤、その他の添加剤を、ヘンシェルミキサー又は、ボールミルの如き混合機により十分混合してから加熱ロール、ニーダー、エクストルーダーの如き熱混練機を用いて溶融混練し、冷却固化後粉砕及び分級を行いトナー粒子を得、更にトナー粒子にシリカ微粒子をヘンシェルミキサーの如き混合機により十分混合し、本発明のトナーを得ることが出来る。   In order to produce the toner of the present invention, a binder resin, a colorant, and other additives are sufficiently mixed by a mixer such as a Henschel mixer or a ball mill, and then a heat kneader such as a heating roll, a kneader, and an extruder. The toner of the present invention can be obtained by melt-kneading the mixture, cooling and solidifying, pulverizing and classifying to obtain toner particles, and further sufficiently mixing silica fine particles with the toner particles with a mixer such as a Henschel mixer.

混合機としては、以下のものが挙げられる。ヘンシェルミキサー(三井鉱山社製);スーパーミキサー(カワタ社製);リボコーン(大川原製作所社製);ナウターミキサー、タービュライザー、サイクロミックス(ホソカワミクロン社製);スパイラルピンミキサー(太平洋機工社製);レーディゲミキサー(マツボー社製)。混練機としては、以下のものが挙げられる。KRCニーダー(栗本鉄工所社製);ブス・コ・ニーダー(Buss社製);TEM型押し出し機(東芝機械社製);TEX二軸混練機(日本製鋼所社製);PCM混練機(池貝鉄工所社製);三本ロールミル、ミキシングロールミル、ニーダー(井上製作所社製);ニーデックス(三井鉱山社製);MS式加圧ニーダー、ニダールーダー(森山製作所社製);バンバリーミキサー(神戸製鋼所社製)。粉砕機としては、以下のものが挙げられる。カウンタージェットミル、ミクロンジェット、イノマイザ(ホソカワミクロン社製);IDS型ミル、PJMジェット粉砕機(日本ニューマチック工業社製);クロスジェットミル(栗本鉄工所社製);ウルマックス(日曹エンジニアリング社製);SKジェット・オー・ミル(セイシン企業社製);クリプトロン(川崎重工業社製);ターボミル(ターボエ業社製);スーパーローター(日清エンジニアリング社製)。分級機としては、以下のものが挙げられる。クラッシール、マイクロンクラッシファイアー、スペディッククラシファイアー(セイシン企業社製);ターボクラッシファイアー(日清エンジニアリング社製);ミクロンセパレータ、ターボプレックス(ATP)、TSPセパレータ(ホソカワミクロン社製);エルボージェット(日鉄鉱業社製)、ディスパージョンセパレータ(日本ニューマチックエ業社製);YMマイクロカット(安川商事社製)。粗粒子をふるい分けるために用いられる篩い装置としては、以下のものが挙げられる。ウルトラソニック(晃栄産業社製);レゾナシーブ、ジャイロシフター(徳寿工作所社);バイブラソニックシステム(ダルトン社製);ソニクリーン(新東工業社製);ターボスクリーナー(ターボエ業社製);ミクロシフター(槙野産業社製);円形振動篩い。   The following are mentioned as a mixer. Henschel mixer (made by Mitsui Mining); Super mixer (made by Kawata); Ribocorn (made by Okawara Seisakusho); Nauta mixer, turbulizer, cyclomix (made by Hosokawa Micron); Spiral pin mixer (made by Taiheiyo Kiko) A Ladige mixer (manufactured by Matsubo). Examples of the kneader include the following. KRC Kneader (manufactured by Kurimoto Iron Works); Bus Co Kneader (manufactured by Buss); TEM type extruder (manufactured by Toshiba Machine); TEX twin-screw kneader (manufactured by Nippon Steel); PCM kneader (Ikegai Steel mill); three roll mill, mixing roll mill, kneader (manufactured by Inoue Seisakusho); kneedex (manufactured by Mitsui Mining); MS-type pressure kneader, nider ruder (manufactured by Moriyama Seisakusho); Banbury mixer (Kobe Steel) (Made by the company). Examples of the pulverizer include the following. Counter jet mill, micron jet, inomizer (manufactured by Hosokawa Micron); IDS type mill, PJM jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industrial Co., Ltd.); cross jet mill (manufactured by Kurimoto Iron Works); Urmax (manufactured by Nisso Engineering Co., Ltd.) SK; jet mill (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.); kryptron (manufactured by Kawasaki Heavy Industries, Ltd.); turbo mill (manufactured by Turboe Industry Co., Ltd.); Examples of the classifier include the following. Classy, Micron Classifier, Spedic Classifier (manufactured by Seishin Enterprise); Turbo Classifier (manufactured by Nissin Engineering); Micron Separator, Turboplex (ATP), TSP Separator (manufactured by Hosokawa Micron); Elbow Jet (Japan) Iron Mining Co., Ltd.), Dispersion Separator (manufactured by Nippon Pneumatic Engineering Co., Ltd.); YM Microcut (manufactured by Yaskawa Corporation). Examples of the sieving apparatus used for sieving coarse particles include the following. Ultrasonic (manufactured by Sakae Sangyo Co., Ltd.); Resonator Sheave, Gyroshifter (Tokusu Kosakusha Co., Ltd.); Vibrasonic System (manufactured by Dalton Co.); Soniclean (manufactured by Shinto Kogyo Co., Ltd.); Micro shifter (manufactured by Hadano Sangyo Co., Ltd.); circular vibrating sieve.

