JP5441358B2 - 研磨液及び研磨方法 - Google Patents
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Landscapes
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
ここで、従来のトランジスタでは、ポリシリコンにB等の不純物を注入した変性ポリシリコンを主としたゲートを作製していたが、45nm世代以降のトランジスタでは、スタンバイ時の消費電力低減と高電流駆動能力とを両立するため、高誘電率ゲート絶縁膜(High-k膜)と従来のポリシリコンに代わってメタルゲート電極との適用が検討されている。これらを適用した技術としていくつかの手法が提案されている。例えば、ダミーゲート絶縁膜及びダミーゲート電極を形成し、多結晶シリコン膜に自己整合的に不純物を注入してソース・ドレイン拡散層を形成し、ダミーゲート絶縁膜およびダミーゲート電極を除去した後、高誘電率ゲート絶縁膜及びメタルゲート電極を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3参照。)。
<1> 半導体集積回路を作製する際の平坦化工程において、ポリシリコン又は変性ポリシリコンを含む第1層と、窒化ケイ素を含む第2層と、を少なくとも有して構成される被研磨体の化学的機械的研磨に用いられ、下記(1)、(2)及び(3)で示される各成分を含有し、pHが1.5〜7.0であり、且つ、前記第1層に対して前記第2層を選択的に研磨しうることを特徴とする研磨液。
(1)コロイダルシリカ粒子
(2)有機酸
(3)ノニオン性界面活性剤及びノニオン性の親水性樹脂から選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤
pは5以上の整数を表す。
qは5以上の整数を表す。
<11> pHが3.5〜7.0であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか1項に記載の研磨液。
<12> pHが5.0〜7.0であることを特徴とする<1>〜<10>のいずれか1項に記載の研磨液。
<10> 前記ノニオン性添加剤の濃度が、研磨液の全質量に対し0.001質量%〜1質量%であることを特徴とする<1>〜<9>のいずれか1項に記載の研磨液。
本発明の研磨液は、半導体集積回路を作製する際の平坦化工程において、ポリシリコン又は変性ポリシリコンを含む第1層と、窒化ケイ素を含む第2層と、を少なくとも有して構成される被研磨体の化学的機械的研磨に用いられ、下記(1)、(2)及び(3)で示される各成分を含有し、pHが1.5〜7.0であり、且つ、前記第1層に対して前記第2層を選択的に研磨しうることを特徴とする研磨液。
(1)コロイダルシリカ粒子
(2)有機酸
(3)ノニオン性界面活性剤及びノニオン性の親水性樹脂から選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤
本発明の研磨液は、砥粒の少なくとも一部として、コロイダルシリカ粒子を含有する。コロイダルシリカ粒子としては、粒子内部にアルカリ金属などの不純物を含有しない、アルコキシシランの加水分解により得たコロイダルシリカ粒子であることが好ましい。一方、ケイ酸アルカリ水溶液からアルカリを除去する方法で製造したコロイダルシリカ粒子も用いることができるものの、この場合、粒子の内部に残留するアルカリ金属が徐々に溶出し、研磨性能に影響を及ぼす懸念がある。このような観点からは、アルコキシシランの加水分解により得られたものが原料としてはより好ましい。
また、コロイダルシリカ粒子の平均二次粒子径は、10nm〜300nmの範囲であることが好ましく、より好ましくは20nm〜200nmの範囲であり、更に好ましくは20nm〜150nmの範囲である。
本発明におけるコロイダルシリカ粒子としては、平均一次粒径が5nm〜100nmの範囲であり、且つ平均二次粒径が10nm〜300nmの範囲であるものが特に好ましい形態である。
コロイダルシリカ粒子の粒径が、上記の範囲を満たすことにより、研磨傷の発生を効果的に抑制できる。
ここで、本発明におけるコロイダルシリカ粒子の平均一次粒子径とは、体積基準での粒度累積曲線を求め、この曲線の累積度数が50%のポイントでの粒子径を意味するものである。
なお、このコロイダルシリカ粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡(透過型)等で測定できる。
また、コロイダルシリカ粒子の一部が会合して形成される二次粒子の平均粒径(平均二次粒子径)は動的光散乱法から得られた粒度分布において求められる平均粒子径を表す。例えば、粒度分布を求める測定装置しては堀場製作所製LB−500等が用いられる。
本発明の研磨液は少なくとも1種の有機酸を含有する。ここでいう有機酸は、金属の酸化剤ではなく、酸化の促進、pH調整、緩衝剤としての作用を有する。有機酸としては、水溶性のものが望ましく、例えば、水溶性の有機酸又はアミノ酸が挙げられる。該有機酸又はアミノ酸の例としては、例えば、以下の群から選ばれたものがより適している。
本発明の研磨液は、ノニオン性界面活性剤及びノニオン性の親水性樹脂から選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤を含有する。
