JP5480823B2 - シリコン系電極を作製する方法、シリコン系電極、およびそのような電極を備えたリチウム電池 - Google Patents

シリコン系電極を作製する方法、シリコン系電極、およびそのような電極を備えたリチウム電池 Download PDF

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Description

本発明は、シリコン系電極を製造する方法、およびシリコン系電極に関する。本発明は、そのような電極を備えたリチウム電池にも関する。
大部分の市販リチウム電池は、挿入機構によりリチウムを交換する黒鉛系アノードを有する。
しかし、この種のアノードでは、黒鉛材料の質量単位当たりに取り込むことのできるリチウム量は相対的に少ない。
リチウムを合金、特にシリコン合金の形で取り込むことができる材料である、第2種のアノード材料がある。
こうしたシリコン系アノードは、挿入機構によりリチウムを交換するアノードと比較して、多量のリチウムを単位質量当たりに取り込み得ることがしばしばある。
即ち、V.Baranchugov等は、「Amorphous silicon thin films as a high capacity anodes for Li−ion batteries in ionic liquid electrolytes」、Electrochemistry Communications 、796−800頁、(2007)において、厚さ100nmのアモルファスシリコン薄膜を被覆した支持体から形成したアノードについて述べ、3600mAhg−1までなり得る容量をこれらの電極に対して報告している。
しかし、その文献に記載の電極は、リチウム化−脱リチウム化サイクル中に体積を変化させる傾向があるため、可逆性および効率の特性が相対的に不良である。この体積変化は、アノードの活物質粒子間の電気的接触を低下させ得る。電気的接触が低下すると、次に容量、即ち、アノードの耐用期間に亘ってアノード活物質の単位質量当たりに取り込むことのできるリチウム量の低下を起こす。
それに加え、上記文献に記載の方法、即ち、ステンレス鋼基板の表面上へのシリコンのDCマグネトロンスパッタリングは、非常に薄い電極を生成するため、単位面積当たりの高い容量の実現が妨げられる。
具体的には、シリコン膜の厚さは100nmで、容量は50μAh/cmと低い。これは、質量単位当たり3000mAh/gの非常に高い容量を与えるが、この容量は、300〜400μmの厚さで320mAh/gの容量を一般に有するリチウムイオン電池には使用することができない。
その上、定電位電気化学析出法とも呼ばれる、一定電位で電気化学析出をする方法も知られている。この方法はクロノアンペロメトリーを使用する。即ち、電圧パルスを作用電極に印加し、経時的な電流変化を記録する。この方法は、特に、Takuya Shinomiya等によりElectrochimica Acta、51、4412〜4419頁、(2006)に公表された文献「Effects of electrochemical−deposition method and microstructure on the capacitive characteristics of nano−sized manganese oxide」、およびS.K.Mondal等によりElectrochimica Acta、52、3258〜3264頁、(2007)に公表された「High capacitance properties of polyaniline by electrochemical deposition on a porous carbon substrate」という題名の文献に記載されている。
特許出願国際公開第2007/107152号は、やはり定電位電気化学析出法により基板上に堆積できる、特に、直径がナノメートル範囲の半導体化合物を得る方法を記載している。
しかし、この定電位電気化学析出法では、シリコン系リチウムイオン電池用の電極材料を得ることはできないが、その理由は少なくとも3つある。
第1の理由は、電着材料の形態および電気容量が、析出速度に強く依存することである。ところで、定電位析出は、直ちに核形成を促進した後、60〜90分前後の全く長い析出時間で三次元(3D Volmer−Weber)成長を起こす。その結果、析出材料は、緻密で均一であり、表面粗さが支持体より時々低くなる。このため、電気化学用途の場合、特にリチウムイオン電池には興味のより薄い性質が得られる。
