JP5403586B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP5403586B2 JP2009006317A JP2009006317A JP5403586B2 JP 5403586 B2 JP5403586 B2 JP 5403586B2 JP 2009006317 A JP2009006317 A JP 2009006317A JP 2009006317 A JP2009006317 A JP 2009006317A JP 5403586 B2 JP5403586 B2 JP 5403586B2
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Description

本発明は、ディスペンサーによってシール材が均一な量でかつ正確な位置に塗布された
液晶表示装置及びその製造方法に関し、詳しくは、本発明は、透明基板上に光不透過性材
料からなる膜を形成することでディスペンサーのレーザー光を安定して受光することがで
きるようにして、シール材を均一な量でかつ正確な位置に塗布された液晶表示装置及びそ
の製造方法に関するものである。
The present invention relates to a liquid crystal display device in which a sealant is applied in a uniform amount and at an accurate position by a dispenser, and a method for manufacturing the same, and more particularly, the present invention relates to a film made of a light-impermeable material on a transparent substrate. The present invention relates to a liquid crystal display device in which a laser beam of a dispenser can be stably received by being formed and a sealing material is applied in a uniform amount and at an accurate position, and a manufacturing method thereof.

液晶表示装置は、ガラス等からなる透明基板を有するアレイ基板及びカラーフィルター
基板をスペーサー及びシール材を介して貼り合わせることにより作製されている。このシ
ール材を塗布する方法としては、ディスペンサーを用いてシール材を塗布するディスペン
サー塗布法とスクリーン印刷法とがあるが、最近ではディスペンサー塗布法が主流となっ
ている。ディスペンサー塗布法では、ディスペンサーに充填したシール材を均一な量で基
板上に塗布すること、及び、正確な位置に塗布することが重要である。
The liquid crystal display device is manufactured by bonding an array substrate having a transparent substrate made of glass or the like and a color filter substrate through a spacer and a sealing material. As a method for applying the sealant, there are a dispenser application method in which a sealant is applied using a dispenser and a screen printing method. Recently, the dispenser application method has become mainstream. In the dispenser coating method, it is important to apply a uniform amount of the sealing material filled in the dispenser onto the substrate and to apply the sealing material at an accurate position.

シール材が均一な量で、正確な位置に塗布されていないと、液晶表示装置の基板間のセ
ルギャップが均一に保たれずに歪みが生じるおそれがあり、また、シール材が表示領域に
浸入することによる表示不良が生じたり、シール材の塗布不良による液晶漏れが生じたり
するおそれがある。
If the sealing material is not applied in a uniform amount and at the correct position, the cell gap between the substrates of the liquid crystal display device may not be kept uniform and distortion may occur, and the sealing material may enter the display area. There is a risk that display failure may occur due to this, or liquid crystal leakage may occur due to poor application of the sealing material.

この課題を解決するために、下記特許文献1には、液晶表示装置の製造時のシール剤塗
布に好適なシール剤塗布装置に関する発明が開示されている。下記特許文献1に開示され
たシール剤塗布装置は、シール剤を収容し、下端にシール剤流下用の開口を有するシール
剤塗布装置において、シール剤液面には高圧エアにより高圧を作用させ、開口には真球状
ボールを転動可能に嵌入、支持させた塗布ノズルを備えたものである。
In order to solve this problem, Patent Document 1 listed below discloses an invention relating to a sealant application device suitable for applying a sealant during the manufacture of a liquid crystal display device. The sealing agent application device disclosed in the following Patent Document 1 accommodates the sealing agent, and in the sealing agent application device having an opening for flowing the sealing agent at the lower end, the high pressure air acts on the sealing agent liquid surface, The opening is provided with a coating nozzle in which a spherical ball is fitted and supported so as to be able to roll.

このような構成にすることで、下記特許文献1に開示されたシール剤塗布装置では、シ
ール剤の塗布中に真球状ボールは配向膜と接触していることとなるが、接触部においては
シール剤の塗布がなされており、しかも、真球状ボールは転動しているから、配向膜が損
傷されることはないとされている。また、塗布中には、真球状ボールの回転により、真球
状ボール近傍でのシール剤の密度はシール剤塗布方向よりもその反対側が低く、高圧に加
圧されたシール剤中の気泡は密度の低い方へ逃げ、シール剤塗布ノズルの外部に排出され
るので、塗布されるシール剤中に気泡が混入することはなく、シール剤は途切れることな
く塗布できるとされている。
By adopting such a configuration, in the sealing agent application apparatus disclosed in Patent Document 1 below, the spherical ball is in contact with the alignment film during application of the sealing agent, but the contact portion has a seal. Since the agent is applied and the spherical ball is rolling, the alignment film is not damaged. Also, during coating, due to the rotation of the spherical ball, the density of the sealing agent in the vicinity of the spherical ball is lower on the opposite side than the coating direction of the sealing agent, and the bubbles in the sealing agent pressurized to high pressure have a density. It escapes to the lower side and is discharged to the outside of the sealant application nozzle, so that bubbles are not mixed in the applied sealant, and the sealant can be applied without interruption.

また、従来から行われているディスペンサーによるシール材の塗布方法として、ディス
ペンサーの位置を制御することで、シール材を均一な量で、正確な位置に塗布する方法が
知られている。すなわち、Z軸方向の位置制御を施したディスペンサーを用いて、被塗布
体である基板をX−YステージによりX軸方向及びY軸方向に移動させてシール材を塗布
するものである。このときの重要なパラメータの中の一つに、ディスペンサーノズルと基
板との間の距離(クリアランス)の制御がある。このディスペンサーの位置制御方法を図
10を用いて説明する。
Further, as a conventional method of applying a sealing material by a dispenser, a method of applying a sealing material in a uniform amount at an accurate position by controlling the position of the dispenser is known. That is, using a dispenser that has been subjected to position control in the Z-axis direction, the substrate, which is an object to be coated, is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by an XY stage to apply the sealing material. One of the important parameters at this time is control of the distance (clearance) between the dispenser nozzle and the substrate. The dispenser position control method will be described with reference to FIG.

図10は従来のディスペンサーによるシール材の塗布工程を示した模式断面図である。   FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a sealing material application process using a conventional dispenser.

このディスペンサー50の位置制御方法では、ディスペンサー50と共に駆動されるレ
ーザー光発生装置51からディスペンサーノズル52の塗布進行方向(図10においては
手前側)に対して、前側・側面より、被塗布体である基板53に向けてレーザー光54を
照射し、ディスペンサーノズル52を挟んで反対側より反射光55を受光装置56で受光
し、ディスペンサーノズル52と基板53との間の距離Hを算出して制御している。
In this position control method of the dispenser 50, the laser beam generator 51 driven together with the dispenser 50 is the object to be coated from the front side and the side with respect to the direction of application of the dispenser nozzle 52 (front side in FIG. 10). The substrate 53 is irradiated with laser light 54, the reflected light 55 is received by the light receiving device 56 from the opposite side across the dispenser nozzle 52, and the distance H between the dispenser nozzle 52 and the substrate 53 is calculated and controlled. ing.

特開平05−269422号公報JP 05-269422 A

しかしながら、図10に示すように、被塗布体である基板53の表面は透明材料層57
で覆われているために平坦であるが、被塗布体である基板53のレーザー光54の反射箇
所は透明材料層57の下の基板表面58である。その基板表面58には金属膜で形成され
た配線パターン59が配置されているため、基板表面58には凸凹が生じている。レーザ
ー光54は、その基板表面58の凸凹により乱反射するため、受光装置56には基板表面
58の凹凸に対応した種々の反射光55が入射する。この乱反射した光は、ディスペンサ
ーノズル52と被塗布体である基板53との距離Hの算出に悪影響を生じさせるため、デ
ィスペンサーノズル52と被塗布体である基板53との距離Hを一定に保つことができな
くなり、シール材60を安定した状態で塗布することができなくなるおそれがある。
However, as shown in FIG. 10, the surface of the substrate 53 that is the object to be coated is a transparent material layer 57.
However, the laser beam 54 is reflected on the substrate surface 58 under the transparent material layer 57. Since a wiring pattern 59 formed of a metal film is disposed on the substrate surface 58, the substrate surface 58 is uneven. Since the laser beam 54 is irregularly reflected by the unevenness of the substrate surface 58, various reflected lights 55 corresponding to the irregularities of the substrate surface 58 are incident on the light receiving device 56. This irregularly reflected light adversely affects the calculation of the distance H between the dispenser nozzle 52 and the substrate 53 to be coated. Therefore, the distance H between the dispenser nozzle 52 and the substrate 53 to be coated is kept constant. The sealing material 60 may not be applied in a stable state.

