JP5183454B2 - Liquid crystal display - Google Patents

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邦雄 丸山
克浩 今井
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Description

本発明は液晶滴下(One Drop Fill:以下、「ODF」という)法を用いて製造される
液晶表示装置に関し、特に、シール材の接続部と平面視で重畳する位置の各基板の樹脂層
に切り欠き部を設けることで、両基板を貼り合せた時に部分的なシール材の太りすぎを抑
制できる液晶表示装置に関するものである。
The present invention relates to a liquid crystal display device manufactured using a liquid crystal dropping (One Drop Fill: hereinafter referred to as “ODF”) method, and more particularly to a resin layer of each substrate at a position overlapping with a connecting portion of a sealing material in a plan view. The present invention relates to a liquid crystal display device that can suppress a partial seal material from becoming too thick when both substrates are bonded together by providing a notch.

液晶表示装置に液晶を封入する方法としてODF法がある。ODF法は、各種配線等が
形成された二つの基板、例えばアレイ基板とカラーフィルター基板とを貼り合わせる前に
、どちらか一方の下側となった基板にシール材を閉ループ状に塗布し、その内側に液晶を
滴下し、その後、もう一方の上側となった基板を覆い被せて貼り合わせ、紫外線の照射等
によりシール材を硬化させる方法である。
There is an ODF method as a method of sealing liquid crystal in a liquid crystal display device. In the ODF method, before bonding two substrates on which various wirings are formed, for example, an array substrate and a color filter substrate, a sealing material is applied in a closed loop shape to one of the lower substrates. In this method, the liquid crystal is dropped on the inner side, and then the other upper substrate is covered and bonded together, and the sealing material is cured by irradiation of ultraviolet rays or the like.

ODF法では、閉ループ状に塗布したシール材の内側に液晶を直接滴下して封入するた
め、液晶注入口を形成する必要がなくなる。そのため、液晶表示装置の額縁領域を狭くし
て表示領域を大きくすることができ、さらに製造工程数の簡易化を図ることができる。
In the ODF method, since the liquid crystal is directly dropped and sealed inside the sealing material applied in a closed loop shape, it is not necessary to form a liquid crystal injection port. Therefore, the frame area of the liquid crystal display device can be narrowed to increase the display area, and the number of manufacturing processes can be simplified.

ODF法による液晶表示装置のシール材を塗布する際、ディスペンサーにより閉ループ
状にシール材を形成することになるが、シール材の塗布始点および塗布終点については、
他の部分に比べ吐出されるシール材の量が多くなりやすい。さらに、シール材の量が多い
この始点と終点が重なるシール材の接続部分は、両基板を貼り合せる際の圧力により、シ
ール材の幅が押し広げられ太くなってしまう。その結果、部分的にシール材の太さが大き
くなり過ぎてしまい、基板内の液晶がその周辺に溜まりやすくなり、セル厚ムラを発生さ
せ、外観不良となってしまう。
When applying the sealing material of the liquid crystal display device by the ODF method, the sealing material will be formed in a closed loop shape by a dispenser. About the application start point and the application end point of the sealing material,
The amount of the sealing material that is discharged tends to increase compared to other parts. Further, the connecting portion of the sealing material where the starting point and the ending point overlap each other with a large amount of the sealing material, and the width of the sealing material is increased and thickened by the pressure when the two substrates are bonded together. As a result, the thickness of the sealing material partially becomes too large, and the liquid crystal in the substrate tends to accumulate around the periphery, resulting in uneven cell thickness and poor appearance.

ODF法を用いて製造されるシール信頼性を高めた液晶表示装置に関する発明が下記特
許文献1に開示されている。下記特許文献1に開示されている液晶表示装置は、それぞれ
の中央部に表示部が形成された2枚の基板を互いに対向して配置し、各基板とこれらの基
板間の表示部を囲むように閉ループ状に形成されたシール材とによって形成される空間内
に液晶が配置された液晶表示装置であって、シール材は、表示部の周辺を巡って閉ループ
状に、その終点端部が始点端部と交差するように形成されている。このシール材の終点端
部が始点端部と交差する部分は方形基板の4つのコーナー部の内の1つに形成され、また
、シール材の始点端部と終点端部とは互いに閉ループの外側へ延びていると共にほぼ直角
に交差するように形成されている。
特開2003−344863号公報
An invention relating to a liquid crystal display device with improved seal reliability manufactured using the ODF method is disclosed in Patent Document 1 below. In the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1 below, two substrates each having a display unit formed at the center are arranged opposite to each other so as to surround each substrate and the display unit between these substrates. A liquid crystal display device in which liquid crystal is arranged in a space formed by a sealing material formed in a closed loop shape, and the sealing material has a closed loop shape around the periphery of the display portion, and its end point is the starting point. It is formed so as to cross the end. A portion where the end point of the sealing material intersects with the start point is formed at one of the four corners of the rectangular substrate, and the start point and the end point of the sealing material are outside the closed loop. And is formed so as to intersect at a substantially right angle.
JP 2003-344863 A

上記特許文献1に開示されている液晶表示装置によれば、シール材の終点端部と始点端
部との交差部が基板のコーナー部に形成されているため、一応、シール材の重なり不足に
よるシールパンクやシール材の盛りすぎによるギャップ不良が発生せず、シール信頼性の
高い液晶表示装置が得られるとされている。しかしながら、上記特許文献1に開示された
液晶表示装置では、シール材の交差部が基板のコーナー部に形成されていても、シール材
の量がコーナー部の許容量を超えていた場合は、シール材の盛りすぎによるギャップ不良
が発生するおそれがある。また、シール材が表示領域にまで溢れ出し表示不良を起こすお
それもある。加えて、液晶表示装置のコーナー部ではシール材を塗布するディスペンサー
の制御が困難となるため、シール材の接続部をコーナー部分に形成するとシール材の接続
の確実性に欠け、シール材塗布不良の原因となるおそれが生じる。
According to the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1, since the intersection of the end point end portion and the start point end portion of the sealing material is formed at the corner portion of the substrate, the sealing material is temporarily insufficiently overlapped. It is said that a liquid crystal display device with high seal reliability can be obtained without causing a gap defect due to excessive seal puncture or seal material. However, in the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1 described above, even if the intersection of the sealing material is formed at the corner portion of the substrate, if the amount of the sealing material exceeds the allowable amount of the corner portion, the seal There is a risk that a gap defect will occur due to excessive piling of material. In addition, the sealing material may overflow into the display area and cause display failure. In addition, since it becomes difficult to control the dispenser that applies the sealing material at the corner portion of the liquid crystal display device, if the connecting portion of the sealing material is formed at the corner portion, the connection of the sealing material is not reliable, and the sealing material application is poor. This may cause a problem.

本発明者らは、上記のような従来技術の問題点を解決すべく種々検討を重ねた結果、意
図的にシール材の接続部と平面視で重畳する位置の樹脂膜(例えばオーバーコート層、層
間膜など)を切り欠くことによって段差を作製すると、基板貼り合せ時のシール材の逃げ
場となるため、シール材の接続部が太くなることを抑制することができることを見出し、
本発明を完成するに至ったものである。すなわち、本発明は、ODF法により製造された
液晶表示装置において、シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを
抑制した液晶表示装置を提供することにある。
As a result of various studies to solve the problems of the prior art as described above, the present inventors have intentionally overlapped a resin film (for example, overcoat layer, When creating a step by cutting out an interlayer film, etc., it becomes a refuge area for the sealing material when bonding the substrates, and it can be found that the connecting portion of the sealing material can be suppressed from becoming thick,
The present invention has been completed. That is, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device manufactured by the ODF method, in which the connection portion where the application start point and the application end point of the sealing material overlap is prevented from becoming thick.

