JP5406167B2 - インクジェット記録装置の製造方法 - Google Patents

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本発明は、複数のノズルからインクを吐出するインクジェット記録装置のヘッドの製造方法に関する。
従来、複数のノズルからインクを吐出するインクジェット記録装置であるインクジェットプリンタにおいて、互いに隣接する圧力室の隔壁をアクチュエータとするインクジェットヘッドが知られている。インクジェットヘッドは、インクを吐出するノズルを有するヘッド基板や、インク供給口とインク排出口を有するマニホールドなどを備える。
ヘッド基板は、基板と、圧力室を構成する圧電素子を含む圧電部材と、ノズルプレートと、圧電部材を駆動する駆動信号を出力するドライバICと、圧電部材とドライバICを接続する配線などを備える。そして、基板の上に圧電部材によって複数の圧力室が形成される。圧電部材に電圧を印加すると、圧電部材が変形し、圧力室の体積が変化し、体積が減少した圧力室からノズルプレートに形成されるノズルからインクが吐出される。
基板の材料としては、アルミナ(Al)などのセラミックスが挙げられる。一方、圧電部材としては、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT:Pb(Zr,Ti)O3)などの圧電材料が用いられる。
そして、インクジェットヘッドは、基板に対して、圧力室を形成する圧電部材を接着などにより固定する。そして、圧電部材及び基板の表面にに対して金属薄膜を形成し、レーザパターニングによって複数の電極を形成する処理などを行うことにより形成される(特許文献1)。
この電極形成のためのレーザーパターニング処理は、基板と圧電部材の、電極や電気配線となる部分を除いた領域をレーザーにより金属薄膜を除去することで、電極や電気配線を形成する処理であるが、基板の材料と圧電部材の材料が異なる場合、同じレーザーの照射条件では、金属膜の密着力に差がある場合、密着力が強い部分では金属膜を確実に除去できない加工残りが生じる場合がある。
そこで本願発明は、レーザーのパターニング処理により正確にかつ効率よく電極を形成するインクジェット記録装置の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、基板と、前記基板に固定される他の構成部材と、の表面に金属皮膜を形成し、レーザーを走査して前記基板と前記構成部材の両方にまたがる除去対象領域の金属皮膜を除去することにより、インクの吐出を行う圧電部材を駆動する信号を送信するための電気配線と前記圧電部材に電圧を印加する電極の少なくともいずれかを形成する場合に、前記除去対象領域のうち、前記金属皮膜の密着力がより高い、前記基板と前記構成部材のいずれか一方に属する第1の領域に対して1回目のレーザーの走査を行い、前記第1の領域と、前記第1の領域と連続する他方に属する第2の領域と、からなる前記除去対象領域全体に対して2回目のレーザーの走査を行うインクジェット記録装置の製造方法に関する。
以上に詳述したように、本発明によれば、インクジェットプリンタのヘッド基板の製造において、レーザーのパターニング処理により電気配線を形成する場合に、加工残りが生じることがなく、効率の良いをインクジェットヘッドの製造方法を提供することができる。
インクジェット記録装置のヘッドを構成するヘッド基板の斜視図である。 図1に示すヘッド基板のA−A矢印位置での断面図である。 ヘッド基板の一部分の拡大平面図である。 圧電部材の図2におけるB−B矢印位置での断面図である。 ヘッド基板の製造方法の流れを示すフローチャートである。 本実施形態のパターニングの方法を示す基板と圧電部材の一部の模式図である。 本実施形態のパターニングの方法を示す基板と圧電部材の一部の模式図である。
以下、実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図1は、インクジェット記録装置のヘッドを構成するヘッド基板1の斜視図である。図2は、図1に示すヘッド基板1のA−A矢印位置での断面図である。図3は、ヘッド基板1の一部の拡大平面図である。