また、上記特許文献1に開示されているシール剤塗布装置では、一応基板に形成された
金属製の各種配線には関係なくシール剤を塗布することができる。しかしながら、このシ
ール剤塗布装置では、シール剤を高圧で空気を吹き付けることによって押し出しているた
めにシール剤の塗布量は常に均一とはいえず、またシール材を真球状ボールを転動させて
塗布しているために正確な位置に安定してシール材を塗布することは困難である。
Moreover, in the sealing agent application | coating apparatus currently disclosed by the said patent document 1, a sealing agent can be apply | coated irrespective of various metal wiring formed in the board | substrate once. However, in this sealant application device, the sealant is extruded by blowing air at high pressure, so the amount of sealant applied is not always uniform, and the sealant is applied by rolling a spherical ball. Therefore, it is difficult to stably apply the sealing material at an accurate position.

本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、シール材の塗布パターンに沿ってレーザ
ー光が通過する経路と重畳する位置に光不透過性材料からなる膜を形成することで、基板
表面に形成されている金属製の各種配線等に影響されることなく安定してレーザー光を反
射させることができるようになること、及び、この反射光を受光することによってディス
ペンサーと透明材料層との間の距離が正確に算出されるので、ディスペンサーのZ軸方向
の位置制御を正確に行うことができ、透明材料層上へ安定した状態でシール材を塗布する
ことができることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and by forming a film made of a light-impermeable material at a position overlapping with a path through which laser light passes along the coating pattern of the sealing material, The laser beam can be stably reflected without being affected by various metal wirings formed, and between the dispenser and the transparent material layer by receiving the reflected light. The distance is accurately calculated, so that the position control of the dispenser in the Z-axis direction can be accurately performed, and the sealing material can be applied stably on the transparent material layer, and the present invention is completed. It has come to be.

すなわち、本発明の目的は、シール材が均一な量で、正確な位置に安定した状態で塗布
された液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
That is, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which a sealing material is applied in a uniform amount and stably in an accurate position, and a manufacturing method thereof.

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、対向面に少なくとも1層の透明材料層が形成された一対の基板を有し、前記一対の基板の周囲が前記透明材料層の表面に塗布されたシール材により張り合わされ、内部に液晶が封入された液晶表示装置において、前記透明材料層の表面又は下面には、前記シール材の塗布パターンに沿って、シール材塗布用ディスペンサーの位置決め用レーザー光が通過する経路と重畳する位置に、前記レーザー光を反射する光不透過性材料からなる膜が形成されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, a liquid crystal display device of the present invention has a pair of substrates having at least one transparent material layer formed on opposite surfaces, and the periphery of the pair of substrates is on the surface of the transparent material layer. They are bonded together by the applied sealing material, in a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed inside, on the surface or lower surface of the transparent material layer, along the coating pattern of the sealing material, the sheet Lumpur material coating dispensers A film made of a light-impermeable material that reflects the laser beam is formed at a position overlapping with a path through which the positioning laser beam passes.

本発明の液晶表示装置では、基板に形成された透明材料層の表面又は下面には、シール材の塗布パターンに沿って、シール材塗布用ディスペンサーの位置決め用レーザー光が通過する経路と重畳する位置に、レーザー光を反射する光不透過性材料からなる膜が形成されている。また、透明材料層は、通常、パッシベーション膜の表面に形成されている。パッシベーション膜の表面は少なくとも基板に形成されたゲート配線やソース配線等の金属製の各種配線(以下、単に「各種配線」という)の凹凸が均されており、しかも、透明材料層は、平坦化膜と称されることもあるように、その表面はより平坦化されている。すなわち、透明材料層の下面に形成された光不透過性材料からなる膜は各種配線よりも平坦化されており、更に透明材料層の表面に形成された光不透過性材料からなる膜は極めて平坦となっている。 In the liquid crystal display device of the present invention, the position overlapping the surface or the lower surface of the transparent material layer formed on the substrate along the path through which the positioning laser beam of the dispenser for sealing material passes passes along the coating pattern of the sealing material. In addition, a film made of a light-impermeable material that reflects laser light is formed. The transparent material layer is usually formed on the surface of the passivation film. The surface of the passivation film has at least unevenness of various metal wirings (hereinafter simply referred to as “various wirings”) such as gate wiring and source wiring formed on the substrate, and the transparent material layer is flattened. As sometimes referred to as a film, the surface is more planarized. That is, the film made of light-impermeable material formed on the lower surface of the transparent material layer is flattened more than various wirings, and the film made of light-impermeable material formed on the surface of the transparent material layer is extremely It is flat.

従って、本発明の液晶表示装置においては、各種配線の凹凸に影響されることなくレー
ザー光を安定して反射させることができるので、シール材を塗布しながら正確に光不透過
性材料からなる膜に反射されたレーザー光を受光することが可能になる。また、本発明の
液晶表示装置においては、ディスペンサーの先端部と透明材料層との距離が正確に算出さ
れるので、ディスペンサーの位置を正確に制御することができると共に、均一な量で正確
にシール材を塗布することができるようになる。そのため、本発明の液晶表示装置によれ
ば、シール材が均一な量で正確な位置に塗布されているので、一対の基板間のセルギャッ
プが均一に保たれ、また、シール材が液晶表示部に浸入することによる表示不良を抑制す
ることができ、更に、シール材の塗布不良による液晶漏れも抑制することができるように
なる。なお、この光不透過性材料からなる膜は、液晶表示装置のシール材の形成位置の内
側又は外側に適宜形成すればよい。
Accordingly, in the liquid crystal display device of the present invention, the laser beam can be stably reflected without being affected by the unevenness of various wirings, so that a film made of a light-impermeable material accurately while applying a sealing material. It becomes possible to receive the laser beam reflected by the laser beam. Further, in the liquid crystal display device of the present invention, since the distance between the tip of the dispenser and the transparent material layer is accurately calculated, the position of the dispenser can be accurately controlled, and a uniform amount can be accurately sealed. The material can be applied. Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the sealing material is applied at an accurate position in a uniform amount, the cell gap between the pair of substrates is kept uniform, and the sealing material is used in the liquid crystal display unit. It is possible to suppress display defects caused by entering the liquid crystal, and it is also possible to suppress liquid crystal leakage due to poor application of the sealing material. In addition, what is necessary is just to form the film | membrane which consists of this light-impermeable material suitably in the inner side or the outer side of the formation position of the sealing material of a liquid crystal display device.

なお、液晶表示装置においてはスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT:
Thin Film Transistor)の表面はパッシベーション膜で被覆されている。そして、縦電界
方式の液晶表示装置においては、パッシベーション膜の表面に層間樹脂膜が形成され、こ
の層間樹脂膜の表面に画素電極が形成されている形式のものが存在する。また、横電界方
式の液晶表示装置、例えば、フリンジ・フィールド・スイッチング(FFS:Fringe Fie
ld Switching)モードの液晶表示装置においては、パッシベーション膜の表面に層間樹脂
膜が形成され、この層間樹脂膜の表面に下電極、電極間絶縁膜及び上電極が順次積層され
ているものが存在する。このような液晶表示装置においては、シール材の塗布領域では、
縦電界方式のものであればパッシベーション膜及び層間樹脂膜が形成されており、横電界
方式のものであれば少なくともパッシベーション膜及び層間樹脂膜が形成されている。そ
のため、本発明の液晶表示装置は、透明樹脂膜の表面又は下面に光不透過性材料からなる
膜が形成されていれば上述のような所定の効果を奏することができるので、縦電界方式の
もの及び横電界方式のものの何れにも適用することができる。
Note that in a liquid crystal display device, a thin film transistor (TFT) as a switching element.
The surface of the thin film transistor is covered with a passivation film. In a vertical electric field type liquid crystal display device, there is a type in which an interlayer resin film is formed on the surface of a passivation film and a pixel electrode is formed on the surface of the interlayer resin film. Also, a horizontal electric field type liquid crystal display device, for example, fringe field switching (FFS)
In some ld Switching mode liquid crystal display devices, an interlayer resin film is formed on the surface of the passivation film, and a lower electrode, an interelectrode insulating film, and an upper electrode are sequentially stacked on the surface of the interlayer resin film. . In such a liquid crystal display device, in the application area of the sealing material,
In the case of the vertical electric field method, a passivation film and an interlayer resin film are formed, and in the case of the horizontal electric field method, at least a passivation film and an interlayer resin film are formed. Therefore, the liquid crystal display device of the present invention can exhibit the predetermined effect as described above if a film made of a light-impermeable material is formed on the surface or the lower surface of the transparent resin film. It can be applied to any of the above and the horizontal electric field type.