第2の理由は、定電位電着方式は、支持体の表面上で次の反応:
Figure 0005480823
を起こし、その結果塩素イオンの存在下で電着Si膜に細孔が生じ、しかもこうした塩素イオンは、リチウムと反応し、電池の活物質を劣化させ得ることである。
第3の理由は、定電位析出が結晶構造を生じることであり、それについてはF.Bebensee等による文献「Surface analysis of nanoscale aluminium and silicon films made by electrodeposition in ionic liquids」に記載される通りである。しかし、アノード材料のサイクル安定性には、得られるシリコンのアモルファス形態が必要である。
V.Baranchugov等、「Amorphous silicon thin films as a high capacity anodes for Li−ion batteries in ionic liquid electrolytes」、Electrochemistry Communications 9、796−800頁、(2007) Takuya Shinomiya等、「Effects of electrochemical−deposition method and microstructure on the capacitive characteristics of nano−sized manganese oxide」、Electrochimica Acta、51、4412〜4419頁、(2006) S.K.Mondal等、「High capacitance properties of polyaniline by electrochemical deposition on a porous carbon substrate」、Electrochimica Acta、52、3258〜3264頁、(2007) 特許出願国際公開第2007/107152号 F.Bebensee等、「Surface analysis of nanoscale aluminium and silicon films made by electrodeposition in ionic liquids」
本発明の目的は、シリコン系リチウムイオン電池用の電極、特に負極を作製する従来技術の方法の欠点を回避することであり、このような電極を作製する方法であって、ナノスケールサイズのアモルファスシリコンに基づき、その容量が耐用期間に亘って非常に安定である電極を得ることを可能にし、しかも塩素イオンの存在下でSi膜に細孔を生じない方法を提供する。
このために、本発明は、基板上にシリコンを電気化学的に析出させるステップを含むタイプのシリコン系電極を製造する方法であって、前記電気化学析出ステップが、少なくとも1種のイオン液体と、式中XがCl、BrまたはIであり、nが1または2に等しい式Si2n+2のシリコン前駆体とを含む溶液における、サイクリックボルタンメトリーによる電気化学析出ステップであることを特徴とする方法を提供する。
好ましくは、シリコン前駆体は、式中nが1または2に等しい式SiCl2n+2を有する。
より好ましくは、シリコン前駆体は、式SiClの四塩化ケイ素である。
また好ましくは、イオン液体は、N−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、N−エチル−N,N−ジメチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドおよびN−メチル−N−プロピルピペリジニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドから選択される。
やはり好ましくは、基板は、KCl飽和カロメル電極(SCE)に対して−4Vの電位まで安定な導電性材料で作製されている。
より好ましくは、基板は、銅、ニッケル、ステンレス鋼、グラッシーカーボン、黒鉛、ならびに黒鉛および/またはカーボンブラックおよび/またはカーボンナノチューブに基づく複合体で形成される群から選択される材料で作製されている。
好ましくは、前記基板は銅基板である。
本発明は、アモルファスシリコンナノ粒子から形成されたシリコン膜で被覆された基板を含む電極であって、特に、本発明の電極を製造する方法により取得し得る電極も提供する。
本発明は、本発明による電極または本発明の方法で得られた電極を含むリチウム電池も提供する。
