JP5480444B2 - Rolled copper foil for secondary battery current collector and method for producing the same - Google Patents

Rolled copper foil for secondary battery current collector and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、二次電池用集電体に適用可能な圧延銅箔およびその製造方法に関し、特に、活物質との密着性を向上させる目的で施される粗化めっき性が向上された圧延銅箔およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a rolled copper foil applicable to a current collector for a secondary battery and a method for producing the rolled copper foil, and in particular, rolled copper with improved rough plating performance for the purpose of improving adhesion to an active material. The present invention relates to a foil and a manufacturing method thereof.

圧延銅箔は、リチウムイオン電池などの二次電池の負極集電体として用いられ、通常活物質が塗布されて使用される。
従って、集電体と活物質の密着性が悪いと種々の問題が発生する。例えば、電池製造工程における外部応力によって、活物質の脱落が発生する。また、電池使用中の充放電に伴う活物質の膨張・収縮によって、集電体と活物質の剥離が起こる。
The rolled copper foil is used as a negative electrode current collector of a secondary battery such as a lithium ion battery, and is usually used by applying an active material.
Accordingly, various problems occur when the adhesion between the current collector and the active material is poor. For example, the active material falls off due to external stress in the battery manufacturing process. Further, the current collector and the active material are peeled off due to the expansion and contraction of the active material accompanying charging / discharging during use of the battery.

そのため、圧延銅箔の表面に湿式めっきによる粗化処理を施し、積極的に凹凸の大きい表面を形成し、集電体と活物質の密着性を向上させて使用する。
この粗化処理後表面の凹凸の均一性は、圧延後の銅箔表面の凹凸の均一性によって担保されるため、電池用圧延銅箔の製造時における表面凹凸の制御は、電池特性に直結する重要な技術課題である。
For this reason, the surface of the rolled copper foil is subjected to a roughening treatment by wet plating to positively form a surface with large irregularities, thereby improving the adhesion between the current collector and the active material.
Since the uniformity of the unevenness on the surface after the roughening treatment is ensured by the uniformity of the unevenness on the surface of the copper foil after rolling, the control of the unevenness on the surface during the production of the rolled copper foil for a battery is directly linked to the battery characteristics. It is an important technical issue.

近年の電池容量向上の更なる要求を背景に、活物質の離脱は容量低下の主原因である。更に、活物質においては、シリコン(Si)系やスズ(Sn)系といった、膨張・収縮の大きな活物質の適用が見込まれるため、特にその重要性が増している。   Against the backdrop of further demands for increasing battery capacity in recent years, the withdrawal of active material is the main cause of capacity reduction. Furthermore, in the active material, since the application of an active material having a large expansion / contraction such as silicon (Si) or tin (Sn) is expected, its importance is particularly increased.

通常、圧延後表面には、圧延方向に対して60〜120°の縞状の凹凸が形成される。しかし、圧延方向に対して幅方向に数10ミクロン(μm)、長手方向に100μmの大きさで、その縞状凹凸のない領域が形成される場合があることが問題となっている。
周囲に対して凹凸が少なく、粗大なこの領域を圧延銅箔表面に多く含むと、その上に粗化めっきした場合に、凹凸の小さい領域を含むバラツキの大きい粗化面となってしまい、部分的に活物質が剥離することが問題となっている。
Usually, striped irregularities of 60 to 120 ° with respect to the rolling direction are formed on the surface after rolling. However, there is a problem in that a region having a size of several tens of microns (μm) in the width direction and 100 μm in the longitudinal direction and having no striped unevenness may be formed with respect to the rolling direction.
If the rolled copper foil surface contains many rough areas with less irregularities than the surroundings, when rough plating is performed on the rolled copper foil surface, a rough surface with large variations including small irregularities will be formed. In particular, the active material is exfoliated.

圧延銅箔の表面の凹凸の制御に関しては、いくつか提案されている(例えば特許文献1〜3参照)。
特許文献1では、圧延条件の適正化によって、凹凸の平均間隔を高める方法が、特許文献2では、凹凸の平均間隔を低減する提案がされている。
特許文献3では、表面粗さRaと局部山頂の平均間隔Sが、最適範囲で示されている。
Several proposals have been made regarding the control of the unevenness of the surface of the rolled copper foil (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
Patent Document 1 proposes a method of increasing the average interval of unevenness by optimizing rolling conditions, and Patent Document 2 proposes to reduce the average interval of unevenness.
In patent document 3, surface roughness Ra and the average space | interval S of a local peak are shown by the optimal range.

特開2006−281249JP 2006-281249 A 特開2007−268596JP2007-268596 国際公開番号 WO2001/029912International Publication Number WO2001 / 029912

上記特許文献では、一定方向の一次元的な凹凸の間隔を指標にして制御しているのみで、面積的な制御がされていない。それに加えて、光沢度、表面粗さRa、Rzなどは、広い測定範囲の平均による指標であり、その中の不均一性は制御されていなかった。
また、特許文献1および2において、その制御方法が圧延条件の適正化であり、不均一性を解消する抜本的なものではない。したがって、近年の電池用途への要求を満足しない場合があった。
In the above-mentioned patent document, the area is not controlled only by controlling the interval between one-dimensional irregularities in a certain direction as an index. In addition, glossiness, surface roughness Ra, Rz, and the like are indices based on an average over a wide measurement range, and nonuniformity therein is not controlled.
Moreover, in patent document 1 and 2, the control method is optimization of rolling conditions, and is not a radical thing which eliminates nonuniformity. Therefore, there have been cases where the recent demand for battery applications is not satisfied.

本発明の目的は、縞状凹凸が形成された領域が広く、粗化めっきの均一性に優れる二次電池集電体用圧延銅箔およびその製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a rolled copper foil for a secondary battery current collector that has a wide region where striped irregularities are formed and is excellent in the uniformity of roughening plating, and a method for producing the same.

本発明者らは、上記縞状凹凸の場所毎の不均一な形成に関し、結晶方位の影響について鋭意検討した。そして、縞状凹凸が形成されない領域の結晶方位は、主にRDW方位{0 1 2}<1 0 0>であり、圧延銅箔表面のこの方位を減少させることによって、表面凹凸が均一化され、良好な活物質との密着性を実現できることを見出し、本発明に至った。
また、圧延銅箔中のRDW方位は、製造工程における最終焼鈍組織の影響を強く受け、それを制御する工程を発明した。
The present inventors diligently studied the influence of the crystal orientation on the non-uniform formation of the striped unevenness at each location. And the crystal orientation of the area | region where a striped unevenness | corrugation is not formed is mainly RDW direction {0 1 2} <1 0 0>, and surface unevenness | corrugation is equalized by reducing this orientation of a rolled copper foil surface. The present inventors have found that good adhesion to an active material can be realized, and have reached the present invention.
In addition, the RDW orientation in the rolled copper foil is strongly influenced by the final annealing structure in the manufacturing process and invented a process for controlling it.

本発明によれば、圧延により形成した銅または銅合金からなる圧延銅箔であって、表面の結晶方位において、RDW方位{012}<100>方位から13°以内の面積率が15%以下である圧延銅箔が提供される。
なお、圧延銅箔とは純銅の圧延箔を意味することもあるが、本願では広く銅合金の圧延箔を意味する。
According to the present invention, a rolled copper foil made of copper or a copper alloy formed by rolling, and in the crystal orientation of the surface, the area ratio within 13 ° from the RDW orientation {012} <100> orientation is 15% or less. A rolled copper foil is provided.
The rolled copper foil may mean a pure copper rolled foil, but in the present application, it means a rolled copper alloy foil.

好適には、圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる領域の面積率が60%以上である。   Suitably, the area ratio of the area | region where the surface unevenness | corrugation of the striped pattern of the direction of 60 degrees-120 degrees with respect to a rolling direction is seen is 60% or more.

好適には、圧延銅箔は、主成分としてCrおよびZrのうちの少なくとも一方を含むCu−(Cr,Zr)系の銅合金であって、主成分となるCr、Zrのうち少なくとも1種を合計で0.01〜0.9mass%含有する。
また、Cu−(Cr,Zr)系の圧延銅箔は、副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有しても良い。
なお、Cu−(Cr,Zr)系の圧延銅箔は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
Preferably, the rolled copper foil is a Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy containing at least one of Cr and Zr as a main component, and at least one of Cr and Zr as main components is included. A total of 0.01-0.9 mass% is contained.
Moreover, the Cu- (Cr, Zr) -based rolled copper foil may contain 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg as auxiliary additives. .
In addition, the Cu- (Cr, Zr) -based rolled copper foil is formed with inevitable impurities in the remainder excluding the main component, or the remainder excluding the main component and the auxiliary additive component.

好適には、圧延銅箔は、主成分としてAgを含むCu−Ag系の銅合金であって、主成分となるAgを合計で0.01〜0.9mass%含有する。
また、Cu−Ag系の圧延銅箔は、副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有しても良い。
なお、Cu−Ag系の圧延銅箔は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
Preferably, the rolled copper foil is a Cu-Ag copper alloy containing Ag as a main component, and contains 0.01 to 0.9 mass% of Ag as a main component.
In addition, the Cu-Ag-based rolled copper foil may contain 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg serving as auxiliary additives.
In the Cu-Ag-based rolled copper foil, the remaining part excluding the main component or the remaining part excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.

好適には、圧延銅箔は、主成分としてSnを含むCu−Sn系の銅合金であって、主成分となるSnを合計で0.01〜4.9mass%含有する。
また、Cu−Sn系の圧延銅箔は、副添加成分となるZn、Si、P、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有しても良い。
なお、Cu−Sn系の圧延銅箔は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
Preferably, the rolled copper foil is a Cu—Sn based copper alloy containing Sn as a main component, and contains 0.01 to 4.9 mass% of Sn as a main component in total.
In addition, the Cu—Sn-based rolled copper foil may contain 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Zn, Si, P, and Mg serving as auxiliary additives.
In addition, as for the Cu-Sn type rolled copper foil, the remainder except a main component, or the remainder except a main component and a secondary additive component is formed with an unavoidable impurity.

好適には、圧延銅箔は、主成分としてNiおよびSiを含むCu−Ni−Si系の銅合金であって、主成分となるNiを1.4〜4.8mass%、Siを0.2〜1.3mass%含有する。
また、Cu−Ni−Si系の圧延銅箔は、副添加成分となるSn、Zn、Mn、Mg、Coから少なくとも1種を合計で0.005〜0.9mass%含有する。
なお、Cu−Ni−Si系の圧延銅箔は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
Preferably, the rolled copper foil is a Cu—Ni—Si based copper alloy containing Ni and Si as main components, wherein Ni as a main component is 1.4 to 4.8 mass%, and Si is 0.2. Contains ~ 1.3 mass%.
Moreover, the Cu-Ni-Si-based rolled copper foil contains 0.005 to 0.9 mass% in total of at least one of Sn , Zn, Mn, Mg, and Co, which are auxiliary components.
In addition, as for the Cu-Ni-Si type rolled copper foil, the remainder except a main component, or the remainder except a main component and an auxiliary additive component is formed with an unavoidable impurity.

好適には、圧延銅箔は、酸素を含む純銅系であって、酸素量が2〜200ppmである。
なお、純銅系の圧延銅箔は、残部が不可避不純物により形成されている。
Preferably, the rolled copper foil is pure copper containing oxygen and has an oxygen content of 2 to 200 ppm.
In addition, the remainder of the pure copper-based rolled copper foil is formed of inevitable impurities.

また、本発明によれば、上記した圧延銅箔のうちのいずれかの圧延銅箔を製造する圧延銅箔の製造方法であって、被圧延材に対して再結晶温度以上に加熱して熱間圧延を行う熱間圧延工程と、前記熱間圧延工程後に、再結晶が生じない温度下で冷間圧延を行う少なくとも2回の中間冷間圧延工程と、前記中間冷間圧延工程の間に、所定の温度下でかつ昇温速度で中間的な焼きなしを行う少なくとも1回の中間焼鈍工程と、最終回の前記中間冷間圧延工程の後に、所定の温度下でかつ所定の昇温速度で最終的な焼きなましを行う最終焼鈍工程と、を含み、前記最終焼鈍工程に入る前に行われる前記中間焼鈍工程において、前記昇温速度が、再結晶前駆現象の時間を与えない速度に設定され、到達温度が、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織が得られる高い温度に設定される、製造方法が提供される。   Further, according to the present invention, there is provided a rolled copper foil manufacturing method for manufacturing any one of the rolled copper foils described above, wherein the material to be rolled is heated to a recrystallization temperature or higher and heated. Between the hot rolling step for performing hot rolling, at least two intermediate cold rolling steps for performing cold rolling at a temperature at which recrystallization does not occur after the hot rolling step, and the intermediate cold rolling step , After at least one intermediate annealing step in which intermediate baking is not performed at a predetermined temperature and at a heating rate, and after the final intermediate cold rolling step, at a predetermined temperature and at a predetermined heating rate In the intermediate annealing step that is performed before entering the final annealing step, the temperature increase rate is set to a rate that does not give time for the recrystallization precursor phenomenon. , The reached temperature suppresses the preferential movement of specific grain boundaries, Phased recrystallization texture is set to a high temperature obtained, the production method is provided.

好適には、前記最終焼鈍工程に入る前に行われる前記中間焼鈍工程において、前記到達温度が、銅合金の再結晶温度の上限より高い温度である。   Preferably, in the intermediate annealing step performed before entering the final annealing step, the reached temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy.

好適には、前記最終焼鈍工程に入る前に行われる前記中間焼鈍工程において、前記昇温速度が、2°C/秒以上であり、前記到達温度が800°C以上の高い温度である。   Preferably, in the intermediate annealing step performed before entering the final annealing step, the rate of temperature increase is 2 ° C / second or more, and the ultimate temperature is a high temperature of 800 ° C or more.

また、好適には、前記熱間圧延工程の後に冷間圧延を行う第1中間冷間圧延工程と、上記第1中間冷間圧延工程に続いて、中間的な焼鈍を行う第1中間焼鈍工程と、前記第1中間焼鈍工程に続いて冷間圧延を行う第2中間冷間圧延工程と、上記第2中間冷間圧延工程に続いて、中間的な焼鈍を行う第2中間焼鈍工程と、前記第2中間焼鈍工程に続いて冷間圧延を行う第3中間冷間圧延工程と、を含み、前記最終焼鈍工程は、前記第3中間冷間圧延工程に続いて行われ、前記第2中間焼鈍工程が、前記最終焼鈍工程に入る前に行われる前記中間焼鈍工程であって、前記昇温速度が、再結晶前駆現象の時間を与えない速度に設定され、到達温度が、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織が得られる高い温度に設定される。   Preferably, the first intermediate cold rolling step in which cold rolling is performed after the hot rolling step, and the first intermediate annealing step in which intermediate annealing is performed following the first intermediate cold rolling step. A second intermediate cold rolling step for performing cold rolling subsequent to the first intermediate annealing step, and a second intermediate annealing step for performing intermediate annealing subsequent to the second intermediate cold rolling step, A third intermediate cold rolling step for performing cold rolling subsequent to the second intermediate annealing step, wherein the final annealing step is performed subsequent to the third intermediate cold rolling step, The annealing step is the intermediate annealing step that is performed before entering the final annealing step, the rate of temperature increase is set to a rate that does not give time for the recrystallization precursor phenomenon, and the ultimate temperature is a specific grain boundary The temperature is set to a high temperature at which the preferential movement is suppressed and a randomized recrystallized structure is obtained.

また、好適には、前記熱間圧延の工程の前に、前記被圧延材に対して均質化熱処理を行う均質化熱処理工程を含む。   Preferably, a homogenization heat treatment step of performing a homogenization heat treatment on the material to be rolled is included before the hot rolling step.

