JP5441665B2 - RECORDING HEAD AND RECORDING DEVICE HAVING THE SAME - Google Patents

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JP5441665B2 JP2009288682A JP2009288682A JP5441665B2 JP 5441665 B2 JP5441665 B2 JP 5441665B2 JP 2009288682 A JP2009288682 A JP 2009288682A JP 2009288682 A JP2009288682 A JP 2009288682A JP 5441665 B2 JP5441665 B2 JP 5441665B2
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Description

本発明は、記録ヘッドおよびこれを備える記録装置に関する。   The present invention relates to a recording head and a recording apparatus including the recording head.

従来、ファクシミリやビデオプリンタ等の印画デバイスとして、サーマルヘッド等の種々の記録ヘッドが提案されている。例えば、特許文献1に記載のサーマルヘッド(サーマルプリントヘッド)では、複数の発熱素子(発熱部)が上面に一列に配列された支持基板を、放熱性接着剤を介して放熱板上に配置している。そして、この放熱性接着剤からなる層の内部には、この層の厚さと略同じ粒径を有するアルミナセラミックス等からなる粉体が含有されている。   Conventionally, various recording heads such as thermal heads have been proposed as printing devices such as facsimiles and video printers. For example, in the thermal head (thermal print head) described in Patent Document 1, a support substrate in which a plurality of heat generating elements (heat generating portions) are arranged in a row on an upper surface is disposed on a heat radiating plate via a heat radiating adhesive. ing. And the inside of the layer which consists of this heat dissipation adhesive contains the powder which consists of alumina ceramics etc. which have a particle size substantially the same as the thickness of this layer.

特開2008−201013号公報JP 2008-201013 A

特許文献1に記載のサーマルヘッドでは、複数の発熱素子が一列に配列されているため、発熱素子の配列方向の両端部に配置された発熱素子よりも中央部に配置された発熱素子の方が、蓄熱され易い傾向がある。   In the thermal head described in Patent Document 1, since a plurality of heating elements are arranged in a row, the heating element arranged at the center is more preferable than the heating elements arranged at both ends in the arrangement direction of the heating elements. , Tend to be stored easily.

しかしながら、特許文献1に記載のサーマルヘッドでは、放熱板と支持基板とが略同一粒径の粉体を含有した放熱性接着剤で接合されているため、放熱板と支持基板との間隔が、発熱素子の配列方向の中央部と両端部とで一定となっている。したがって、発熱素子の配列方向における支持基板の中央部と両端部とで放熱特性が略同じになっている。   However, in the thermal head described in Patent Document 1, since the heat dissipation plate and the support substrate are joined with a heat dissipation adhesive containing powder having substantially the same particle size, the distance between the heat dissipation plate and the support substrate is It is constant at the center and both ends in the arrangement direction of the heating elements. Therefore, the heat radiation characteristics are substantially the same at the center and both ends of the support substrate in the arrangement direction of the heat generating elements.

そのため、中央部に配置された発熱素子と、両端部に配置された発熱素子とで温度差が生じ、発熱素子の配列方向における印画濃度にムラが生じるという問題があった。   For this reason, there is a problem that a temperature difference occurs between the heating element arranged at the center and the heating elements arranged at both ends, and the print density in the arrangement direction of the heating elements becomes uneven.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、発熱素子の配列方向における印画濃度のムラを抑制することができる記録ヘッドおよびこれを備える記録装置を提供することを目的とする。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides a recording head that can suppress unevenness in print density in the arrangement direction of heating elements, and a recording apparatus including the recording head.

本発明の記録ヘッドは、放熱体と、該放熱体上に配置されており、複数の発熱素子が配列された発熱素子列を上面に有するヘッド基体と、該ヘッド基体の下面における前記発熱素子列の直下の第1領域と前記放熱体との間に介在し、前記発熱素子の配列方向に延びるとともに、前記第1領域と前記放熱体とを接合する第1接合層と、前記ヘッド基体の下面における前記第1領域以外の第2領域と前記放熱体との間に介在し、前記発熱素子の配列方向に延びるとともに、前記第2領域と前記放熱体とを接合する第2接合層とを備え、前記第1接合層および前記第2接合層のうちの少なくとも一方は、前記ヘッド基体の下面および前記放熱体の双方に接触している複数のスペーサ粒子を内部に含有する粒子含有層となっており、前記スペーサ粒子の熱伝導率は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部に配置されたスペーサ粒子よりも中央部に配置されたスペーサ粒子の方が高いことを特徴とする。   The recording head of the present invention has a heat radiator, a head base disposed on the heat sink and having a heat generating element array on which a plurality of heat generating elements are arranged on the upper surface, and the heat generating element array on the lower surface of the head base. A first bonding layer that is interposed between the first region directly below and the heat dissipating member, extends in the arrangement direction of the heat generating elements, and joins the first region and the heat dissipating member, and a lower surface of the head substrate. And a second bonding layer that is interposed between the second region other than the first region and the heat dissipating member, extends in the arrangement direction of the heat generating elements, and joins the second region and the heat dissipating member. At least one of the first bonding layer and the second bonding layer is a particle-containing layer that internally contains a plurality of spacer particles that are in contact with both the lower surface of the head substrate and the radiator. The spacer particles Thermal conductivity, characterized in that higher in the arranged spacer particles in the center portion than the spacer particles disposed at both ends of the particle-containing layer in the direction of arrangement of the heating elements.

本発明の上記記録ヘッドにおいて、前記スペーサ粒子は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の中央部に近く配置されたスペーサ粒子ほど、熱伝導率が高くなっていてもよい。   In the recording head of the present invention, the spacer particles may have higher thermal conductivity as the spacer particles are arranged closer to the center of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements.

また、前記ヘッド基体の下面の前記粒子含有層との接合領域における単位面積あたりの前記スペーサ粒子との接触面積が、前記発熱素子の配列方向の両端部よりも中央部で大きくなっていてもよい。   Further, the contact area with the spacer particles per unit area in the bonding region with the particle-containing layer on the lower surface of the head substrate may be larger in the center than at both ends in the arrangement direction of the heating elements. .

また、前記複数のスペーサ粒子は、同じ粒径を有する球形状であり、前記粒子含有層の中に配置された前記スペーサ粒子の密度が、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部よりも中央部で高くなっていてもよい。   Further, the plurality of spacer particles have a spherical shape having the same particle diameter, and the density of the spacer particles arranged in the particle-containing layer is equal to both end portions of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. It may be higher at the center.

また、前記スペーサ粒子の粒径は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の中央部に配置されたスペーサ粒子の方が、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部に配置されたスペーサ粒子よりも、小さくなっていてもよい。   The spacer particles may be arranged at both ends of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements, with the spacer particles arranged at the center of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. It may be smaller than the spacer particles formed.

本発明の上記記録ヘッドにおいて、前記放熱体の上面は、前記発熱素子の配列方向における両端部よりも中央部でヘッド基体側に突出していてもよい。   In the recording head of the present invention, the upper surface of the heat dissipating member may protrude toward the head substrate at the center portion from both end portions in the arrangement direction of the heat generating elements.

また、前記ヘッド基体の上面は、前記発熱素子の配列方向における両端部よりも中央部で突出していてもよい。   Further, the upper surface of the head substrate may protrude at the center portion from both end portions in the arrangement direction of the heat generating elements.

また、前記第1接合層は、接着剤で構成されていてもよい。また、前記第2接合層は、両面テープで構成されていてもよい。   The first bonding layer may be made of an adhesive. The second bonding layer may be composed of a double-sided tape.

また、本発明の記録装置は、上記のように構成された記録ヘッドと、前記ヘッド基体の前記発熱素子上に記録媒体を押圧するプラテンローラとを備え、前記プラテンローラは、前記発熱素子の配列方向における両端部が回転可能に支持されていることを特徴とする。   Further, the recording apparatus of the present invention includes the recording head configured as described above, and a platen roller that presses a recording medium onto the heating element of the head base, and the platen roller includes an array of the heating elements. Both ends in the direction are rotatably supported.

本発明によれば、発熱素子の配列方向における印画濃度のムラを抑制できる記録ヘッドおよびこれを備える記録装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the recording head which can suppress the nonuniformity of the printing density in the sequence direction of a heat generating element, and a recording apparatus provided with the same can be provided.

(a)は、本発明の記録ヘッドの一実施形態であるサーマルヘッドの概略構成を示す平面図である。(b)は、(a)に示すサーマルヘッドの側面図である。(A) is a top view which shows schematic structure of the thermal head which is one Embodiment of the recording head of this invention. (B) is a side view of the thermal head shown in (a). (a)は、図1に示すサーマルヘッドの要部を拡大した平面図である。(b)は、(a)に示すサーマルヘッドのIIb−IIb断面図である。(A) is the top view to which the principal part of the thermal head shown in FIG. 1 was expanded. (B) is IIb-IIb sectional drawing of the thermal head shown to (a). 図1に示す配線部材の概略構成を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows schematic structure of the wiring member shown in FIG. 図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態を示す概略構成図である。なお、(a)は、ヘッド基体の図示を省略した平面図である。(b)は、(a)のIVb−IVb断面図であり、(c)は、(a)のIVc−IVc断面図である。It is a schematic block diagram which shows the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. In addition, (a) is the top view which abbreviate | omitted illustration of the head base | substrate. (B) is IVb-IVb sectional drawing of (a), (c) is IVc-IVc sectional drawing of (a). 本発明の記録装置の一実施形態であるサーマルプリンタの概略構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a thermal printer that is an embodiment of a recording apparatus of the present invention. FIG. (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のVIb−VIb断面図であり、(c)は、(a)のVIc−VIc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is VIb-VIb sectional drawing of (a), (c) is VIc-VIc sectional drawing of (a). (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のVIIb−VIIb断面図であり、(c)は、(a)のVIIc−VIIc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is VIIb-VIIb sectional drawing of (a), (c) is VIIc-VIIc sectional drawing of (a). (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のVIIIb−VIIIb断面図であり、(c)は、(a)のVIIIc−VIIIc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is VIIIb-VIIIb sectional drawing of (a), (c) is VIIIc-VIIIc sectional drawing of (a). (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のIXb−IXb断面図であり、(c)は、(a)のIXc−IXc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is IXb-IXb sectional drawing of (a), (c) is IXc-IXc sectional drawing of (a). (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のXb−Xb断面図であり、(c)は、(a)のXc−Xc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is Xb-Xb sectional drawing of (a), (c) is Xc-Xc sectional drawing of (a). (a)は、図1に示すヘッド基体と放熱体との接合状態の変形例を概略構成で示す平面図である。(b)は、(a)のXIb−XIb断面図であり、(c)は、(a)のXIc−XIc断面図である。(A) is a top view which shows with a schematic structure the modification of the joining state of the head base | substrate and heat radiator shown in FIG. (B) is XIb-XIb sectional drawing of (a), (c) is XIc-XIc sectional drawing of (a).