上記課題を解決するための本発明の一側面によれば、対向する一対の基板が、表示領域周辺の額縁領域に閉ループ状で配置されたシール材により貼り合わされ、液晶が、液晶滴下法により一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、一対の基板の一方の基板で、液晶が存在する側の額縁領域には、絶縁性の膜からなる層間膜が配置され、一対の基板の他方の基板で、液晶が存在する側の額縁領域には、絶縁性の膜からなるオーバーコート層が配置され、閉ループ状で配置されたシール材には、塗布始点と塗布終点との接続部が存在し、層間膜及びオーバーコート層の両方には、接続部と平面視で重畳する位置に、液晶表示装置の外周が開放端とされる溝状の複数の切り欠き部が設けられている液晶表示装置が提供される。According to one aspect of the present invention for solving the above-described problem, a pair of opposing substrates are bonded to each other by a sealing material arranged in a closed loop shape in a frame region around the display region, and the liquid crystal is paired by a liquid crystal dropping method. In the liquid crystal display device sealed between the substrates, an interlayer film made of an insulating film is arranged in the frame region on the side where the liquid crystal exists in one of the pair of substrates, and the other of the pair of substrates In the frame area on the side where the liquid crystal exists, an overcoat layer made of an insulating film is arranged, and the sealing material arranged in a closed loop has a connection portion between the application start point and the application end point. In addition, in both the interlayer film and the overcoat layer, a liquid crystal display in which a plurality of groove-shaped notches with the outer periphery of the liquid crystal display device as an open end is provided at a position overlapping the connection portion in plan view. An apparatus is provided.

従来例のODF法により液晶が注入される液晶表示装置では、シール材の塗布終点の端
部と塗布始点の端部との接続部は、シール材の塗布時に厚さが他の部分よりも厚く盛り上
がるため、二つの基板を貼り合せたときに圧力が掛かってシール材が変形しシール材の幅
が太くなってしまう。この太くなったシール材の接続部により両基板間のセルギャップム
ラの原因となったり、シール材が表示領域まで溢れだし、表示不良の原因となる。
In the liquid crystal display device in which liquid crystal is injected by the ODF method of the conventional example, the connecting portion between the end point of the sealing material application end point and the end point of the application start point is thicker than the other portions when the sealing material is applied. Since it rises, when the two substrates are bonded together, pressure is applied and the sealing material is deformed and the width of the sealing material is increased. This thickened connecting portion of the sealing material may cause cell gap unevenness between the two substrates, or the sealing material may overflow to the display area, causing display defects.

しかし、上記の液晶表示装置によれば、シール材の接続部の余分な部分は切り込み部に流れ込むことができるので、シール材の部分的な太りすぎを抑制することができ、両基板間のセルギャップムラや、表示不良を抑制することができる。なお、シール材の接続部とはシール材塗布部分の始点と終点が重なる部分のことをいう。 However, according to the liquid crystal display device described above, the excess portions of the connection portion of the sealing material can flow to the switching interrupt section, it is possible to suppress partial Overweight sealing material, between the substrates Cell gap unevenness and display defects can be suppressed. Incidentally, it refers to a portion where the start and end points of the sealant application portion overlapping the connection portion of the sheet Lumpur material.

晶表示装置の製造工程には、一対の基板の一方にシール材を塗布した後、他方の基板を貼り合わせる工程がある。この工程ではシール材の接続部は押し潰されて広がるが、広がったシール材は、閉鎖端側はコモン配線の厚さによって堰き止められて開放端側に移動し易くなるため、表示領域の内側に入り込み難くなる
The manufacturing process of the liquid crystal display device, after the sealant is applied to one of the pair of substrates, there is a step of bonding the other substrate. In this process, the connecting part of the sealing material is crushed and expanded, but the expanded sealing material is blocked by the thickness of the common wiring and easily moved to the open end side. It becomes difficult to get into .

以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置を例示するものであって、本発明
をこの液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれる
その他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。なお、この明細書における説明
のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさ
とするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比
例して表示されているものではない。
Hereinafter, the best embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies a liquid crystal display device for embodying the technical idea of the present invention, and is not intended to specify the present invention for this liquid crystal display device. Other embodiments within the scope of the claims are equally applicable. In each drawing used for the description in this specification, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member can be recognized on the drawing. However, it is not necessarily displayed in proportion to the actual dimensions.

図1は本発明の実施形態1〜4にかかる液晶表示装置の平面図である。図2は1画素領
域を拡大して示した拡大平面図である。図3は図2のIII−III線で切断した要部断面図で
ある。図4は図1のIV−IV線で切断した要部断面図である。図5Aはシール材の塗布を開
始し始めた状態を示した概略斜視図であり、図5Bはシール材の始点と終点を接続させた
状態を示した概略斜視図であり、図5Cは図5BのVC部分の拡大図である。図6Aは実
施形態1の液晶表示装置において図1のVI部をカラーフィルター基板を下にしてアレイ基
板を透過した拡大平面図であり、図6Bは図6AのVIB−VIB線で切断した要部断面図であ
る。図7は実施形態2の液晶表示装置における図4に対応する要部断面図である。図8A
は実施形態2の液晶表示装置においてアレイ基板を下にしてカラーフィルター基板を透過
して見た図6Aに対応する拡大平面図であり、図8Bは図7AのVIII−VIII線で切断した
図6Bに対応する要部断面図である。図9は実施形態3の液晶表示装置における図4に対
応する要部断面図である。図10Aは実施形態3の液晶表示装置においてカラーフィルタ
ー基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図6Aに対応する拡大平面図であり、図10
Bは図8AのX−X線で切断した図6Bに対応する要部断面図である。図11Aは実施形
態4の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た
図6Aに対応する拡大平面図であり、図11Bは図9AのXI−XI線で切断した図6Bに対
応する要部断面図である。
FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device according to first to fourth embodiments of the present invention. FIG. 2 is an enlarged plan view showing an enlarged one pixel region. FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part taken along line III-III in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of an essential part taken along line IV-IV in FIG. FIG. 5A is a schematic perspective view showing a state in which the application of the sealing material is started, FIG. 5B is a schematic perspective view showing a state in which the start point and the end point of the sealing material are connected, and FIG. It is an enlarged view of VC part. 6A is an enlarged plan view in which the VI portion of FIG. 1 is transmitted through the array substrate with the color filter substrate down in the liquid crystal display device of Embodiment 1, and FIG. 6B is a main portion cut along the VIB-VIB line of FIG. 6A. It is sectional drawing. FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part corresponding to FIG. 4 in the liquid crystal display device of the second embodiment. FIG. 8A
FIG. 8B is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A viewed through the color filter substrate with the array substrate facing down in the liquid crystal display device of Embodiment 2, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII in FIG. It is principal part sectional drawing corresponding to these. FIG. 9 is a cross-sectional view of a main part corresponding to FIG. 4 in the liquid crystal display device according to the third embodiment. 10A is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A as seen through the array substrate with the color filter substrate down in the liquid crystal display device of Embodiment 3. FIG.
FIG. 8B is a cross-sectional view of the main part corresponding to FIG. 6B taken along line XX in FIG. 8A. 11A is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A seen through the array substrate with the color filter substrate facing down in the liquid crystal display device of Embodiment 4, and FIG. 11B is cut along the XI-XI line of FIG. 9A. It is principal part sectional drawing corresponding to FIG. 6B.