本発明によれば、縞状凹凸が形成された領域が広く、粗化めっきの均一性に優れる圧延銅箔を実現することができ、集電体と活物質の密着性を良好にすることができる。
その結果、電池などの製造工程における外力によって集電体から活物質が脱落し難くなり、二次電池の容量を向上させることができる。更に、充・放電時に膨張・収縮量の大きいスズ(Sn)系やシリコン(Si)系などの活物質が変形しても、活物質と集電体の離脱を防止し、二次電池の充・放電のサイクル特性を向上させることができる。
According to the present invention, it is possible to realize a rolled copper foil having a wide area where striped irregularities are formed and having excellent uniformity of rough plating, and to improve the adhesion between the current collector and the active material. it can.
As a result, it is difficult for the active material to drop off from the current collector due to an external force in the manufacturing process of the battery, and the capacity of the secondary battery can be improved. Furthermore, even if an active material such as tin (Sn) or silicon (Si), which has a large expansion / contraction during charging / discharging, is deformed, the active material and the current collector are prevented from being separated, and the secondary battery is charged. -The cycle characteristics of discharge can be improved.

本発明の実施形態に係る圧延銅箔が負極集電体として適用されるリチウム二次電池の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the lithium secondary battery with which the rolled copper foil which concerns on embodiment of this invention is applied as a negative electrode collector. 本発明の実施形態に係る圧延銅箔を模式的に拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows typically a rolled copper foil concerning an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る圧延銅箔の製造工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of the rolled copper foil which concerns on embodiment of this invention. 圧延銅箔の表面組織において縞状凹凸領域と、縞状凹凸領域の間に見られる低凹凸領域とを示す図である。It is a figure which shows the striped uneven | corrugated area | region and the low uneven | corrugated area | region seen between striped uneven | corrugated area | regions in the surface structure of a rolled copper foil. 本実施形態に係る圧延銅箔の表面組織に縞状凹凸が多い状態を示す図である。It is a figure which shows a state with many striped unevenness | corrugations in the surface structure of the rolled copper foil which concerns on this embodiment. EBSDによる測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result by EBSD. RDW方位からのずれ角度が13°以内の方位の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the azimuth | direction in which the deviation | shift angle from RDW azimuth | direction is within 13 degrees. 比較例の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of a comparative example.

図1は、本発明の実施形態に係る圧延銅箔が負極集電体として適用されるリチウム二次電池の概略構成を示す図である。
図2は、本発明の実施形態に係る圧延銅箔を模式的に拡大して示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a lithium secondary battery to which a rolled copper foil according to an embodiment of the present invention is applied as a negative electrode current collector.
FIG. 2 is a schematic enlarged view showing the rolled copper foil according to the embodiment of the present invention.

図1のリチウム二次電池10は、正極11、負極12、正極集電体13、負極集電体14、セパレータ15、正極側電池缶16、負極側電池缶17、および絶縁パッキング18を含んで構成されている。   A lithium secondary battery 10 in FIG. 1 includes a positive electrode 11, a negative electrode 12, a positive electrode current collector 13, a negative electrode current collector 14, a separator 15, a positive electrode side battery can 16, a negative electrode side battery can 17, and an insulating packing 18. It is configured.

正極11と負極12は、セパレータ15を挟んで対向するように配置されている。これら、正極11、負極12、セパレータ15は、正極側電池缶16および負極側電池缶17により形成される電池ケースに収納されている。
この収納状態で、正極11は正極集電体13を介して正極側電池缶16に接続され、負極12は負極集電体14を介して負極側電池缶17に接続されている。
この構造により二次電池10は充電および放電が可能となっている。
The positive electrode 11 and the negative electrode 12 are disposed so as to face each other with the separator 15 interposed therebetween. The positive electrode 11, the negative electrode 12, and the separator 15 are accommodated in a battery case formed by the positive electrode side battery can 16 and the negative electrode side battery can 17.
In this housed state, the positive electrode 11 is connected to the positive electrode side battery can 16 via the positive electrode current collector 13, and the negative electrode 12 is connected to the negative electrode side battery can 17 via the negative electrode current collector 14.
With this structure, the secondary battery 10 can be charged and discharged.

本実施形態においては、この負極集電体14として、図2に示すような圧延銅箔20が適用される。
本実施形態に係る圧延銅箔20は、例えば厚さdが12μm以下に設定され、以下の特徴をもって形成されている。
圧延銅箔20は、圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる領域の面積率が60%以上である。
また、圧延銅箔20は、表面結晶方位におけるRDW方位{012}<100>方位から13°以内の面積率が15%以下である。
結晶方位は、電子後方散乱回折(EBSD法)による結晶方位測定が適用可能である。
また、本実施形態に係る圧延銅箔20は、以下の(1)〜(5)に示すような銅合金または純銅系として形成される。
In the present embodiment, a rolled copper foil 20 as shown in FIG. 2 is applied as the negative electrode current collector 14.
The rolled copper foil 20 according to this embodiment has a thickness d set to 12 μm or less, for example, and is formed with the following characteristics.
The rolled copper foil 20 has an area ratio of 60% or more in a region where surface irregularities of a striped pattern in a direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction are seen.
The rolled copper foil 20 has an area ratio within 15 ° of 15% or less from the RDW orientation {012} <100> orientation in the surface crystal orientation.
As the crystal orientation, crystal orientation measurement by electron backscatter diffraction (EBSD method) can be applied.
Moreover, the rolled copper foil 20 which concerns on this embodiment is formed as a copper alloy as shown in the following (1)-(5), or a pure copper type | system | group.

(1):Cu−(Cr,Zr)系の銅合金
圧延銅箔20は、主成分としてCrおよびZrのうちの少なくとも一方を含むCu−(Cr,Zr)系の銅合金であって、主成分となるCr、Zrのうち少なくとも1種を合計で0.01〜0.9mass%含有する銅合金として形成される。
また、Cu−(Cr,Zr)系の銅合金は、必要に応じて副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する銅合金として形成される。
Cu−(Cr,Zr)系の銅合金は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
(1): Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy The rolled copper foil 20 is a Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy containing at least one of Cr and Zr as a main component. It is formed as a copper alloy containing 0.01 to 0.9 mass% in total of at least one of Cr and Zr as components.
Further, the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy contains 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg as sub-addition components as necessary. It is formed as a copper alloy.
In the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy, the remainder excluding the main component or the remainder excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.

(2):Cu−Ag系の銅合金
圧延銅箔20は、主成分としてAgを含むCu−Ag系の銅合金であって、主成分となるAgを合計で0.01〜0.9mass%含有する銅合金として形成される。
また、Cu−Ag系の銅合金は、必要に応じて副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する銅合金として形成される。
Cu−Ag系の銅合金は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
(2): Cu-Ag-based copper alloy The rolled copper foil 20 is a Cu-Ag-based copper alloy containing Ag as a main component, and 0.01 to 0.9 mass% of Ag as a main component in total. It is formed as a copper alloy containing.
In addition, the Cu-Ag-based copper alloy is formed as a copper alloy containing 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg, which are sub-addition components as necessary. Is done.
In the Cu-Ag-based copper alloy, the remaining part excluding the main component, or the remaining part excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.

(3):Cu−Sn系の銅合金
圧延銅箔20は、主成分としてSnを含むCu−Sn系の銅合金であって、主成分となるSnを合計で0.01〜4.9mass%含有する銅合金として形成される。
また、Cu−Sn系の銅合金は、必要に応じて副添加成分となるZn、Si、P、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する銅合金として形成される。
Cu−Sn系の銅合金は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
(3): Cu-Sn-based copper alloy The rolled copper foil 20 is a Cu-Sn-based copper alloy containing Sn as a main component, and the total amount of Sn as the main component is 0.01 to 4.9 mass%. It is formed as a copper alloy containing.
In addition, the Cu—Sn based copper alloy is formed as a copper alloy containing 0.01 to 0.45 mass% in total of at least one of Zn, Si, P, and Mg as sub-addition components as necessary. .
In the Cu—Sn-based copper alloy, the remainder excluding the main component or the remainder excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.

(4):Cu−Ni−Si系の銅合金
圧延銅箔20は、主成分としてNiおよびSiを含むCu−Ni−Si系の銅合金であって、主成分となるNiを1.4〜4.8mass%、Siを0.2〜1.3mass%含有する合銅合金として形成される。
また、Cu−Ni−Si系の銅合金は、必要に応じて副添加成分となるSn、Zn、Si、Cr、Mn、Mg、Coから少なくとも1種を合計で0.005〜0.9mass%含有する銅合金として形成される。
Cu−Ni−Si系の銅合金は、主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている。
(4): Cu—Ni—Si based copper alloy The rolled copper foil 20 is a Cu—Ni—Si based copper alloy containing Ni and Si as main components, and the main component Ni is 1.4 to It is formed as a copper alloy containing 4.8 mass% and 0.2 to 1.3 mass% of Si.
In addition, the Cu—Ni—Si based copper alloy is 0.005 to 0.9 mass% in total of at least one of Sn, Zn, Si, Cr, Mn, Mg, and Co, which are sub-addition components as necessary. It is formed as a copper alloy containing.
In the Cu-Ni-Si-based copper alloy, the remainder excluding the main component, or the remainder excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.

(5):酸素を含む純銅系(TPC系)
圧延銅箔20は、酸素を含む純銅系(TPC系)の銅材料であって、酸素量が2〜200ppmで、残部が不可避不純物からなる。
(5): Pure copper system containing oxygen (TPC system)
The rolled copper foil 20 is a pure copper-based (TPC-based) copper material containing oxygen, and has an oxygen amount of 2 to 200 ppm, with the remainder being inevitable impurities.

ここで、不可避不純物とは、おおむね金属製品において、原料中に存在したり、製造工程において不可避的に混入するもので、本来は不要なものであるが、微量であり、金属製品の特性に影響を及ぼさないため許容されている不純物である。   Here, inevitable impurities are generally present in raw materials in metal products, or are inevitably mixed in the manufacturing process, and are essentially unnecessary, but are insignificant and affect the characteristics of metal products. It is an acceptable impurity because it does not affect

図3は、本実施形態に係る圧延銅箔20の製造工程を説明するための図である。
圧延銅箔20は、図3に示すように、第1工程ST1から第13工程ST13を基本工程として製造される。
FIG. 3 is a diagram for explaining a manufacturing process of the rolled copper foil 20 according to the present embodiment.
As shown in FIG. 3, the rolled copper foil 20 is manufactured using the first step ST1 to the thirteenth step ST13 as a basic step.

第1工程ST1は原料を溶解させる溶解工程であり、第2工程ST2は溶解した原料を鋳造して被圧延材(鋳塊)を形成する鋳造工程であり、第3工程ST3は被圧延材の鋳造組織を均質化する熱処理である均質化熱処理工程である。
第4工程ST4は熱間圧延工程である。熱間圧延とは、金属を再結晶温度以上に加熱して行う圧延をいう。第5工程ST5は水冷工程であり、第6工程ST6は酸化スケールの除去のための面削工程である。
第7工程ST7は第1(中間)冷間圧延工程であり、第8工程ST8は中間的な焼きなましを行う第1中間焼鈍工程である。冷間圧延は、再結晶が生じない温度範囲(例えば常温)下で行う圧延をいう。
第9工程ST9は第2中間冷間圧延工程であり、第10工程ST10は第2中間焼鈍工程であり、第11工程ST11は第3中間冷間圧延工程である。
第12工程は最終的な焼きなましを行う最終焼鈍工程であり、第13工程ST13は仕上圧延工程である。
The first step ST1 is a melting step for melting the raw material, the second step ST2 is a casting step for casting the molten raw material to form a material to be rolled (ingot), and the third step ST3 is a material for rolling the material to be rolled. This is a homogenization heat treatment step that is a heat treatment for homogenizing the cast structure.
The fourth step ST4 is a hot rolling step. Hot rolling refers to rolling performed by heating a metal to a recrystallization temperature or higher. The fifth step ST5 is a water cooling step, and the sixth step ST6 is a chamfering step for removing oxide scale.
The seventh step ST7 is a first (intermediate) cold rolling step, and the eighth step ST8 is a first intermediate annealing step in which intermediate annealing is performed. Cold rolling refers to rolling performed in a temperature range (for example, room temperature) where recrystallization does not occur.
The ninth step ST9 is a second intermediate cold rolling step, the tenth step ST10 is a second intermediate annealing step, and the eleventh step ST11 is a third intermediate cold rolling step.
The twelfth step is a final annealing step in which final annealing is performed, and the thirteenth step ST13 is a finish rolling step.

本実施形態に係る圧延銅箔20を製造する特徴的な処理は、第8工程ST8の第1中間焼鈍工程、第10工程ST10の第2中間焼鈍工程のうち第12工程ST12の最終焼鈍工程の前に行う第2中間焼鈍工程において、昇温速度および到達温度が次のように設定されている。
本実施形態では、第10工程ST10の第2中間焼鈍工程において、昇温速度を、通常の中間焼鈍の昇温速度より高めて再結晶前駆現象の時間を与えない速度として、かつ、焼鈍の到達温度を、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織が得られるように、銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としている。
本実施形態に係る圧延銅箔20の製造においては、第10工程ST10の第2中間焼鈍における昇温速度は2°C/秒以上、かつ到達温度は800°C以上であることを特徴としている。
このように、本実施形態に係る圧延銅箔20の製造においては、1秒間に数℃ごとのステップあるいは数十℃ごとのステップで昇温する。
The characteristic process for producing the rolled copper foil 20 according to the present embodiment is the final annealing step of the twelfth step ST12 among the first intermediate annealing step of the eighth step ST8 and the second intermediate annealing step of the tenth step ST10. In the second intermediate annealing step performed before, the rate of temperature increase and the reached temperature are set as follows.
In the present embodiment, in the second intermediate annealing step of the tenth step ST10, the rate of temperature increase is set to a rate that does not give the time for the recrystallization precursor phenomenon by increasing the temperature increase rate of the normal intermediate annealing, and the arrival of annealing. The temperature is set to a temperature higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy so that the preferential movement of a specific grain boundary is suppressed and a random recrystallized structure is obtained.
In the production of the rolled copper foil 20 according to the present embodiment, the temperature increase rate in the second intermediate annealing in the tenth step ST10 is 2 ° C./second or more, and the ultimate temperature is 800 ° C. or more. .
Thus, in the manufacture of the rolled copper foil 20 according to the present embodiment, the temperature is increased in steps of several degrees Celsius or steps of several tens of degrees Celsius per second.

以下、本実施形態に係る圧延銅箔20の上述した表面組織、結晶方位、結晶方位を制御する製造工程、合金成分等の特徴点に関して具体的に説明し、また、上記(1)〜(5)の合銅金の実施例を参考例および比較例と対比しつつ説明する。   Hereinafter, the above-described surface structure, crystal orientation, manufacturing process for controlling the crystal orientation, the alloy components, and other features of the rolled copper foil 20 according to the present embodiment will be described in detail, and the above (1) to (5) ) Will be described in comparison with reference examples and comparative examples.

[表面組織]
図4は、圧延銅箔の表面組織において縞状凹凸領域と、縞状凹凸領域の間に見られる低凹凸領域とを示す図である。
図4において、1Hが縞状凹凸領域を、1Lが低凹凸領域をそれぞれ示している。
図5は、本実施形態に係る圧延銅箔20の表面組織に縞状凹凸が多い状態を示す図である。
[Surface texture]
FIG. 4 is a diagram showing a striped uneven region and a low uneven region seen between the striped uneven region in the surface texture of the rolled copper foil.
In FIG. 4, 1H indicates a striped uneven region, and 1L indicates a low uneven region.
FIG. 5 is a diagram showing a state in which the surface texture of the rolled copper foil 20 according to the present embodiment has a large number of striped irregularities.

本実施形態においては、図4に示すような縞状凹凸領域1Hの面積を、全面積で割り戻すことで、面積率とした。
面積率が60%以上であることが、粗化めっきの均一性を担保するのに必要である。好ましくは70%以上、更に好ましくは80%以上である。
図5に示す本実施形態に係る圧延銅箔20は、縞状凹凸が多い状態となっている。
In the present embodiment, the area ratio is obtained by dividing the area of the striped uneven region 1H as shown in FIG. 4 by the total area.
An area ratio of 60% or more is necessary to ensure the uniformity of the rough plating. Preferably it is 70% or more, More preferably, it is 80% or more.
The rolled copper foil 20 according to this embodiment shown in FIG. 5 is in a state where there are many striped irregularities.