図と合わせて示す以下の説明的記述を読んだ際に、本発明はより良く理解され、本発明の他の特徴および利点が、より明瞭に明らかとなろう。
銅基板の表面上にシリコンを析出させるために使用した、電位走査速度100mV/sの電位走査曲線を示す図である。 リチウム金属対電極と、作用電極として、図1に示す電位走査で得た電極とを有するボタン電池に対する走査速度0.1mV/sの電位走査曲線を示す図である。 C/20定電流方式、即ち、その理論総容量に0V〜1.5Vの間で20時間で到達する方式における、図2のボタン電池に対するサイクル挙動曲線を示す図である。
電位走査電気化学析出とも呼ばれる、サイクリックボルタンメトリーによる電気化学析出は、線形電位走査を時間の関数として行うことを可能にする析出法である。
この析出中では、シリコンの核形成機構は、複雑であり、「島状成長を伴う逐次層」(3D Stranski−Krastanov)と称する成長機構に類似している。この電位走査は、支持体の表面上でシリコンの核形成を促進することにより、支持体に比して粗さを失わずに大きな析出面積の実現を可能にする。その結果、このように析出した導体または半導体材料の比容量およびサイクル安定性の最高値が、該材料をサイクリックボルタンメトリーで電気化学的に析出させたときに得られる。
したがって、本発明で使用されるナノ粒子アモルファスシリコンの取得を可能にするシリコン系電極を形成する方法は、イオン液体またはイオン液体混合物の溶液におけるサイクリックボルタンメトリーによる電気化学析出であり、この溶液は、式中XがCl、BrまたはI、より好ましくはClであり、nが1または2に等しく、好ましくはnが1に等しい式Si2n+2のシリコン前駆体も含有する。
サイクリックボルタンメトリーによる電気化学析出法は、前駆体、ここではSiClを還元する電位で半導体、ここではシリコンを析出させた後、塩化物を除いて塩素ガスを放出するように、正電位の方へ電位走査を実施することを可能にする。SiClを使用した場合、起こる反応は次の通りである。
Figure 0005480823
本発明の方法に使用される電位走査曲線は、図1に示されている。図1で分かり得るように、シリコン還元およびClイオン酸化の電流は、各サイクルが新しいシリコン原子層を析出させるため、電着シリコン面積が次第に増加するので、サイクルの更新と共に増加する。
本発明に使用されるイオン液体は、アニオンと結合したカチオンを含有する既知のイオン液体のいずれか1つでもよい。言い換えれば、イオン液体類全体が本発明に使用し得る。
挙げ得るこうしたイオン液体には、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−メチル−3−プロピルイミダゾリウム、1−メチル−3−イソプロピルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3,4−ジメチルイミダゾリウム、N−プロピルピリジニウム、N−ブチルピリジニウム、N−tert−ブチルピリジニウム、N−tert−ブタノールペンチルピリジニウム、N−メチル−N−プロピルピロリジニウム、N−ブチル−N−メチルピロリジニウム、N−メチル−N−ペンチルピロリジニウム、N−プロポキシエチル−N−メチルピロリジニウム、N−メチル−N−プロピルピペリジニウム、N−メチル−N−イソプロピルピペリジニウム、N−ブチル−N−メチルピペリジニウム、N−N−イソブチルメチルピペリジニウム、N−sec−ブチル−N−メチルピペリジニウム、N−メトキシ−N−エチルメチルピペリジニウムおよびN−エトキシエチル−N−メチルピペリジニウムの各イオンなどの四級アンモニウムイオンを含有するイオン液体が含まれる。
ブチル−N−N−N−N−トリメチルアンモニウム、N−エチル−N−N−ジメチル−N−プロピルアンモニウム、N−ブチル−N−エチル−N−N−ジメチルアンモニウムおよびブチル−N−N−N−ジメチル−N−プロピルアンモニウムの各イオンなどのアンモニウムイオンを含有するイオン液体も挙げることができ、こうしたイオンは、テトラフルオロボレート(BF)、ヘキサフルオロホスフェート(PF)、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド(TFSI)またはビス(トリフルオロスルホニル)アミド(FSI)からなる群のアニオンなどの任意のアニオンと結合している。