図1に示すヘッド基板1を備えるインクジェットヘッドは、いわゆるインク循環式のインクジェットヘッドである。ヘッド基板1は、基板2と、枠部材4と、圧電部材6と、ノズルプレート8と、インクジェットヘッドを駆動するドライバIC18と、ドライバIC18から圧電部材6に電力を供給する電気配線50と、を備える。
基板2は、圧電部材6や枠部材4などが取り付けられる、板状の部材である。基板2は、アルミナ(Al)、窒化ケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミニウム(AlN)などのセラミックス材料で形成される。基板2は、インク供給口12とインク排出口14を備える。
インク供給口12は、インクを貯蔵するインクタンクと流体的に結合する。また、インク供給口12は、基板2と、2列の圧電部材6と、ノズルプレート8によって形成される、インク供給路18の位置に複数形成される。
インク排出口14は、インク供給口12から供給されたインクのうち使用されなかったインクを回収するための穴である。インク排出口14は、インクを貯蔵するインクタンクと結合する。また、インク排出口14は、基板2と、圧電部材6と、枠部材4と、ノズルプレート8によって形成される、圧電部材6の外側(枠部材4側)のインク排出路19の位置に複数形成される。
枠部材4は、圧電部材6によってインクを吐出して印刷を行うために、基板2とノズルプレート8とによって、インクを一定量保持するインク室を形成するための枠である。枠部材4は、ステンレスなどの金属材料や、単結晶シリコンなどの無機材料、ポリイミドフィルムなどの樹脂材料を用いることができる。
圧電部材6は、ノズルプレート8に形成される多数のノズル10からインクを吐出する多数の圧力室16を備える。圧電部材6に電圧を印加すると、各圧力室16の両側の壁となる圧電部材6が変形し、容積が小さくなるように変形した圧力室16のノズル10からインクが吐出される。圧電部材6は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT:Pb(Zr,Ti)O3)、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、タンタル酸リチウム(LiTaO3)などを用いることができる。また、図2などに示すように、圧電部材6のインク供給口12側及びインク排出口14側の両端部は、切削加工などにより形成される傾斜部6kとなっている。
そして、基板2の表面に形成される電気配線50と、圧電部材6の表面に形成される電極21は、基板2と圧電部材6の表面に形成される金属薄膜(金属皮膜)によって形成される。具体的には、電極21及び電気配線50は、レーザーによるパターニングを行って、電極21及び電気配線50とする部分以外の領域の金属薄膜を除去することによって形成する。図3では、レーザーにより金属薄膜を除去した領域を、レーザーパターニング領域300として示している。従って、図3では、レーザーパターニング領域300以外の、基板2上の領域が電気配線として用いられ、圧電素子6上の領域が電極21として用いられる。金属薄膜は、ニッケルや金により形成することができる。また、金属薄膜は、メッキ法、スパッタ法、蒸着法などの方法により形成する。
ここで図4により、圧電部材6の構成を詳細に説明する。図4は、圧電部材6の図2におけるB−B矢印位置での断面図である。圧電部材6は、板厚方向に互いに反対向きに分極した第1圧電部材6aと第2圧電部材6bとが積層された部材である。
そして、圧電部材6には、インク供給路18からインク排出路19につながる複数の長溝が平行に形成され、各長溝の内面には電極21(図4では、電極21a〜21h)が形成されている。長溝と長溝の開口部側を覆うノズルプレート8とによって囲まれる空間が圧力室16(図4では、圧力室16a〜16h)となる。長溝(圧力室16)の内面に形成される電極21は、電気配線50を介してドライバIC18に接続されている。隣接する圧力室16の間の隔壁を構成する圧電部材6は、各圧力室16に設けられた電極21によって挟まれ、アクチュエータ25(図4では、アクチュエータ25a〜25g)を形成する。また、圧電部材6のインク供給口12側及びインク排出口14側の両端部は、切削加工などにより形成される傾斜部6kとなっている。