ちなみに、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
が形成された面を示すものとする。なお、本発明に於ける液晶表示装置は、TN(Twiste
d Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モードあるいはMVA(Multi-domain
Vertical Alignment)モードで駆動するいわゆる縦電界方式の液晶表示装置や、IPS(
In-Plane Switching)モード、FFS(Fringe Field Switching)モード等の横電界方式
の液晶表示装置にも適用可能であるが、以下においてはTNモードの液晶表示装置に代表
させて各実施形態の液晶表示装置を説明する。
Incidentally, the “surface” of the array substrate and the color filter substrate described below represents a surface on which various wirings are formed. The liquid crystal display device according to the present invention is a TN (Twiste).
d Nematic) mode, VA (Vertical Alignment) mode or MVA (Multi-domain)
A so-called vertical electric field type liquid crystal display device driven in the vertical alignment (IPS) mode, IPS (
The present invention can be applied to a horizontal electric field type liquid crystal display device such as an in-plane switching (FFS) mode or an FFS (Fringe Field Switching) mode, but in the following, the liquid crystal display of each embodiment is represented by a TN mode liquid crystal display device. The apparatus will be described.

[実施形態1]
実施形態1にかかる液晶表示装置10は、図1に示すように、アレイ基板11及びカラ
ーフィルター基板31と、両基板11、31を貼り合わせるシール材40と、アレイ基板
11、カラーフィルター基板31及びシール材40により囲まれた領域に液晶LCが封入
された構成を備えた、いわゆるCOG(Chip On Glass)型の液晶表示装置である。この
液晶表示装置10においては、シール材40により囲まれた領域が表示領域50を形成し
ており、この表示領域50の外周側が額縁領域51となっている。また、実施形態1にか
かる液晶表示装置10はODF法で製造されたものであるため、液晶注入口は形成されて
いない。
[Embodiment 1]
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment includes an array substrate 11 and a color filter substrate 31, a sealing material 40 for bonding the substrates 11 and 31, an array substrate 11, a color filter substrate 31, and This is a so-called COG (Chip On Glass) type liquid crystal display device having a configuration in which the liquid crystal LC is enclosed in a region surrounded by the sealing material 40. In the liquid crystal display device 10, a region surrounded by the sealing material 40 forms a display region 50, and an outer peripheral side of the display region 50 is a frame region 51. Further, since the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment is manufactured by the ODF method, a liquid crystal injection port is not formed.

アレイ基板11は、図1〜図4に示すように、矩形状のガラス基板等からなる透明基板
12の表面に液晶駆動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板11は対
向配置されるカラーフィルター基板31よりもその長手方向の長さが長く、両基板11、
31を貼り合わせた際に外部に延在する延在部12aが形成されるようになっている。こ
の延在部12aには駆動信号を出力するICチップあるいはLSI等からなるドライバー
Drが設けられている。
As shown in FIGS. 1 to 4, the array substrate 11 is obtained by forming various wirings for driving liquid crystal on the surface of a transparent substrate 12 made of a rectangular glass substrate or the like. The array substrate 11 has a longer length in the longitudinal direction than the color filter substrate 31 disposed opposite to each other.
When the 31 is bonded, an extended portion 12a extending to the outside is formed. The extension portion 12a is provided with a driver Dr made of an IC chip or an LSI that outputs a drive signal.

アレイ基板11の表示領域50内には、図2及び図3に示すように、マトリクス状に複
数本の走査線13及び信号線14が形成されており、この複数本の走査線13及び信号線
14は、表示領域50外まで延出され引回されてドライバーDrに接続されている。
In the display area 50 of the array substrate 11, as shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 are formed in a matrix, and the plurality of scanning lines 13 and signal lines are formed. 14 is extended to the outside of the display area 50 and is connected to the driver Dr.

さらに、アレイ基板の表示領域50内には、複数本の走査線13及び信号線14に加え
て、複数本の走査線13間にこの走査線13と平行な複数本の補助容量線15が設けられ
、この走査線13と補助容量線15と露出している透明基板12を覆うようにゲート絶縁
膜18が設けられる。そして、ソース電極S、ゲート電極G、ドレイン電極D、及び半導
体層16からなるスイッチング素子としての薄膜トランジスター(TFT:Thin Film Tr
ansistor)17がゲート絶縁膜18上に形成されている。
Further, in the display area 50 of the array substrate, in addition to the plurality of scanning lines 13 and the signal lines 14, a plurality of auxiliary capacitance lines 15 parallel to the scanning lines 13 are provided between the plurality of scanning lines 13. Then, a gate insulating film 18 is provided so as to cover the scanning line 13, the auxiliary capacitance line 15, and the exposed transparent substrate 12. A thin film transistor (TFT: Thin Film Tr) as a switching element including the source electrode S, the gate electrode G, the drain electrode D, and the semiconductor layer 16 is formed.
ansistor) 17 is formed on the gate insulating film 18.

さらに、これらを覆うように表面の安定化のための無機絶縁材料からなるパッシベーシ
ョン膜19が成膜され、さらに、アレイ基板11の表面を平坦化するための有機絶縁材料
からなる層間膜20が成膜されている。なお、この層間膜20及びパッシベーション膜1
9の補助容量電極上に位置する部分には、走査線13及び信号線14によって囲まれた1
画素領域PAごとに例えばITO(Indium Tin Oxide)またはIZO(Indium Zinc Oxid
e)からなる画素電極21が設けられ、ドレイン電極Dと電気的に接続するためのコンタ
クトホールCHが設けられている。そして、これらの表面には不図示の配向膜が設けられ
、この配向膜に対してラビング処理することにより実施形態1のアレイ基板11が形成さ
れる。なお、複数本の走査線13及び信号線14により囲まれた領域が1サブ画素領域P
Aとなる。
Further, a passivation film 19 made of an inorganic insulating material for surface stabilization is formed so as to cover them, and an interlayer film 20 made of an organic insulating material for flattening the surface of the array substrate 11 is further formed. It is filmed. The interlayer film 20 and the passivation film 1
1 is surrounded by the scanning line 13 and the signal line 14 in the portion located on the auxiliary capacitance electrode 9.
For each pixel area PA, for example, ITO (Indium Tin Oxide) or IZO (Indium Zinc Oxid)
A pixel electrode 21 made of e) is provided, and a contact hole CH for electrical connection with the drain electrode D is provided. Then, an alignment film (not shown) is provided on these surfaces, and the array substrate 11 of the first embodiment is formed by rubbing the alignment film. Note that an area surrounded by the plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 is one sub-pixel area P.
A.