なお、レーザー光を利用した位置決め制御としては、例えばレーザーダイオード等のレ
ーザー光発生手段及び受光装置を備え、レーザー光発生手段から照射されたレーザー光を
シール材塗布位置の近傍の光不透過性材料からなる膜に反射させ、この反射光を受光装置
で受光することによってディスペンサーの先端と透明樹脂膜との間の距離を算出すること
により行われる。また、レーザー光発生手段及び受光装置を複数備えると、より正確にデ
ィスペンサーの先端と基板表面との間の距離を算出することができるようになる。
As positioning control using laser light, for example, a laser light generating means such as a laser diode and a light receiving device are provided, and the laser light irradiated from the laser light generating means is used as a light-impermeable material in the vicinity of the seal material application position The distance between the tip of the dispenser and the transparent resin film is calculated by reflecting the light on a film made of If a plurality of laser light generating means and light receiving devices are provided, the distance between the tip of the dispenser and the substrate surface can be calculated more accurately.

また、本発明に係る液晶表示装置においては、前記光不透過性材料からなる膜は金属で
形成されていることが好ましい。
In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the film made of the light impermeable material is made of metal.

金属材料は、反射率が高いためにレーザー光は効率よく反射されるから、高精度のディ
スペンサーの位置決めが可能となり、より安定したシール材の塗布ができるようになる。
なお、反射効率の高い金属の例としては、アルミニウム、アルミニウム合金、金、銀、銅
などがあるが、液晶表示装置の各種配線として使用されているアルミニウムやアルミニウ
ム合金が好ましい。
Since the metal material has a high reflectivity, the laser light is efficiently reflected, so that it is possible to position the dispenser with high accuracy and to apply a more stable sealing material.
Examples of metals having high reflection efficiency include aluminum, aluminum alloys, gold, silver, and copper. Aluminum and aluminum alloys that are used as various wirings for liquid crystal display devices are preferable.

また、本発明に係る液晶表示装置においては、前記光不透過性材料からなる膜はベタ状
に形成されていることが好ましい。
In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the film made of the light-impermeable material is formed in a solid shape.

本発明の液晶表示装置においては、不透過性材料からなる膜はベタ状にレーザー光の通
過する経路と重畳する位置に形成されているから、反射するレーザー光は途切れることな
く連続した反射光となるので、常に安定したディスペンサーの位置制御ができるようにな
る。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、より良好に上記効果を奏することができ
る液晶表示装置が得られる。
In the liquid crystal display device of the present invention, since the film made of an impermeable material is formed in a solid shape so as to overlap with the path through which the laser beam passes, the reflected laser beam is continuously reflected without interruption. Therefore, the position of the dispenser can always be controlled stably. Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to obtain a liquid crystal display device that can achieve the above-described effects more favorably.

また、本発明に係る液晶表示装置においては、前記光不透過性材料からなる膜は間欠的
に形成されているものとすることができる。
In the liquid crystal display device according to the present invention, the film made of the light impermeable material may be formed intermittently.

本発明の液晶表示装置においては、不透過性材料からなる膜が形成されている箇所と形成されていない箇所が存在していてもよい。不透過性材料からなる膜が形成されていない箇所では、不透過性材料からなる膜が形成されていた箇所で測定されたディスペンサーの先端と不透過性材料からなる膜との間の距離に基いてディスペンサーの位置を制御することができる。そのため、本発明の液晶表示装置によれば、不透過性材料からなる膜の形成を限られた狭い領域に行えば済むため、液晶表示装置の駆動時に、液晶分子に対する不透過性材料からなる膜に生じる電界の影響を抑制することができる。 In the liquid crystal display device of the present invention, there may be a portion where a film made of an impermeable material is formed and a portion where the film is not formed. At locations where a film made of impermeable material is not formed, it is based on the distance between the tip of the dispenser measured at the location where the film made of impermeable material is formed and the membrane made of impermeable material. it is possible to control the position of the dispenser have Dzu. Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the film made of the impermeable material may be formed in a limited narrow region, the film made of the impermeable material against the liquid crystal molecules when the liquid crystal display device is driven. It is possible to suppress the influence of the electric field generated on the substrate.

また、本発明に係る液晶表示装置においては、前記液晶表示装置は、フリンジフィールドスッチングモードで作動するものであり、前記透明材料層は、樹脂膜と前記樹脂膜の表面に形成された無機絶縁膜を含み、前記光不透過性材料からなる膜は、前記無機絶縁膜の表面又は前記無機絶縁膜と前記樹脂膜との間に形成されているものとすることができる。 In the liquid crystal display device according to the present invention, the liquid crystal display device is intended to operate in a fringe field S w Tsu quenching mode, the transparent material layer, an inorganic insulating formed on the surface of the resin film and the resin film The film including the film and made of the light-impermeable material may be formed on the surface of the inorganic insulating film or between the inorganic insulating film and the resin film.

FFSモードで作動する液晶表示装置においては、シール材塗布領域においても、透明
材料層として樹脂膜の表面に下電極と上電極との間に形成されている無機絶縁膜からなる
電極間絶縁膜を備えているものが存在する。このようなFFSモードの液晶表示装置にお
いては、パッシベーション膜、樹脂膜及び無機絶縁膜が透明材料層となるが、この無機材
料層の表面又は無機絶縁膜と樹脂膜との間に光不透過性材料からなる膜を形成しても、上
記の効果を奏する液晶表示装置が得られる。
In the liquid crystal display device operating in the FFS mode, an interelectrode insulating film made of an inorganic insulating film formed between the lower electrode and the upper electrode is formed on the surface of the resin film as a transparent material layer even in the sealing material application region. There is something to offer. In such an FFS mode liquid crystal display device, the passivation film, the resin film, and the inorganic insulating film serve as a transparent material layer, but the surface of the inorganic material layer or between the inorganic insulating film and the resin film does not transmit light. Even when a film made of a material is formed, a liquid crystal display device having the above-described effects can be obtained.

更に、上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置の製造方法は、
(1)液晶表示装置用の一対の基板であって、少なくとも前記一対の基板の一方の他方の
基板との対向面側には透明材料層が形成されており、かつ、前記透明材料層の表面又は下
面に、シール材の塗布パターンに沿って、シール材塗布用のディスペンサーの位置決め用
レーザー光が通過する経路と重畳する位置に、光不透過性材料からなる膜が形成されてい
る、液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、
(2)前記光不透過性材料からなる膜に前記シール材塗布用のディスペンサーの位置決
め用レーザー光を照射しつつ、前記光不透過性材料からなる膜からの反射光を受光して前
記ディスペンサーの先端位置と前記透明材料層との間の距離を求め、前記距離が一定とな
るように前記ディスペンサーの位置を制御しながらシール材を塗布する工程と、
(3)前記一対の基板を貼り合わせて液晶を封入する工程と、
を有することを特徴とする。
Furthermore, in order to achieve the above object, a method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention includes:
(1) A pair of substrates for a liquid crystal display device, wherein a transparent material layer is formed on at least the surface of the pair of substrates facing the other substrate, and the surface of the transparent material layer Alternatively, on the lower surface, a film made of a light-impermeable material is formed at a position overlapping with a path through which a positioning laser beam of a dispenser for applying a sealing material passes along a sealing material application pattern. Preparing a pair of substrates for the device;
(2) While irradiating the film made of the light-impermeable material with the positioning laser light of the dispenser for applying the sealing material, the reflected light from the film made of the light-impermeable material is received and Obtaining a distance between the tip position and the transparent material layer, and applying a sealing material while controlling the position of the dispenser so that the distance is constant;
(3) bonding the pair of substrates and enclosing the liquid crystal;
It is characterized by having.

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、容易に上記効果を奏する本発明の液晶表示
装置を製造することができるようになる。
According to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, it is possible to easily manufacture the liquid crystal display device of the present invention having the above effects.

本発明の実施形態1〜4に共通する液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal display device common to Embodiments 1-4 of this invention. 実施形態1〜3に共通する縦電界方式の液晶表示装置の1画素の拡大図である。It is an enlarged view of 1 pixel of the liquid crystal display device of the vertical electric field system common to Embodiments 1-3. 図2のIII−III線の断面図である。It is sectional drawing of the III-III line of FIG. 図1のIV−IV線の断面図である。It is sectional drawing of the IV-IV line of FIG. 図5Aは第1の実施形態のアレイ基板のマザー基板における状態の一部平面図であり、図5Bはマザー基板状のシール材の塗布工程の一部概略図である。FIG. 5A is a partial plan view of a state of the array substrate of the first embodiment on the mother substrate, and FIG. 5B is a partial schematic view of a mother substrate-like sealing material application process. ディスペンサーの進行方向からみた図6BのVI−VI線での断面図である。It is sectional drawing in the VI-VI line of FIG. 6B seen from the advancing direction of a dispenser. 図7Aは実施形態2にかかる液晶表示装置のアレイ基板の平面図であり、図7Bは図7AのVIIB部の拡大図であり、図7Cは図7AのVIIC部の拡大図である。7A is a plan view of an array substrate of a liquid crystal display device according to Embodiment 2, FIG. 7B is an enlarged view of a VIIB portion of FIG. 7A, and FIG. 7C is an enlarged view of a VIIC portion of FIG. 7A. 図8Aは実施形態3の液晶表示装置の図4に対応する断面図であり、図8Bは図6Bに対応する断面図である。8A is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4 of the liquid crystal display device of Embodiment 3, and FIG. 8B is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6B. 図9Aは実施形態4の液晶表示装置の図4に対応する断面図であり、図9Bは図6Bに対応する断面図である。9A is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4 of the liquid crystal display device of Embodiment 4, and FIG. 9B is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6B. 従来の液晶表示装置におけるディスペンサーによるシール材の塗布工程を示した模式断面図である。It is the schematic cross section which showed the application | coating process of the sealing material by the dispenser in the conventional liquid crystal display device.