次に、ノズルプレート8は、枠部材4に接着されて固定される。ノズルプレート8は、上述のように、枠部材4と共にヘッド基板1においてインクを滞留させる空間を形成する。ノズルプレート8には、圧電部材6によって形成される圧力室16に対応する位置に、複数のノズル10が形成される。ノズルプレート8は、ステンレスなどの金属材料や、単結晶シリコンなどの無機材料、ポリイミドフィルムなどの樹脂材料を用いることができる。
ドライバIC18は、長溝の内面に形成される各電極21に対して、電気配線50を介して、駆動信号を出力する。
このような圧電部材6などから成るヘッド基板1をインクジェットプリンタに取り付けて、実際にプリント処理を実行すると、まず、インクジェットプリンタのプロセッサによって実現される制御部が、インクジェットヘッドを駆動するドライバIC18に対して、印字信号を出力する。IC18は、取得した印字信号に基づき、電気配線50を介して、圧電部材6の各電極21a〜21hに駆動パルス電圧を印加する。そうすると、アクチュエータ25は、圧電部材6aと圧電部材6bの接合部を頂部として「く」の字型に剪断変形する。このアクチュエータ25の変形によって、各圧力室16の容積が変化し、圧力室16の内部にあるインクが加圧される。加圧されたインクは、各圧力室16に対応するノズル10から吐出される。各アクチュエータ25に対する電圧の印加を制御することで、所望の圧力室16からノズル10を介してインクを吐出し、用紙の所定の位置に画像を形成することができる。
次に、以上の構成を備えるヘッド基板1の製造方法について説明する。図5は、ヘッド基板1の製造方法の流れを示すフローチャートである。
まず、Act101において、インク供給口12及びインク排出口14をプレス加工により形成した基板2を焼成する。
次に、Act102において、基板2に一対の圧電部材6を接着する。この時点の圧電部材6は、圧力室16を構成する長溝や図4に示す傾斜部6kなどが形成されていない、板状の部材である。
次に、Act103において、圧電部材6に対する加工を行う。具体的には、圧電部材6の角部を切削する切削加工と、長溝の形成加工を行う。角部の切削加工は、圧電部材6の角部を切削して、インク供給口12側及びインク排出口14側の両端部に傾斜部6kを形成する。角部を切削して傾斜部6kを形成することで、圧電部材6は、図2に示すようにノズルプレート側に近づくにつれ幅が狭くなる形状となる。長溝の形成は、ダイシングソーなどを用いて圧電部材6に対して所定数の長溝を形成することにより行う。
次に、Act104において、ヘッド基板1に対して、電極21及び電気配線50を形成する。具体的には、まず、例えば無電解メッキ法により、基板2及び圧電部材6の表面に、金属薄膜を形成する。そして、レーザーによるパターニングにより、電極21及び電気配線50以外の部分の金属薄膜を除去することにより、電極21及び電気配線50を形成する。電気配線50を形成する際のレーザーによるパターニング方法の詳細については後述する。
次に、Act105において、ノズルプレートを接着するための面だしと電極の除去のために、圧電部材6の上部を除去する加工を行う。また、基板1の外形をカットし、周辺の不要な電極の除去を行う。
次に、Act106において、枠部材4を基板2に対し接着し、ノズルプレート10を枠部材4に接着して固定する。
次に、Act107において、基板2上の電気配線50に接続するように、ドライバIC18を基板2に固定する。
以上の工程によりヘッド基板1が製造される。製造したヘッド基板1に対してケースを装着することで、インクジェットヘッドを形成することができる。