aは1〜10の整数を表す。
R4で表されるアルケニレン基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基、デセニレン基、ドデセニレン基、又はイコセニレン基等が挙げられる。
R3で表されるアルキニレン基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、ヘキシニレン基、ヘプチニレン基、オクチニレン基、デシニレン基、ドデシニレン基、イコシニレン基等が挙げられる。
R4で表されるシクロアルキレン基としては、炭素数5〜8のものが好ましく、具体的には、例えば、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、又はシクロオクチレン基等が挙げられる。
R4で表されるアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、又はナフチレン基等が挙げられる。
R5、R6、又はR7で表されるアルケニル基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エテニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基、デセニレン基、ドデセニレン基、又はイコセニレン基、等が挙げられる。
R5、R6、又はR7で表されるアルキニル基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、デシニル基、ドデシニル基、イコシニル基等が挙げられ、中でも、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキシル、イコシル基等が挙げられる。
R5、R6、又はR7で表されるシクロアルキル基としては、炭素数5〜8のものが好ましく、具体的には、例えば、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、又はシクロオクチレン基等が挙げられる。
R5、R6、又はR7で表されるアリール基としては、具体的には、例えば、フェニル基、又はナフチル基等が挙げられる。
R5、R6、又はR7で表されるアラルキル基としては、炭素数8〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、ベンジル基等が挙げられる
R9で表されるアルキニレン基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、ヘキシニレン基、ヘプチニレン基、オクチニレン基、デシニレン基、ドデシニレン基、イコシニレン基等が挙げられる。
R9で表されるシクロアルキレン基としては、炭素数5〜8のものが好ましく、具体的には、例えば、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等が挙げられる。
R9で表されるアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、又はナフチレン基等が挙げられる。
R9が、上述した各基を2以上組み合わせてなる基である場合、そのような基として具体的には、それらの基の例として上述した各基を組み合わせてなる基が挙げられる。
R10で表されるアルキニレン基としては、炭素数2〜20のものが好ましく、具体的には、例えば、エチニレン基、プロピニレン基、ブチニレン基、ペンチニレン基、ヘキシニレン基、ヘプチニレン基、オクチニレン基、デシニレン基、ドデシニレン基、ヘキシニレン基、イコシニレン基等が挙げられ、中でも、オクチレン基、デシレン基、ドデシレン基、ヘキシレン、イコシニレン基等が挙げられ、中でも、オクチニレン基、デシニレン基、ドデシニレン基、ヘキシニレン基、イコシニレン基が好ましい。
R10で表されるシクロアルキレン基としては、炭素数5〜8のものが好ましく、具体的には、例えば、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等が挙げられ、中でも、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基が好ましい。
R10で表されるアリーレン基としては、具体的には、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、等が挙げられる。
R10が、上述した各基を2以上組み合わせてなる基である場合、そのような基として具体的には、それらの基の例として上述した各基を組み合わせてなる基が挙げられる。
(pH調整剤)
本発明の研磨液は、pH1.5〜7.0であることを要し、pH1.5〜5.0の範囲であることが好ましい。本発明の研磨液は、pHがこの範囲において優れた効果を発揮する。
研磨液のpHを上記範囲に調整するためには、アルカリ/酸又は緩衝剤が用いられる。
アルカリ/酸又は緩衝剤としては、アンモニア、水酸化アンモニウム及びテトラメチルアンモニウムハイドロキサイドなどの有機水酸化アンモニウム、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミンなどのようなアルカノールアミン類などの非金属アルカリ剤、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、硝酸、硫酸、りん酸などの無機酸、炭酸ナトリウムなどの炭酸塩、リン酸三ナトリウムなどのリン酸塩、ホウ酸塩、四ホウ酸塩、ヒドロキシ安息香酸塩等を好ましく挙げることができる。特に好ましいアルカリ剤として水酸化アンモニウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム及びテトラメチルアンモニウムハイドロキサイドである。
