JP5470449B2 - Leak detection method and vacuum processing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、リークディテクタを用いた漏洩検知方法及び真空処理装置に関する。 The present invention relates to a leak detection method using a leak detector and a vacuum processing apparatus.
スパッタリング装置やエッチング装置等の真空処理装置からの微小なリークの有無を検知(検査)するためにリークディテクタを用いることが従来から知られている(例えば、特許文献1参照)。リークディテクタは、質量分析管とこの質量分析管を真空引きする真空ポンプとを備える。 Conventionally, it is known to use a leak detector to detect (inspect) the presence or absence of minute leaks from a vacuum processing apparatus such as a sputtering apparatus or an etching apparatus (see, for example, Patent Document 1). The leak detector includes a mass spectrometer tube and a vacuum pump that evacuates the mass spectrometer tube.
真空処理装置の漏洩検知を行う場合、上記リークディテクタを、接続管を介して、真空処理装置の処理室を画成するチャンバに予め設けられたテストポートに接続する。その後、チャンバを真空引きし、その外側からトレーサガスたるヘリウムガスを局所的に吹き付けていく。そして、この真空処理装置に漏洩(リーク)が存するとき、その漏洩箇所からチャンバ内に吸い込まれたヘリウムガスを真空ポンプの作動により質量分析管へと引き込み、質量分析管にてこのヘリウムガスをイオン化し、ヘリウムイオンのみを選別してイオンコレクタに入射させ、イオン電流として真空中に漏れるヘリウムガスを定量的に検知することで真空処理装置の漏洩箇所が特定される。 When leak detection of the vacuum processing apparatus is performed, the leak detector is connected to a test port provided in advance in a chamber that defines a processing chamber of the vacuum processing apparatus, via a connecting pipe. Thereafter, the chamber is evacuated and helium gas as a tracer gas is blown locally from the outside. When a leak exists in the vacuum processing apparatus, helium gas sucked into the chamber from the leaked portion is drawn into the mass spectrometer tube by the operation of the vacuum pump, and the helium gas is ionized by the mass spectrometer tube. Then, only the helium ions are selected and made incident on the ion collector, and the leak point of the vacuum processing apparatus is specified by quantitatively detecting the helium gas leaking into the vacuum as the ion current.
ところで、近年、フラットパネルディスプレイの製造工程にてガラス基板表面にITOなどの透明電導膜やゲート電極たる金属膜を形成する真空処理装置のように、処理対象物たる基板の大面積化に伴い、真空処理装置自体が大型化している。このような大型の真空処理装置では、チャンバに、高い排気能力を有するターボ分子ポンプ等の高真空ポンプが設けられ、装置によっては、複数台の高真空ポンプが設けられる場合がある。また、高真空ポンプの排気側にはそれぞれ排気管が接続され、フォアポンプにより排気されている。高真空ポンプが複数台設けられている真空処理装置では、各排気管が集合されて一台のフォアポンプに接続され、排気されている場合がある。 By the way, in recent years, as the vacuum processing apparatus forms a transparent conductive film such as ITO or a metal film as a gate electrode on the glass substrate surface in the manufacturing process of a flat panel display, The vacuum processing apparatus itself is getting larger. In such a large vacuum processing apparatus, a high vacuum pump such as a turbo molecular pump having a high exhaust capability is provided in the chamber, and depending on the apparatus, a plurality of high vacuum pumps may be provided. Further, exhaust pipes are connected to the exhaust side of the high vacuum pump, and exhausted by the fore pump. In a vacuum processing apparatus provided with a plurality of high vacuum pumps, exhaust pipes may be gathered and connected to a single fore pump to be exhausted.
然し、このような大型の真空処理装置の漏洩検知を行う際に、上記の如く、チャンバのテストポートにリークディテクタからの接続管を接続すると、チャンバ用の高真空ポンプとリークディテクタの真空ポンプとでは、これらの真空ポンプを取り付けるためチャンバに形成される排気口の径の差が大きく、しかも、その排気速度の差も大きい。このため、チャンバに吸い込まれたヘリウムガスが優先的に高真空ポンプに引き込まれる。その結果、リークディテクタの質量分析管へと導かれるヘリウムガスの量が少なく、漏洩箇所を特定(発見)することが困難であるという不具合が生じるようになってきた。 However, when the leak detection of such a large vacuum processing apparatus is performed, if a connecting pipe from the leak detector is connected to the test port of the chamber as described above, a high vacuum pump for the chamber and a vacuum pump for the leak detector Then, since these vacuum pumps are attached, the difference in the diameter of the exhaust port formed in the chamber is large, and the difference in the exhaust speed is also large. For this reason, the helium gas sucked into the chamber is preferentially drawn into the high vacuum pump. As a result, there is a problem that the amount of helium gas introduced to the mass spectrometer tube of the leak detector is small, and it is difficult to identify (discover) the leak location.
