JP5414785B2 - 改良された走行基底部材 - Google Patents

Description

本発明は、水上、雪上又は氷、又はそれらの表面に似せた人工物質の表面を走行する際に、改良されたスピードと滑走特性を有する、走行基底部材を製造する方法に関する。

水上、雪上又は氷、又はそれらの表面に似せた人工物質の表面を走行するための走行基底部材としては多くの例があり、例えば全てのタイプのスキー（テレマーク、アルペン、クロスカントリー、モノスキー、水上スキーを含む）、サーフボード、スノーボード、トボガン、ボブスレー、ドッグスレー、リュージュ、スノーモービル、全てのタイプのブレード付きアイススケート及びカーリングストーンである。

雪上及び氷上を走行する場合、経験上滑走は、空気抵抗、雪又は氷の移動（表面を押す出す）、及び摩擦の組み合わせにより生じる抵抗に打ち勝つことを伴う。しかしながら、現行の科学理論は、雪および氷の摩擦に関しては、次の事実により複雑であると述べている。すなわち、雪および氷の摩擦の存在は、対向しそしてその結果すべりを制限するが、それにもかかわらず、雪又は氷と走行基底部材の間の表面に境界潤滑性を与える非常に薄い融解した水の層の形成を助けるために必要不可欠である。それゆえに、あまりにも滑らかな走行基底部材、又はあまりに低い摩擦係数を有する走行基底部材は、流体力学的潤滑作用のための十分な氷の融解を起こすことなく、従って走行基底部材のすべり性能を減少させることになると、長い間受け入れられてきた。

上で説明したタイプの走行基底部材を有する装備を販売又は取扱い製造者、設備の整ったショップ、そしてサービス員は、通常次のようにして走行基底部材を滑らかにする。すなわち研磨研削円盤付研削機や、湿式ベルトサンダーを用いて行うか、又はスキーやスノーボードのような走行基底部材の場合には、鋭利なスクラッパで削り取った後、１８０Grit（平均粒子サイズ７８ミクロン）結合研磨材で研磨し、ナイロンパッドで艶出しする。
これらの滑らかにする処理は、一連の細かい長軸方向に並んだ溝を有する表面を走行基底部材に与えるが、これにより明らかに十分な摩擦が生じさせ、それゆえ十分な融解水を生じて走行基底部材に流体力学的潤滑作用をもたらす。特にスキーやスノーボードの場合、より深い溝構造またはリル構造（rills）を作るため、さらにリル構造形成処理（rilling）がまたよく用いられている。アルペンスキー、テレマークスキー、およびスノーボードの場合、これらの構造は、青銅又は鋼鉄ブラシ又は１００Grit（平均粒子径１５６ミクロン）結合研磨材を用いて作られる。クロスカントリースキーの場合、リル構造形成鉄や加工研磨円盤が用いられる。一般的にリル構造形成鉄や加工研磨円盤は、０．２５ｍｍと０．５２ｍｍの間の溝を形成する。表面構造は、スキーやボードの長さの全体に、均一に形成されてもよい、又はUS５，７２５，２３７に記載されるように、スキーまたはボードの後部に集中させて形成されてもよい。これらのリル構造の目的は、融解水を排除することを助けて、すべりに抵抗する吸引減少を抑制するためであり、またクロスカントリースキーの場合にはさらなるグリップを与えるためである。例えば長軸方向ライン、ダイヤモンド型のマークのような、さまざまなリル構造パターンが用いられ、さらにどのパターンがもっとも大きな長所を与えるかについて多くの理論がある。気温がー４℃より低い場合、雪はより乾燥し、よりざらつき、硬くなり、この状態では走行基底部材はより細かな平滑性が薦められる。３４０Grit結合研磨材が通常―２０℃の状態で用いられる、そして競争スキー調製分野の専門家は、「超平滑仕上げ」を得るために１０００Gritダイヤモンド結合研磨材の使用を薦める。一方で、これよりもより細かい走行基底部材の研磨は、流体力学的潤滑作用を損なうであろうということは通常認識されている。