以下、本発明の記録ヘッドの一実施形態であるサーマルヘッドについて、図面を参照しつつ説明する。   Hereinafter, a thermal head which is an embodiment of a recording head of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1および図2に示すように、本実施形態のサーマルヘッドXは、ヘッド基体10と、駆動IC20と、配線部材30と、放熱体40とを含んで構成されている。なお、説明の便宜上、図2(a)では、駆動IC20、配線部材30、放熱体40および後述する保護層15の図示を省略し、図2(b)では、放熱体40の図示を省略している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the thermal head X of the present embodiment includes a head substrate 10, a drive IC 20, a wiring member 30, and a radiator 40. For convenience of explanation, in FIG. 2A, illustration of the drive IC 20, the wiring member 30, the heat radiating body 40, and a protective layer 15 described later is omitted, and in FIG. 2B, illustration of the heat radiating body 40 is omitted. ing.

ヘッド基体10は、ヘッド基板11と、ヘッド基板11上に順に形成されたグレーズ層12、電気抵抗層13および電極配線14を備えている。また、グレーズ層12は、平坦状の基部12aと、この基部12aの上面から突出する突出部12bとを有している。グレーズ層12の突出部12bの頂部に位置する電気抵抗層13の領域は、その上面に電極配線14が形成されておらず、この領域が発熱素子13aを構成している。この発熱素子13aの上面および電極配線14の一部の上面には、保護層15が形成されている。   The head base 10 includes a head substrate 11, a glaze layer 12, an electric resistance layer 13, and an electrode wiring 14 formed in order on the head substrate 11. Further, the glaze layer 12 has a flat base portion 12a and a protruding portion 12b protruding from the upper surface of the base portion 12a. In the region of the electrical resistance layer 13 located on the top of the protruding portion 12b of the glaze layer 12, the electrode wiring 14 is not formed on the upper surface, and this region constitutes the heating element 13a. A protective layer 15 is formed on the upper surface of the heat generating element 13a and a part of the upper surface of the electrode wiring 14.

ヘッド基板11は、グレーズ層12と、電気抵抗層13と、電極配線14と、保護層15と、駆動IC20とを支持する機能を有するものである。このヘッド基板11は、平面視において矢印D1−D2方向に延びる矩形状に構成されており、主面が長方形状とされている。ヘッド基板11を形成する材料としては絶縁材料が挙げられ、例えばアルミナセラミックスなどのセラミックスやガラス材料等の無機材料が好適に用いられる。   The head substrate 11 has a function of supporting the glaze layer 12, the electrical resistance layer 13, the electrode wiring 14, the protective layer 15, and the drive IC 20. The head substrate 11 is configured in a rectangular shape extending in the direction of the arrow D1-D2 in plan view, and the main surface is rectangular. Examples of the material for forming the head substrate 11 include insulating materials. For example, ceramics such as alumina ceramics and inorganic materials such as glass materials are preferably used.

このヘッド基板11の上面には、フォトリソグラフィによる電気抵抗層13および電極配線14のパターニングが容易になるとともに、平滑性を高められるという理由および製造が容易であるという理由から、グレーズ層12が全体に亘って設けられている。   On the upper surface of the head substrate 11, the glaze layer 12 is entirely formed because the patterning of the electric resistance layer 13 and the electrode wiring 14 by photolithography becomes easy and the smoothness can be improved and the manufacture is easy. Are provided.

グレーズ層12は、電気抵抗層13の後述する発熱素子13aにおいて発生する熱の一部を一時的に蓄積する機能を有するものである。すなわち、グレーズ層12は、発熱素子13aの温度を上昇させるのに要する時間を短くして、サーマルヘッドXの熱応答特性を高める役割を担うものである。このグレーズ層12を形成する材料としては、例えばガラスが挙げられる。   The glaze layer 12 has a function of temporarily storing a part of heat generated in a heating element 13a described later of the electrical resistance layer 13. That is, the glaze layer 12 plays a role of improving the thermal response characteristics of the thermal head X by shortening the time required to raise the temperature of the heating element 13a. An example of a material for forming the glaze layer 12 is glass.

グレーズ層12の基部12aは、ヘッド基板11の上面全体に亘って略平坦状に設けられており、その厚みは、20〜250μmとされている。グレーズ層12の突出部12bは、記録媒体を発熱素子13a上に位置する保護層15に対して良好に押し当てるのに寄与する部位である。この突出部12bは、基部12aより上方(D5方向)に突出している。また、この突出部12bは、主走査方向(D1−D2方向)に延びる帯状に形成されている。この突出部12bは、主走査方向(D1−D2方向)に直交する副走査方向(D3−D4方向)における断面形状が略半楕円状となっている。本実施形態では、発熱素子13aの配列方向がサーマルヘッドXの主走査方向となる。なお、グレーズ層12は、少なくとも発熱素子13aとヘッド基板11との間にあればよく、ヘッド基板11の上面全体に形成しなくてもよい。   The base 12a of the glaze layer 12 is provided in a substantially flat shape over the entire upper surface of the head substrate 11, and the thickness thereof is 20 to 250 μm. The protruding part 12b of the glaze layer 12 is a part that contributes to pressing the recording medium against the protective layer 15 located on the heating element 13a. The protrusion 12b protrudes upward (D5 direction) from the base 12a. Further, the protruding portion 12b is formed in a strip shape extending in the main scanning direction (D1-D2 direction). The protrusion 12b has a substantially semi-elliptical cross-sectional shape in the sub-scanning direction (D3-D4 direction) orthogonal to the main scanning direction (D1-D2 direction). In the present embodiment, the arrangement direction of the heating elements 13a is the main scanning direction of the thermal head X. Note that the glaze layer 12 may be at least between the heat generating element 13a and the head substrate 11, and may not be formed on the entire top surface of the head substrate 11.

電気抵抗層13は、グレーズ層12上に形成されている。電気抵抗層13の厚みは、0.01〜0.5μmとされている。本実施形態では、電極配線14から電圧が印加される電気抵抗層13のうち電極配線14が形成されていない部位が発熱素子13aとして機能しており、発熱素子13aは、グレーズ層12の突出部12b上に形成されている。電気抵抗層13を形成する材料としては、例えばTaN系材料、TaSiO系材料、TaSiNO系材料、TiSiO系材料、TiSiCO系材料、またはNbSiO系材料が挙げられる。   The electrical resistance layer 13 is formed on the glaze layer 12. The electric resistance layer 13 has a thickness of 0.01 to 0.5 μm. In the present embodiment, a portion of the electrical resistance layer 13 to which a voltage is applied from the electrode wiring 14 where the electrode wiring 14 is not formed functions as the heating element 13 a, and the heating element 13 a is a protruding portion of the glaze layer 12. 12b is formed. Examples of the material for forming the electric resistance layer 13 include a TaN-based material, a TaSiO-based material, a TaSiNO-based material, a TiSiO-based material, a TiSiCO-based material, and an NbSiO-based material.

発熱素子13aは、電極配線14からの電圧印加により発熱するものである。この発熱素子13aは、電極配線14からの電圧印加による発熱温度が、例えば200〜550℃の範囲となるように構成されている。   The heat generating element 13 a generates heat when a voltage is applied from the electrode wiring 14. The heat generating element 13a is configured such that a heat generation temperature due to voltage application from the electrode wiring 14 is in a range of 200 to 550 ° C., for example.

また、発熱素子13aは、矢印D1−D2方向に所定間隔をおいて一列に形成されており、発熱素子列を形成している。なお、本発明では、発熱素子列は2列以上であってもよい。   Further, the heating elements 13a are formed in a line at predetermined intervals in the direction of the arrows D1-D2, forming a heating element array. In the present invention, the number of heating element rows may be two or more.

電極配線14は、第1電極配線141と、第2電極配線142と、第3電極配線143とを含んで構成されている。   The electrode wiring 14 includes a first electrode wiring 141, a second electrode wiring 142, and a third electrode wiring 143.

第1電極配線141は、その端部が複数の発熱素子13aの一端側、及び図示しない電源に対して接続されている。この第1電極配線141の一端部は、発熱素子13aの矢印D3方向側に位置している。   The end portion of the first electrode wiring 141 is connected to one end side of the plurality of heating elements 13a and a power source (not shown). One end of the first electrode wiring 141 is located on the arrow D3 direction side of the heating element 13a.

第2電極配線142は、各々の一端部が発熱素子13aの他端側に接続され、他端部が駆動IC20に接続されている。この第2電極配線142の一端部は、発熱素子13aの矢印D4方向側に位置している。   The second electrode wiring 142 has one end connected to the other end of the heat generating element 13 a and the other end connected to the drive IC 20. One end of the second electrode wiring 142 is located on the arrow D4 direction side of the heating element 13a.

