JP2023072114A - Image formation method - Google Patents

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武 橋本
Takeshi Hashimoto
幸裕 阿部
Yukihiro Abe
隼人 井田
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Abstract

To provide an image formation method which can suppress image deletion in a high-humidity environment even when using an electrostatic charge image carrier using amorphous silicon in a photosensitive layer and stably obtain a high-quality image after durable printing for a long period of time.SOLUTION: An image formation method comprises: an electrification step of electrifying an electrostatic charge image carrier with an electrification member; an electrostatic latent image formation step of forming an electrostatic latent image on the electrified electrostatic charge image carrier; a development step of forming a toner image on the electrostatic charge image carrier by performing development using toner; a transfer step of transferring the toner image onto a recording medium; a fixation step of fixing the toner image transferred onto the recording medium to the recording medium; and a cleaning step of removing transfer residual toner left on the surface of the electrostatic charge image carrier after the transfer step using a cleaning blade. A photosensitive layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon. A surface layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon carbide or amorphous carbon. The toner contains toner particles, silica particles and organic silicon polymer particles.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、電子写真方式に用いられるトナーを用いた画像形成方法に関する。 The present invention relates to an image forming method using toner used in electrophotography.

近年、電子写真方式のフルカラー複写機が広く普及するに従い、高品位な画像長期間にわたって得られる画像形成装置に対する需要が増大する一方、メンテナンスの頻度を小さくしランニングコストを小さくするべく消耗部品の長寿命化への要求も高まっている。
高画質化、高速化、長寿命化を達成する為の電子写真感光体として、感光層にアモルファスシリコンを用いた感光体(以下a-Si感光体と略す)を用いた電子写真装置が知られている。
このようなa-Si感光体を用いた画像形成装置においては、高湿環境下で文字がぼけたり、或いは、文字が印字されずに白抜けが発生したりする画像不良が発生する場合がある。以下、これらの画像不良を「画像流れ」と記載する。
画像流れの原因は様々であるが、感光体を帯電する際に放電生成物が生じ、放電生成物が水分を吸着することで感光体表面の抵抗が低下し、感光体表面の潜像電荷を乱すことが発生要因として知られている。
画像流れの抑制のため、主に2つの手段が従来から検討されている。1つは、感光体を加熱し、感光体の表面に吸着した水分を低減または除去することが行われてきた。そのような感光体の加熱手段としては、様々な方法が知られており、例えば、特許文献1にはヒータを感光体の外部に設けて、感光体を外部から加熱する方法が記載されている。
もう1つの手段として、生成された放電生成物を削りとる効果のある研磨剤をトナーの外添剤として用いることが検討されている。特許文献2には、形状が立方体または直方体であるペロブスカイト型結晶である特定の無機微粒子をトナーの外添剤に用い、感光体の研磨剤として使用したトナーが記載されている。
In recent years, with the widespread use of electrophotographic full-color copiers, the demand for image forming devices capable of producing high-quality images over a long period of time has increased. Demand for longer life is also increasing.
As an electrophotographic photoreceptor for achieving high image quality, high speed, and long life, an electrophotographic apparatus using a photoreceptor using amorphous silicon for a photosensitive layer (hereinafter abbreviated as an a-Si photoreceptor) is known. ing.
In an image forming apparatus using such an a-Si photoreceptor, an image defect may occur in which characters are blurred in a high-humidity environment, or characters are not printed and white spots occur. . These image defects are hereinafter referred to as "image deletion".
There are various causes of image smearing. Discharge products are generated when the photoreceptor is charged, and the discharge products absorb moisture, reducing the resistance of the surface of the photoreceptor. Disturbance is known as a cause.
Conventionally, mainly two means have been studied for suppressing image smearing. One has been to heat the photoreceptor to reduce or remove moisture adsorbed on the surface of the photoreceptor. Various methods are known as means for heating such a photoreceptor. For example, Patent Document 1 describes a method in which a heater is provided outside the photoreceptor to heat the photoreceptor from the outside. .
As another means, it has been studied to use an abrasive as an external additive for the toner, which has an effect of scraping off the generated discharge products. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-201001 describes a toner in which specific inorganic fine particles, which are perovskite crystals having a cubic or rectangular parallelepiped shape, are used as an external additive for the toner and used as an abrasive for a photoreceptor.

特開2017-15759号公報JP 2017-15759 A 特開2006-285145号公報JP 2006-285145 A

特許文献1に記載のような方法では画像形成装置の大型化につながり、加熱するために消費電力を要するという問題があった。
一方、特許文献2に記載のa-Si感光体は、有機感光体に比べ表層が硬いため放電生成物が削り取られにくい。そのため画像流れに対する効果はまったく不十分であった。また、トナーの流動性や帯電性が低下し高品位な画像を得られにくいという欠点があった。
本発明は上記の課題を解決する画像形成方法を提供するものである。具体的には、感光層にアモルファスシリコンを用いた感光体を使用した場合においても、高湿環境における画像流れを抑制し、長時間の耐久印刷後も安定して高品位な画像を得られる画像形成方法を提供することにある。
The method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-200312 leads to an increase in the size of the image forming apparatus, and there is a problem that power consumption is required for heating.
On the other hand, the a-Si photoreceptor described in Patent Document 2 has a harder surface layer than the organic photoreceptor, so that discharge products are less likely to be scraped off. Therefore, the effect on image deletion was completely insufficient. In addition, there is a drawback that the fluidity and chargeability of the toner are lowered, making it difficult to obtain high-quality images.
The present invention provides an image forming method that solves the above problems. Specifically, even when a photoreceptor with an amorphous silicon photosensitive layer is used, image smearing in a high-humidity environment is suppressed, and stable, high-quality images can be obtained even after long-term durable printing. It is to provide a forming method.

本発明は、静電荷像担持体を帯電部材により帯電させる帯電工程と、帯電された該静電荷像担持体に静電潜像を形成させる静電潜像形成工程と、トナーを用いて現像して該静電荷像担持体上にトナー像を形成する現像工程と、
該トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、
該記録媒体上に転写されたトナー像を該記録媒体に定着する定着工程と、
クリーニングブレードを用いて転写工程後に該静電荷像担持体の表面に残存する転写残トナーを取り除くクリーニング工程と、
を有する画像形成方法であって、
該静電荷像担持体の感光層がアモルファスシリコンを含有し、
該静電荷像担持体の表面層がアモルファスシリコンカーバイドまたはアモルファスカーボンを含有し、
該トナーは、トナー粒子と、シリカ粒子及び有機ケイ素重合体粒子を有することを特徴とする画像形成方法である。
The present invention comprises a charging step of charging an electrostatic charge image carrier with a charging member, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the charged electrostatic charge image carrier, and a developing step using toner. a developing step of forming a toner image on the electrostatic charge image carrier;
a transfer step of transferring the toner image onto a recording medium;
a fixing step of fixing the toner image transferred onto the recording medium onto the recording medium;
a cleaning step of removing transfer residual toner remaining on the surface of the electrostatic charge image bearing member after the transfer step using a cleaning blade;
An image forming method comprising
the photosensitive layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon;
the surface layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon carbide or amorphous carbon;
The image forming method is characterized in that the toner comprises toner particles, silica particles and organosilicon polymer particles.

本発明によれば、静電荷像担持体の感光層にアモルファスシリコンを用いた感光体を使用した場合においても、高湿環境における画像流れを抑制し、長時間の耐久印刷後も安定して高品位な画像を得られる画像形成方法を提供することができる。 According to the present invention, even when a photoreceptor using amorphous silicon is used for the photosensitive layer of the electrostatic charge image carrier, image deletion in a high-humidity environment can be suppressed, and high image quality can be stably maintained even after long-term durable printing. It is possible to provide an image forming method capable of obtaining a high-quality image.

本発明の画像形成方法の一例である。It is an example of the image forming method of the present invention. 本発明の静電荷像担持体のアモルファスシリコン感光体の層構成の一例である。It is an example of the layer structure of the amorphous silicon photoreceptor of the electrostatic charge image carrier of the present invention. 本発明の感光体の成膜装置の一例である。It is an example of a film forming apparatus for a photoreceptor of the present invention. 本発明のクリーニングブレードと静電荷像担持体のニップ部の拡大図である。2 is an enlarged view of a nip portion between a cleaning blade and an electrostatic image bearing member of the present invention; FIG.

本発明において、数値範囲を表す「○○以上××以下」や「○○~××」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。 In the present invention, unless otherwise specified, the descriptions of "○○ or more and XX or less" and "○○ to XX", which represent numerical ranges, mean numerical ranges including the lower and upper limits that are endpoints.

本発明者らの検討によれば、ブレードによるクリーニング方法で安定してトナーすり抜けを発生させないようにする為には、クリーニングブレードニップ近傍で外添剤による阻止層が形成されることが必要だと考えている。この阻止層を安定して形成する為には外添剤の特性が重要である。外添剤として滑り性が高すぎるものは外添剤の動きが速くなりすぎ、安定した阻止層が形成されにくい。安定した外添剤阻止層形成のためには外添剤が集まった時に互いの動きを抑制する凝集性が重要であると考えている。 According to the studies of the present inventors, in order to stably prevent the toner from passing through in the cleaning method using a blade, it is necessary to form a blocking layer with an external additive in the vicinity of the cleaning blade nip. thinking. The characteristics of the external additive are important for stably forming this blocking layer. If the external additive has too high lubricity, the external additive moves too fast, making it difficult to form a stable blocking layer. It is considered that cohesiveness, which suppresses mutual movement when external additives are gathered, is important for stable formation of an external additive blocking layer.

従来知られている研磨剤を用いることなく、高温高湿環境において画像流れを抑制しようとした場合、外添剤による阻止層によって放電生成物を掻きとることができればよいのではないかと考えた。この場合、外添剤阻止層には、トナーのすり抜けが発生しない安定性とともに、放電生成物をかき取ることのできる研磨性が求められる。 When attempting to suppress image smearing in a high-temperature, high-humidity environment without using conventionally known abrasives, we thought that it would be good if the discharge products could be scraped off by a blocking layer made of an external additive. In this case, the external additive-blocking layer is required to have stability to prevent the toner from slipping through, and to have abrasiveness to scrape off the discharge products.

本発明者らは、a-Si感光体を用いた画像形成方法において、クリーニングブレードニップ近傍の外添剤阻止層にシリカ微粒子と有機ケイ素重合体が混在した場合に特異的に画像流れが抑制できることを見出し、本発明に至った。 The present inventors have found that in an image forming method using an a-Si photoreceptor, image deletion can be specifically suppressed when silica fine particles and an organosilicon polymer are mixed in the external additive blocking layer in the vicinity of the cleaning blade nip. The inventors have found the present invention.

すなわち、本発明は、静電荷像担持体を帯電部材により帯電させる帯電工程と、帯電された該静電荷像担持体に静電潜像を形成させる静電潜像形成工程と、トナーを用いて現像して該静電荷像担持体上にトナー像を形成する現像工程と、
該トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、
該記録媒体上に転写されたトナー像を該記録媒体に定着する定着工程と、
クリーニングブレードを用いて転写工程後に該静電荷像担持体の表面に残存する転写残トナーを取り除くクリーニング工程と、
を有する画像形成方法であって、
該静電荷像担持体の感光層がアモルファスシリコンを含有し、
該静電荷像担持体の表面層がアモルファスシリコンカーバイドまたはアモルファスカーボンを含有し、
該トナーは、トナー粒子と、シリカ粒子及び有機ケイ素重合体粒子を有することを特徴とする画像形成方法である。
That is, the present invention comprises a charging step of charging an electrostatic charge image carrier with a charging member, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the charged electrostatic charge image carrier, and a toner. a developing step of developing to form a toner image on the electrostatic charge image carrier;
a transfer step of transferring the toner image onto a recording medium;
a fixing step of fixing the toner image transferred onto the recording medium onto the recording medium;
a cleaning step of removing transfer residual toner remaining on the surface of the electrostatic charge image bearing member after the transfer step using a cleaning blade;
An image forming method comprising
the photosensitive layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon;
the surface layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon carbide or amorphous carbon;
The image forming method is characterized in that the toner comprises toner particles, silica particles and organosilicon polymer particles.

本発明で用いる有機ケイ素重合体粒子はa-Si感光体やシリカ微粒子に比べヤング率が低く、外力により変形しやすいという特性がある。このような特性を持つ有機ケイ素重合体微粒子が外添剤阻止層中に存在すると、クリーニングブレードによる加圧で阻止層中の有機ケイ素重合体微粒子が変形し阻止層の密度が高まると考えられる。その結果、外添剤阻止層の密度が高くなること、さらに有機ケイ素重合体粒子の変形エネルギーが放電生成物を掻きとるエネルギーに変換されるために外添剤阻止層がシリカ粒子単独の時に比べ放電生成物の掻きとり効果が飛躍的に高まり、本発明の効果が得られると考えている。一方、外添剤阻止層が有機ケイ素重合体粒子単独である場合、粒子同士の滑り性が高く安定した阻止層が形成されず効果が発現しない。 The organosilicon polymer particles used in the present invention have a lower Young's modulus than the a-Si photoreceptor and silica fine particles, and are easily deformed by an external force. It is thought that when organosilicon polymer fine particles having such characteristics are present in the external additive blocking layer, the organosilicon polymer fine particles in the blocking layer are deformed by pressure applied by the cleaning blade, and the density of the blocking layer increases. As a result, the density of the external additive blocking layer is increased, and the deformation energy of the organosilicon polymer particles is converted into the energy for scraping off the discharge products. It is believed that the effect of scraping off the discharge products is dramatically increased, and the effects of the present invention can be obtained. On the other hand, when the external additive-blocking layer is composed of organosilicon polymer particles alone, a stable blocking layer with high sliding property between particles is not formed, and the effect is not exhibited.

以下、本発明の実施態様の一例を説明する。 An example of an embodiment of the present invention will be described below.

《画像形成方法》
図1に本発明に係る画像形成装置の一例を示す。なお、同図は、デジタル方式の複写機の概略構成を示す縦断面図である。
<<Image forming method>>
FIG. 1 shows an example of an image forming apparatus according to the present invention. This figure is a vertical cross-sectional view showing a schematic configuration of a digital copying machine.

図1に示す複写機は、静電荷像担持体としてドラム型の電子写真感光体101を備えている。この感光体101は、駆動手段(不図示)によって矢印方向に回転駆動される。感光体101の周囲には、その回転方向に沿ってほぼ順に、一次帯電手段である帯電ローラ102、露光手段103、現像器104、転写帯電器105、クリーニングブレードを備えたクリーニング装置107が配設されている。さらに、記録媒体である転写材108の搬送方向(矢印方向)の転写帯電器105の下流側(同図中の左側)には、定着器106が配設されている。 The copier shown in FIG. 1 includes a drum-type electrophotographic photosensitive member 101 as an electrostatic charge image bearing member. The photosensitive member 101 is rotationally driven in the direction of the arrow by driving means (not shown). A charging roller 102 as a primary charging means, an exposure means 103, a developing device 104, a transfer charging device 105, and a cleaning device 107 having a cleaning blade are arranged around the photoreceptor 101 substantially in this order along its rotational direction. It is Further, a fixing device 106 is arranged downstream (left side in the figure) of the transfer charging device 105 in the conveying direction (arrow direction) of the transfer material 108 which is the recording medium.

感光体101表面は、帯電ローラ102により帯電される。次いで、露光手段103から発せられるレーザ光によりレーザ光照射部分の電荷が除去されて静電潜像が形成される。感光体101上の静電潜像は、現像器104の帯電したトナーによって現像される。現像された感光体101上のトナー像は、矢印方向に搬送される転写材111に、転写帯電器105によって転写される。転写部にてトナー像転写後の転写材111は定着器106に搬送され、ここで加熱・加圧を受けて、表面にトナー像が定着される。転写後に感光体に残った転写残トナーはクリーニング装置107にて回収される。 The surface of the photoreceptor 101 is charged by the charging roller 102 . Next, the laser light emitted from the exposing means 103 removes electric charges from the laser light irradiated portion, thereby forming an electrostatic latent image. The electrostatic latent image on photoreceptor 101 is developed with charged toner in developing device 104 . The developed toner image on the photosensitive member 101 is transferred by a transfer charger 105 onto a transfer material 111 conveyed in the direction of the arrow. The transfer material 111 after the toner image has been transferred at the transfer unit is conveyed to a fixing device 106 where it is heated and pressurized to fix the toner image on its surface. A cleaning device 107 collects residual toner remaining on the photosensitive member after transfer.

<静電荷像担持体>
まず、本発明を適用した静電荷像担持体である感光体の層構成について説明する。
<Electrostatic charge image carrier>
First, the layer structure of a photoreceptor, which is an electrostatic charge image carrier to which the present invention is applied, will be described.

図2(A)は、a-Si感光体の層構成を示す模式図である。基体200上に、耐圧層201、電荷注入阻止層202、感光層203、表面層204が順次積層されている。個の層構成は主に正帯電用のa-Si感光体に適用される。 FIG. 2A is a schematic diagram showing the layer structure of an a-Si photoreceptor. A withstand voltage layer 201 , a charge injection blocking layer 202 , a photosensitive layer 203 and a surface layer 204 are sequentially laminated on a substrate 200 . This layer structure is mainly applied to a-Si photoreceptors for positive charging.

図2(B)は、感光層203、表面層204の間に中間層205を設けたa-Si感光体の層構成を示す模式図である。中間層205に電荷阻止能を付与することによって負帯電用のa-Si感光体にも適用できる。 FIG. 2B is a schematic diagram showing the layer structure of an a-Si photoreceptor in which an intermediate layer 205 is provided between a photosensitive layer 203 and a surface layer 204. As shown in FIG. By providing the intermediate layer 205 with a charge blocking ability, it can also be applied to an a-Si photosensitive member for negative charging.

図2(C)は、感光層203、表面層204の間に複数の中間層206を設けたa-Si感光体の層構成の模式図である。この構成も複数の中間層206のいずれかに電荷阻止能を付与することによって負帯電用のa-Si感光体にも適用できる。 FIG. 2C is a schematic diagram of a layer structure of an a-Si photoreceptor in which a plurality of intermediate layers 206 are provided between a photosensitive layer 203 and a surface layer 204. FIG. This configuration can also be applied to an a-Si photoreceptor for negative charging by imparting a charge blocking ability to any one of a plurality of intermediate layers 206 .

図2(D)は、感光層203、表面層204の間に変化層207を設けたa-Si感光体の層構成の模式図である。この構成も変化層207の一部分に電荷阻止能を付与することによって負帯電用のa-Si感光体にも適用できる。 FIG. 2D is a schematic diagram of the layer structure of an a-Si photoreceptor in which a changeable layer 207 is provided between a photosensitive layer 203 and a surface layer 204. FIG. This configuration can also be applied to an a-Si photosensitive member for negative charging by imparting a charge blocking ability to a portion of the variable layer 207 .

次に、前述した層構成の感光体を構成する各層及び基体について説明する。 Next, each layer and substrate constituting the photoreceptor having the layer structure described above will be described.

本発明の静電荷像担持体は、ドラム状の導電性基体上にアモルファスシリコンからなる感光層が形成されている。アモルファスシリコンからなる感光層は、例えば、グロー放電分解法、スパッタリング法、ECR法、プラズマCVD法、蒸着法、イオンプレーティング法等の気相成長法によって形成することができる。アモルファスシリコンからなる感光層を形成する際には、感光層に、水素やハロゲン元素を含有させることができる。 The electrostatic charge image carrier of the present invention comprises a photosensitive layer made of amorphous silicon formed on a drum-shaped conductive substrate. A photosensitive layer made of amorphous silicon can be formed, for example, by vapor phase epitaxy such as glow discharge decomposition, sputtering, ECR, plasma CVD, vapor deposition, and ion plating. When forming a photosensitive layer made of amorphous silicon, the photosensitive layer can contain hydrogen or a halogen element.

本発明において、感光層には必要に応じて伝導性を制御するための原子を含有させることが好ましい。伝導性を制御するための原子としては、半導体分野における、いわゆる不純物を挙げることができる。すなわち、p型伝導性を与える周期表13族に属する原子またはn型伝導性を与える周期表15族に属する原子を用いることができる。周期表13族に属する原子の中でも、ホウ素原子(B)、アルミニウム原子(Al)、ガリウム原子(Ga)が好ましい。周期表15族に属する原子の中でも、リン原子(P)、ヒ素原子(As)が好ましい。 In the present invention, it is preferred that the photosensitive layer contain atoms for controlling the conductivity, if necessary. Atoms for controlling conductivity include so-called impurities in the field of semiconductors. That is, atoms belonging to Group 13 of the periodic table that provide p-type conductivity or atoms belonging to Group 15 of the periodic table that provide n-type conductivity can be used. Among the atoms belonging to Group 13 of the periodic table, boron atoms (B), aluminum atoms (Al), and gallium atoms (Ga) are preferred. Among the atoms belonging to Group 15 of the periodic table, a phosphorus atom (P) and an arsenic atom (As) are preferred.

感光層に含有される伝導性を制御するための原子の含有量は、珪素原子(Si)に対して1×10-2原子ppm以上であることが好ましい。一方、1×10原子ppm以下であることが好ましい。 The content of atoms for controlling conductivity contained in the photosensitive layer is preferably 1×10 −2 atom ppm or more relative to silicon atoms (Si). On the other hand, it is preferably 1×10 atomic ppm or less.

また、本発明の静電荷像担持体は感光層の上に表面層が設けられており、表面層がアモルファスシリコンカーバイドまたはアモルファスカーボンであることを特徴とする。有機ケイ素重合体粒子が存在する外添剤阻止層との潤滑性、表面に付着した放電生成物の掻きとりやすさの観点から、アモルファスカーボンであることがさらに好ましい。 Further, the electrostatic charge image bearing member of the present invention is characterized in that a surface layer is provided on the photosensitive layer, and the surface layer is made of amorphous silicon carbide or amorphous carbon. Amorphous carbon is more preferable from the viewpoints of lubricity with the external additive blocking layer in which organosilicon polymer particles are present and ease of scraping off discharge products adhering to the surface.

感光層は、導電性基体上に形成されたキャリア阻止層の上に形成してもよい。 The photosensitive layer may be formed on a carrier blocking layer formed on a conductive substrate.