本発明の研磨液は、被研磨表面に吸着して皮膜を形成し、金属表面の腐食を制御する腐食抑制剤を含有する。本発明における腐食抑制剤としては、分子内に3以上の窒素原子を有し、且つ、縮環構造を有する複素芳香環化合物を含有することが好ましい。ここで、「3以上の窒素原子」は、縮環を構成する原子であることが好ましく、このような複素芳香環化合物としては、ベンゾトリアゾール、及び該ベンゾトリアゾールに種々の置換基が導入されてなる誘導体であることが好ましい。
本発明の研磨液は、混入する多価金属イオンなどの悪影響を低減させるために、必要に応じてキレート剤(すなわち硬水軟化剤)を含有することが好ましい。
キレート剤としては、カルシウムやマグネシウムの沈澱防止剤である汎用の硬水軟化剤やその類縁化合物であり、例えば、ニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸、N,N,N−アミノトリメチレンホスホン酸、エチレンジアミン−N,N,N’,N’−テトラメチレンスルホン酸、トランスシクロヘキサンジアミン四酢酸、1,2−ジアミノプロパン四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンオルトヒドロキシフェニル酢酸、エチレンジアミンジ琥珀酸(SS体)、N−(2−カルボキシラートエチル)−L−アスパラギン酸、β−アラニンジ酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、N,N’−ビス(2−ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン−N,N’−ジ酢酸、1,2−ジヒドロキシベンゼン−4,6−ジスルホン酸等が挙げられる。
キレート剤の添加量は混入する多価金属イオンなどの金属イオンを封鎖するのに充分な量であれば良く、例えば、研磨に使用する際の研磨液の1L中、0.0003mol〜0.07molになるように添加する。
本発明の研磨液が適用される研磨対象は、ポリシリコン又は変性ポリシリコンを含む第1層と、窒化ケイ素を含む第2層と、を少なくとも有して構成される被研磨体である。より詳細には、電極材料としてポリシリコン又は変性ポリシリコンを適用し、CMPにより、半導体集積回路におけるゲート電極の形成を実施する際に好適に用いられるものである。
なお、本発明における「変性ポリシリコン」は、ポリシリコンにBやP等の不純物元素をドーブしたシリコンを包含するものである。
ゲート電極形成用のCMPでは、この第2層表面から研磨を開始し、第2層の研磨が進行し、第1層表面が露出したとき、研磨速度が急速に低下して第2層の研磨が終了したことが検知され、ゲート電極に用いられるポリシリコン又は変性ポリシリコン表の過研磨が抑制される。
その後、電極として機能するポリシリコン又は変性ポリシリコンとその周辺部の必要な酸化ケイ素層以外の箇所をエッチングにより除去することでゲート電極が形成される。
本発明の研磨方法は、既述した本発明の研磨液を用いるものであり、研磨定盤上の研磨パッドに供給し、該研磨定盤を回転させることで、該研磨パッドを被研磨体の被研磨面と接触させつつ相対運動させて研磨することを特徴とする。
研磨終了後の被研磨体は、流水中でよく洗浄された後、スピンドライヤ等を用いて被研磨体上に付着した水滴を払い落としてから乾燥させる。
このように、濃縮液を水溶液で希釈して使用する場合には、溶解しにくい成分を水溶液の形で後から配合することができることから、より濃縮した濃縮液を調製することができる。
また、溶解度の低い添加剤を2つの構成成分(A)と(B)に分け、例えば、添加剤、及び界面活性剤を構成成分(A)とし、有機酸、添加剤、界面活性剤、及び水を構成成分(B)とし、それらを使用する際に水又は水溶液を加え、構成成分(A)及び構成成分(B)を希釈して使用する。
その他の混合方法は、上記したように直接に3つの配管をそれぞれ研磨パッドに導き、研磨パッドと被研磨面の相対運動により混合する方法や、1つの容器に3つの構成成分を混合して、そこから研磨パッドに希釈された研磨液を供給する方法がある。
本発明において、本発明においては、研磨液の成分を二分割以上に分割して、被研磨面に供給する方法を適用する場合、その供給量は、各配管からの供給量の合計を表すものである。
本発明の研磨方法に適用しうる研磨用の研磨パッドは、無発泡構造パッドでも発泡構造パッドでもよい。前者はプラスチック板のように硬質の合成樹脂バルク材をパッドに用いるものである。また、後者は更に独立発泡体(乾式発泡系)、連続発泡体(湿式発泡系)、2層複合体(積層系)の3つがあり、特には2層複合体(積層系)が好ましい。発泡は、均一でも不均一でもよい。
更に、一般的に研磨に用いる砥粒(例えば、セリア、シリカ、アルミナ、樹脂など)を含有したものでもよい。また、それぞれに硬さは軟質のものと硬質のものがあり、どちらでもよく、積層系ではそれぞれの層に異なる硬さのものを用いることが好ましい。材質としては、不織布、人工皮革、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート等が好ましい。また、被研磨面と接触する面には、格子溝/穴/同心溝/らせん状溝などの加工を施してもよい。
