JP5402295B2 - Sphere polishing equipment - Google Patents

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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Description

本発明は、球体研磨装置に係り、詳しくは球体供給方法に特徴を有する球体研磨装置に関する。   The present invention relates to a sphere polishing apparatus, and more particularly to a sphere polishing apparatus characterized by a sphere supply method.

ボールベアリングに使用される球体は、例えば、特許文献1に提示された球体研磨装置によって研磨される。この球体研磨装置は、図7(a)〜(c)に示すように、固定研磨面110を備える固定盤101および回転研磨面120を備える回転盤102を備えている。固定研磨面110には断面が半円形であるとともに全体として略円形の固定溝111が複数同心円状に配設されており、一方回転研磨面120には固定溝111と同型の複数の回転溝121が、固定溝111とそれぞれ対向するように配設されている。これら複数の固定溝111と複数の回転溝121とが互いに対向しているため、両者により複数の研磨溝が形成されている。固定盤101には切り欠きが設けられているため固定溝111も一部が途切れている。そのため研磨溝も一部が開放されており、その開放部分の一方の端部に球体を投入する投入口I1〜I7を設け、他方の端部に球体を排出する排出口O1〜O7を設けている。   A sphere used for the ball bearing is polished by, for example, a sphere polishing apparatus disclosed in Patent Document 1. As shown in FIGS. 7A to 7C, the spherical polishing apparatus includes a stationary platen 101 having a fixed polishing surface 110 and a rotating plate 102 having a rotating polishing surface 120. The fixed polishing surface 110 has a semicircular cross section and a plurality of substantially circular fixed grooves 111 arranged concentrically as a whole, while the rotating polishing surface 120 has a plurality of rotating grooves 121 of the same type as the fixed grooves 111. Are arranged so as to face the fixing grooves 111, respectively. Since the plurality of fixed grooves 111 and the plurality of rotating grooves 121 face each other, a plurality of polishing grooves are formed by both of them. Since the fixed platen 101 is provided with a notch, a part of the fixed groove 111 is also cut off. Therefore, a part of the polishing groove is also opened, and the inlets I1 to I7 for introducing the sphere are provided at one end of the open part, and the outlets O1 to O7 for discharging the sphere are provided at the other end. Yes.

回転盤102を回転させた状態で投入口I1〜I7から球体を投入すると、球体は、研磨溝内に保持された状態で、研磨溝の内壁面、即ち、固定溝111および回転溝121の内壁面と球体とが摩擦することにより球体が研磨される。回転盤102の回転に伴い、研磨されつつ球体が排出口O1〜O7へと移動し、やがて排出口O1〜O7から排出される。   When a sphere is inserted from the inlets I1 to I7 while the turntable 102 is rotated, the sphere is held in the polishing groove, and the inner wall surface of the polishing groove, that is, the inside of the fixed groove 111 and the rotation groove 121, The sphere is polished by the friction between the wall surface and the sphere. As the turntable 102 rotates, the sphere moves to the discharge ports O1 to O7 while being polished, and is eventually discharged from the discharge ports O1 to O7.

ところで、この球体研磨装置は、排出口O1〜O7から排出された球体を再び投入口I1〜I7に供給する球体供給装置103を更に備えている。図8も併せて参照して、この供給装置は略有底短円筒状の底部に回転するコンベア131が配設されており、排出口O1〜O7から延設された排出シュート104から供給された球体をコンベア131によって移動させることにより、投入口I1〜I7から延設された投入シュート105を介して球体を再び投入口I1〜I7に供給する。球体研磨装置はこの球体供給装置103を備えているため、球体を必要回数だけ連続的に研磨することができる。   By the way, this sphere polishing apparatus further includes a sphere supply device 103 that supplies the spheres discharged from the discharge ports O1 to O7 to the input ports I1 to I7 again. Referring to FIG. 8 as well, this supply device is provided with a rotating conveyor 131 at the bottom of a substantially bottomed short cylinder, and is supplied from a discharge chute 104 extending from discharge ports O1 to O7. By moving the spheres by the conveyor 131, the spheres are again supplied to the input ports I1 to I7 via the input chute 105 extended from the input ports I1 to I7. Since the sphere polishing apparatus includes the sphere supply device 103, the sphere can be continuously polished as many times as necessary.