サイズ別ダイヤモンド石はまた、スキーやスノーボードの金属エッジを最適化するために使用されていることは指摘するに値する。例えば、粗な１００gritダイヤモンド石は、例えば岩による損傷や、雑なやすりがけの使用による、硬いエッジのギザギザの迅速な除去に用いられる。３２５gritダイヤモンド石が、定期的エッジメンテナンスに、６００gritダイヤモンド石が、ギザギザ除去とエッジ研磨に、そして１２００girt石が、超平滑エッジ研磨に使用される。金属エッジと別に、スキーの走行基底部材に超平滑研磨を実施することついては知られていない、なぜなら上で説明したようにこれは流体力学的潤滑作用を損なうであろうからである。

本発明は、水上、雪上又は氷、又はそれらの表面に似せた人工物質の表面を走行する際に、改良されたスピードと滑走特性を有する、走行基底部材を提供する。

上で説明した技術はありふれたものであるけれど、走行基底部材が完全に平坦であることを保証することは困難である。そしてこのことは走行速度とすべりを最適化するために本質的である。研削および研磨の前後の動きは、走行基底部材の特定の部分を他の部分よりより研削したり研磨したりする可能性がある。このことは基底部に沿って通常の間隔で高い場所と低い場所を形成するか、又は横波模様を形成する。研削および研磨技術の革新は、最近、この問題の解消の助けとなっているが、その成功は研削や研磨の処理を行う人の技量に大きく依存している。

上で説明したとおり、走行基底部材の研磨および表面構造の変更はすべり性能に影響を与える一方で、我々は、新しいこれまで開示されていなかった方法を用いるとさらにさらなる重要な改良がなされ得ることを見出した。さらに、我々の方法は、流体力学的潤滑作用がどのように生じるかを説明する現在の科学理論に照らしてみて、完全に驚くべきものである。加えるに、我々の方法は、広い幅の温度条件において有利であり、ー４℃およびそれより低い温度において特に有利である。本発明は、走行基底部材に形成される横波模様による問題を著しく減少させること、および大抵の場合実質的に除くことにより、さらに利益をもたらす。本発明のさらなる有利な点については、以下説明する。

アイススケートはいくつかの異なったスタイルを有するが、今日ポピュラーなスケートスタイルとしては２つの主なスタイルがあり、アイスホッケーとフィギアスケートである。典型的なアイスホッケーとフィギアスケートのブレード（「走行基底部材」）は、高品質のクロームでコートされた鍛鉄でできており、ブレードは、約４ｍｍ厚さであり、軽く先細になった断面を有する。側面から見ると、これらのブレードは平坦ではなく、前から後ろに約２ｍの曲率半径で少しカーブしている。曲率はスムーズでなければならない、というのもこれにより、スケートを自由に氷の上で回転させるからである。曲率が大きいほど、より容易にスケーターは回転することができるが、しかしスケートは前後により不安定となる。このグリップ損失を補償するために、ブレードはまたホローグラウンドされている：すなわち、「ホロー半径」として知られた半径の円の一部を形成するように調整された回転研磨盤を用いて、カーブした溝がブレードに削りこまれる。想像できるように、研磨が雑であり傷や筋をホローの内部表面に作るが、これは裸眼でも見える；これが動力学的潤滑のための摩擦を生じさせることに寄与していると信じられている。この溝はまたそれぞれのブレードに、内側と外側の２つの別のエッジを形成し、これらは氷に食い込むのに寄与する。ある時間以上になると、ブレードは鈍化し、不均一に磨耗する。その結果、ブレードは、回転研磨盤を用いて、前後への曲率半径およびホローの半径を正しく修正するために、専門家により再研削および鋭利化される必要がある。

第１の実施態様においては、本発明は、
雪、氷又は水、又はこれらの表面をまねたいかなる人工的表面の上での、改良された走行速度とすべり特性を有する走行基底部材を製造する方法であって、走行基底部材の少なくとも一部を、１又は２以上の、連続的に小さくなる粒子サイズを有する研磨材で連続的に処理し、最後の研磨材が１０００Gritより小さいもので処理する、第１の工程を含む、走行基底部材を製造する方法を提供する。本発明はまた、場合により、走行基底部材の少なくとも一部を、連続的に、１又は２以上の連続的に小さくなる粒子サイズを有するラッピング研磨材で処理し、最後のラッピング研磨材が４０ミクロンの粒子サイズまたはそれよりより小さい粒子サイズのもので処理する、第２の工程を含む、走行基底部材を製造する方法を提供する。