以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置及びその製造方法を例示するもの
であって、本発明をこの液晶表示装置及びその製造方法に特定することを意図するもので
はなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものであ
る。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材
を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示
しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。なお、ここで述
べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線が形成された面を示す
ものとする。
Hereinafter, the best embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention is specified to the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof. And other embodiments within the scope of the claims are equally applicable. In each drawing used for the description in this specification, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member can be recognized on the drawing. However, it is not necessarily displayed in proportion to the actual dimensions. The “surface” of the array substrate and the color filter substrate described here indicates a surface on which various wirings are formed.

図1は本発明の実施形態1〜4に共通する液晶表示装置の平面図である。図2は実施形
態1〜3に共通する縦電界方式の液晶表示装置の1画素の拡大図である。図3は図2のIII
−III線の断面図である。図4は図1のIV−IV線の断面図である。図5Aは第1の実施形
態のアレイ基板のマザー基板における状態の一部平面図であり、図5Bはマザー基板状の
シール材の塗布工程の一部概略図である。図6はディスペンサーの進行方向からみた図6
BのVI−VI線での断面図である。図7Aは実施形態2にかかる液晶表示装置のアレイ基板
の平面図であり、図7Bは図7AのVIIB部の拡大図であり、図7Cは図7AのVIIC部の
拡大図である。図8Aは実施形態3の液晶表示装置の図4に対応する断面図であり、図8
Bは図6Bに対応する断面図である。図9Aは実施形態4の液晶表示装置の図4に対応す
る断面図であり、図9Bは図6Bに対応する断面図である。
FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device common to the first to fourth embodiments of the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of one pixel of a vertical electric field type liquid crystal display device common to the first to third embodiments. FIG. 3 shows the structure of FIG.
It is sectional drawing of the -III line. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG. FIG. 5A is a partial plan view of a state of the array substrate of the first embodiment on the mother substrate, and FIG. 5B is a partial schematic view of a mother substrate-like sealing material application process. 6 is a view of the dispenser as viewed from the direction of travel.
It is sectional drawing in the VI-VI line of B. 7A is a plan view of an array substrate of a liquid crystal display device according to Embodiment 2, FIG. 7B is an enlarged view of a VIIB portion of FIG. 7A, and FIG. 7C is an enlarged view of a VIIC portion of FIG. 7A. 8A is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4 of the liquid crystal display device of Embodiment 3, and FIG.
B is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6B. 9A is a cross-sectional view corresponding to FIG. 4 of the liquid crystal display device of Embodiment 4, and FIG. 9B is a cross-sectional view corresponding to FIG. 6B.

[実施形態1]
本実施形態1に係る液晶表示装置10は、図1に示すように、アレイ基板11及びカラ
ーフィルター基板26と、両基板11、26を貼り合わせるシール材33と、アレイ基板
11、カラーフィルター基板26及びシール材33により囲まれた領域に封入された液晶
LC(図4参照)と、から構成されたいわゆるCOG(Chip On Glass)型の液晶表示装
置である。この液晶表示装置10においては、シール材33により囲まれた領域が表示領
域42を形成しており、この表示領域42の外側、すなわちシール材33が塗布される領
域を含む液晶表示装置10の額縁部分が非表示領域43となる。また、本実施形態1にか
かる液晶表示装置10のアレイ基板11の透明樹脂膜(層間膜)20(図3及び4参照)が
形成されている。ここではこの透明樹脂膜20が本発明の透明材料層に対応し、この透明
樹脂膜20の表面には、シール材33の形成位置の内側に金属膜39がベタ状に形成され
ている。
[Embodiment 1]
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment includes an array substrate 11 and a color filter substrate 26, a sealing material 33 for bonding the substrates 11 and 26, and the array substrate 11 and the color filter substrate 26. And a liquid crystal LC (see FIG. 4) sealed in a region surrounded by the sealing material 33, a so-called COG (Chip On Glass) type liquid crystal display device. In the liquid crystal display device 10, a region surrounded by the sealing material 33 forms a display region 42, and the frame of the liquid crystal display device 10 includes the outside of the display region 42, that is, the region to which the sealing material 33 is applied. The part becomes a non-display area 43. Further, a transparent resin film (interlayer film) 20 (see FIGS. 3 and 4) of the array substrate 11 of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment is formed. Here, the transparent resin film 20 corresponds to the transparent material layer of the present invention, and a metal film 39 is formed on the surface of the transparent resin film 20 in a solid shape inside the position where the sealing material 33 is formed.

アレイ基板11は、ガラス等で形成された矩形状の第1の透明基板12の表面に液晶駆
動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板11はカラーフィルター基板
26よりもその長手方向の長さが長く、両基板11、26を貼り合わせた際に外部に延在
する延在部12aが形成されるようになっており、この延在部12aには駆動信号を出力
するICチップあるいはLSI等からなるドライバーDrが設けられている。
The array substrate 11 is obtained by forming various wirings for driving liquid crystal on the surface of a rectangular first transparent substrate 12 made of glass or the like. The array substrate 11 is longer in the longitudinal direction than the color filter substrate 26, and an extended portion 12a extending to the outside when the substrates 11 and 26 are bonded together is formed. The extension portion 12a is provided with a driver Dr made of an IC chip or an LSI that outputs a drive signal.

図2に示すように、アレイ基板11の表示領域42内には、マトリクス状に複数本の走
査線13及び信号線14が形成されており、この複数本の走査線13及び信号線14は、
表示領域42外まで延出されて複数本のゲート引回し線及びソース引回し線にそれぞれ接
続されている。また、このゲート引回し線とソース引回し線は表示領域42外を引回され
て、その一端がドライバーDrに接続されている。
As shown in FIG. 2, in the display area 42 of the array substrate 11, a plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 are formed in a matrix, and the plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 are
It extends outside the display area 42 and is connected to a plurality of gate lead lines and source lead lines. The gate lead line and the source lead line are routed outside the display area 42 and one end thereof is connected to the driver Dr.

更に、アレイ基板の表示領域42内には、複数本の走査線13及び信号線14に加えて
、複数本の走査線13間に設けられこの走査線13と平行な複数本の補助容量線15と、
ソース電極S、ゲート電極G、ドレイン電極D、及び半導体層16からなるスイッチング
素子としてのTFT17と、走査線13と信号線14とで囲まれた領域を覆う画素電極2
1と、が設けられている。また、複数本の走査線13及び信号線14により囲まれた領域
が1画素領域PAを形成している。
Further, in the display area 42 of the array substrate, in addition to the plurality of scanning lines 13 and the signal lines 14, a plurality of auxiliary capacitance lines 15 provided between the plurality of scanning lines 13 and parallel to the scanning lines 13. When,
A TFT 17 as a switching element composed of a source electrode S, a gate electrode G, a drain electrode D, and a semiconductor layer 16, and a pixel electrode 2 covering a region surrounded by the scanning line 13 and the signal line 14
1 is provided. Further, a region surrounded by the plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 forms one pixel region PA.

次に、主に図2及び図3を参照して、アレイ基板11の表面に形成された各種配線等の
製造工程について簡単に説明する。先ず、透明基板12上に所定厚のアルミニウム、モリ
ブデン、クロム、チタンあるいはこれらの合金からなる導電物質を成膜する。そして、フ
ォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることによりその一部をエッチング除去し
て、行方向に伸びる複数本の走査線13と、走査線13から延在するゲート電極Gと、こ
れら複数本の走査線13間に位置する補助容量線15と、補助容量線15の一部を拡幅し
て形成される補助容量電極15aと、ゲート引回し線と、コモン引回し線(図示省略)と
、を形成する。
Next, with reference mainly to FIG. 2 and FIG. 3, a manufacturing process of various wirings formed on the surface of the array substrate 11 will be briefly described. First, a conductive material made of aluminum, molybdenum, chromium, titanium, or an alloy thereof having a predetermined thickness is formed on the transparent substrate 12. Then, by patterning using a photolithography method, a part thereof is removed by etching, a plurality of scanning lines 13 extending in the row direction, a gate electrode G extending from the scanning line 13, and the plurality of scanning lines. An auxiliary capacitance line 15 located between the lines 13, an auxiliary capacitance electrode 15a formed by expanding a part of the auxiliary capacitance line 15, a gate lead line, and a common lead line (not shown) are formed. To do.