また、カラーフィルター基板31は、図3に示したように、ガラス基板等からなる第2
の透明基板32の表面に、アレイ基板11の走査線13、信号線14、コンタクトホール
CH及びTFT17に対応する位置を被覆するように遮光膜33が形成されている。さら
に、遮光膜33で囲まれた第2の透明基板32の表面には、所定の色、例えば赤(R)、
緑(G)、青(B)等のカラーフィルター層34が形成されている。また、遮光膜33及
びカラーフィルター層34の表面を被覆するようにオーバーコート層35が形成されてい
る。このオーバーコート層35は絶縁性の透明な樹脂膜からなるものである。そしてカラ
ーフィルター基板31の表面をできるだけ平坦にするために設けられているものである。
なお、オーバーコート層35には一部分が切り欠かれた切り欠き部35a(図6B参照)
が形成されている。
The color filter substrate 31 is a second substrate made of a glass substrate or the like as shown in FIG.
A light shielding film 33 is formed on the surface of the transparent substrate 32 so as to cover positions corresponding to the scanning lines 13, the signal lines 14, the contact holes CH, and the TFTs 17 of the array substrate 11. Further, the surface of the second transparent substrate 32 surrounded by the light shielding film 33 has a predetermined color, for example, red (R),
A color filter layer 34 of green (G), blue (B) or the like is formed. An overcoat layer 35 is formed so as to cover the surfaces of the light shielding film 33 and the color filter layer 34. The overcoat layer 35 is made of an insulating transparent resin film. The color filter substrate 31 is provided to make the surface as flat as possible.
Note that the overcoat layer 35 has a notch 35a partially cut away (see FIG. 6B).
Is formed.

この切り欠き部35aは、後述するシール材40の接続部40aと平面視で重畳する位
置に形成されているものである。図4に示すように、シール材が塗布されるカラーフィル
ター基板31の額縁領域51は、透明基板32、遮光膜33、オーバーコート層35、配
向膜(不図示)がそれぞれ表示領域50から延在されて積層形成されている。このオーバ
ーコート層35の切り欠き部35aは公知のフォトリソグラフィー法によって形成するこ
とができる。そして、不図示の配向膜にはラビング処理が施されて実施形態1のカラーフ
ィルター基板31が形成される。
The notch 35a is formed at a position that overlaps with a connecting portion 40a of a sealing material 40 described later in plan view. As shown in FIG. 4, in the frame region 51 of the color filter substrate 31 to which the sealing material is applied, a transparent substrate 32, a light shielding film 33, an overcoat layer 35, and an alignment film (not shown) extend from the display region 50, respectively. In this way, they are stacked. The cutout portion 35a of the overcoat layer 35 can be formed by a known photolithography method. The alignment film (not shown) is rubbed to form the color filter substrate 31 of the first embodiment.

次に、シール材40の塗布について説明するが、本実施形態1では、カラーフィルター
基板31にシール材40を塗布する場合について説明する。シール材40は、ディスペン
サー41を用いてカラーフィルター基板31上に塗布される。本実施形態1にかかる液晶
表示装置10では、液晶注入口が形成されないので、シール材40は閉ループ状に塗布さ
れる。そのため、このシール材40には始点40bと終点40cが存在し、さらにこれら
の接合部分に接続部40aが形成される。なお、このシール材40の塗布は、複数個のカ
ラーフィルター基板領域が形成されたマザー基板に対して行われるが、説明の都合上、こ
こでは1個のカラーフィルター基板領域についてのみ図示している。
Next, application of the sealing material 40 will be described. In the first embodiment, a case where the sealing material 40 is applied to the color filter substrate 31 will be described. The sealing material 40 is applied on the color filter substrate 31 using a dispenser 41. In the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, since the liquid crystal injection port is not formed, the sealing material 40 is applied in a closed loop shape. Therefore, the sealing material 40 has a starting point 40b and an ending point 40c, and a connecting portion 40a is formed at the joint portion. The sealing material 40 is applied to the mother substrate on which a plurality of color filter substrate regions are formed. However, for convenience of explanation, only one color filter substrate region is illustrated here. .

そして、このシール材40の接続部40aは上述したオーバーコート層35の切り欠き
部35aと平面視で重畳する位置に形成されるようする。すなわち、図5Aに示すように
、シール材40の塗布始点40bをオーバーコート層35の切り欠き部35a上になるよ
うにディスペンサー41を制御して塗布を開始する。その後、表示領域50を囲むように
閉ループ上にシール材40を塗布し、シール材40の終点40cがオーバーコート層35
の切り欠き部35a上になるようにディスペンサー41を制御し、図5Bに示すように、
シール材40の始点40bと終点40cが合わさるところでシール材40の塗布を終了さ
せる。このとき、図5Cに示すようにシール材40の始点40bと終点40cが重なって
厚さが厚くなっている部分が接続部40aとなる。なお、シール材40の接続部40aは
ある程度の大きさを有するため、オーバーコート層35の切り欠き部35aの大きさはこ
の接続部40aの全てが納まるように、接続部40aより大きめに形成されている。
And the connection part 40a of this sealing material 40 is formed in the position which overlaps with the notch part 35a of the overcoat layer 35 mentioned above in planar view. That is, as shown in FIG. 5A, application is started by controlling the dispenser 41 so that the application start point 40b of the sealing material 40 is on the cutout portion 35a of the overcoat layer 35. Thereafter, the sealing material 40 is applied on the closed loop so as to surround the display region 50, and the end point 40 c of the sealing material 40 is the overcoat layer 35.
The dispenser 41 is controlled so as to be on the notch portion 35a of FIG.
The application of the sealing material 40 is terminated when the start point 40b and the end point 40c of the sealing material 40 meet. At this time, as shown in FIG. 5C, the portion where the starting point 40b and the end point 40c of the sealing material 40 overlap and the thickness is increased becomes the connecting portion 40a. Since the connecting portion 40a of the sealing material 40 has a certain size, the cutout portion 35a of the overcoat layer 35 is formed larger than the connecting portion 40a so that the entire connecting portion 40a can be accommodated. ing.

シール材40の塗布が終了した後、ODF法により液晶LCを封入し、カラーフィルタ
ー基板31を重ね、紫外線照射等によりシール材40を硬化させて両基板11、31を貼
り合せる。このとき、シール材40の始点40bと終点40cが重なっている接続部40
aが押し潰されるため、この接続部40aは他のシール材の部分よりも太くなる。シール
材40に部分的に太くなった部分が存在すると、基板内の液晶がその周辺に溜まりやすく
なり、セル厚ムラを発生させ、外観不良となるおそれがある。
After the application of the sealing material 40 is completed, the liquid crystal LC is sealed by the ODF method, the color filter substrates 31 are stacked, the sealing material 40 is cured by ultraviolet irradiation or the like, and the substrates 11 and 31 are bonded together. At this time, the connecting portion 40 where the start point 40b and the end point 40c of the sealing material 40 overlap.
Since a is crushed, the connecting portion 40a is thicker than other sealing material portions. If the sealing material 40 has a portion that is partially thickened, the liquid crystal in the substrate tends to accumulate in the periphery of the sealing material 40, and cell thickness unevenness may occur, resulting in poor appearance.