以上本発明の基本的な構成と特色について述べたが、以下実施例にもとづいて具体的に本発明について説明する。しかしながら、本発明は何らこれに限定されるものではない。   Although the basic configuration and features of the present invention have been described above, the present invention will be specifically described below based on examples. However, the present invention is not limited to this.

<a−SiC感光体の製造例>
図1に示す、周波数としてRF帯の高周波電源を用いたプラズマ処理装置を用いて、円筒状基体(直径80mm、長さ358mm、厚さ3mmの鏡面加工を施した円筒状のアルミニウム基体)上に下記表1に示す条件でプラス帯電a−Si感光体を作製した。その際、電荷注入阻止層、光導電層、表面層の順に成膜を行った。なお、表1中の「※」は可変の値であることを示し、表面層作製時の高周波電力、SiH4流量及びCH4流量を下記表2に示す条件とした。
<Example of production of a-SiC photoreceptor>
Using a plasma processing apparatus using a high-frequency power source in the RF band as shown in FIG. 1, on a cylindrical substrate (cylindrical aluminum substrate having a diameter of 80 mm, a length of 358 mm, and a thickness of 3 mm). A positively charged a-Si photosensitive member was produced under the conditions shown in Table 1 below. At that time, the charge injection blocking layer, the photoconductive layer, and the surface layer were formed in this order. Note that “*” in Table 1 indicates a variable value, and the high-frequency power, SiH 4 flow rate, and CH 4 flow rate at the time of preparing the surface layer were the conditions shown in Table 2 below.

Figure 0005483994
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Figure 0005483994
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上記方法により作製した電子写真感光体について、Si+C原子密度、H原子比、C原子比の評価を前述の条件で行った。その結果を表3に示す。   For the electrophotographic photoreceptor produced by the above method, evaluation of Si + C atom density, H atom ratio, and C atom ratio was performed under the above-mentioned conditions. The results are shown in Table 3.

Figure 0005483994
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本実施例で用いたシリカ微粒子の製法を以下に示す。シリカ原体には、BET比表面積300m2/gのものを使用した。 The production method of the silica fine particles used in this example is shown below. A silica base material having a BET specific surface area of 300 m 2 / g was used.