キャリア阻止層を設けると、現像時に、アモルファスシリコンからなる感光層へのキャリアの注入を阻止して露光部と非露光部との静電コントラストを高めることにより、画像の濃度向上、地肌カブリの低減を図ることができる。キャリア阻止層の材料としては、例えばアモルファスシリコンカーバイド、アモルファス酸化シリコン、アモルファスシリコンナイトライド、アモルファス酸窒化シリコン等の無機絶縁材料や、ポリエチレンテレフタレート、ポリ四フッ化エチレン、ポリイミド、ポリフッ化エチレンプロピレン、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等の有機絶縁材料が挙げられる。 When the carrier blocking layer is provided, the injection of carriers into the photosensitive layer made of amorphous silicon is prevented during development, and the electrostatic contrast between the exposed and non-exposed areas is increased, thereby improving image density and reducing background fogging. can be achieved. Examples of materials for the carrier blocking layer include inorganic insulating materials such as amorphous silicon carbide, amorphous silicon oxide, amorphous silicon nitride, and amorphous silicon oxynitride, polyethylene terephthalate, polytetrafluoroethylene, polyimide, polyfluoroethylene propylene, and polyurethane. , epoxy resin, polyester, polycarbonate, and other organic insulating materials.

<a-Si感光体の製造方法>
a-Si感光体の製造方法は、前述したものを満足する層を形成できるものであればいずれの方法であってもよい。具体的には、プラズマCVD法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。これらの中でも、原料供給の容易さなどの点で、プラズマCVD法が好ましい。
<Method for producing a-Si photoreceptor>
Any method for producing the a-Si photoreceptor may be used as long as it can form a layer that satisfies the above requirements. Specifically, the plasma CVD method, the vacuum deposition method, the sputtering method, the ion plating method, and the like can be mentioned. Among these, the plasma CVD method is preferable in terms of ease of supply of raw materials.

以下に、プラズマCVD法を用いた製造装置および製造方法について説明する。 A manufacturing apparatus and manufacturing method using the plasma CVD method will be described below.

図3は、本発明のa-Si感光体を作製するための高周波電源を用いたRFプラズマCVD法による電子写真感光体の堆積装置の一例を模式的に示した図である。 FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of an electrophotographic photoreceptor deposition apparatus for manufacturing the a-Si photoreceptor of the present invention by RF plasma CVD using a high-frequency power source.

この堆積装置は、大別すると、反応容器3110を有する堆積装置3100、原料ガス供給装置3200、および、反応容器3110内を減圧する為の排気装置(図示せず)から構成されている。 This deposition apparatus is roughly composed of a deposition apparatus 3100 having a reaction vessel 3110 , a source gas supply apparatus 3200 , and an exhaust system (not shown) for reducing the pressure in the reaction vessel 3110 .

堆積装置3100中の反応容器3110内にはアースに接続された基体3112、基体加熱用ヒーター3、および、原料ガス導入管3114が設置されている。さらにカソード電極3111には高周波マッチングボックス3115を介して高周波電源3120が接続されている。 A substrate 3112 connected to the ground, a heater 3 for heating the substrate, and a source gas introduction pipe 3114 are installed in a reaction vessel 3110 in the deposition apparatus 3100 . Further, a high frequency power source 3120 is connected to the cathode electrode 3111 via a high frequency matching box 3115 .

原料ガス供給装置3200は、原料ガスボンベ3221~3227、バルブ3231~3237、圧力調整器3261~3267、流入バルブ3241~3247、流出バルブ3251~3257で構成されている。更に、マスフローコントローラ3211~3217を具備する。各原料ガスを封入したガスのボンベは補助バルブ3260を介して反応容器3110内の原料ガス導入管3114に接続されている。3116はガス配管であり、3117はリークバルブであり、3121は絶縁材料である。 The source gas supply device 3200 comprises source gas cylinders 3221-3227, valves 3231-3237, pressure regulators 3261-3267, inflow valves 3241-3247, and outflow valves 3251-3257. Furthermore, mass flow controllers 3211 to 3217 are provided. A cylinder containing each raw material gas is connected to the raw material gas introduction pipe 3114 in the reaction vessel 3110 via an auxiliary valve 3260 . 3116 is a gas pipe, 3117 is a leak valve, and 3121 is an insulating material.

次に、この装置を使った堆積膜の形成方法について説明する。まず、あらかじめ脱脂洗浄した基体3112を反応容器3110に受け台3123を介して設置する。次に、排気装置(図示せず)を運転し、反応容器3110内を排気する。真空計3119の表示を見ながら、反応容器3110内の圧力が、例えば、1Pa以下の所定の圧力になったところで、基体加熱用ヒーター3113に電力を供給し、基体3112を、例えば、50~350℃の所定の温度に加熱する。このとき、ガス供給装置3200より、Ar、Heなどの不活性ガスを反応容器3110に供給して、不活性ガス雰囲気中で加熱を行うこともできる。 Next, a method of forming a deposited film using this apparatus will be described. First, the substrate 3112 which has been degreased and washed in advance is placed in the reaction container 3110 via the cradle 3123 . Next, an exhaust system (not shown) is operated to exhaust the inside of the reaction vessel 3110 . While watching the display of the vacuum gauge 3119, when the pressure in the reaction vessel 3110 reaches a predetermined pressure of, for example, 1 Pa or less, electric power is supplied to the substrate heating heater 3113 to heat the substrate 3112 by, for example, 50 to 350 degrees Celsius. Heat to a given temperature of °C. At this time, an inert gas such as Ar or He can be supplied from the gas supply device 3200 to the reaction vessel 3110 to perform heating in an inert gas atmosphere.

次に、ガス供給装置3200より堆積膜形成に用いるガスを反応容器3110に供給する。すなわち、必要に応じてバルブ3231~3237、流入バルブ3241~3247、流出バルブ3251~3257を開き、マスフローコントローラ3211~3217に流量設定を行う。各マスフローコントローラの流量が安定したところで、真空計3119の表示を見ながらメインバルブ3118を操作し、反応容器3110内の圧力が所望の圧力になるように調整する。所望の圧力が得られたところで高周波電源3120より高周波電力を印加すると同時に高周波マッチングボックス3115を操作し、反応容器3110内にプラズマ放電を生起する。その後、速やかに高周波電力を所望の電力に調整し、堆積膜の形成を行う。 Next, the gas used for depositing film formation is supplied to the reaction vessel 3110 from the gas supply device 3200 . That is, the valves 3231-3237, the inflow valves 3241-3247, and the outflow valves 3251-3257 are opened as necessary to set the flow rates in the mass flow controllers 3211-3217. When the flow rate of each mass flow controller is stabilized, the main valve 3118 is operated while observing the display of the vacuum gauge 3119 to adjust the pressure inside the reaction vessel 3110 to the desired pressure. When a desired pressure is obtained, high-frequency power is applied from the high-frequency power supply 3120 and at the same time the high-frequency matching box 3115 is operated to generate plasma discharge in the reaction vessel 3110 . After that, the high-frequency power is quickly adjusted to a desired power to form a deposited film.

所定の堆積膜の形成が終わったところで、高周波電力の印加を停止し、バルブ3231~3237、流入バルブ3241~3247、流出バルブ3251~3257、および、補助バルブ3260を閉じ、原料ガスの供給を終える。同時に、メインバルブ3118を全開にし、反応容器3110内を1Pa以下の圧力まで排気する。 When the formation of a predetermined deposited film is completed, the application of the high-frequency power is stopped, the valves 3231 to 3237, the inflow valves 3241 to 3247, the outflow valves 3251 to 3257, and the auxiliary valve 3260 are closed to finish the supply of the source gas. . At the same time, the main valve 3118 is fully opened to evacuate the inside of the reaction vessel 3110 to a pressure of 1 Pa or less.

以上で、堆積膜の形成を終えるが、複数の堆積膜を形成する場合、再び上記の手順を繰り返してそれぞれの層を形成すればよい。原料ガス流量や、圧力などを感光層形成用の条件に一定の時間で変化させて、接合領域の形成を行うこともできる。 This completes the formation of the deposited film. In the case of forming a plurality of deposited films, the above procedure may be repeated to form each layer. The bonding region can also be formed by changing the raw material gas flow rate, pressure, etc. to the conditions for forming the photosensitive layer at a constant time.

すべての堆積膜形成が終わった後、メインバルブ3118を閉じ、反応容器3110内に不活性ガスを導入し大気圧に戻した後、基体3112を取り出す。 After all deposited films have been formed, the main valve 3118 is closed, inert gas is introduced into the reaction vessel 3110 to restore the atmospheric pressure, and then the substrate 3112 is taken out.

耐圧層の形成は、珪素原子供給用の原料ガスとしては、例えば、シラン(SiH4)、ジシラン(Si26)などのシラン類が好適に使用できる。また、窒素原子供給用の原料ガスとしては、例えば、アンモニア(NH3)、窒素(N2)などが好適に使用できる。また、酸素原子供給用の原料ガスとしては、上記原料ガスに加えて、例えば、酸素(O2)、一酸化窒素(NO)などが好適に使用できる。また、水素原子供給用の原料ガスとしては、上記原料ガスに加えて、例えば、水素(H2)が好適に使用できる。また、導電性基体との密着性を向上させるために、炭素原子などを電荷注入阻止層に含有させる場合には、含有させる原子を含むガス状または容易にガス化しうる物質を材料として適宜使用すればよい。 Silanes such as silane (SiH 4 ) and disilane (Si 2 H 6 ) can be suitably used as source gases for supplying silicon atoms in the formation of the withstand voltage layer. Moreover, ammonia (NH 3 ), nitrogen (N 2 ), etc., can be suitably used as the raw material gas for supplying nitrogen atoms, for example. As the source gas for supplying oxygen atoms, oxygen (O 2 ), nitrogen monoxide (NO), etc., can be suitably used in addition to the above source gases. In addition to the above source gas, for example, hydrogen (H 2 ) can be suitably used as the source gas for supplying hydrogen atoms. In addition, when carbon atoms or the like are contained in the charge injection blocking layer in order to improve adhesion to the conductive substrate, a gaseous or easily gasifiable substance containing atoms to be contained may be appropriately used as the material. Just do it.

電荷注入阻止層の形成は、珪素原子供給用の原料ガスとしては、同様に、シラン(SiH4)、ジシラン(Si26)などのシラン類が好適に使用できる。また、第13族原子供給用の原料ガスとしては、例えば、ジボラン(B26)などが好適に使用できる。また、水素原子供給用の原料ガスとしては、上記原料ガスに加えて、例えば、水素(H2)も好適に使用できる。また、耐圧層との密着性を向上させるために、炭素原子、酸素原子、窒素原子などを電荷注入阻止層に含有させる場合には、それぞれの原子を含むガス状または容易にガス化しうる物質を材料として適宜使用すればよい。 For the formation of the charge injection blocking layer, silanes such as silane (SiH 4 ) and disilane (Si 2 H 6 ) can be suitably used as the source gas for supplying silicon atoms. Diborane (B 2 H 6 ), for example, can be suitably used as the raw material gas for supplying Group 13 atoms. In addition to the above source gases, hydrogen (H 2 ), for example, can also be suitably used as the source gas for supplying hydrogen atoms. In addition, when carbon atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, or the like are contained in the charge injection blocking layer in order to improve adhesion with the breakdown voltage layer, gaseous or easily gasifiable substances containing these atoms are used. It may be used appropriately as a material.

感光層の形成は、珪素原子供給用の原料ガスとしては、同様に、シラン(SiH4)、ジシラン(Si26)などのシラン類が好適に使用できる。また、水素原子供給用の原料ガスとしては、上記シラン類に加えて、例えば、水素(H2)も好適に使用できる。また、上述のハロゲン原子、伝導性を制御するための原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子など感光層を含有させる場合には、それぞれの原子を含むガス状または容易にガス化しうる物質を材料として適宜使用すればよい。 In the formation of the photosensitive layer, silanes such as silane (SiH 4 ) and disilane (Si 2 H 6 ) can be suitably used as source gas for supplying silicon atoms. In addition to the above-described silanes, hydrogen (H 2 ), for example, can also be suitably used as the raw material gas for supplying hydrogen atoms. In addition, when the photosensitive layer contains the above-mentioned halogen atoms, atoms for controlling conductivity, carbon atoms, oxygen atoms, nitrogen atoms, etc., gaseous or easily gasifiable substances containing these atoms are used as materials. can be used as appropriate.

表面層としてアモルファスシリコンカーバイドを形成する場合には、珪素原子供給用の原料ガスとしては、同様に、シラン(SiH4)、ジシラン(Si26)などのシラン類が好適に使用できる。また、炭素原子供給用の原料ガスとしては、例えば、メタン(CH4)、アセチレン(C22)などのガスが好適に使用できる。それらの原料ガスの混合比を調整することによって、アモルファスシリコンカーバイドのC/(Si+C)を調整できる。一方、表面層としてアモルファスカーボンを形成する場合には、炭素原子供給用の原料ガスとしては、同様に、メタン(CH4)、アセチレン(C22)などのガスが好適に使用できる。また、どちらの材料であって、水素原子供給用の原料ガスとしては、例えば、水素(H2)も好適に使用できる。 When amorphous silicon carbide is formed as the surface layer, silanes such as silane (SiH 4 ) and disilane (Si 2 H 6 ) can be suitably used as source gases for supplying silicon atoms. As the source gas for supplying carbon atoms, for example, gases such as methane (CH 4 ) and acetylene (C 2 H 2 ) can be suitably used. C/(Si+C) of amorphous silicon carbide can be adjusted by adjusting the mixing ratio of these source gases. On the other hand, when amorphous carbon is formed as the surface layer, gases such as methane (CH 4 ) and acetylene (C 2 H 2 ) can be suitably used as source gases for supplying carbon atoms. Moreover, in either material, hydrogen (H 2 ), for example, can be suitably used as the raw material gas for supplying hydrogen atoms.

<クリーニングブレード>
本発明において、電子写真感光体上トナーのクリーニング方式としては、クリーニングブレード方式である。これは、弾性体でつくられたブレード状のクリーニング部材を感光体に押し当て、感光体上の転写残トナーなどをせき止めて回収する方法である。
<Cleaning blade>
In the present invention, the method for cleaning the toner on the electrophotographic photosensitive member is a cleaning blade method. In this method, a blade-shaped cleaning member made of an elastic material is pressed against the photoreceptor to dam up and collect the transfer residual toner on the photoreceptor.

図4に示すように、主にトナーに含まれる外添微粒子が移行して形成される外添剤阻止層404により感光体表面に付着した放電生成物を掻きとる効果がある。また、外添剤阻止層404はトナー403の塞き止めおよびクリーニングブレード402と感光体401の潤滑性を保ち、トナーのすり抜けを抑制する上でも重要である。 As shown in FIG. 4, the external additive blocking layer 404, which is mainly formed by migrating the external additive fine particles contained in the toner, has the effect of scraping off the discharge products adhering to the surface of the photoreceptor. In addition, the external additive blocking layer 404 is also important for blocking the toner 403, maintaining lubricity between the cleaning blade 402 and the photoreceptor 401, and preventing toner from slipping through.

外添剤阻止層による放電生成物の掻きとり効果を発現させるため、後述する特徴を有したトナーであることが重要である。 In order to develop the effect of scraping discharge products by the external additive blocking layer, it is important that the toner has the characteristics described below.

クリーニングブレードの材質としては、感光体表面への追従性とキズ付け難さの点からゴム材料が適している。その中でもポリウレタンゴムが物性的な面と化学的な面から最も適しており、ゴム硬度としては国際ゴム硬さ(IRHD)で60度から90度のものが好ましい。 As the material for the cleaning blade, a rubber material is suitable from the viewpoint of followability to the surface of the photoreceptor and resistance to scratching. Among them, polyurethane rubber is most suitable from the physical and chemical aspects, and the rubber hardness is preferably from 60 degrees to 90 degrees in International Rubber Hardness (IRHD).

《トナー》
本発明のトナーは、トナー粒子と、シリカ粒子及び有機ケイ素重合体粒子を有することを特徴とする。
"toner"
The toner of the present invention is characterized by comprising toner particles, silica particles and organosilicon polymer particles.

有機ケイ素重合体粒子の一次粒子の個数平均径Daとシリカ粒子の一次粒子の個数平均径Dbはそれぞれ40nm以上300nm以下の範囲であることが好ましい。40nm以上であるとクリーニングブレードからすり抜ける割合が抑えられ安定した阻止層が形成され易くなる。300nm以下であるとトナー表面に均一に外添し易く、良好な耐久安定性が得られ易くなる。 The number average diameter Da of the primary particles of the organosilicon polymer particles and the number average diameter Db of the primary particles of the silica particles are preferably in the range of 40 nm or more and 300 nm or less. When the thickness is 40 nm or more, the rate of slipping through the cleaning blade is suppressed, and a stable blocking layer is easily formed. When it is 300 nm or less, it is easy to uniformly externally add to the surface of the toner, and it becomes easy to obtain good durability stability.

上記DaおよびDbの双方が50nm以上200nm以下の範囲であることがさらに好まく、この範囲であると、外添剤阻止層中の有機ケイ素重合体粒子およびシリカ粒子の粒径が近いことにより双方の粒子が接触する確率が高くなる。そのため、外添剤阻止層の密度・変形エネルギーが高まり放電生成物の掻きとり効果が高まり画像流れ抑制効果が向上する。 More preferably, both Da and Db are in the range of 50 nm or more and 200 nm or less. particles are more likely to come into contact with each other. Therefore, the density and deformation energy of the external additive-blocking layer are increased, and the effect of scraping off discharge products is enhanced, and the effect of suppressing image deletion is improved.

有機ケイ素重合体粒子のヤング率Eaは1.0GPa以上30.0GPa以下の範囲であることが好ましい。この範囲にすることによりクリーニングブレードニップにおける外添剤阻止層のかさ密度が増大し、放電生成物の掻きとり効果が得られやすい。有機ケイ素重合体粒子のヤング率は構成化合物のSiに結合する官能基の構造を変えることにより制御することができる。具体的にはM単位構造(S1)、D単位構造(S2)、T単位構造(S3)、及びQ単位構造(S4)の各構成化合物の存在量比を変化させることにより制御可能である。 The Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles is preferably in the range of 1.0 GPa or more and 30.0 GPa or less. By setting it within this range, the bulk density of the external additive blocking layer at the cleaning blade nip is increased, and the effect of scraping off discharge products is easily obtained. The Young's modulus of the organosilicon polymer particles can be controlled by changing the structure of the Si-bonded functional groups of the constituent compounds. Specifically, it can be controlled by changing the abundance ratio of each constituent compound of the M unit structure (S1), D unit structure (S2), T unit structure (S3), and Q unit structure (S4).

Figure 2023072114000001
Figure 2023072114000001

Figure 2023072114000002
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Figure 2023072114000003
Figure 2023072114000003

Figure 2023072114000004
Figure 2023072114000004

シリカ粒子のヤング率Ebと有機ケイ素重合体粒子のヤング率Eaは、Ea/Eb≦0.60の関係を満たすことが好ましい。この範囲であると、有機ケイ素重合体粒子のヤング率とシリカ粒子のヤング率が大きく異なることによりクリーニングブレードニップにおける外添剤阻止層のかさ密度が大きくなり画像流れ抑制効果が得られやすい。より好ましくはEa/Eb≦0.40であり、さらに好ましくはEa/Eb≦0.20である。 The Young's modulus Eb of the silica particles and the Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles preferably satisfy the relationship Ea/Eb≦0.60. Within this range, the Young's modulus of the organosilicon polymer particles and the Young's modulus of the silica particles are largely different, so that the bulk density of the external additive-blocking layer in the cleaning blade nip increases, and the effect of suppressing image deletion is likely to be obtained. More preferably, Ea/Eb≦0.40, still more preferably Ea/Eb≦0.20.

静電荷像担持体表面のヤング率Edと有機ケイ素重合体粒子のヤング率Eaは、Ea/Ed≦0.20の関係があることが好ましい。この範囲であると、有機ケイ素重合体粒子が静電荷像担持体表面において変形しやすくなり、クリーニングブレードニップにおける外添剤阻止層のかさ密度が大きくなり画像流れ抑制効果が得られやすい。より好ましくはEa/Ed≦0.10であり、さらに好ましくはEa/Ed≦0.05である。 The Young's modulus Ed of the surface of the electrostatic charge image bearing member and the Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles preferably have a relationship of Ea/Ed≦0.20. Within this range, the organosilicon polymer particles are easily deformed on the surface of the electrostatic charge image bearing member, the bulk density of the external additive blocking layer at the cleaning blade nip is increased, and the effect of suppressing image deletion is easily obtained. Ea/Ed≦0.10 is more preferred, and Ea/Ed≦0.05 is even more preferred.

有機ケイ素重合体粒子の添加量はトナーの質量基準において0.2質量%以上10.0質量%以下であることが好ましい。上記範囲にすることで優れたブレードクリーニング性と耐久安定性を得ることが出来る。添加量を0.2質量%以上とすることで阻止層形成に必要な外添剤量が確実に確保できるようになる。また10.0質量%以内とすることで外添剤による部材汚染を抑えることができ良好な耐久安定性を得ることができる。 The amount of organosilicon polymer particles added is preferably 0.2% by mass or more and 10.0% by mass or less based on the mass of the toner. By setting the amount within the above range, excellent blade cleaning properties and durability stability can be obtained. By setting the addition amount to 0.2% by mass or more, the amount of the external additive necessary for forming the blocking layer can be reliably secured. Further, when the content is within 10.0% by mass, contamination of members by the external additive can be suppressed, and good durability stability can be obtained.