本発明における研磨液でCMPを行なう対象の被研磨体としてのウエハは、径が200mm以上であることが好ましく、特には300mm以上が好ましい。300mm以上である時に顕著に本発明の効果を発揮する。
本発明の研磨液を用いて研磨を実施できる装置は、特に限定されないが、MA−300D(ムサシノ電子(株))、Mirra Mesa CMP、Reflexion CMP(アプライドマテリアルズ)、FREX200、FREX300 (荏原製作所)、NPS3301、NPS2301(ニコン)、A−FP−310A、A−FP−210A(東京精密)、2300 TERES(ラムリサーチ)、Momentum(Speedfam IPEC)などを挙げることができる。
<研磨液の調製>
下記に示す組成及びpHを有する各研磨液(実施例1−1〜1−4の研磨液、及び比較例1−1〜1−2の研磨液)を調製した。
−研磨液組成−
・コロイダルシリカ粒子:A1 200g/L
・有機酸:クエン酸 0.5g/L
・非イオン界面活性剤:D9 0.05g/L
純水を加えて全量 1,000mL
pH(アンモニア水と硝酸で調整) 表2に示すpH
各研磨液を用いてCMPを行い、ポリシリコン層(p−Si層)の研磨における研磨速度のpH依存性について研磨評価を行った。評価方法は以下の通りである。
−研磨装置−
研磨装置としてムサシノ電子社製装置「MA-300D」を使用し、下記の条件で、スラリーを供給しながら、研磨対象物として下記に示すウエハを研磨した。
テ−ブル回転数: 112rpm
ヘッド回転数: 113rpm
研磨圧力: 18.4kPa
研磨パッド:ロデール・ニッタ株式会社製 IC1400 XY−K−Pad
研磨液供給速度: 50ml/min
研磨対象物としては、Si基板上にポリシリコン層を成膜した8インチウエハを、6cm×6cmにカットしたカットウエハを使用した。
研磨速度は、ポリシリコン層(p−Si層)について、研磨前後の層厚(nm)を測定し、下記式により算出した。
研磨速度(nm/分)=(研磨前の層厚−研磨後の層厚)/研磨時間
なお、層厚は、非接触式膜厚測定器FE-33(大塚電子製)により測定した。
得られた結果を表2に示す。なお、実施例1−1〜1−4及び比較例1−1〜1−4の各研磨液を用いて、CMPを実施した際における研磨速度(nm/mim)のpH依存性を示すグラフを図1に示した。
<研磨液の調製>
下記に示す組成及びpHを有する研磨液(実施例2−1の研磨液)を調製した。
−研磨液組成−
・コロイダルシリカ粒子:A1 200g/L
・有機酸:クエン酸 0.5g/L
・ノニオン性添加剤:D1 0.10g/L
純水を加えて全量 1.000mL
pH(アンモニア水と硝酸で調整) 2.0
実施例2の研磨液を用いて研磨評価を行った。
<評価方法>
−研磨装置−
研磨装置としてムサシノ電子社製装置「MA-300D」を使用し、下記の条件で、スラリーを供給しながら、研磨対象として下記に示すウエハを研磨した。
テ−ブル回転数: 112rpm
ヘッド回転数: 113rpm
研磨圧力: 18.4kPa
研磨パッド:ロデール・ニッタ株式会社製 IC1400 XY−K−Pad
研磨液供給速度: 50ml/min
研磨対象物としては、Si基板上に、ポリシリコン層(p−Si層)、酸化シリコン層(SiO2層)、窒化シリコン層(Si3N4層)それぞれを成膜した8インチウエハを、6cm×6cmにカットしたカットウエハを使用した。
研磨速度は、ポリシリコン層(p−Si層)、酸化シリコン層(SiO2層)、及び窒化シリコン層(Si3N4層)の各々について、研磨前後の層厚(nm)を測定し、下記式により算出した。なお、層厚は、非接触式膜厚測定器FE-33(大塚電子製)により測定した。
研磨速度(nm/分)=(研磨前の層厚−研磨後の層厚)/研磨時間
また、RR(other)/RR(p−Si)で表される研磨速度比について、p−Si層とSiO2層、p−Si層とSi3N4層について算出した。
得られた結果を表3に示す。
実施例2−1の研磨液の調製において、コロイダルシリカ粒子(研磨粒子)、ノニオン性添加剤、及び有機酸を下記表3に示す成分に変更し、pHを表3に示すように変更した以外は、実施例2−1と同様にして、実施例2−1〜2−19及び比較例2−1〜2−4の各研磨液を調製した。
実施例2−1〜2−19及び比較例2−1〜2−4の各研磨液について、実施例2−1と同様にして、研磨速度及び研磨速度比を評価し、その評価結果を表3に示した。
なお、砥粒として用いたコロイダルシリカ粒子A1〜A5は、前記表1に示した通りである。
Claims (13)
- 半導体集積回路を作製する際の平坦化工程において、ポリシリコン又は変性ポリシリコンを含む第1層と、窒化ケイ素を含む第2層と、を少なくとも有して構成される被研磨体の化学的機械的研磨に用いられ、下記(1)、(2)及び(3)で示される各成分を含有し、pHが1.5〜7.0であり、且つ、前記第1層に対して前記第2層を選択的に研磨しうることを特徴とする研磨液。
(1)コロイダルシリカ粒子
(2)有機酸