このような場合、高真空ポンプを補助排気するように設けたフォアポンプの直上にテストポートを設け、このテストポートに接続管を介してリークディテクタを接続することも提案されるが、上記大型の真空処理装置では、高真空ポンプからフォアポンプまでの距離が長いことで排気管も長くなる。このため、真空処理装置の漏洩箇所から吸い込まれたヘリウムガスがリークディテクタの質量分析管に到達するまでに時間がかかるという不具合が生じ、誤検知を招き易い。しかも、真空チャンバからの距離も長くなることで、一人の作業者にてリーク検知を行う(トレーサガスの吹き付けやリークディテクタの操作等)ことが実質的にできず、作業効率が悪いという問題もある。 In such a case, it is also proposed to provide a test port directly above the fore pump provided to evacuate the high vacuum pump and connect a leak detector to the test port via a connecting pipe. In the vacuum processing apparatus, the exhaust pipe becomes longer due to the longer distance from the high vacuum pump to the fore pump. For this reason, there is a problem that it takes time for the helium gas sucked from the leaked portion of the vacuum processing apparatus to reach the mass spectrometer tube of the leak detector, which is likely to cause erroneous detection. In addition, since the distance from the vacuum chamber becomes longer, leak detection (such as spraying of tracer gas and operation of the leak detector) cannot be performed by a single worker, resulting in poor work efficiency. is there.
本発明は、以上の点に鑑み、短時間でかつ正確に漏洩検知ができる作業効率の良い漏洩検知方法を提供することをその第1の課題とするものである。また、リークディテクタを用いて短時間でかつ正確に漏洩検知できるように構成された真空処理装置を提供することを第2の課題とするものである。 In view of the above, it is a first object of the present invention to provide a leak detection method with high work efficiency that can accurately detect leaks in a short time. Another object of the present invention is to provide a vacuum processing apparatus configured to detect leakage accurately in a short time using a leak detector.
上記第1の課題を解決するために、本発明の漏洩検知方法は、チャンバと、高真空ポンプと、高真空ポンプの排気側に排気管を介して接続されてこの高真空ポンプを補助排気するフォアポンプとを備えた真空処理装置に、ヘリウムガスを検知する質量分析管とこの質量分析管内を真空引きする真空ポンプとを有するリークディテクタを、接続管を介して接続し、トレーサガスとしてヘリウムガスを用い、このヘリウムガスを真空処理装置外側から吹き付け、真空処理装置の漏洩箇所からチャンバ内へと吸い込まれたヘリウムガスを質量分析管と導いて検知することで、真空処理装置の漏洩検知を行う漏洩検知方法において、リークディテクタからの接続管を、排気管のうち高真空ポンプの排気側からこの排気管の全長の10%以内の範囲内に接続することを特徴とする。 In order to solve the first problem, a leak detection method according to the present invention is connected to a chamber, a high vacuum pump, and an exhaust side of the high vacuum pump via an exhaust pipe to auxiliary exhaust the high vacuum pump. A leak detector having a mass analyzing tube for detecting helium gas and a vacuum pump for evacuating the mass analyzing tube is connected to a vacuum processing apparatus having a fore pump via a connecting tube, and helium gas is used as a tracer gas. This helium gas is blown from the outside of the vacuum processing apparatus, and the helium gas sucked into the chamber from the leakage point of the vacuum processing apparatus is guided to the mass spectrometer tube to detect the leakage of the vacuum processing apparatus. In the leak detection method, connect the connecting pipe from the leak detector within 10% of the total length of the exhaust pipe from the exhaust side of the high vacuum pump. Characterized in that it continue.
本発明によれば、漏洩検知のために、チャンバを真空引きし、真空処理装置の外側からトレーサガスたるヘリウムガスを局所的に吹き付けていき、リークが存すると、このヘリウムガスがチャンバ内に吸い込まれて直ちに高真空ポンプへと導かれる。 According to the present invention, in order to detect leakage, the chamber is evacuated, and the helium gas as the tracer gas is blown locally from the outside of the vacuum processing apparatus. When there is a leak, the helium gas is sucked into the chamber. Immediately, it is led to a high vacuum pump.