第3電極配線143は、第2電極配線142と離間して形成されており、言い換えれば第3電極配線143は、第2電極配線142に近接して設けられている。この第3電極配線143は、複数の駆動IC20と配線部材30との間に設けられている。そして、この第3電極配線143は、一端部が駆動IC20に接続され、他端部が配線部材30に接続されており、駆動IC20と配線部材30とを電気的に接続する機能を有している。   The third electrode wiring 143 is formed away from the second electrode wiring 142, in other words, the third electrode wiring 143 is provided in the vicinity of the second electrode wiring 142. The third electrode wiring 143 is provided between the plurality of driving ICs 20 and the wiring member 30. The third electrode wiring 143 has one end connected to the driving IC 20 and the other end connected to the wiring member 30, and has a function of electrically connecting the driving IC 20 and the wiring member 30. Yes.

第1電極配線141、第2電極配線142、第3電極配線143を形成する材料としては、例えばアルミニウム、金、銀、銅のいずれか一種の金属、またはこれらの合金が挙げられる。その厚みは、0.7〜1.2μmとされている。   As a material for forming the first electrode wiring 141, the second electrode wiring 142, and the third electrode wiring 143, for example, any one metal of aluminum, gold, silver, copper, or an alloy thereof can be given. The thickness is set to 0.7 to 1.2 μm.

保護層15は、発熱素子13aと、電極配線14とを保護する機能を有するものである。この保護層15は、発熱素子13aと電極配線14の一部とを覆っている。保護層15を形成する材料としては、例えばダイヤモンドライクカーボン系材料、SiC系材料、SiN系材料、SiCN系材料、SiAlON系材料、SiO2系材料、またはTaO系材料が挙げられ、スパッタリング法等により形成される。ここで「ダイヤモンドライクカーボン系材料」とは、sp3混成軌道をとる炭素原子(C原子)の割合が1[原子%]以上100[原子%]未満の範囲であるものをいう。   The protective layer 15 has a function of protecting the heat generating element 13 a and the electrode wiring 14. The protective layer 15 covers the heat generating element 13a and a part of the electrode wiring 14. Examples of the material for forming the protective layer 15 include diamond-like carbon-based materials, SiC-based materials, SiN-based materials, SiCN-based materials, SiAlON-based materials, SiO2-based materials, and TaO-based materials. Is done. Here, the “diamond-like carbon-based material” refers to a material in which the proportion of carbon atoms (C atoms) taking sp3 hybrid orbits is in the range of 1 [atomic%] to less than 100 [atomic%].

駆動IC20は、複数の発熱素子13aへの電力供給を制御する機能を有するものである。この駆動IC20は、その接続端子がハンダからなる導電性接続部材49を介して、第2電極配線142上および第3電極配線143に接続されている。このような構成とすることにより、電極配線14を介して入力される電気信号に応じて発熱素子13aを選択的に発熱させることができる。   The drive IC 20 has a function of controlling power supply to the plurality of heating elements 13a. The drive IC 20 is connected to the second electrode wiring 142 and the third electrode wiring 143 through a conductive connection member 49 whose connection terminal is made of solder. With such a configuration, the heating element 13a can selectively generate heat in accordance with an electric signal input through the electrode wiring 14.

図3に示すように、配線部材30は、その接続端子が、ハンダからなる導電性接続部材49を介して、第1電極配線141、第3電極配線143に接続されている。この配線部材30は、外部から伝送される電気信号を駆動IC20および電極配線14に伝達する機能を有している。この電気信号としては、発熱素子13aおよび駆動IC20の供給電力と、発熱素子13aの電力供給状態を選択的に制御するための画像情報などが挙げられる。本実施形態の配線部材30は、配線体31と、外部接続端子32と、支持板33と、接着層34とを含んで構成されている。   As shown in FIG. 3, the connection terminal of the wiring member 30 is connected to the first electrode wiring 141 and the third electrode wiring 143 through a conductive connection member 49 made of solder. The wiring member 30 has a function of transmitting an electric signal transmitted from the outside to the driving IC 20 and the electrode wiring 14. Examples of the electrical signal include power supplied to the heating element 13a and the driving IC 20, and image information for selectively controlling the power supply state of the heating element 13a. The wiring member 30 of this embodiment includes a wiring body 31, an external connection terminal 32, a support plate 33, and an adhesive layer 34.

配線体31は、可撓性を有するものであり、第1配線体311と、第2配線体312と、配線部313とを備えている。第1配線体311と第2配線体312とは、複数の配線部313を支持し、その電気的絶縁性を確保する機能を有している。この第1配線体311と第2配線体312とは、配線部313を挟持している。この第1配線体311と第2配線体312とを形成する材料としては、例えばポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等の可撓性を有する樹脂材料が挙げられる。本実施形態において配線体31は、ポリイミド系樹脂により形成されており、その熱膨張係数は、約1.1×10−5−1である。本実施形態における第1配線体311および第2配線体312の厚みとしては、例えば0.5〜2.0mmの範囲が挙げられる。 The wiring body 31 has flexibility, and includes a first wiring body 311, a second wiring body 312, and a wiring portion 313. The first wiring body 311 and the second wiring body 312 have a function of supporting the plurality of wiring portions 313 and ensuring their electrical insulation. The first wiring body 311 and the second wiring body 312 sandwich the wiring portion 313. Examples of a material for forming the first wiring body 311 and the second wiring body 312 include flexible resin materials such as polyimide resin, epoxy resin, and acrylic resin. In the present embodiment, the wiring body 31 is made of a polyimide resin, and its thermal expansion coefficient is about 1.1 × 10 −5 K −1 . As thickness of the 1st wiring body 311 and the 2nd wiring body 312 in this embodiment, the range of 0.5-2.0 mm is mentioned, for example.

配線部313を形成する材料としては、金、銀、銅、アルミニウムのいずれか一種の金属またはその合金などが挙げられる。本実施形態において配線部313は、銅により形成されており、その熱膨張係数は、約1.7×10−5−1である。 Examples of the material for forming the wiring portion 313 include any one kind of metal such as gold, silver, copper, and aluminum, or an alloy thereof. In the present embodiment, the wiring part 313 is made of copper, and its thermal expansion coefficient is about 1.7 × 10 −5 K −1 .

外部接続端子32は、外部から電気信号が入力される部位である。この外部接続端子32は、駆動IC20および電極配線14に電気的に接続されている。なお、図3では、説明の便宜上、外部接続端子32の図示を省略している。   The external connection terminal 32 is a part to which an electric signal is input from the outside. The external connection terminal 32 is electrically connected to the drive IC 20 and the electrode wiring 14. In FIG. 3, the external connection terminals 32 are not shown for convenience of explanation.

支持板33は、配線体31を支持する機能を有するものである。この支持板33を形成する材料としては、例えばセラミックス、樹脂、セラミックスおよび樹脂の複合材が挙げられる。ここで、セラミックスとしては、例えばアルミナセラミックス、窒化アルミニウムセラミックス、炭化珪素セラミックス、窒化珪素セラミックス、ガラスセラミックス、ムライト質焼結体が挙げられ、樹脂としては、例えばエポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、およびポリエステル系樹脂などの熱硬化型、紫外線硬化型、または化学反応硬化型のものが挙げられる。本実施形態において支持板33は、ガラス繊維にエポキシ系樹脂を含有させたものにより形成されており、その熱膨張係数は、約1.7×10−5−1である。 The support plate 33 has a function of supporting the wiring body 31. Examples of a material for forming the support plate 33 include ceramics, resins, ceramics and resin composites. Examples of ceramics include alumina ceramics, aluminum nitride ceramics, silicon carbide ceramics, silicon nitride ceramics, glass ceramics, and mullite sintered bodies. Examples of resins include epoxy resins, polyimide resins, and acrylic resins. Examples thereof include thermosetting types such as resins, phenolic resins, and polyester resins, ultraviolet curable types, and chemical reaction curable types. In the present embodiment, the support plate 33 is made of glass fiber containing an epoxy resin, and has a thermal expansion coefficient of about 1.7 × 10 −5 K −1 .

接着層34は、配線体31と、支持板33とを接着する機能を有している。この接着層34の厚みとしては、例えば10〜35μmの範囲が挙げられる。   The adhesive layer 34 has a function of bonding the wiring body 31 and the support plate 33. Examples of the thickness of the adhesive layer 34 include a range of 10 to 35 μm.

図1に示すように、放熱体40は、発熱部13aを駆動することによって生じた熱を外部に伝達する機能を有するものである。また、本実施形態において放熱体40は、ヘッド基体10および配線部材30の支持母材として機能している。放熱体40を形成する材料としては、例えば銅またはアルミニウムを含む金属材料が挙げられる。ここで「熱伝導性の高い材料」とは、ヘッド基板11を構成する材料よりも高い熱伝導率を有するものを意味する。特に、熱伝導性の観点から、金属材料、特にアルミニウムからなる放熱体40が望ましい。   As shown in FIG. 1, the radiator 40 has a function of transmitting heat generated by driving the heat generating portion 13a to the outside. In the present embodiment, the radiator 40 functions as a support base material for the head base 10 and the wiring member 30. As a material for forming the radiator 40, for example, a metal material containing copper or aluminum can be used. Here, “a material having high thermal conductivity” means a material having higher thermal conductivity than the material constituting the head substrate 11. In particular, from the viewpoint of thermal conductivity, a radiator 40 made of a metal material, particularly aluminum, is desirable.