次に、前記工程によって走査線13や補助容量線15等が形成された透明基板12上を
覆うように所定厚のゲート絶縁膜18が成膜される。このゲート絶縁膜18としては窒化
ケイ素、酸化ケイ素等からなる透明な無機絶縁性材料が用いられる。
Next, a gate insulating film 18 having a predetermined thickness is formed so as to cover the transparent substrate 12 on which the scanning lines 13 and the auxiliary capacitance lines 15 are formed by the above process. As the gate insulating film 18, a transparent inorganic insulating material made of silicon nitride, silicon oxide or the like is used.

次に、ゲート絶縁膜18上にアモルファスシリコン(a−Si)等からなる半導体層を
成膜する。そして、ゲート電極Gを覆う部分を残して半導体層をエッチング除去し、TF
T17の一部となる半導体層16を形成する。そして同様の手法により、上述の工程で複
数の層が形成された透明基板12上に更に導電物質を成膜し、走査線13に交差する方向
に延びる複数本の信号線14と、この信号線14から延設されて半導体層16に部分的に
重畳するように形成されたソース電極Sと、補助容量電極15a上を覆うとともに一端が
半導体層16に部分的に重畳するように形成されたドレイン電極Dと、ソース引回し線(
図示省略)とをパターニングする。これにより、透明基板12の走査線13と信号線14
との交差部近傍にTFT17が形成される。
Next, a semiconductor layer made of amorphous silicon (a-Si) or the like is formed on the gate insulating film 18. Then, the semiconductor layer is removed by etching, leaving a portion covering the gate electrode G, and TF
A semiconductor layer 16 to be a part of T17 is formed. Further, by the same method, a conductive material is further formed on the transparent substrate 12 on which a plurality of layers are formed in the above-described process, and a plurality of signal lines 14 extending in a direction intersecting the scanning lines 13 and the signal lines are formed. A source electrode S extending from 14 and formed so as to partially overlap the semiconductor layer 16, and a drain formed so as to cover the auxiliary capacitance electrode 15a and have one end partially overlapped with the semiconductor layer 16. Electrode D and source lead line (
(Not shown). Thereby, the scanning line 13 and the signal line 14 of the transparent substrate 12 are displayed.
A TFT 17 is formed in the vicinity of the intersection with the.

更に、これらの各種配線を覆うように表面の安定化のための酸化ケイ素や窒化ケイ素等
からなる無機絶縁性材料からなるパッシベーション膜19を成膜し、続いて、アレイ基板
11の表面を平坦化するための有機樹脂材料からなる層間膜20を成膜する。このパッシ
ベーション膜19及び層間膜20が本発明の透明材料層に対応する。なお、この層間膜2
0及びパッシベーション膜19の補助容量電極15a上に位置する部分には後述する画素
電極21とドレイン電極Dとを電気的に接続するためのコンタクトホールCHが設けられ
ている。そして、走査線13及び信号線14によって囲まれた1画素領域PAごとに例え
ばITO(Indium Tin Oxide)又はIZO(Indium Zinc Oxide)からなる画素電極21
を形成する。
Further, a passivation film 19 made of an inorganic insulating material made of silicon oxide or silicon nitride for stabilizing the surface is formed so as to cover these various wirings, and then the surface of the array substrate 11 is flattened. An interlayer film 20 made of an organic resin material is formed. The passivation film 19 and the interlayer film 20 correspond to the transparent material layer of the present invention. This interlayer film 2
A contact hole CH for electrically connecting a pixel electrode 21 and a drain electrode D, which will be described later, is provided in a portion of the passivation film 19 located on the auxiliary capacitance electrode 15a. A pixel electrode 21 made of, for example, ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxide) is provided for each pixel area PA surrounded by the scanning lines 13 and the signal lines 14.
Form.

更に、図4に示すように、本実施形態1にかかる液晶表示装置10ではシール材33を
形成する内側に光不透過性材料からなる膜としての金属膜39をベタ状に形成する。この
金属膜39は後述するレーザー光40を反射させるためのものであり、金属膜39の材料
はレーザー光40を反射させることができるものであればよいので、液晶表示装置の各種
配線等に普通に使用されているアルミニウムやアルミニウム合金などの反射率の高い材料
を用いることができる。この金属膜39の形成は、フォトリソグラフィー法及びエッチン
グ法によって形成することができる。以上の工程により本実施形態1のアレイ基板11が
製造される。
Further, as shown in FIG. 4, in the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, a metal film 39 as a film made of a light-impermeable material is formed in a solid shape inside the seal material 33. This metal film 39 is for reflecting a laser beam 40 to be described later, and the metal film 39 may be any material as long as it can reflect the laser beam 40. Therefore, the metal film 39 is usually used for various wirings of a liquid crystal display device. A material having high reflectivity such as aluminum or aluminum alloy used in the above can be used. The metal film 39 can be formed by a photolithography method and an etching method. The array substrate 11 of the first embodiment is manufactured through the above steps.

カラーフィルター基板26は、図3に示すように、ガラス等で形成される第2の透明基
板27上に、アレイ基板11の画素領域PAに合わせて形成された樹脂材、例えば黒色色
素を含有した樹脂からなる遮光膜28と、この遮光膜28により囲まれた領域に設けられ
る赤(R)、緑(G)、青(B)等のカラーフィルター層29とが設けられている。ただ
し、本発明はこれに限定されることなく、白黒表示であればカラーフィルター層がない場
合もあるし、色補完型のカラー表示の場合には三原色ではなく3種類以上のカラーフィル
ター層で構成する場合もある。
As shown in FIG. 3, the color filter substrate 26 contains a resin material, for example, a black pigment, formed on the second transparent substrate 27 made of glass or the like so as to match the pixel area PA of the array substrate 11. A light shielding film 28 made of resin and a color filter layer 29 of red (R), green (G), blue (B), etc. provided in a region surrounded by the light shielding film 28 are provided. However, the present invention is not limited to this, and there may be no color filter layer for black-and-white display. In the case of color-complementary color display, it is composed of three or more color filter layers instead of the three primary colors. There is also a case.

このカラーフィルター基板26に設けられる遮光膜28は、フォトリソグラフィー法等
を用いて形成される。また、カラーフィルター層29は、遮光膜28により格子状に形成
される複数の開口に対し、一方向に直列配置された複数個の開口毎に各色のカラーフィル
ター層29で覆ういわゆるストライプ配列で形成されている。
The light shielding film 28 provided on the color filter substrate 26 is formed using a photolithography method or the like. The color filter layer 29 is formed in a so-called stripe arrangement in which a plurality of openings arranged in series in one direction are covered with a color filter layer 29 of each color for a plurality of openings formed in a lattice pattern by the light shielding film 28. Has been.

次に、遮光膜28及びカラーフィルター層29の表面にはオーバーコート層30が成膜
される。このオーバーコート層30は、透明樹脂から構成されるシール材33との密着性
の高い材料で形成されており、カラーフィルター層29から不純物が液晶層内に拡散して
液晶が劣化しないようにするために形成されるものである。
Next, an overcoat layer 30 is formed on the surfaces of the light shielding film 28 and the color filter layer 29. The overcoat layer 30 is formed of a material having high adhesion to the sealing material 33 made of a transparent resin, and prevents impurities from diffusing from the color filter layer 29 into the liquid crystal layer to deteriorate the liquid crystal. It is formed for this purpose.

そして、オーバーコート層30が形成された基板26上には、表示領域42を覆うよう
に、ITOやIZO等の透明導電材からなる共通電極31が設けられている。また、この
共通電極31の各隅部の少なくとも1箇所は表示領域42外まで延出した延在部12aと
なっており、この延在部12aはコンタクト材(図1参照)32を介してアレイ基板11
上の図示しないコモン引回し線に接続され、ドライバーDrに電気的に接続するようにな
っている。
A common electrode 31 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is provided on the substrate 26 on which the overcoat layer 30 is formed so as to cover the display region 42. Further, at least one portion of each corner of the common electrode 31 is an extended portion 12a extending to the outside of the display region 42, and this extended portion 12a is arrayed via a contact material (see FIG. 1) 32. Substrate 11
It is connected to a common lead line (not shown) and is electrically connected to the driver Dr.

シール材33は、アレイ基板11及びカラーフィルター基板26の外周囲同士を貼り合
わせるものであって、熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂材によって形成される。この
シール材33は、アレイ基板11の表示領域42の外縁部に沿って塗布されるとともに、
その一部は液晶注入口34を形成するためにアレイ基板11の側端部に向かって延びてい
る。なお、シール材33の塗布工程については後述する。
The sealing material 33 is used to bond the outer peripheries of the array substrate 11 and the color filter substrate 26 and is formed of a thermosetting or ultraviolet curable resin material. The sealing material 33 is applied along the outer edge of the display area 42 of the array substrate 11,
A part thereof extends toward the side edge of the array substrate 11 in order to form the liquid crystal injection hole 34. The application process of the sealing material 33 will be described later.