次に、本実施形態のヘッド基板1において、電気配線50及び電極21を形成する、レーザーによるパターニングの方法について説明する。図6及び図7は、本実施形態のパターニングの方法を示す基板2と圧電部材6の一部の模式図であり、例として、図3に示すレーザーパターニング領域300のうち、除去対象領域302の金属薄膜を除去するとして説明する。図6(a)及び図7(a)は、ヘッド基板1のノズルプレート8が固定される側から見た図であり、図6(b)は図6(a)のC−C位置での断面図、図7(b)は図7(a)のD−D位置での断面図である。なお、図6及び図7において、圧電部材6と基板2の表面には、金属薄膜が形成されており、レーザーの走査によって除去されるものとする。
上述のように、電極21及び電気配線50は、基板2及び圧電部材6の表面に金属薄膜を形成し、この金属薄膜をレーザーによるパターニングにより除去することで形成される。金属薄膜は、例えば、無電解メッキにより形成することができる。無電解メッキにより皮膜を形成する場合には、皮膜を形成する金属が被覆対象物の凹凸に食い込むアンカー効果により皮膜と基板2や圧電部材6との密着力を高める。密着力を高めるためには、メッキの前に被メッキ対象物(基板2及び圧電部材6)にエッチングを施す。
この際、基板2と圧電部材6とが異なる材料である場合、エッチング液の浸透の深さに差が生じ、その浸透度合いの差によって、メッキ液の浸透の深さの度合にも差が生じる。そうすると、結果として、材質の異なる基板2と圧電部材6とでは、金属膜の密着力に差が生じる。この場合、同じ条件のレーザーで、金属薄膜の被覆対象物への密着力が異なる範囲の除去処理を連続して行うと、金属薄膜の密着力の高い範囲と密着力の低い範囲とで、金属薄膜の除去の程度に差が生じる。
例えば、基板2をアルミナ(Al)、圧電部材をチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)で形成し、エッチング溶液としてフッ酸溶液を用いてエッチングする場合、フッ酸溶液はアルミナ部分には深く浸透せず、PZT部分にはアルミナ部分より深く浸透する。この場合、メッキ液もPZT部分に深く浸透することになるため、PZT部分の金属薄膜のほうが密着力が高くなる。従って、同じ照射条件のレーザーの走査により基板2と圧電部材6に対して連続して金属薄膜の除去処理を行った場合、圧電部材6上の金属薄膜に対して加工残りが発生する。加工残りは、ショートなどの原因となり好ましくない。
一方、被覆対象物ごとに、レーザーの条件を変えて金属薄膜を除去することも可能であるが、レーザーの走査回数が多くなり、パターニング処理に時間を要してしまい、処理効率が低下する。
そこで、本実施形態のパターニング方法は、図6に示すように、電気配線50を形成する際に、金属薄膜の密着力が異なる圧電部材6と基板2の両方にまたがる範囲で金属薄膜を除去する場合、まず、金属薄膜の密着力が高い範囲である圧電部材6上の除去範囲において、圧電部材6から基板2との境界への方向(矢印aの方向)でレーザーの走査を行う。この走査により1回目の第1の走査範囲601(第1の領域)の金属薄膜の除去処理が行われる。
次に、1回目の第1の走査範囲601を含む、金属薄膜を除去する除去範囲全体を、圧電部材6側から基板2側に向けて、同じく矢印aの方向でレーザーで走査する。この2回目の走査により、第1の走査範囲601と基板2側の走査範囲(第2の領域)からなる第2の走査範囲602の金属薄膜が除去される。
以上のようなパターニング方法により、金属薄膜との密着力が高い範囲についても、2回のレーザーの走査によって、加工残り無く確実に金属薄膜が除去される。さらに、1回目の走査では、金属薄膜を除去する範囲のうち、金属薄膜の密着力の高い範囲のみ走査するため、その走査範囲601の両端に、除去した金属薄膜によるバリが生じるが、2回目の全体(第2の走査範囲602)のレーザー走査によって、そのバリが除去される。よって、バリによるショートなどが生じることも無い。さらに、1回目のレーザーの走査では、金属薄膜の密着力が高い範囲のみを走査するため、走査範囲全体を2回走査する場合に比べて、処理効率が良い。