ここで、真空ポンプの実行排気速度は配管のコンダクタンスに依存するため、上記真空処理装置の真空排気系では、通常、コンダクタンスに対して、十分な排気速度が得られるように真空ポンプが選定されている。そして、高真空ポンプとフォアポンプとの間の排気管においてフォアポンプの実効排気速度は、このフォアポンプからの距離が長くなるのに従い、小さくなる。 Here, since the effective pumping speed of the vacuum pump depends on the conductance of the piping, the vacuum pump is usually selected so that a sufficient pumping speed can be obtained for the conductance in the vacuum pumping system of the vacuum processing apparatus. Yes. The effective pumping speed of the fore pump decreases in the exhaust pipe between the high vacuum pump and the fore pump as the distance from the fore pump increases.
そこで、本発明では、リークディテクタからの接続管を、排気管のうち高真空ポンプの排気側からこの排気管の全長の10%以内の範囲内に接続しているため、その接続位置でのフォアポンプの実効排気速度は小さい。これにより、フォアポンプの実効排気速度に対するリークディテクタの排気速度が大きくなって排気管内から接続管内へと導かれるヘリウムガスの量が多くなる。この場合、本発明を大型の真空処理装置の漏洩検知に適用しても、漏洩箇所からチャンバ内に吸い込まれたヘリウムガスが、高真空ポンプを経て接続管を通ってリークディテクタの質量分析管にヘリウムガスが到達するのに然程時間はかからない。したがって、誤検知を招来することなく、正確に漏洩箇所を特定できる。しかも、真空処理装置の近くにリークディテクタを配置することができるため、一人の作業者にて漏洩検知の作業を行うことも可能であり、作業性がよい。 Therefore, in the present invention, since the connection pipe from the leak detector is connected within a range of 10% or less of the total length of the exhaust pipe from the exhaust side of the high vacuum pump in the exhaust pipe, the fore at the connection position is connected. The effective pumping speed of the pump is small. Thereby, the exhaust speed of the leak detector with respect to the effective exhaust speed of the fore pump is increased, and the amount of helium gas guided from the exhaust pipe into the connection pipe is increased. In this case, even if the present invention is applied to leak detection of a large vacuum processing apparatus, helium gas sucked into the chamber from the leak point passes through the connection pipe via the high vacuum pump to the mass spectrometer of the leak detector. It does not take much time for the helium gas to reach. Therefore, it is possible to accurately identify the leakage location without causing erroneous detection. In addition, since the leak detector can be arranged near the vacuum processing apparatus, it is possible for one worker to perform the leak detection work, and the workability is good.
また、本発明において、真空処理装置は、真空計、スパッタリングカソードや開閉バルブなど、チャンバ内で実施される処理に応じてこのチャンバに取り付けられる各種の構成部品を含む概念である。また、接続管の長さは、短時間で応答性よくヘリウムガスを検知できるように1m以下とすることが望ましい。 In the present invention, the vacuum processing apparatus is a concept including various components such as a vacuum gauge, a sputtering cathode, and an open / close valve that are attached to the chamber in accordance with processing performed in the chamber. The length of the connecting pipe is preferably 1 m or less so that helium gas can be detected in a short time with good response.
本発明においては、前記接続管の排気管への接続位置は、この排気管内の実行排気速度が実質的に最小となる位置、即ち、排気管のうち高真空ポンプの排気側直下であることが好ましい。 In the present invention, the connection position of the connection pipe to the exhaust pipe is a position where the effective exhaust speed in the exhaust pipe is substantially minimized, that is, the exhaust pipe is directly below the exhaust side of the high vacuum pump. preferable.
また、上記第2の課題を解決するために、本発明の真空処理装置は、チャンバと、高真空ポンプと、高真空ポンプの排気側に排気管を介して接続されてこの高真空ポンプを補助排気するフォアポンプとを有し、前記排気管のうち高真空ポンプの排気側からこの排気管の全長の10%以内の範囲内に、リークディテクタに通じる接続管が接続可能なポートを備えることを特徴とする。 In order to solve the second problem, the vacuum processing apparatus of the present invention is connected to a chamber, a high vacuum pump, and an exhaust side of the high vacuum pump via an exhaust pipe to assist the high vacuum pump. A fore pump for evacuating, and having a port to which a connecting pipe leading to a leak detector can be connected within 10% of the total length of the exhaust pipe from the exhaust side of the high vacuum pump among the exhaust pipes Features.