図4は、図1に示すヘッド基体10と放熱体40との接合状態を示す概略構成図である。図4に示すように、放熱体40上にはヘッド基体10が配置されており、ヘッド基体10と放熱体40との間には、接着剤層16および両面テープ17が介在している。より詳細には、接着剤層16は、ヘッド基体10(より詳細にはヘッド基板11)の下面における発熱素子列の直下の領域(以下、第1領域という)と放熱体40との間に介在し、発熱素子13aの配列方向に延びるとともに、この第1領域と放熱体40とを接着している。
両面テープ17は、ヘッド基体10の下面における第1領域以外の領域(以下、第2領域という)と放熱体40との間に介在し、発熱素子13aの配列方向に延びるとともに、この第2領域と放熱体40とを接着している。このように、ヘッド基体10を接着剤層16および両面テープ17によって放熱体40上に接着した理由は、ヘッド基板11と放熱体40との熱膨張率の差によってヘッド基体10を湾曲させるような力が作用したときに、両面テープ17の面内方向の柔軟性により、ヘッド基体10と放熱体40との熱膨張による延びの差を吸収し、ヘッド基体10の湾曲を抑制するためである。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a joined state of the head base 10 and the heat radiating body 40 shown in FIG. As shown in FIG. 4, the head substrate 10 is disposed on the radiator 40, and the adhesive layer 16 and the double-sided tape 17 are interposed between the head substrate 10 and the radiator 40. More specifically, the adhesive layer 16 is interposed between a region (hereinafter referred to as a first region) directly below the heat generating element array on the lower surface of the head base 10 (more specifically, the head substrate 11) and the radiator 40. In addition, the first region and the radiator 40 are bonded to each other while extending in the arrangement direction of the heating elements 13a.
The double-sided tape 17 is interposed between a region other than the first region (hereinafter referred to as a second region) on the lower surface of the head substrate 10 and the heat radiating body 40 and extends in the arrangement direction of the heating elements 13a. And the radiator 40 are bonded. As described above, the reason why the head base 10 is bonded onto the heat radiating body 40 by the adhesive layer 16 and the double-sided tape 17 is that the head base 10 is curved due to the difference in thermal expansion coefficient between the head substrate 11 and the heat radiating body 40. This is because, when a force is applied, the in-plane flexibility of the double-sided tape 17 absorbs the difference in extension between the head base 10 and the heat radiating body 40 due to thermal expansion, and suppresses the bending of the head base 10.

なお、図4(a)では、説明の便宜上、図4(b)および図4(c)で示すヘッド基体10の図示を省略し、図4(b)では、ヘッド基体10をヘッド基板11のみで示し、図4(c)では、ヘッド基体10をヘッド基板11およびグレーズ層12の突出部12bのみで示している。また、本実施形態では、接着剤層16および両面テープ17がそれぞれ、本発明における第1接合層および第2接合層に相当する。   In FIG. 4A, for convenience of explanation, illustration of the head base 10 shown in FIGS. 4B and 4C is omitted, and in FIG. In FIG. 4C, the head base 10 is shown only by the head substrate 11 and the protruding portion 12 b of the glaze layer 12. In the present embodiment, the adhesive layer 16 and the double-sided tape 17 correspond to the first bonding layer and the second bonding layer in the present invention, respectively.

また、図1(b)に示すように、支持板33と放熱体40との間にも、両面テープ17が介在しており、支持板33と放熱体40とが両面テープ17にて接着されている。   Further, as shown in FIG. 1B, the double-sided tape 17 is also interposed between the support plate 33 and the heat radiating body 40, and the support plate 33 and the heat radiating body 40 are bonded by the double-sided tape 17. ing.

接着剤層16は、放熱性樹脂からなる接着剤で形成されており、例えばフィラーを含有する、シリコーン樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、およびポリエステル系樹脂などの熱硬化型、常温硬化型、または化学反応硬化型のもので形成されている。   The adhesive layer 16 is formed of an adhesive made of a heat-dissipating resin, such as a silicone resin, an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a phenol resin, and a polyester resin containing a filler. It is formed of a thermosetting type, a room temperature curing type, or a chemical reaction curing type.

図4に示すように、接着剤層16の内部には、接着剤層16の厚さと略同じ大きさの粒径を有し、ヘッド基体10の下面および放熱体40の双方に接触している複数のスペーサ粒子19が含有されている。より詳細には、各スペーサ粒子19は、同じ粒径を有する球形状を成しており、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部(図4(a)および図4(b)では、左側および右側の端部)にそれぞれ4個ずつ配置されているとともに、中央部に4個配置されている。そして、各スペーサ粒子19の熱伝導率は、この接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも、中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が高くなっている。なお、図4(a)では、理解を容易にするため、スペーサ粒子19の外形を実線で示している。また、本実施形態では、接着剤層16が、本発明における粒子含有層となっている。   As shown in FIG. 4, the inside of the adhesive layer 16 has a particle size substantially the same as the thickness of the adhesive layer 16, and is in contact with both the lower surface of the head base 10 and the radiator 40. A plurality of spacer particles 19 are contained. More specifically, each spacer particle 19 has a spherical shape having the same particle diameter, and both end portions of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a (FIGS. 4A and 4B). Then, four pieces are arranged at each of the left and right end portions), and four pieces are arranged at the central portion. The thermal conductivity of each spacer particle 19 is higher in the spacer particles 19 disposed in the center than in the spacer particles 19 disposed at both ends of the adhesive layer 16. In FIG. 4A, the outer shape of the spacer particle 19 is indicated by a solid line for easy understanding. In the present embodiment, the adhesive layer 16 is a particle-containing layer in the present invention.

スペーサ粒子19は、例えば、セラミック粒子、ガラスセラミック粒子、ガラス粒子、プラスチック粒子、金属粒子等が用いられるが、ヘッド基体10の平坦度維持という観点からはセラミック粒子が望ましく、耐スクラッチ性という観点からは、プラスチック粒子が望ましい。また、スペーサ粒子19の粒径は、例えば、10〜150μmとする。セラミック粒子としては、例えば、アルミナ、ジルコニアで形成されたものが挙げられる。ガラスセラミック粒子としては、例えば、フィラーとしてアルミナを含有するガラスで形成されたものが挙げられる。ガラス粒子としては、例えば、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラスで形成されたものが挙げられる。プラスチック粒子としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ジビニルベンゼン重合体で形成されたものが挙げられる。金属粒子としては、例えば、金、銀、銅、アルミウム、ニッケルで形成されたものが挙げられる。なお、プラスチック粒子からなるスペーサ粒子19を用いる場合には、放熱性を向上すべく、表面を金属で被覆したプラスチック粒子をスペーサ粒子19として用いることが望ましい。   For example, ceramic particles, glass ceramic particles, glass particles, plastic particles, metal particles, and the like are used as the spacer particles 19. From the viewpoint of maintaining the flatness of the head substrate 10, ceramic particles are desirable, and from the viewpoint of scratch resistance. The plastic particles are desirable. The particle diameter of the spacer particles 19 is, for example, 10 to 150 μm. Examples of the ceramic particles include those formed of alumina and zirconia. Examples of the glass ceramic particles include those formed of glass containing alumina as a filler. Examples of the glass particles include those formed of soda glass and borosilicate glass. Examples of the plastic particles include those formed of polyethylene, polypropylene, and divinylbenzene polymer. Examples of the metal particles include those formed of gold, silver, copper, aluminum, and nickel. In addition, when using the spacer particle | grains 19 which consist of a plastic particle, it is desirable to use the plastic particle which coat | covered the surface with the metal as the spacer particle | grain 19 in order to improve heat dissipation.

また、上記のように、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率よりも、中央部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率が高くなるようにするためには、例えば、ポリプロピレンからなるスペーサ粒子19を接着剤層16の両端部に配置し、ソーダガラスからなるスペーサ粒子19を中央部に配置すればよい。或いは、例えば、両端部のスペーサ粒子19をアルミナで形成し、中央部のスペーサ粒子19をニッケルで形成してもよい。   In addition, as described above, the thermal conductivity of the spacer particles 19 disposed in the central portion is higher than the thermal conductivity of the spacer particles 19 disposed at both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a. In order to achieve this, for example, spacer particles 19 made of polypropylene may be arranged at both ends of the adhesive layer 16, and spacer particles 19 made of soda glass may be arranged at the center. Alternatively, for example, the spacer particles 19 at both ends may be formed of alumina, and the spacer particles 19 at the center may be formed of nickel.

本実施形態のサーマルヘッドXによれば、上記のように、スペーサ粒子19の熱伝導率が、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも、中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が高くなっている。そのため、ヘッド基体10は、蓄熱が大きくなる傾向がある発熱素子13aの配列方向における中央部において、ヘッド基体10からスペーサ粒子19へ熱が逃げ易くなり、このスペーサ粒子19に伝わった熱がさらに放熱体40へと逃げるため、両端部よりも中央部での放熱性が向上する。これにより、発熱素子13aの配列方向における各発熱素子13aの温度のばらつきが小さくなり、発熱素子13aの配列方向におけるサーマルヘッドXの印画濃度のムラを抑制することができる。   According to the thermal head X of the present embodiment, as described above, the thermal conductivity of the spacer particles 19 is more central than the spacer particles 19 disposed at both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a. The spacer particles 19 arranged in the part are higher. Therefore, in the head base 10, heat easily escapes from the head base 10 to the spacer particles 19 in the central portion in the arrangement direction of the heat generating elements 13 a that tend to increase heat storage, and the heat transmitted to the spacer particles 19 is further dissipated. Since it escapes to the body 40, the heat dissipation in a center part improves rather than both ends. Thereby, the variation in temperature of each heat generating element 13a in the arrangement direction of the heat generating elements 13a is reduced, and unevenness in the print density of the thermal head X in the arrangement direction of the heat generating elements 13a can be suppressed.