また、有機ケイ素重合体粒子の理論BET比表面積をX(m2/g)とし、前記有機ケイ素重合体粒子の実測されるBET比表面積をY(m2/g)としたとき、XとYとを、
3.0≦Y/X≦8.0
とすることが好ましい。
Further, when the theoretical BET specific surface area of the organosilicon polymer particles is X (m 2 /g) and the actually measured BET specific surface area of the organosilicon polymer particles is Y (m 2 /g), X and Y and
3.0≤Y/X≤8.0
It is preferable to

Y/Xの値が大きくなるということは表面に微小な凹凸を有する(細孔が増える)ということである。本発明ではこの値を3.0以上とすることにより画像流れをより抑制することが出来る。これは表面の微小凹凸により画像流れの要因である放電生成物や水分を多く吸着できるためだと考えている。一方で8.0を超える場合は細孔が増えすぎてしまい、水分吸着性が多くなりトナーの帯電安定性の面からかえって好ましくない。 An increase in the value of Y/X means that the surface has fine irregularities (increase in pores). In the present invention, image deletion can be further suppressed by setting this value to 3.0 or more. It is believed that this is because the minute irregularities on the surface can adsorb a large amount of discharge products and moisture, which are factors of image deletion. On the other hand, if it exceeds 8.0, the number of pores will increase too much, and the moisture adsorption will increase, which is not preferable from the viewpoint of the charging stability of the toner.

Y/Xの値を制御する方法としては、有機ケイ素重合体微粒子のM単位構造(S1)、D単位構造(S2)、T単位構造(S3)、及びQ単位構造(S4)の各構成化合物の存在量比を変化させること、製造時における反応速度を変更すること等により制御可能である。 As a method for controlling the value of Y/X, each constituent compound of the M unit structure (S1), D unit structure (S2), T unit structure (S3), and Q unit structure (S4) of the organosilicon polymer fine particles can be controlled by changing the abundance ratio of , changing the reaction rate during production, and the like.

シリカ粒子の添加量はトナーの質量基準において0.2質量%以上10.0質量%以下であることが好ましい。上記範囲にすることで優れたブレードクリーニング性と耐久安定性を得ることが出来る。添加量を0.2質量%以上とすることで阻止層形成に必要な外添剤量が確実に確保できるようになる。また10.0質量%以下とすることで外添剤による部材汚染を抑えることができ良好な耐久安定性を得ることができる。 The amount of silica particles added is preferably 0.2% by mass or more and 10.0% by mass or less based on the mass of the toner. By setting the amount within the above range, excellent blade cleaning properties and durability stability can be obtained. By setting the addition amount to 0.2% by mass or more, the amount of the external additive necessary for forming the blocking layer can be reliably secured. Further, when the content is 10.0% by mass or less, contamination of members by the external additive can be suppressed, and good durability stability can be obtained.

本発明のトナーは、トナーに水洗処理を施した際のトナーの質量を基準とした前記有機ケイ素重合体粒子のトナーからの移行量をA(質量%)、前記シリカ粒子のトナーからの移行量をB(質量%)としたとき、該Aおよび該Bが、
0.50≦A+B≦4.00
0.20≦B/A≦2.00
を満たすことが好ましい。後述する方法でトナーに水洗処理を施した際の前記有機ケイ素重合体粒子のトナーからの移行量をA(質量%)、前記シリカ粒子のトナーからの移行量をB(質量%)が上記の関係にあると画像流れ抑制効果と耐久印刷時における画像欠陥抑制効果が両立しやすいため好ましい。A+Bが0.50以上であることで外添剤阻止層を形成する十分な外添剤を確保することができる。A+Bが4.00以下であることで耐久印刷時に外添剤による部材汚染を抑制し、部材汚染由来による画像欠陥を抑制することができる。B/Aが上記の範囲であると、画像流れ抑制効果が高いクリーニングブレードニップにおける外添剤阻止層のかさ密度となるため好ましい。
In the toner of the present invention, the transfer amount of the organosilicon polymer particles from the toner is A (% by mass) based on the weight of the toner when the toner is washed with water, and the transfer amount of the silica particles from the toner is When is B (mass%), the A and the B are
0.50≤A+B≤4.00
0.20≤B/A≤2.00
is preferably satisfied. A (% by mass) is the amount of the organosilicon polymer particles transferred from the toner, and B (% by mass) is the amount of the silica particles transferred from the toner when the toner is washed with water by the method described later. If there is a relationship, the effect of suppressing image deletion and the effect of suppressing image defects during long-term printing are easily compatible, which is preferable. When A+B is 0.50 or more, a sufficient amount of the external additive for forming the external additive blocking layer can be ensured. When A+B is 4.00 or less, it is possible to suppress contamination of the member due to the external additive during endurance printing, and to suppress image defects caused by the contamination of the member. When B/A is within the above range, the bulk density of the external additive blocking layer at the cleaning blade nip is highly effective in suppressing image deletion, which is preferable.

移行量A及びBは、トナー製造時の外添工程における製造条件を変更すること、外添工程後に熱固着させるなどの工程を加えること、トナー中における存在量等を変更すること等により制御することが可能である。 The migration amounts A and B are controlled by changing the production conditions in the external addition process during toner production, adding a process such as thermal fixation after the external addition process, and changing the amount of presence in the toner. Is possible.

<有機ケイ素重合体粒子>
有機ケイ素重合体粒子の製造方法は、特に限定されないが、例えば、ゾルゲル法によるケイ素化合物(シランモノマー)の加水分解、縮重合反応を経て粒子を形成することができる。具体的には、シロキサン結合を2つ有する2官能性シランと、シロキサン結合を3つ有する3官能性シランと、シロキサン結合を4つ有する4官能性シランの混合体を加水分解、及び縮重合反応によりポリマー化させることによって粒子を形成することができる。
<Organosilicon polymer particles>
The method for producing the organosilicon polymer particles is not particularly limited. For example, particles can be formed through hydrolysis and polycondensation reaction of a silicon compound (silane monomer) by a sol-gel method. Specifically, a mixture of a bifunctional silane having two siloxane bonds, a trifunctional silane having three siloxane bonds, and a tetrafunctional silane having four siloxane bonds is hydrolyzed and polycondensed. The particles can be formed by polymerizing with.

有機ケイ素重合体粒子の製法は特に限定されず、例えば水にシラン化合物を滴下し、触媒により加水分解、縮合反応させた後、得られた懸濁液を濾過、乾燥し、得ることができる。また、触媒の種類、配合比、反応開始温度、滴下時間などにより粒径をコントロールすることができる。触媒として酸性触媒は塩酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸などが挙げられ、塩基性触媒はアンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられるが、これらに限定はされない。 The method for producing the organosilicon polymer particles is not particularly limited. For example, the silane compound may be added dropwise to water, hydrolyzed and condensed with a catalyst, and the resulting suspension may be filtered and dried. In addition, the particle size can be controlled by the type of catalyst, compounding ratio, reaction initiation temperature, dropping time, and the like. Acidic catalysts include hydrochloric acid, hydrofluoric acid, sulfuric acid and nitric acid, and basic catalysts include ammonia water, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like, but are not limited to these.

有機ケイ素重合体粒子は、次の方法により製造することが好ましい。具体的には、ケイ素化合物の加水分解物を得る第一の工程、該加水分解物とアルカリ性水系媒体とを混合して、該加水分解物を重縮合反応させる第二の工程、重縮合反応物と水性溶液とを混合し粒子化する第三の工程を含むことが好ましい。場合によっては、さらに、有機ケイ素重合体粒子分散液に疎水化剤を配合して疎水化された有機ケイ素重合体粒子を得てもよい。 Organosilicon polymer particles are preferably produced by the following method. Specifically, a first step of obtaining a hydrolyzate of a silicon compound, a second step of mixing the hydrolyzate with an alkaline aqueous medium and subjecting the hydrolyzate to a polycondensation reaction, a polycondensation reaction product and an aqueous solution are mixed to form particles. In some cases, a hydrophobizing agent may be added to the organosilicon polymer particle dispersion to obtain hydrophobized organosilicon polymer particles.

第一の工程は、水に触媒となる酸性又はアルカリ性の物質を溶解させた水溶液中において、ケイ素化合物と触媒とを、撹拌、混合等の方法で接触させる。触媒としては公知の触媒を好適に使用することができる。具体的には、触媒として酸性触媒は、酢酸、塩酸、フッ化水素酸、硫酸、硝酸などが挙げられ、塩基性触媒はアンモニア水、水酸ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。 In the first step, a silicon compound and a catalyst are brought into contact with each other by stirring, mixing, or the like in an aqueous solution in which an acidic or alkaline substance serving as a catalyst is dissolved in water. A known catalyst can be suitably used as the catalyst. Specifically, acidic catalysts include acetic acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid, sulfuric acid, and nitric acid, and basic catalysts include aqueous ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like.

触媒の使用量は、ケイ素化合物及び触媒の種類によって適宜調整すればよい。好ましくは、ケイ素化合物を加水分解する場合に用いる水の量100質量部に対して1×10-3質量部以上1質量部以下の範囲で選ばれる。 The amount of catalyst to be used may be appropriately adjusted depending on the type of silicon compound and catalyst. Preferably, it is selected in the range of 1×10 −3 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of water used for hydrolyzing the silicon compound.

触媒の使用量が1×10-3質量部以上であれば、反応が十分に進行する。一方、触媒の使用量が1質量部以下であると、微粒子中に不純物として残存する濃度が低くなり、加水分解させやすくなる。水の使用量は、ケイ素化合物1モルに対して2モル以上15モル以下が好ましい。水の量が2モル以上であると加水分解反応が十分に進行し、15モル以下であると生産性が向上する。 If the amount of the catalyst used is 1×10 −3 parts by mass or more, the reaction will proceed sufficiently. On the other hand, when the amount of the catalyst used is 1 part by mass or less, the concentration of impurities remaining in the fine particles becomes low, and hydrolysis is facilitated. The amount of water used is preferably 2 mol or more and 15 mol or less per 1 mol of the silicon compound. When the amount of water is 2 mol or more, the hydrolysis reaction proceeds sufficiently, and when it is 15 mol or less, productivity improves.

反応温度はとくに制限されず、常温又は加熱状態で行なってもよいが、短時間で加水分解物が得られ、かつ生成した加水分解物の部分縮合反応を抑制できることから、10~60℃に保持した状態で反応を行うことが好ましい。反応時間はとくに制限されず、用いるケイ素化合物の反応性や、ケイ素化合物と酸と水とを調合した反応液の組成、生産性を考慮して適宜選択すればよい。 The reaction temperature is not particularly limited, and may be carried out at normal temperature or in a heated state, but since the hydrolyzate can be obtained in a short time and the partial condensation reaction of the produced hydrolyzate can be suppressed, it is kept at 10 to 60 ° C. It is preferable to carry out the reaction in such a state. The reaction time is not particularly limited, and may be appropriately selected in consideration of the reactivity of the silicon compound used, the composition of the reaction solution prepared by mixing the silicon compound, acid and water, and the productivity.

ケイ素重合体粒子の製造方法では、第二の工程として、上記第一工程で得られた原料溶液と、アルカリ性水系媒体とを混合して、粒子前駆体を重縮合反応させる。これにより重縮合反応液を得る。ここで、アルカリ性水系媒体は、アルカリ成分と、水と、必要に応じて有機溶媒などとを混合して得られる液である。 In the method for producing silicon polymer particles, in the second step, the raw material solution obtained in the first step and an alkaline aqueous medium are mixed to cause a polycondensation reaction of the particle precursors. Thus, a polycondensation reaction liquid is obtained. Here, the alkaline aqueous medium is a liquid obtained by mixing an alkaline component, water, and, if necessary, an organic solvent or the like.

アルカリ性水系媒体に使用されるアルカリ成分は、その水溶液が塩基性を示すものであり、第1の工程で用いられた触媒の中和剤として、また第2の工程の重縮合反応の触媒として作用するものである。かかるアルカリ成分としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;アンモニア;及びモノメチルアミン、ジメチルアミンのような有機アミン類を例示することができる。 The alkaline component used in the alkaline aqueous medium is one whose aqueous solution exhibits basicity, and acts as a neutralizing agent for the catalyst used in the first step and as a catalyst for the polycondensation reaction in the second step. It is something to do. Examples of such alkali components include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; ammonia; and organic amines such as monomethylamine and dimethylamine.

アルカリ成分の使用量は、酸を中和し、重縮合反応の触媒として有効に作用する量であり、例えばアルカリ成分としてアンモニアを用いた場合には水と有機溶媒との混合物100質量部に対して、通常は0.01質量部以上12.50質量部以下の範囲で選ばれる。 The amount of the alkaline component used is an amount that neutralizes the acid and acts effectively as a catalyst for the polycondensation reaction. Therefore, it is usually selected in the range of 0.01 parts by mass or more and 12.50 parts by mass or less.

第二の工程においては、アルカリ性水系媒体を調製するために、アルカリ成分及び水に加えて、さらに有機溶媒を使用してもよい。有機溶媒は水に対して相溶性を有するものであれば、特に制限されないが、常温、常圧下で100g当たり10g以上の水を溶解する有機溶媒が好適である。 In the second step, in addition to the alkaline component and water, an organic solvent may be used to prepare the alkaline aqueous medium. The organic solvent is not particularly limited as long as it is compatible with water, but an organic solvent that dissolves 10 g or more of water per 100 g at room temperature and normal pressure is suitable.

具体的には、メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、ブタノール等のアルコール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール等の多価アルコール;エチレングリコールモノエチルエーテル、アセトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジアセトンアルコール等のエーテル;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド化合物等が挙げられる。 Specifically, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, and butanol; polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, and hexanetriol; ethylene glycol monoethyl ether, ethers such as acetone, diethyl ether, tetrahydrofuran and diacetone alcohol; and amide compounds such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.

以上に挙げた有機溶媒の中でも、メタノール、エタノール、2-プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒が好ましい。さらには、加水分解、脱水縮合反応の観点から、脱離生成するアルコールと同一のアルコールを有機溶媒として選択するのがより好ましい。 Among the organic solvents listed above, alcoholic solvents such as methanol, ethanol, 2-propanol and butanol are preferred. Furthermore, from the viewpoint of hydrolysis and dehydration condensation reaction, it is more preferable to select the same alcohol as the alcohol to be eliminated as the organic solvent.

第三の工程として第二の工程で得られた重縮合反応物を水性溶液とを混合し粒子化する。水性溶液としては、水(水道水、純水等)が好適に利用できるが、水に塩、酸、アルカリ、有機溶媒、界面活性剤、水溶性高分子等の水と相溶性を示す成分をさらに添加してもよい。混合させる際の重縮合反応液及び水性溶液の温度は特に制限されず、これらの組成、生産性等を考慮して5~70℃の範囲が好適に選択される。 In the third step, the polycondensation reaction product obtained in the second step is mixed with an aqueous solution to form particles. As the aqueous solution, water (tap water, pure water, etc.) can be suitably used. Further may be added. The temperature of the polycondensation reaction solution and the aqueous solution when mixed is not particularly limited, and a range of 5 to 70° C. is preferably selected in consideration of their composition, productivity and the like.

ケイ素重合体粒子を回収する方法は、公知の方法を特に制限なく使用することができる。例えば浮遊する粉体をすくい取ることもできるし濾過法を採用してもよく、操作が簡便であることから濾過法が好ましい。濾過の方法は特に制限されず、減圧濾過や遠心濾過、加圧濾過等、公知の装置を選択すればよい。濾過で使用する濾紙やフィルター、濾布等は、工業的に入手可能なものであれば特に制限されることはなく、使用する装置に応じて適宜選択すればよい。 As a method for recovering the silicon polymer particles, any known method can be used without particular limitation. For example, the floating powder can be scooped out, and a filtering method may be employed, and the filtering method is preferable because the operation is simple. The filtration method is not particularly limited, and a known device such as vacuum filtration, centrifugal filtration, pressure filtration, or the like may be selected. Filter papers, filters, filter cloths, and the like used for filtration are not particularly limited as long as they are industrially available, and may be appropriately selected according to the device to be used.

使用するシランモノマーは、溶媒及び触媒との相性、あるいは加水分解性などによって適宜選択できる。 The silane monomer to be used can be appropriately selected depending on compatibility with solvents and catalysts, hydrolyzability, and the like.

4官能性シランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソシアネートシランなどが挙げられる。 Examples of tetrafunctional silanes include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisocyanatesilane, and the like.

3官能性シランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルジエトキシメトキシシラン、メチルエトキシジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルメトキシジクロロシラン、メチルエトキシジクロロシラン、メチルジメトキシクロロシラン、メチルメトキシエトキシクロロシラン、メチルジエトキシクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルジアセトキシメトキシシラン、メチルジアセトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジメトキシシラン、メチルアセトキシメトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジエトキシシラン、メチルトリヒドロキシシラン、メチルメトキシジヒドロキシシラン、メチルエトキシジヒドロキシシラン、メチルジメトキシヒドロキシシラン、メチルエトキシメトキシヒドロキシシラン、メチルジエトキシヒドロキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリアセトキシシラン、エチルトリヒドロキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリクロロシラン、プロピルトリアセトキシシラン、プロピルトリヒドロキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリクロロシラン、ブチルトリアセトキシシラン、ブチルトリヒドロキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルトリアセトキシシラン、ヘキシルトリヒドロキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリアセトキシシラン、フェニルトリヒドロキシシランなどが挙げられる。 Trifunctional silanes include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyldiethoxymethoxysilane, methylethoxydimethoxysilane, methyltrichlorosilane, methylmethoxydichlorosilane, methylethoxydichlorosilane, methyldimethoxychlorosilane, methylmethoxyethoxychlorosilane. , methyldiethoxychlorosilane, methyltriacetoxysilane, methyldiacetoxymethoxysilane, methyldiacetoxyethoxysilane, methylacetoxydimethoxysilane, methylacetoxymethoxyethoxysilane, methylacetoxydiethoxysilane, methyltrihydroxysilane, methylmethoxydihydroxysilane, methylethoxydihydroxysilane, methyldimethoxyhydroxysilane, methylethoxymethoxyhydroxysilane, methyldiethoxyhydroxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltriacetoxysilane, ethyltrihydroxysilane, propyltrimethoxysilane , propyltriethoxysilane, propyltrichlorosilane, propyltriacetoxysilane, propyltrihydroxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, butyltrichlorosilane, butyltriacetoxysilane, butyltrihydroxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyl triethoxysilane, hexyltrichlorosilane, hexyltriacetoxysilane, hexyltrihydroxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltriacetoxysilane, phenyltrihydroxysilane and the like.

2官能性シランとしては、ジ-tert-ブチルジクロロシラン、ジ-tert-ブチルジメトキシシラン、ジ-tert-ブチルジエトキシシラン、ジブチルジクロロシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジクロロデシルメチルシラン、ジメトキシデシルメチルシラン、ジエトキシデシルメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、 ジエチルジメトキシシランなどが挙げられる。 Bifunctional silanes include di-tert-butyldichlorosilane, di-tert-butyldimethoxysilane, di-tert-butyldiethoxysilane, dibutyldichlorosilane, dibutyldimethoxysilane, dibutyldiethoxysilane, dichlorodecylmethylsilane, dimethoxydecylmethylsilane, diethoxydecylmethylsilane, dichlorodimethylsilane, dimethoxydimethylsilane, diethoxydimethylsilane, diethyldimethoxysilane and the like.

上記のうち、4官能性シランとしてはテトラエトキシシラン、3官能性シランとしてはトリメトキシメチルシラン、2官能性シランとしてはジメチルジメトキシシランであることが好ましい。 Among the above, tetraethoxysilane is preferable as the tetrafunctional silane, trimethoxymethylsilane as the trifunctional silane, and dimethyldimethoxysilane as the bifunctional silane.

また、これらの多官能モノマーを単独または組み合わせて使用することができる。詳細な理由は不明であるが、3官能モノマーの使用量が4官能モノマー及び2官能モノマーの合計使用量よりも少ない場合、本発明の効果がより顕著に表れやすいため好ましい。 Also, these polyfunctional monomers can be used alone or in combination. Although the detailed reason is unknown, when the amount of the trifunctional monomer used is less than the total amount of the tetrafunctional monomer and the bifunctional monomer used, the effects of the present invention are likely to appear more remarkably, which is preferable.

有機ケイ素重合体粒子はシランカップリング剤やシリコーンオイルなど公知の手段により表面処理を行い、疎水化度の調整を行ってもよい。特に、本発明においてシリカ微粒子が疎水化されている場合、外添剤阻止層でのシリカ微粒子と有機ケイ素重合体粒子の凝集力をより向上させるためにも有機ケイ素重合体粒子も疎水化処理されていることが好ましい。疎水化度が35以上であると画像流れ抑制効果が高くなるため好ましい。 The organosilicon polymer particles may be surface-treated with a known means such as a silane coupling agent or silicone oil to adjust the degree of hydrophobicity. In particular, when the silica fine particles are hydrophobized in the present invention, the organosilicon polymer particles are also hydrophobized in order to further improve the cohesive force between the silica fine particles and the organosilicon polymer particles in the external additive blocking layer. preferably. When the degree of hydrophobicity is 35 or more, the effect of suppressing image deletion is enhanced, which is preferable.

<シリカ粒子>
本発明のシリカ粒子としては、例えば、湿式法、火炎溶融法及び気相法など任意の方法で製造されたシリカ微粒子が好ましく用いられる。
<Silica particles>
As the silica particles of the present invention, fine silica particles produced by any method such as a wet method, a flame fusion method and a vapor phase method are preferably used.

湿式法としては、水が存在する有機溶媒中にアルコキシシランを滴下し、触媒により加水分解、縮合反応させた後、得られたシリカゾル懸濁液から溶媒を除去し、乾燥してゾルゲルシリカを得るゾルゲル法が挙げられる。 As a wet method, alkoxysilane is added dropwise to an organic solvent containing water, hydrolysis and condensation reactions are carried out using a catalyst, the solvent is removed from the obtained silica sol suspension, and sol-gel silica is obtained by drying. A sol-gel method is mentioned.

火炎溶融法としては、常温でガス状または液状である珪素化合物を、予めガス状にした後、水素および/または炭化水素からなる可燃性ガスと、酸素を供給して形成した外炎中において、該珪素化合物を分解・溶融させてシリカ微粒子(溶融シリカ)を得る方法が挙げられる。 In the flame melting method, a silicon compound that is gaseous or liquid at room temperature is gasified in advance, and then a combustible gas composed of hydrogen and/or hydrocarbons and oxygen are supplied to form an outer flame, A method of obtaining fine silica particles (fused silica) by decomposing and melting the silicon compound may be mentioned.