以下、図面を参照して、本発明の実施形態の真空処理装置及びこの真空処理装置に対して本発明の実施形態の漏洩検知方法を適用して漏洩検知を行う場合について説明する。 Hereinafter, a vacuum processing apparatus according to an embodiment of the present invention and a case where leakage detection is performed by applying the leakage detection method according to the embodiment of the present invention to the vacuum processing apparatus will be described with reference to the drawings.
図1及び図2を参照して、1は、本発明の実施形態の真空処理装置である。真空処理装置1は、例えば、大面積の基板に対して成膜処理を行い得るものであり、処理室を画成するチャンバ11を備える。チャンバ11には、円形開口たる排気口12が複数設けられ(本実施形態では3個)、これら排気口12を臨むようにチャンバ11にはターボ分子ポンプ(高真空ポンプ)2が設けられている。ターボ分子ポンプ2の排気側には排気管3が接続されている。排気管3は集合排気管4に接続され、この集合排気管4が一台のドライポンプ(フォアポンプ)5に接続され、ターボ分子ポンプ2を補助排気するようになっている。この場合、排気管3及び集合排気管4が本発明にいう排気管を構成する。また、真空処理装置1に設けたターボ分子ポンプ2の排気側直下に位置して排気管3には、フランジ付の漏洩検知用のポート31が形成されている。漏洩検知用のポート31の形成位置は、これに限定されるものではなく、高真空ポンプ2の排気側から、排気管3及び集合排気管4を含めた全長の10%以内の範囲内にあればよい。
With reference to FIG.1 and FIG.2, 1 is the vacuum processing apparatus of embodiment of this invention. The
なお、本実施形態では、高真空ポンプとしてターボ分子ポンプ2を例としているが、チャンバ11内を高真空まで真空引きできる拡散ポンプ等、溜込式の高真空ポンプ以外であれば特に限定されるものではない。フォアポンプ5についても、高真空ポンプを補助排気し得るものであれば特に限定されるものではなく、ブースターポンプ等を使用できる。また、本実施形態では、高真空ポンプ2を複数台、フォアポンプ5を1台としているが、その台数に関しても限定されるものではない。さらに、特に詳細に図示して説明しないが、チャンバ11には、真空計G、バルブ、ガス導入手段、スパッタリングカソードや開閉扉など、チャンバ内で実施される処理に応じて各種の構成部品が設けられている。
In the present embodiment, the turbo
真空処理装置1に対する漏洩検知の際に用いられるリークディテクタ6は、図2に示すように、筐体6aを有し、この筐体6aには磁場偏向型の質量分析管61が内蔵されている。質量分析管61は、特に図示して説明しないが、フィラメントとグリッドを有して内部のガス成分をイオン化するイオンソースと、ヘリウムイオンを捕集するイオンコレクタと、イオンソースにて生成された正イオンのうちヘリウムイオンのみをイオンコレクタへと導くマグネットとを備える。そして、イオンコレクタに付設された電流検出回路Aにて、このイオンコレクタを流れるイオン電流が検出される。
As shown in FIG. 2, the
質量分析管61には主管路62が接続され、この主管路62には、高真空排気手段たる複合分子ポンプ63と、その背圧側でフォアバルブ64を介在させて接続された補助真空排気手段たるロータリーポンプ65とが設けられている。複合分子ポンプ63としては、ポンプケーシングにターボ分子ポンプとドラッグポンプとを内蔵したもので構成でき、また、補助真空排気手段としては、上記限定されるものではなく、メンブレンポンプ等であってもよい。
A
筐体6aには、接続管7の一端が接続可能なフランジ付の接続ポート6bが突設されている。接続ポート6bには排気通路66が接続され、この排気通路66は2箇所で分岐され、分岐した第1及び第2の気体導入管路66a、66bが、第1及び第2の各開閉弁67a、67bを介して、複合分子ポンプ63の圧縮比の異なる位置にそれぞれ接続されている。また、排気通路66は、ピラニ真空計等の真空計68と他の開閉弁69を介してロータリーポンプ65とに接続されている。真空計68は、各開閉弁67a、67b、69の開閉やフォアバルブ64の開閉を制御するために利用される。なお、特に図示して説明しないが、排気通路66には、リークディテクタの起動時に校正を行うための標準リークやベントバルブが接続されている。
A
これらの各部品の作動等の制御は、コンピュータやシーケンサ等を備えた制御手段Cによって統括制御される。この場合、制御手段Cには、イオン電流からリーク値を算出するためのプログラムやリークテスト時のリークディテクタ6の制御プログラム(作動シーケンス)等が予め記憶されたROM等の記憶手段Mが付設されている。また、リーク値や排気通路66内の圧力を表示できるようにディスプレイDが設けられている。そして、上記構成のリークディテクタ6の接続ポート6bに接続管7の一端が接続され、その他端が漏洩検知用のポート31に接続される。接続管7は、短時間で応答性よくヘリウムガスを検知できるように1m以下とすることが望ましい。以下に、上記真空処理装置1に対する本実施形態の漏洩検知方法を説明する。