なお、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率と、中央部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率とは、発熱素子13aの配列方向の中央部と両端部の温度差により設定できる。例えば、この温度差が大きい場合には、接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19と中央部に配置されたスペーサ粒子19との熱伝導率の差が大きくなるように、中央部に熱伝導率がさらに高いスペーサ粒子19を配置したり、または両端部に熱伝導率がさらに小さいスペーサ粒子19を配置したりすることにより、発熱素子13aの配列方向の中央部と両端部の温度差を小さくすることができる。
<記録ヘッドの製造方法>
次に、本発明の記録ヘッドの製造方法について、上述のサーマルヘッドXを例に挙げて説明する。
Note that the thermal conductivity of the spacer particles 19 arranged at both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a and the thermal conductivity of the spacer particles 19 arranged in the central part are the arrangement of the heating elements 13a. It can be set by the temperature difference between the center and both ends of the direction. For example, when the temperature difference is large, the central portion is increased so that the difference in thermal conductivity between the spacer particles 19 disposed at both ends of the adhesive layer 16 and the spacer particles 19 disposed at the central portion is large. The spacer particles 19 having higher thermal conductivity are disposed on the spacers, or the spacer particles 19 having smaller thermal conductivity are disposed on both ends, whereby the temperature of the central portion and both ends of the heating element 13a in the arrangement direction is increased. The difference can be reduced.
<Method for manufacturing recording head>
Next, the recording head manufacturing method of the present invention will be described using the above-described thermal head X as an example.

まず、複数のヘッド基板領域を有する母基板を準備する。次に、母基板の上面全面にグレーズ層12を形成する。この形成方法としては、例えば印刷法および焼成法などの周知のものが挙げられる。   First, a mother substrate having a plurality of head substrate regions is prepared. Next, the glaze layer 12 is formed on the entire upper surface of the mother substrate. Examples of the forming method include known methods such as a printing method and a baking method.

次に、各ヘッド基板領域上に形成されたグレーズ層12の上面全面に抵抗体膜を成膜する。この成膜方法としては、例えばスパッタリング技術および蒸着技術を含む従来周知のものが挙げられる。次に、抵抗体膜の上面全面に導電膜を成膜する。この導電膜の成膜方法としては、例えばスパッタリング技術および蒸着技術を含む従来周知のものが挙げられる。   Next, a resistor film is formed on the entire upper surface of the glaze layer 12 formed on each head substrate region. Examples of the film forming method include conventionally known methods including sputtering technology and vapor deposition technology. Next, a conductive film is formed on the entire upper surface of the resistor film. Examples of the method for forming the conductive film include conventionally known methods including sputtering technology and vapor deposition technology.

次に、導電膜および抵抗体膜を所定パターンにエッチングし、電極配線14を形成した後、再度エッチングし、電極配線14を一部除去し、抵抗体膜の一部を露出させて発熱素子13aとして機能させる。このとき、複数の発熱素子13aからなる素子列を矢印方向D1−D2に沿って配列させる。このエッチング方法としては、例えばフォトレジスト技術およびウェットエッチング技術の組み合わせを含む従来周知のものが挙げられる。   Next, the conductive film and the resistor film are etched into a predetermined pattern to form the electrode wiring 14, and then etched again to remove a part of the electrode wiring 14 and expose a part of the resistor film, thereby heating element 13a. To function as. At this time, an element row composed of a plurality of heating elements 13a is arranged along the arrow direction D1-D2. As this etching method, for example, a conventionally known method including a combination of a photoresist technique and a wet etching technique can be cited.

次に、スパッタリング法により発熱素子13aと電極配線14の一部とを覆うように保護層15を形成する。   Next, the protective layer 15 is formed so as to cover the heat generating element 13a and a part of the electrode wiring 14 by a sputtering method.

次に、母基板をヘッド基板領域ごとに分割し、複数のヘッド基板11を得る。   Next, the mother substrate is divided into head substrate regions to obtain a plurality of head substrates 11.

次に、配線部材30を準備する。具体的には、まず、第1配線体311と、第2配線体312と、配線部313とを含んで構成される配線体31を準備する。次に、支持板33の上面に接着剤34を塗布し、配線体31を支持板33に接合する。   Next, the wiring member 30 is prepared. Specifically, first, a wiring body 31 including a first wiring body 311, a second wiring body 312, and a wiring portion 313 is prepared. Next, an adhesive 34 is applied to the upper surface of the support plate 33, and the wiring body 31 is joined to the support plate 33.

次に、ヘッド基体10の第1電極配線141上、第3電極配線143上に導電性接続部材49となるハンダペーストを塗布する。そして、第1電極配線141、第3電極配線143と配線部材30の接続端子とをハンダペーストを介して対向させ、加熱し、第1電極配線141、第3電極配線143と配線部材30の接続端子とを熱溶融したハンダにより固着する。   Next, a solder paste that becomes the conductive connection member 49 is applied on the first electrode wiring 141 and the third electrode wiring 143 of the head substrate 10. Then, the first electrode wiring 141, the third electrode wiring 143, and the connection terminal of the wiring member 30 are opposed to each other through a solder paste and heated to connect the first electrode wiring 141, the third electrode wiring 143 and the wiring member 30. The terminal is fixed with solder that has been melted by heat.

次に、第2電極配線142と第3電極配線143に導電性接続部材49となるハンダペーストを塗布し、第2電極配線142および第3電極配線143にハンダペーストを介して駆動IC20の接続端子を対向させる。そして、ハンダペーストを熱溶融させ、第2電極配線142および第3電極配線143と、駆動IC20の接続端子とを接続する。   Next, a solder paste that becomes the conductive connection member 49 is applied to the second electrode wiring 142 and the third electrode wiring 143, and the connection terminal of the driving IC 20 is connected to the second electrode wiring 142 and the third electrode wiring 143 via the solder paste. Face each other. Then, the solder paste is thermally melted, and the second electrode wiring 142 and the third electrode wiring 143 are connected to the connection terminal of the drive IC 20.

次に、放熱体40上にヘッド基体10および配線部材30を接合する。具体的に説明する。矢印D1−D2方向に凹溝18が形成された放熱体40の前記凹溝18間の突出面に、ディスペンサ等の塗布装置を用い放熱性の接着剤を塗布し、接着剤層16を形成する。   Next, the head base 10 and the wiring member 30 are joined on the heat radiating body 40. This will be specifically described. A heat-dissipating adhesive is applied to the projecting surface between the concave grooves 18 of the radiator 40 in which the concave grooves 18 are formed in the directions of the arrows D <b> 1-D <b> 2 using a coating device such as a dispenser to form the adhesive layer 16. .

一方、凹溝18間の突出面以外の放熱体40の上面には、両面テープ17を貼り付ける。この後、スペーサ粒子19を、ディスペンサ等により、接着剤層16の上面に配置する。このとき、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の上面の中央部には、両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも熱伝導率が高いスペーサ粒子19を配置する。なお、放熱性の接着剤を塗布する工程と、両面テープ17を貼り付ける工程は逆でもよい。   On the other hand, the double-sided tape 17 is affixed to the upper surface of the heat radiating body 40 other than the protruding surface between the concave grooves 18. Thereafter, the spacer particles 19 are disposed on the upper surface of the adhesive layer 16 by a dispenser or the like. At this time, spacer particles 19 having higher thermal conductivity than the spacer particles 19 arranged at both ends are arranged at the center of the upper surface of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a. Note that the step of applying the heat-dissipating adhesive and the step of applying the double-sided tape 17 may be reversed.

そして、接着剤層16が形成され、両面テープ17が貼り付けられた放熱体40の上面に、ヘッド基体10を配置し、ヘッド基体10を放熱体40側に押圧する。これにより、スペーサ粒子19を接着剤層16内に埋没させるとともに、接着剤層16および両面テープ17にヘッド基体10の下面を接着する。こうすることで、接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が、熱伝導率が高くなるとともに、スペーサ粒子19がヘッド基体10の下面および放熱体40の双方に当接した状態で接着剤層16の中に配置される。   Then, the head base 10 is disposed on the upper surface of the heat radiating body 40 on which the adhesive layer 16 is formed and the double-sided tape 17 is attached, and the head base 10 is pressed toward the heat radiating body 40. As a result, the spacer particles 19 are buried in the adhesive layer 16 and the lower surface of the head substrate 10 is bonded to the adhesive layer 16 and the double-sided tape 17. By doing so, the spacer particles 19 disposed at the center portion have higher thermal conductivity than the spacer particles 19 disposed at both ends of the adhesive layer 16, and the spacer particles 19 are disposed on the head substrate 10. The adhesive layer 16 is disposed in contact with both the lower surface and the radiator 40.

以上のようにして、本実施形態のサーマルヘッドXが形成される。
<記録装置>
次に、本発明の記録装置の一実施形態であるサーマルプリンタについて、図面を参照しつつ説明する。
As described above, the thermal head X of the present embodiment is formed.
<Recording device>
Next, a thermal printer which is an embodiment of the recording apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings.

図5に示すように、本実施形態のサーマルプリンタYは、上述のサーマルヘッドXと、搬送機構59と、制御機構69とを有している。   As shown in FIG. 5, the thermal printer Y of the present embodiment includes the above-described thermal head X, a transport mechanism 59, and a control mechanism 69.

搬送機構59は、記録媒体Pを矢印D3方向に搬送しつつ、該記録媒体PをサーマルヘッドXの発熱素子13aに接触させる機能を有するものである。この搬送機構59は、プラテンローラ61と、搬送ローラ62、63、64、65とを含んで構成されている。   The transport mechanism 59 has a function of bringing the recording medium P into contact with the heating element 13a of the thermal head X while transporting the recording medium P in the direction of the arrow D3. The transport mechanism 59 includes a platen roller 61 and transport rollers 62, 63, 64, and 65.