該火炎溶融法では、外炎中において、該珪素化合物からシリカ微粒子を生成させると同時に、所望の粒径や形状となるようにシリカ微粒子同士を融着、合一させた後冷却し、バグフィルター等で捕集することができる。原料として用いる該珪素化合物は、常温でガス状または液状であれば特に制限はなく、例えばヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン又はデカメチルシクロペンタシロキサンなどの環状シロキサン;ヘキサメチルジシロキサン又はオクタメチルトリシロキサンなどのシロキサン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン又はジメチルジメトキシシランなどのアルコキシシラン;テトラメチルシラン、ジエチルシラン又はヘキサメチルジシラザンなどの有機シラン化合物;モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン又はテトラクロロシラン等のハロゲン化珪素;モノシラン又はジシラン等の無機珪素が挙げられる。 In the flame fusion method, silica fine particles are generated from the silicon compound in an external flame, and at the same time, the silica fine particles are fused and coalesced so as to have a desired particle size and shape, and then cooled to form a bag filter. etc. can be collected. The silicon compound used as a raw material is not particularly limited as long as it is gaseous or liquid at room temperature. siloxanes such as octamethyltrisiloxane; alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane or dimethyldimethoxysilane; organosilane compounds such as tetramethylsilane, diethylsilane or hexamethyldisilazane; Silicon halides such as chlorosilane, trichlorosilane or tetrachlorosilane; and inorganic silicon such as monosilane or disilane.

気相法としては、四塩化珪素を酸素、水素及び希釈ガス(例えば、窒素、アルゴン及び二酸化炭素など)の混合ガスとともに高温で燃焼させて製造する、ヒュームド法が挙げられる。 Vapor phase processes include fumed processes in which silicon tetrachloride is produced by burning it at high temperatures with a mixture of oxygen, hydrogen and a diluent gas such as nitrogen, argon and carbon dioxide.

シリカ粒子は、表面を疎水化処理し、帯電安定性を向上させる目的で、表面処理を施すことが好ましい。このときの表面処理剤としては、シランカップリング剤またはシリコーンオイルが好ましく用いられる。 The silica particles are preferably surface-treated for the purpose of hydrophobizing the surface and improving charging stability. A silane coupling agent or silicone oil is preferably used as the surface treatment agent at this time.

シランカップリング剤としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン、トリメチルシラン、トリメチルクロルシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジクロルシラン、メチルトリクロルシラン、アリルジメチルクロルシラン、アリルフェニルジクロルシラン、ベンジルジメチルクロルシラン、ブロムメチルジメチルクロルシラン、α-クロルエチルトリクロルシラン、β-クロルエチルトリクロルシラン、クロルメチルジメチルクロルシラン、トリオルガノシリルメルカプタン、トリメチルシリルメルカプタン、トリオルガノシリルアクリレート、ビニルジメチルアセトキシシラメン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、へキサメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、又は1分子当たり2~12個のシロキサン単位を有し、末端に位置する単位に夫々1個あたりのケイ素原子に結合した水酸基を含有したジメチルポリシロキサンが挙げられる。 Silane coupling agents include, for example, hexamethyldisilazane, trimethylsilane, trimethylchlorosilane, trimethylethoxysilane, dimethyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, allyldimethylchlorosilane, allylphenyldichlorosilane, benzyldimethylchlorosilane, bromomethyldimethylchlorosilane, α-chloroethyltrichlorosilane, β-chloroethyltrichlorosilane, chloromethyldimethylchlorosilane, triorganosilylmercaptan, trimethylsilylmercaptan, triorganosilyl acrylate, vinyldimethylacetoxysilamen, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, hexamethyldisiloxane, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, 1,3-diphenyltetramethyldisiloxane, or having 2 to 12 siloxane units per molecule, Examples include dimethylpolysiloxanes each containing a silicon-bonded hydroxyl group in each terminal unit.

本発明に用いるシリカ粒子の処理に用いるシリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル,アルキル変性シリコーンオイル、α-メチルスチレン変性シリコーンオイル、クロルフェニルシリコーンオイル又はフッ素変性シリコーンオイル等が挙げられる。シリコーンオイルとしては上記式のものに限定されるわけではない。上記シリコーンオイルは、温度25℃における粘度が50mm2/s以上1000mm2/s以下のものが好ましい。50mm2/s未満では熱が加わることにより一部揮発し、帯電特性が劣化しやすくなる傾向にある。1000mm2/sを超える場合では、処理作業上取扱いが困難となる傾向にある。シリコーンオイル処理の方法としては、公知技術が使用できる。例えば、ケイ酸微粉体とシリコーンオイルとを混合機を用い、混合する;ケイ酸微粉体中にシリコーンオイルを、噴霧器を用い噴霧する;或いは溶剤中にシリコーンオイルを溶解させた後、ケイ酸微粉体を混合する方法が挙げられる。処理方法としてはこれに限定されるものではない。 Examples of the silicone oil used for treating the silica particles used in the present invention include dimethyl silicone oil, alkyl-modified silicone oil, α-methylstyrene-modified silicone oil, chlorophenyl silicone oil and fluorine-modified silicone oil. The silicone oil is not limited to those having the above formula. The silicone oil preferably has a viscosity of 50 mm 2 /s or more and 1000 mm 2 /s or less at a temperature of 25°C. If it is less than 50 mm 2 /s, it is partially volatilized by the application of heat, tending to deteriorate charging characteristics. If it exceeds 1000 mm 2 /s, it tends to be difficult to handle in processing operations. A known technique can be used as a method of silicone oil treatment. For example, silicic acid fine powder and silicone oil are mixed using a mixer; silicone oil is sprayed into silicic acid fine powder using a sprayer; or after dissolving silicone oil in a solvent, silicic acid fine powder A method of mixing bodies is included. The processing method is not limited to this.

特に、本発明のシリカ粒子は、表面処理剤としてヘキサメチルジシラザンまたはシリコーンオイルを用いたものが好ましい。 In particular, the silica particles of the present invention preferably use hexamethyldisilazane or silicone oil as a surface treatment agent.

<結着樹脂>
本発明のトナーに使用される結着樹脂としては、特に限定されず、下記の重合体又は樹脂を用いることが可能である。
<Binder resin>
The binder resin used in the toner of the present invention is not particularly limited, and the following polymers or resins can be used.

例えば、ポリスチレン、ポリ-p-クロルスチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及びその置換体の単重合体;スチレン-p-クロルスチレン共重合体、スチレン-ビニルトルエン共重合体、スチレン-ビニルナフタリン共重合体、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、スチレン-α-クロルメタクリル酸メチル共重合体、スチレン-アクリロニトリル共重合体、スチレン-ビニルメチルエーテル共重合体、スチレン-ビニルエチルエーテル共重合体、スチレン-ビニルメチルケトン共重合体、スチレン-アクリロニトリル-インデン共重合体などのスチレン系共重合体;ポリ塩化ビニル、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロン-インデン樹脂、石油系樹脂などが使用できる。その中でも、耐久安定性及び帯電安定性の観点からポリエステル樹脂が好ましい。 For example, homopolymers of styrene such as polystyrene, poly-p-chlorostyrene and polyvinyltoluene, and substituted products thereof; styrene-p-chlorostyrene copolymer, styrene-vinyltoluene copolymer, styrene-vinylnaphthalene copolymer , styrene-acrylate copolymer, styrene-methacrylate copolymer, styrene-α-methyl chloromethacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-vinyl methyl ether copolymer, styrene-vinyl Styrenic copolymers such as ethyl ether copolymer, styrene-vinyl methyl ketone copolymer, styrene-acrylonitrile-indene copolymer; polyvinyl chloride, phenol resin, natural modified phenol resin, natural resin modified maleic acid resin, Acrylic resins, methacrylic resins, polyvinyl acetate, silicone resins, polyester resins, polyurethanes, polyamide resins, furan resins, epoxy resins, xylene resins, polyvinyl butyral, terpene resins, coumarone-indene resins, petroleum-based resins, and the like can be used. Among them, polyester resins are preferable from the viewpoint of durability stability and charging stability.

<着色剤>
本発明のトナーには必要に応じて着色剤を用いてもよい。着色剤としては、以下のものが挙げられる。
<Colorant>
A colorant may be used in the toner of the present invention, if necessary. Colorants include the following.

黒色着色剤としては、カーボンブラック;イエロー着色剤とマゼンタ着色剤及びシアン着色剤とを用いて黒色に調色したものが挙げられる。着色剤には、顔料を単独で使用してもかまわないが、染料と顔料とを併用してその鮮明度を向上させた方がフルカラー画像の画質の点からより好ましい。 Examples of black colorants include carbon black; black toned by using a yellow colorant, a magenta colorant and a cyan colorant. A pigment may be used alone as a coloring agent, but it is more preferable to use a dye and a pigment in combination to improve the definition from the viewpoint of image quality of a full-color image.

マゼンタトナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、39、40、41、48:2、48:3,48:4、49、50、51、52、53、54、55、57:1、58、60、63、64、68、81:1、83、87、88、89、90、112、114、122、123、146、147、150、163、184、202、206、207、209、238、269、282;C.I.ピグメントバイオレット19;C.I.バットレッド1、2、10、13、15、23、29、35。 Examples of magenta toner pigments include the following. C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 39, 40, 41, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 50, 51, 52, 53, 54, 55, 57:1, 58, 60, 63, 64, 68, 81: 1, 83, 87, 88, 89, 90, 112, 114, 122, 123, 146, 147, 150, 163, 184, 202, 206, 207, 209, 238, 269, 282; I. Pigment Violet 19; C.I. I. Bat Red 1, 2, 10, 13, 15, 23, 29, 35.

マゼンタトナー用染料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ソルベントレッド1、3、8、23、24、25、27、30、49、81、82、83、84、100、109、121;C.I.ディスパースレッド9;C.I.ソルベントバイオレット8、13、14、21、27;C.I.ディスパーバイオレット1のような油溶染料、C.I.ベーシックレッド1、2、9、12、13、14、15、17、18、22、23、24、27、29、32、34、35、36、37、38、39、40;C.I.ベーシックバイオレット1、3、7、10、14、15、21、25、26、27、28のような塩基性染料。 Dyes for magenta toner include the following. C. I. Solvent Red 1, 3, 8, 23, 24, 25, 27, 30, 49, 81, 82, 83, 84, 100, 109, 121; C.I. I. disperse thread 9;C. I. Solvent Violet 8, 13, 14, 21, 27; C.I. I. Oil-soluble dyes such as Disper Violet 1, C.I. I. Basic Red 1, 2, 9, 12, 13, 14, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 27, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40; C.I. I. Basic dyes such as Basic Violet 1, 3, 7, 10, 14, 15, 21, 25, 26, 27, 28.

シアントナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントブルー2、3、15:2、15:3、15:4、16、17;C.I.バットブルー6;C.I.アシッドブルー45、フタロシアニン骨格にフタルイミドメチル基を1~5個置換した銅フタロシアニン顔料。 Examples of cyan toner pigments include the following. C. I. Pigment Blue 2, 3, 15:2, 15:3, 15:4, 16, 17; C.I. I. Bat Blue 6; C.I. I. Acid Blue 45, a copper phthalocyanine pigment having a phthalocyanine skeleton substituted with 1 to 5 phthalimidomethyl groups.

シアントナー用染料としては、C.I.ソルベントブルー70がある。 As dyes for cyan toners, C.I. I. There is Solvent Blue 70.

イエロートナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントイエロー1、2、3、4、5、6、7、10、11、12、13、14、15、16、17、23、62、65、73、74、83、93、94、95、97、109、110、111、120、127、128、129、147、151、154、155、168、174、175、176、180、181、185;C.I.バットイエロー1、3、20。
イエロートナー用染料としては、C.I.ソルベントイエロー162がある。
Examples of yellow toner pigments include the following. C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 23, 62, 65, 73, 74, 83, 93, 94, 95, 97, 109, 110, 111, 120, 127, 128, 129, 147, 151, 154, 155, 168, 174, 175, 176, 180, 181, 185; I. Bat Yellow 1, 3, 20.
As a yellow toner dye, C.I. I. There is Solvent Yellow 162.

着色剤の含有量は、結着樹脂100質量部に対して0.1質量部以上30質量部以下であることが好ましい。 The content of the colorant is preferably 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

<ワックス>
本発明のトナーには必要に応じてワックスを用いてもよい。ワックスとしては、例えば以下のものが挙げられる。
<Wax>
Wax may be used in the toner of the present invention, if necessary. Examples of wax include the following.

マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックスのような炭化水素系ワックス;酸化ポリエチレンワックスのような炭化水素系ワックスの酸化物又はそれらのブロック共重合物;カルナバワックスのような脂肪酸エステルを主成分とするワックス類;脱酸カルナバワックスのような脂肪酸エステル類を一部又は全部を脱酸化したもの。 Hydrocarbon waxes such as microcrystalline wax, paraffin wax, and Fischer-Tropsch wax; oxides of hydrocarbon waxes such as oxidized polyethylene wax or block copolymers thereof; fatty acid esters such as carnauba wax as a main component; Waxes that deoxidize partially or wholly deoxidized fatty acid esters such as deoxidized carnauba wax.

さらに、以下のものが挙げられる。パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸のような飽和直鎖脂肪酸類;ブラシジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸のような不飽和脂肪酸類;ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールの如き飽和アルコール類;ソルビトールのような多価アルコール類;パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸のような脂肪酸類と、ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールのようなアルコール類とのエステル類;リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミドのような脂肪酸アミド類;メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミドのような飽和脂肪酸ビスアミド類;エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、N,N’ジオレイルアジピン酸アミド、N,N’ジオレイルセバシン酸アミドのような不飽和脂肪酸アミド類;m-キシレンビスステアリン酸アミド、N,N’ジステアリルイソフタル酸アミドのような芳香族系ビスアミド類;ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムのような脂肪族金属塩(一般に金属石けんといわれているもの);脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸のようなビニル系モノマーを用いてグラフト化させたワックス類;ベヘニン酸モノグリセリドのような脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物;植物性油脂の水素添加によって得られるヒドロキシル基を有するメチルエステル化合物。 Furthermore, the following are mentioned. Saturated straight-chain fatty acids such as palmitic acid, stearic acid and montanic acid; unsaturated fatty acids such as brassic acid, eleostearic acid and valinaric acid; stearyl alcohol, aralkyl alcohol, behenyl alcohol, carnauvyl alcohol and ceryl alcohol , saturated alcohols such as mericyl alcohol; polyhydric alcohols such as sorbitol; fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, behenic acid and montanic acid; Esters with alcohols such as ceryl alcohol and melicyl alcohol; Fatty acid amides such as linoleic acid amide, oleic acid amide and lauric acid amide; Methylenebisstearic acid amide, ethylenebiscapric acid amide, ethylenebislauric acid amides, saturated fatty acid bisamides such as hexamethylenebisstearic acid amide; unsaturated fatty acid amides; aromatic bisamides such as m-xylene bisstearic acid amide and N,N' distearyl isophthalic acid amide; fats such as calcium stearate, calcium laurate, zinc stearate and magnesium stearate group metal salts (generally called metal soaps); waxes obtained by grafting vinyl monomers such as styrene and acrylic acid to aliphatic hydrocarbon waxes; Partial esters of hydric alcohols; methyl ester compounds with hydroxyl groups obtained by hydrogenation of vegetable oils and fats.

ワックスの含有量は、結着樹脂100質量部に対して2.0質量部以上30.0質量部以下であることが好ましい。ワックスは単独で使用してもよいし、複数の種類を併用して用いても構わない。 The wax content is preferably 2.0 parts by mass or more and 30.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin. Waxes may be used alone, or may be used in combination of multiple types.

<荷電制御剤>
本発明のトナーには、必要に応じて荷電制御剤を含有させることもできる。トナーに含有される荷電制御剤としては、公知のものが利用できるが、特に、本発明の感光体と組み合わせる場合においてはポジ系荷電制御剤を用いることが好ましい。
<Charge control agent>
The toner of the present invention may also contain a charge control agent, if desired. As the charge control agent contained in the toner, a known charge control agent can be used, but it is particularly preferable to use a positive charge control agent when combined with the photoreceptor of the present invention.

ポジ系荷電制御剤としては、アジン化合物、アジン染料、ニグロシン染料、第4級アンモニウム塩、4級アンモニウムカチオン基を含む樹脂、トリアミノトリフェニルメタン化合物及びイミダゾール化合物が挙げられる。 Examples of positive charge control agents include azine compounds, azine dyes, nigrosine dyes, quaternary ammonium salts, resins containing quaternary ammonium cationic groups, triaminotriphenylmethane compounds and imidazole compounds.

ネガ系荷電制御剤としては、サリチル酸金属化合物、ナフトエ酸金属化合物、ジカルボン酸金属化合物、スルホン酸又はカルボン酸を側鎖に持つ高分子型化合物、スルホン酸塩又はスルホン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、カルボン酸塩又はカルボン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、ホウ素化合物、尿素化合物、ケイ素化合物、カリックスアレーンが挙げられる。 Negative charge control agents include metal salicylate compounds, metal naphthoate compounds, metal dicarboxylic acid compounds, polymeric compounds having sulfonic acid or carboxylic acid side chains, and sulfonate or sulfonate ester side chain compounds. Polymeric compounds, polymeric compounds having carboxylates or carboxylic acid esters in side chains, boron compounds, urea compounds, silicon compounds, and calixarene can be mentioned.

荷電制御剤はトナー粒子に対して内添してもよいし、外添してもよい。荷電制御剤の含有量は、結着樹脂100質量部に対し、0.2質量部以上10.0質量部以下が好ましく、0.5質量部以上10.0質量部以下がより好ましい。 The charge control agent may be added internally or externally to the toner particles. The content of the charge control agent is preferably 0.2 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

<無機微粒子>
本発明のトナーには、本発明の効果を損なわない範囲において、前述したトナー用外添剤のほかに、必要に応じて他の無機微粒子を併用することもできる。
<Inorganic fine particles>
In the toner of the present invention, in addition to the external additive for toner described above, other inorganic fine particles may be used in combination, if necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired.

外添剤としては、比表面積が50m2/g以上400m2/g以下の無機微粒子が好ましい。比表面積が上記範囲の無機微粒子を併用することで流動性や帯電性の微調が可能である。本発明の静電荷像担持体と組み合わせる場合、前記有機ケイ素重合体粒子やシリカ粒子よりも一次粒子の個数平均径が小さく、かつ低抵抗な微粒子を使用すると、外添剤阻止層内部における粒子において過剰な帯電が抑制され、安定した外添剤阻止層が形成されやすいため好ましい。このような微粒子の例としては、例えば、チタニア微粒子や、表面をチタニアまたは酸化スズといった導電性の膜でコートした各種微粒子で、一次粒子の個数平均径が40nm未満の微粒子などが挙げられる。 As the external additive, inorganic fine particles having a specific surface area of 50 m 2 /g or more and 400 m 2 /g or less are preferable. Fine adjustment of fluidity and chargeability can be achieved by using together inorganic fine particles having a specific surface area within the above range. When combined with the electrostatic charge image bearing member of the present invention, fine particles having a primary particle number average diameter smaller than that of the organosilicon polymer particles and silica particles and having a low resistance are used. This is preferable because excessive charging is suppressed and a stable external additive blocking layer is easily formed. Examples of such fine particles include titania fine particles and various fine particles whose surfaces are coated with a conductive film such as titania or tin oxide and whose primary particles have a number average diameter of less than 40 nm.

上記無機微粒子は、トナー粒子100質量部に対して0.1質量部以上10.0質量部以下で使用されることが好ましい。 The inorganic fine particles are preferably used in an amount of 0.1 parts by mass or more and 10.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the toner particles.

<現像剤>
本発明のトナーは、一成分系現像剤としても使用できるが、ドット再現性をより向上させるために、磁性キャリアと混合して二成分現像剤として用いることが、長期にわたり安定した画像が得られるという点で好ましい。さらに、トナーの外添剤粒子が現像機内に移行する程度を抑制でき、静電荷像担持体表面において適切な外添剤阻止層を形成できる点でも好ましい。すなわち、トナー及び磁性キャリアを含有する二成分現像剤であって、該トナーが本発明のトナーであることが好ましい。
<Developer>
The toner of the present invention can be used as a one-component developer, but in order to further improve dot reproducibility, it is recommended to mix it with a magnetic carrier and use it as a two-component developer to obtain stable images over a long period of time. It is preferable in that Furthermore, it is possible to suppress the extent to which the external additive particles of the toner migrate into the developing machine, and to form an appropriate external additive blocking layer on the surface of the electrostatic charge image bearing member. That is, it is a two-component developer containing a toner and a magnetic carrier, and the toner is preferably the toner of the present invention.

磁性キャリアとしては、例えば、表面を酸化した鉄粉、あるいは、未酸化の鉄粉や、鉄、リチウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、マンガン、クロム、希土類のような金属粒子、それらの合金粒子、酸化物粒子、フェライト等の磁性体や、磁性体と、この磁性体を分散した状態で保持するバインダー樹脂とを含有する磁性体分散樹脂キャリア(いわゆる樹脂キャリア)等、一般に公知のものを使用できる。 Examples of magnetic carriers include iron powder with an oxidized surface, unoxidized iron powder, and metal particles such as iron, lithium, calcium, magnesium, nickel, copper, zinc, cobalt, manganese, chromium, and rare earth elements. Magnetic substances such as alloy particles, oxide particles, and ferrite, and magnetic substance-dispersed resin carriers (so-called resin carriers) containing a magnetic substance and a binder resin that holds the magnetic substance in a dispersed state are generally known. can be used.

<トナー粒子の製造方法>
トナー粒子を製造する方法としては、特に制限されず、懸濁重合法、乳化凝集法、溶融混練法、溶解懸濁法など従来公知の製造方法を採用できる。
<Method for producing toner particles>
The method for producing the toner particles is not particularly limited, and conventionally known production methods such as a suspension polymerization method, an emulsion aggregation method, a melt-kneading method, and a dissolution suspension method can be employed.