アレイ基板11及びカラーフィルター基板26は、互いの表面が対向するように配置し
た状態で、例えばカラーフィルター基板26の表示領域42内に柱状スペーサー(図示省
略)を配設するとともに、表示領域42の外周囲に亘って塗布されたシール材33によっ
て張り合わされ、一体化される。そして、液晶注入口34から液晶LCを注入し、液晶注
入口34を封止材35により封止することで本実施形態1にかかる液晶表示装置10が組
み立てられる。
The array substrate 11 and the color filter substrate 26 are arranged so that their surfaces face each other. For example, columnar spacers (not shown) are disposed in the display region 42 of the color filter substrate 26, and They are bonded together by a sealing material 33 applied over the outer periphery. The liquid crystal display device 10 according to the first embodiment is assembled by injecting the liquid crystal LC from the liquid crystal injection port 34 and sealing the liquid crystal injection port 34 with the sealing material 35.

次に、本実施形態1にかかる液晶表示装置10のシール材の塗布工程を図5及び図6を
参照して説明する。
Next, a sealing material application process of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.

シール材33は、例えばアレイ基板11の表示領域42の外縁部に沿って専用のディス
ペンサー36によって塗布され、その一部は液晶注入口34を形成するためにアレイ基板
11の側端部に向かって延びている。なお、アレイ基板11の製造工程においてアレイ基
板11はマザー基板11M上で複数形成するため、シール材33は図5Aに示すようにい
わゆる一筆書きの要領で複数のアレイ基板11に跨って塗布されていく。また、このディ
スペンサー36にはディスペンサー36の位置制御のためのレーザー光発生装置37と受
光装置38が備えられている(図5B参照)。
The seal material 33 is applied by, for example, a dedicated dispenser 36 along the outer edge of the display area 42 of the array substrate 11, and a part of the seal material 33 is directed toward the side edge of the array substrate 11 to form the liquid crystal injection port 34. It extends. Since a plurality of array substrates 11 are formed on the mother substrate 11M in the manufacturing process of the array substrate 11, the sealing material 33 is applied across the plurality of array substrates 11 in a so-called one-stroke manner as shown in FIG. 5A. Go. The dispenser 36 includes a laser light generator 37 and a light receiver 38 for controlling the position of the dispenser 36 (see FIG. 5B).

本実施形態1にかかる液晶表示装置10では、上述したようにシール材33の形成され
る内側に金属膜39がベタ状に形成されている。この金属膜39はシール材33のディス
ペンサー36の位置決め用レーザー光40(図6参照)が通過する経路と重畳する位置、
例えばシール材33の形成位置の内側に沿って形成されている。
In the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, as described above, the metal film 39 is formed in a solid shape on the inner side where the sealing material 33 is formed. The metal film 39 overlaps the path through which the positioning laser beam 40 (see FIG. 6) of the dispenser 36 of the sealing material 33 passes,
For example, it is formed along the inside of the formation position of the sealing material 33.

シール材33を塗布する工程では、図5Bに示すように、ディスペンサー36でシール
材33を塗布する際、図6に示すように、ディスペンサー36の位置決め用レーザー光4
0をレーザー光発生装置37から照射し層間膜20上に形成した金属膜39によって反射
させ、この反射光41を受光装置38で受光することで、金属膜39の厚さを考慮の上で
、ディスペンサー36の先端部と層間膜20との間の距離Hを算出している。なお、図5
Bに示す矢印Pはディスペンサー36の進行方向を表している。そして、ディスペンサー
36は、この算出した距離Hを一定に維持しながらシール材33をシール材形成位置に塗
布していく。
In the step of applying the sealing material 33, as shown in FIG. 5B, when the sealing material 33 is applied by the dispenser 36, as shown in FIG.
0 is irradiated from the laser light generator 37 and reflected by the metal film 39 formed on the interlayer film 20, and the reflected light 41 is received by the light receiving device 38, so that the thickness of the metal film 39 is taken into consideration. A distance H between the tip of the dispenser 36 and the interlayer film 20 is calculated. Note that FIG.
An arrow P shown in B represents the traveling direction of the dispenser 36. The dispenser 36 applies the sealing material 33 to the sealing material forming position while keeping the calculated distance H constant.

また、金属製の各種配線Lはその上に形成された層間膜20の表面の平坦性に影響を与
えるほど厚くないため、通常、層間膜20の表面は平坦であり、その層間膜20上に形成
された金属膜39の表面も平坦となる。従って、本実施形態1の液晶表示装置10によれ
ば、金属膜が平坦な層間膜20上に形成されているから、レーザー光40の乱反射が抑制
されるので、かかる観点からしても層間膜20上へ均一な量で正確にシール材33が塗布
された液晶表示装置10が得られる。また、この金属膜39はベタ状に形成されているの
で、レーザー光を途切れることなく安定して反射させることができる。更に、金属膜39
は、反射率が高いため、このことによってもレーザー光を安定して反射させることができ
る。なお、図5Bでは、レーザー光発生装置と受光装置を2対用いた例を示したが、その
目的はより正確な距離を算出することができるようにするためであり、一対のみでもよい
Further, since the various metal wirings L are not so thick as to affect the flatness of the surface of the interlayer film 20 formed thereon, the surface of the interlayer film 20 is usually flat and is not formed on the interlayer film 20. The surface of the formed metal film 39 is also flat. Therefore, according to the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, since the metal film is formed on the flat interlayer film 20, the irregular reflection of the laser light 40 is suppressed. Thus, the liquid crystal display device 10 in which the sealing material 33 is accurately applied in a uniform amount onto 20 is obtained. Further, since the metal film 39 is formed in a solid shape, the laser beam can be reflected stably without interruption. Further, the metal film 39
Since the reflectance is high, the laser light can be stably reflected also by this. FIG. 5B shows an example in which two pairs of laser light generators and light receivers are used. However, the purpose is to calculate a more accurate distance, and only one pair may be used.

以上より、本実施形態1にかかる液晶表示装置10によれば、シール材33が均一な量
で正確な位置に塗布されるので、液晶表示装置10の一対の基板間のセルギャップは均一
に保たれ、また、シール材33が液晶表示領域42に浸入することによる表示不良を抑制
することができる。更に、シール材33の塗布不良による液晶漏れも抑制することができ
るようになる。
As described above, according to the liquid crystal display device 10 according to the first exemplary embodiment, since the sealing material 33 is applied in a precise amount at a uniform amount, the cell gap between the pair of substrates of the liquid crystal display device 10 is kept uniform. In addition, display defects caused by the sealing material 33 entering the liquid crystal display region 42 can be suppressed. Furthermore, liquid crystal leakage due to poor application of the sealing material 33 can be suppressed.

[実施形態2]
実施形態1の液晶表示装置10では、光不透過性材料からなる膜としての金属膜39を
ベタ状に形成した例を示したが、実施形態2の液晶表示装置10Aでは、金属膜39を間
欠的に形成した例について説明する。なお、実施形態2の液晶表示装置10Aは、実施形
態1の液晶表示装置10とは金属膜の形成形態が異なるのみなので、実施形態1の液晶表
示装置10と同じ構成部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。
[Embodiment 2]
In the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, an example in which the metal film 39 as a film made of a light-impermeable material is formed in a solid shape is shown. However, in the liquid crystal display device 10A of the second embodiment, the metal film 39 is intermittently formed. A typical example will be described. Note that the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment is different from the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment only in the formation of the metal film, and therefore the same reference numerals are used for the same components as the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment. The detailed description is omitted.

実施形態1の液晶表示装置10における金属膜39は、上述したように、レーザー光4
0を安定して反射させるために、シール材33のディスペンサー36の位置決め用レーザ
ー光40が通過する経路と重畳する位置にベタ状に形成されている。これは、アレイ基板
11に形成された金属製の各種配線Lにより、レーザー光40が乱反射等するのを抑制す
るためである。しかし、アレイ基板11に金属製の各種配線Lが存在しない箇所や層間膜
20上に凹凸がない箇所では逐一ディスペンサー36の先端部とアレイ基板11の層間膜
20との距離Hを算出する必要はない。そこで、実施形態2の液晶表示装置10Aでは、
距離の算出が必要な部分にのみ金属膜39を間欠的に形成した。
As described above, the metal film 39 in the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment has the laser beam 4.
In order to stably reflect 0, the sealing material 33 is formed in a solid shape at a position overlapping with a path through which the positioning laser light 40 of the dispenser 36 passes. This is to prevent the laser light 40 from being irregularly reflected by the various metal wirings L formed on the array substrate 11. However, it is necessary to calculate the distance H between the tip end portion of the dispenser 36 and the interlayer film 20 of the array substrate 11 in places where various metal wirings L do not exist on the array substrate 11 or where there are no irregularities on the interlayer film 20. Absent. Therefore, in the liquid crystal display device 10A of the second embodiment,
The metal film 39 was intermittently formed only in the portions where the distance needs to be calculated.