プラテンローラ61は、記録媒体Pを発熱素子13a側に押し付ける機能を有するものである。このプラテンローラ61は、発熱素子13a上に位置する保護層15に接触した状態で回転可能に両端部が支持されている。このプラテンローラ61は、円柱状の基体の外表面を弾性部材により被覆した構成を有している。この基体は、例えばステンレスなどの金属により形成されており、この弾性部材は、例えば厚みの寸法が3〜15mmの範囲のブタジエンゴムにより形成されている。   The platen roller 61 has a function of pressing the recording medium P toward the heating element 13a. The platen roller 61 is supported at both ends so as to be rotatable while in contact with the protective layer 15 located on the heating element 13a. The platen roller 61 has a configuration in which an outer surface of a columnar base is covered with an elastic member. This base is made of, for example, a metal such as stainless steel, and this elastic member is made of, for example, butadiene rubber having a thickness of 3 to 15 mm.

搬送ローラ62、63、64、65は、記録媒体Pを搬送する機能を有するものである。すなわち、搬送ローラ62、63、64、65は、サーマルヘッドXの発熱素子13aとプラテンローラ61との間に記録媒体Pを供給するとともに、サーマルヘッドXの発熱素子13aとプラテンローラ61との間から記録媒体Pを引き抜く役割を担うものである。これらの搬送ローラ62、63、64、65は、例えば金属製の円柱状部材により形成してもよいし、例えばプラテンローラ61と同様に円柱状の基体の外表面を弾性部材により被覆した構成であってもよい。   The transport rollers 62, 63, 64 and 65 have a function of transporting the recording medium P. That is, the transport rollers 62, 63, 64, 65 supply the recording medium P between the heating element 13 a of the thermal head X and the platen roller 61, and between the heating element 13 a of the thermal head X and the platen roller 61. It plays a role of pulling out the recording medium P from the recording medium. These transport rollers 62, 63, 64, 65 may be formed by, for example, a metal columnar member. For example, like the platen roller 61, the outer surface of the columnar substrate is covered with an elastic member. There may be.

制御機構69は、駆動IC20に画像情報を供給する機能を有するものである。つまり、制御機構69は、外部接続端子32を介して発熱部13aを選択的に駆動する画像情報を駆動IC20に供給する役割を担うものである。   The control mechanism 69 has a function of supplying image information to the drive IC 20. That is, the control mechanism 69 plays a role of supplying image information for selectively driving the heat generating portion 13 a to the drive IC 20 via the external connection terminal 32.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。   As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible unless it deviates from the meaning.

上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、スペーサ粒子19が、接着剤層16の一端部(図4では、左側の端部)および他端部(図4では、右側の端部)にそれぞれ4個ずつ配置されているとともに、中央部に4個配置されているが、両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が、熱伝導率が高くなっており、発熱素子13aの配列方向におけるヘッド基体10の下面の両端部よりも中央部での放熱性が高くなる限り、これに限定されるものではない。例えば、スペーサ粒子19が、接着剤層16の一端部、中央部および他端部にそれぞれ、1個ずつまたは任意の複数個ずつ配置されていてもよい。   In the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the spacer particles 19 are formed at one end (the left end in FIG. 4) and the other end (the right end in FIG. 4) of the adhesive layer 16. 4) are arranged at the center part, and four are arranged at the center part, but the spacer particles 19 arranged at the center part are more thermally conductive than the spacer particles 19 arranged at both end parts. However, the present invention is not limited to this as long as the heat dissipation performance at the central portion is higher than both end portions of the lower surface of the head substrate 10 in the arrangement direction of the heat generating elements 13a. For example, the spacer particles 19 may be arranged one by one or any plural number at one end, the center and the other end of the adhesive layer 16.

また、例えば、発熱素子13aの配列方向(D1−D2方向)における接着剤層16の中央部に近く配置されたスペーサ粒子19ほど、熱伝導率が高くなるように構成してもよい。この場合、例えば、図6に示すように、発熱素子13aの配列方向において接着剤層16を複数(図示例では、5つ)の領域Eに区分し、中央部に近い領域Eほど、熱伝導率が高い材料で形成されたスペーサ粒子19が配置されるように、スペーサ粒子19を散在させてもよい。このようにスペーサ粒子19が発熱素子13aの配列方向に散在していることで、発熱素子13aの配列方向におけるヘッド基体10の形状を安定させるという効果も得ることができる。   Further, for example, the spacer particles 19 arranged closer to the center portion of the adhesive layer 16 in the arrangement direction (D1-D2 direction) of the heating elements 13a may be configured to have higher thermal conductivity. In this case, for example, as shown in FIG. 6, the adhesive layer 16 is divided into a plurality of (in the illustrated example, five) regions E in the arrangement direction of the heat generating elements 13 a, and the region E closer to the center is more thermally conductive. The spacer particles 19 may be interspersed so that the spacer particles 19 formed of a material having a high rate are arranged. Thus, since the spacer particles 19 are scattered in the arrangement direction of the heat generating elements 13a, an effect of stabilizing the shape of the head base 10 in the arrangement direction of the heat generating elements 13a can be obtained.

また、接着剤層16の中のスペーサ粒子19の配置は、スペーサ粒子19の熱伝導率が、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも、中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が高くなっている限り、特に限定されるものではない。例えば、図6に示すように発熱素子13aの配列方向に沿って一列に配置してもよいし、または複数列で配置してもよい。また、図4および図6では、スペーサ粒子19が規則的に配置されているが、無秩序に配置されていてもよい。   The spacer particles 19 in the adhesive layer 16 are arranged such that the thermal conductivity of the spacer particles 19 is more central than the spacer particles 19 arranged at both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a. As long as the spacer particles 19 arranged in the portion are higher, there is no particular limitation. For example, as shown in FIG. 6, it may be arranged in a line along the arrangement direction of the heating elements 13a, or may be arranged in a plurality of lines. 4 and 6, the spacer particles 19 are regularly arranged, but may be arranged randomly.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部および中央部にそれぞれ配置されたスペーサ粒子19が同じ密度で配置されているが、例えば、図7に示すように、各スペーサ粒子19を同じ粒径を有する球形状で形成するとともに、接着剤層16の中に配置されたスペーサ粒子19の密度が、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部よりも中央部で高くなるように配置してもよい。これにより、ヘッド基体10の下面の接着剤層16との接合領域における単位面積あたりのスペーサ粒子19との接触面積が、発熱素子13aの配列方向の両端部よりも中央部で大きくなる。こうすることで、例えば、接着剤層16の中央部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率を高くすることによってもなお、ヘッド基体10の中央部での放熱量が足りない場合に、ヘッド基体10からスペーサ粒子19へ熱を逃がし易くし、中央部での放熱性を向上させることができる。   In the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the spacer particles 19 arranged at both ends and the center of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13a are arranged at the same density. For example, as shown in FIG. 7, each spacer particle 19 is formed in a spherical shape having the same particle diameter, and the density of the spacer particles 19 arranged in the adhesive layer 16 is such that the heating element 13a has a density. You may arrange | position so that it may become high in a center part rather than the both ends of the adhesive bond layer 16 in the sequence direction. Thereby, the contact area with the spacer particles 19 per unit area in the bonding region with the adhesive layer 16 on the lower surface of the head substrate 10 is larger at the center than at both ends in the arrangement direction of the heating elements 13a. In this way, for example, when the thermal conductivity of the spacer particles 19 disposed in the central portion of the adhesive layer 16 is increased, the heat dissipation at the central portion of the head base 10 is still insufficient. Heat can be easily released from the substrate 10 to the spacer particles 19 and heat dissipation at the center can be improved.

なお、ヘッド基体10の下面とスペーサ粒子19との接触面積の大きさは、例えば、本実施形態のサーマルヘッドXからヘッド基体10のみを取り外し、接着剤層16の上面から露出したスペーサ粒子19の表面の大きさを測定することで算出することができる。また、この接着剤層16から露出したスペーサ粒子19の表面の大きさは、例えば、スペーサ粒子19の露出面を含む接着剤層16の上面に対して、2値化による画像解析を行うことで測定することができる。また、本発明において、「同じ粒径」を有するスペーサ粒子とは、完全に同一の粒径を有するものだけではなく、実質的に同じ粒径を有するものを含んでおり、誤差範囲が±5%の粒径を有するものを含む。   The size of the contact area between the lower surface of the head substrate 10 and the spacer particles 19 is such that, for example, only the head substrate 10 is removed from the thermal head X of this embodiment, and the spacer particles 19 exposed from the upper surface of the adhesive layer 16 are removed. It can be calculated by measuring the size of the surface. In addition, the size of the surface of the spacer particle 19 exposed from the adhesive layer 16 can be determined by, for example, performing image analysis by binarization on the upper surface of the adhesive layer 16 including the exposed surface of the spacer particle 19. Can be measured. In the present invention, spacer particles having “the same particle size” include not only particles having the same particle size but also particles having substantially the same particle size, and an error range of ± 5. % Having a particle size of%.