しかし、本実施形態1の液晶表示装置10では、切り欠き部35aは、図6Aに示すよ
うに、シール材40の接続部40aがオーバーコート層35の切り欠き部35aに全て入
り込むように大きめに形成されている。これにより、シール材40の接続部40aの余分
なシール材はオーバーコート層35の切り欠き部35aに流し込むことができ、さらに、
図6Bに示すように、接続部40aのシール材40は、オーバーコート層35の切り欠き
部35aに入り込んでいるので、シール材が太くなることを抑制することができる。
However, in the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, the cutout portion 35a is large so that the connection portion 40a of the sealing material 40 enters all of the cutout portion 35a of the overcoat layer 35, as shown in FIG. 6A. Is formed. Thereby, the excess sealing material of the connection part 40a of the sealing material 40 can be poured into the notch part 35a of the overcoat layer 35,
As shown in FIG. 6B, since the sealing material 40 of the connecting portion 40a enters the notch 35a of the overcoat layer 35, it is possible to suppress the sealing material from becoming thick.

また、第1実施形態の液晶表示装置10では、切り欠き部35aは液晶表示装置10の
外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押し潰されて広がったシール
材40は、閉鎖端側は切り欠かれたオーバーコート層35の段差によって堰き止められて
開放端側に移動し易くなるので、表示領域50の内側に入り込み難くなり、表示画質に悪
影響が生じ難くなる。
Further, in the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, the cutout portion 35a is formed so that the outer peripheral side of the liquid crystal display device 10 is the open end side. Therefore, the sealing material 40 that has been crushed and spread is blocked by the step of the overcoat layer 35 that is cut off on the closed end side, and easily moves to the open end side, so that it is difficult to enter the inside of the display region 50. Thus, the display image quality is less likely to be adversely affected.

その後、マザー基板を個別の液晶表示装置パネルに分断し、アレイ基板11の延在部1
2aにドライバーDr等を設置し、本実施形態にかかる液晶表示装置10が完成する。
Thereafter, the mother substrate is divided into individual liquid crystal display device panels, and the extended portion 1 of the array substrate 11 is separated.
The driver Dr and the like are installed in 2a, and the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment is completed.

以上より、実施形態1にかかる液晶表示装置によれば、ODF法により製造される液晶
表示装置において、意図的にシール量の多くなるシール材の接続部と平面視で重畳する位
置のオーバーコート層に切り欠き部を設け段差を作り、両基板貼り合せ時のシール材の逃
げ場を作製したので、オーバーコート層を切り欠いた箇所とそれ以外の箇所のシール材の
潰れ具合に差が出るようになる。このようにすることで、シール材の塗布始点と塗布終点
の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シール材の接続部の太りすぎを抑
制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供することができるようになる。
As mentioned above, according to the liquid crystal display device concerning Embodiment 1, in the liquid crystal display device manufactured by ODF method, the overcoat layer of the position which overlaps with the connection part of the sealing material which intentionally increases the sealing amount in planar view In order to make a difference in the degree of crushing of the seal material at the place where the overcoat layer was cut off and other places Become. By doing so, it is possible to suppress the connection portion where the application start point and the application end point of the seal material overlap from being thick, and the liquid crystal display that suppresses the over connection portion of the seal material and reduces the occurrence of defective products. An apparatus can be provided.

[実施形態2]
次に、図7、図8A及び図8Bを参照して、実施形態2にかかる液晶表示装置10Aに
ついて説明する。なお、実施形態2にかかる液晶表示装置10Aは、実施形態1にかかる
液晶表示装置10では切り欠き部35aがカラーフィルター基板31のオーバーコート層
35に形成されているのに対し、切欠部20aがアレイ基板11の層間膜20に形成され
ていること以外は共通するので、実施形態1にかかる液晶表示装置10と同一の構成につ
いては同一の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
[Embodiment 2]
Next, a liquid crystal display device 10A according to Embodiment 2 will be described with reference to FIGS. 7, 8A, and 8B. In the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, the cutout portion 35a is formed in the overcoat layer 35 of the color filter substrate 31 in the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, whereas the cutout portion 20a is formed. Since it is common except that it is formed on the interlayer film 20 of the array substrate 11, the same components as those of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

この切り欠き部20aは、シール材40の接続部40aと平面視で重畳する位置の層間
膜20を切り欠くことで形成されている。図7に示すように、シール材40が塗布される
アレイ基板11の額縁領域51は、透明基板12、ゲート絶縁膜18、パッシベーション
膜19、層間膜20、配向膜(不図示)がそれぞれ表示領域50から延在されて積層形成
されている。なお、図示省略するが、アレイ基板11の額縁領域51にはコモン配線が引
き回されている。この層間膜20の切り欠き部20aは公知のフォトリソグラフィー法に
よって形成される。
The cutout portion 20a is formed by cutting out the interlayer film 20 at a position overlapping the connection portion 40a of the sealing material 40 in plan view. As shown in FIG. 7, the frame region 51 of the array substrate 11 to which the sealing material 40 is applied includes a transparent substrate 12, a gate insulating film 18, a passivation film 19, an interlayer film 20, and an alignment film (not shown) as display areas. 50 is laminated and formed. Although not shown, common wiring is routed around the frame region 51 of the array substrate 11. The notch 20a of the interlayer film 20 is formed by a known photolithography method.

なお、実施形態2にかかる液晶表示装置10Aでは、シール材40の塗布方法は上記実
施形態1にかかる液晶表示装置10の場合と同様であるが、シール材40はアレイ基板1
1に塗布され、層間膜20の切り欠き部20aと平面視で重畳する位置がシール材40の
始点40b及び終点40cとなり、この部分に接続部40aが形成される(図5A〜図5
C参照)。
In the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, the method of applying the sealing material 40 is the same as that of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment, but the sealing material 40 is the array substrate 1.
1 and the position overlapping with the notch 20a of the interlayer film 20 in plan view is the start point 40b and the end point 40c of the sealing material 40, and the connection part 40a is formed in this part (FIGS. 5A to 5).
C).

切り欠き部20aは、図8Aに示すように平面図で見るとシール材40の接続部40a
が層間膜20の切り欠き部20aに全て入り込むように大きめに形成されている。これに
より、シール材40の接続部40aの余分なシール材は層間膜20の切り欠き部20aに
流し込むことができ、さらに、図8Bに示す断面図によれば、切り欠き部20aは、層間
膜20の切り欠き部20aにシール材40が入り込んでいるので、シール材40の太りす
ぎを抑制することができる。また、第2実施形態にかかる液晶表示装置10Aでは、切り
欠き部20aは液晶表示装置10Aの外周側が開放端側となるように形成されている。そ
のため、押し潰されて広がったシール材40は、閉鎖端側は切り欠かれた層間膜20の段
差によって堰き止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域50の内側に入り込
み難くなり、表示画質に悪影響が生じ難くなる。
As shown in FIG. 8A, the cutout portion 20a is connected to the connecting portion 40a of the sealing material 40 when viewed in plan view.
Is formed to be large so as to enter all of the notches 20 a of the interlayer film 20. As a result, excess sealing material in the connecting portion 40a of the sealing material 40 can flow into the cutout portion 20a of the interlayer film 20. Further, according to the cross-sectional view shown in FIG. Since the sealing material 40 has entered the 20 notches 20a, the sealing material 40 can be prevented from being overweight. In the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, the cutout portion 20a is formed so that the outer peripheral side of the liquid crystal display device 10A is the open end side. Therefore, the sealing material 40 that has been crushed and spread is blocked by the step of the notched interlayer film 20 on the closed end side and easily moves to the open end side, so that it is difficult to enter the display area 50. The display image quality is less likely to be adversely affected.