ところで、この球体供給装置によると、排出口O1〜O7から排出された球体はコンベア131上で互いに交じり合った状態で投入口I1〜I7に供給されるため、各々の球体の研磨の程度にバラつきが生じる。特許文献1によると、図9に示すように、シュート(投入シュート105に該当)の一部に凹部141を設けて、そこに球体をプールして溝付きシュートの溝に流すようにしたものであり、凹部141によってコンベアから流れて来た球体にブレーキがかかり多く流れて来た側の球体が少ない側に移動してシュートの幅全体に平均し、均一に1列に並ぶようになるため、各球体の盤を通過する回数のバラツキが小さくなり、ロットの相互差を小さくすることが出来る旨、記載されている。   By the way, according to this sphere supply device, the spheres discharged from the discharge ports O1 to O7 are supplied to the input ports I1 to I7 while being mixed with each other on the conveyor 131. Occurs. According to Patent Document 1, as shown in FIG. 9, a concave portion 141 is provided in a part of a chute (corresponding to the input chute 105), and a sphere is pooled there to flow into the groove of the grooved chute. Yes, because the spheres that have flowed from the conveyor by the concave portion 141 are braked and the spheres that have flowed a lot are moved to the smaller side and averaged over the entire width of the chute, so that they are uniformly arranged in one row. It is described that the variation in the number of passes through each sphere board is reduced, and the difference between lots can be reduced.

特開2000−318814JP 2000-318814 A

しかし、「シュートの幅全体に平均し、均一に1列に並ぶようになる」としても、既にコンベア上で投入回数の異なる球体が交じり合う以上、ばらつきは生じることとなり、「球体の盤を通過する回数のバラツキが小さく」なる効果は不十分である。   However, even if “averaged over the entire width of the chute and evenly arranged in a line”, the spheres with different number of throws will already be mixed on the conveyor. The effect of “small variation in the number of times to perform” is insufficient.

本発明は、かかる状態を鑑みてなされたものであり、上記従来に比して、一層球体間の研磨ばらつきを抑制することができる球体研磨装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such a state, and it is an object of the present invention to provide a sphere polishing apparatus that can suppress polishing variation between spheres as compared with the above-described conventional one.