(3)ノニオン性界面活性剤及びノニオン性の親水性樹脂から選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤 - 前記第1層の研磨速度をRR(p−Si)とし、前記第2層の研磨速度をRR(other)とした場合に、RR(other)/RR(p−Si)で表される研磨速度比が1.5〜200の範囲で前記被研磨体を研磨しうることを特徴とする請求項1に記載の研磨液。
- 前記コロイダルシリカの濃度が、研磨液の全質量に対して0.1質量%〜10質量%であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の研磨液。
- 前記コロイダルシリカが、平均一次粒径が5nm〜100nmであり、且つ平均二次粒径が10nm〜300nmの範囲であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の研磨液。
- 前記有機酸が、その分子構造中に少なくとも1つのカルボキシル基を含む有機酸であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の研磨液。
- 前記有機酸が、下記一般式(I)で表される化合物であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の研磨液。
[一般式(I)中、Rは、炭素数1〜20のアルキレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基を2以上組み合わせてなる基を表す。これらの基は更にその他の官能基によって置換されていても良い。] - 前記有機酸の濃度が、研磨液の全質量に対して0.001質量%〜3質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の研磨液。
- 前記ノニオン性添加剤が、下記一般式(II)で表されるノニオン性界面活性剤、下記一般式(III)で表されるノニオン性界面活性剤、下記一般式(IV)で表されるノニオン性界面活性剤、下記一般式(V)で表される構成単位を含む親水性樹脂、及び下記一般式(VI)で表される構成単位を含む親水性樹脂からなる群より選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤であることを特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の研磨液。
[一般式(II)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子、炭素数6〜30のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルカルボニル基、又はポリオキシエチレン鎖を表し、R1及びR2は互いに結合してもよい。aは1〜10の整数を表す。]
[一般式(III)中、R3は、炭素数6〜20のアルキル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、又はこれらの基を2以上組み合わせてなる基を表す。bは1〜10の整数を表す。]
[一般式(IV)中、R4は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はアラルキレン基を表し、R5、R6、及びR7は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R8は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。cは1〜10の整数を表す。mは1〜100の整数を表し、nは1〜100の整数を表す。]
[一般式(V)中、R9は、炭素数1〜20のアルキレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基を2以上組み合わせてなる基を表す。pは5以上の整数を表す。]
[一般式(VI)中、R10は、炭素数1〜20のアルキレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、又はこれらの基を2以上組み合わせてなる基を表す。
qは5以上の整数を表す。] - 前記ノニオン性添加剤が、前記一般式(II)で表されるノニオン性界面活性剤、前記一般式(IV)で表されるノニオン性界面活性剤、及び前記一般式(V)で表される構成単位を含む親水性樹脂からなる群より選択される少なくとも1種のノニオン性添加剤であることを特徴とする請求項8に記載の研磨液。
- 前記ノニオン性添加剤の濃度が、研磨液の全質量に対し0.001質量%〜1質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項9のいずれか1項に記載の研磨液。
- pHが3.5〜7.0であることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の研磨液。
- pHが5.0〜7.0であることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれか1項に記載の研磨液。
- 請求項1〜請求項12のいずれか1項に記載の研磨液を、研磨定盤上の研磨パッドに供給し、該研磨定盤を回転させることで、該研磨パッドを被研磨体の被研磨面と接触させつつ相対運動させて研磨することを特徴とする研磨方法。
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