得られたトナー粒子に対し、本発明の有機ケイ素重合体微粒子およびシリカ微粒子を含む微粒子を混合して、トナーを得る。トナー粒子と無機微粒子、及びその他の外添剤との混合は、ダブルコン・ミキサー、V型ミキサー、ドラム型ミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、ナウタミキサ、メカノハイブリッド(日本コークス工業株式会社製)、ノビルタ(ホソカワミクロン株式会社製)等の混合装置を用いることができる。本発明の有機ケイ素重合体微粒子とシリカ微粒子はトナー粒子に対し同時に添加してもよいし、一方をトナー粒子と混合したのちに他方を添加してもよい。 Fine particles containing organosilicon polymer fine particles and silica fine particles of the present invention are mixed with the obtained toner particles to obtain a toner. Toner particles, inorganic fine particles, and other external additives can be mixed with a double-con mixer, V-type mixer, drum-type mixer, super mixer, Henschel mixer, Nauta mixer, Mechanohybrid (manufactured by Nippon Coke Kogyo Co., Ltd.), Nobilta ( (manufactured by Hosokawa Micron Corporation) or the like can be used. The organosilicon polymer fine particles and silica fine particles of the present invention may be added to the toner particles at the same time, or one of them may be mixed with the toner particles and then the other may be added.

また、混合後にハイブリタイゼーションシステム(奈良機械製作所製)、メカノフージョンシステム(ホソカワミクロン社製)、ファカルティ(ホソカワミクロン社製)、メテオレインボー MR Type(日本ニューマチック社製)を用いて機械的または熱的な処理を行うことで、トナー粒子表面の有機ケイ素重合体微粒子及びシリカ微粒子の固着率制御を行うこともできる。 In addition, after mixing, a hybridization system (manufactured by Nara Machinery Co., Ltd.), a mechanofusion system (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), a faculty (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), and a Meteor Rainbow MR Type (manufactured by Nippon Pneumatic Co., Ltd.) are used to mechanically or thermally By performing such a treatment, it is possible to control the fixation rate of the organosilicon polymer fine particles and silica fine particles on the surface of the toner particles.

《物性の測定方法》
以下に本発明に係る物性の測定方法に関して記載する。
《Method of measuring physical properties》
The method for measuring physical properties according to the present invention is described below.

<有機ケイ素重合体粒子の同定方法>
トナー中に含まれる有機ケイ素重合体粒子の同定方法はSEMによる形状観察およびEDSによる元素分析を組み合わせて行うことができる。
<Method for Identifying Organosilicon Polymer Particles>
A method for identifying the organosilicon polymer particles contained in the toner can be carried out by combining shape observation by SEM and elemental analysis by EDS.

走査型電子顕微鏡「S-4800」(商品名;日立製作所製)を用いて、最大5万倍に拡大した視野において、トナーを観察する。トナー粒子表面にピントを合わせて、外添剤を観察する。外添剤の各粒子に対してEDS分析を行い、Si元素ピークの有無から、分析した粒子が有機ケイ素重合体微粒子であるか否かを判断する。 Using a scanning electron microscope “S-4800” (trade name; manufactured by Hitachi Ltd.), the toner is observed in a field magnified up to 50,000 times. The external additive is observed by focusing on the toner particle surface. EDS analysis is performed on each particle of the external additive, and it is determined whether or not the analyzed particles are organosilicon polymer fine particles based on the presence or absence of Si element peaks.

トナー中に、有機ケイ素重合体微粒子とシリカ微粒子の両方が含まれている場合には、Si及びOの元素含有量(atomic%)の比(Si/O比)を標品と比較することで有機ケイ素重合体微粒子の同定を行う。 When the toner contains both organosilicon polymer fine particles and silica fine particles, the ratio (Si/O ratio) of the element contents (atomic %) of Si and O can be compared with that of a sample. Identification of organosilicon polymer microparticles.

有機ケイ素重合体微粒子、及びシリカ微粒子それぞれの標品に対して、同条件でEDS分析を行い、Si及びOそれぞれの元素含有量(atomic%)を得る。 An EDS analysis is performed under the same conditions on samples of each of the organosilicon polymer fine particles and the silica fine particles to obtain the element content (atomic %) of each of Si and O.

有機ケイ素重合体微粒子のSi/O比をAとし、シリカ微粒子のSi/O比をBとする。AがBに対して、有意に大きくなる測定条件を選択する。 Let A be the Si/O ratio of the organosilicon polymer fine particles, and B be the Si/O ratio of the silica fine particles. Select a measurement condition under which A is significantly greater than B.

具体的には、標品に対して、同条件で10回の測定を行い、A及びB、それぞれの相加平均値を得る。得られた平均値がA/B>1.1となる測定条件を選択する。 Specifically, the sample is measured 10 times under the same conditions, and the arithmetic mean values of A and B are obtained. Measurement conditions are selected such that the obtained average value is A/B>1.1.

判別対象の微粒子のSi/O比が[(A+B)/2]よりもA側にある場合に当該微粒子を有機ケイ素重合体微粒子と判断する。 When the Si/O ratio of the fine particles to be determined is on the A side of [(A+B)/2], the fine particles are determined to be organosilicon polymer fine particles.

有機ケイ素重合体粒子の標品として、トスパール120A(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社)を、シリカ微粒子の標品として、HDK V15(旭化成)を用いる。 Tospar 120A (Momentive Performance Materials Japan LLC) is used as a sample of organosilicon polymer particles, and HDK V15 (Asahi Kasei) is used as a sample of silica fine particles.

<有機ケイ素重合体粒子及びシリカ粒子の一次粒子の個数平均粒径の測定方法>
トナー作製に用いる走査型電子顕微鏡「S-4800」(商品名;日立製作所製)及びエネルギー分散型X線分析(EDS)による元素分析を組み合わせて行う。
<Method for Measuring the Number Average Particle Diameter of Primary Particles of Organosilicon Polymer Particles and Silica Particles>
A scanning electron microscope “S-4800” (trade name; manufactured by Hitachi, Ltd.) used for toner preparation and elemental analysis by energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) are combined.

最大5万倍に拡大した視野において、上述するEDSによる元素分析手法を併用し、ランダムに微粒子を撮影する。 In a field of view enlarged up to 50,000 times, the above-described elemental analysis method by EDS is also used, and fine particles are photographed at random.

撮影された画像から、ランダムに100個の有機ケイ素重合体微粒子及びシリカ微粒子を選び出し、対象とする微粒子の一次粒子の長径を測定して、その算術平均値を個数平均粒径とする。 100 organosilicon polymer fine particles and silica fine particles are randomly selected from the photographed image, the major diameters of the primary particles of the target fine particles are measured, and the arithmetic mean value is taken as the number average particle diameter.

観察倍率は、有機ケイ素重合体微粒子及びシリカ微粒子の大きさによって適宜調整する。 The observation magnification is appropriately adjusted according to the sizes of the organosilicon polymer fine particles and the silica fine particles.

<トナー中に含まれる有機ケイ素重合体粒子又はシリカ粒子の定量方法>
トナー1gをバイアル瓶に入れクロロホルム31gに溶解させ、分散させる。分散には超音波式ホモジナイザーを用いて30分間処理して分散液を作製する。
<Method for Quantifying Organosilicon Polymer Particles or Silica Particles Contained in Toner>
1 g of toner is placed in a vial, dissolved in 31 g of chloroform, and dispersed. For dispersion, an ultrasonic homogenizer is used for 30 minutes to prepare a dispersion.

その後に遠心分離を用い、比重の差で有機ケイ素重合体微粒子及びシリカ微粒子を分離し各サンプルを得、有機ケイ素重合体微粒子又はシリカ微粒子の含有量を求める。 After that, centrifugation is used to separate the organosilicon polymer fine particles and the silica fine particles according to the difference in specific gravity to obtain each sample, and the content of the organosilicon polymer fine particles or the silica fine particles is determined.

まず、プレスしたトナーを蛍光X線で測定し、検量線法又はFP法などの解析処理を行うことでトナー中のケイ素の含有量を求める。 First, the pressed toner is measured with fluorescent X-rays, and the content of silicon in the toner is obtained by analytical processing such as the calibration curve method or the FP method.

次に、有機ケイ素重合体微粒子及び必要に応じてシリカ微粒子を形成する各構成化合物について、固体29Si-NMR及び熱分解GC/MSなどを用いて構造を特定し、有機ケイ素重合体微粒子中及びシリカ微粒子中のケイ素含有量を求める。蛍光X線で求めたトナー中のケイ素の含有量と、固体29Si-NMR及び熱分解GC/MSで求めた有機ケイ素重合体微粒子中及びシリカ微粒子中のケイ素含有量の関係から、計算によってトナー中の有機ケイ素重合体微粒子又はシリカ微粒子の含有量を求める。 Next, for each constituent compound forming the organosilicon polymer fine particles and, if necessary, the silica fine particles, the structure is specified using solid-state 29 Si-NMR, pyrolysis GC/MS, etc., and the Obtain the silicon content in the silica fine particles. From the relationship between the silicon content in the toner determined by fluorescent X-rays and the silicon content in the organosilicon polymer fine particles and silica fine particles determined by solid 29 Si-NMR and pyrolysis GC/MS, the toner was calculated. The content of organosilicon polymer fine particles or silica fine particles is determined.

<有機ケイ素重合体粒子又はシリカ粒子の水洗法による、トナー粒子からの移行量および移行した有機ケイ素重合体粒子又はシリカ粒子の粒径>
(水洗工程)
洗浄前トナー:
作製した各種トナーをそのまま用いて、下記方法で洗浄前のトナー粒子の表面に存在するケイ素化合物中のケイ素量を求める。
<Amount Transferred from Toner Particles and Particle Size of Transferred Organosilicon Polymer Particles or Silica Particles by Water Washing of Organosilicon Polymer Particles or Silica Particles>
(Washing process)
Pre-wash toner:
Using various toners produced as they are, the amount of silicon in the silicon compound present on the surfaces of the toner particles before washing is determined by the following method.

洗浄後トナー:
イオン交換水250mLにスクロース(キシダ化学製)500gを加え、湯せんをしながら溶解させ、ショ糖濃厚液を調製する。遠心分離用チューブ(容量50mL)に上記ショ糖濃厚液を31gと、コンタミノンN(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)を6mL入れ分散液を作製する。この分散液にトナー1.0gを添加し、スパチュラなどでトナーのかたまりをほぐす。
Post-wash toner:
Add 500 g of sucrose (manufactured by Kishida Chemical Co., Ltd.) to 250 mL of ion-exchanged water and dissolve in a hot water bath to prepare a concentrated sucrose solution. In a centrifugation tube (capacity: 50 mL), 31 g of the concentrated sucrose solution and Contaminon N (a pH 7 neutral detergent for cleaning precision measuring instruments consisting of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and an organic builder) were added. 6 mL of a mass % aqueous solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added to prepare a dispersion. 1.0 g of toner is added to this dispersion, and clumps of toner are loosened with a spatula or the like.

遠心分離用チューブをシェイカーにて350spm(strokes per min)、20分間振とうする。この操作により、有機ケイ素重合体またはシリカ粒子のトナー粒子への固着状態によっては有機ケイ素重合体またはシリカ粒子がトナー粒子から分散液側に移行する。振とう後、溶液をスイングローター用ガラスチューブ(容量50mL)に入れ替えて、遠心分離機(H-9R 株式会社コクサン製)にて3500rpm、30分間の条件で分離する。トナーと水溶液が十分に分離されていることを目視で確認し、最上層に分離したトナーをスパチュラ等で採取する。採取したトナーを含む水溶液を減圧濾過器で濾過した後、乾燥機で1時間以上乾燥する。乾燥品をスパチュラで解砕し、洗浄後トナーとする。 The centrifuge tube is shaken on a shaker at 350 spm (strokes per min) for 20 minutes. By this operation, the organosilicon polymer or the silica particles migrate from the toner particles to the dispersion liquid side depending on the state of fixation of the organosilicon polymer or silica particles to the toner particles. After shaking, the solution is replaced in a swing rotor glass tube (capacity 50 mL) and separated in a centrifuge (H-9R manufactured by Kokusan Co., Ltd.) at 3500 rpm for 30 minutes. It is visually confirmed that the toner and the aqueous solution are sufficiently separated, and the separated toner on the uppermost layer is collected with a spatula or the like. After the collected aqueous solution containing the toner is filtered with a vacuum filter, it is dried with a dryer for 1 hour or longer. The dried product is pulverized with a spatula, washed, and used as a toner.

なお、トナーが磁性体を含有する磁性トナーの場合、遠心分離機にかける代わりにネオジム磁石でトナーを拘束した状態で有機ケイ素重合体またはシリカ微粒子を含む上澄み液を分離し、純水により洗浄を繰り返したのち磁性トナーを濾過により回収すればよい。
また、水溶液中に移行した有機ケイ素重合体微粒子またはシリカ微粒子は、遠心分離により沈降させたのち、上澄み液を除去し、純水で洗浄を繰り返してから回収する。
If the toner is a magnetic toner containing a magnetic material, the supernatant liquid containing the organosilicon polymer or silica fine particles is separated while the toner is constrained by a neodymium magnet instead of being centrifuged, and washed with pure water. After repeating, the magnetic toner may be collected by filtration.
The organosilicon polymer fine particles or silica fine particles that have migrated into the aqueous solution are sedimented by centrifugation, the supernatant is removed, and the sediment is collected after repeated washing with pure water.

次に、日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡S-4800((株)日立ハイテクノロジーズ)を用いて、上記水洗工程を行わないトナー(水洗前トナー)、及び、上記水洗工程を経て得られたトナー(水洗後トナー)を撮影する。 Next, using a Hitachi ultra-high resolution field emission scanning electron microscope S-4800 (Hitachi High-Technologies Co., Ltd.), the toner not subjected to the water washing process (toner before washing) and the toner obtained through the water washing process Take a picture of the washed toner (washed toner).

そして、撮影されたトナー表面画像を、画像解析ソフトImage-Pro Plus ver.5.0((株)日本ローパー)を用いて解析し、被覆率を算出する。 Then, the photographed toner surface image is analyzed using image analysis software Image-Pro Plus ver. 5.0 (Nippon Roper Co., Ltd.) to analyze and calculate the coverage.

S-4800の画像撮影条件は以下のとおりである。 The imaging conditions for the S-4800 are as follows.

(1)試料作製
試料台(アルミニウム試料台15mm×6mm)に導電性ペーストを薄く塗り、その上にトナーを吹きつける。さらにエアブローして、余分なトナーを試料台から除去し十分乾燥させる。試料台を試料ホルダにセットし、試料高さゲージにより試料台高さを36mmに調節する。
(1) Sample Preparation A sample stage (aluminum sample stage 15 mm×6 mm) is thinly coated with conductive paste, and toner is sprayed thereon. Further, air blowing is performed to remove excess toner from the sample stage, and the sample stage is sufficiently dried. A sample stage is set on the sample holder, and the height of the sample stage is adjusted to 36 mm using the sample height gauge.

(2)S-4800観察条件設定
被覆率の測定に際して、予め、上述したエネルギー分散型X線分析(EDS)による元素分析を行い、トナー粒子表面の有機ケイ素重合体微粒子又はシリカ微粒子を区別した上で測定を行う。
(2) S-4800 Observation Condition Setting When measuring the coverage rate, an elemental analysis is performed in advance by the energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) described above, and the organosilicon polymer fine particles or silica fine particles on the surface of the toner particles are distinguished. Measure with

S-4800の筺体に取り付けられているアンチコンタミネーショントラップに液体窒素を溢れるまで注入し、30分間置く。S-4800の「PC-SEM」を起動し、フラッシング(電子源であるFEチップの清浄化)を行う。画面上のコントロールパネルの加速電圧表示部分をクリックし、[フラッシング]ボタンを押し、フラッシング実行ダイアログを開く。フラッシング強度が2であることを確認し、実行する。フラッシングによるエミッション電流が20~40μAであることを確認する。試料ホルダをS-4800筺体の試料室に挿入する。コントロールパネル上の[原点]を押し試料ホルダを観察位置に移動させる。 The anti-contamination trap attached to the S-4800 housing is flooded with liquid nitrogen and left for 30 minutes. Start the "PC-SEM" of the S-4800 and perform flushing (cleaning of the FE chip, which is the electron source). Click the acceleration voltage display part of the control panel on the screen and press the [Flushing] button to open the flushing execution dialog. Confirm that the flushing intensity is 2 and execute. Confirm that the emission current due to flashing is 20 to 40 μA. Insert the sample holder into the sample chamber of the S-4800 housing. Press [Origin] on the control panel to move the sample holder to the observation position.

加速電圧表示部をクリックしてHV設定ダイアログを開き、加速電圧を[1.1kV]、エミッション電流を[20μA]に設定する。オペレーションパネルの[基本]のタブ内にて、信号選択を[SE]に設置し、SE検出器を[上(U)]および[+BSE]を選択し、[+BSE]の右の選択ボックスで[L.A.100]を選択し、反射電子像で観察するモードにする。同じくオペレーションパネルの[基本]のタブ内にて、電子光学系条件ブロックのプローブ電流を[Normal]に、焦点モードを[UHR]に、WDを[4.5mm]に設定する。コントロールパネルの加速電圧表示部の[ON]ボタンを押し、加速電圧を印加する。 Click the acceleration voltage display to open the HV setting dialog, and set the acceleration voltage to [1.1 kV] and the emission current to [20 μA]. In the [Basic] tab of the operation panel, set the signal selection to [SE], select [Upper (U)] and [+BSE] for the SE detector, and select [ L. A. 100] to set the mode for observing backscattered electron images. Similarly, in the [Basic] tab of the operation panel, set the probe current in the electron optical system condition block to [Normal], the focus mode to [UHR], and the WD to [4.5 mm]. Press the [ON] button on the acceleration voltage display section of the control panel to apply the acceleration voltage.

(3)トナーの個数平均粒径(D1)算出
コントロールパネルの倍率表示部内をドラッグして、倍率を5000(5k)倍に設定する。操作パネルのフォーカスつまみ[COARSE]を回転させ、ある程度焦点が合ったところでアパーチャアライメントの調整を行う。コントロールパネルの[Align]をクリックし、アライメントダイアログを表示し、[ビーム]を選択する。操作パネルのSTIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を回転し、表示されるビームを同心円の中心に移動させる。次に[アパーチャ]を選択し、STIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を一つずつ回し、像の動きを止める又は最小の動きになるように合わせる。アパーチャダイアログを閉じ、オートフォーカスで、ピントを合わせる。この操作を更に2度繰り返し、ピントを合わせる。
(3) Calculation of number-average particle diameter (D1) of toner Drag within the magnification display area of the control panel to set the magnification to 5000 (5k) times. Rotate the focus knob [COARSE] on the operation panel, and adjust the aperture alignment when the focus is achieved to some extent. Click [Align] in the control panel to display the alignment dialog and select [Beam]. Rotate the STIGMA/ALIGNMENT knobs (X, Y) on the operation panel to move the displayed beam to the center of the concentric circle. Next, select [Aperture] and turn the STIGMA/ALIGNMENT knobs (X, Y) one by one to stop or minimize the movement of the image. Close the aperture dialog and focus with autofocus. Repeat this operation two more times to adjust the focus.

その後、トナー300個について粒径を測定して個数平均粒径(D1)を求める。尚、個々の粒子の粒径は、トナーの粒子を観察した際の最大径とする。 After that, the particle size of 300 toner particles is measured to obtain the number average particle size (D1). Note that the particle diameter of each particle is the maximum diameter when the toner particles are observed.

(4)焦点調整
上記(3)で得た、個数平均粒径(D1)の±0.1μmの粒子について、最大径の中点を測定画面の中央に合わせた状態でコントロールパネルの倍率表示部内をドラッグして、倍率を10000(10k)倍に設定する。
(4) Focus adjustment For particles with a number average particle diameter (D1) of ± 0.1 μm obtained in (3) above, the middle point of the maximum diameter is aligned with the center of the measurement screen. to set the magnification to 10000 (10k) times.

操作パネルのフォーカスつまみ[COARSE]を回転させ、ある程度焦点が合ったところでアパーチャアライメントの調整を行う。コントロールパネルの[Align]をクリックし、アライメントダイアログを表示し、[ビーム]を選択する。操作パネルのSTIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を回転し、表示されるビームを同心円の中心に移動させる。次に[アパーチャ]を選択し、STIGMA/ALIGNMENTつまみ(X,Y)を一つずつ回し、像の動きを止める又は最小の動きになるように合わせる。アパーチャダイアログを閉じ、オートフォーカスで、ピントを合わせる。その後、倍率を50,000(50k)倍に設定し、上記と同様にフォーカスつまみ、STIGMA/ALIGNMENTつまみを使用して焦点調整を行い、再度オートフォーカスでピントを合わせる。この操作を再度繰り返し、ピントを合わせる。ここで、観察面の傾斜角度が大きいと被覆率の測定精度が低くなりやすいので、ピント調整の際に観察面全体のピントが同時に合うものを選ぶことで、表面の傾斜が極力無いものを選択して解析する。 Rotate the focus knob [COARSE] on the operation panel, and adjust the aperture alignment when the focus is achieved to some extent. Click [Align] in the control panel to display the alignment dialog and select [Beam]. Rotate the STIGMA/ALIGNMENT knobs (X, Y) on the operation panel to move the displayed beam to the center of the concentric circle. Next, select [Aperture] and turn the STIGMA/ALIGNMENT knobs (X, Y) one by one to stop or minimize the movement of the image. Close the aperture dialog and focus with autofocus. After that, the magnification is set to 50,000 (50k) times, the focus is adjusted using the focus knob and the STIGMA/ALIGNMENT knob in the same manner as above, and the focus is adjusted by autofocus again. Repeat this operation again to adjust the focus. Here, if the tilt angle of the observation surface is large, the coverage rate measurement accuracy tends to be low. and analyze.

(5)画像保存
ABCモードで明るさ合わせを行い、サイズ640×480ピクセルで写真撮影して保存する。この画像ファイルを用いて下記の解析を行う。トナー一つに対して写真を1枚撮影し、トナー25粒子について画像を得る。
(5) Save image Adjust the brightness in ABC mode, take a picture with a size of 640×480 pixels, and save it. The following analysis is performed using this image file. One photograph is taken for one toner, and an image is obtained for 25 particles of toner.

(6)画像解析
下記解析ソフトを用いて、上述した手法で得た画像を2値化処理することで被覆率を算出する。このとき、上記一画面を正方形で12分割してそれぞれ解析する。
(6) Image Analysis Using the following analysis software, the coverage is calculated by binarizing the image obtained by the above method. At this time, the one screen is divided into 12 squares and each of them is analyzed.