Control of the operation and the like of these components is comprehensively controlled by a control means C including a computer, a sequencer, and the like. In this case, the control means C is provided with a storage means M such as a ROM in which a program for calculating a leak value from the ion current, a control program (operation sequence) of the
先ず、上記リークディテクタ6の接続ポート6bに接続管7の一端を接続し、その他端を、図示省略のバルブを介して漏洩検知用のポート31に接続する。次に、各ターボ分子ポンプ2及びドライポンプ5を起動してチャンバ11を真空引きすると同時に、上記バルブを閉じた状態で制御手段Cからリークディテクタ6の起動指示を入力する。これにより、フォアバルブ64が開弁されると共に、複合分子ポンプ63とロータリーポンプ65とが起動する。このとき、その他の弁は閉弁状態であり、所定圧力に達すると先ず校正が行われ、その後、リークディテクタ6がリークテスト可能な状態となる。そして、リークディテクタ6をリークテスト状態(排気通路66を真空引きした状態)にし、接続管7の圧力をターボ分子ポンプ2の排気側直下に接続できる圧力まで減圧する。その後、上記バルブを開けて、真空処理装置1の外側からスプレーガン等によってヘリウムガスを吹き付けていく。このとき、真空処理装置1にリークが存すると、その漏洩箇所からヘリウムガスがチャンバ11内に吸い込まれ、ターボ分子ポンプ2へと引き込まれる。
First, one end of the
ここで、本実施形態においては、接続管7がターボ分子ポンプ2の排気側直下に接続しているため、その接続位置におけるフォアポンプ5の実行排気速度が最小となり、フォアポンプ5の実効排気速度に対するリークディテクタ6の排気速度が大きくなって排気管3内から接続管7内へと導かれるヘリウムガスの量が多くなる。このとき、接続管7内へと導かれたヘリウムガスが複合分子ポンプ63を逆拡散して質量分析管61へと導かれる。そして、イオンソースにて生成されたヘリウムイオンをイオンコレクタに捕集してこのイオンコレクタを流れるイオン電流値が電流検出回路Aで検出され、このイオン電流値が制御手段Cに出力される。制御手段Cによってリーク値が算出され、そのリーク値がディスプレイに表示される。これにより、ヘリウムガスの真空処理装置1への吹き付け箇所と、検出されたリーク値とから漏洩を生じている箇所が特定できる。
Here, in the present embodiment, since the connecting
以上説明したように、本発明の実施形態によれば、リークディテクタ6に漏洩検知に十分なヘリウムガスが可及的速やかに導かれる、つまり、ヘリウムガスが質量分析管61に到達するのに然程時間はかからないため、真空処理装置1の構成に関係なく、誤検知を招来することなく、正確に漏洩箇所を特定できる。しかも、真空処理装置1の近くにリークディテクタを配置することができるため、一人の作業者にて漏洩検知の作業を行うことも可能であり、作業性もよい。また、本実施形態の真空処理装置1は、ターボ分子ポンプ2の排気側直下に漏洩検知用のポート31を備えるため、リークディテクタ6による短時間かつ正確な漏洩検知を行うのに適したものとなる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, helium gas sufficient for leak detection is introduced to the
次に、本発明の効果を確認するため、上記構成の真空処理装置1において真空計Gの取付箇所にて微小なリークをつくり、このリーク箇所に一定量のヘリウムガスを吹き付け、リークディテクタ6によりそのときのヘリウムガスのリーク量を測定する実験を行った。この場合、実験に用いた真空処理装置1は、チャンバ容積が12m3であり、ターボ分子ポンプ2として3m3/sの能力を有するものを3台、ドライポンプとしてlm3/sの能力を有するものを1台とした。また、排気管3の集合排気管4を含めた長さは、20mであり、接続管7の長さは1mであった(発明実験)。Next, in order to confirm the effect of the present invention, in the
また、比較実験として、リークディテクタ6から上記と同一長さの接続管7をチャンバ11の側壁に設けたテストポートに接続した場合と(比較実験1)、ドライポンプ5と排気管4との接続箇所に接続管7の一端を接続した場合(比較実験2)とについてもリーク量を測定することとした。
Further, as a comparative experiment, when the
図3は、ヘリウムガスの吹き付け開始からの経過時間とリーク量との関係を示すグラフである。なお、比較実験1においてはリークディテクタ6にてリーク検知できないことが確認された。これによれば、発明実験では、比較実験2の場合と比べて、リーク箇所へのヘリウムガスの吹き付け直後からリークディテクタ6にてヘリウムが検出され、検出されるリーク量も多く、しかも、リーク量が安定するまでの時間も短いことが判る。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the elapsed time from the start of helium gas spraying and the amount of leak. In