[結晶方位]
圧延銅箔20において、RDW方位が少ないほど、縞状凹凸領域の面積率が高められ、良好な粗化めっきが可能となり、RDW方位の面積率は15%以下である。好ましくは12%以下、更に好ましくは8%以下である。
[Crystal orientation]
In the rolled copper foil 20, the smaller the RDW orientation, the higher the area ratio of the striped uneven region, and good roughening plating is possible. The area ratio of the RDW orientation is 15% or less. Preferably it is 12% or less, More preferably, it is 8% or less.

図6は、EBSDによる測定結果を示す図である。
図6においては、圧延集合組織であるBrass方位およびS方位および、RDW方位の方位の領域と、隣接測定点間のなす角が15°以上で定義された結晶粒界が表示されている。
Brass方位、S方位の領域RGN−BSは圧延方向(RD、図の左右方向)に10μm前後の大きさの結晶粒に分断され、そのサイズと縞状凹凸が対応している。
一方、RDW方位の領域RGN−Rは、その結晶粒内の方位勾配はあるものの、結晶粒界を持たず、RD方向に粗大な結晶粒となっており、これが、縞状凹凸を有さない領域に対応していることがわかる。
FIG. 6 is a diagram showing a measurement result by EBSD.
In FIG. 6, the grain boundaries defined by the areas of the Brass orientation, the S orientation, and the RDW orientation, which are rolling textures, and an angle between adjacent measurement points of 15 ° or more are displayed.
The regions RGN-BS of the Brass orientation and the S orientation are divided into crystal grains having a size of about 10 μm in the rolling direction (RD, the left-right direction in the figure), and the size corresponds to the striped unevenness.
On the other hand, the region RGN-R with the RDW orientation has an orientation gradient within the crystal grains, but does not have a crystal grain boundary and is a coarse crystal grain in the RD direction, which does not have a striped unevenness. It can be seen that it corresponds to the area.

このようなRDW方位が持つ特異性の起源は、結晶滑りが少ない仕事量で行われるためである。多結晶材の滑り変形に対する結晶方位の影響に関してTaylorのモデルがあり(例えば、J. Inst. Metals, 62(1938), 307-324.)、テイラー因子がこの仕事量に相当する。
Brass方位およびS方位の圧延変形におけるテイラー因子はそれぞれ、3.3および3.5であるのに対し、RDW方位のテイラー因子は2.4であり、あらゆる結晶方位の中でも最も低い値である。
すなわち、高い加工率の箔圧延加工を行い、転位や空孔などの格子欠陥の密度が著しく高い状況下で、Brass方位やS方位は結晶滑りが起きにくいために、せん断帯や粒界の形成によって変形が担われて結晶粒が分断し、その結果、圧延表面にピットを形成する。
それに対し、RDW方位は結晶滑りによって変形が担われるために、一つの結晶粒が伸長するのみで粒内に新しい粒界を形成せず、その結果、ピットの少ない表面となる。
The origin of the specificity of such an RDW orientation is that crystal slip is performed with a small amount of work. There is a Taylor model for the influence of crystal orientation on the slip deformation of a polycrystalline material (for example, J. Inst. Metals, 62 (1938), 307-324.), And the Taylor factor corresponds to this work amount.
The Taylor factor in the rolling deformation in the Brass orientation and the S orientation is 3.3 and 3.5, respectively, whereas the Taylor factor in the RDW orientation is 2.4, which is the lowest value among all crystal orientations.
In other words, under the condition that the foil rolling process at a high processing rate is performed and the density of lattice defects such as dislocations and vacancies is remarkably high, the crystallographic slip is less likely to occur in the Brass orientation and S orientation, so that shear bands and grain boundaries are formed. As a result, deformation is carried out and the crystal grains are divided, and as a result, pits are formed on the rolling surface.
On the other hand, since the RDW orientation is deformed by crystal slip, only one crystal grain is elongated and no new grain boundary is formed in the grain, resulting in a surface with few pits.

本明細書における結晶方位の表示方法は、材料の圧延方向(RD)をX軸、板幅方向(TD)をY軸、圧延法線方向(ND)をZ軸の直角座標系をとり、材料中の各領域がZ軸に垂直な(圧延面(XY面)に平行な)結晶面の指数(h k l)と、X軸に垂直な(YZ面に平行な)結晶面の指数[u v w]とを用いて、(h k l)[u v w]の形で示す。
また、(1 2 0)[0 0 1]と(2 1 0)[0 0 1]などのように、銅合金の立方晶の対称性のもとで等価な方位については、ファミリーを表すカッコ記号を使用し、{h k l}<u v w>と示す。
The crystal orientation display method in the present specification takes a rectangular coordinate system in which the rolling direction (RD) of the material is the X axis, the sheet width direction (TD) is the Y axis, and the rolling normal direction (ND) is the Z axis. The index (h k l) of the crystal plane perpendicular to the Z axis (parallel to the rolling surface (XY plane)) and the index [u of the crystal plane perpendicular to the X axis (parallel to the YZ plane) [u vw] and in the form of (h k l) [u v w].
In addition, parentheses representing families are given for equivalent orientations under the symmetry of copper alloy cubic crystals, such as (1 2 0) [0 0 1] and (2 1 0) [0 0 1]. Symbols are used and denoted as {h k l} <u v w>.

本実施形態における上記結晶方位の解析には、EBSD法を用いる。EBSDとは、Electron Back Scatter Diffraction(電子後方散乱回折)の略で、走査電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)内で試料に電子線を照射したときに生じる反射電子菊池線回折(菊池パターン)を利用した結晶方位解析技術のことである。
本実施形態においては、5万平方μm以上の試料面積に対し、0.2μmのステップでスキャンし、方位を解析する。
面積率とは、理想方位からのずれ角度が13°以内の領域の面積を、全体の測定面積で割って(除して)算出したものである。
理想方位からのずれ角度については、共通の回転軸を中心に回転角を計算し、ずれ角度とした。
The EBSD method is used for the analysis of the crystal orientation in the present embodiment. EBSD is an abbreviation for Electron Back Scatter Diffraction (Electron Backscatter Diffraction). Reflected Electron Kikuchi Line Diffraction (Kikuchi pattern) generated when a sample is irradiated with an electron beam in a Scanning Electron Microscope (SEM). This is the crystal orientation analysis technology used.
In this embodiment, a sample area of 50,000 square μm or more is scanned in a 0.2 μm step, and the orientation is analyzed.
The area ratio is calculated by dividing (dividing) the area of the region whose deviation angle from the ideal orientation is within 13 ° by the total measurement area.
Regarding the deviation angle from the ideal orientation, the rotation angle was calculated around the common rotation axis, and was taken as the deviation angle.

図7は、RDW方位からのずれ角度が13°以内の方位の例を示す図である。
図7においては、(001)および(101)および(111)の回転軸に関して、13°以内の方位を示しているが、あらゆる回転軸に関してRDW方位との回転角度を計算した。回転軸は最も小さいずれ角度で表現できるものを採用した。
EBSDによる方位解析において得られる情報は、電子線が試料に侵入する数10nmの深さまでの方位情報を含んでいるが、測定している広さに対して充分に小さいため、本明細書中では面積率として記載した。また、方位分布は板表面から測定した。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of an orientation whose deviation angle from the RDW orientation is within 13 °.
In FIG. 7, azimuths within 13 ° are shown with respect to the rotation axes of (001), (101), and (111), but the rotation angle with the RDW azimuth was calculated for every rotation axis. The rotation axis that can be expressed at the smallest angle is adopted.
The information obtained in the azimuth analysis by EBSD includes azimuth information up to a depth of several tens of nanometers at which the electron beam penetrates into the sample. It was described as an area ratio. The orientation distribution was measured from the plate surface.

[結晶方位を制御する工程]
本発明の実施形態において有効性が見出された結晶方位に制御するための製造工程を示す。
なお、上述したように、圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる領域の面積率が60%以上であり、さらにまた、表面結晶方位におけるRDW方位{012}<100>方位から13°以内の面積率が15%以下であることを満足すれば、ここで示す製造工程に限定されるものではない。
[Process for controlling crystal orientation]
The manufacturing process for controlling to the crystal orientation in which effectiveness was found in embodiment of this invention is shown.
In addition, as described above, the area ratio of the region where the surface irregularities of the striped pattern in the direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction is 60% or more, and the RDW orientation { As long as the area ratio within 13 ° from the 012} <100> orientation is 15% or less, the manufacturing process is not limited thereto.

結晶方位を制御するための圧延銅箔20の製造工程としては、図3に示すように、第1工程ST1から第13工程ST13が基本工程となる。
すなわち、溶解工程、鋳造工程、均質化熱処理工程、熱間圧延工程、水冷工程、面削工程、第1(中間)冷間圧延工程、第1中間焼鈍工程、第2中間冷間工程、第2中間焼鈍工程、第3中間冷間工程、最終焼鈍工程、仕上圧延工程からなる製造工程が基本となる。
As a manufacturing process of the rolled copper foil 20 for controlling the crystal orientation, the first process ST1 to the 13th process ST13 are basic processes as shown in FIG.
That is, a melting process, a casting process, a homogenization heat treatment process, a hot rolling process, a water cooling process, a chamfering process, a first (intermediate) cold rolling process, a first intermediate annealing process, a second intermediate cold process, a second The manufacturing process is basically composed of an intermediate annealing process, a third intermediate cold process, a final annealing process, and a finish rolling process.

一般的に、中間の焼鈍工程の目的は、加工により硬化してそれ以上の加工が困難な材料の、組織を再結晶させて軟化させることにより、加工できる状態にすることである。
銅合金の再結晶温度は、合金によって差違があるもののおおよそ150〜800°C(ここでは800°C未満)である。
本発明の実施形態において低く制御したいRDW方位は、再結晶における優先成長方位であるとともに、圧延しても非回転のまま残存し易い傾向がある。
よって、第12工程ST12の最終焼鈍における組織中のRDW方位の低減が必要である。
In general, the purpose of the intermediate annealing step is to make a material that is hardened by processing and difficult to further process by recrystallizing and softening the structure so that it can be processed.
The recrystallization temperature of the copper alloy is approximately 150 to 800 ° C. (here, less than 800 ° C.) although there are differences depending on the alloy.
In the embodiment of the present invention, the RDW orientation to be controlled low is the preferential growth orientation in recrystallization and tends to remain non-rotated even after rolling.
Therefore, it is necessary to reduce the RDW orientation in the structure in the final annealing in the twelfth step ST12.

本実施形態に係る圧延銅箔20の製造方法によれば、第10工程ST10の第2中間焼鈍において、昇温速度を2°C/秒以上、かつ到達温度を800°C以上にすることによって、その制御が可能であることを見出した。
再結晶過程における優先方位の形成は、結晶方位ごとの回復速度の違いが影響していると考えられるが、昇温速度を高めて再結晶前駆現象の時間を与えないこと、および、到達温度の高温化によって特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織が得られるためである。
焼鈍速度の好ましい範囲は、5°C/秒以上、更に好ましい範囲は10°C/秒以上である。上限は特に設けないが、最高は200°C/秒である。
到達温度の好ましい範囲は870°C以上、更に好ましい範囲は950°C以上である。上限は材料の高温脆性が顕著となる1000°Cである。
According to the manufacturing method of the rolled copper foil 20 which concerns on this embodiment, in 2nd intermediate annealing of 10th process ST10, by making temperature increase rate 2 degrees C / sec or more and ultimate temperature to 800 degrees C or more, And found that control is possible.
The formation of the preferred orientation in the recrystallization process is thought to be affected by the difference in the recovery rate for each crystal orientation, but it does not give the time for the recrystallization precursor phenomenon by increasing the temperature rise rate, This is because preferential movement of specific grain boundaries is suppressed by increasing the temperature, and a random recrystallized structure is obtained.
A preferable range of the annealing rate is 5 ° C./second or more, and a more preferable range is 10 ° C./second or more. There is no particular upper limit, but the maximum is 200 ° C / sec.
A preferable range of the reached temperature is 870 ° C or higher, and a more preferable range is 950 ° C or higher. The upper limit is 1000 ° C. at which the high temperature brittleness of the material becomes significant.

なお、第12工程ST12の最終焼鈍でこのランダム化再結晶熱処理を行うと、結晶粒が粗大な場合に表面ワレやコバ割れの原因となるため好ましくない。したがって、最終焼鈍後の結晶粒径は、30μm以下にすることが好ましい。   Note that it is not preferable to perform this randomized recrystallization heat treatment in the final annealing in the twelfth step ST12, since it causes cracks and cracks when the crystal grains are coarse. Therefore, the crystal grain size after the final annealing is preferably 30 μm or less.

[合金成分]
上述の結晶方位制御による効果は、各種の合金系に適用することができる。
そして、電池全体の設計によって、銅箔に必要な特性が異なり、それに応じて適切な合金系が選定されれば良い。圧延箔の強度と導電性は、おおよそトレードオフの関係にあり、各合金系の特性は下記の表1に示すようになる。
[Alloy components]
The effects of the above-described crystal orientation control can be applied to various alloy systems.
Depending on the overall battery design, the required characteristics of the copper foil differ, and an appropriate alloy system may be selected accordingly. The strength and conductivity of the rolled foil are approximately in a trade-off relationship, and the characteristics of each alloy system are as shown in Table 1 below.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表1において、本実施形態に係るCu−(Cr、Zr)系の銅合金の引張強度は400〜700MPaであり、導電性は70〜95%IACS(International Annealed Copper Standard: 国際焼きなまし銅線標準)であることを示している。
ここで、70%IACSとは、電気抵抗率がIACS(国際焼きなまし銅線標準)という名の“標準焼きなまし銅線”を100%とした場合の導線が70%の導電性をもつということを示している。
このCu−(Cr、Zr)系の銅合金の導電性は70〜95%IACSであり、電気特性も良好である。
In Table 1, the tensile strength of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy according to the present embodiment is 400 to 700 MPa, and the conductivity is 70 to 95% IACS (International Annealed Copper Standard). It is shown that.
Here, 70% IACS means that the electrical resistance has a conductivity of 70% when the standard annealed copper wire named IACS (International Annealed Copper Wire Standard) is 100%. ing.
The conductivity of this Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy is 70 to 95% IACS, and the electrical characteristics are also good.

同様にして、本実施形態に係るCu−Ag系の銅合金の引張強度は350〜550MPaであり、導電性は80〜98%IACSであることを示している。
このCu−Ag系の銅合金は、導電性が80〜98%IACSと高い電気特性を発現する。
Similarly, the Cu-Ag copper alloy according to this embodiment has a tensile strength of 350 to 550 MPa and a conductivity of 80 to 98% IACS.
This Cu-Ag-based copper alloy exhibits high electrical characteristics with conductivity of 80 to 98% IACS.

本実施形態に係るCu−Sn系の銅合金の引張強度は400〜750MPaであり、導電性は15〜95%IACSであることを示している。
このCu−Sn系の銅合金は、導電性が15〜95%とばらつきの範囲が大きいが、主成分や副添加成分の成分添加量を最適化することにより、高い電気(電池)特性を発現することができる。
The tensile strength of the Cu—Sn based copper alloy according to the present embodiment is 400 to 750 MPa, and the conductivity is 15 to 95% IACS.
This Cu-Sn-based copper alloy has a wide range of electrical conductivity of 15 to 95%, but exhibits high electrical (battery) characteristics by optimizing the component addition amount of the main component and sub-addition components. can do.

本実施形態に係るCu−Ni−Si系の銅合金の引張強度は600〜1000MPaであり、導電性は20〜50%IACSであることを示している。
このCu−Ni−Si系の銅合金は、導電性が20〜50%と若干低目であるが、主成分や副添加成分の成分添加量最適化することにより、用途に応じた電気(電池)特性を発現することができる。
The tensile strength of the Cu—Ni—Si based copper alloy according to this embodiment is 600 to 1000 MPa, and the conductivity is 20 to 50% IACS.
This Cu-Ni-Si-based copper alloy has a slightly low conductivity of 20 to 50%. However, by optimizing the component addition amount of the main component and sub-addition components, the electricity (battery according to the application) ) It can develop characteristics.