<シリカ微粒子1の製造例>
シリカ原体100質量部に対し、20質量部のジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)を噴霧し、30分間攪拌を続けた後、攪拌しながら200℃まで昇温させてさらに2時間攪拌して、反応を終了した。反応終了後、解砕処理を行った。続いてシリカ原体100質量部に対し、5質量部のヘキサメチルジシラザンを内部に噴霧し、シリカ微粒子の流動化状態でシラン化合物処理を行なった。この反応を60分間継続した後、反応を終了し本発明で使用したシリカ微粒子B−1を得た。得られたシリカ微粒子1の物性を表4に示す。なお、シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率は、オイル処理後の中間体及び、シリカ微粒子両方の固定化率を測定し、算出した。
<Production Example of Silica Fine Particle 1>
20 parts by mass of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) is sprayed on 100 parts by mass of the silica base, and after stirring for 30 minutes, the temperature is raised to 200 ° C. while stirring and stirring is continued for 2 hours. The reaction was terminated. After completion of the reaction, crushing treatment was performed. Subsequently, 5 parts by mass of hexamethyldisilazane was sprayed inside with respect to 100 parts by mass of the silica raw material, and the silane compound treatment was performed in a fluidized state of the silica fine particles. After this reaction was continued for 60 minutes, the reaction was terminated and silica fine particles B-1 used in the present invention were obtained. Table 4 shows the physical properties of the silica fine particles 1 obtained. The carbon oil-based immobilization rate of silicone oil was calculated by measuring the immobilization rates of both the intermediate after the oil treatment and the silica fine particles.

<シリカ微粒子2の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)の処理量を15質量部とした以外は、シリカ微粒子B−1と同様にしてシリカ微粒子B−2を得た。得られたシリカ微粒子B−2の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 2>
Silica fine particles B-2 were obtained in the same manner as silica fine particles B-1, except that the amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) was changed to 15 parts by mass. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-2.

<シリカ微粒子3の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)の処理量を25質量部とした以外は、シリカ微粒子B−1と同様にしてシリカ微粒子B−3を得た。得られたシリカ微粒子B−3の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 3>
Silica fine particles B-3 were obtained in the same manner as silica fine particles B-1, except that the treatment amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) was 25 parts by mass. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particle B-3.

<シリカ微粒子4の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)の処理量を26質量部とし、ヘキサメチルジシラザンに変えてジメチルジクロロシランを15質量部用いた以外は、シリカ微粒子B−1と同様にしてシリカ微粒子B−4を得た。得られたシリカ微粒子B−4の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 4>
Silica fine particles in the same manner as silica fine particles B-1, except that the treatment amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) was 26 parts by mass and 15 parts by mass of dimethyldichlorosilane was used instead of hexamethyldisilazane. B-4 was obtained. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-4.

<シリカ微粒子5の製造例>
シリカ原体100質量部に対し、7質量部のジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)を噴霧し、30分間攪拌を続けた後、攪拌しながら200℃まで昇温させてさらに2時間攪拌して、反応を終了した。反応終了後、更に6質量部のジメチルシリコーンオイルを噴霧し、同様に反応を行い、反応終了後、解砕処理を行った。
<Example of production of silica fine particles 5>
7 parts by mass of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) is sprayed on 100 parts by mass of the silica base, and after stirring for 30 minutes, the temperature is raised to 200 ° C. while stirring and stirring is continued for 2 hours. The reaction was terminated. After completion of the reaction, 6 parts by mass of dimethylsilicone oil was further sprayed to carry out the reaction in the same manner.

続いてシリカ原体100質量部に対し、15質量部のジメチルジクロロシランを内部に噴霧し、シリカ微粒子の流動化状態でシラン化合物処理を行なった。この反応を60分間継続した後、反応を終了し本発明で使用したシリカ微粒子B−5を得た。得られたシリカ微粒子B−5の物性を表4に示す。   Subsequently, 15 parts by mass of dimethyldichlorosilane was sprayed inside with respect to 100 parts by mass of the silica base material, and the silane compound treatment was performed in a fluidized state of the silica fine particles. After this reaction was continued for 60 minutes, the reaction was terminated and silica fine particles B-5 used in the present invention were obtained. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-5.

<シリカ微粒子6の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)の処理量を25質量部とし、処理温度を150℃とした以外は、シリカ微粒子B−1と同様にしてシリカ微粒子B−6を得た。得られたシリカ微粒子B−6の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 6>
Silica fine particles B-6 were obtained in the same manner as silica fine particles B-1, except that the treatment amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) was 25 parts by mass and the treatment temperature was 150 ° C. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particle B-6.