好ましくは、第１の工程で用いる最後の研磨材は、１２００Gritより細かいものであり、さらには好ましくは２０００Grit又はそれより細かいものが使用される。第２の工程で用いる最後のラッピング研磨材は、好ましくは３０ミクロンまたはそれより小さく、さらに好ましくは１０ミクロンまたはそれより小さい。粒子サイズ０．０００１ミクロンのラッピング研磨材が好ましく、特に好ましくは０．０５から０．０１ミクロンの範囲の粒子サイズの最後のラッピング研磨材の使用である。

第１の実施態様において好ましくは、２以上の研磨材を第１の工程で使用し、２以上のラッピング研磨材を第２の工程で使用することである。

本出願において、「研磨材」とは、明示的、暗示的にかかわらず、結合型、コート型及びラッピング研磨材を言及する包括的用語として解釈されるべきであり、また例えばゲル、液、粉、およびスラリー中に含まれる形の研磨材をも含む。

「結合型研磨材」とは、通常、研磨材を記載するために使われ、もっとも普通には、クレー、樹脂、ガラス、ゴム等をマトリックスとした酸化アルミニウムである。「コート型研磨材」とは、紙、布、ゴム等の裏打ち材にコートされた二酸化珪素を記載するために使用される。両製品にはしばしば、結合された又はコートされた研磨材の荒さにつき目安を与えるために、平均粒子サイズが付されているが、粒子サイズの実際の分布、すなわち最大粒子サイズと最小粒子サイズの差は、非常に大きい。ラッピング研磨材とは対照的に、ホーニング加工、および光学装置と宝石の微細研磨にとって、極端な性能許容誤差は、研磨材の非常に狭い粒子サイズ分布に基づくことが知られている。この結果として、我々は次のことを見出した。走行表面を２０００Grit研磨材（平均粒子サイズは２１ミクロン）での処理に続いて、４０ミクロンのラッピング研磨材で処理することは、後者が２０００Grit材で見出されるより大きな粒子により形成される線を平滑除去するであろうから、効果的であることである。いかなるラッピング研磨材も使用可能である。しかし我々は、厳しく選別された鉱物粒子、プラスチック（即ちポリエステル）フィルムにコートされた、ラッピングフィルムの使用が非常に簡便であることを見出した。適したラッピングフィルムが３M（登録商標）社から利用可能である。

我々は、１０００Gritより細かい研磨材を用いる第１の工程を実施することなく、ラッピング研磨材を用いる利益を達成することが可能であることを見出した。

すなわち第２の実施態様において、本発明は、
雪、氷又は水、又はこれらの表面をまねたいかなる人工的表面の上での、改良された走行速度とすべり特性を有する走行基底部材を製造する方法であって、走行基底部材の少なくとも一部を、１又は２以上の連続的に小さくなる粒子サイズを有するラッピング研磨材で処理し、最後のラッピング研磨材が４０ミクロンの粒子サイズまたはそれよりより小さい粒子サイズのもので処理する、走行基底部材を製造する方法を提供する。好ましくは、最後のラッピング研磨材は、３０ミクロン以下の粒子サイズを有する、さらに好ましくは１０ミクロン以下、そして最後のラッピング研磨材の粒子サイズは、０．０００１ミクロンが特に好ましい。最後のラッピング研磨材が０．０５から０．０１ミクロンの範囲であれば顕著な効果が達成される。さらに好ましくは２以上のラッピング研磨材が使用されることである。

1又は２以上の研磨材で走行基底部材の処理は、乾燥条件下でもよいが、カッティング液の使用が好ましい。水や、界面活性剤、潤滑剤、クーラント、又は抗酸化剤のような添加物を混合した水のような、あらゆる好適な液体が使用できる。好ましくは、走行基底部材は、次の研磨材で連続的に処理される前に、例えば水又は布によるふきとりで清浄にされる。

本発明の方法は、研磨材と組み合わせて対照表面を用いることでさらに改良される。好ましくは、その対照表面が、走行基底部材の望ましい特徴に対応して特徴付けられている。研磨材は、ある方法で対照表面に固定的に結合されているか、除去可能的に結合されているとすると、１の研磨材は本発明の方法が実施される際、次の研磨材と交換されうると思われる。本発明は、手動で操作するか、又は例えば電気的、機械的、空気圧、水圧により、又はいかなる他の機械的動力源により駆動する機械的に操作する道具を用いても、いかなる簡便な方法でも実施できる。