画像解析ソフトImage-Pro Plus ver.5.0の解析条件は以下のとおりである。ただし、分割区画内に、粒径が30nm未満、及び、300nmを超える有機ケイ素重合体微粒子(有機ケイ素重合体微粒子の被覆率を測定する場合)、100nm未満、及び、300nmを超えるシリカ微粒子(シリカ微粒子の被覆率を測定する場合)が入る場合はその区画では被覆率の算出を行わないこととする。
ソフトImage-ProPlus5.1J
Image analysis software Image-Pro Plus ver. 5.0 analysis conditions are as follows. However, in the divided section, there are organosilicon polymer fine particles with a particle size of less than 30 nm and over 300 nm (when measuring the coverage of the organosilicon polymer fine particles), silica fine particles with a particle size of less than 100 nm and over 300 nm (silica When measuring the coverage rate of fine particles), the calculation of the coverage rate is not performed in that section.
Software Image-ProPlus5.1J

ツールバーの「測定」から「カウント/サイズ」、「オプション」の順に選択し、二値化条件を設定する。オブジェト抽出オプションの中で8連結を選択し、平滑化を0とする。その他、予め選別、穴を埋める、包括線は選択せず、「境界線を除外」は「なし」とする。ツールバーの「測定」から「測定項目」を選択し、面積の選別レンジに2~107と入力する。 Select "Measurement" from the toolbar, then "Count/Size" and then "Options" to set the binarization conditions. Select 8-connected among the object extraction options and set the smoothing to 0. In addition, preselect, fill holes, do not select comprehensive lines, and set "exclude border" to "none". Select "measurement item" from "measurement" on the toolbar, and enter 2 to 107 in the area sorting range.

被覆率の計算は、正方形の領域を囲って行う。このとき、領域の面積(C)は24,000~26,000ピクセルになるようにする。「処理」-2値化で自動2値化し、有機ケイ素重合体微粒子又はシリカ微粒子の無い領域の面積の総和(D)を算出する。 The calculation of coverage is performed by enclosing a square area. At this time, the area (C) of the region is set to 24,000 to 26,000 pixels. "Treatment"-binarization automatically binarizes, and the total area (D) of the regions without organosilicon polymer fine particles or silica fine particles is calculated.

正方形の領域の面積C、有機ケイ素重合体微粒子又はシリカ微粒子の無い領域の面積の総和Dから下記式で被覆率が求められる。
被覆率(%)=100-(D/C×100)
From the area C of the square regions and the total area D of the regions without the organosilicon polymer fine particles or silica fine particles, the coverage is obtained by the following formula.
Coverage (%) = 100 - (D/C x 100)

得られた全データの算術平均値を被覆率とする。 The arithmetic average value of all data obtained is taken as the coverage.

そして、水洗前トナーと水洗後トナーの、それぞれの被覆率を算出し、
〔水洗後トナーの被覆率〕/〔水洗前トナーの被覆率〕×100を、本発明の「固着率」とする。
Then, the coverage ratios of the toner before washing and the toner after washing are calculated,
[Toner coverage after washing with water]/[Toner coverage before washing with water]×100 is defined as the “fixing rate” of the present invention.

本発明の「移行量」は、(1-「固着率」)×微粒子含有量で求められる。 The "migration amount" of the present invention is obtained by (1-"adhesion rate") x fine particle content.

移行した有機ケイ素重合体粒子の粒径Daまたはシリカ粒子の粒径Dbは、回収した粒子について前記一次粒子の個数平均粒径の測定方法と同様にして測定する。 The particle size Da of the migrated organosilicon polymer particles or the particle size Db of the silica particles is measured for the recovered particles in the same manner as the number average particle size of the primary particles.

<静電荷像担持体表面のヤング率>
表面皮膜物性試験(フィッシャーインストルメンツ製、フィッシャースコープH100V)で表面皮膜物性試験を行い、静電荷像担持体表面のヤング率Edを求めた。
<Young's Modulus of Surface of Electrostatic Charge Image Bearing Member>
A surface film physical property test (Fischer Scope H100V, manufactured by Fischer Instruments) was performed to determine the Young's modulus Ed of the surface of the electrostatic charge image bearing member.

このときの測定条件は、最大押し込み深さ1μm、深さ方向測定点は60点とし、一定環境(室温23℃、湿度50%RH)で測定を行った。表面皮膜物性試験におけるヤング率Eの測定においては、形状が四角錐で対面角度が136°に規定されているダイヤモンド圧子11を使用し、感光ドラム9の表面に設定荷重を段階的にかけて特定の深さまで皮膜に押し込んだ後、逆に引き抜いていったときの荷重をかけた状態での押し込み深さを電気的に検出して読み取る。 The measurement conditions at this time were a maximum indentation depth of 1 μm, 60 measurement points in the depth direction, and the measurement was performed in a constant environment (room temperature 23° C., humidity 50% RH). In the measurement of the Young's modulus E in the surface film physical property test, a diamond indenter 11 having a square pyramid shape and a facing angle defined to be 136° is used, and a set load is applied stepwise to the surface of the photosensitive drum 9 to a specific depth. After it is pushed into the film up to the point where it is pulled out, the depth of pushing in with a load applied is electrically detected and read.

<有機ケイ素重合体粒子及びシリカ粒子のヤング率の測定方法>
有機ケイ素重合体粒子のヤング率Ea,シリカ粒子のヤング率Ebは、ハイジトロンPI 85L ピコインデンター(BRUKER社製)を使用した微小圧縮試験から求められる。
<Method for Measuring Young's Modulus of Organosilicon Polymer Particles and Silica Particles>
The Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles and the Young's modulus Eb of the silica particles are obtained from a microcompression test using a Hygitron PI 85L picodenter (manufactured by BRUKER).

測定で得られる変位(nm)と試験力(μN)のプロファイル(荷重変位曲線)の傾きからヤング率(MPa)を算出する。
・機器・治具
ベースシステム:Hysitron PI-85L
測定圧子:1μmフラットエンド圧子
使用SEM:Thermo Fisher Versa 3D
SEM条件:-10°tilt, 13pA at 10keV
・測定条件
測定モード:変位制御
最大変位:30nm
変位速度:1nm/秒
保持時間:2秒
除荷速度:5nm/秒
・解析方法
得られた荷重変位曲線における0nm~10nm圧縮した際の曲線に対して Hertz解析を適応し、微粒子のヤング率を算出する。
・サンプル調整
シリコンウエハー上に微粒子を付着させたもの。
Young's modulus (MPa) is calculated from the slope of the profile (load-displacement curve) of displacement (nm) and test force (μN) obtained by measurement.
・Equipment/jig base system: Hysitron PI-85L
Measurement indenter: 1 μm flat end indenter used SEM: Thermo Fisher Versa 3D
SEM conditions: -10° tilt, 13 pA at 10 keV
・Measurement conditions Measurement mode: Displacement control Maximum displacement: 30 nm
Displacement rate: 1 nm/sec Retention time: 2 sec Unloading rate: 5 nm/sec ・Analysis method Hertz analysis was applied to the obtained load-displacement curve when compressed from 0 nm to 10 nm, and the Young's modulus of the fine particles was calculated. calculate.
・Sample preparation A silicon wafer on which fine particles are adhered.

<トナー用外添剤粒子の疎水化度の測定方法>
本発明のトナー用外添剤粒子の疎水化度は、メタノール滴定法によって算出する。具体的には、以下の手順で測定される。RO水50ml中にトナー用外添剤粒子を0.5g添加した混合液中にて、トナー用外添剤粒子の全量が湿潤されるまで、混合液を撹拌しながら、ビュレットからメタノールを滴下する。なお、全量が湿潤したかどうかは、水面上に浮遊していたトナー用外添剤粒子が全て液中に没して、液体中に懸濁されたか否かにより判断される。この際、滴下終了時点での混合液と滴下したメタノールとの総量に対するメタノールの百分率の値を疎水化度とする。疎水化度の値が高いほど疎水性が高いことを示す。
<Method for Measuring Hydrophobicity of External Additive Particles for Toner>
The degree of hydrophobicity of the external additive particles for toner of the present invention is calculated by a methanol titration method. Specifically, it is measured by the following procedure. 0.5 g of external toner additive particles are added to 50 ml of RO water, and methanol is added dropwise from a burette while stirring the mixed liquid until the entire amount of the external additive particles for toner is wetted. . Whether or not the entire amount has been wetted is determined by whether or not all the toner external additive particles floating on the surface of the water are submerged in the liquid and suspended in the liquid. At this time, the percentage value of methanol with respect to the total amount of the mixed liquid and the dropped methanol at the end of dropping is defined as the degree of hydrophobicity. Higher hydrophobicity values indicate higher hydrophobicity.

<微粒子のBET比表面積の測定>
BET比表面積Sは、BET法(好ましくはBET多点法)に従って、動的定圧法による低温ガス吸着法により求めることができる。例えば、比表面積測定装置(商品名:ジェミニ2375 Ver.5.0、(株)島津製作所製)を用いて、試料表面に窒素ガスを吸着させ、BET多点法を用いて測定することにより、BET比表面積Y(m2/g)を算出することができる。
<Measurement of BET specific surface area of fine particles>
The BET specific surface area S can be determined by a low temperature gas adsorption method using a dynamic constant pressure method according to the BET method (preferably the BET multipoint method). For example, using a specific surface area measuring device (trade name: Gemini 2375 Ver.5.0, manufactured by Shimadzu Corporation), nitrogen gas is adsorbed on the surface of the sample, and the BET multipoint method is used for measurement. BET specific surface area Y (m 2 /g) can be calculated.

また、理論BET比表面積X(m2/g)は、微粒子を真球と仮定して下記式により算出する。
理論BET比表面積X=(4×π×個数平均粒径2)/(4/3×π×個数平均粒径A3/密度)×1000
The theoretical BET specific surface area X (m 2 /g) is calculated by the following formula, assuming that the fine particles are spherical.
Theoretical BET specific surface area X=(4×π×number average particle diameter 2 )/(4/3×π×number average particle diameter A 3 /density)×1000

算出に必要な密度(cm3/g)の値には、乾式密度計アキュピック1330(島津製作所製)を用いて測定される真密度の値を用いる。 As the value of density (cm 3 /g) required for calculation, the value of true density measured using a dry density meter Accupic 1330 (manufactured by Shimadzu Corporation) is used.

<トナー粒子の重量平均粒径(D4)、粒径分布の測定方法>
トナー粒子の重量平均粒径(D4)は、100μmのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター Multisizer 3」(登録商標、ベックマン・コールター社製)と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター Multisizer 3 Version3.51」(ベックマン・コールター社製)を用いて、実効測定チャンネル数2万5千チャンネルで測定し、測定データの解析を行い、算出する。
<Method for Measuring Weight Average Particle Diameter (D4) of Toner Particles and Particle Size Distribution>
The weight-average particle diameter (D4) of the toner particles was measured using a precision particle size distribution measuring device "Coulter Counter Multisizer 3" (registered trademark, manufactured by Beckman Coulter, Inc.) using a pore electrical resistance method equipped with a 100 μm aperture tube. Using the attached dedicated software "Beckman Coulter Multisizer 3 Version 3.51" (manufactured by Beckman Coulter) for setting conditions and analyzing measurement data, the number of effective measurement channels is 25,000. is analyzed and calculated.

測定に使用する電解水溶液は、特級塩化ナトリウムをイオン交換水に溶解して濃度が約1質量%となるようにしたもの、例えば、「ISOTON II」(ベックマン・コールター社製)が使用できる。 As the electrolytic aqueous solution used for measurement, a solution obtained by dissolving special grade sodium chloride in ion-exchanged water to a concentration of about 1% by mass, for example, "ISOTON II" (manufactured by Beckman Coulter, Inc.) can be used.

尚、測定、解析を行う前に、以下のように前記専用ソフトの設定を行う。 Before performing measurement and analysis, the dedicated software is set as follows.

前記専用ソフトの「標準測定方法(SOM)を変更画面」において、コントロールモードの総カウント数を50000粒子に設定し、測定回数を1回、Kd値は「標準粒子10.0μm」(ベックマン・コールター社製)を用いて得られた値を設定する。閾値/ノイズレベルの測定ボタンを押すことで、閾値とノイズレベルを自動設定する。また、カレントを1600μAに、ゲインを2に、電解液をISOTON IIに設定し、測定後のアパーチャーチューブのフラッシュにチェックを入れる。 In the "change standard measurement method (SOM) screen" of the dedicated software, set the total count number in control mode to 50000 particles, set the number of measurements to 1, and set the Kd value to "standard particle 10.0 μm" (Beckman Coulter (manufactured by Co., Ltd.) is used to set the value obtained. By pressing the threshold/noise level measurement button, the threshold and noise level are automatically set. Also, set the current to 1600 μA, the gain to 2, the electrolyte to ISOTON II, and check the flash of aperture tube after measurement.

専用ソフトの「パルスから粒径への変換設定画面」において、ビン間隔を対数粒径に、粒径ビンを256粒径ビンに、粒径範囲を2μm以上60μm以下に設定する。 In the "pulse-to-particle size conversion setting screen" of the dedicated software, set the bin interval to logarithmic particle size, the particle size bin to 256 particle size bins, and the particle size range to 2 μm or more and 60 μm or less.

具体的な測定法は以下の通りである。
(1)Multisizer 3専用のガラス製250ml丸底ビーカーに前記電解水溶液約200mlを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで24回転/秒にて行う。そして、専用ソフトの「アパーチャーチューブのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去しておく。
(2)ガラス製の100ml平底ビーカーに前記電解水溶液約30mlを入れ、この中に分散剤として「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)をイオン交換水で3質量倍に希釈した希釈液を約0.3ml加える。
(3)発振周波数50kHzの発振器2個を、位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力120Wの超音波分散器「Ultrasonic Dispersion System Tetora150」(日科機バイオス社製)の水槽内に所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2ml添加する。
(4)前記(2)のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
(5)前記(4)のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約10mgを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。なお、超音波分散にあたっては、水槽の水温が10℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
(6)サンプルスタンド内に設置した前記(1)の丸底ビーカーに、ピペットを用いてトナーを分散した前記(5)の電解水溶液を滴下し、測定濃度が約5%となるように調整する。そして、測定粒子数が50000個になるまで測定を行う。
(7)測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行い、重量平均粒径(D4)を算出する。なお、専用ソフトでグラフ/体積%と設定したときの、分析/体積統計値(算術平均)画面の「平均径」が重量平均粒径(D4)である。
A specific measuring method is as follows.
(1) About 200 ml of the electrolytic aqueous solution is placed in a 250 ml round-bottom glass beaker exclusively for Multisizer 3, set on a sample stand, and stirred with a stirrer rod counterclockwise at 24 rotations/second. Then, remove the dirt and air bubbles inside the aperture tube using the dedicated software's "Flush Aperture Tube" function.
(2) About 30 ml of the electrolytic aqueous solution is placed in a 100 ml flat-bottomed glass beaker, and "Contaminon N" (a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and an organic builder consisting of an organic builder) is used as a dispersing agent in the beaker. About 0.3 ml of a diluent obtained by diluting a 10% by mass aqueous solution of a neutral detergent for washing ware (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with ion-exchanged water three times by mass is added.
(3) Two oscillators with an oscillation frequency of 50 kHz are built in with a phase shift of 180 degrees, and an ultrasonic disperser with an electrical output of 120 W "Ultrasonic Dispersion System Tetora 150" (manufactured by Nikkaki Bios) in a water tank. A predetermined amount of ion-exchanged water is put into the water tank, and about 2 ml of the contaminon N is added to the water tank.
(4) The beaker of (2) is set in the beaker fixing hole of the ultrasonic disperser, and the ultrasonic disperser is operated. Then, the height position of the beaker is adjusted so that the resonance state of the liquid level of the electrolytic aqueous solution in the beaker is maximized.
(5) While the electrolytic aqueous solution in the beaker in (4) above is being irradiated with ultrasonic waves, about 10 mg of toner is added little by little to the electrolytic aqueous solution and dispersed. Then, the ultrasonic dispersion treatment is continued for another 60 seconds. In the ultrasonic dispersion, the temperature of the water in the water tank is appropriately adjusted to 10°C or higher and 40°C or lower.
(6) The electrolytic aqueous solution of (5), in which toner is dispersed, is dripped into the round-bottom beaker of (1) set in the sample stand using a pipette, and the measured concentration is adjusted to about 5%. . The measurement is continued until the number of measured particles reaches 50,000.
(7) Analyze the measurement data with the dedicated software attached to the apparatus, and calculate the weight average particle size (D4). The weight average particle diameter (D4) is the "average diameter" on the analysis/volume statistics (arithmetic mean) screen when graph/vol% is set using dedicated software.

本発明を以下に示す実施例により具体的に説明する。しかし、これらは本発明をなんら限定するものではない。以下の処方の「部」は特に断りがない場合、全て質量基準である。 The present invention will be specifically described by way of examples shown below. However, these do not limit the present invention at all. Unless otherwise specified, "parts" in the following prescriptions are all based on mass.

<有機ケイ素重合体粒子1の製造例>
1.加水分解工程
200mlビーカーに、RO水43.0g、触媒として酢酸0.008gを仕込み、45℃で撹拌した。ここにシランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを52.0g加えて1.5時間撹拌し、原料溶液を得た。
<Production example of organosilicon polymer particles 1>
1. Hydrolysis Step A 200 ml beaker was charged with 43.0 g of RO water and 0.008 g of acetic acid as a catalyst, and stirred at 45°C. 52.0 g of trimethoxymethylsilane was added as a silane monomer and stirred for 1.5 hours to obtain a raw material solution.

2.縮重合工程
1000mlビーカーに、RO水70.0g、メタノール340.0g、25%アンモニア水2.0gを投入して30℃で撹拌し、アルカリ性水系媒体を調製した。このアルカリ性水系媒体に、上記加水分解工程で得た原料溶液を1分間かけて滴下した。この原料溶液を滴下後の混合液をそのまま30℃に保ったまま1.5時間撹拌して、重縮合反応を進行させ重縮合反応液を得た。
2. Condensation Polymerization Step 70.0 g of RO water, 340.0 g of methanol and 2.0 g of 25% aqueous ammonia were placed in a 1000 ml beaker and stirred at 30° C. to prepare an alkaline aqueous medium. The raw material solution obtained in the hydrolysis step was added dropwise to this alkaline aqueous medium over a period of 1 minute. The mixed solution after dropping the raw material solution was stirred for 1.5 hours while being kept at 30° C. to proceed the polycondensation reaction and obtain a polycondensation reaction solution.

3.粒子化工程
2000mlビーカーにRO水700gを投入し、これを25℃で撹拌しながら上記縮重合工程で得た重縮合反応液を10分間かけて滴下した。この混合液を40℃に昇温し、そのまま40℃に保ったまま1.0時間撹拌してシロキサン結合を有するケイ素重合体粒子を含む分散液を得た。
3. Particulation Step 700 g of RO water was put into a 2000 ml beaker, and the polycondensation reaction liquid obtained in the condensation polymerization step was added dropwise over 10 minutes while stirring at 25°C. The mixture was heated to 40° C. and stirred for 1.0 hour while maintaining the temperature at 40° C. to obtain a dispersion containing silicon polymer particles having siloxane bonds.

4.疎水化工程
上記粒子化工程で得たシロキサン結合を有するケイ素重合体粒子を含む分散液に、疎水化剤としてヘキサメチルジシラザン23gを添加して、60℃で2.5時間撹拌した。5分静置して溶液下部に沈殿した粉体を吸引濾過で回収し、120℃で24時間減圧乾燥してトナー用外添剤粒子1を得た。
4. Hydrophobization Step To the dispersion containing silicon polymer particles having siloxane bonds obtained in the above particle formation step, 23 g of hexamethyldisilazane was added as a hydrophobizing agent, and the mixture was stirred at 60° C. for 2.5 hours. After allowing to stand for 5 minutes, the powder precipitated at the bottom of the solution was collected by suction filtration and dried under reduced pressure at 120° C. for 24 hours to obtain external additive particles 1 for toner.

得られたトナー用外添剤粒子1のSEMより測定される一次粒子の個数平均粒径は105nmであった。有機ケイ素重合体粒子1の物性を表1に示す。 The number average particle diameter of the primary particles of the obtained external additive particles 1 for toner measured by SEM was 105 nm. Table 1 shows the physical properties of the organosilicon polymer particles 1.