<シリカ微粒子7の製造例>
シリカ原体100質量部に対し、12質量部のジメチルシリコーンオイル(粘度=50mm2/s)を噴霧し、30分間攪拌を続けた後、攪拌しながら150℃まで昇温させてさらに2時間攪拌して、反応を終了し、本発明で使用したシリカ微粒子B−7を得た。得られたシリカ微粒子B−7の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 7>
12 parts by mass of dimethyl silicone oil (viscosity = 50 mm 2 / s) is sprayed on 100 parts by mass of the silica base, and after stirring for 30 minutes, the temperature is raised to 150 ° C. while stirring and stirring is continued for 2 hours. Then, the reaction was terminated, and silica fine particles B-7 used in the present invention were obtained. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-7.

<シリカ微粒子8の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=50mm2/s)の処理量を26質量部とした以外は、シリカ微粒子B−7と同様にしてシリカ微粒子B−8を得た。得られたシリカ微粒子B−8の物性を表4に示す。
<Production Example of Silica Fine Particle 8>
Silica fine particles B-8 were obtained in the same manner as silica fine particles B-7, except that the treatment amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 50 mm 2 / s) was changed to 26 parts by mass. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particle B-8.

<シリカ微粒子9の製造例>
シリカ原体100質量部に対し、5質量部のジメチルシリコーンオイル(粘度=1000mm2/s)を噴霧し、30分間攪拌を続けた後、攪拌しながら200℃まで昇温させてさらに2時間攪拌して、反応を終了した。続けて5質量部のジメチルシリコーンオイルで同様に処理を行い、反応終了後、更に5質量部のジメチルシリコーンオイルで反応を行い、本発明で使用したシリカ微粒子B−9を得た。得られたシリカ微粒子B−9の物性を表4に示す。
<Example of production of silica fine particles 9>
After spraying 5 parts by mass of dimethyl silicone oil (viscosity = 1000 mm 2 / s) with respect to 100 parts by mass of the silica raw material, stirring was continued for 30 minutes, then the temperature was raised to 200 ° C. while stirring and stirring was continued for 2 hours The reaction was terminated. Subsequently, the same treatment was performed with 5 parts by mass of dimethyl silicone oil, and after completion of the reaction, the reaction was further carried out with 5 parts by mass of dimethyl silicone oil to obtain silica fine particles B-9 used in the present invention. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-9.

<シリカ微粒子10の製造例>
ジメチルシリコーンオイル(粘度=100mm2/s)の処理量を30質量部とし、処理温度を100℃とし、更にヘキサメチルジシラザンを15質量部とした以外はシリカ微粒子B−1と同様にしてシリカ微粒子B−10を得た。得られたシリカ微粒子B−10の物性を表4に示す。
<Production Example of Silica Fine Particle 10>
Silica in the same manner as silica fine particle B-1, except that the treatment amount of dimethyl silicone oil (viscosity = 100 mm 2 / s) was 30 parts by mass, the treatment temperature was 100 ° C., and 15 parts by mass of hexamethyldisilazane was further used. Fine particles B-10 were obtained. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particle B-10.

<シリカ微粒子11の製造例>
シリカ原体100質量部に対し、30質量部のヘキサメチルジシラザンを内部に噴霧し、シリカ微粒子の流動化状態でシラン化合物処理を行った。この反応を60分間継続した後、反応を終了した。
<Production Example of Silica Fine Particle 11>
30 parts by mass of hexamethyldisilazane was sprayed inside with respect to 100 parts by mass of the silica raw material, and the silane compound treatment was performed in a fluidized state of silica fine particles. This reaction was continued for 60 minutes, and then the reaction was terminated.

続いてシリカ原体100質量部に対し、10質量部のジメチルシリコーンオイル(粘度=50mm2/s)を噴霧し、30分間攪拌を続けた後、攪拌しながら150℃まで昇温させてさらに2時間攪拌して、反応を終了し、本発明で使用したシリカ微粒子B−11を得た。得られたシリカ微粒子B−11の物性を表4に示す。 Subsequently, 10 parts by mass of dimethyl silicone oil (viscosity = 50 mm 2 / s) is sprayed on 100 parts by mass of the silica base, and after stirring for 30 minutes, the temperature is raised to 150 ° C. while stirring, and further 2 The reaction was terminated by stirring for a period of time to obtain silica fine particles B-11 used in the present invention. Table 4 shows the physical properties of the obtained silica fine particles B-11.