本発明の方法は、走行基底部材の全表面、又はその１又は２以上の部分に実施することができる。そして全部分を同じ一連続の研磨材で処理をすることや、全ての部分で同じ最後の研磨材を使用することは必ずしも必要ではない。スキーやスノーボード、そして他の金属エッジを有する走行基底部材においては、走行基底部材の処理部分に隣接する金属エッジも、本発明の方法に従い同じく処理されることが好ましい。金属エッジは、１２００Gritより小さい、又は好ましくは１５００Gritより小さい研磨材を用いて、走行基底部材とは別に処理されることが有利である。

本発明の方法は、走行基底部材に、非常に均一なミクロ表面トポグラフィを付与するために寄与するものであることが分かる。ここでかかる表面トポグラフィのピークと底の差は、使用した研磨材と同じオーダーである。好ましくは、これは数ミクロン、好ましくは１ミクロンよりも小さいオーダーである。上で説明したとおり、ある応用においては、基底部材に対する融解水の移動が制御され、上で説明された吸引現象が抑制されれば有利である。従って、本発明の方法はまた、さらに走行基底部材への特定の定義された構造化を追加する、たとえばリル構造形成により導入するといった、選択的工程を含むことができる。リル構造形成された従来の平滑化された走行基底部材は、頂部に追加のリル構造化を伴う相対的に粗い研磨又は研削による、ピークと底の組み合わせの非常に複雑な表面トポグラフィを生じる。走行基底部材が使用されるに従い、これらのピークは水、雪又は氷の作用によりゆっくりと磨耗する。そして走行基底部材をしばしば再研磨、再リル構造化して良好な速度とすべりを維持しなければならない。これは特にー４℃またはそれ以上（すなわち春雪の状態である）では深刻である。これに対して、本発明の方法で平滑化された走行基底部材は、粗い研磨によるピークを有しないので、基底部材の磨耗も非常に小さく、その結果、研磨および研削はより少ない回数必要とするだけである。さらに、本発明の方法により平滑化された走行基底部材に構造が付与された場合、表面トポグラフィは、一連の非常に正確に定義された溝が走行基底部材の内部へ延びており、走行基底部材の非常に平坦な表面により分けられているように見える。これらの平坦な領域はゆっくりと磨耗するにすぎないので、カットリル構造はより長くそのまま維持され、頻繁な再リル構造化は必要とされない。また走行基底部材が、本発明の平坦化に先立って、又は同時にリル構造化処理されることも好ましい。さまざまなリル構造化パターンが使用可能であり、これらは走行基底部材のある部分または全体に形成されてもよい。

本発明の方法は、あらゆるタイプの走行基底部材であって、例えば全てのタイプのスキー（テレマーク、アルペン、クロスカントリー、モノスキー、水上スキーを含む）、サーフボード、スノーボード、スキーバイク、トボガン、ボブスレー、ドッグスレー、リュージュ、スキドー、全てのタイプのブレード付アイススケート及びカーリング石に、適応可能である。

ホローグラウンドスケート、フィギアスケートおよびアイスホッケーのような、においては、本発明の方法は、第一に、ホロー構造をブレードに作る際に、研磨研削盤により生じた傷や筋を最小化し、そして好ましくは本質的に除去するために有利に実施され、そして第二には、ブレードエッジの鋭利さを最適化するために有利に実施される。本発明で調製されたスケートは、同じ努力でもより大きな距離移動を可能とする、顕著に強化されたすべり表面による利益のみならず、側面力を制御するエッジの鋭利さによる利益もまたもたらす。加えて、コントロールおよび精度に関する改良についても利益もまた得られる。これらの全ての改良は、全体として、どのようにしてスケートは氷の上を滑るのかについての現在の科学的説明からは予想できるものではない。全ての現在の考えでは、ホロー構造の筋は、摩擦流体力学的潤滑性にとって十分な摩擦を作るには本質的であり、氷を滑りやすくする因子であるとされている。さらに本出願人は、さらに重要な有利性が、本発明の方法を使用することにより得られることを認めた。上で説明したとおり、本発明は、スケートのエッジとホローは、通常の技術で達成可能な程度をはるかに超えた程度に鋭利化され、研磨されている。その強化された研磨の結果により、従来の研磨ブレードの場合に比べて、ホロー構造は適正に、研磨状態が維持され、またエッジも鋭利に維持されていることを出願人は見出した。それゆえ、上で説明した、本発明の方法で研磨したブレードについて、改良されたすべり性能と他の利点は予期する以上に長く維持される。この知見はまた、予期できるものではない。なぜなら、いかなる人も、非常に鋭利化されたスケートエッジは、従来の研磨エッジよりも本来的に弱く、従ってより損傷に敏感であると予想するであろうからである。ところが逆のことが見出されたのである。従って、再研磨の回数は少なくなり、またスケートブレードは無限回再研磨できるものではないことから、その予想寿命は劇的に改善されることになる。