一方、例えば、圧電部材6側から基板2側に向けて(矢印a方向)レーザー走査を行う場合であって、1回目に全体を走査して、2回目に、加工残りが生じやすい圧電部材6側の範囲(図6において第1の走査範囲601)に対してのみ、矢印a方向にレーザーの走査を行って、残った金属薄膜の除去を行うと、圧電部材6の範囲の加工残りはなくなるが、レーザーの走査の終点部分、つまり、金属薄膜の除去対象領域302の途中で、バリが生じ、ショートなどの原因となり好ましくない。
また、金属薄膜を除去したい範囲全体を2回走査すると、加工残りの無い基板2部分のレーザーの走査が過剰となり、基板2の不必要な部分までレーザーによる除去が生じる可能性もあり好ましくない。
なお、本実施形態においては、1回目と2回目のレーザーの走査方向は、いずれも、レーザーによる加工残りが生じやすい圧電部材6側から、基板2側に向けて、つまり図6(a)、(b)において矢印a方向に操作するとして説明したが、これに限られない。1回目の走査は、圧電部材6と基板2との境界位置から圧電部材6側に向けて、つまり、矢印aとは反対の方向にレーザーの走査を行い、2回目の走査を矢印aの方向に行ってもよい。この場合には、1回目の走査の終点と2回目の走査の始点の位置が同じとなるため、レーザーの走査の効率が良い。
また、本実施形態においては、レーザーの走査を2回行うとして説明したが、金属薄膜の基板2や圧電部材6に対する密着力によっては、3回目以降さらにレーザーの走査を行ってもよい。
以上、本実施形態によれば、金属薄膜をレーザーにより除去することにより、圧電素子に電圧を印加する電極又は圧電素子に駆動信号を送信するための電気配線を形成するインクジェットヘッドの製造方法において、金属薄膜の除去を確実に行うことができると共に、レーザーの走査回数や走査範囲を最小限に抑えることが可能となり、効率よくインクジェットヘッドを製造することができる。
本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他の様々な形で実施することができる。そのため、前述の実施の形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する全ての変形、様々な改良、代替および改質は、すべて本発明の範囲内のものである。
1 ヘッド基板
2 基板
4 枠部材
6 圧電部材
8 ノズルプレート
16 圧力室
21 電極
50 電気配線
特表2002‐529289号公報

Claims (4)

  1. 基板と、前記基板に固定されるヘッドの圧力室を形成する圧電部材と、を備えるヘッド基板の表面に金属皮膜を形成し、
    レーザーを走査して前記基板と前記圧電部材の両方にまたがる除去対象領域の金属皮膜を除去することにより、圧電部材を駆動する信号を送信するための電気配線及び前記圧電部材に電圧を印加する電極の少なくともいずれかを形成する場合に、
    前記除去対象領域のうち、前記金属皮膜の密着力がより高い、前記基板と前記圧電部材のいずれか一方に属する第1の領域に対して1回目のレーザーの走査を行い、
    前記第1の領域と、前記第1の領域と連続する、他方に属する第2の領域と、からなる前記除去対象領域全体に対して2回目のレーザーの走査を行うインクジェット記録装置の製造方法。
  2. 請求項1に記載のインクジェット記録装置の製造方法において、
    記圧電部材と前記金属皮膜との密着力は、前記基板と前記金属皮膜との密着力よりも高いインクジェット記録装置の製造方法。
  3. 請求項1又は2に記載のインクジェット記録装置の製造方法において、
    前記1回目のレーザーの走査は、前記第2の領域側の一端から、前記第1の領域側の他端に向けて行う走査であるインクジェット記録装置の製造方法。
  4. 請求項1から3のいずれか1つに記載のインクジェット記録装置の製造方法において、
    前記2回目のレーザーの走査の後、前記除去対象領域に対してさらにレーザーの走査を行うインクジェット記録装置の製造方法。
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