Figure 0005483994
Figure 0005483994

<樹脂(C−1)製造例>
・ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物 34.0mol%
(平均付加mol数:2.2mol)
・ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物 19.5mol%
(平均付加mol数:2.2mol)
・イソフタル酸 23.5mol%
・n−ドデセニルコハク酸 13.5mol%
・トリメリット酸 9.5mol%
上記モノマーとジブチル錫オキシドを全酸成分に対して0.03質量部添加し窒素気流下、22.0℃にて6時間攪拌しつつ反応させポリエステル樹脂(C−1)を得た。
<Resin (C-1) Production Example>
・ Propylene oxide adduct of bisphenol A 34.0 mol%
(Average added mol number: 2.2 mol)
-Ethylene oxide adduct of bisphenol A 19.5 mol%
(Average added mol number: 2.2 mol)
・ Isophthalic acid 23.5mol%
N-dodecenyl succinic acid 13.5 mol%
-Trimellitic acid 9.5 mol%
The above monomer and dibutyltin oxide were added in an amount of 0.03 parts by mass based on the total acid components, and reacted with stirring at 22.0 ° C. for 6 hours under a nitrogen stream to obtain a polyester resin (C-1).

<トナー1の製造例>
結着樹脂C−1 100質量部
磁性酸化鉄粒子(平均粒径0.15μm) 75質量部
フィッシャートロプシュワックス 4質量部
電荷制御剤(下式構造式2) 2質量部
<Production Example of Toner 1>
Binder resin C-1 100 parts by mass Magnetic iron oxide particles (average particle size 0.15 μm) 75 parts by mass Fischer-Tropsch wax 4 parts by mass Charge control agent (Formula 2 below) 2 parts by mass

Figure 0005483994
Figure 0005483994

上記材料をヘンシェルミキサーで前混合した後、二軸混練押し出し機によって、溶融混練した。   The above materials were premixed with a Henschel mixer and then melt kneaded with a biaxial kneading extruder.

得られた混練物を冷却し、ハンマーミルで粗粉砕した後、ジェットミルで粉砕し、得られた微粉砕粉末をコアンダ効果を利用した多分割分級機を用いて分級し、重量平均粒径(D4)6.8μmの負摩擦帯電性のトナー粒子を得た。トナー粒子100質量部に対し、シリカ微粉子B−1を0.8質量部、及びチタン酸ストロンチウム(個数平均粒径1.2μm)3.0質量部を外添混合し目開き150μmのメッシュで篩い、負摩擦帯電性のトナー1を得た。   The obtained kneaded product is cooled, coarsely pulverized with a hammer mill, pulverized with a jet mill, and the obtained finely pulverized powder is classified using a multi-division classifier utilizing the Coanda effect, D4) 6.8 μm negative triboelectrically chargeable toner particles were obtained. With 100 parts by mass of toner particles, 0.8 parts by mass of silica fine powder B-1 and 3.0 parts by mass of strontium titanate (number average particle size 1.2 μm) are externally added and mixed with a mesh having a mesh size of 150 μm. Sieve and negative triboelectric charge toner 1 was obtained.

<トナー2乃至11の製造例>
表5に示すように、シリカ微粒子を変えた以外は、トナー1の製造例と同様にして、トナー2乃至11得た。
<Production Examples of Toners 2 to 11>
As shown in Table 5, Toners 2 to 11 were obtained in the same manner as in Toner 1 except that the silica fine particles were changed.