<有機ケイ素重合体粒子2の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを28.0g、テトラエトキシシランを24.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子2を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 2>
Organosilicon polymer particles 2 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 28.0 g of trimethoxymethylsilane and 24.0 g of tetraethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子3の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを30.0g、テトラエトキシシランを22.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子3を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 3>
Organosilicon polymer particles 3 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 30.0 g of trimethoxymethylsilane and 22.0 g of tetraethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子4の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを42.0g、テトラエトキシシランを10.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子4を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 4>
Organosilicon polymer particles 4 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 42.0 g of trimethoxymethylsilane and 10.0 g of tetraethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子5の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを48.0g、テトラエトキシシランを4.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子5を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 5>
Organosilicon polymer particles 5 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 48.0 g of trimethoxymethylsilane and 4.0 g of tetraethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子6の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてテトラメトキシメチルシランを26.0g、ジメチルジメトキシシランを28.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子6を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 6>
Organosilicon polymer particles 6 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 26.0 g of tetramethoxymethylsilane and 28.0 g of dimethyldimethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子7の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを44.0g、ジメチルジメトキシシランを8.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子7を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 7>
Organosilicon polymer particles 7 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 44.0 g of trimethoxymethylsilane and 8.0 g of dimethyldimethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子8の製造例>
加水分解工程において、シランモノマーとしてトリメトキシメチルシランを48.0g、ジメチルジメトキシシランを4.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子8を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 8>
Organosilicon polymer particles 8 were prepared in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that 48.0 g of trimethoxymethylsilane and 4.0 g of dimethyldimethoxysilane were used as silane monomers in the hydrolysis step. Obtained. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子9の製造例>
縮重合工程において、原料溶液を滴下後の混合液の撹拌温度を35℃に変更し、粒子化工程において、撹拌温度を45℃に変更した以外は有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子9を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 9>
In the polycondensation step, the stirring temperature of the mixed solution after dropping the raw material solution was changed to 35°C, and in the particle formation step, the same procedure as in the production example of organosilicon polymer particles 1 was carried out, except that the stirring temperature was changed to 45°C. to obtain organosilicon polymer particles 9. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子10の製造例>
縮重合工程において、原料溶液を滴下後の混合液の撹拌温度を35℃に変更した以外は有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子9を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 10>
Organosilicon polymer particles 9 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that in the polycondensation step, the stirring temperature of the mixture after dropping the raw material solution was changed to 35°C. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子11の製造例>
縮重合工程において、原料溶液を滴下後の混合液の撹拌温度を25℃に変更し、粒子化工程において、撹拌温度を30℃に変更した以外は有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子11を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 11>
In the polycondensation step, the stirring temperature of the mixed solution after dropping the raw material solution was changed to 25°C, and in the particle formation step, the same procedure as in the production example of organosilicon polymer particles 1 was carried out, except that the stirring temperature was changed to 30°C. to obtain organosilicon polymer particles 11. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子12の製造例>
縮重合工程において、原料溶液を滴下後の混合液の撹拌温度を20℃に変更し、粒子化工程において、撹拌温度を25℃に変更した以外は有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子12を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 12>
In the polycondensation step, the stirring temperature of the mixed solution after dropping the raw material solution was changed to 20°C, and in the particle formation step, the same procedure as in the production example of organosilicon polymer particles 1 was performed except that the stirring temperature was changed to 25°C. to obtain organosilicon polymer particles 12. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子13の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を1.0gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子13を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 13>
Organosilicon polymer particles 13 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 1.0 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子14の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を1.4gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子14を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 14>
Organosilicon polymer particles 14 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 1.4 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子15の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を1.7gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子15を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 15>
Organosilicon polymer particles 15 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 1.7 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子16の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を2.5gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子16を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 16>
Organosilicon polymer particles 16 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 2.5 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子17の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を2.8gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子17を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 17>
Organosilicon polymer particles 17 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 2.8 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子18の製造例>
縮重合工程において、28%アンモニア水の添加量を3.2gに変更した以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子18を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production example of organosilicon polymer particles 18>
Organosilicon polymer particles 18 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1 except that the amount of 28% aqueous ammonia added was changed to 3.2 g in the polycondensation step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

<有機ケイ素重合体粒子19の製造例>
疎水化工程において、ヘキサメチルジシラザンを添加しなかったこと以外は、有機ケイ素重合体粒子1の製造例と同様にして有機ケイ素重合体粒子19を得た。得られた粒子の物性を表1に示す。
<Production Example of Organosilicon Polymer Particles 19>
Organosilicon polymer particles 19 were obtained in the same manner as in the production example of organosilicon polymer particles 1, except that hexamethyldisilazane was not added in the hydrophobizing step. Table 1 shows the physical properties of the obtained particles.

Figure 2023072114000005
Figure 2023072114000005

<シリカ粒子1の製造例>
酸素ガスをバーナーに供給し、着火用バーナーに点火した後、水素ガスをバーナーに供給して火炎を形成し、これに原料である四塩化ケイ素を投入しガス化させることでシリカ微粒子を得た。得られたシリカ微粒子を電気炉に移し、薄層状に敷きつめた後、900℃で加熱処理を施し焼結させた。その後、疎水化処理として、ヘキサメチルジシラザンによって表面処理を行うことにより、シリカ粒子1を得た。物性を表2に示す。
<Production example of silica particles 1>
After oxygen gas was supplied to the burner and the ignition burner was ignited, hydrogen gas was supplied to the burner to form a flame, and silicon tetrachloride as a raw material was added to the flame and gasified to obtain fine silica particles. . The obtained silica fine particles were transferred to an electric furnace, spread in a thin layer, and then heat-treated at 900° C. for sintering. Thereafter, silica particles 1 were obtained by surface-treating with hexamethyldisilazane as a hydrophobizing treatment. Physical properties are shown in Table 2.

<シリカ粒子2~7の製造例>
シリカ粒子1の製造例において四塩化ケイ素量、酸素ガス量、水素ガス量、シリカ濃度、滞留時間、焼結条件、表面処理剤を調整しシリカ粒子2~7を得た。物性を表2に示す。
<Production Examples of Silica Particles 2 to 7>
Silica particles 2 to 7 were obtained by adjusting the amount of silicon tetrachloride, the amount of oxygen gas, the amount of hydrogen gas, the silica concentration, the residence time, the sintering conditions, and the surface treatment agent in the production example of silica particles 1. Physical properties are shown in Table 2.

Figure 2023072114000006
Figure 2023072114000006

<ポリエステル樹脂A1の製造例>
・ポリオキシプロピレン(2.2)-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン76.9部(0.167モル)
・テレフタル酸(TPA) 25.0部(0.145モル)
・アジピン酸 8.0部(0.054モル)
・チタンテトラブトキシド 0.5部
上記材料をガラス製4リットルの4つ口フラスコに入れ、温度計、撹拌棒、コンデンサー及び窒素導入管を取りつけマントルヒーター内においた。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、4時間反応させた。その後、無水トリメリット酸(TMA)1.2部(0.006モル)を添加し、180℃で1時間反応させ、ポリエステル樹脂A1を得た。このポリエステル樹脂A1の軟化点は90℃であった。
<Production example of polyester resin A1>
· Polyoxypropylene (2.2)-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane 76.9 parts (0.167 mol)
- Terephthalic acid (TPA) 25.0 parts (0.145 mol)
- Adipic acid 8.0 parts (0.054 mol)
- Titanium tetrabutoxide 0.5 parts The above materials were placed in a 4-liter glass flask with four necks, equipped with a thermometer, a stirring bar, a condenser and a nitrogen inlet tube, and placed in a mantle heater. Next, after the inside of the flask was replaced with nitrogen gas, the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was carried out for 4 hours while stirring at a temperature of 200°C. Then, 1.2 parts (0.006 mol) of trimellitic anhydride (TMA) was added and reacted at 180° C. for 1 hour to obtain polyester resin A1. The softening point of this polyester resin A1 was 90°C.

<ポリエステル樹脂A2の製造例>
・ポリオキシプロピレン(2.2)-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン71.3部(0.155モル)
・テレフタル酸 24.1部(0.145モル)
・チタンテトラブトキシド 0.6部
上記材料をガラス製4リットルの4つ口フラスコに入れ、温度計、撹拌棒、コンデンサー及び窒素導入管を取りつけマントルヒーター内においた。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、2時間反応させた。その後、無水トリメリット酸5.8部(0.030モル%)を添加し、180℃で10時間反応させ、ポリエステル樹脂A2を得た。このポリエステル樹脂A2の軟化点は130℃であった。
<Production example of polyester resin A2>
· Polyoxypropylene (2.2)-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane 71.3 parts (0.155 mol)
- Terephthalic acid 24.1 parts (0.145 mol)
- Titanium tetrabutoxide 0.6 part The above materials were placed in a 4-liter four-necked glass flask, equipped with a thermometer, a stirring bar, a condenser and a nitrogen inlet tube, and placed in a mantle heater. Next, after the inside of the flask was replaced with nitrogen gas, the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was carried out for 2 hours while stirring at a temperature of 200°C. Then, 5.8 parts (0.030 mol %) of trimellitic anhydride was added and reacted at 180° C. for 10 hours to obtain polyester resin A2. The softening point of this polyester resin A2 was 130°C.

<トナー粒子1の製造例>
・ポリエステル樹脂A1 70.0部
・ポリエステル樹脂A2 30.0部
・フィッシャートロプシュワックス(最大吸熱ピークのピーク温度78℃)5.0部
・C.I.ピグメントブルー15:3 5.0部
・1-ナフトール4-スルホン酸ベンジルトリブチルアンモニウム塩 0.5部
上記処方で示した原材料をヘンシェルミキサー(FM-75型、日本コークス工業(株)製)を用いて、回転数20s-1、回転時間5分で混合した後、温度125℃、回転数300rpmに設定した二軸混練機(PCM-30型、(株)池貝製)にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて直径1mm以下に粗粉砕し、粗砕物を得た。得られた粗砕物を、機械式粉砕機(T-250、フロイント・ターボ(株)製)にて微粉砕した。さらに回転型分級機(200TSP、ホソカワミクロン(株)製)を用い、分級を行い、トナー粒子1を得た。回転型分級機(200TSP、ホソカワミクロン(株)製)の運転条件は、分級ローター回転数を50.0s-1で分級を行った。得られたトナー粒子1は、重量平均粒径(D4)が6.2μmであった。
<Production Example of Toner Particle 1>
- 70.0 parts of polyester resin A1 - 30.0 parts of polyester resin A2 - 5.0 parts of Fischer-Tropsch wax (maximum endothermic peak temperature of 78°C) - C.I. I. Pigment Blue 15: 3 5.0 parts 1-naphthol 4-sulfonic acid benzyltributyl ammonium salt 0.5 parts The raw materials shown in the above formulation were used in a Henschel mixer (FM-75 type, manufactured by Nippon Coke Industry Co., Ltd.). After mixing at a rotation speed of 20 s -1 for a rotation time of 5 minutes, the mixture was kneaded with a twin-screw kneader (PCM-30 type, manufactured by Ikegai Co., Ltd.) set at a temperature of 125° C. and a rotation speed of 300 rpm. The resulting kneaded product was cooled and coarsely pulverized with a hammer mill to a diameter of 1 mm or less to obtain a coarsely pulverized product. The coarsely crushed material obtained was finely pulverized with a mechanical pulverizer (T-250, manufactured by Freund Turbo Co., Ltd.). Further, classification was performed using a rotary classifier (200 TSP, manufactured by Hosokawa Micron Corporation), and toner particles 1 were obtained. As for the operating conditions of a rotary classifier (200 TSP, manufactured by Hosokawa Micron Corporation), classification was performed at a classification rotor speed of 50.0 s -1 . The obtained toner particles 1 had a weight average particle size (D4) of 6.2 μm.

<トナー1の製造例>
・トナー粒子1 96.5部
・有機ケイ素重合体粒子1 1.5部
・シリカ粒子1 2.0部
・チタニア粒子1(一次粒子の個数平均径が30nm;アンチモンドープ酸化スズで表面コートされたもの) 0.5部
上記の材料をヘンシェルミキサーFM-10C型(三井三池化工機製)に投入した。そののち回転数65s-1、回転時間1分間で混合したのち1分間放置する工程を1サイクルとし、そのサイクルを計10回実施し、トナー1を得た。トナー1の物性を表4に示す。
<Production Example of Toner 1>
・Toner particles 1 96.5 parts ・Organosilicon polymer particles 1 1.5 parts ・Silica particles 1 2.0 parts ・Titania particles 1 (the number average diameter of the primary particles is 30 nm; the surface is coated with antimony-doped tin oxide Material) 0.5 parts The above materials were charged into a Henschel mixer FM-10C (manufactured by Mitsui Miike Kakoki Co., Ltd.). After that, a step of mixing at a rotation speed of 65 s −1 and a rotation time of 1 minute and then standing for 1 minute was defined as one cycle. Table 4 shows the physical properties of Toner 1.

<トナー2~36の製造例>
トナー1の製造例において、トナー粒子、有機ケイ素重合体粒子、シリカ粒子、チタニア粒子の種類、添加量及び外添条件を表3に記載のものに変更したこと以外は同様にして製造を行い、トナー2~36を得た。それぞれのトナーの物性を表4に示す。
<Manufacturing Examples of Toners 2 to 36>
Toner 1 was produced in the same manner as in Production Example of Toner 1, except that the types of toner particles, organosilicon polymer particles, silica particles, and titania particles, addition amounts, and external addition conditions were changed to those shown in Table 3. Toners 2-36 were obtained. Table 4 shows the physical properties of each toner.

Figure 2023072114000007
Figure 2023072114000007

Figure 2023072114000008
Figure 2023072114000008

<磁性キャリアコア粒子の製造例>
・Fe23 62.7部
・MnCO3 29.5部
・Mg(OH)2 6.8部
・SrCO3 1.0部
上記材料を上記組成比となるようにフェライト原材料を秤量した。
<Production example of magnetic carrier core particles>
62.7 parts of Fe 2 O 3 29.5 parts of MnCO 3 6.8 parts of Mg(OH) 2 1.0 part of SrCO 3 Ferrite raw materials were weighed so as to obtain the above composition ratio.

その後、ステンレスビーズを用いた乾式振動ミルで5時間粉砕及び混合した。得られた粉砕物をローラーコンパクターにて、約1mm角のペレットにした。 After that, it was pulverized and mixed for 5 hours in a dry vibration mill using stainless steel beads. The pulverized material thus obtained was made into pellets of about 1 mm square by a roller compactor.

このペレットを目開き3mmの振動篩にて粗粉を除去し、次いで目開き0.5mmの振動篩にて微粉を除去した後、バーナー式焼成炉を用いて、窒素雰囲気下(酸素濃度0.01体積%)、温度1000℃で4時間焼成し、仮焼フェライトを作製した。 Coarse powder was removed from the pellets with a vibrating sieve with an opening of 3 mm, and then fine powder was removed with a vibrating sieve with an opening of 0.5 mm. 01% by volume) and fired at a temperature of 1000° C. for 4 hours to prepare a calcined ferrite.

前記仮焼フェライトをクラッシャーで0.3mm程度に粉砕した後に、ジルコニアビーズを用い、仮焼フェライト100部に対し、水を30部加え、湿式ボールミルで1時間粉砕した。さらに、得られたスラリーを、湿式ボールミルで4時間粉砕し、フェライトスラリー(仮焼フェライトの微粉砕品)を得た。 After crushing the calcined ferrite to about 0.3 mm with a crusher, 30 parts of water was added to 100 parts of calcined ferrite using zirconia beads, and the mixture was crushed with a wet ball mill for 1 hour. Further, the resulting slurry was pulverized in a wet ball mill for 4 hours to obtain a ferrite slurry (finely pulverized calcined ferrite).

前記フェライトスラリーに、仮焼フェライト100部に対して、分散剤としてのポリカルボン酸アンモニウム1.0部、及び、バインダーとしてのポリビニルアルコール2.0部を添加し、スプレードライヤー(製造元:大川原化工機)で、球状粒子に造粒した。得られた粒子の粒度を調整した後、ロータリーキルンを用いて、650℃で2時間加熱し、分散剤やバインダーの有機成分を除去した。 To the ferrite slurry, 1.0 parts of ammonium polycarboxylate as a dispersant and 2.0 parts of polyvinyl alcohol as a binder are added to 100 parts of calcined ferrite, and a spray dryer (manufacturer: Okawara Kakoki ) to granulate into spherical particles. After adjusting the particle size of the obtained particles, they were heated at 650° C. for 2 hours using a rotary kiln to remove the organic components of the dispersant and binder.

焼成雰囲気をコントロールするために、電気炉にて窒素雰囲気下(酸素濃度1.00体積%)で、室温から温度1300℃まで2時間で昇温し、その後、温度1150℃で4時間焼成した。その後、4時間をかけて、温度60℃まで降温し、窒素雰囲気から大気に戻し、温度40℃以下で取り出した。 In order to control the sintering atmosphere, the temperature was raised from room temperature to 1300° C. in 2 hours in an electric furnace under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 1.00% by volume), and then sintered at 1150° C. for 4 hours. After that, the temperature was lowered to 60° C. over 4 hours, the nitrogen atmosphere was returned to the air, and the temperature was 40° C. or less and taken out.

凝集した粒子を解砕した後に、磁力選鉱により低磁力品をカットし、目開き250μmの篩で篩分して粗大粒子を除去し、体積基準の50%粒径(D50)が37.0μmの磁性キャリアコア粒子を得た。 After crushing the aggregated particles, the low magnetic force products are cut by magnetic separation, sieved with a sieve with an opening of 250 μm to remove coarse particles, and the 50% volume-based particle size (D50) is 37.0 μm. Magnetic carrier core particles were obtained.

<磁性キャリア1の製造例>
第1被覆工程として熱硬化型シリコーン樹脂溶液(メチルシリコーン樹脂)を、被覆樹脂量が上記磁性キャリアコア粒子100部に対して0.20部になるよう流動床内に回転式底板ディスクと撹拌羽を設けて旋回流を形成させながら被覆を行う被覆装置を使用して磁性キャリアコア粒子に塗布した。尚、上述の樹脂溶液は、流動床の装置内での移動方向に対して垂直な方向から噴霧した。
<Manufacturing Example of Magnetic Carrier 1>
In the first coating step, a thermosetting silicone resin solution (methylsilicone resin) was placed in the fluidized bed in such a manner that the coating resin amount was 0.20 parts per 100 parts of the magnetic carrier core particles. The magnetic carrier core particles were coated using a coating apparatus that was provided to perform coating while forming a swirling flow. The resin solution described above was sprayed in a direction perpendicular to the moving direction of the fluidized bed in the apparatus.

次いで、第2被覆工程としてフッ素樹脂溶液(テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共同合体(FEP))(固形分として磁性キャリアコア粒子100部に対して1.91部)と熱硬化型メラミン樹脂溶液(固形分として磁性コア粒子100部に対して0.09部)を十分な撹拌を行って混合し、キャリア被覆溶液を作製した。この被覆溶液を流動床内に回転式底板ディスクと撹拌羽を設けて旋回流を形成させながら被覆を行う被覆装置を使用して磁性キャリアコア粒子に塗布した。その後、得られたキャリアを流動床中で温度280℃にて1時間乾燥して溶剤を除去後、磁性キャリア1を得た。 Next, in the second coating step, a fluororesin solution (coalescing of tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene (FEP)) (1.91 parts as solid content per 100 parts of the magnetic carrier core particles) and a thermosetting melamine resin solution (0.09 part as a solid content with respect to 100 parts of the magnetic core particles) were thoroughly stirred and mixed to prepare a carrier coating solution. This coating solution was applied to the magnetic carrier core particles using a coating apparatus in which a rotating bottom plate disk and stirring blades were provided in a fluidized bed to form a swirling flow. Thereafter, the obtained carrier was dried in a fluidized bed at a temperature of 280° C. for 1 hour to remove the solvent, and magnetic carrier 1 was obtained.

<二成分現像剤1の製造例>
磁性キャリア1を92.0部に対し、トナー1を8.0部加え、V型混合機(V-20、セイシン企業製)により混合し、二成分現像剤1を得た。
<Production example of two-component developer 1>
Two-component developer 1 was obtained by adding 8.0 parts of toner 1 to 92.0 parts of magnetic carrier 1 and mixing them with a V-type mixer (V-20, manufactured by Seishin Enterprises).

<二成分現像剤2~36の製造例>
二成分現像剤1の製造例において、トナーを表5のように変更する以外は同様にして製造を行い、二成分現像剤2~36を得た。
<Production Examples of Two-Component Developers 2 to 36>
Two-component developers 2 to 36 were obtained in the same manner as in the production example of two-component developer 1, except that the toner was changed as shown in Table 5.

Figure 2023072114000009
Figure 2023072114000009

<感光体1の製造例>
円筒状の導電性基体として、アルミニウム合金素管(外径84mm、内径78mm、長さ370mm)を用意した。用意した導電性基体の外周面に対して、鏡面加工、およびウェットブラスト加工を行ない、洗浄した。
<Production Example of Photoreceptor 1>
An aluminum alloy tube (outer diameter 84 mm, inner diameter 78 mm, length 370 mm) was prepared as a cylindrical conductive substrate. The outer peripheral surface of the prepared conductive substrate was mirror-finished and wet-blasted, and then washed.

まず、導電性基体の表面の鏡面加工として、導電性基体を両端保持し、1500~8000rpmにて高速回転させた状態で、ダイヤモンドバイトを押し当てて、送り0.08~0.5mmにてバニッシング加工した。すなわち、バイトの仕上げ面に、ワーク回転方向に奥行きを持たせたダイヤモンドバイトを導電性基体の表面に押し当てることで、滑らかな仕上げ面を得た。 First, as mirror finishing of the surface of the conductive substrate, the conductive substrate is held at both ends and rotated at a high speed of 1500 to 8000 rpm. processed. That is, a smooth finished surface was obtained by pressing a diamond cutting tool having a depth in the rotating direction of the workpiece against the surface of the conductive substrate.

このような鏡面加工の後、導電性基体に対して脱脂洗浄を行なった。 After such mirror finishing, the conductive substrate was degreased and washed.

次に、ウェットブラスト加工として、アルミナなどの高硬度な研磨材と水とを撹拌し、圧縮空気と混合・加速させて、鏡面加工された導電性基体の表面に投射して粗面化を行なった。この方法では、導電性基体を回転させながら加工処理するため、短時間で均一性に優れた加工面を形成することができる。 Next, as wet blasting, a high-hardness abrasive such as alumina and water are stirred, mixed with compressed air, accelerated, and projected onto the mirror-finished surface of the conductive substrate to roughen the surface. rice field. In this method, since the conductive substrate is processed while being rotated, a highly uniform processed surface can be formed in a short period of time.

具体的には、ウェットブラスト加工の条件として、次のパラメータを調整することによって、それぞれ異なる表面粗さを有する導電性基体を用意した。
研磨材材質・粒径:A(アランダム(褐色溶解アルミナ))#320~#4000
研磨材濃度:10~18%
投射エア圧:0.10~0.35MPa
投射距離(ワーク中心とブラストヘッド間距離):20~300mm
投射時間:1~60秒間
ワーク回転数:120~180rpm
Specifically, conductive substrates having different surface roughnesses were prepared by adjusting the following parameters as wet blasting conditions.
Abrasive material/particle size: A (alundum (brown dissolved alumina)) #320 to #4000
Abrasive concentration: 10-18%
Projection air pressure: 0.10 to 0.35 MPa
Projection distance (distance between work center and blast head): 20-300mm
Projection time: 1 to 60 seconds Work rotation speed: 120 to 180 rpm

なお、異なる研磨材材質・粒径、濃度、投射エア圧、投射距離および投射時間を変化させることによって、表面粗さを調整した。 The surface roughness was adjusted by changing the abrasive material/particle size, concentration, projection air pressure, projection distance, and projection time.

そして、ウェットブラストを行なった後に、表面に残存している残渣を洗浄して除去することによって、導電性基体を用意した。 Then, after performing wet blasting, a conductive substrate was prepared by washing and removing the residue remaining on the surface.