図7A〜図7Cに示すように、実施形態2の液晶表示装置10Aでは、層間膜20上に
形成された金属膜39には間欠部39aが形成されている。この場合、金属膜39が形成
されている箇所では、実施形態1の場合と同様に距離Hの算出を行いディスペンサー36
の距離Hを制御するが、金属膜39の間欠部39aでは、距離Hの算出を行わず金属膜3
9が形成されている直前の箇所で算出した距離Hを維持してシール材33を塗布する。こ
の間欠部39aを形成することにより、金属膜39の形成を限られた狭い領域に行えば済
むため、液晶表示装置10の駆動時に、液晶分子に対する金属膜39によって生じた電界
の影響を抑制することができる。
As shown in FIGS. 7A to 7C, in the liquid crystal display device 10 </ b> A according to the second embodiment, an intermittent portion 39 a is formed in the metal film 39 formed on the interlayer film 20. In this case, at the place where the metal film 39 is formed, the distance H is calculated as in the case of the first embodiment, and the dispenser 36 is calculated.
However, the distance H is not calculated at the intermittent portion 39a of the metal film 39.
The sealing material 33 is applied while maintaining the distance H calculated at the location immediately before 9 is formed. By forming the intermittent portion 39a, the formation of the metal film 39 can be performed in a limited narrow region. Therefore, when the liquid crystal display device 10 is driven, the influence of the electric field generated by the metal film 39 on the liquid crystal molecules is suppressed. be able to.

なお、この金属膜39の形成方法は、上記製造工程で述べたのと同様にフォトリソグラ
フィー法及びエッチング法によって行うことができる。また、金属膜39を連続的に形成
した方がよい場所は、ディスペンサー36の距離Hを正確に算出する必要がある場所、例
えば例えば、シール材33の形成場所の曲がり角(図7B参照)や、各種配線がシール材
33の塗布方向に対して横断している位置(図7A参照)である。各種配線がシール材3
3の塗布方向と平行に形成されている箇所(図7C参照)では間欠的に形成しても、ディ
スペンサー36の距離Hの制御に誤差は生じ難い。
The metal film 39 can be formed by a photolithography method and an etching method in the same manner as described in the above manufacturing process. Further, the place where the metal film 39 is preferably formed continuously is a place where the distance H of the dispenser 36 needs to be accurately calculated, for example, a corner of the place where the seal material 33 is formed (see FIG. 7B), This is a position (see FIG. 7A) where various wirings cross the application direction of the sealing material 33. Various wiring is sealing material 3
Even if it is formed intermittently at a portion (see FIG. 7C) formed in parallel with the coating direction 3, an error hardly occurs in the control of the distance H of the dispenser 36.

以上より、本実施形態2の液晶表示装置10Aでは、金属膜39が形成されている箇所と形成されていない箇所39aが存在するが、金属膜39が形成されていない箇所39aでは、金属膜39が形成されていた箇所で測定されたディスペンサー36の先端と金属膜39との間の距離Hに基いてディスペンサー36の位置を制御することができる。そのため、本実施形態2の液晶表示装置10Aによれば、金属膜39の形成を限られた狭い領域に行えば済むため、液晶表示装置10Aの駆動時に、金属膜39が帯電することによって生じた液晶分子に対する電界の影響を抑制することができる。 As described above, in the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, there are the portions 39a where the metal film 39 is formed and the portions 39a where the metal film 39 is not formed. it is possible to control the position of the dispenser 36 but with have groups Dzu the distance H between the tip and the metal film 39 of the dispenser 36 as measured at a place where it has been formed. For this reason, according to the liquid crystal display device 10A of the second embodiment, the metal film 39 may be formed in a limited narrow region, and thus the metal film 39 is charged when the liquid crystal display device 10A is driven. The influence of the electric field on the liquid crystal molecules can be suppressed.

[実施形態3]
実施形態1の液晶表示装置10では、光不透過性材料からなる膜としての金属膜39を
層間膜20上に形成した例を示したが、実施形態3の液晶表示装置10Bでは金属膜39
を第1の透明基板12上に形成されたパッシベーション膜19と層間膜20との間に形成
した例を示す。なお、実施形態3の液晶表示装置10Bは、実施形態1の液晶表示装置1
0とは金属膜39の形成位置が異なるのみなので、実施形態1の液晶表示装置10と同じ
構成部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明は省略する。
[Embodiment 3]
In the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, an example in which the metal film 39 as a film made of a light-impermeable material is formed on the interlayer film 20 is shown. However, in the liquid crystal display device 10B of the third embodiment, the metal film 39 is shown.
Is formed between the passivation film 19 and the interlayer film 20 formed on the first transparent substrate 12. The liquid crystal display device 10B according to the third embodiment is the same as the liquid crystal display device 1 according to the first embodiment.
Since only the formation position of the metal film 39 is different from 0, the same components as those of the liquid crystal display device 10 of Embodiment 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

実施形態3にかかる液晶表示装置10Bでは、金属膜39を形成する位置は実施形態1
の液晶表示装置10の場合と同じであるが、図8Aに示すように、金属膜39はアレイ基
板11に積層されたパッシベーション膜19と層間膜20との間に形成されている。パッ
シベーション膜19の表面は少なくとも第1の透明基板12に形成されたゲート配線やソ
ース配線等の金属製の各種配線Lの凹凸が均されているから、各種配線Lの凹凸の影響は
少なく、シール材33を塗布しながら正確に金属膜39に反射されたレーザー光41を受
光することが可能になる。
In the liquid crystal display device 10B according to the third embodiment, the position where the metal film 39 is formed is the first embodiment.
However, as shown in FIG. 8A, the metal film 39 is formed between the passivation film 19 and the interlayer film 20 stacked on the array substrate 11. Since the surface of the passivation film 19 has at least the unevenness of the metal wirings L such as the gate wiring and the source wiring formed on the first transparent substrate 12, the influence of the unevenness of the various wirings L is small, and the seal It becomes possible to receive the laser beam 41 accurately reflected on the metal film 39 while applying the material 33.

そのため、層間膜20の厚さは既知であるから、実施形態3にかかる液晶表示装置10
Bでもディスペンサー36の先端部と透明樹脂膜20との間の距離Hを正確に算出するこ
とができ、ディスペンサー36の位置を正確に制御することができるようになると共に、
均一な量で正確にシール材33を塗布することができるようになる。また、金属膜39の
表面は層間膜20で覆われているので、傷やよごれなどから保護することができる。
Therefore, since the thickness of the interlayer film 20 is known, the liquid crystal display device 10 according to the third embodiment.
Even in B, the distance H between the tip of the dispenser 36 and the transparent resin film 20 can be accurately calculated, and the position of the dispenser 36 can be accurately controlled.
The sealing material 33 can be accurately applied in a uniform amount. Moreover, since the surface of the metal film 39 is covered with the interlayer film 20, it can be protected from scratches and dirt.

[実施形態4]
上記実施形態1〜3の液晶表示装置10、10A及び10Bとしては、TN(Twisted
Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、MVA(Multi-domain Vertical
Alignment)モード等の縦電界方式の液晶表示装置について説明したが、実施形態4では
、横電界方式のFFSモードの液晶表示装置に適用した例を示す。なお、実施形態4の液
晶表示装置10Cにおいては、実施形態1の液晶表示装置10と同じ構成部分には同一の
参照符号を付してその詳細な説明は省略する。
[Embodiment 4]
As the liquid crystal display devices 10, 10 </ b> A, and 10 </ b> B of the first to third embodiments, TN (Twisted
Nematic) mode, VA (Vertical Alignment) mode, MVA (Multi-domain Vertical)
Although the vertical electric field type liquid crystal display device such as the alignment mode has been described, Embodiment 4 shows an example applied to a horizontal electric field type FFS mode liquid crystal display device. Note that in the liquid crystal display device 10C of the fourth embodiment, the same components as those of the liquid crystal display device 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

実施形態4にかかるFFSモードの液晶表示装置10Cは、図9Aに示すように、アレ
イ基板1には、パッシベーション膜19、層間膜20が形成されており、この層間膜20
の表面には、ITOやIZO等の透明導電性材料からなる下電極22と、窒化ケイ素等の
無機絶縁膜(電極間絶縁膜ともいう)23と、ITOやIZO等の透明導電性材料からなる
上電極24が形成されている。なお、上電極24には、画素毎に複数のスリット状の開口
25が形成されている。一方、カラーフィルター基板26には、電極は形成されていない
。なお、図示は省略するが、下電極22は第1の透明基板12に形成されたコモン配線に
、上電極24はTFTのドレイン電極にそれぞれコンタクトホールを介して電気的に接続
されている。
In the FFS mode liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, as shown in FIG. 9A, a passivation film 19 and an interlayer film 20 are formed on the array substrate 1, and this interlayer film 20 is formed.
Are formed of a transparent conductive material such as ITO or IZO, a lower electrode 22 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO, an inorganic insulating film 23 (also referred to as an interelectrode insulating film) such as silicon nitride, and a transparent conductive material such as ITO or IZO. An upper electrode 24 is formed. The upper electrode 24 has a plurality of slit-shaped openings 25 for each pixel. On the other hand, no electrode is formed on the color filter substrate 26. Although not shown, the lower electrode 22 is electrically connected to the common wiring formed on the first transparent substrate 12, and the upper electrode 24 is electrically connected to the drain electrode of the TFT via a contact hole.