Figure 0005483994
Figure 0005483994

[実施例1]
評価に用いたマシンとしては、市販の複写機(iR−5075 キヤノン製)のプロセススピードを600mm/secに改造して用いた。転写材には普通紙である「オフィスプランナーSK64g紙 キヤノン製」を用いた。この評価機に感光体1をとりつけ、トナー1を充填し、常温常湿環境(23℃、50%RH)で印字比率5%のテストチャートを用いて、普通紙を連続片面通紙で50万枚耐久を行った。この際、感光体の暗部電位が一定になるようにコロナ帯電器の放電電流を調整して耐久を行い、以下に示す項目について評価を行った。
[Example 1]
As a machine used for the evaluation, the process speed of a commercially available copying machine (iR-5075 manufactured by Canon) was modified to 600 mm / sec. As the transfer material, “office planner SK64g paper made by Canon” which is plain paper was used. The photoconductor 1 is attached to this evaluation machine, the toner 1 is filled, and a normal sheet is passed through a single-sided continuous paper of 500,000 using a test chart with a printing ratio of 5% in a normal temperature and humidity environment (23 ° C., 50% RH). Sheet durability was performed. At this time, the discharge current of the corona charger was adjusted so that the dark portion potential of the photoconductor was constant, durability was performed, and the following items were evaluated.

(ワイヤー汚染の評価)
新品のワイヤーの径と、耐久後のシリカの薄膜が形成したワイヤーの径とを比較し、耐久後のシリカの薄膜によるワイヤーの太さを比率で数値化した。ワイヤーの測定は一次帯電器と転写前帯電器の2種類を測定した。尚、測定に用いた顕微鏡はKH−3000Vハイスコープアドバンスト(HiROX社製)を用いて、200倍の倍率で測定を行った。評価結果を表6に示す。
A(非常に良い) 110%未満
B(良い) 110%以上120%未満
C(普通) 120%以上130%未満
D(やや悪い) 130%以上140%未満
(Evaluation of wire contamination)
The diameter of the new wire was compared with the diameter of the wire formed by the silica thin film after endurance, and the thickness of the wire by the silica thin film after endurance was quantified as a ratio. Two types of wires were measured: a primary charger and a pre-transfer charger. The microscope used for the measurement was KH-3000V Hiscope Advanced (manufactured by HiROX) and measured at a magnification of 200 times. The evaluation results are shown in Table 6.
A (very good) 110% or less B (good) 110% or more and less than 120% C (normal) 120% or more and less than 130% D (slightly bad) 130% or more and less than 140%

(ハーフトーン画像の縦スジ評価)
初期のハーフトーン画像と50万枚耐久後のハーフトーン画像を目視で評価し、帯電器のワイヤー汚染に起因する縦スジの発生の有無を評価した。評価結果を表6に示す。
A(非常に良い) 縦スジが全く見られない
B(良い) 注意して見ると、少し縦スジが発生している
C(普通) わずかに縦スジによるムラがあるが、画像上問題にならない
D(やや悪い) 縦スジによるムラが分かる
(Vertical stripe evaluation of halftone images)
The initial halftone image and the halftone image after 500,000 sheets were visually evaluated, and the presence or absence of vertical streaks due to the wire contamination of the charger was evaluated. The evaluation results are shown in Table 6.
A (very good) Vertical stripes are not seen at all B (good) If you look carefully, there are slight vertical stripes C (normal) There is slight unevenness due to vertical stripes, but there is no problem on the image D (slightly bad) Unevenness due to vertical stripes

(感光体削れ)
感光体削れの評価方法は、作製直後の感光体の表面層膜厚を任意の周方向で長手方向9点(電子写真感光体の長手方向中央を基準として、0mm、±50mm、±90mm、±130mm、±150mm)及び前記任意の周方向から180°回転させた位置での長手方向9点、合計18点を測定し、その18点の平均値により削れ量を算出した。
(Photoconductor shaving)
The evaluation method of photoconductor scraping is that the surface layer thickness of the photoconductor immediately after production is 9 points in the longitudinal direction in an arbitrary circumferential direction (0 mm, ± 50 mm, ± 90 mm, ± 130 points, ± 150 mm) and 9 points in the longitudinal direction at a position rotated by 180 ° from the arbitrary circumferential direction, a total of 18 points were measured, and the scraping amount was calculated from the average value of the 18 points.