このようにして用意された導電性基体を、図3に示したプラズマCVD装置を用いて、表6及び表7に示す成膜条件で、導電性基体の表面に各層を形成し、表面層がアモルファスカーボンである感光体1を作製した。感光体1表面のヤング率は200GPaであった。 Using the plasma CVD apparatus shown in FIG. 3, each layer was formed on the surface of the conductive substrate prepared in this manner under the film forming conditions shown in Tables 6 and 7. A photoreceptor 1 made of amorphous carbon was produced. The Young's modulus of the surface of the photoreceptor 1 was 200 GPa.

なお、表面層の第3の領域の形成時の原料ガスの流量、反応圧力、高周波電力および基体温度を表7に示す条件とした。 The conditions shown in Table 7 were used for the flow rate of the raw material gas, the reaction pressure, the high-frequency power, and the substrate temperature during the formation of the third region of the surface layer.

<感光体2の製造例>
感光体1の製造例において、表面層(第3の領域)の成膜条件を表7のものに変更した以外は感光体1の製造例と同様にして製造を行い、表面層がアモルファスシリコンカーバイドである感光体2を得た。感光体2表面のヤング率は270GPaであった。
<Manufacturing Example of Photoreceptor 2>
Photoreceptor 1 was manufactured in the same manner as in Photoreceptor 1, except that the surface layer (third region) film formation conditions were changed to those shown in Table 7, and the surface layer was amorphous silicon carbide. Photoreceptor 2 was obtained. The Young's modulus of the surface of the photoreceptor 2 was 270 GPa.

Figure 2023072114000010
Figure 2023072114000010

Figure 2023072114000011
Figure 2023072114000011

〔実施例1〕
[画像評価]
キヤノン(株)製のデジタル電子写真装置「image Press C800」(商品名)の改造機を用いた。本装置はクリーニングブレードにより静電荷像担持体上の余剰トナーをクリーニングする方式である。改造内容は、一次帯電及び現像バイアスを外部電源から印加する構成とした。
[Example 1]
[Image evaluation]
A modified digital electrophotographic apparatus "image Press C800" (trade name) manufactured by Canon Inc. was used. This device uses a cleaning blade to clean excess toner on the electrostatic charge image bearing member. The content of the modification was to apply the primary charging and developing bias from an external power source.

作製した感光体1をブラックステーションに搭載し、現像器に二成分現像剤1を、トナーボトルにトナー1をセットした。一次帯電の一次電流とグリット電圧をワイヤー及びグリットを調整して感光体の暗部表面電位が500Vになるように設定した。次に、先に設定した帯電条件で帯電させた状態で画像露光を照射し、その照射エネルギーを調整することにより、現像器位置の電位を150Vとした。 Photoreceptor 1 thus produced was mounted in a black station, two-component developer 1 was set in a developing device, and toner 1 was set in a toner bottle. The primary charging current and grit voltage were set so that the dark area surface potential of the photoreceptor was 500 V by adjusting the wire and grit. Next, while being charged under the previously set charging conditions, image exposure was applied, and the potential at the position of the developing device was set to 150 V by adjusting the irradiation energy.

(耐画像流れ性)
耐画像流れ性の評価は、高温高湿環境下(32℃/85%RH)下で連続通紙試験前のA3文字チャート(4pt、印字率4%)の画像を出力した。評価紙はカラー複写機・プリンタ用普通紙 「GF-C081(A4、81.0g/m2)」(キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。また、感光体ヒーターをONにする条件で実施した。
(Resistant to image deletion)
For the evaluation of image deletion resistance, an image of an A3 character chart (4pt, printing rate 4%) was output before the continuous paper feed test under a high-temperature and high-humidity environment (32° C./85% RH). Plain paper for color copiers and printers "GF-C081 (A4, 81.0 g/m 2 )" (available from Canon Marketing Japan Inc.) was used as evaluation paper. Also, the photoreceptor heater was turned on.

連続通紙試験前の画像出力後、連続通紙試験を実施した。連続通紙試験時は、電子写真装置を稼働して連続通紙試験を実施している間及び電子写真装置を停止している間を通じて常に感光体ヒーターをOFFにする条件で実施した。 After the image output before the continuous paper feed test, the continuous paper feed test was performed. The continuous paper feed test was conducted under the condition that the photoreceptor heater was always turned off while the electrophotographic apparatus was in operation and the continuous paper feed test was performed and while the electrophotographic apparatus was stopped.

具体的には、印字率1%のA4テストパターンを用いて、1日1万枚の通紙を実施したのち1日間、高温高湿環境下で放置した。そのサイクルを10回繰り返すことで20日間実施して計10万枚の通紙を行った。通紙試験終了後、高温高湿環境下で72時間放置した。 Specifically, 10,000 sheets of A4 size test pattern with a print rate of 1% were passed in a day, and then left in a high-temperature, high-humidity environment for one day. This cycle was repeated 10 times for 20 days, and a total of 100,000 sheets of paper were fed. After completion of the paper threading test, it was left for 72 hours under a high temperature and high humidity environment.

その後、感光体ヒーターをOFFのまま評価機を立ち上げ、A3文字チャート(4pt、印字率4%)の画像を出力した。連続通紙試験前に出力した画像と、連続通紙試験後に出力した画像を、300dpiの2値の条件でPDFファイルに電子化した。 After that, the evaluation machine was started up with the photoreceptor heater turned off, and an image of an A3 character chart (4pt, printing rate 4%) was output. The image output before the continuous paper feeding test and the image output after the continuous paper feeding test were digitized into a PDF file under a binary condition of 300 dpi.

電子化した画像をAdobe製の画像編集ソフト「Adobe Photoshop」(商品名)を用いて、電子写真感光体1周分の画像領域の画像比率を測定した。次に、連続通紙耐久前に出力した画像に対する連続通紙試験後に出力した画像比率を求め、耐久流れの評価を行った。 Using the image editing software “Adobe Photoshop” (trade name) from Adobe, the image ratio of the image area for one rotation of the electrophotographic photosensitive member was measured for the computerized image. Next, the ratio of the image output after the continuous paper-feeding test to the image output before the continuous paper-feeding test was obtained, and the durability running was evaluated.

高湿流れが発生した場合、画像全体で文字がぼける、又は、文字が印字されずに白抜けするため、連続通紙試験前の正常な画像と比較した場合、出力された画像比率が低下する。よって、連続通紙試験前の正常な画像比率を100%としたとき連続通紙試験後に出力された画像比率が100%に近いほど耐画像流れが良好となる。以下の基準で評価した。評価結果を表8に示す。Cランク以上であれば、本発明の効果が得られているレベルとする。
A:連続通紙試験前の画像比率に対し連続通紙試験後に出力した画像比率が95%以上110%未満
B:連続通紙試験前の画像比率に対し連続通紙試験後に出力した画像比率が90%以上95%未満
C:連続通紙試験前の画像比率に対し連続通紙試験後に出力した画像比率が80%以上90%未満
D:連続通紙試験前の画像比率に対し連続通紙試験後に出力した画像比率が80%未満
When high-humidity bleeding occurs, characters are blurred over the entire image, or characters are not printed and white spots appear, so the output image ratio decreases when compared to the normal image before the continuous paper feed test. . Therefore, assuming that the normal image ratio before the continuous paper feed test is 100%, the closer the image ratio output after the continuous paper feed test is to 100%, the better the image smear resistance. Evaluation was made according to the following criteria. Table 8 shows the evaluation results. If it is C rank or higher, it is regarded as a level at which the effect of the present invention is obtained.
A: The output image ratio after the continuous paper feeding test is 95% or more and less than 110% with respect to the image ratio before the continuous paper feeding test. B: The image ratio after the continuous paper feeding test is higher than the image ratio before the continuous paper feeding test. 90% or more and less than 95% C: Output image ratio after continuous paper feeding test is 80% or more and less than 90% with respect to image ratio before continuous paper feeding test D: Continuous paper feeding test with respect to image ratio before continuous paper feeding test Later output image ratio is less than 80%

(耐部材汚染性評価)
上記の画像流れ評価に用いた評価機、評価紙を用いて、常温低湿環境(23℃/5%RH)にて以下の評価を行った。トナーから部材へ外添剤が移行し汚染すると濃度変化の要因となる。感光体ヒーターはOFFにして評価を行った。
(Member contamination resistance evaluation)
Using the evaluation machine and evaluation paper used for the above image deletion evaluation, the following evaluation was performed in a normal temperature and low humidity environment (23° C./5% RH). When the external additive migrates from the toner to the member and contaminates it, it becomes a factor of density change. Evaluation was performed with the photoreceptor heater turned off.

出力するパターン画像として、紙の通紙方向に対して平行方向に2mm幅の帯状のベタ部と18mm幅の帯状の白地部が繰り返し配置されたパターン画像を用いた。パターン画像におけるベタ部におけるトナーの紙上への載り量を0.45mg/cm2になるよう調整した。FFhは、256階調を16進数で表示した値であり、00hが256階調の1階調目(白地部)であり、FFが256階調の256階調目(ベタ部)である。 As the pattern image to be output, a pattern image was used in which a 2 mm-wide band-shaped solid portion and an 18 mm-wide band-shaped white background portion were repeatedly arranged in a direction parallel to the paper passing direction. The amount of toner applied on the paper in the solid portion of the pattern image was adjusted to 0.45 mg/cm 2 . FFh is a value representing 256 gradations in hexadecimal, where 00h is the 1st gradation (white background portion) of 256 gradations, and FF is the 256th gradation (solid portion) of 256 gradations.

該パターン画像を10000枚出力した時点において、一旦出力を停止した後、紙上の全面がベハーフトーン(80h)である画像を出力した。 When the pattern image was output on 10,000 sheets, the output was temporarily stopped, and then an image in which the entire surface of the paper was halftone (80h) was output.

該全面ベタ画像について、X-Riteカラー反射濃度計(「500シリーズ」、X-Rite社製)を使用して、画像濃度をランダムに20箇所測定して、該画像濃度の最大値と最小値の差(画像濃度差)を用いて評価を行った。評価結果を表8に示す。Cランク以上を本発明の効果が得られていると判断した。
A:画像濃度差が0.04未満
B:画像濃度差が0.04以上0.07未満
C:画像濃度差が0.07以上0.10未満
D:画像濃度差が0.10以上
Using an X-Rite color reflection densitometer ("500 series", manufactured by X-Rite), the image density of the entire solid image was measured at 20 random points, and the maximum and minimum values of the image density were obtained. The difference (image density difference) was used for evaluation. Table 8 shows the evaluation results. It was judged that the effects of the present invention were obtained for C rank or higher.
A: Image density difference is less than 0.04 B: Image density difference is 0.04 or more and less than 0.07 C: Image density difference is 0.07 or more and less than 0.10 D: Image density difference is 0.10 or more

(帯電維持率変化)
静電荷像担持体上のトナーを金属円筒管と円筒フィルターを用いて吸引捕集することにより、トナーの摩擦帯電量を算出した。
(Charge retention rate change)
The triboelectrification amount of the toner was calculated by sucking and collecting the toner on the electrostatic charge image carrier using a metal cylindrical tube and a cylindrical filter.

具体的には、静電潜像担持体上のトナーの摩擦帯電量は、ファラデー・ケージ(Faraday-Cage)によって測定した。ファラデー・ケージとは、同軸の2重筒のことで内筒と外筒は絶縁されている。この内筒の中に電荷量Qの帯電体を入れたとすると、静電誘導によりあたかも電荷量Qの金属円筒が存在するのと同様になる。この誘起された電荷量をエレクトロメーター(ケスレー6517A ケスレー社製)で測定し、内筒中のトナー質量M(kg)で電荷量Q(mC)を割ったもの(Q/M)をトナーの摩擦帯電量とした。
トナーの摩擦帯電量(mC/kg)=Q/M
Specifically, the triboelectric charge amount of the toner on the electrostatic latent image bearing member was measured by a Faraday-Cage. A Faraday cage is a coaxial double cylinder in which the inner and outer cylinders are insulated. If a charged body with an electric charge of Q is placed in this inner cylinder, it will be as if a metal cylinder with an electric charge of Q exists due to electrostatic induction. The amount of this induced charge was measured with an electrometer (Kesley 6517A, manufactured by Kessley). Quantity.
Triboelectric charge amount of toner (mC/kg)=Q/M

先ず、静電荷像担持体上に画像欠陥評価で使用した評価画像を形成し、中間転写体に転写される前に、静電荷像担持体の回転を止め、静電荷像担持体上のトナーを、金属円筒管と円筒フィルターにより吸引捕集し、[初期のQ/M]を測定した。 First, an evaluation image used in image defect evaluation is formed on an electrostatic charge image carrier, and before being transferred to an intermediate transfer member, the rotation of the electrostatic charge image carrier is stopped, and the toner on the electrostatic charge image carrier is removed. , was collected by suction using a metal cylindrical tube and a cylindrical filter, and [initial Q/M] was measured.

引き続き、高温高湿環境(32℃、85%RH)において評価機内に現像器を入れたまま1週間放置させた後、放置前と同様の操作を行い、放置後の静電荷像担持体上の単位質量当たりの電荷量Q/M(mC/kg)を測定した。上記の放置前の静電荷像担持体上の単位質量当たりのQ/Mを[初期のQ/M]とし、放置後の静電荷像担持体上の単位質量当たりのQ/Mを[放置後のQ/M]とし、([放置後のQ/M]/[初期のQ/M]×100)を維持率として算出し、以下の基準で判断した。評価結果を表8に示す。Cランク以上であれば、本発明の効果が得られているレベルとする。 Subsequently, after leaving the developing device in the evaluation machine for one week in a high-temperature and high-humidity environment (32° C., 85% RH), the same operation as before leaving was performed, and the electrostatic charge image bearing member after leaving was treated. A charge amount Q/M (mC/kg) per unit mass was measured. The Q/M per unit mass on the electrostatic charge image bearing member before standing is defined as [initial Q/M], and the Q/M per unit mass on the electrostatic charge image bearing member after standing is defined as [After standing]. and ([Q/M after leaving]/[initial Q/M]×100) was calculated as a retention rate, and judged according to the following criteria. Table 8 shows the evaluation results. If it is C rank or higher, it is regarded as a level at which the effect of the present invention is obtained.

(評価基準)
A:維持率が90%以上
B:維持率が85%以上90%未満
C:維持率が80%以上85%未満
D:維持率が80%未満
(Evaluation criteria)
A: Maintenance rate is 90% or more B: Maintenance rate is 85% or more and less than 90% C: Maintenance rate is 80% or more and less than 85% D: Maintenance rate is less than 80%

〔実施例2〕
実施例1において、感光体1を感光体2に変更して同様の評価を行った。評価結果を表8に示す。
[Example 2]
In Example 1, the photoreceptor 1 was changed to the photoreceptor 2, and the same evaluation was performed. Table 8 shows the evaluation results.

〔実施例3~35、比較例1、2〕
実施例1において、二成分現像剤1を表8に記載の二成分現像剤に変更し同様の評価を行った。評価結果を表8に示す。
[Examples 3 to 35, Comparative Examples 1 and 2]
In Example 1, the two-component developer 1 was changed to the two-component developer shown in Table 8, and the same evaluation was performed. Table 8 shows the evaluation results.

Figure 2023072114000012
Figure 2023072114000012

101:静電荷像担持体(電子写真感光体)、102:帯電ローラ、103:露光手段、104:現像器、105:転写帯電器、106:定着装置、107:クリーニング装置、108:記録媒体(転写紙)、200:基体、201:耐圧層、202:電荷注入阻止層、203:感光層、204:表面層、205:中間層、206:複数の中間層、207:変化層、3100:堆積装置、3110:反応容器、3200:原料ガス供給装置、3111:カソード電極、3112:基体、3113:基体加熱用ヒーター、3114:原料ガス導入管、3115:高周波マッチングボックス、3116:ガス配管、3117:リークバルブ、3118:メインバルブ、3119:真空計、3120:高周波電源、3121:絶縁材料、3123:受け台、3221~3225:原料ガスボンベ、3231~3235:バルブ、3261~3265:圧力調整器、3241~3245:流入バルブ、3251~3255:流出バルブ、3211~3215:マスフローコントローラ、3260:補助バルブ、401:感光体(回転方向)、402:クリーニングブレードエッジ、403:トナー、404:外添剤阻止層 101: electrostatic charge image bearing member (electrophotographic photosensitive member), 102: charging roller, 103: exposure means, 104: developing device, 105: transfer charging device, 106: fixing device, 107: cleaning device, 108: recording medium ( Transfer paper), 200: Substrate, 201: Withstand voltage layer, 202: Charge injection blocking layer, 203: Photosensitive layer, 204: Surface layer, 205: Intermediate layer, 206: Multiple intermediate layers, 207: Changeable layer, 3100: Deposition Apparatus 3110: Reaction vessel 3200: Source gas supply device 3111: Cathode electrode 3112: Substrate 3113: Substrate heating heater 3114: Source gas introduction pipe 3115: High frequency matching box 3116: Gas pipe 3117: Leak valve, 3118: Main valve, 3119: Vacuum gauge, 3120: High frequency power supply, 3121: Insulating material, 3123: Cradle, 3221 to 3225: Source gas cylinder, 3231 to 3235: Valve, 3261 to 3265: Pressure regulator, 3241 3245: inflow valve, 3251 to 3255: outflow valve, 3211 to 3215: mass flow controller, 3260: auxiliary valve, 401: photoreceptor (rotating direction), 402: cleaning blade edge, 403: toner, 404: external additive blocking layer

Claims (8)

静電荷像担持体を帯電部材により帯電させる帯電工程と、帯電された該静電荷像担持体に静電潜像を形成させる静電潜像形成工程と、トナーを用いて現像して該静電荷像担持体上にトナー像を形成する現像工程と、
該トナー像を記録媒体に転写する転写工程と、
該記録媒体上に転写されたトナー像を該記録媒体に定着する定着工程と、
クリーニングブレードを用いて転写工程後に該静電荷像担持体の表面に残存する転写残トナーを取り除くクリーニング工程と、
を有する画像形成方法であって、
該静電荷像担持体の感光層がアモルファスシリコンを含有し、
該静電荷像担持体の表面層がアモルファスシリコンカーバイドまたはアモルファスカーボンを含有し、
該トナーは、トナー粒子と、シリカ粒子及び有機ケイ素重合体粒子を有することを特徴とする画像形成方法。
a charging step of charging an electrostatic image bearing member with a charging member; an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the charged electrostatic image bearing member; and developing with toner to form the electrostatic charge. a developing step of forming a toner image on an image carrier;
a transfer step of transferring the toner image onto a recording medium;
a fixing step of fixing the toner image transferred onto the recording medium onto the recording medium;
a cleaning step of removing transfer residual toner remaining on the surface of the electrostatic charge image bearing member after the transfer step using a cleaning blade;
An image forming method comprising
the photosensitive layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon;
the surface layer of the electrostatic charge image carrier contains amorphous silicon carbide or amorphous carbon;
An image forming method, wherein the toner comprises toner particles, silica particles and organosilicon polymer particles.
前記トナーに水洗処理を施した際に、トナーの質量を基準とした、前記有機ケイ素重合体粒子のトナーからの移行量をA(質量%)、前記シリカ粒子のトナーからの移行量をB(質量%)としたとき、該Aおよび該Bが、
0.50≦A+B≦4.00
0.20≦B/A≦2.00
を満たす請求項1に記載の画像形成方法。
When the toner is washed with water, A (% by mass) is the amount of the organosilicon polymer particles transferred from the toner, and B (% by mass) is the amount of the silica particles transferred from the toner, based on the weight of the toner. % by mass), the A and the B are
0.50≤A+B≤4.00
0.20≤B/A≤2.00
The image forming method according to claim 1, wherein:
前記移行した有機ケイ素重合体粒子の一次粒子の個数平均径Daが50nm以上200nm以下、
前記移行したシリカ粒子の一次粒子の個数平均径Dbが50nm以上200nm以下、
である請求項2に記載の画像形成方法。
the number average diameter Da of the primary particles of the migrated organosilicon polymer particles is 50 nm or more and 200 nm or less;
The number average diameter Db of the primary particles of the migrated silica particles is 50 nm or more and 200 nm or less,
3. The image forming method according to claim 2.
前記有機ケイ素重合体粒子のヤング率Eaが1.0GPa以上30.0GPa以下である請求項1~3のいずれか1項に記載の画像形成方法。 The image forming method according to any one of claims 1 to 3, wherein the Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles is 1.0 GPa or more and 30.0 GPa or less. 前記有機ケイ素重合体粒子の理論BET比表面積をX(m2/g)とし、前記有機ケイ素重合体粒子の実測されるBET比表面積をY(m2/g)としたとき、該Xと該Yとが、3.0≦Y/X≦8.0を満たす請求項1~4のいずれか1項に記載の画像形成方法。 Let X (m 2 /g) be the theoretical BET specific surface area of the organosilicon polymer particles, and Y (m 2 /g) be the actually measured BET specific surface area of the organosilicon polymer particles. 5. The image forming method according to claim 1, wherein Y satisfies 3.0≦Y/X≦8.0. 前記有機ケイ素重合体粒子のヤング率をEa、前記シリカ粒子のヤング率をEbとしたとき、Ea/Eb≦0.20の関係を満たす請求項1~5のいずれか1項に記載の画像形成方法。 6. The image formation according to claim 1, wherein the relationship Ea/Eb≦0.20 is satisfied, where Ea is the Young's modulus of the organosilicon polymer particles and Eb is the Young's modulus of the silica particles. Method. 前記静電荷像担持体のヤング率をEdとしたとき、前記有機ケイ素重合体粒子のヤング率Eaとの関係で、Ea/Ed≦0.05を満たす請求項1~6のいずれか1項に記載の画像形成方法。 7. The method according to any one of claims 1 to 6, wherein Ea/Ed≦0.05 is satisfied in relation to the Young's modulus Ea of the organosilicon polymer particles, where Ed is the Young's modulus of the electrostatic charge image bearing member. The described imaging method. 前記静電荷像担持体の表面層がアモルファスカーボンを含有する請求項1~7のいずれか1項に記載の画像形成方法。 The image forming method according to any one of claims 1 to 7, wherein the surface layer of the electrostatic charge image bearing member contains amorphous carbon.
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