本実施形態に係る純銅系(TPC)の銅材料の引張強度は350〜550MPaであり、導電性は95〜100%IACSであることを示している。
この純銅系の銅材料は、導電性が95〜100%IACSと高い電気特性を発現する。
The tensile strength of the pure copper-based (TPC) copper material according to the present embodiment is 350 to 550 MPa, and the conductivity is 95 to 100% IACS.
This pure copper-based copper material exhibits electrical properties as high as 95 to 100% IACS.

上記(1)〜(5)の銅合金の各々で規定した成分の上限を超えて添加した場合に、酸化物、析出物、晶出物などの形態でサブミクロンオーダーの大きさの粗大な第2相として分散し、12μm以下の板厚までの圧延の際に、ピンホールや板切れの原因となるため、好ましくない。また、導電性を著しく低下させるため、好ましくない。
また、上記(1)〜(5)の銅合金の各々で規定した成分の下限値未満に添加した場合に、その添加効果が充分に得られない。成分添加量は、上述の用途に応じて、適宜、調整されるものである。
When added in excess of the upper limit of the components defined in each of the copper alloys of (1) to (5) above, the coarse size of submicron order in the form of oxide, precipitate, crystallized product, etc. It is not preferable because it is dispersed as two phases and causes pinholes or plate breakage during rolling to a plate thickness of 12 μm or less. Further, it is not preferable because the conductivity is remarkably lowered.
Moreover, when it adds less than the lower limit of the component prescribed | regulated by each of the said copper alloy of (1)-(5), the addition effect is not fully acquired. The component addition amount is appropriately adjusted according to the above-mentioned application.

Cu−(Cr、Zr)系の合金に含まれる主成分CrとZrの合計量の好ましい範囲は0.15〜0.43mass%、更に好ましい範囲は0.22〜0.31mass%である。
Cu−Ag系の主成分Agの好ましい範囲は0.02〜0.15mass%、更に好ましい範囲は0.03〜0.05mass%である。
Cu−Sn系の主成分Snの好ましい範囲は0.1〜2.3mass%、更に好ましい範囲は0.6〜0.9mass%である。
Cu−Ni−Si系の主成分Niの好ましい範囲は2.1〜4.2mass%、更に好ましい範囲は3.4〜3.9mass%である。
上記の主成分に加えて、強度や耐熱性などの向上を目的に、Sn、Zn、Si、Mn、Mg、Pなどの副添加元素の添加が許容される。
特に、厚さ12μm以下の箔までの圧延において、内在する第2相によってピンホールが発生する問題に対しては、Si、Mg、Pなどの添加によって溶湯を脱酸して酸化物の形成を抑制することが、また、Mnの添加によって硫化物の形成を抑制することが、有効である。
A preferable range of the total amount of the main components Cr and Zr contained in the Cu— (Cr, Zr) alloy is 0.15 to 0.43 mass%, and a more preferable range is 0.22 to 0.31 mass%.
A preferable range of the Cu-Ag main component Ag is 0.02 to 0.15 mass%, and a more preferable range is 0.03 to 0.05 mass%.
A preferable range of the Cu—Sn-based main component Sn is 0.1 to 2.3 mass%, and a more preferable range is 0.6 to 0.9 mass%.
The preferable range of the Cu-Ni-Si-based main component Ni is 2.1 to 4.2 mass%, and the more preferable range is 3.4 to 3.9 mass%.
In addition to the main components described above, addition of sub-additive elements such as Sn, Zn, Si, Mn, Mg, and P is allowed for the purpose of improving strength and heat resistance.
In particular, in the case of rolling up to a foil having a thickness of 12 μm or less, for the problem that pinholes are generated due to the inherent second phase, the melt is deoxidized by adding Si, Mg, P, etc. to form oxides It is effective to suppress the formation of sulfide by addition of Mn.

RDW方位は、純銅系よりも、添加元素を多く含む合金系になるほど、多く形成される傾向が確認されている。これは、圧延集合組織が、純銅型から黄銅型へ変化することによるものである。
したがって、本発明の実施形態の効果は、高濃度の合金になるほど、その効果がより顕著となる。すなわち、本発明の実施形態の適用にあたって、好ましい合金系はCu−Ag系であり、より好ましい合金系はCu−Sn系、Cu−Ni−Si系、Cu−Cr系である。
It has been confirmed that the RDW orientation tends to be formed more as the alloy system contains more additive elements than in the pure copper system. This is because the rolling texture changes from a pure copper type to a brass type.
Therefore, the effect of the embodiment of the present invention becomes more remarkable as the concentration of the alloy becomes higher. That is, in applying the embodiment of the present invention, a preferable alloy system is a Cu-Ag system, and a more preferable alloy system is a Cu-Sn system, a Cu-Ni-Si system, or a Cu-Cr system.

なお、本実施形態では、特に12μm以下の厚さの銅箔が対象であるが、12μm以上の銅箔に適用することも可能である。   In the present embodiment, a copper foil having a thickness of 12 μm or less is particularly targeted, but it can be applied to a copper foil having a thickness of 12 μm or more.

以下に本発明の具体的な実施例について説明する。
実施例の結果については下記の表2〜表6に示されている。
Cu−(Cr、Zr)系の実施例の評価結果については表2に、Cu−Ag系の実施例の評価結果については表3に、Cu−Sn系の実施例の評価結果については表4に、Cu−Ni−Si系の実施例の評価結果については表5に、純銅系の実施例の評価結果については表6に示されている。
表2〜表6においては、上記(1)〜(5)の銅合金の実施例の評価結果を参考例および比較例と対比して示されている。
これら表2〜表6の実施例の結果評価について述べる前に、本実施形態および比較例の圧延銅箔の製造方法、粗化めっき前の圧延銅箔についての評価方法、電池評価方法等について説明する。
Specific examples of the present invention will be described below.
The results of the examples are shown in Tables 2 to 6 below.
Table 2 shows evaluation results of Cu- (Cr, Zr) -based examples, Table 3 shows evaluation results of Cu-Ag-based examples, and Table 4 shows evaluation results of Cu-Sn-based examples. The evaluation results of the Cu—Ni—Si based examples are shown in Table 5 and the evaluation results of the pure copper based examples are shown in Table 6.
In Tables 2 to 6, the evaluation results of the examples of the copper alloys (1) to (5) are shown in comparison with the reference examples and the comparative examples.
Before describing the results evaluation of the examples in Table 2 to Table 6, the manufacturing method of the rolled copper foil of this embodiment and the comparative example, the evaluation method of the rolled copper foil before rough plating, the battery evaluation method, etc. will be described. To do.

[圧延銅箔の製造方法]
本実施形態に係る圧延銅箔の製造方法の実施例について、図3に関連付けて説明する。
第1工程ST1において、原料を高周波溶解炉により溶解させ、溶解した原料を第2工程ST2において0.1〜100°C/秒の冷却速度で鋳造を行い、鋳塊を得た。鋳塊は、表2〜表6に示す合金成分を含有し、残部がCuと不可避不純物により形成される。
[Method for producing rolled copper foil]
The Example of the manufacturing method of the rolled copper foil which concerns on this embodiment is linked | related with FIG. 3, and is demonstrated.
In the first step ST1, the raw material was melted in a high-frequency melting furnace, and the melted raw material was cast in the second step ST2 at a cooling rate of 0.1 to 100 ° C./second to obtain an ingot. The ingot contains the alloy components shown in Tables 2 to 6, and the remainder is formed of Cu and inevitable impurities.

第3工程ST3において、第2工程ST2で得た鋳塊を温度800〜1030°Cで5分から10時間の均質化熱処理を行い、そのまま第4工程ST4で熱間圧延を行った。
第4工程ST4で熱間加工を行った後に、第5工程ST5において水冷し、第6工程ST6において酸化スケール除去のために面削を行った。
その後に、第7工程ST7で第1(中間)冷間圧延を行い、第8工程ST8で第1中間焼鈍を行い、第9工程ST9で第2中間冷間圧延を行う。さらに、第10工程ST10で第2中間焼鈍を行い、第11工程ST11で第3中間冷間圧延を行い、第12工程ST12で最終焼鈍を行い、第13工程ST13で仕上圧延を行い、板厚が12μm以下の圧延箔を作製した。
In the third step ST3, the ingot obtained in the second step ST2 was subjected to a homogenization heat treatment at a temperature of 800 to 1030 ° C. for 5 minutes to 10 hours, and then subjected to hot rolling in the fourth step ST4.
After hot working in the fourth step ST4, water cooling was performed in the fifth step ST5, and chamfering was performed for removing the oxide scale in the sixth step ST6.
Thereafter, the first (intermediate) cold rolling is performed in the seventh step ST7, the first intermediate annealing is performed in the eighth step ST8, and the second intermediate cold rolling is performed in the ninth step ST9. Further, the second intermediate annealing is performed in the tenth step ST10, the third intermediate cold rolling is performed in the eleventh step ST11, the final annealing is performed in the twelfth step ST12, and the finish rolling is performed in the thirteenth step ST13. Produced a rolled foil of 12 μm or less.

第7工程ST7の第1(中間)冷間圧延、第9工程ST9の第2中間冷間圧延、第11工程ST11の第3中間冷間圧延、および第13工程ST13の仕上圧延の各圧延加工は66〜99%の板厚減少率で行った。
第8工程ST8の第1中間焼鈍および第12工程ST12の最終焼鈍の焼鈍熱処理は、通常の再結晶温度である300°C以上800°C未満の温度に、3秒間〜10時間保持した。
ただし、第10工程ST10の第2中間焼鈍は昇温速度を2°C/秒以上、到達温度は800°C以上1000°C以下の条件で行った。
各熱処理や圧延の後に、材料表面の酸化や粗度の状態に応じて酸洗浄や表面研磨を行い、また形状に応じてテンションレベラーによる矯正を行った。
上記の本実施形態に係る製造方法の例を工程Aとする。
Each rolling process of 1st (intermediate) cold rolling of 7th process ST7, 2nd intermediate cold rolling of 9th process ST9, 3rd intermediate cold rolling of 11th process ST11, and finish rolling of 13th process ST13 Was carried out at a plate thickness reduction rate of 66 to 99%.
The annealing process of the first intermediate annealing in the eighth step ST8 and the final annealing in the twelfth step ST12 was held at a normal recrystallization temperature of 300 ° C. or higher and lower than 800 ° C. for 3 seconds to 10 hours.
However, the second intermediate annealing in the tenth step ST10 was performed under the conditions of a temperature increase rate of 2 ° C./second or more and an ultimate temperature of 800 ° C. or more and 1000 ° C. or less.
After each heat treatment and rolling, acid cleaning and surface polishing were performed according to the state of oxidation and roughness of the material surface, and correction with a tension leveler was performed according to the shape.
An example of the manufacturing method according to the present embodiment is referred to as a process A.

なお、表2〜表6中の比較例は、図8に示した、下記の工程E〜Iのいずれかによって製造した。   In addition, the comparative example in Table 2-Table 6 was manufactured by either of the following process EI shown in FIG.

[工程E]
工程Eは、第10工程ST10の第2中間焼鈍の昇温速度を0.2〜1.8°C/秒とし、到達温度を300°C以上800°C未満とし、それ以外は工程Aと同様とした。
[Step E]
In step E, the temperature increase rate of the second intermediate annealing in the tenth step ST10 is set to 0.2 to 1.8 ° C./second, the ultimate temperature is set to 300 ° C. or higher and lower than 800 ° C. Same as above.

[工程F]
工程Fは、第10工程ST10の第2中間焼鈍の昇温速度を0.2〜1.8°C/秒とし、到達温度を800〜1000°Cとし、それ以外は工程Aと同様とした。
[Step F]
In the process F, the temperature increase rate of the second intermediate annealing in the tenth process ST10 is set to 0.2 to 1.8 ° C./second, the ultimate temperature is set to 800 to 1000 ° C., and other processes are the same as those in the process A. .

[工程G]
工程Gは、第10工程ST10の第2中間焼鈍の昇温速度を2°C/秒以上とし、到達温度を300°C以上800°C未満とし、それ以外は工程Aと同様とした。
[Step G]
In the step G, the temperature increase rate of the second intermediate annealing in the tenth step ST10 is set to 2 ° C./second or higher, the ultimate temperature is set to 300 ° C. or higher and lower than 800 ° C., and the other steps are the same as the step A.

[工程H](特開2000−328159号公報に記載の工法)
工程Hは、電気炉により大気中で木炭被覆下で溶解し、50mm×80mm×180mmの鋳塊を溶製し、これを熱間圧延して厚さ15mmのスラブとし、さらに820°Cで熱間圧延して厚さ3.3mmに板材に仕上げた後水冷した。
これらの板材について、厚さ1.2mmに冷間圧延した後炉温750°C×20Sで中間焼鈍し、厚さ0.4mmに冷間圧延した後、炉温700°C×20Sで中間焼鈍し、厚さ0.2mmに冷間圧延した後、炉温650°C×20Sの中間焼鈍を行い、さらに冷間圧延して厚さ10μmの銅合金箔を製造した。
この工程Hは、特許文献4(特開2000−328159号公報)に開示されている。
[Step H] (Construction method described in JP 2000-328159 A)
Process H is melted in the atmosphere under a charcoal coating in an electric furnace, melts an ingot of 50 mm × 80 mm × 180 mm, hot-rolls it into a slab having a thickness of 15 mm, and further heats at 820 ° C. It was cold-rolled and finished with a plate material having a thickness of 3.3 mm, followed by water cooling.
About these plate materials, after cold rolling to a thickness of 1.2 mm, intermediate annealing at a furnace temperature of 750 ° C. × 20 S, cold rolling to a thickness of 0.4 mm, and then intermediate annealing at a furnace temperature of 700 ° C. × 20 S Then, after cold rolling to a thickness of 0.2 mm, intermediate annealing at a furnace temperature of 650 ° C. × 20 S was performed, and further cold rolling was performed to produce a copper alloy foil having a thickness of 10 μm.
This process H is disclosed by patent document 4 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-328159).

[工程I](特開平11−310864号公報に記載の工法)
工程Iは、鋳塊を均熱処理後、終了温度500°Cで熱間圧延し、次いで銅箔の結晶方位を支配する冷間圧延および最終焼鈍の各工程の条件を、最終焼鈍前の冷間圧延率を10〜95%、最終焼鈍温度を400°C以上、最終焼鈍後の冷間圧延率を10〜99%の範囲で製造した。
この工程Iは、特許文献5(特開平11−310864号公報)に開示されている。
[Step I] (Construction method described in JP-A-11-310864)
In step I, the ingot is hot-rolled at a finish temperature of 500 ° C. after the soaking process, and then the conditions of each step of cold rolling and final annealing governing the crystal orientation of the copper foil are determined according to the conditions before the final annealing. The rolling rate was 10 to 95%, the final annealing temperature was 400 ° C or higher, and the cold rolling rate after the final annealing was 10 to 99%.
This process I is disclosed in Patent Document 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-310864).

この粗化めっき前の圧延銅箔について、下記の評価を行った。評価結果は、表2〜表6に示す。   The following evaluation was performed about this rolled copper foil before roughening plating. The evaluation results are shown in Tables 2 to 6.

[縞状凹凸領域の面積率:AR1]
縞状凹凸領域の面積率AR1は、光学顕微鏡写真において、圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状の凹凸が確認される領域を黒く塗りつぶし、その後に画像処理を行って2階調化し、黒色の面積を全面積で割り戻して、面積率とした。視野の面積は200,000平方μmであり、3視野の測定の平均を測定した。
[Area ratio of striped uneven area: AR1]
The area ratio AR1 of the striped uneven area is blackened in the optical micrograph in the area where the striped unevenness in the direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction is confirmed, and then image processing is performed to obtain the second floor. The black area was divided by the total area to obtain the area ratio. The area of the visual field was 200,000 square μm, and the average of three field measurements was measured.

[RDW方位面積率:AR2]
RDW方位面積率AR2は、前述したEBSD法により、前述した方法によって圧延表面から測定した。圧延表面の加工変質層が厚いためにパターンが鮮明でない場合は、化学研磨によって最表層のみ溶解し、測定した。
[RDW orientation area ratio: AR2]
RDW azimuth | direction area ratio AR2 was measured from the rolling surface by the method mentioned above by the EBSD method mentioned above. If the pattern was not clear due to the thick work-affected layer on the rolled surface, only the outermost layer was dissolved by chemical polishing and measured.