このように、実施形態2にかかる液晶表示装置でも、実施形態1にかかる液晶表示装置
と同様に、シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制すること
ができ、シール材の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提
供することができるようになる。
As described above, in the liquid crystal display device according to the second embodiment as well, as in the liquid crystal display device according to the first embodiment, it is possible to prevent the connecting portion where the application start point and the application end point of the seal material overlap from being thickened. It is possible to provide a liquid crystal display device that suppresses overweight of the connecting portion of the material and reduces the occurrence of defective products.

[実施形態3]
次に、図9、図10A及び図10Bを参照して、実施形態3にかかる液晶表示装置10
Bについて説明する。なお、実施形態3にかかる液晶表示装置10Bは、実施形態1にか
かる液晶表示装置10では切り欠き部35aがカラーフィルター基板31のオーバーコー
ト層35に形成されているのに対し、実施形態2にかかる液晶表示装置10Bのように、
切欠部がアレイ基板11の層間膜20にも形成されていること以外は共通するので、実施
形態1及び実施形態2にかかる液晶表示装置10、10Aと同一の構成については同一の
参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
[Embodiment 3]
Next, with reference to FIGS. 9, 10A and 10B, the liquid crystal display device 10 according to the third embodiment.
B will be described. The liquid crystal display device 10B according to the third embodiment is different from the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment in that the cutout portion 35a is formed in the overcoat layer 35 of the color filter substrate 31. Like the liquid crystal display device 10B,
Since the cutout portion is common except that it is also formed in the interlayer film 20 of the array substrate 11, the same reference numerals are assigned to the same configurations as those of the liquid crystal display devices 10 and 10A according to the first and second embodiments. Detailed description thereof will be omitted.

この実施形態3にかかる液晶表示装置10Bでは、アレイ基板11に切欠部20aが、
カラーフィルター基板31に切り欠き部35aが形成されている。この切り欠き部20a
、35aは、上記実施形態1及び実施形態2で述べたのと同様にシール材40の接続部4
0aと平面視で重畳する位置のオーバーコート層35及び層間膜20を切り欠くことで形
成される。額縁領域51の各基板11、31の構造は図9に示すとおりである。また、こ
のオーバーコート層35及び層間膜20の切り欠き部20a、35aは公知のフォトリソ
グラフィー法等によって形成される。
In the liquid crystal display device 10B according to the third embodiment, the cutout portion 20a is formed in the array substrate 11.
A cutout portion 35 a is formed in the color filter substrate 31. This notch 20a
, 35a are the connecting portions 4 of the sealing material 40 as described in the first and second embodiments.
It is formed by cutting out the overcoat layer 35 and the interlayer film 20 at a position overlapping 0a in plan view. The structure of each of the substrates 11 and 31 in the frame region 51 is as shown in FIG. The overcoat layer 35 and the notches 20a and 35a of the interlayer film 20 are formed by a known photolithography method or the like.

なお、シール材40の塗布は上記実施形態1及び実施形態2と同様であるが、実施形態
3にかかる液晶表示装置10Bでは、シール材40を塗布するのは、カラーフィルター基
板31及びアレイ基板11のどちらか一方でよく、オーバーコート層35及び層間膜20
の切り欠き部20a、35aと平面視で重畳する位置がシール材40の始点40b及び終
点40cとなり接続部40aが形成される(図5A〜図5C参照)。
The sealing material 40 is applied in the same manner as in the first and second embodiments. However, in the liquid crystal display device 10B according to the third embodiment, the sealing material 40 is applied in the color filter substrate 31 and the array substrate 11. Either the overcoat layer 35 or the interlayer film 20
The positions overlapping the notches 20a and 35a in plan view become the start point 40b and the end point 40c of the sealing material 40, and the connection part 40a is formed (see FIGS. 5A to 5C).

実施形態3にかかる液晶表示装置10Bの切り欠き部35a、20aは、図10Aに示
すように、シール材40の接続部40aがオーバーコート層35及び層間膜20の切り欠
き部20a、35aに全て入り込むように大きめに形成されている。これにより、シール
材40の接続部40aの余分なシール材はオーバーコート層35及び層間膜20を切り欠
くことによってできた切り欠き部35a、20aに流れ込むことができる。さらに、図1
0Bに示すように、オーバーコート層35及び層間膜20の切り欠き部35a、20aに
シール材が入り込んでいるので、シール材の太りすぎを抑制することができる。さらに、
第3実施形態の液晶表示装置10Bでは、切り欠き部20a、35aは、液晶表示装置1
0Bの外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押し潰されて広がった
シール材40は、閉鎖端側は切り欠かれたオーバーコート層35及び層間膜20の段差に
よって堰き止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域50の内側に入り込み難
くなり、表示画質に悪影響が生じ難くなる。
As shown in FIG. 10A, the cutout portions 35 a and 20 a of the liquid crystal display device 10 </ b> B according to the third embodiment are all connected to the overcoat layer 35 and the cutout portions 20 a and 35 a of the interlayer film 20. It is formed to be large so as to enter. As a result, excess sealing material in the connection portion 40a of the sealing material 40 can flow into the cutout portions 35a and 20a formed by cutting out the overcoat layer 35 and the interlayer film 20. In addition, FIG.
As shown in 0B, since the sealing material enters the notches 35a and 20a of the overcoat layer 35 and the interlayer film 20, the sealing material can be prevented from being overweight. further,
In the liquid crystal display device 10B of the third embodiment, the notches 20a and 35a are formed on the liquid crystal display device 1.
It is formed so that the outer peripheral side of 0B becomes the open end side. Therefore, the sealing material 40 that has been crushed and spread is blocked by the step between the overcoat layer 35 and the interlayer film 20 that are cut off on the closed end side, and can easily move to the open end side. It is difficult to enter inside, and display image quality is less likely to be adversely affected.

すなわち、実施形態3にかかる液晶表示装置では実施形態1の液晶表示装置と同様に、
シール材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シ
ール材の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供すること
ができるようになる。また、実施形態3にかかる液晶表示装置10Bでは、切り欠き部3
5a、20aが両方の基板31、11に形成されているため、各切り欠き部35a、20
aの深さを浅くすることができるので、特にアレイ基板にコモン配線が形成されている場
合、このコモン配線に大きな影響を与えずに済む。さらに、シール材40の塗布は、カラ
ーフィルター基板31及びアレイ基板11のどちらに行ってもいいので、設計の幅が広が
り、また、製造工程の自由度が増す。
[実施形態4]
次に、図11A及び図11Bを参照して、実施形態4にかかる液晶表示装置10Cにつ
いて説明する。なお、実施形態4にかかる液晶表示装置10Cでは、切欠部35bは、実
施形態1にかかる液晶表示装置10の切り欠き部35aの場合と同様に、カラーフィルタ
ー基板31のオーバーコート層35に形成されているが、その形状がスリット状となって
いる以外は共通するので、実施形態1にかかる液晶表示装置と同一の構成については同一
の参照符号を付与してその詳細な説明は省略する。
That is, in the liquid crystal display device according to the third embodiment, similarly to the liquid crystal display device according to the first embodiment,
It is possible to suppress the connection portion where the application start point and the application end point of the sealing material overlap from being thickened, and it is possible to provide a liquid crystal display device in which the connection portion of the sealing material is suppressed from becoming too thick and the occurrence of defective products is reduced. It becomes like this. In the liquid crystal display device 10B according to the third embodiment, the notch 3
Since 5a and 20a are formed on both the substrates 31 and 11, the notches 35a and 20a are formed.
Since the depth of a can be reduced, particularly when the common wiring is formed on the array substrate, the common wiring does not have to be greatly affected. Furthermore, since the sealing material 40 may be applied to either the color filter substrate 31 or the array substrate 11, the range of design is widened and the degree of freedom in the manufacturing process is increased.
[Embodiment 4]
Next, with reference to FIGS. 11A and 11B, a liquid crystal display device 10C according to Embodiment 4 will be described. In the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, the cutout portion 35b is formed in the overcoat layer 35 of the color filter substrate 31 as in the case of the cutout portion 35a of the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment. However, since the shape is the same except that the shape is a slit shape, the same components as those of the liquid crystal display device according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