測定方法は、2mmのスポット径で電子写真感光体表面に垂直に光を照射し、分光計(大塚電子製:MCPD−2000)を用いて、反射光の分光測定を行う。得られた反射波形をもとに表面層膜厚を算出した。このとき、波長範囲を500nmから750nm、光導電層の屈折率は3.30とし、表面層の屈折率は前述したSi+C原子密度測定の際に行った分光エリプソメトリーの測定より求まる値を用いた。
A(非常に良い) 100Å以下
B(良い) 100Å以上250Å以下
C(普通) 250Å以上400Å以下
D(やや悪い) 400Å以上
The measurement method irradiates light perpendicularly on the electrophotographic photosensitive member surface with a spot diameter of 2 mm, and performs spectroscopic measurement of reflected light using a spectrometer (manufactured by Otsuka Electronics: MCPD-2000). The surface layer thickness was calculated based on the obtained reflection waveform. At this time, the wavelength range was 500 nm to 750 nm, the refractive index of the photoconductive layer was 3.30, and the refractive index of the surface layer was a value obtained from the spectroscopic ellipsometry measurement performed during the Si + C atom density measurement described above. .
A (very good) 100 mm or less B (good) 100 mm or more and 250 mm or less C (normal) 250 mm or more and 400 mm or less D (somewhat bad) 400 mm or more

[実施例2乃至12]
表6に記載の感光体とトナーの組み合わせにおいて、実施例1と同様にして、評価を行った。評価結果を表6に示す。
[Examples 2 to 12]
Evaluations were carried out in the same manner as in Example 1 for the combinations of the photoreceptors and toners shown in Table 6. The evaluation results are shown in Table 6.

[実施例13]
現像装置を図3に示すものに変える以外は、実施例1と同様に評価した。
[Example 13]
Evaluation was conducted in the same manner as in Example 1 except that the developing device was changed to that shown in FIG.

この現像装置は、トナーを収容する現像容器2200(現像装置本体)と、感光体2100に対向して上下に設置された第一トナー担持体2310、及び第二トナー担持体2320と、トナーホッパー3000の下方に配され、トナーを各トナー担持体2310、2320近傍まで搬送する攪拌部材2800、2900を備えている。   This developing device includes a developing container 2200 (developing device main body) that contains toner, a first toner carrier 2310 and a second toner carrier 2320 that are installed above and below the photoconductor 2100, and a toner hopper 3000. , And agitating members 2800 and 2900 that convey the toner to the vicinity of the toner carriers 2310 and 2320, respectively.

この現像装置は、感光体2100の回転方向上流側に位置する第一トナー担持体2310に対してトナー規制部材として磁性ドクターブレード2600を備えており、これにより第一トナー担持体2310のトナーコート規制を行う。これに対し第二トナー担持体は磁性ドクターブレードを備えておらず、第一トナー担持体2310と第二トナー担持体2320の間隙部での磁気的拘束力等により、トナーコート規制が行われる。トナー担持体が1本の場合に比べ、現像機会が増すため、軽印刷用途のような、高画質現像には好適に用いられる。   This developing device is provided with a magnetic doctor blade 2600 as a toner regulating member for the first toner carrier 2310 located on the upstream side in the rotation direction of the photosensitive member 2100, thereby restricting the toner coat of the first toner carrier 2310. I do. On the other hand, the second toner carrier does not include a magnetic doctor blade, and toner coat regulation is performed by a magnetic binding force or the like in the gap between the first toner carrier 2310 and the second toner carrier 2320. Compared to the case where there is only one toner carrier, the development opportunities are increased, so that it is suitably used for high-quality image development such as light printing.

[比較例1乃至5]
表6に記載の感光体とトナーの組み合わせにおいて、実施例1と同様にして、評価を行った。評価結果を表6に示す。
[Comparative Examples 1 to 5]
Evaluations were carried out in the same manner as in Example 1 for the combinations of the photoreceptors and toners shown in Table 6. The evaluation results are shown in Table 6.