[引張強度(TS)、伸び(EL)]
引張強度(TS)および伸び(EL)を、JIS Z2241に準じて圧延平行方向の引張試験により測定した。
[Tensile strength (TS), elongation (EL)]
Tensile strength (TS) and elongation (EL) were measured by a tensile test in the rolling parallel direction according to JIS Z2241.

[導電性(EC)]
20°C(±0.5°C)に保たれた恒温漕中で四端子法により比抵抗を計測して導電率を算出した。なお、端子間距離は100mmとした。
[Conductivity (EC)]
The resistivity was calculated by measuring the specific resistance by a four-terminal method in a constant temperature bath maintained at 20 ° C. (± 0.5 ° C.). In addition, the distance between terminals was 100 mm.

その後、下記の方法で電池を作製し、電池としての特性を評価した。
[粗化めっきの方法]
圧延した銅箔表面に下記の条件で微細粗化粒子を下記銅めっき条件により設けた。
<めっき浴組成>
Cu(金属として):60〜70g/l
硫酸:110〜130g/l
<めっき条件>
温度:45〜55°C
電流密度:60〜70A/dm
処理時間:0.4〜2.0秒
Then, the battery was produced by the following method and the characteristic as a battery was evaluated.
[Roughening plating method]
Finely roughened particles were provided on the rolled copper foil surface under the following conditions under the following conditions.
<Plating bath composition>
Cu (as metal): 60-70 g / l
Sulfuric acid: 110-130 g / l
<Plating conditions>
Temperature: 45-55 ° C
Current density: 60 to 70 A / dm 2
Processing time: 0.4 to 2.0 seconds

[電池評価1:カーボン系の負極活物質]
(i)正極
LiCoO粉末90重量%、黒鉛粉末7重量%、ポリフッ化ビニリデン粉末3重量%を混合してN−メチルピロリドンをエタノールに溶解した溶液を添加して混練し、正極剤ペーストを調整した。このペーストをアルミ箔に均一に塗着した後、窒素雰囲気中で乾燥してエタノールを揮散させ、次いでロール圧延を行って、シートを作製した。
このシートを切断した後、その一端にアルミ箔のリード端子を超音波溶接で取り付け正極とした。
[Battery Evaluation 1: Carbon-based negative electrode active material]
(I) Positive electrode 90% by weight of LiCoO 2 powder, 7% by weight of graphite powder and 3% by weight of polyvinylidene fluoride powder were mixed and added to a solution in which N-methylpyrrolidone was dissolved in ethanol. did. After this paste was uniformly applied to the aluminum foil, it was dried in a nitrogen atmosphere to evaporate ethanol, and then roll-rolled to produce a sheet.
After this sheet was cut, an aluminum foil lead terminal was attached to one end thereof by ultrasonic welding to form a positive electrode.

(ii)負極
天然黒鉛粉末(平均粒径10μm)90重量%、ポリフッ化ビニリデン粉末10重量%を混合し、N−メチルピロリドンをエタノールに溶解した溶液を添加して混練しペーストを作製した。次いで、このペーストを実施例、比較例で作製した圧延銅箔の両面に塗着した。塗着後の銅箔を窒素雰囲気中で乾燥し、溶剤を揮散させ、ついで、ロール圧延してシートを成型した。
このシートを切断した後その一端にニッケル箔のリードを超音波溶接して取り付け、負極とした。
(Ii) Negative electrode 90% by weight of natural graphite powder (average particle size 10 μm) and 10% by weight of polyvinylidene fluoride powder were mixed, and a solution prepared by dissolving N-methylpyrrolidone in ethanol was added and kneaded to prepare a paste. Subsequently, this paste was applied to both surfaces of the rolled copper foil produced in Examples and Comparative Examples. The coated copper foil was dried in a nitrogen atmosphere to evaporate the solvent, and then roll-rolled to form a sheet.
After this sheet was cut, a nickel foil lead was ultrasonically attached to one end of the sheet to form a negative electrode.

(iii)電池の組み立て
以上のようにして製造した正極と負極の間に厚み25μmのポリプロピレン製のセパレータを挟み、これを軟鋼表面にニッケルめっきされた電池缶に収容して負極のリード端子を缶底にスポット溶接した。次いで、絶縁材の上蓋を置き、ガスケットを挿入後正極のリード端子とアルミ製安全弁とを超音波溶接して接続し、炭酸プロピレンと炭酸ジエチルと炭酸エチレンからなる非水電解液を電池缶の中に注入した後、前記安全弁に蓋を取り付け、密閉構造のリチウムイオンニ次電池を組み立てた。
(Iii) Battery assembly A polypropylene separator having a thickness of 25 μm is sandwiched between the positive electrode and negative electrode manufactured as described above, and this is accommodated in a battery can plated with nickel on the surface of the mild steel, and the lead terminal of the negative electrode can be Spot welded to the bottom. Next, place the top cover of the insulating material, insert the gasket, connect the positive lead terminal and the aluminum safety valve by ultrasonic welding, and connect the non-aqueous electrolyte consisting of propylene carbonate, diethyl carbonate and ethylene carbonate in the battery can. Then, a lid was attached to the safety valve, and a lithium ion secondary battery having a sealed structure was assembled.

(iv)電池特性の測定
上記作製の電池につき、充電電流50mAで4.2Vになるまで充電し、50mAで2.5Vになるまで放電するサイクルを1サイクルとする充放電サイクル試験を行った。初回充電時の電池容量を表2〜表6に示した。
(Iv) Measurement of battery characteristics The battery produced as described above was subjected to a charge / discharge cycle test in which a cycle of charging to 4.2 V at a charging current of 50 mA and discharging to 2.5 V at 50 mA was taken as one cycle. The battery capacities at the time of the first charge are shown in Tables 2 to 6.

[電池評価2:シリコン系の負極活物質]
(i)正極
出発原料として、LiCOおよびCoCOを用いて、Li:Coの原子比が1:1となるように秤量して乳鉢で混合し、これを金型でプレスし加圧成形した後、空気中において800°Cで24時間焼成し、LiCoOの焼成体を得た。これを乳鉢で粉砕し、平均粒径20μmに調製した。
得られたLiCoO粉末90重量部と、導電剤として人工黒鉛粉末5重量部を、結着剤としてポリフッ化ビニリデン5重量部を含む5重量%のN−メチルピロリドン溶液に混合し、正極合剤スラリーとした。
この正極合剤スラリーを、集電体であるアルミニウム箔の上に塗布し、乾燥した後圧延した。得られたものを切り抜き、正極とした。
[Battery evaluation 2: Silicon-based negative electrode active material]
(I) Positive electrode Using Li 2 CO 3 and CoCO 3 as starting materials, weigh them so that the atomic ratio of Li: Co is 1: 1, mix in a mortar, press this with a mold and pressurize After molding, it was fired in the air at 800 ° C. for 24 hours to obtain a LiCoO 2 fired body. This was pulverized in a mortar to prepare an average particle size of 20 μm.
90 parts by weight of the obtained LiCoO 2 powder, 5 parts by weight of artificial graphite powder as a conductive agent, and 5% by weight of polyvinylidene fluoride as a binder were mixed in a 5% by weight N-methylpyrrolidone solution, and a positive electrode mixture A slurry was obtained.
This positive electrode mixture slurry was applied onto an aluminum foil as a current collector, dried and then rolled. The obtained product was cut out to obtain a positive electrode.

(ii)負極
活物質としての平均粒径3μmのケイ素粉末(純度99.9%)80.2重量部を、バインダーとしてのポリアミド酸(バインダーα1)19.8重量部を含む8.6重量%のN−メチルピロリドン溶液に混合し、負極合剤スラリーとした。
この負極合剤スラリーを、実施例、比較例で作製した圧延銅箔に塗布し、乾燥した後、これを圧延した。これをアルゴン雰囲気下で400°C、30時間熱処理し、焼結して負極とした。
(Ii) Negative electrode 8.6% by weight containing 80.2 parts by weight of silicon powder having an average particle size of 3 μm as an active material (purity 99.9%) and 19.8 parts by weight of polyamic acid (binder α1) as a binder Was mixed with an N-methylpyrrolidone solution to prepare a negative electrode mixture slurry.
This negative electrode mixture slurry was applied to the rolled copper foil prepared in Examples and Comparative Examples, dried, and then rolled. This was heat-treated at 400 ° C. for 30 hours in an argon atmosphere and sintered to obtain a negative electrode.

(iii)電池の組み立て
電解液として、エチレンカーボネートとジエチレンカーボネートとの等体積混合溶媒に、LiPFを1モル/リットル溶解したものを作製した。上記正極、負極、および電解液を用いて、リチウム二次電池を作製した。
正極および負極は、セパレータを介して対向している。
(Iii) Battery assembly As an electrolytic solution, a solution obtained by dissolving 1 mol / liter of LiPF 6 in an equal volume mixed solvent of ethylene carbonate and diethylene carbonate was prepared. A lithium secondary battery was produced using the positive electrode, the negative electrode, and the electrolytic solution.
The positive electrode and the negative electrode are opposed via a separator.

(iv)電池特性の評価
上記の電池の充放電サイクル特性を評価した。各電池を25°Cにおいて、電流値1mAで4.2Vまで充電した後、電流値1mAで2.75Vまで放電し、これを1サイクルの充放電とした。1サイクル目の放電容量に対して、50サイクル後の放電容量を、放電容量維持率として測定した。
(Iv) Evaluation of battery characteristics The charge / discharge cycle characteristics of the above batteries were evaluated. Each battery was charged to 4.2 V at a current value of 1 mA at 25 ° C., and then discharged to 2.75 V at a current value of 1 mA. The discharge capacity after 50 cycles was measured as the discharge capacity retention rate with respect to the discharge capacity at the first cycle.

表2〜表6に評価結果を示す。
以下に、表ごとの評価結果に示すように、本発明の実施形態で規定した圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる縞状凹凸領域の面積率AR1が60%以上であり、表面結晶方位におけるRDW方位{012}<100>方位から13°以内のRDW方位面積率AR2が15%以下であること等を満足する場合には、電池評価における特性が良好であった。一方、製造工程E〜Iで製造された比較例は、縞状凹凸領域の面積率AR1およびRDW方位面積率AR2を満足せず、電池評価結果が劣った。
Tables 2 to 6 show the evaluation results.
Below, as shown in the evaluation results for each table, the area ratio of the striped uneven region where the surface unevenness of the striped pattern in the direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction defined in the embodiment of the present invention is seen. When AR1 is 60% or more and the RDW orientation area ratio AR2 within 13 ° from the RDW orientation {012} <100> orientation in the surface crystal orientation satisfies 15% or less, the characteristics in battery evaluation Was good. On the other hand, the comparative example manufactured by the manufacturing steps E to I did not satisfy the area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 of the striped uneven region, and the battery evaluation result was inferior.

表6に示す純銅系に対して、表2〜表5の合金系の方が良好な電池特性を示した。   Compared with the pure copper system shown in Table 6, the alloy systems in Tables 2 to 5 showed better battery characteristics.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表2は、Cu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果を示している。
本実施形態に係る圧延銅箔(本例)として製造工程Aにより製造された実施例1−1〜1−8、製造工程Aで製造された参考例1−11、製造工程E,F,G,H,Iで製造された比較例1−21〜1−25について評価を行った。
Table 2 shows the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy.
Examples 1-1 to 1-8 manufactured by manufacturing process A as rolled copper foil (this example) according to this embodiment, Reference Example 1-11 manufactured by manufacturing process A, and manufacturing processes E, F, and G , H and I were evaluated for Comparative Examples 1-21 to 1-25 manufactured.

実施例1−1〜1−7、比較例1−21〜1−25は、主成分Cr、Zrの合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足し、副添加成分Sn、Zn、Si、Mn、Mgを含有する場合その合計が0.01〜0.45mass%の条件を満足している。
ただし、実施例1−6は、副添加成分を合計0.52mass%含有して、副添加成分合計で0.01〜0.45mass%の条件を若干超えている。
また、参考例1−11は、主成分Cr、Zrの合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足していない。
Examples 1-1 to 1-7 and Comparative Examples 1-21 to 1-25 satisfy the condition that the sum of the main components Cr and Zr is 0.01 to 0.9 mass%, and the auxiliary additive components Sn and Zn When Si, Mn, and Mg are contained, the total satisfies the condition of 0.01 to 0.45 mass%.
However, Example 1-6 contains 0.52 mass% of the total amount of auxiliary additive components, and slightly exceeds the condition of 0.01 to 0.45 mass% in total of the auxiliary additive components.
Reference Example 1-11 does not satisfy the condition that the total of the main components Cr and Zr is 0.01 to 0.9 mass%.

実施例1−1〜1−8は、縞状凹凸領域面積率AR1が60%以上の条件を満足している。
実施例1−1〜1−8は、RDW方位面積率AR2が15%以下の条件を満足している。
In Examples 1-1 to 1-8, the striped uneven region area ratio AR1 satisfies the condition of 60% or more.
In Examples 1-1 to 1-8, the RDW azimuth area ratio AR2 satisfies the condition of 15% or less.

そして、実施例1−1〜1−8は、電池評価1としての初回充電容量および電池評価2としての維持率の値からわかるように、電池評価における特性が良好であった。   In Examples 1-1 to 1-8, as can be seen from the values of the initial charge capacity as the battery evaluation 1 and the maintenance factor as the battery evaluation 2, the characteristics in the battery evaluation were good.

なお、実施例1−6は、上述したように、副添加成分を合計0.52mass%含有して、副添加成分合計で0.01〜0.45mass%の条件を若干超えているが、電池評価における特性が良好であるとの結果が得られていることから、主成分の含有量が本実施形態で規定する範囲内にあるか否かで電気的特性に大きく影響するものと推察される。
実施例1−4、1−7は、副添加物を含まないが、電池評価は満足している。
In addition, as described above, Example 1-6 contained 0.52 mass% of the total amount of auxiliary additive components, and slightly exceeded the condition of 0.01 to 0.45 mass% in total of the auxiliary additive components. Since the result that the characteristic in the evaluation is good is obtained, it is presumed that the electric characteristic is greatly influenced by whether or not the content of the main component is within the range specified in the present embodiment. .
Examples 1-4 and 1-7 do not contain any secondary additive, but the battery evaluation is satisfactory.

参考例1−11は、上述したように、主成分Cr、ZrのうちCrを0.93mass%含有し、主成分の合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足していない。
参考例1−11は、ピンホールが多数のために製造を中止した。
この参考例1−11の結果からも、主成分の含有量が本実施形態で規定する範囲内にあるか否かで電気的特性に大きく影響するものと推察される。
As described above, Reference Example 1-11 does not satisfy the condition of containing 0.93 mass% of Cr among the main components Cr and Zr, and the total of the main components is 0.01 to 0.9 mass%.
In Reference Example 1-11, production was stopped due to a large number of pinholes.
From the results of Reference Example 1-11, it is presumed that the electrical characteristics are greatly influenced by whether or not the content of the main component is within the range defined in the present embodiment.

比較例1−21は、縞状凹凸領域面積率AR1が45%で60%以上の条件を満足していない。比較例1−21は、RDW方位面積率AR2が22%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例1−21は、電池評価1としての初回充電容量が実施例1−1の481mAhと比較して342mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例1−1の36%の半分以下の16%である。
このように、比較例1−21は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 1-21, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 45%. In Comparative Example 1-21, the RDW orientation area ratio AR2 is 22% and does not satisfy the condition of 15% or less.
In Comparative Example 1-21, the initial charge capacity as battery evaluation 1 was as low as 342 mAh compared to 481 mAh in Example 1-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 was also 36% of Example 1-1. It is 16% of less than half.
As described above, Comparative Example 1-21 is inferior to Examples in characteristics in battery evaluation.

