JP5416868B2 - 基板検査方法及び基板検査装置 - Google Patents
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この光量調整方法として、特許文献1に記載のものは、レーザを照射する光量を調整するための手段として、音響光学変調器若しくは光透過率を変化させたフィルタなどのように、異物の検出原理には直接関わらない別の装置を設けている。このように別の装置を設けることは、光学系の調整及びコストの増加を招くという問題がある。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、被検査対象に合わせて照明光量を調節する場合に、レーザ光量を調整する特別な機構を別に持たずとも照明光量を調節でき、光量を調整した状態で異物の検査を行うことができる基板検査方法及び基板検査装置を提供することを目的とする。
被検査対象となる基板には、通常、金属パターン部からなる高反射率部(高輝度部)とそれ以外の低反射率部(低輝度部)とが交互に設けられている。高反射率部ではレーザ光が強く反射するため、スキャン方向のその前後で低反射列部の微小信号の検出を阻害していることが判明している。そこで、この発明では検査光の照射領域が低反射率部から高反射率部に移行して照射する時に、その直前で検査光をオフ制御とし光量が少なくなるようにし、逆に高反射率部から低反射率部に移行して照射する時に、その直前で検査光をオン制御とし光量が多くなり標準時の光量に戻るようにしている。検査光となるレーザ光は、オン状態からオフ状態に移行したときは、光量は徐々に減少し、逆にオフ状態からオン状態に移行したときに、光量は徐々に増加するので、このレーザ光の特性を利用して、オン/オフ制御を行なうことによって、レーザ光量を調整する特別な機構を別に持たずとも照明光量を調節することができ、光量を調整した状態で異物の検査を行うことができる。
なお、上述の実施の形態では、照射レーザ光31aが基板の全面を照射してもよいし、照射レーザ光31aが複数の基板の異なる領域を走査することによって、複数の基板の検査結果に基づいて基板1枚分の欠陥を検査するようにしてもよい。
10…ステージ
101…基板
20…検出ガントリ
30…光学系ユニット
31…投光部
311…レーザ発振器
312…レーザ駆動回路
31a…照射レーザ光
32…受光部
321…受光レンズ
322…光検出部
40…制御部
41…記憶回路
42…回路選択部
43…比較回路
44…欠陥検出回路
45…演算回路
46…パターン記憶回路
50…ステージ制御部
Claims (2)
- 基板を移動しながら、投光系及び受光系を有する光学系手段の投光系から前記基板の移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光を基板へ照射し、
前記検査光が前記基板から反射又は散乱された光を前記受光系により受光し、
前記受光系が受光した光の強度に基づいて前記基板の欠陥を検出する基板検査方法において、
前記投光系から前記基板へ照射される検査光の光量を一定にして前記基板移動手段を用いて前記基板を所定方向に移動させることによって、前記受光系が受光した光の強度に基づいて前記基板の高反射率部及び低反射率部を抽出し、その抽出結果に基づいて前記投光系から前記基板へ照射される検査光の光量を制御するための制御パターンを作成し、前記制御パターンに応じて前記検査光の光量を制御しながら基板の欠陥を検出し、前記基板へ照射中の前記検査光の照射領域が前記基板の低反射率部から高反射率部に移行する前に前記検査光の出力をオフ状態とし、前記基板へ照射中の前記検査光の照射領域が前記基板の高反射率部から低反射率部に移行する前に前記検査光の出力をオン状態となるように制御することを特徴とする基板検査方法。 - 基板を移動させる基板移動手段と、
前記基板の移動方向と直交する方向に所定の幅を有する検査光を前記基板移動手段によって移動される基板へ照射する投光系、及び基板から反射又は散乱された光を受光する受光系を有する光学系手段と、
前記受光系が受光した光の強度に基づいて基板の欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えた基板検査装置において、
前記欠陥検出手段は、前記投光系から前記基板へ照射される検査光の光量を一定にして前記基板移動手段を用いて前記基板を所定方向に移動させることによって、前記受光系が受光した光の強度に基づいて前記基板の高反射率部及び低反射率部を抽出し、その抽出結果に基づいて前記投光系から前記基板へ照射される検査光の光量を制御するための制御パターンを作成し、前記制御パターンに応じて前記検査光の光量を制御しながら基板の欠陥を検出し、前記基板へ照射中の前記検査光の照射領域が前記基板の低反射率部から高反射率部に移行する前に前記検査光の出力をオフ状態とし、前記基板へ照射中の前記検査光の照射領域が前記基板の高反射率部から低反射率部に移行する前に前記検査光の出力をオン状態となるように制御することを特徴とする基板検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5416868B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102563536B1 (ko) * | 2018-03-20 | 2023-08-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 처리 장치, 및 물품 제조 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04279846A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-05 | Fujitsu Ltd | 光学式検査装置 |
JPH11201743A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Hitachi Ltd | 異物欠陥検査方法およびその装置 |
US7973921B2 (en) * | 2008-06-25 | 2011-07-05 | Applied Materials South East Asia Pte Ltd. | Dynamic illumination in optical inspection systems |
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- 2010-01-07 JP JP2010001909A patent/JP5416868B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR102563536B1 (ko) * | 2018-03-20 | 2023-08-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 이물 검사 장치, 처리 장치, 및 물품 제조 방법 |
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JP2011141195A (ja) | 2011-07-21 |
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A621 | Written request for application examination |
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