本発明は、以下の例を参照としてさらにより具体的に説明される。

アイススケートブレードの改良されたすべり性能―研磨材の手動適用
試験で使用されたアイススケートは、１対の、１０インチ ジョンウィルソン パラボリック パターン９９ K−ピック付、７／１６インチ半径ホロー付フィギアスケートブレードをリスポートブーツに着けたものであった。両方のブレードは、本発明の方法を用いて、ブレードおよびホローの長さに沿って、一連の徐々に細かくなる研磨材を用いて前後にこすり合わせて調製された。カッティング液として水を使用した。ブレードは、研磨グレードを変える間に清浄化された。それぞれの研磨グレードで処理した後、ブレードを水洗し、次のより細かい研磨での処理の邪魔をするくずを除いた。使用したアイスリンクは、オリンピックサイズであった。

スケートを調製するために使用した一連の研磨材
研磨材 注
３ｍ４００Grit ウェット及びドライ ２回
３ｍ８００Grit ウェット及びドライ １回
３ｍ１０００Grit ウェット及びドライ １回
３ｍ１２００Grit ウェット及びドライ １回
３ｍ２０００Grit ウェット及びドライ １回
３ｍ３０ミクロンラッピングフィルム ２回
３ｍ１５ミクロンラッピングフィルム ２回
３ｍ９ミクロンラッピングフィルム １回
３ｍ５ミクロンラッピングフィルム １回
３ｍ３ミクロンラッピングフィルム １回
３ｍ１ミクロンラッピングフィルム １回
３ｍ０．３ミクロンラッピングフィルム １回
３ｍ0.05ミクロンラッピングフィルム ２回最終研磨
（１回＝ブレードとホローに沿って５パス）

結果
上で説明したように調製されたスケートは、エリートレベルの男性スケーター（２７歳、身長5フィート７インチ、体重１４０ポンド）によってテストされた。すなわち、男性スケーターは、アイスリンクの一方のサイドから標準化された押しで一回押され、その結果できるだけ長くすべりを維持した。標準化された押しは、スケーターを+−３０ｃｍ以内で推進させるために十分一致していた。上記の連続の研磨材を用いる処理を行う前のスケートについてのすべり距離は、アイスリンクの長さの０．７５倍と測定された。一方ブレードを上で説明したように調製された後の達成されたすべり距離はアイスリンクの１．５倍であった。この改良は、摩擦係数の顕著な減少と、それに見合ったすべり性能の改良を示唆している。

アイススケートブレードの改良されたすべり性能―研磨へのハンドヘルド電気機械道具の適用
実施例２で使用したアイススケートは、実施例１で記載したものと同じである。実施例２を実施する前に、ブレードは従来技術を用いて再研削された（コントロールとしてのテスト）。ひとつのブレードは、累積的に一連の徐々に細かくなる研磨材を用いて調製した。以下説明するように、テストは、研磨材のそれぞれを適用した後行った。研磨材は、ハンドーヘルド電池駆動道具内に備えられた、５０ｍｍ長さの固体のプラスチック管状マンドレルの外側表面にシート形状で設けた。低パワーDCモーターを用いて、マンドレルを駆動し、長手方向に往復運動させた、そして実施例１で行った手動の前後の動きを真似た。それぞれの場合、研磨材はブレードとホローの遊離部分の長さ方向に沿って２分適用した。実施例２で研磨は、ドライで行われカッティング液は使われなかった。そしてブレードは、研磨グレードの間で布で拭われた。

使用した一連の研磨
研磨処方（PR） 研磨順序
１） コントロール（従来技術を用いた再研削）
２） PR1)＋１８０gritウェット及びドライ
３） PR2)＋８００gritウェット及びドライ
４） PR3)＋５μラッピングフィルム
５） PR4)＋１μラッピングフィルム
６） PR５)＋０．３μラッピングフィルム
７） PR５)＋0.05μラッピングフィルム