これは、製造工程Aではなく、第10工程ST10の第2中間焼鈍の昇温速度を0.2〜1.8°C/秒とし、到達温度を300°C以上800°C未満とする製造工程Eにより製造されたことに起因しているものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、第2中間焼鈍の昇温速度を再結晶前駆現象の時間を与えないような昇温速度にせず、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is not a manufacturing process A, but a manufacturing method in which the temperature increase rate of the second intermediate annealing in the tenth process ST10 is 0.2 to 1.8 ° C / second and the ultimate temperature is 300 ° C or higher and lower than 800 ° C. This is presumably due to the fact that it was manufactured by the process E.
That is, the temperature rise rate of the second intermediate annealing, which is the feature of this production method, is not set to a temperature rise rate that does not give the time for the recrystallization precursor phenomenon, and the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed and randomized. In order to obtain the recrystallized structure, the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy. Therefore, the conditions of the striped uneven area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, As a result, it is assumed that the battery characteristics are low.

比較例1−22は、縞状凹凸領域面積率AR1が57%で60%以上の条件を満足していない。比較例1−22は、RDW方位面積率AR2が16%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例1−22は、電池評価1としての初回充電容量が実施例1−1の481mAhと比較して385mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例1−1の36%の半分以下の13%である。
このように、比較例1−22は、電池評価における特性が本例より劣っている。
As for Comparative Example 1-22, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is 57%, and is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions. As for Comparative Example 1-22, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 16%.
In Comparative Example 1-22, the initial charge capacity as battery evaluation 1 was as low as 385 mAh compared to 481 mAh in Example 1-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 was also 36% of Example 1-1. It is 13% of less than half.
Thus, Comparative Example 1-22 is inferior to the present example in battery evaluation characteristics.

これは、本製造方法(工程A)の特徴である、第10工程ST10の第2中間焼鈍において、昇温速度を再結晶前駆現象の時間を与えないように高めずに、0.2〜1.8°C/秒としたことに起因しているものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としたとしても、第2中間焼鈍の昇温速度を高めずに、0.2〜1.8°C/秒としたことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is a characteristic of the present manufacturing method (step A), and in the second intermediate annealing of the tenth step ST10, the temperature rising rate is not increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon. It is assumed that it is caused by the fact that the temperature is set to 8 ° C / second.
That is, in the second intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the ultimate temperature of the copper alloy is set to the recrystallization temperature in order to suppress the preferential movement of specific grain boundaries and obtain a randomized recrystallized structure. Even if the temperature is higher than the upper limit, it is set to 0.2 to 1.8 ° C./second without increasing the rate of temperature increase in the second intermediate annealing, so that the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio It is presumed that the condition of AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

比較例1−23は、縞状凹凸領域面積率AR1が52%で60%以上の条件を満足していない。比較例1−23は、RDW方位面積率AR2が17%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例1−23は、電池評価1としての初回充電容量が実施例1−1の481mAhと比較して372mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例1−1の36%の半分以下の16%である。
このように、比較例1−23は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 1-23, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 52%. In Comparative Example 1-23, the RDW orientation area ratio AR2 is 17% and does not satisfy the condition of 15% or less.
In Comparative Example 1-23, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 372 mAh compared to 481 mAh in Example 1-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 36% of Example 1-1. It is 16% of less than half.
Thus, Comparative Example 1-23 is inferior to the Examples in the battery evaluation characteristics.

これは、製造工程Aではなく、本製造方法(工程A)の特徴である、第10工程ST10の第2中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度にせずに、通常の温度300°C以上800°C未満としたことに起因しているものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高めたとしても、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is not a manufacturing process A, but a characteristic of the present manufacturing method (process A). In the second intermediate annealing of the tenth process ST10, a preferential movement of a specific grain boundary is suppressed, and a randomized recrystallized structure is formed. In order to obtain this, it is presumed that the ultimate temperature is not higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy but is set to a normal temperature of 300 ° C. or higher and lower than 800 ° C.
That is, in the second intermediate annealing that is a feature of the present manufacturing method (step A), even if the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, the specific movement of specific grain boundaries is suppressed, Since the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure, the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 can be satisfied. Therefore, it is presumed that the battery characteristics are low.

比較例1−24は、縞状凹凸領域面積率AR1が51%で60%以上の条件を満足していない。比較例1−24は、RDW方位面積率AR2が18%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例1−24は、電池評価1としての初回充電容量が実施例1−1の481mAhと比較して362mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例1−1の36%の半分以下の17%である。
このように、比較例1−24は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 1-24, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 51%. As for Comparative Example 1-24, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 18%.
In Comparative Example 1-24, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 362 mAh compared to 481 mAh in Example 1-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 36% of Example 1-1. It is 17% of less than half.
Thus, Comparative Example 1-24 is inferior to the Examples in the battery evaluation characteristics.

これは、製造工程Aではなく、本製造方法(工程A)の特徴である、最終の第2中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度にしていないことに起因しているものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である最終の中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
In order to obtain a random recrystallized structure by suppressing the preferential movement of specific grain boundaries in the final second intermediate annealing, which is the feature of the present manufacturing method (step A), not the manufacturing step A. This is presumably because the ultimate temperature is not higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy.
That is, in the final intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed, and the ultimate temperature is set to the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure. Since the temperature is not higher than the upper limit, it is presumed that the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, and the battery characteristics are lowered.

比較例1−25は、縞状凹凸領域面積率AR1が48%で60%以上の条件を満足していない。比較例1−25は、RDW方位面積率AR2が19%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例1−25は、電池評価1としての初回充電容量が実施例1−1の481mAhと比較して362mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例1−1の36%より低い21%である。
比較例1−25は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 1-25, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 48%. In Comparative Example 1-25, the RDW orientation area ratio AR2 is 19% and does not satisfy the condition of 15% or less.
In Comparative Example 1-25, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 362 mAh as compared with 481 mAh in Example 1-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 36% of Example 1-1. Lower 21%.
In Comparative Example 1-25, the characteristics in battery evaluation are inferior to those of the examples.

これは、本製造方法(工程A)の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことに起因しているものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is a feature of the present production method (Step A), and before the final annealing, the temperature rise rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a feature of the present production method (Step A), In addition, in order to suppress the preferential movement of specific grain boundaries and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that
That is, before the final annealing, which is a characteristic of the present manufacturing method, the temperature rising rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a characteristic of the present manufacturing method (Step A), and a specific grain boundary In order to suppress the preferential movement of copper and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that the conditions of AR1 and RDW azimuth area ratio AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表3は、Cu−Ag系の銅合金の評価結果を示している。
本実施形態に係る圧延銅箔(本例)として製造工程Aにより製造された実施例2−1〜2−5、製造工程Aで製造された参考例2−11、製造工程G,H,Iで製造された比較例2−21〜2−23について評価を行った。
Table 3 shows the evaluation results of the Cu-Ag copper alloy.
Examples 2-1 to 2-5 manufactured by manufacturing process A as rolled copper foil (this example) according to this embodiment, Reference Example 2-11 manufactured by manufacturing process A, and manufacturing processes G, H, and I Evaluation was performed on Comparative Examples 2-21 to 2-23 manufactured in (1).

実施例2−1〜2−5、比較例2−21〜2−23は、主成分Agの合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足し、副添加成分Sn、Zn、Si、Mn、Mgを含有する場合その合計が0.01〜0.45mass%の条件を満足している。
ただし、参考例2−11は、主成分Agの合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足していない。
In Examples 2-1 to 2-5 and Comparative Examples 2-21 to 2-23, the total amount of the main component Ag satisfies the condition of 0.01 to 0.9 mass%, and the auxiliary additive components Sn, Zn, Si When Mn and Mg are contained, the total satisfies the condition of 0.01 to 0.45 mass%.
However, Reference Example 2-11 does not satisfy the condition that the total amount of the main component Ag is 0.01 to 0.9 mass%.

実施例2−1〜2−5は、縞状凹凸領域面積率AR1が60%以上の条件を満足している。
実施例2−1〜2−5は、RDW方位面積率AR2が15%以下の条件を満足している。
In Examples 2-1 to 2-5, the striped uneven area area ratio AR1 satisfies the condition of 60% or more.
In Examples 2-1 to 2-5, the RDW orientation area ratio AR2 satisfies the condition of 15% or less.

そして、実施例2−1〜2−5は、電池評価1としての初回充電容量および電池評価2としての維持率の値からわかるように、電池評価における特性が良好であった。   In Examples 2-1 to 2-5, as can be seen from the initial charge capacity as the battery evaluation 1 and the retention rate as the battery evaluation 2, the characteristics in the battery evaluation were good.

参考例2−11は、上述したように、主成分Agを0.95mass%含有し、主成分の合計が0.01〜0.9mass%含有の条件を満足していない。
参考例2−11は、ピンホール多数のために製造を中止した。
この参考例2−11の結果からも、主成分の含有量が本実施形態で規定する範囲内にあるか否かで電気的特性に大きく影響するものと推察される。
As described above, Reference Example 2-11 contains 0.95 mass% of the main component Ag, and the total of the main components does not satisfy the condition of 0.01 to 0.9 mass%.
Reference Example 2-11 was discontinued due to the large number of pinholes.
From the results of Reference Example 2-11, it is presumed that the electrical characteristics are greatly influenced by whether or not the content of the main component is within the range defined in the present embodiment.

比較例2−21は、縞状凹凸領域面積率AR1が51%で60%以上の条件を満足していない。比較例2−21は、RDW方位面積率AR2が20%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例2−21は、電池評価1としての初回充電容量が実施例2−2の432mAhと比較して355mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例2−2の31%の半分以下の15%である。
このように、比較例2−21は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 2-21, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 51%. As for Comparative Example 2-21, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 20%.
In Comparative Example 2-21, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 355 mAh compared to 432 mAh in Example 2-2, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 31% of Example 2-2. It is 15% of less than half.
Thus, Comparative Example 2-21 has inferior characteristics in battery evaluation as compared with Examples.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Gで製造された比較例1−23と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高めたとしても、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-23 manufactured in the manufacturing process G shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing that is a feature of the present manufacturing method (step A), even if the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, the specific movement of specific grain boundaries is suppressed, Since the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure, the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 can be satisfied. Therefore, it is presumed that the battery characteristics are low.

比較例2−22は、縞状凹凸領域面積率AR1が53%で60%以上の条件を満足していない。比較例2−22は、RDW方位面積率AR2が18%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例2−22は、電池評価1としての初回充電容量が本例の実施例2−2の432mAhと比較して361mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例2−2の31%の半分以下の13%である。
このように、比較例2−22は、電池評価における特性が本例より劣っている。
As for Comparative Example 2-22, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 53%. As for Comparative Example 2-22, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 18%.
In Comparative Example 2-22, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is 361 mAh lower than 432 mAh in Example 2-2 of this example, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also in Example 2-2. 13%, which is less than half of 31%.
Thus, Comparative Example 2-22 is inferior to this example in battery evaluation characteristics.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Hで製造された比較例1−24と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である最終の中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-24 manufactured in the manufacturing process H shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the final intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed, and the ultimate temperature is set to the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure. Since the temperature is not higher than the upper limit, it is presumed that the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, and the battery characteristics are lowered.

比較例2−23は、縞状凹凸領域面積率AR1が45%で60%以上の条件を満足していない。比較例2−23は、RDW方位面積率AR2が20%で15%以下の条件を満足していない。
比較例2−23は、電池評価1としての初回充電容量が実施例2−2の432mAhと比較して355mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例2−2の31%の半分以下の11%である。
このように、比較例2−23は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 2-23, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 45%. As for Comparative Example 2-23, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 20%.
In Comparative Example 2-23, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is 355 mAh lower than 432 mAh in Example 2-2, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also half of 31% of Example 2-2. 11% of the following.
Thus, Comparative Example 2-23 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Iで製造された比較例1−25と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-25 manufactured in Manufacturing Process I shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, before the final annealing, which is a characteristic of the present manufacturing method, the temperature rising rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a characteristic of the present manufacturing method (Step A), and a specific grain boundary In order to suppress the preferential movement of copper and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that the conditions of AR1 and RDW azimuth area ratio AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表4は、Cu−Sn系の銅合金の評価結果を示している。
本実施形態に係る圧延銅箔(本例)として製造工程Aにより製造された実施例3−1〜3−6、製造工程Aで製造された参考例3−11、製造工程G,H,Iで製造された比較例3−21〜3−23について評価を行った。
Table 4 shows the evaluation results of the Cu—Sn based copper alloy.
Examples 3-1 to 3-6 manufactured by manufacturing process A as rolled copper foil (this example) according to the present embodiment, Reference Example 3-11 manufactured by manufacturing process A, and manufacturing processes G, H, I Evaluation was performed on Comparative Examples 3-21 to 3-23 manufactured in (1).

実施例3−1〜3−6、比較例3−21〜3−23は、主成分Snの合計が0.01〜4.9mass%含有の条件を満足し、副添加成分Zn、Si、P、Mgのいずれかを含有する場合その合計が0.01〜0.45mass%の条件を満足している。
ただし、参考例3−11は、主成分Snの合計が0.01〜4.9mass%含有の条件を満足していない。
In Examples 3-1 to 3-6 and Comparative Examples 3-21 to 3-23, the total amount of the main component Sn satisfies the condition of 0.01 to 4.9 mass%, and the auxiliary additive components Zn, Si, P When any of Mg and Mg is contained, the total satisfies the condition of 0.01 to 0.45 mass%.
However, Reference Example 3-11 does not satisfy the condition that the total amount of the main component Sn is 0.01 to 4.9 mass%.

実施例3−1〜3−6は、縞状凹凸領域面積率AR1が60%以上の条件を満足している。
実施例3−1〜3−6は、RDW方位面積率AR2が15%以下の条件を満足している。
In Examples 3-1 to 3-6, the striped uneven region area ratio AR1 satisfies the condition of 60% or more.
In Examples 3-1 to 3-6, the RDW orientation area ratio AR2 satisfies the condition of 15% or less.

そして、実施例3−1〜3−6は、電池評価1としての初回充電容量および電池評価2としての維持率の値からわかるように、電池評価における特性が良好であった。   In Examples 3-1 to 3-6, as can be seen from the values of the initial charge capacity as the battery evaluation 1 and the maintenance factor as the battery evaluation 2, the characteristics in the battery evaluation were good.

参考例3−11は、主成分Snを5.12mass%含有し、主成分の0.01〜4.9mass%含有の条件を満足していない。
参考例3−11は、ピンホール多数のために製造を中止した。
この参考例3−11の結果からも、主成分の含有量が本実施形態で規定する範囲内にあるか否かで電気的特性に大きく影響するものと推察される。
Reference Example 3-11 contains 5.12 mass% of the main component Sn and does not satisfy the conditions of 0.01 to 4.9 mass% of the main component.
Reference Example 3-11 was discontinued due to the large number of pinholes.
From the results of Reference Example 3-11, it is presumed that the electrical characteristics are greatly influenced by whether or not the content of the main component is within the range defined in the present embodiment.

比較例3−21は、縞状凹凸領域面積率AR1が57%で60%以上の条件を満足していない。比較例3−21は、RDW方位面積率AR2が18%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例3−21は、電池評価1としての初回充電容量が実施例3−1の441mAhと比較して375mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例3−1の31%の半分以下の15%である。
このように、比較例3−21は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 3-21, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is 57%, and is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions. As for Comparative Example 3-21, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 18%.
In Comparative Example 3-21, the initial charge capacity as the battery evaluation 1 is 375 mAh lower than the 441 mAh of the Example 3-1, and the maintenance rate as the battery evaluation 2 is also 31% of the Example 3-1. It is 15% of less than half.
Thus, Comparative Example 3-21 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Gで製造された比較例1−23と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高めたとしても、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-23 manufactured in the manufacturing process G shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing that is a feature of the present manufacturing method (step A), even if the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, the specific movement of specific grain boundaries is suppressed, Since the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure, the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 can be satisfied. Therefore, it is presumed that the battery characteristics are low.

比較例3−22は、縞状凹凸領域面積率AR1が51%で60%以上の条件を満足していない。比較例3−22は、RDW方位面積率AR2が22%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例3−22は、電池評価1としての初回充電容量が実施例3−1の441mAhと比較して375mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例3−1の31%の半分以下の13%である。
このように、比較例3−22は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 3-22, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 51%. As for Comparative Example 3-22, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 22%.
In Comparative Example 3-22, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 375 mAh compared to 441 mAh in Example 3-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 31% of Example 3-1. It is 13% of less than half.
Thus, Comparative Example 3-22 has inferior characteristics in battery evaluation to the Examples.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Hで製造された比較例1−24と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である最終の中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-24 manufactured in the manufacturing process H shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the final intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed, and the ultimate temperature is set to the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure. Since the temperature is not higher than the upper limit, it is presumed that the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, and the battery characteristics are lowered.