この実施形態4にかかる液晶表示装置10Cの切り欠き部35bは、上記実施形態1で
述べたのと同様に、シール材40の接続部40aと平面視で重畳する位置のオーバーコー
ト層35を切り欠くことで形成されるが、スリット状になっており、形成される範囲が広
く取られている。
The cutout portion 35b of the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment cuts the overcoat layer 35 at a position overlapping the connecting portion 40a of the sealing material 40 in plan view, as described in the first embodiment. Although it is formed by lacking, it has a slit shape and a wide range is formed.

この切り欠き部35bが形成される額縁領域51のカラーフィルター基板31の構造は
、図4に示すように、上記実施形態1で述べたとおりであるので図示は省略する。また、
このオーバーコート層35のスリット状の切り欠き部35bは公知のフォトリソグラフィ
ー法等によって形成される。
As shown in FIG. 4, the structure of the color filter substrate 31 in the frame region 51 in which the cutout portion 35b is formed is as described in the first embodiment, and is not shown. Also,
The slit-shaped notch 35b of the overcoat layer 35 is formed by a known photolithography method or the like.

なお、シール材40の塗布は上記実施形態1と同様であるが、実施形態4にかかる液晶
表示装置10Cでは、シール材40はカラーフィルター基板31に塗布され、オーバーコ
ート層35のスリット状の切り欠き部35bと平面視で重畳する位置がシール材40の始
点40b及び終点40cとなり、この部分に接続部40aが形成される(図5A〜図5C
参照)。
The application of the sealing material 40 is the same as that of the first embodiment, but in the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, the sealing material 40 is applied to the color filter substrate 31 and the overcoat layer 35 is slit-shaped. The positions overlapping the notch 35b in plan view are the start point 40b and the end point 40c of the sealing material 40, and the connection part 40a is formed in this part (FIGS. 5A to 5C).
reference).

実施形態4にかかる液晶表示装置10Cに形成される切り欠き部35bは、図11Aに
示すように、シール材40の接続部40aがオーバーコート層35のスリット状の切り欠
き部35bの一部と重なるように形成されている。これにより、シール材40の接続部4
0aの余分なシール材40はオーバーコート層35に形成されたスリット状の切り欠き部
35bに流し込むことができる。さらに、図11Bに示すように、シール材40は、オー
バーコート層35のスリット状の切り欠き部35bに入り込んでいるので、シール材が太
くなりすぎることを抑制することができる。また、このスリット状の切り欠き部35bは
、広範囲に形成されているので、シール材40の接続部40aがずれて形成されても余分
なシール材40をスリット状の切り欠き部35bに流し込むことができる。
As shown in FIG. 11A, the cutout portion 35b formed in the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment is such that the connecting portion 40a of the sealing material 40 is part of the slit-like cutout portion 35b of the overcoat layer 35. It is formed to overlap. Thereby, the connection part 4 of the sealing material 40 is obtained.
The excess sealing material 40 of 0a can be poured into the slit-shaped notch 35b formed in the overcoat layer 35. Furthermore, as shown in FIG. 11B, the sealing material 40 enters the slit-shaped cutout portion 35 b of the overcoat layer 35, so that the sealing material can be prevented from becoming too thick. Further, since the slit-shaped cutout portion 35b is formed in a wide range, even if the connecting portion 40a of the seal material 40 is formed to be shifted, the excess seal material 40 is poured into the slit-shaped cutout portion 35b. Can do.

さらに、第4実施形態にかかる液晶表示装置10Cでは、スリット状の切り欠き部35
bは液晶表示装置10Cの外周側が開放端側となるように形成されている。そのため、押
し潰されて広がったシール材40は、閉鎖端側は切り欠かれた層間膜の段差によって堰き
止められて開放端側に移動し易くなるので、表示領域50の内側に入り込み難くなり、表
示画質に悪影響が生じ難くなる。
Furthermore, in the liquid crystal display device 10 </ b> C according to the fourth embodiment, the slit-shaped notch 35 is formed.
b is formed so that the outer peripheral side of the liquid crystal display device 10C is the open end side. Therefore, the sealing material 40 that has been crushed and spread is blocked by the stepped interlayer film on the closed end side and easily moves to the open end side. The display image quality is less likely to be adversely affected.

なお、実施形態4にかかる液晶表示装置10Cの場合、スリット状の切り欠き部35b
にシール材40の接続部40a以外の部分が塗布されるが、シール材40に比べて切り欠
き部35bの厚さは非常に薄く、また、シール材40にはある程度伸縮性があるので、問
題なく接着される。
In the case of the liquid crystal display device 10C according to the fourth embodiment, the slit-shaped notch 35b.
A portion other than the connecting portion 40a of the sealing material 40 is applied to the sealing material 40, but the thickness of the cutout portion 35b is very thin as compared with the sealing material 40, and the sealing material 40 has a certain degree of elasticity, which is problematic. Glued without.

すなわち、実施形態4の液晶表示装置では実施形態1の液晶表示装置と同様に、シール
材の塗布始点と塗布終点の重なる接続部が太くなることを抑制することができ、シール材
の接続部の太りすぎを抑制して不良品の発生が少ない液晶表示装置を提供することができ
るようになる。
That is, in the liquid crystal display device according to the fourth embodiment, similarly to the liquid crystal display device according to the first embodiment, it is possible to prevent the connecting portion where the application start point and the application end point of the seal material overlap from being thickened. It is possible to provide a liquid crystal display device that suppresses overweight and reduces the occurrence of defective products.

なお、上記実施形態1〜4に述べた以外にも、例えば、両基板31、11にスリット状
の切り欠き部を形成することもできるし、この両基板31、11に形成されたスリット状
の切り欠き部の各切り欠きを平面視で重畳する位置に形成してもよく、ずらして形成して
もよい。
In addition to those described in the first to fourth embodiments, for example, slit-shaped notches can be formed on both the substrates 31 and 11, and the slit-shaped formed on both the substrates 31 and 11 can be formed. Each notch of the notch may be formed at a position where it is overlapped in plan view, or may be formed in a shifted manner.

また、切り欠く樹脂層は、実施形態1〜4でのオーバーコート層及び層間膜に限らず、
他の層を切り欠いてもよく、また、各層全てについて薄く切り欠くようにしてもよい。
Further, the resin layer to be cut out is not limited to the overcoat layer and the interlayer film in Embodiments 1 to 4,
Other layers may be cut out, or all the layers may be cut out thinly.