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記に限定されるものではない。上記実施形態では、リークディテクタ6に導かれるヘリウムが最大となり得るように、接続管7をターボ分子ポンプ2の排気側直下に接続しているが、高真空ポンプ2の排気側から、排気管3及び集合排気管4を含めた全長の10%以内の範囲内に接続管7が接続されていればよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited above. In the above embodiment, the
また、上記実施形態では、複数個の高真空ポンプ2を備えた大型の真空処理装置1を例に説明しているが、漏洩検知する対象物は上記に限定されるものではない。本発明の漏洩検知方法は、真空チャンバの容積やその真空排気系の構成に関係なく適用できる。
Moreover, in the said embodiment, although the large sized
1…真空処理装置、11…チャンバ、2…ターボ分子ポンプ(高真空ポンプ)、3,4…排気管、31…漏洩検知用のポート、5…ドライポンプ(フォアポンプ)、6…リークディテクタ、6b…接続ポート、61…質量分析管、63…複合分子ポンプ(リークディテクタ用の真空ポンプ)、65…ロータリーポンプ(リークディテクタ用の真空ポンプ)、7…接続管。
DESCRIPTION OF
Claims (3)
トレーサガスとしてヘリウムガスを用い、このヘリウムガスを真空処理装置外側から吹き付け、真空処理装置の漏洩箇所からチャンバ内へと引き込まれたヘリウムガスを質量分析管と導いて検知することで、真空処理装置の漏洩検知を行う漏洩検知方法において、
リークディテクタからの接続管を、排気管のうち高真空ポンプの排気側からこの排気管の全長の10%以内の範囲内に接続することを特徴とする漏洩検知方法。Mass spectrometer tube for detecting helium gas in a vacuum processing apparatus comprising a chamber, a high vacuum pump, and a fore pump connected to the exhaust side of the high vacuum pump via an exhaust pipe for auxiliary exhaust of the high vacuum pump And a leak detector having a vacuum pump for evacuating the inside of the mass spectrometer tube, connected via a connecting tube,
By using helium gas as the tracer gas, this helium gas is blown from the outside of the vacuum processing apparatus, and the helium gas drawn into the chamber from the leaked portion of the vacuum processing apparatus is guided to the mass spectrometer tube to detect the vacuum processing apparatus. In the leak detection method that performs leak detection of
A leak detection method comprising: connecting a connection pipe from a leak detector to a range within 10% of the total length of the exhaust pipe from the exhaust side of the high vacuum pump in the exhaust pipe.
前記排気管のうち高真空ポンプの排気側からこの排気管の全長の10%以内の範囲内に、リークディテクタに通じる接続管が接続可能なポートを備えることを特徴とする真空処理装置。A chamber, a high vacuum pump, and a fore pump connected to the exhaust side of the high vacuum pump via an exhaust pipe for auxiliary exhaust of the high vacuum pump;
A vacuum processing apparatus comprising a port to which a connection pipe leading to a leak detector can be connected within a range within 10% of the total length of the exhaust pipe from the exhaust side of the high vacuum pump in the exhaust pipe.
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