結果
スケートのひとつは上の研磨処方１−７に従って調製し、実施例１で使用したものと同じ男性のフィギアスケーターを用いて実施した。他のスケートは、コントロールとして維持した。それぞれの実験で、スケーターは、アイスリンクの一方のサイドから標準化された押しで一回押され、その結果できるだけ長くすべりを維持した。標準化された押しは、スケーターを+−３０ｃｍ以内で推進させるために十分一致していた。それで結果の再現性も確かであった。上の一連の研磨処方を用いて調製されたスケートのすべり距離はメーターで測定された、以下に示された結果は３回の平均であった。

研磨処方 すべり距離（ｍ）
１）（コントロール） ２０
２） ２５
３） ２３
４） ３４
５） ４２
６） ５８
７） ７０

上の結果は、ブレードエッジとホローを、本発明の方法で研磨すると、劇的にすべり距離に増加が生じることを、明らかに示している。

アイススケートについて、本発明の方法を用いて得られる利益につきエリートレベルのスケーターによる定量的観察（手動で研磨材適用）
エリートレベルのスケーターは、新しく再研削したスケート（彼の右スケート）でのスケートの感覚を考慮し、そして、それと、本発明の方法で調製したブレードでのスケート（彼の左スケート）の感覚に対して比較するように要求された。用いたスケートは、一対の、１０インチ ジョンウィルソン パラボリック パターン９９ K−ピック付、７／１６インチ半径ホロー付フィギアスケートブレードをリスポートブーツに着けたものであった。両方のスケートはテストの前に通常の技術で再研削された。右スケートは研磨せずにそのまま全テストに使用した（コントロール）。そして左スケートは以下に説明する累積的一連の研磨処方により研磨された。スケーターは、彼の右のスケートを１−１００（０＝悪い、１００すばらしく良い）スケールで「５０」と考慮するように要請された。これは実施例１で記載された手動技術による研磨されたスケートと、以下の研磨処方８）から１２）により研磨されたスケートと比較するための対照として設定するためである。

研磨処方 研磨順序
８） コントロール（従来技術を用いて再研削）
９） ４００gritウェット及びドライ（２００パス）
１０） ９）＋８００gritウェット及びドライ（２００パス）
１１） １０）＋１２μラッピングフィルム（２００パス）
１２） １１）＋５μラッピングフィルム（１００パス）

スケーターのコメント 研磨処
８） ９） １０） １１） １２）
全体の印象 ５０ ６０ ８５ ６０ ９５
スムーズ性 ５０ ９０ ９５ ９０ １００
すべり容易性 ５０ ９０ １００ ９０ １００
制御性 ５０ ７０ ８５ ８５ ９５
信頼性 ５０ ８０ ９０ ８０ １００
快適性 ５０ ９０ ９０ ７５ １００
応答性 ５０ ８０ ９５ ８０ ９５
力 ５０ ８０ ９０ １００ ９５
バランス ５０ ７５ ９０ ８５ ９５

アイススケートについて、本発明の方法を用いることで明らかに劇的な利益が得られる。

アイススケートについて、本発明の方法を用いて得られる利益につきエリートレベルのスケーターによる定量的観察―研磨への電気機械道具の適用
実施例４で使用するアイススケートは実施例２で説明したものと同じであった。ブレードは、従来技術を用いて再研削された（コントロール）。ひとつのブレードは、累積的に一連の徐々に細かくなる研磨材を用いて調製した。以下説明するように、テストは、研磨材のそれぞれを適用した後行った。研磨材は、ハンドーヘルド電池駆動道具内に備えられた、５０ｍｍ長さの固体のプラスチック管状マンドレルの外側表面にシート形状で設けた。低パワーDCモーターを用いて、マンドレルを駆動し、長手方向に往復運動させた、そして実施例１で行った手動の前後の動きを真似た。それぞれの場合、研磨材はブレードとホローの遊離部分の長さ方向に沿って２分適用した。実施例４で研磨は、ドライで行われカッティング液は使われなかった。そしてブレードは、研磨グレードを変える間布で拭われた。

研磨処方（PR） 研磨順序
１３） コントロール（従来技術を用いた再研削）
１４） １３)＋１８０gritウェット及びドライ
１５） １４)＋８００gritウェット及びドライ
１６） １５)＋５μラッピングフィルム
１７） １６)＋１μラッピングフィルム
１８） １７)＋０．３μラッピングフィルム