また、図7では、接着剤層16の両端部および中央部のみにスペーサ粒子19が配置されているが、例えば、発熱素子13aの配列方向において、接着剤層16の両端部から中央部に近づくにつれてスペーサ粒子19の密度が次第に高くなるようにスペーサ粒子19を散在させ、ヘッド基体10の下面の中央部で、ヘッド基体10の下面の単位面積あたりのヘッド基体10とスペーサ粒子19との接触面積が最も大きくなるようにしてもよい。   In FIG. 7, the spacer particles 19 are disposed only at both ends and the center of the adhesive layer 16. For example, the spacer particles 19 approach the center from both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of the heating elements 13 a. As the density of the spacer particles 19 gradually increases, the spacer particles 19 are scattered so that the contact area between the head substrate 10 and the spacer particles 19 per unit area of the lower surface of the head substrate 10 is at the center of the lower surface of the head substrate 10. May be maximized.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、スペーサ粒子19が球形状を有しているが、これに限定されるものではなく、例えば、立方体、直方体、八面体等の多面体を成すスペーサ粒子を用いてもよい。或いは、球形状のスペーサ粒子と多面体を成すスペーサ粒子とを組み合わせて用いてもよい。スペーサ粒子19が多面体形状を有する場合は、多面体の一つの面をヘッド基体10の下面に密着させることで、ヘッド基体10の下面とスペーサ粒子19との接触面積を大きくすることができる。   In the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the spacer particles 19 have a spherical shape. However, the present invention is not limited to this, and examples thereof include a cube, a rectangular parallelepiped, and an octahedron. You may use the spacer particle | grains which comprise a polyhedron. Alternatively, spherical spacer particles and polyhedral spacer particles may be used in combination. When the spacer particles 19 have a polyhedral shape, the contact area between the lower surface of the head substrate 10 and the spacer particles 19 can be increased by bringing one surface of the polyhedron into close contact with the lower surface of the head substrate 10.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、接着剤層16の中にのみスペーサ粒子19を配置しているが、これに限定されるものではなく、接着剤層16および両面テープ17のうちの少なくとも一方の内部にスペーサ粒子19が含有されていればよい。例えば、図8に示すように、接着剤層16の中に加え、両面テープ17の中にもスペーサ粒子19を配置してもよい。この場合、接着剤層16および両面テープ17の双方が、本発明における粒子含有層となる。或いは、図示しないが、接着剤層16の中にはスペーサ粒子19を配置せず、両面テープ17の中のみにスペーサ粒子19を配置してもよい。この場合、両面テープ17のみが、本発明における粒子含有層となる。なお、両面テープ17に含有されたスペーサ粒子19とヘッド基体10の下面との接触面積の大きさは、例えば、上記と同様、ヘッド基体10を取り外し、両面テープ17の上面に対して画像解析を行うことによって測定することができる。   In the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the spacer particles 19 are disposed only in the adhesive layer 16, but the present invention is not limited to this, and the adhesive layer 16 and The spacer particles 19 may be contained in at least one of the double-sided tapes 17. For example, as shown in FIG. 8, spacer particles 19 may be arranged in the double-sided tape 17 in addition to the adhesive layer 16. In this case, both the adhesive layer 16 and the double-sided tape 17 serve as the particle-containing layer in the present invention. Alternatively, although not shown, the spacer particles 19 may not be disposed in the adhesive layer 16 but may be disposed only in the double-sided tape 17. In this case, only the double-sided tape 17 becomes the particle-containing layer in the present invention. The size of the contact area between the spacer particles 19 contained in the double-sided tape 17 and the lower surface of the head substrate 10 is, for example, the same as described above, with the head substrate 10 removed and image analysis performed on the upper surface of the double-sided tape 17. It can be measured by doing.

なお、両面テープ17内のスペーサ粒子19は、接着剤層16内のスペーサ粒子19と同様、例えば、両面テープ17の上面にスペーサ粒子19を配置し、このスペーサ粒子19をヘッド基体10の下面で押圧することにより、両面テープ17内に埋没させ、ヘッド基体10と放熱体40とに当接させることができる。したがって、両面テープ17は、厚み方向の中央部に不織布等の基材がないものを用いることが望ましい。例えば、アクリル系粘着剤を使用した基材がない両面テープを用いることができる。   The spacer particles 19 in the double-sided tape 17 are arranged, for example, on the upper surface of the double-sided tape 17 and the spacer particles 19 on the lower surface of the head substrate 10 in the same manner as the spacer particles 19 in the adhesive layer 16. By pressing, it can be buried in the double-sided tape 17 and brought into contact with the head base 10 and the heat radiating body 40. Therefore, it is desirable to use the double-sided tape 17 having no base material such as a non-woven fabric at the center in the thickness direction. For example, a double-sided tape without a base material using an acrylic adhesive can be used.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、各スペーサ粒子19の粒径が同じであるが、これに限定されるものではなく、各スペーサ粒子19の粒径を異ならせてもよい。例えば、図9に示すように、スペーサ粒子19の粒径は、発熱素子13aの配列方向(D1−D2方向)における接着剤層16の中央部に配置されたスペーサ粒子19の方が、発熱素子13aの配列方向における接着剤層16の両端部に配置されたスペーサ粒子19よりも、小さくなっていてもよい。例えば、中央部に配置されたスペーサ粒子19の粒径を、両端部に配置されたスペーサ粒子19の粒径の0.3〜0.9倍程度にすればよい。スペーサ粒子19は、ヘッド基体10の下面および放熱体40の上面の双方に当接するため、ヘッド基体10と放熱体40との間隔は、これらの間に位置するスペーサ粒子19の粒径と略同じ大きさとなる。したがって、ヘッド基体10と放熱体40との間隔は、発熱素子13aの配列方向における両端部よりも中央部で狭くなる。そのため、例えば、接着剤層16の中央部に配置されたスペーサ粒子19の熱伝導率を高くすることによってもなお、ヘッド基体10の中央部での放熱量が足りない場合に、ヘッド基体10からスペーサ粒子19へ熱を逃がし易くし、中央部での放熱性を向上させることができる。   Further, in the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the particle diameter of each spacer particle 19 is the same, but is not limited to this, and the particle diameter of each spacer particle 19 is varied. May be. For example, as shown in FIG. 9, the particle size of the spacer particles 19 is such that the spacer particles 19 arranged at the center of the adhesive layer 16 in the arrangement direction (D1-D2 direction) of the heating elements 13a are the heating elements. It may be smaller than the spacer particles 19 arranged at both ends of the adhesive layer 16 in the arrangement direction of 13a. For example, the particle diameter of the spacer particles 19 arranged at the center may be about 0.3 to 0.9 times the particle diameter of the spacer particles 19 arranged at both ends. Since the spacer particles 19 are in contact with both the lower surface of the head substrate 10 and the upper surface of the radiator 40, the distance between the head substrate 10 and the radiator 40 is substantially the same as the particle diameter of the spacer particles 19 positioned therebetween. It becomes size. Accordingly, the distance between the head base 10 and the heat radiating body 40 is narrower at the center than at both ends in the arrangement direction of the heating elements 13a. Therefore, for example, when the thermal conductivity of the spacer particles 19 disposed in the central portion of the adhesive layer 16 is increased, the heat dissipation amount in the central portion of the head base 10 is still insufficient. Heat can be easily released to the spacer particles 19, and heat dissipation at the center can be improved.

なお、スペーサ粒子19の粒径に多少のばらつきがあっても、柔らかいスペーサ粒子、例えばプラスチック粒子であれば変形したり、また、硬いスペーサ粒子、例えばセラミック粒子であれば少し変形したり、放熱体40の表面に食い込んだりすることにより、放熱体40とヘッド基体10とに当接させることができる。   Even if there is some variation in the particle size of the spacer particles 19, the spacer particles 19 may be deformed if they are soft spacer particles such as plastic particles, or may be slightly deformed if they are hard spacer particles such as ceramic particles. By biting into the surface of 40, the heat radiating body 40 and the head base 10 can be brought into contact with each other.

また、図9に示すサーマルヘッドXでは、図9(b)に示すように、放熱体40の平坦な上面に粒径の異なるスペーサ粒子19を配置することで、ヘッド基体10の上面が放熱体40側に凹となるように構成されているが、これに限定されるものではない。例えば、図10に示すように、放熱体40の上面を、発熱素子13aの配列方向(D1−D2方向)における両端部よりも中央部で、ヘッド基体10側に突出するように構成し、中央部に配置されたスペーサ粒子19の粒径を両端部に配置されたスペーサ粒子19の粒径よりも小さくすることによって、ヘッド基体10の上面を平坦にしてもよい。なお、ヘッド基体10のヘッド基板11は、厚みが一定とされている。このように構成することで、粒径が異なるスペーサ粒子19が埋設された接着剤層16を介して、放熱体40とヘッド基体10とを接合した場合に、ヘッド基体10の表面、すなわち、プラテンローラで押圧される複数の発熱素子13aの高さを、発熱素子13aの配列方向に沿って同一の高さとすることができる。   Further, in the thermal head X shown in FIG. 9, as shown in FIG. 9B, spacer particles 19 having different particle diameters are arranged on the flat upper surface of the radiator 40, so that the upper surface of the head substrate 10 becomes the radiator. Although it is configured to be concave on the 40 side, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 10, the upper surface of the heat radiating body 40 is configured to protrude toward the head substrate 10 at the center portion from both ends in the arrangement direction (D1-D2 direction) of the heat generating elements 13a. The upper surface of the head substrate 10 may be flattened by making the particle size of the spacer particles 19 arranged in the portion smaller than the particle size of the spacer particles 19 arranged at both ends. The head substrate 11 of the head base 10 has a constant thickness. With this configuration, when the radiator 40 and the head base 10 are bonded via the adhesive layer 16 in which the spacer particles 19 having different particle diameters are embedded, the surface of the head base 10, that is, the platen. The heights of the plurality of heat generating elements 13a pressed by the rollers can be the same along the arrangement direction of the heat generating elements 13a.