比較例3−23は、縞状凹凸領域面積率AR1が40%で60%以上の条件を満足していない。比較例3−23は、RDW方位面積率AR2が23%で15%以下の条件を満足していない。
比較例3−23は、電池評価1としての初回充電容量が実施例3−1の441mAhと比較して340mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例3−1の31%の半分以下の11%である。
このように、比較例3−23は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 3-23, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 40%. As for Comparative Example 3-23, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 23%.
In Comparative Example 3-23, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 340 mAh compared to 441 mAh in Example 3-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also half of 31% of Example 3-1. 11% of the following.
Thus, Comparative Example 3-23 is inferior to Examples in characteristics in battery evaluation.

- これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Iで製造された比較例1−25と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
-This is presumed to be the same reason as Comparative Example 1-25 manufactured in Manufacturing Process I shown in the evaluation results of the Cu- (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, before the final annealing, which is a characteristic of the present manufacturing method, the temperature rising rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a characteristic of the present manufacturing method (Step A), and a specific grain boundary In order to suppress the preferential movement of copper and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that the conditions of AR1 and RDW azimuth area ratio AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表5は、Cu−Ni−Si系の銅合金の評価結果を示している。
本実施形態に係る圧延銅箔(本例)として製造工程Aにより製造された実施例4−1〜4−8、製造工程Aで製造された参考例4−11、製造工程G,F,Iで製造された比較例4−21〜4−23について評価を行った。
Table 5 shows the evaluation results of the Cu—Ni—Si based copper alloy.
Examples 4-1 to 4-8 manufactured by manufacturing process A as rolled copper foil (this example) according to this embodiment, Reference Example 4-11 manufactured by manufacturing process A, and manufacturing processes G, F, and I Evaluation was performed on Comparative Examples 4-21 to 4-23 manufactured in the above.

実施例4−1〜4−8、比較例4−21〜4−23は、主成分Niの1.4〜4.8mass%含有の条件を満足し、主成分Siの0.2〜1.3mass%含有の条件を満足し、副添加成分Sn、Zn、Si、Cr、Mn、Mg、Coの合計が0.005〜0.9mass%の条件を満足している。
ただし、参考例4−11は、主成分Niの1.4〜4.8mass%含有の条件を満足していない。
Examples 4-1 to 4-8 and Comparative Examples 4-21 to 4-23 satisfy the condition of containing 1.4 to 4.8 mass% of the main component Ni, and 0.2 to 1. of the main component Si. The condition of containing 3 mass% is satisfied, and the total of the sub-addition components Sn, Zn, Si, Cr, Mn, Mg, Co is satisfied from 0.005 to 0.9 mass%.
However, Reference Example 4-11 does not satisfy the condition of containing 1.4 to 4.8 mass% of the main component Ni.

実施例4−1〜4−8は、縞状凹凸領域面積率AR1が60%以上の条件を満足している。
実施例4−1〜4−8は、RDW方位面積率AR2が15%以下の条件を満足している。
In Examples 4-1 to 4-8, the striped uneven region area ratio AR1 satisfies the condition of 60% or more.
In Examples 4-1 to 4-8, the RDW orientation area ratio AR2 satisfies the condition of 15% or less.

そして実施例4−1〜4−8は、電池評価1としての初回充電容量および電池評価2としての維持率の値からわかるように、電池評価における特性が良好であった。   In Examples 4-1 to 4-8, as can be seen from the values of the initial charge capacity as the battery evaluation 1 and the maintenance factor as the battery evaluation 2, the characteristics in the battery evaluation were good.

参考例4−11は、主成分Ni、SiのうちのNiを4.92mass%含有して主成分Niの1.4〜4.8mass%含有の条件を満足していない。
この参考例4−11の結果からも、主成分の含有量が本実施形態で規定する範囲内にあるか否かで電気的特性に大きく影響するものと推察される。
Reference Example 4-11 contains 4.92 mass% of Ni among the main components Ni and Si, and does not satisfy the condition of containing 1.4 to 4.8 mass% of the main component Ni.
From the results of Reference Example 4-11, it is presumed that the electrical characteristics are greatly influenced by whether or not the content of the main component is within the range defined in the present embodiment.

比較例の4−21は、縞状凹凸領域面積率AR1が54%で60%以上の条件を満足していない。比較例4−21は、RDW方位面積率AR2が17%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例4−21は、電池評価1としての初回充電容量が実施例4−1の441mAhと比較して381mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例4−1の32%の半分以下の14%である。
このように、比較例4−21は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
In Comparative Example 4-21, the striped uneven region area ratio AR1 is 54% and does not satisfy the condition of 60% or more. As for Comparative Example 4-21, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 17%.
In Comparative Example 4-21, the initial charge capacity as the battery evaluation 1 is 381 mAh lower than the 441 mAh in the Example 4-1, and the maintenance rate as the battery evaluation 2 is also 32% of the Example 4-1. It is 14% of less than half.
Thus, Comparative Example 4-21 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Gで製造された比較例1−23と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高めたとしても、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-23 manufactured in the manufacturing process G shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing that is a feature of the present manufacturing method (step A), even if the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, the specific movement of specific grain boundaries is suppressed, Since the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure, the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 can be satisfied. Therefore, it is presumed that the battery characteristics are low.

比較例4−22は、縞状凹凸領域面積率AR1が49%で60%以上の条件を満足していない。比較例4−22は、RDW方位面積率AR2が21%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例4−22は、電池評価1としての初回充電容量が本例の実施例4−1の441mAhと比較して351mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例4−1の32%の半分以下の13%である。
このように、比較例4−22は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 4-22, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 49%. As for Comparative Example 4-22, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 21%.
In Comparative Example 4-22, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 351 mAh compared to 441 mAh in Example 4-1 of this example, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also Example 4-1 13%, which is less than half of 32%.
Thus, Comparative Example 4-22 has inferior characteristics in battery evaluation to the Examples.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した比較例1−22と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としたとしても、第2中間焼鈍の昇温速度を高めずに、0.2〜1.8°C/秒としたことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-22 shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the ultimate temperature of the copper alloy is set to the recrystallization temperature in order to suppress the preferential movement of specific grain boundaries and obtain a randomized recrystallized structure. Even if the temperature is higher than the upper limit, it is set to 0.2 to 1.8 ° C./second without increasing the rate of temperature increase in the second intermediate annealing, so that the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio It is presumed that the condition of AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

比較例4−23は、縞状凹凸領域面積率AR1が43%で60%以上の条件を満足していない。比較例4−23は、RDW方位面積率AR2が24%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例4−23は、電池評価1としての初回充電容量が本例の実施例4−1の441mAhと比較して326mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例4−1の32%より半分以下の11%である。
このように、比較例4−23は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 4-23, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 43%. As for Comparative Example 4-23, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 24%.
In Comparative Example 4-23, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 326 mAh compared to 441 mAh in Example 4-1 of this example, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also Example 4-1. 11%, which is less than half of 32%.
Thus, Comparative Example 4-23 is inferior to Examples in characteristics in battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Iで製造された比較例1−25と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-25 manufactured in Manufacturing Process I shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, before the final annealing, which is a characteristic of the present manufacturing method, the temperature rising rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a characteristic of the present manufacturing method (Step A), and a specific grain boundary In order to suppress the preferential movement of copper and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that the conditions of AR1 and RDW azimuth area ratio AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

Figure 0005480444
Figure 0005480444

表6は、純銅系の評価結果を示している。
本実施形態に係る圧延銅箔(本例)として製造工程Aにより製造された実施例5−1〜5−2、製造工程E,F,G,H,Iで製造された比較例5−21〜5−25について評価を行った。
Table 6 shows the pure copper-based evaluation results.
Examples 5-1 to 5-2 manufactured by the manufacturing process A as a rolled copper foil (this example) according to the present embodiment, and Comparative Example 5-21 manufactured by the manufacturing processes E, F, G, H, and I. Evaluation was made for ˜5-25.

実施例5−1、比較例5−21〜5−25は、酸素量が180ppmで、酸素量の条件2〜200ppmを満足している。
実施例5−2は、酸素量が6ppmで、酸素量の条件2〜200ppmを満足している。
In Example 5-1 and Comparative Examples 5-21 to 5-25, the oxygen amount was 180 ppm, and the oxygen amount condition of 2 to 200 ppm was satisfied.
In Example 5-2, the oxygen amount was 6 ppm, and the oxygen amount condition of 2 to 200 ppm was satisfied.

実施例5−1,5−2は、縞状凹凸領域面積率AR1が60%以上の条件を満足している。
本例の実施例5−1,5−2は、RDW方位面積率AR2が15%以下の条件を満足している。
In Examples 5-1 and 5-2, the striped uneven region area ratio AR1 satisfies the condition of 60% or more.
In Examples 5-1 and 5-2 of this example, the RDW orientation area ratio AR2 satisfies the condition of 15% or less.

そして、実施例5−1,5−2は、電池評価1としての初回充電容量および電池評価2としての維持率の値からわかるように、電池評価における特性が良好であった。   Examples 5-1 and 5-2 had good battery evaluation characteristics as can be seen from the initial charge capacity as battery evaluation 1 and the maintenance factor value as battery evaluation 2.

比較例5−21は、縞状凹凸領域面積率AR1が51%で60%以上の条件を満足していない。比較例5−21は、RDW方位面積率AR2が16%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例5−21は、電池評価1としての初回充電容量が実施例5−1の451mAhと比較して385mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例5−1の27%の1/3の9%である。
このように、比較例5−21は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 5-21, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 51%. As for Comparative Example 5-21, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 16%.
In Comparative Example 5-21, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is 385 mAh lower than 451 mAh in Example 5-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 27% of Example 5-1. It is 9% of 1/3.
Thus, Comparative Example 5-21 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Eで製造された比較例1−21と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、第2中間焼鈍の昇温速度を再結晶前駆現象の時間を与えないような昇温速度にせず、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-21 manufactured in the manufacturing process E shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, the temperature rise rate of the second intermediate annealing, which is the feature of this production method, is not set to a temperature rise rate that does not give the time for the recrystallization precursor phenomenon, and the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed and randomized. In order to obtain the recrystallized structure, the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy. Therefore, the conditions of the striped uneven area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, As a result, it is assumed that the battery characteristics are low.

比較例5−22は、縞状凹凸領域面積率AR1が57%で60%以上の条件を満足していない。比較例5−22は、RDW方位面積率AR2が17%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例5−22は、電池評価1としての初回充電容量が実施例5−1の451mAhと比較して375mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例5−1の27%の1/3以下の8%である。
このように、比較例5−22は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 5-22, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 57%. As for Comparative Example 5-22, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 17%.
In Comparative Example 5-22, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 375 mAh compared to 451 mAh in Example 5-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 27% of Example 5-1. It is 8% of 1/3 or less.
Thus, Comparative Example 5-22 is inferior to the Examples in terms of battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Fで製造された比較例1−22と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としたとしても、第2中間焼鈍の昇温速度を高めずに、0.2〜1.8°C/秒としたことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-22 manufactured in Manufacturing Process F shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the ultimate temperature of the copper alloy is set to the recrystallization temperature in order to suppress the preferential movement of specific grain boundaries and obtain a randomized recrystallized structure. Even if the temperature is higher than the upper limit, it is set to 0.2 to 1.8 ° C./second without increasing the rate of temperature increase in the second intermediate annealing, so that the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio It is presumed that the condition of AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

比較例5−23は、縞状凹凸領域面積率AR1が43%で60%以上の条件を満足していない。比較例5−23は、RDW方位面積率AR2が24%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例5−23は、電池評価1としての初回充電容量が実施例5−1の451mAhと比較して355mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例5−1の27%の1/4以下の6%である。
このように、比較例5−23は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 5-23, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 43%. As for Comparative Example 5-23, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 24%.
In Comparative Example 5-23, the initial charge capacity as the battery evaluation 1 is as low as 355 mAh compared to 451 mAh in the Example 5-1, and the maintenance rate as the battery evaluation 2 is also 27% of the Example 5-1. It is 6% of 1/4 or less.
Thus, Comparative Example 5-23 has inferior characteristics in battery evaluation as compared with Examples.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Gで製造された比較例1−23と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高めたとしても、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-23 manufactured in the manufacturing process G shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the second intermediate annealing that is a feature of the present manufacturing method (step A), even if the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, the specific movement of specific grain boundaries is suppressed, Since the ultimate temperature is not set higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure, the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 can be satisfied. Therefore, it is presumed that the battery characteristics are low.

比較例5−24は、縞状凹凸領域面積率AR1が55%で60%以上の条件を満足していない。比較例5−24は、RDW方位面積率AR2が19%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例5−24は、電池評価1としての初回充電容量が実施例5−1の451mAhと比較して365mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例5−1の27%の1/3の9%である。
このように、比較例5−24は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 5-24, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 55%. As for Comparative Example 5-24, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 19%.
In Comparative Example 5-24, the initial charge capacity as battery evaluation 1 was as low as 365 mAh compared to 451 mAh in Example 5-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 was also 27% of Example 5-1. It is 9% of 1/3.
Thus, Comparative Example 5-24 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Hで製造され比較例1−24と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法(工程A)の特徴である最終の中間焼鈍において、特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度としていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as that of Comparative Example 1-24 manufactured in the manufacturing process H shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, in the final intermediate annealing, which is a feature of the present manufacturing method (step A), the preferential movement of specific grain boundaries is suppressed, and the ultimate temperature is set to the recrystallization temperature of the copper alloy in order to obtain a randomized recrystallized structure. Since the temperature is not higher than the upper limit, it is presumed that the conditions of the striped uneven region area ratio AR1 and the RDW orientation area ratio AR2 cannot be satisfied, and the battery characteristics are lowered.

比較例5−25は、縞状凹凸領域面積率AR1が46%で60%以上の条件を満足していない。比較例5−25は、RDW方位面積率AR2が17%で15%以下の条件を満足していない。
そして、比較例5−25は、電池評価1としての初回充電容量が実施例5−1の451mAhと比較して370mAhと低く、電池評価2としての維持率も、実施例5−1の27%より1/4以下の6%である。
このように、比較例5−25は、電池評価における特性が実施例より劣っている。
As for Comparative Example 5-25, striped uneven | corrugated area | region area ratio AR1 is not satisfying | fulfilling 60% or more of conditions at 46%. As for Comparative Example 5-25, RDW azimuth | direction area ratio AR2 is not satisfying | fulfilling 15% or less of conditions at 17%.
In Comparative Example 5-25, the initial charge capacity as battery evaluation 1 is as low as 370 mAh compared to 451 mAh in Example 5-1, and the maintenance rate as battery evaluation 2 is also 27% of Example 5-1. It is 6% of 1/4 or less.
Thus, Comparative Example 5-25 is inferior to the Examples in the battery evaluation.

これは、表2のCu−(Cr、Zr)系の銅合金の評価結果において示した製造工程Iで製造された比較例1−25と同じ理由であるものと推察される。
すなわち、本製造方法の特徴である、最終焼鈍の前に、本製造方法(工程A)の特徴である、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とする第2中間焼鈍を行っていないことから、縞状凹凸領域面積率AR1およびRDW方位面積率AR2の条件を満足することができず、ひいては電池特性が低くなっているものと推察される。
This is presumed to be the same reason as for Comparative Example 1-25 manufactured in Manufacturing Process I shown in the evaluation results of the Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy in Table 2.
That is, before the final annealing, which is a characteristic of the present manufacturing method, the temperature rising rate is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, which is a characteristic of the present manufacturing method (Step A), and a specific grain boundary In order to suppress the preferential movement of copper and to obtain a randomized recrystallized structure, the second intermediate annealing in which the ultimate temperature is higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy is not performed. It is presumed that the conditions of AR1 and RDW azimuth area ratio AR2 cannot be satisfied, and as a result, the battery characteristics are low.