本発明では、イオン液体は、好ましくはN−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドまたはN−エチル−N,N−ジメチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドあるいはN−メチル−N−プロピルピペリジニウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミドである。
本発明では、シリコンは、シリコン析出中の作用電極として、また本発明により得られる電極中に形成されるシリコン膜の支持体として作用する基板上に、サイクリックボルタンメトリーにより電気化学的に析出される。
基板用の材料は、以下の非網羅的リスト:銅、ニッケル、ステンレス鋼、黒鉛、カーボンブラック、グラッシーカーボン、あるいは黒鉛および/またはカーボンブラックに基づくバインダー入りまたは無しの複合体、例えばカーボンブラックまたはカーボンナノチューブで被覆された銅箔などから選択してもよい。
要点は、基板が、KCl飽和カロメル電極に対して−4Vの電位まで安定な導電性材料であることである。
好ましくは、基板は、シリコンを電着する面上に大きな比表面積を有することになろうが、この比表面積は、自然に得られるもの、または人工的に、例えば研磨紙を用いて得られるものである。そういう理由で、複合体は、2m/g前後の大きな比表面積を自然に有し、これが投影cm当たり250cmの比表面積を有する満足ゆく析出物を得るのに十分なため、好ましい。
したがって、基板のこの大きな比表面積のために、活性面積の大きな析出物が得られ、その結果、析出材料の大きな表面積を生じることが可能になる。サイクリックボルタンメトリーによりシリコンを電気化学的に析出する方法によって、大きな面積上に、したがって高い容量で、均一なシリコン析出物を得ることが可能になる。
複合体の比表面積は、個々の構成要素、例えばTIMCAL社から供給されるものの比表面積から計算される。
本発明をより明瞭に理解するために、幾つかの実施方法およびそれらの実施形態を以下に説明する。こうした実施例は、本発明を例示するためだけに示されるものであり、本発明の範囲を制限するものと見なしては決してならない。
基板は面積4cmの銅箔であった。
析出溶液は、イオン液体、即ち、Solvionicが販売する参照記号がP14TFSIで純度99.99%のN−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを、Aldrichが販売する純度99.9%のSiClで飽和した溶液からなっていた。
シリコンは、白金線を対電極とし、ガラスフリットで仕切った区画中に配置したイオン液体内の白金線を準参照電極とした、3個の電極を有するガラスセル中に析出させた。
イオン液体の溶液におけるFc/Fcで表すフエロセン/フェリセニウム酸化還元対のこの電極に対する電位は、500mVであった。
KCl飽和カロメル電極の使用が不可能な場合、このフエロセン/フェリセニウム酸化還元対を参照としても使用した。SCEに対するその電位は、0.4Vであった。
全ての操作は、OおよびHOの含有量が1ppm未満のグローブボックス中で実施した。イオン液体は、80℃、12時間真空乾燥し、次いで、0Vから開始して−3.2Vまで下げ続ける50mV/sの走査速度を用いた後、0.3Vまでの正電位の方へ走査を加えるサイクリックボルタンメトリーにより、電気化学析出を実施した。Voltalab50ポテンシオスタット(PST050)を用いて、電位を制御した。
厚さ約30nmのシリコン膜を得るために、図1に示すように、少なくとも15回の走査サイクルが必要であった。
このようにして形成されたシリコン膜は、イソプロパノールで数回濯ぎ洗いすることにより、残存するイオン液体および残存する四塩化ケイ素を除いた。次いで、その膜を室温で1時間真空乾燥した。
厚さ30nmのシリコン膜で被覆した銅箔は、直径14mm、即ち面積1.54cmの円板に切断した。30nmのシリコン膜で被覆した基板からなるシリコン系電極が得られた。
「ボタン電池」型の電気化学電池は、負極としてリチウム金属、電解質として、シリコンの析出に用いたイオン液体のN−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドにビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドリチウムLiTFSIを加えたものを使用した、市販ポリマーCelgard(登録商標)製の微多孔セパレーター、および正極としてシリコン膜を析出させた銅箔で組み立てた。3Mが販売するLiTFSIは、純度が99%であった。
