JP5483915B2 - 管体内面への透明導電膜成膜方法 - Google Patents
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Description
a)管体内面に粘性懸濁液またはペーストを塗布した後、管体を垂直に支持し、液またはペーストが自重流下している状態で乾燥を行う方法(特許文献1)、および
b)真空チヤンバ内に管体を配し、管体内に同心状に線状ないしは棒状の蒸着物質を配し、蒸着物質の両端に電極を接続し、蒸着物質に直流電流を印加してこれを加熱することで、管体内面に真空蒸着を行う方法(特許文献2)
が提案されている。
(2)(16) 蒸着物質
(3) 真空チャンバ
(7) 金属膜
(8) 透明導電膜
Claims (7)
- 非酸化金属からなる蒸着物質を管体とほぼ同じ長さにして管体内に挿通する工程と、蒸着物質が挿通された管体を真空チャンバ内に配置する工程と、真空蒸着法あるいはスパッタ法によって管体内面に蒸着物質からなる金属膜を形成する工程と、金属膜を酸化することで透明導電膜とする工程とを含んでいることを特徴とする管体内面への透明導電膜成膜方法。
- 非酸化金属からなる蒸着物質は、In・Sn合金、Zn、In・Zn合金、Sn、Ga・Zn合金およびZn・Al合金のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
- 真空蒸着法は、蒸着物質の両端に直流電圧を印加して加熱することで蒸着を行うものであることを特徴とする請求項1〜2に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
- スパッタ法は、2極スパッタ法、3極スパッタ法、4極スパッタ法、RFスパッタ法、マグネトロンスパッタ法、対向ターゲットスパッタ法、ミラートロンスパッタ法およびECRスパッタ法のいずれかであることを特徴とする請求項1〜2に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
- スパッタ法を行うに際し、不活性気体を使用するチャンバ内に酸素ガスを導入するとともに、酸素ガス量を容積比で不活性ガス20に対して1以上5以下とすることで、金属膜の酸化を行う際の核を形成しておくことを特徴とする請求項4に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
- 金属膜の酸化を電解によって行うことを特徴とする請求項1〜5に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
- 金属膜の酸化を酸素雰囲気中での管体の加熱によって行うことを特徴とする請求項1〜5に記載の管体内面への透明導電膜成膜方法。
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