スケーターのコメント 研磨処方
１３） １４） １５） １６） １７） １８）
全体の印象 ５０ ７０ ５０ ７５ ８０ ９３
スムーズ性 ５０ ８５ ６０ ７０ ９０ ９７
すべり容易性 ５０ ８０ ４５ ８５ ９２ ９４
制御性 ５０ ８０ ５５ ８５ ８９ ９５
前進距離 ５０ ７５ ４５ ８０ ９０ ９８
応答性 ５０ ８５ ７５ ８７ ９０ ９５
力 ５０ ８５ ６０ ８９ ９０ ９３
食い込み ５０ ６０ ６０ ６８ ８８ ９０
ここでも、上で得られた結果は、本発明の利点を示す。

Claims (17)

1. 雪、氷又は水、又はこれらの表面をまねたいかなる人工的表面の上での、改良された走行速度とすべり特性を有する走行基底部材を製造する方法であって、前記走行基底部材の少なくとも一部を、１又は２以上の、徐々により小さい粒子サイズを有する研磨材で連続的に処理し、最後の研磨材が１０００Gritより小さいもので処理する、第１の工程を含む、走行基底部材を製造する方法。
   
2. 場合により、前記走行基底部材の少なくとも一部を、連続的に、１又は２以上の連続的に小さくなる粒子サイズを有するラッピング研磨材で処理し、最後のラッピング研磨材が４０ミクロンの粒子サイズまたはそれよりより小さい粒子サイズのもので処理する、第２の工程を含む、請求項１に記載の方法。
   
3. 雪、氷又は水、又はこれらの表面をまねたいかなる人工的表面の上での、改良された走行速度とすべり特性を有する走行基底部材を製造する方法であって、前記走行基底部材の少なくとも一部を、１又は２以上の連続的に小さくなる粒子サイズを有するラッピング研磨材で処理し、最後のラッピング研磨材が４０ミクロンの粒子サイズまたはそれよりより小さい粒子サイズのもので処理する、走行基底部材を製造する方法。
   
4. 前記研磨材が１２００Gritより細かい、請求項1又は２のいずれかに記載の方法。
   
5. 前記研磨材が2000Gritより細かい、請求項４に記載の方法。
   
6. 前記最後のラッピング研磨が３０ミクロン以下の粒子サイズを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
   
7. 最後のラッピング研磨材が、0.0001ミクロンの粒子サイズである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
   
8. カッティング液が使用される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
   
9. 前記最後の研磨材の処理が、先に実施されるか、同時に実施されるか、又は前記走行基底部材の一又はそれ以上の部分に特定の構造を与えた後に実施される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
   
10. 前記走行基底部材が、スキー、サーフボード、スノーボード、トボガン、ボブスレー、ドッグスレー、リュージュ、スキドー、スノーバイク、全てのタイプのブレード付アイススケート及びカーリングストーンから選ばれる、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
    
11. 前記走行基底部材が、スキー、スノーボード、及びホローグラウンドブレードを有する、請求項１０に記載の走行基底部材を製造する方法。
    
12. スケートブレードのホロー及び／又はエッジを研磨する、請求項１，２、又は３のいずれか１項に記載の方法。
    
13. 前記走行基底部材と、場合により前記スキーのエッジを研磨する、請求項１，２、又は３のいずれか１項に記載の方法。
    
14. 前記研磨材が次の順、１８０Grit、８００Grit,５ミクロンラッピング研磨材及び１ミクロンラッピング研磨材、の順で使用される、請求項１２又は１３のいずれか１項に記載の方法。
    
15. 前記研磨材が次の順：５ミクロンラッピング研磨材、１ミクロンラッピ研磨材、０．３ミクロンラッピング研磨材及び０．０５ミクロンラッピング研磨材の順で使用される、請求項１１又は１３のいずれか１項に記載の方法。
    
16. 第１の工程として、前記走行基底部材の少なくとも一部を、少なくともいくつかの研磨材で、４００Grit,８００Grit,１０００Grit,１２００Grit及び２０００Gritの順で順に処理し、及び場合により第２の工程として、前記走行基底部材の少なくとも一部を、３０ミクロン、１５ミクロン、９ミクロン、５ミクロン、３ミクロン、１ミクロン、０．３ミクロン及び０．０５ミクロンのオーダーの粒子サイズを有する少なくともいくつかのラッピング研磨材で順に処理する、請求項１，２，４のいずれか１項に記載の方法。
    
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法を用いて処理された、走行基底部材。