このシステムを、マルチポテンシオスタット(Biologic VMPシステム)を用いたサイクリックボルタンメトリーで試験した。走査速度は0.1mV/sであった。図2は、このボタン電池で得られた電位走査曲線を示す。
図2で分かり得るように、電気化学的挙動は非常に安定である。アノードにおけるリチウムの脱離に特徴的な2つのピークは、サイクルの過程にわたって変化しない。
5回の走査サイクル後、次に、0V〜1.5Vの間のC/20定電流方式で電池を試験した。
この実施例で得られたボタン電池のサイクル挙動を示す曲線は、図3に示されている。
図3で分かり得るように、得られたボタン電池の容量は、充電モード、放電モードの双方で15回を超えるサイクルにわたって一定である。
基板は、シリコンを析出させる作用電極として使用した面積4cmの銅箔であった。
シリコンは、白金線を対電極とし、N−エチル−N,N−ジメチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(Solvionic製の純度99.99%のEDMMEATFSI)からなり、シリコン前駆体として、Aldrichが販売する純度99.9%の四塩化ケイ素SiClを含有する、イオン液体内に白金線を入れた、3個の電極を有するガラスセル中でのサイクリックボルタンメトリーにより析出させた。
EDMMEATFSIイオン液体内の白金線は、ガラスフリットで仕切った区画中に準参照電極として配置した。この電極に対するイオン液体の溶液におけるFc/Fc電位は、550mVであった。
析出溶液は、SiCl4飽和イオン液体からなっていた。全ての操作は、OおよびHOを1ppm未満含む雰囲気のグローブボックス中で実施した。
イオン液体は、電気化学析出の前に80℃、12時間真空乾燥した。電気化学析出は、0Vから開始して−3.2Vまで下げる50mV/sの走査速度、および次いで0.3Vまでの正電位方向への走査を用いるサイクリックボルタンメトリー法により、実施した。
Voltalab50(PST050)ポテンシオスタットを用いて、電位を制御した。
厚さ約30nmのシリコン膜を析出させるために、15回の走査サイクルが必要であった。このようにして形成されたシリコン膜は、イソプロパノールで数回濯ぎ洗いすることにより、残存するイオン液体および残存する四塩化ケイ素を除き、次いで室温で1時間真空乾燥した。
その銅箔は、直径14mm(面積1.54cm)の円板に切断した。「ボタン電池」型の電気化学電池は、負極としてリチウム金属、微多孔セパレーターおよびLP100電解質で組み立てた。LP100電解質は、EC/PC/DMC(質量で1/1/3のエチレンカーボネート/プロピレンカーボネート/ジメチルカーボネート)中にLiPF(リチウムヘキサフルオロホスフェート)1mol/lからなる市販のMerck電解質であり、正極としては、本実施例で得たシリコン被覆銅円板であった。このシステムを、マルチポテンシオスタット(Biologic VMPシステム)を用いたサイクリックボルタンメトリーで試験した。
図2に示したものと同じ曲線が得られた。
この実施例では、基板は、
− 黒鉛繊維と、リチウム電池に使用される天然および人工のカーボンとからなり、大阪ガス会社が供給する材料のMCMB2528黒鉛、即ちメソカーボンマイクロビーズ、
− カルボキシメチルセルロース(CMC)、
− NBR、即ちPolymer Latex GmbHがバインダーとして供給するPerbunan−N−Latexの水溶液、ならびに
− Tenax(登録商標)繊維と、TIMCAL社が電子伝導体として供給するSFG6(登録商標)繊維との組合せ
からなり、銅箔上に被覆された
複合体で作製されたシートであった。
このシートは、本発明による電極を形成するために、シリコンを析出させるための作用電極として役立った。析出のために使用されるシートの幾何面積は4cmであった。上記の複合体作用電極は、シリコンの析出前に80℃、24時間真空乾燥した。シリコンは、白金線を対電極とし、ガラスフリットで仕切られた区画中に入れたN−エチル−N,N−ジメチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(Solvionic製の純度99.99%のEDMMEATFSI)である、イオン液体内の白金線を準参照電極とした、3個の電極を有するガラスセル中に析出させた。この電極に対するイオン液体溶液におけるFc/Fc電位は、550mVであった。