以上説明したように、本発明の実施形態で規定した圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる縞状凹凸領域の面積率AR1が60%以上であり、表面結晶方位におけるRDW方位{012}<100>方位から13°以内のRDW方位面積率AR2が15%以下であることを満足する場合には、電池評価における特性が良好であった。   As described above, the area ratio AR1 of the striped uneven region where the surface unevenness of the striped pattern in the direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction defined in the embodiment of the present invention is 60% or more. When the RDW orientation area ratio AR2 within 13 ° from the RDW orientation {012} <100> orientation in the surface crystal orientation satisfies 15% or less, the characteristics in battery evaluation were good.

また、本実施形態に係る圧延銅箔の製造方法(製造工程A)における第2中間焼鈍において、再結晶前駆現象の時間を与えないように昇温速度を高め、かつ特定の粒界の優先移動を抑制し、ランダム化した再結晶組織を得るために到達温度を銅合金の再結晶温度の上限より高い温度とすることにより、縞状凹凸領域の面積率AR1やRDW方位面積率AR2が規定の条件を満足し、電池評価における特性が良好であった。
一方、製造工程E〜Iで製造された比較例は、縞状凹凸領域の面積率AR1やRDW方位面積率AR2が規定の条件を満足せず、電池評価結果が劣った。
また、表6に示す純銅系に対して、表2〜表5の合金系の方が良好な電池特性を示すものといえる。
Further, in the second intermediate annealing in the method for manufacturing rolled copper foil according to the present embodiment (manufacturing step A), the rate of temperature rise is increased so as not to give the time for the recrystallization precursor phenomenon, and priority movement of specific grain boundaries is performed. In order to obtain a random recrystallized structure, the area ratio AR1 of the striped uneven region and the RDW orientation area ratio AR2 are defined by setting the reached temperature higher than the upper limit of the recrystallization temperature of the copper alloy. The conditions were satisfied and the characteristics in battery evaluation were good.
On the other hand, in the comparative example manufactured in the manufacturing steps E to I, the area ratio AR1 and the RDW azimuth area ratio AR2 of the striped uneven region did not satisfy the prescribed conditions, and the battery evaluation results were inferior.
Moreover, it can be said that the alloy system of Table 2-Table 5 shows a favorable battery characteristic with respect to the pure copper system shown in Table 6.

本実施形態によれば、均一な凹凸を有する粗化めっき面が形成され、集電体と活物質の密着性が良好になるため、電池等の製造物の製造工程中および使用中の集電帯と活物質の離脱が防止される。そして、電池の初期放電容量を良好にするとともに、充・放電のサイクルを繰り返した後の放電容量の低下を防止し、二次電池の高機能化を実現することができる。   According to the present embodiment, a roughened plated surface having uniform unevenness is formed, and the adhesion between the current collector and the active material is improved. Therefore, the current collection during the production process and in use of a product such as a battery The separation of the belt and the active material is prevented. And while making the initial discharge capacity of a battery favorable, the fall of the discharge capacity after repeating the cycle of charging / discharging can be prevented, and the high functionalization of a secondary battery can be implement | achieved.

本発明は、本実施例で示した合金に限定されるものではなく、Cu−Fe系、Cu−Ti系、Cu−Be系、Cu−Zn系、Cu−Ni系、Cu−Al系などの、あらゆる系の銅合金に適用が可能である。   The present invention is not limited to the alloys shown in the present embodiment, but includes Cu-Fe, Cu-Ti, Cu-Be, Cu-Zn, Cu-Ni, and Cu-Al. It can be applied to all types of copper alloys.

上記のカーボン系やシリコン(Si)系の負極活物質のみならず、スズ(Sn)系、これらを複合した系など、種々の活物質からなる電池の負極集電体としても、本発明は適用が可能であり、本発明の効果は本実施例で示した電池の構成に限定されるものではない。   The present invention can be applied not only to the above-mentioned carbon-based and silicon (Si) -based negative electrode active materials, but also to negative electrode current collectors for batteries made of various active materials such as tin (Sn) -based materials and composite materials thereof. However, the effects of the present invention are not limited to the structure of the battery shown in this embodiment.

本発明の実施形態の圧延銅箔は、フレキシブル基板(FPC)、テープキャリアパッケージ(TCP,TAB)、チップオンフレックス(COF)にも用いることができる。   The rolled copper foil of the embodiment of the present invention can also be used for a flexible substrate (FPC), a tape carrier package (TCP, TAB), and a chip-on-flex (COF).

10・・・二次電池
11・・・正極
12・・・負極
13・・・正極集電体
14・・・負極集電体
15・・・セパレータ
16・・・正極側電池缶
17・・・負極側電池缶
18・・・絶縁パッキング
20・・・圧延銅箔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Secondary battery 11 ... Positive electrode 12 ... Negative electrode 13 ... Positive electrode collector 14 ... Negative electrode collector 15 ... Separator 16 ... Positive electrode side battery can 17 ... Negative side battery can 18 ... Insulation packing 20 ... Rolled copper foil

Claims (13)

圧延により形成した銅または銅合金からなる圧延銅箔であって、
表面の結晶方位において、RDW方位{012}<100>方位から13°以内の面積率が15%以下である、
二次電池集電体用圧延銅箔。
A rolled copper foil made of copper or a copper alloy formed by rolling,
In the crystal orientation of the surface, the area ratio within 13 ° from the RDW orientation {012} <100> orientation is 15% or less.
Rolled copper foil for secondary battery current collector.
圧延方向に対して60°〜120°の方向の縞状模様の表面凹凸が見られる領域の面積率が60%以上である、
請求項1記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
The area ratio of the region where the surface irregularities of the striped pattern in the direction of 60 ° to 120 ° with respect to the rolling direction is 60% or more,
A rolled copper foil for a secondary battery current collector according to claim 1.
主成分としてCrおよびZrのうち少なくとも一方を含むCu−(Cr、Zr)系の銅合金であって、主成分となるCr、Zrのうち少なくとも1種を合計で0.01〜0.9mass%含有する、
請求項1または2記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
A Cu— (Cr, Zr) -based copper alloy containing at least one of Cr and Zr as a main component, and a total of at least one of Cr and Zr as main components is 0.01 to 0.9 mass%. contains,
The rolled copper foil for secondary battery collectors of Claim 1 or 2.
副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する、
請求項3記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
Containing at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg as sub-addition components in a total of 0.01 to 0.45 mass%,
A rolled copper foil for a secondary battery current collector according to claim 3.
主成分としてAgを含むCu−Ag系の銅合金であって、主成分となるAgを合計で0.01〜0.9mass%含有する、
請求項1または2記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
A Cu-Ag based copper alloy containing Ag as a main component, containing 0.01 to 0.9 mass% of Ag as a main component in total.
The rolled copper foil for secondary battery collectors of Claim 1 or 2.
副添加成分となるSn、Zn、Si、Mn、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する、
請求項5記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
Containing at least one of Sn, Zn, Si, Mn, and Mg as sub-addition components in a total of 0.01 to 0.45 mass%,
A rolled copper foil for a secondary battery current collector according to claim 5.
主成分としてSnを含むCu−Sn系の銅合金であって、主成分となるSnを合計で0.01〜4.9mass%含有する、
請求項1または2記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
A Cu-Sn based copper alloy containing Sn as a main component, containing 0.01 to 4.9 mass% of Sn as a main component in total.
The rolled copper foil for secondary battery collectors of Claim 1 or 2.
副添加成分となるZn、Si、P、Mgから少なくとも1種を合計で0.01〜0.45mass%含有する、
請求項7記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
0.01-0.45 mass% in total containing at least one kind from Zn, Si, P, and Mg as sub-addition components,
The rolled copper foil for a secondary battery current collector according to claim 7.
主成分としてNiおよびSiを含むCu−Ni−Si系の銅合金であって、主成分となるNiを1.4〜4.8mass%、Siを0.2〜1.3mass%含有する、
請求項1または2記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
A Cu—Ni—Si based copper alloy containing Ni and Si as main components, and containing 1.4 to 4.8 mass% of Ni as a main component and 0.2 to 1.3 mass% of Si,
The rolled copper foil for secondary battery collectors of Claim 1 or 2.
副添加成分となるSn、Zn、Mn、Mg、Coから少なくとも1種を合計で0.005〜0.9mass%含有する、
請求項9記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
0.005 to 0.9 mass% in total containing at least one of Sn, Zn, Mn, Mg, and Co, which are sub-addition components,
A rolled copper foil for a secondary battery current collector according to claim 9.
酸素を含む純銅系であって、酸素量が2〜200ppmである、
請求項1または2記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
It is a pure copper system containing oxygen, and the oxygen amount is 2 to 200 ppm
The rolled copper foil for secondary battery collectors of Claim 1 or 2.
主成分を除く残部、または主成分および副添加成分を除く残部が不可避不純物により形成されている、
請求項3〜11のいずれかに記載の二次電池集電体用圧延銅箔。
The remainder excluding the main component, or the remainder excluding the main component and the auxiliary additive component is formed by inevitable impurities.
The rolled copper foil for secondary battery electrical power collectors in any one of Claims 3-11.
請求項1〜12のいずれかに記載の二次電池集電体用圧延銅箔を製造する圧延銅箔の製造方法であって、
原料を溶解する溶解工程と、
溶解した原料を鋳造する鋳造工程と、
鋳造によって得られた被圧延材に対して、800〜1030°Cで、5分間〜10時間の均質化熱処理を行う均質化熱処理工程と、
前記均質化熱処理工程の後に、被圧延材に対して、再結晶温度に加熱して熱間圧延を行う熱間圧延工程と、
前記熱間圧延工程の後に、水冷、面削工程を経て、冷間圧延を行う第1中間冷間圧延工程と、
前記第1中間冷間圧延工程に続いて、300〜800°Cで3秒間〜10時間の焼鈍を行う第1中間焼鈍工程と、
前記第1中間焼鈍工程に続いて、冷間圧延を行う第2中間冷間圧延工程と、
前記第2中間冷間圧延工程に続いて、昇温速度が2°C/秒以上であり、到達温度が800〜1000°Cである焼鈍を行う第2中間焼鈍工程と、
前記第2中間焼鈍工程に続いて冷間圧延を行う第3中間冷間圧延工程と、
前記第3中間冷間圧延工程の後に、300〜800°Cで3秒間〜10時間の焼鈍を行う最終焼鈍工程と、を有する
二次電池集電体用圧延銅箔の製造方法。
It is a manufacturing method of the rolled copper foil which manufactures the rolled copper foil for secondary battery collectors in any one of Claims 1-12,
A melting step for melting the raw materials;
A casting process for casting the melted raw material;
A homogenized heat treatment step of performing a homogenized heat treatment at 800 to 1030 ° C. for 5 minutes to 10 hours on the material to be rolled obtained by casting,
After the homogenization heat treatment step, a hot rolling step in which the material to be rolled is heated to a recrystallization temperature and hot rolled,
After the hot rolling step, a first intermediate cold rolling step for performing cold rolling through a water cooling and a chamfering step;
Following the first intermediate cold rolling step, a first intermediate annealing step of annealing at 300 to 800 ° C for 3 seconds to 10 hours,
Following the first intermediate annealing step, a second intermediate cold rolling step for performing cold rolling,
Following the second intermediate cold rolling step, a second intermediate annealing step in which annealing is performed at a temperature increase rate of 2 ° C / second or more and an ultimate temperature of 800 to 1000 ° C,
A third intermediate cold rolling step for performing cold rolling subsequent to the second intermediate annealing step;
A final annealing step of performing annealing at 300 to 800 ° C. for 3 seconds to 10 hours after the third intermediate cold rolling step, and a method for producing a rolled copper foil for a secondary battery current collector.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6182372B2 (en) * 2013-07-10 2017-08-16 古河電気工業株式会社 Copper alloy rolled foil for secondary battery current collector and method for producing the same
US9955583B2 (en) * 2013-07-23 2018-04-24 Jx Nippon Mining & Metals Corporation Surface-treated copper foil, copper foil with carrier, substrate, resin substrate, printed wiring board, copper clad laminate and method for producing printed wiring board
CN104630543B (en) * 2015-01-23 2017-06-16 上海康成铜业集团有限公司 A kind of commutator low silver-bearing copper lanthanum alloy and preparation method
CN108400338B (en) * 2017-02-03 2021-11-30 Jx金属株式会社 Surface-treated copper foil, and collector, electrode and battery using same
JP6382479B1 (en) * 2017-02-17 2018-08-29 古河電気工業株式会社 Copper alloy material for resistance material, manufacturing method thereof and resistor
JP6790153B2 (en) * 2019-03-04 2020-11-25 Jx金属株式会社 A method for manufacturing a rolled copper foil for a secondary battery negative electrode current collector, a secondary battery negative electrode current collector and a secondary battery using the rolled copper foil, and a rolled copper foil for a secondary battery negative electrode current collector.
CN110252972B (en) * 2019-07-06 2021-11-30 湖北精益高精铜板带有限公司 High-strength high-conductivity microalloy copper foil and processing method thereof
CN113369301A (en) * 2021-04-30 2021-09-10 重庆材料研究院有限公司 Rolled copper foil for manufacturing copper mesh and preparation method thereof
WO2024014172A1 (en) * 2022-07-14 2024-01-18 Jx金属株式会社 Rolled copper foil, copper-clad laminate, method for producing copper-clad laminate, method for producing flexible printed wiring board, and method for producing electronic component

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294368A (en) * 2001-03-30 2002-10-09 Kobe Steel Ltd Copper alloy for terminal and connector and production method therefor
JP2008106356A (en) * 2006-09-27 2008-05-08 Dowa Metaltech Kk Copper alloy sheet and its manufacturing method
JP2009215604A (en) * 2008-03-10 2009-09-24 Hitachi Cable Ltd Copper foil and manufacturing method thereof
JP2009242871A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Nippon Mining & Metals Co Ltd High strength and high electric conductivity two-phase copper alloy foil
WO2011068135A1 (en) * 2009-12-02 2011-06-09 古河電気工業株式会社 Copper alloy sheet and process for producing same
JP2011117034A (en) * 2009-12-02 2011-06-16 Furukawa Electric Co Ltd:The Copper-alloy material

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4428715B2 (en) * 2006-09-29 2010-03-10 日鉱金属株式会社 Copper alloy foil
JP4981748B2 (en) * 2007-05-31 2012-07-25 古河電気工業株式会社 Copper alloy for electrical and electronic equipment
JP2009079282A (en) * 2007-09-27 2009-04-16 Nikko Kinzoku Kk Precipitation-hardening copper alloy foil
JP2010150597A (en) * 2008-12-25 2010-07-08 Hitachi Cable Ltd Rolled copper foil
JP5245813B2 (en) * 2008-12-25 2013-07-24 日立電線株式会社 Rolled copper foil
US9455058B2 (en) * 2009-01-09 2016-09-27 Mitsubishi Shindoh Co., Ltd. High-strength and high-electrical conductivity copper alloy rolled sheet and method of manufacturing the same
JP5520533B2 (en) * 2009-07-03 2014-06-11 古河電気工業株式会社 Copper alloy material and method for producing the same
TW201321527A (en) * 2011-08-05 2013-06-01 Furukawa Electric Co Ltd Rolled copper foil for secondary battery collector and production method therefor
CN102851527B (en) 2012-09-07 2014-05-07 江西理工大学 Copper-silver-magnesium alloy contact wire and preparation method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294368A (en) * 2001-03-30 2002-10-09 Kobe Steel Ltd Copper alloy for terminal and connector and production method therefor
JP2008106356A (en) * 2006-09-27 2008-05-08 Dowa Metaltech Kk Copper alloy sheet and its manufacturing method
JP2009215604A (en) * 2008-03-10 2009-09-24 Hitachi Cable Ltd Copper foil and manufacturing method thereof
JP2009242871A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Nippon Mining & Metals Co Ltd High strength and high electric conductivity two-phase copper alloy foil
WO2011068135A1 (en) * 2009-12-02 2011-06-09 古河電気工業株式会社 Copper alloy sheet and process for producing same
JP2011117034A (en) * 2009-12-02 2011-06-16 Furukawa Electric Co Ltd:The Copper-alloy material

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