Figure 0005483994
Figure 0005483994

1100:堆積装置、1110:反応容器、1111:カソード電極、1112:導電性基体、1113:基体加熱用ヒーター、1114:ガス導入管、1115:高周波マッチングボックス、1116:ガス配管、1117:リークバルブ、1118:メインバルブ、1119:真空計、1120:高周波電源、1121:絶縁材料、1123:受け台、1200:ガス供給装置、1211乃至1215:マスフローコントローラ、1221乃至1225:ボンベ、1231乃至1235:バルブ、1241乃至1245:流入バルブ、1251乃至1255:流出バルブ、1260:補助バルブ、1261乃至1265:圧力調整器、2100:感光体、2200:現像容器、2310:第一トナー担持体、2320:第二トナー担持体、2400、2500:マグネット、2600:トナー規制部材、2700:開口部、2800、2900:攪拌部材、3000:トナーホッパー、α:感光体の回転方向   1100: Deposition apparatus, 1110: Reaction vessel, 1111: Cathode electrode, 1112: Conductive substrate, 1113: Heater for heating substrate, 1114: Gas introduction pipe, 1115: High-frequency matching box, 1116: Gas pipe, 1117: Leak valve, 1118: Main valve, 1119: Vacuum gauge, 1120: High frequency power supply, 1121: Insulating material, 1123: Receiving base, 1200: Gas supply device, 1211 to 1215: Mass flow controller, 1221 to 1225: Cylinder, 1231 to 1235: Valve, 1241 to 1245: Inflow valve, 1251 to 1255: Outflow valve, 1260: Auxiliary valve, 1261 to 1265: Pressure regulator, 2100: Photoconductor, 2200: Developer container, 2310: First toner carrier, 2320: Second toner Carrier 2400, 2500: Magnet, 2600: toner regulating member, 2700: opening, 2800,2900: agitating member, 3000: toner hopper, alpha: rotation direction of the photosensitive member

Claims (3)

静電荷像を担持するための静電荷像担持体を帯電し、帯電された該静電荷像担持体に静電荷像を形成し、該静電荷像を現像して該静電荷像担持体上にトナー像を形成し、該静電荷像担持体上の該トナー像を転写材に転写する工程を有する画像形成方法であって、
該静電荷像担持体は少なくとも光導電層と、水素化アモルファス炭化珪素で形成されている表面層とを順次積層した感光体であり、該感光体の表面層の珪素原子の原子密度と炭素原子の原子密度の和が6.60×1022原子/cm3以上であり、
該トナーが少なくとも結着樹脂と着色剤を含有するトナー粒子と、シリカ微粒子を有するトナーであり、該シリカ微粒子が、少なくともシリコーンオイルによる処理が施されており、且つ該シリコーンオイルの炭素量基準の固定化率が30質量%以上95質量%以下であることを特徴とする画像形成方法。
An electrostatic image carrier for carrying an electrostatic image is charged, an electrostatic image is formed on the charged electrostatic image carrier, the electrostatic image is developed, and the electrostatic image is developed on the electrostatic image carrier. An image forming method comprising a step of forming a toner image and transferring the toner image on the electrostatic image carrier to a transfer material,
The electrostatic charge image carrier is a photoreceptor in which at least a photoconductive layer and a surface layer formed of hydrogenated amorphous silicon carbide are sequentially laminated, and the atomic density of carbon atoms and carbon atoms in the surface layer of the photoreceptor The sum of the atomic densities of 6.60 × 10 22 atoms / cm 3 or more,
The toner is toner having toner particles containing at least a binder resin and a colorant, and silica fine particles, the silica fine particles are at least treated with a silicone oil, and the carbon amount standard of the silicone oil is used. An image forming method, wherein the immobilization ratio is 30% by mass or more and 95% by mass or less.
該感光体の表面層において、珪素原子の原子数、炭素原子の原子数及び水素原子の原子数の和に対する水素原子の原子数の比が0.30以上0.45以下であることを特徴とする請求項1に記載の画像形成方法。   In the surface layer of the photoreceptor, the ratio of the number of hydrogen atoms to the sum of the number of silicon atoms, the number of carbon atoms and the number of hydrogen atoms is 0.30 or more and 0.45 or less, The image forming method according to claim 1. 静電荷像の現像が、第一トナー担持体と第二トナー担持体とを用いて行われ、該静電荷像担持体の回転方向における上流側の第一トナー担持体が下流側の第二トナー担持体上のトナー量を所定量に規制することを特徴とする請求項1又は2に記載の画像形成方法。   The electrostatic image is developed using the first toner carrier and the second toner carrier, and the upstream first toner carrier in the rotation direction of the electrostatic image carrier is the downstream second toner. 3. The image forming method according to claim 1, wherein the toner amount on the carrier is regulated to a predetermined amount.
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