析出溶液は、99.9%SiCl(Aldrich製)で飽和したイオン液体からなっていた。
シリコンの析出およびボタン電池型の電気化学電池の作製に関わる全ての操作は、OおよびHOを1ppm未満有する雰囲気を含んだグローブボックス中で実施した。イオン液体は、電着前に80℃、12時間真空乾燥した。
シリコンは、0Vから開始して−3.2Vまで下げる20mV/sの走査速度の後、0.3Vまでの正電位方向への走査を用いるサイクリックボルタンメトリーにより、そのセル中で電気化学的に析出させた。Voltalab50(PST050)ポテンシオスタットを用いて、電位を制御した。
厚さ30nmのシリコン膜を析出させるために、15回の走査サイクルが必要であった。シリコン膜は、イソプロパノールで数回濯ぎ洗いすることにより、イオン液体および四塩化ケイ素の残留物を除き、次いで室温で1時間真空乾燥した。
このようにして形成した複合体電極は、直径14mm、即ち投影または幾何面積が1.54cmの円板に切断した。「ボタン電池」型の電気化学電池は、負極としてリチウム金属、微多孔セパレーター、LP100電解質および正極としてシリコン被覆複合体電極で組み立てた。このシステムを、マルチポテンシオスタット(Biologic VMPシステム)を用いたサイクリックボルタンメトリーで試験した。
得られたボタン電池の容量は、前の実施例同様にやはり一定で安定であった。
本発明の有益性は、高い容量を得ること(BaranchugovはSiの場合に最大理論限度を示している)よりむしろ、シリコンを析出させる材料に関わらず、得られるシリコン膜に厚さの制限が全くなしに、適切な容量を得ることにある。
したがって、面積250cm/cmの複合体上に厚さ100nmとする場合、50μAh/cmの代わりに容量12.5mAh/cmが得られており、これはリチウムイオン電池にとって非常に有望である。
事実、本発明の析出法によって、厚さ全体にわたって同じ特性、特にアモルファス性を維持した材料の制御された厚さを析出させ、その結果電池の動作中に高度な材料可逆性を生じることが可能になる。
したがって、本発明に従ってアノードを作製する方法は、十分な耐用期間および耐用期間にわたって一定の容量を有するシリコン系電極の形成を可能にする。
そのため、本発明の電極は、比表面積が大きなアモルファスシリコン膜で被覆された支持体から形成される。この電極は、約2300mAh/gの安定な容量を有する。
本発明の電極は、リチウム電池の製造に特に適当である。
示した実施例ではシリコン前駆体として四塩化ケイ素を使用したが、式中Xが塩素、ヨウ素または臭素などのハロゲンを表し、nが1または2に等しい式Si2n+2の、他の任意のシリコン前駆体も使用し得ることは、当業者には明瞭に明らかとなろう。

Claims (4)

  1. 基板上にシリコンを電気化学的に析出させるステップを含むタイプのシリコン系電極を製造する方法であって、
    前記電気化学析出ステップが、N−ブチル−N−メチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドおよびN−エチル−N,N−ジメチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドから選択される少なくとも1種のイオン液体と、
    式SiCl 4 の四塩化ケイ素であるシリコン前駆体と
    を含む溶液における、
    SiCl 4 を還元する電位でシリコンを析出させた後、塩化物を除いて塩素ガスを放出するように、正電位の方へ電位走査を実施するサイクリックボルタンメトリーによる電気化学析出ステップであることを特徴とする方法。
  2. 前記基板が、KCl飽和カロメル電極に対して−4Vの電位まで安定な導電性材料で作製されていることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 前記基板が、銅、ニッケル、ステンレス鋼、グラッシーカーボン、黒鉛、ならびに黒鉛および/またはカーボンブラックおよび/またはカーボンナノチューブに基づく複合体で形成される群から選択される材料で作製されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記基板が銅基板であることを特徴とする、請求項1からのいずれか一項に記載の方法。


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