実施形態4にかかる液晶表示装置10Cでは、光不透過性材料からなる膜としての金属
膜39は、層間膜20と無機絶縁膜23との間に形成されている。この金属膜39も、フ
ォトリソグラフィー法及びエッチング法によって形成することができる。このように形成
された金属膜39は、層間膜20の表面に形成されているので、実施形態1の液晶表示装
置10で説明したのと同様に、表面は平らになっている。
In the liquid crystal display device 10 </ b> C according to the fourth embodiment, the metal film 39 as a film made of a light impermeable material is formed between the interlayer film 20 and the inorganic insulating film 23. The metal film 39 can also be formed by a photolithography method and an etching method. Since the metal film 39 formed in this way is formed on the surface of the interlayer film 20, the surface is flat as described in the liquid crystal display device 10 of the first embodiment.

従って、実施形態4にかかる液晶表示装置10Cにおいても、図9Bに示すように、ア
レイ基板11に形成された金属製の各種配線Lに影響されることなく、均一な量で、正確
にシール材を塗布することができ、また、金属膜39の表面は無機絶縁膜23で覆われて
いるので、傷やよごれなどから保護することができる。なお、実施形態4にかかる液晶表
示装置10Cでは、光不透過性材料からなる膜としての金属膜39を層間膜20と無機絶
縁膜23との間に形成した例を示したが、無機絶縁膜23の表面に形成しても同様の作用
効果を奏する。
Therefore, also in the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, as shown in FIG. 9B, the sealing material can be accurately and accurately in a uniform amount without being affected by the various metal wirings L formed on the array substrate 11. In addition, since the surface of the metal film 39 is covered with the inorganic insulating film 23, it can be protected from scratches and dirt. In the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, an example in which the metal film 39 as a film made of a light-impermeable material is formed between the interlayer film 20 and the inorganic insulating film 23 has been described. Even if it is formed on the surface of 23, the same effect can be obtained.

更に、上記実施形態1〜4では液晶注入口を設けた液晶表示装置について述べたが、液
晶注入口を設けずに液晶滴下法により製造される液晶表示装置にも適用することができる
Furthermore, although the liquid crystal display device provided with the liquid crystal injection port has been described in the first to fourth embodiments, it can be applied to a liquid crystal display device manufactured by a liquid crystal dropping method without providing the liquid crystal injection port.

10、10A、10B、10C…液晶表示装置 11…アレイ基板 12a…延在部
12…透明基板 13…走査線 14…信号線 15…補助容量線 15a…補助容量電
極 16…半導体層 18…ゲート絶縁膜 19…パッシベーション膜 20…層間膜(
透明材料層) 21…画素電極 22…下電極 23…電極間絶縁膜 24…上電極 2
5…スリット状の開口 26…カラーフィルター基板 27…透明基板 28…遮光膜
29…カラーフィルター 30…オーバーコート層 31…共通電極 33…シール材
34…液晶注入口 36…ディスペンサー 37…レーザー光発生装置 38…受光装置
39a…間欠部 39…金属膜 40…レーザー光 41…レーザー光の反射光 42
…表示領域 43…額縁領域(非表示領域) CH…コンタクトホール Dr…ドライバ
ー H…距離 L…金属製の各種配線 LC…液晶 PA…画素領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A, 10B, 10C ... Liquid crystal display device 11 ... Array substrate 12a ... Extension part
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 ... Transparent substrate 13 ... Scanning line 14 ... Signal line 15 ... Auxiliary capacity line 15a ... Auxiliary capacity electrode 16 ... Semiconductor layer 18 ... Gate insulating film 19 ... Passivation film 20 ... Interlayer film (
(Transparent material layer) 21 ... pixel electrode 22 ... lower electrode 23 ... interelectrode insulating film 24 ... upper electrode 2
5 ... Slit-shaped opening 26 ... Color filter substrate 27 ... Transparent substrate 28 ... Light shielding film
29 ... Color filter 30 ... Overcoat layer 31 ... Common electrode 33 ... Sealing material
34 ... Liquid crystal injection port 36 ... Dispenser 37 ... Laser light generator 38 ... Light receiving device 39a ... Intermittent part 39 ... Metal film 40 ... Laser light 41 ... Reflected light of laser light 42
... Display area 43 ... Frame area (non-display area) CH ... Contact hole Dr ... Driver H ... Distance L ... Various metal wiring LC ... Liquid crystal PA ... Pixel area

Claims (6)

対向面に少なくとも1層の透明材料層が形成された一対の基板を有し、前記一対の基板の周囲が前記透明材料層の表面に塗布されたシール材により張り合わされ、内部に液晶が封入された液晶表示装置において、
前記透明材料層の表面又は下面には、前記シール材の塗布パターンに沿って、シール材塗布用ディスペンサーの位置決め用レーザー光が通過する経路と重畳する位置に、前記レーザー光を反射する光不透過性材料からなる膜が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
A pair of substrates having at least one transparent material layer formed on opposite surfaces, the periphery of the pair of substrates being bonded together by a sealing material applied to the surface of the transparent material layer, and liquid crystal sealed inside In the liquid crystal display device
The surface or lower surface of the transparent material layer, along the coating pattern of the sealing material, in a position overlapping with the route positioning laser light sheet Lumpur material coating dispenser passes, the light to reflect the laser beam A liquid crystal display device, wherein a film made of an impermeable material is formed.
前記光不透過性材料からなる膜は金属で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the film made of the light-impermeable material is made of metal. 前記光不透過性材料からなる膜はベタ状に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the film made of the light-impermeable material is formed in a solid shape. 前記光不透過性材料からなる膜は間欠的に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the film made of the light-impermeable material is formed intermittently. 前記液晶表示装置は、フリンジフィールドスイッチングモードで作動するものであり、前記透明材料層は、樹脂膜と前記樹脂膜の表面に形成された無機絶縁膜を含み、前記光不透過性材料からなる膜は、前記無機絶縁膜の表面又は前記無機絶縁膜と前記樹脂膜との間に形成されていることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device operates in a fringe field switching mode, and the transparent material layer includes a resin film and an inorganic insulating film formed on the surface of the resin film, and is a film made of the light-impermeable material. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed on a surface of the inorganic insulating film or between the inorganic insulating film and the resin film. (1)液晶表示装置用の一対の基板であって、少なくとも前記一対の基板の一方の他方の基板との対向面側には透明材料層が形成されており、かつ、前記透明材料層の表面又は下面に、シール材の塗布パターンに沿って、シール材塗布用のディスペンサーの位置決め用レーザー光が通過する経路と重畳する位置に、光不透過性材料からなる膜が形成されている、前記液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、  (1) A pair of substrates for a liquid crystal display device, wherein a transparent material layer is formed on at least the surface of the pair of substrates facing the other substrate, and the surface of the transparent material layer Alternatively, on the lower surface, a film made of a light-impermeable material is formed at a position overlapping with a path through which a positioning laser beam of a dispenser for applying a sealing material passes along a coating pattern of the sealing material. Preparing a pair of substrates for a display device;
(2)前記光不透過性材料からなる膜に前記シール材塗布用のディスペンサーの位置決め用レーザー光を照射しつつ、前記光不透過性材料からなる膜からの反射光を受光して前記ディスペンサーの先端位置と前記透明材料層との間の距離を求め、前記距離が一定となるように前記ディスペンサーの位置を制御しながらシール材を塗布する工程と、  (2) While irradiating the film made of the light-impermeable material with the positioning laser light of the dispenser for applying the sealing material, the reflected light from the film made of the light-impermeable material is received and Obtaining a distance between the tip position and the transparent material layer, and applying a sealing material while controlling the position of the dispenser so that the distance is constant;
(3)前記一対の基板を貼り合わせて液晶を封入する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。  (3) A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the pair of substrates and enclosing a liquid crystal.

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