また、図11に示すように、放熱体40の上面を、発熱素子13aの配列方向(D1−D2方向)における両端部よりも中央部で、ヘッド基体10側に突出するように構成し、中央部に配置されたスペーサ粒子19と両端部に配置されたスペーサ粒子19とを同じ粒径にすることによって、ヘッド基体10の上面を、発熱素子13aの配列方向における両端部よりも中央部で突出させるようにしてもよい。なお、ヘッド基体10のヘッド基板11は厚みが一定とされている。このように構成することで、例えば、図11(b)に破線で示すように、発熱素子13aの配列方向における両端部が支持されているプラテンローラ61の中央部であっても、両端部と同様に記録媒体をヘッド基体10側に十分に押圧することができる。そのため、プラテンローラ61による記録媒体への押圧力をほぼ均一とすることができ、記録媒体への印画のかすれを抑制することができる。なお、図11(b)では、プラテンローラ61を模式的に記載しており、プラテンローラ61とヘッド基体10との間に搬送される記録媒体は図示を省略している。   Further, as shown in FIG. 11, the upper surface of the heat radiating body 40 is configured to protrude toward the head base 10 at the center portion from both ends in the arrangement direction (D1-D2 direction) of the heat generating elements 13a, By making the spacer particles 19 arranged in the part and the spacer particles 19 arranged in both ends have the same particle size, the upper surface of the head base 10 protrudes at the center part from both ends in the arrangement direction of the heating elements 13a. You may make it make it. The head substrate 11 of the head base 10 has a constant thickness. With this configuration, for example, as shown by a broken line in FIG. 11B, both ends of the platen roller 61 supported at both ends in the arrangement direction of the heating elements 13a Similarly, the recording medium can be sufficiently pressed toward the head substrate 10 side. Therefore, the pressing force applied to the recording medium by the platen roller 61 can be made substantially uniform, and blurring of the print on the recording medium can be suppressed. In FIG. 11B, the platen roller 61 is schematically shown, and the recording medium conveyed between the platen roller 61 and the head base 10 is not shown.

また、上記実施形態のサーマルヘッドXでは、図4に示すように、発熱素子13aの配列方向とは直交する方向(D3−D4方向)における接着剤層16の両側で、ヘッド基体10(より詳細にはヘッド基板11)が両面テープ17を介して放熱体40上に接合されているが、これに限定されるものではない。例えば、D3−D4方向における接着剤層16の片側で、ヘッド基体10が両面テープ17を介して放熱体40上に接合されていてもよい。   In the thermal head X of the above embodiment, as shown in FIG. 4, the head substrate 10 (more in detail) on both sides of the adhesive layer 16 in the direction (D3-D4 direction) orthogonal to the arrangement direction of the heating elements 13a. The head substrate 11) is bonded onto the heat radiating body 40 via the double-sided tape 17, but is not limited to this. For example, the head base 10 may be bonded to the heat radiator 40 via the double-sided tape 17 on one side of the adhesive layer 16 in the D3-D4 direction.

また、上記実施形態では、本発明における第1接合層が接着剤層16で構成され、本発明における第2接合層が両面テープ17で構成されているが、ヘッド基体10と放熱体40とを接合可能なものであれば、これに限定されるものではない。例えば、ヘッド基体10の下面における第1領域と放熱体40とを接合する第1接合層を両面テープで構成し、ヘッド基体10の下面における第2領域と放熱体40とを接合する第2接合層を接着剤層で構成してもよい。また、この第1接合層および第2接合層の双方を、接着剤層または両面テープで構成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the 1st joining layer in this invention is comprised by the adhesive bond layer 16, and the 2nd joining layer in this invention is comprised by the double-sided tape 17, the head base | substrate 10 and the heat radiator 40 are comprised. It is not limited to this as long as it can be joined. For example, the first bonding layer for bonding the first region on the lower surface of the head base 10 and the heat radiating body 40 is formed of a double-sided tape, and the second bonding for bonding the second region on the lower surface of the head base 10 and the heat radiating member 40 is performed. The layer may be composed of an adhesive layer. Moreover, you may comprise both this 1st joining layer and the 2nd joining layer with an adhesive bond layer or a double-sided tape.

X サーマルヘッド(記録ヘッド)
Y サーマルプリンタ(記録装置)
10 ヘッド基体
11 ヘッド基板
12 グレーズ層
13 電気抵抗層
13a 発熱素子
14 電極配線
141 第1電極配線
142 第2電極配線
143 第3電極配線
15 保護層
16 接着剤層
17 両面テープ
18 凹溝
19 スペーサ粒子
20 駆動IC
30 配線部材
40 放熱体
59 搬送機構
61 プラテンローラ
62、63、64、65 搬送ローラ
69 制御機構
P 記録媒体
X Thermal head (recording head)
Y Thermal printer (recording device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Head base | substrate 11 Head substrate 12 Glaze layer 13 Electrical resistance layer 13a Heating element 14 Electrode wiring 141 1st electrode wiring 142 2nd electrode wiring 143 3rd electrode wiring 15 Protective layer 16 Adhesive layer 17 Double-sided tape 18 Groove 19 Spacer particle 20 Drive IC
30 Wiring member 40 Heat radiating body 59 Conveying mechanism 61 Platen rollers 62, 63, 64, 65 Conveying roller 69 Control mechanism P Recording medium

Claims (10)

放熱体と、
該放熱体上に配置されており、複数の発熱素子が配列された発熱素子列を上面に有するヘッド基体と、
該ヘッド基体の下面における前記発熱素子列の直下の第1領域と前記放熱体との間に介在し、前記発熱素子の配列方向に延びるとともに、前記第1領域と前記放熱体とを接合する第1接合層と、
前記ヘッド基体の下面における前記第1領域以外の第2領域と前記放熱体との間に介在し、前記発熱素子の配列方向に延びるとともに、前記第2領域と前記放熱体とを接合する第2接合層と
を備え、
前記第1接合層および前記第2接合層のうちの少なくとも一方は、前記ヘッド基体の下面および前記放熱体の双方に接触している複数のスペーサ粒子を内部に含有する粒子含有層となっており、
前記スペーサ粒子の熱伝導率は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部に配置されたスペーサ粒子よりも中央部に配置されたスペーサ粒子の方が高いことを特徴とする記録ヘッド。
A radiator,
A head base that is disposed on the heat dissipating body and has a heat generating element array on which the plurality of heat generating elements are arranged;
A first region that is interposed between the first region immediately below the heating element array on the lower surface of the head base and the heat dissipating member, extends in the arrangement direction of the heat generating elements, and joins the first region and the heat dissipating member. One bonding layer;
A second region which is interposed between the second region other than the first region on the lower surface of the head base and the heat dissipating member, extends in the arrangement direction of the heat generating elements, and joins the second region and the heat dissipating member; A bonding layer,
At least one of the first bonding layer and the second bonding layer is a particle-containing layer that internally contains a plurality of spacer particles that are in contact with both the lower surface of the head substrate and the radiator. ,
The thermal conductivity of the spacer particles is higher in the spacer particles arranged in the central portion than in the spacer particles arranged at both ends of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. .
前記スペーサ粒子は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の中央部に近く配置されたスペーサ粒子ほど、熱伝導率が高くなっていることを特徴とする請求項1に記載の記録ヘッド。   2. The recording head according to claim 1, wherein the spacer particles have a higher thermal conductivity as the spacer particles are arranged closer to the center of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. 前記ヘッド基体の下面の前記粒子含有層との接合領域における単位面積あたりの前記スペーサ粒子との接触面積が、前記発熱素子の配列方向の両端部よりも中央部で大きくなっていることを特徴とする請求項1または2に記載の記録ヘッド。   The contact area with the spacer particles per unit area in the bonding region with the particle-containing layer on the lower surface of the head substrate is larger at the center than at both ends in the arrangement direction of the heating elements. The recording head according to claim 1 or 2. 前記複数のスペーサ粒子は、同じ粒径を有する球形状であり、
前記粒子含有層の中に配置された前記スペーサ粒子の密度が、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部よりも中央部で高くなっていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の記録ヘッド。
The plurality of spacer particles are spherical with the same particle size,
The density of the spacer particles arranged in the particle-containing layer is higher at the center than at both ends of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. Any one of the recording heads.
前記スペーサ粒子の粒径は、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の中央部に配置されたスペーサ粒子の方が、前記発熱素子の配列方向における前記粒子含有層の両端部に配置されたスペーサ粒子よりも、小さいことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の記録ヘッド。   As for the particle size of the spacer particles, the spacer particles arranged at the center of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements are arranged at both ends of the particle-containing layer in the arrangement direction of the heating elements. The recording head according to claim 1, wherein the recording head is smaller than the spacer particles. 前記放熱体の上面は、前記発熱素子の配列方向における両端部よりも中央部でヘッド基体側に突出していることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の記録ヘッド。   6. The recording head according to claim 1, wherein the upper surface of the heat dissipating member protrudes toward the head substrate at a central portion with respect to both end portions in the arrangement direction of the heat generating elements. 前記ヘッド基体の上面は、前記発熱素子の配列方向における両端部よりも中央部で突出していることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の記録ヘッド。   The recording head according to claim 1, wherein an upper surface of the head base protrudes at a center portion from both end portions in the arrangement direction of the heat generating elements. 前記第1接合層は、接着剤からなることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の記録ヘッド。   The recording head according to claim 1, wherein the first bonding layer is made of an adhesive. 前記第2接合層は、両面テープからなることを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の記録ヘッド。   The recording head according to claim 1, wherein the second bonding layer is made of a double-sided tape. 請求項1から9のいずれかに記載の記録ヘッドと、前記ヘッド基体の前記発熱素子上に記録媒体を押圧するプラテンローラとを備え、
前記プラテンローラは、前記発熱素子の配列方向における両端部が回転可能に支持されていることを特徴とする記録装置。
A recording head according to any one of claims 1 to 9, and a platen roller that presses a recording medium onto the heating element of the head substrate,
The recording apparatus, wherein the platen roller is rotatably supported at both ends in the arrangement direction of the heating elements.
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