本発明の実施形態1〜4にかかる液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal display device concerning Embodiments 1-4 of the present invention. 1画素領域を拡大して示した拡大平面図である。It is the enlarged plan view which expanded and showed 1 pixel area | region. 図2のIII−III線で切断した要部断面図である。It is principal part sectional drawing cut | disconnected by the III-III line of FIG. 図1のIV−IV線で切断した要部断面図である。It is principal part sectional drawing cut | disconnected by the IV-IV line of FIG. 図5Aはシール材の塗布を開始し始めた状態を示した概略斜視図であり、図5Bはシール材の始点と終点を接続させた状態を示した概略斜視図であり、図5Cは図5BのVC部分の拡大図である。FIG. 5A is a schematic perspective view showing a state in which the application of the sealing material is started, FIG. 5B is a schematic perspective view showing a state in which the start point and the end point of the sealing material are connected, and FIG. It is an enlarged view of the VC part. 図6Aは実施形態1の液晶表示装置において図1のVI部をカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過した拡大平面図であり、図6Bは図6AのVIB−VIB線で切断した要部断面図である。6A is an enlarged plan view in which the VI portion of FIG. 1 is transmitted through the array substrate with the color filter substrate down in the liquid crystal display device of Embodiment 1, and FIG. 6B is a main portion cut along the VIB-VIB line of FIG. 6A. It is sectional drawing. 実施形態2の液晶表示装置における図4に対応する要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of main parts corresponding to FIG. 4 in the liquid crystal display device of Embodiment 2. 図8Aは実施形態2の液晶表示装置においてアレイ基板を下にしてカラーフィルター基板を透過して見た図6Aに対応する拡大平面図であり、図8Bは図7AのVIII−VIII線で切断した図6Bに対応する要部断面図である。8A is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A viewed through the color filter substrate with the array substrate down in the liquid crystal display device of Embodiment 2, and FIG. 8B is cut along the line VIII-VIII in FIG. 7A. It is principal part sectional drawing corresponding to FIG. 6B. 実施形態3の液晶表示装置における図4に対応する要部断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of main parts corresponding to FIG. 4 in the liquid crystal display device of Embodiment 3. 図10Aは実施形態3の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図6Aに対応する拡大平面図であり、図10Bは図8AのX−X線で切断した図6Bに対応する要部断面図である。10A is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A seen through the array substrate with the color filter substrate facing down in the liquid crystal display device of Embodiment 3, and FIG. 10B is cut along the line XX in FIG. 8A. It is principal part sectional drawing corresponding to FIG. 6B. 図11Aは実施形態4の液晶表示装置においてカラーフィルター基板を下にしてアレイ基板を透過して見た図6Aに対応する拡大平面図であり、図11Bは図9AのXI−XI線で切断した図6Bに対応する要部断面図である。11A is an enlarged plan view corresponding to FIG. 6A seen through the array substrate with the color filter substrate facing down in the liquid crystal display device of Embodiment 4, and FIG. 11B is cut along the XI-XI line of FIG. 9A. It is principal part sectional drawing corresponding to FIG. 6B.

符号の説明Explanation of symbols

10、10A、10B、10C…液晶表示装置 11…アレイ基板 12…透明基板
12a…延在部 13…走査線 14…信号線 15…補助容量線 16…半導体層 1
7…薄膜トランジスター 18…ゲート絶縁膜 19…パッシベーション膜 20…層間
膜 20a…切り欠き部 21…画素電極 31…カラーフィルター基板 32…透明基
板 33…遮光膜 34…カラーフィルター層 35…オーバーコート層 35a…切り
欠き部 35b…切り欠き部 40…シール材 40b…始点 40c…終点 40a…
接続部 41…ディスペンサー 50…表示領域 51…額縁領域 CH…コンタクトホ
ール D…ドレイン電極 G…ゲート電極 S…ソース電極 Dr…ドライバー LC…
液晶 PA…画素領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A, 10B, 10C ... Liquid crystal display device 11 ... Array substrate 12 ... Transparent substrate
12a ... Extension part 13 ... Scanning line 14 ... Signal line 15 ... Auxiliary capacitance line 16 ... Semiconductor layer 1
DESCRIPTION OF SYMBOLS 7 ... Thin-film transistor 18 ... Gate insulating film 19 ... Passivation film 20 ... Interlayer film 20a ... Notch 21 ... Pixel electrode 31 ... Color filter substrate 32 ... Transparent substrate 33 ... Light-shielding film 34 ... Color filter layer 35 ... Overcoat layer 35a ... notch 35b ... notch 40 ... seal 40b ... start point 40c ... end 40a ...
Connection part 41 ... Dispenser 50 ... Display area 51 ... Frame area CH ... Contact hole D ... Drain electrode G ... Gate electrode S ... Source electrode Dr ... Driver LC ...
Liquid crystal PA ... Pixel area

Claims (5)

対向する一対の基板が、表示領域周辺の額縁領域に閉ループ状で配置されたシール材により貼り合わされ、
液晶が、液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
前記一対の基板の一方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、絶縁性の膜からなる層間膜が配置され、
前記一対の基板の他方の基板で、前記液晶が存在する側の前記額縁領域には、絶縁性の膜からなるオーバーコート層が配置され、
前記閉ループ状で配置されたシール材には、塗布始点と塗布終点との接続部が存在し、
前記層間膜及び前記オーバーコート層の両方には、前記接続部と平面視で重畳する位置に、前記液晶表示装置の外周が開放端とされる溝状の複数の切り欠き部が設けられている
液晶表示装置。
A pair of opposing substrates are pasted together by a seal material arranged in a closed loop shape in the frame area around the display area,
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between the pair of substrates by a liquid crystal dropping method,
In one frame of the pair of substrates, an interlayer film made of an insulating film is disposed in the frame region on the side where the liquid crystal exists,
An overcoat layer made of an insulating film is disposed in the frame region on the side where the liquid crystal exists on the other substrate of the pair of substrates,
In the sealing material arranged in the closed loop shape, there is a connection portion between the application start point and the application end point,
Both the interlayer film and the overcoat layer are provided with a plurality of groove-shaped notches that are open at the outer periphery of the liquid crystal display device, at positions that overlap the connection portion in plan view.
Liquid crystal display device.
前記複数の切り欠き部は、スリット状に形成されているThe plurality of notches are formed in a slit shape.
請求項1に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1.
前記複数の切り欠き部が形成される領域は、平面視で前記シール材の接続部より大き
請求項1又は2に記載の液晶表示装置。
Region where the plurality of notches are formed, have a size from the connection portion of the sealing material in a plan view
The liquid crystal display device according to claim 1.
前記層間膜に設けられる前記切り欠き部と、前記オーバーコート層に設けられる前記切り欠き部とは、平面視でずらして形成されるThe cutout portion provided in the interlayer film and the cutout portion provided in the overcoat layer are formed so as to be shifted in plan view.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1.
前記層間膜に設けられる前記切り欠き部と、前記オーバーコート層に設けられる前記切り欠き部とは、平面視で重畳する位置に形成されるThe cutout portion provided in the interlayer film and the cutout portion provided in the overcoat layer are formed at a position where they overlap in a plan view.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示装置。  The liquid crystal display device according to claim 1.
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