〔1〕本球体研磨装置の独立した一形態は、次の事項を有する。前記球体研磨装置は、固定盤、回転盤、複数の投入口、複数の排出口、複数の連絡通路、および、同時投入装置を有し、前記固定盤は、固定研磨面および複数の固定溝を有し、前記固定溝は、前記固定研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記固定研磨面上における形状が略円形であり、前記複数の固定溝は、同心円状に形成され、前記回転盤は、回転研磨面および複数の回転溝を有し、前記固定盤に対して回転し、前記回転溝は、前記回転研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記回転研磨面上における形状が略円形であり、前記複数の回転溝は、同心円状に形成され、前記固定盤および前記回転盤は、前記固定研磨面および前記回転研磨面が互いに対向しているとき、互いに対向する前記固定溝および前記回転溝のそれぞれにより複数の研磨溝を形成し、前記複数の投入口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する1の研磨溝に球体を投入し、前記複数の排出口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する1の研磨溝から前記球体を排出し、前記複数の連絡通路は、隣り合う2つの研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記隣り合う2つの研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、前記複数の研磨溝のうちの最も外周の研磨溝および最も内周の研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記複数の研磨溝のうちの前記最も外周の研磨溝および前記最も内周の研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、これらの接続構造により、1の前記研磨溝から排出された前記球体を排出された順に次の前記研磨溝に投入し、前記複数の研磨溝の全部を順に通過させ、前記同時投入装置は、ローラーおよびローラー制御装置を有し、前記複数の投入口に同時に前記球体を投入し、前記ローラーは、軟質材により形成され、前記ローラーの外周部を前記球体に接触させて回転することにより、前記球体を前記投入口に投入し、前記ローラー制御装置は、前記ローラーの回転数を制御することにより、前記複数の研磨溝に保持される前記球体の数を制御する。  [1] An independent form of the present spherical polishing apparatus has the following matters. The spherical polishing apparatus has a fixed platen, a rotating plate, a plurality of input ports, a plurality of discharge ports, a plurality of communication passages, and a simultaneous input device, and the fixed platen has a fixed polishing surface and a plurality of fixed grooves. The fixed groove is formed on the fixed polishing surface, the cross-sectional shape is semicircular, the shape on the fixed polishing surface is substantially circular, the plurality of fixed grooves are formed concentrically, The rotating disk has a rotating polishing surface and a plurality of rotating grooves, and rotates with respect to the fixed disk. The rotating groove is formed on the rotating polishing surface and has a semicircular cross-sectional shape. The shape on the surface is substantially circular, the plurality of rotating grooves are formed concentrically, and when the fixed polishing surface and the rotating polishing surface are opposed to each other, That of the fixed groove and the rotating groove facing each other Thus, a plurality of polishing grooves are formed, each of the plurality of inlets inputs a sphere into a corresponding one of the plurality of polishing grooves, and each of the plurality of outlets includes the plurality of polishing grooves. The spherical body is discharged from a corresponding one of the polishing grooves, and the plurality of communication passages are provided with the discharge port for discharging the spherical body from one of the two adjacent polishing grooves, and the two adjacent grooves. The discharge port for discharging the sphere from one of the outermost polishing groove and the innermost polishing groove among the plurality of polishing grooves, and connecting the inlet for inserting the sphere into the other of the polishing grooves. And the insertion port through which the sphere is inserted into the other of the outermost polishing groove and the innermost polishing groove among the plurality of polishing grooves. The sphere discharged from the polishing groove The next polishing groove is inserted in the order in which it is ejected, and all of the plurality of polishing grooves are passed in order. The simultaneous charging device has a roller and a roller control device, and the spheres are simultaneously inserted into the multiple charging ports. The roller is formed of a soft material, and the outer peripheral portion of the roller is rotated in contact with the sphere to rotate the sphere, and the roller control device rotates the roller. By controlling the number, the number of the spheres held in the plurality of polishing grooves is controlled.
〔2〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記複数の連絡通路のそれぞれは、少なくとも一部に搬送管を有し、前記搬送管は、内部がオイルにより満たされている。  [2] An embodiment subordinate to the spherical polishing apparatus has the following matters. Each of the plurality of communication passages has a conveyance pipe at least in part, and the inside of the conveyance pipe is filled with oil.
〔3〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記球体研磨装置は、研磨屑剥離装置を有し、前記研磨屑剥離装置は、前記球体に付着した研磨屑を前記球体から剥離させる。  [3] An embodiment subordinate to the spherical polishing apparatus has the following matters. The sphere polishing device has a polishing dust peeling device, and the polishing dust peeling device peels polishing dust attached to the sphere from the sphere.
〔4〕前記球体研磨装置に従属する一形態は、次の事項を有する。前記連絡通路は、前記球体との接触部分がフッ素コーティングされている。  [4] An embodiment subordinate to the spherical polishing apparatus has the following matters. The communication passage has a fluorine coating at the contact portion with the sphere.

〔1〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。  According to the spherical polishing apparatus of [1], the following effects can be obtained.
(a)1の研磨溝から排出された球体が、同一の研磨溝に繰り返し投入されることがない。  (A) A sphere discharged from one polishing groove is not repeatedly put into the same polishing groove.
(b)各球体が各研磨溝により研磨される回数が略同じ回数になる。このため、各研磨溝の研磨特性にばらつきが存在している場合においても、球体の研磨状態が平均化されやすくなる。  (B) The number of times each sphere is polished by each polishing groove is substantially the same. For this reason, even when there is variation in the polishing characteristics of each polishing groove, the polishing state of the spheres is easily averaged.
(c)球体が研磨溝に投入される回数、すなわち、研磨が研磨溝により研磨される回数を制御することが可能になる。このため、球体の研磨状態のばらつきをより小さくすることが可能になる。  (C) It is possible to control the number of times that the sphere is put into the polishing groove, that is, the number of times polishing is polished by the polishing groove. For this reason, it becomes possible to make the dispersion | variation in the grinding | polishing state of a spherical body smaller.
(d)球体が研磨溝に投入されるときに球体にかかる圧力が小さくなる。このため、球体にかかる圧力に起因して、球体に瑕が生じることが抑制される。  (D) The pressure applied to the sphere when the sphere is put into the polishing groove is reduced. For this reason, it is suppressed that a wrinkle arises in a sphere due to the pressure concerning a sphere.
(e)固定盤および回転盤に一定圧力がかけられた場合において、球体が研磨されるときに1つの球体あたりにかかる圧力が一定になる。このため、研磨される全ての球体が同じ圧力を受ける。このため、球体の研磨状態のばらつきがより小さくなる。  (E) When a fixed pressure is applied to the fixed platen and the rotating platen, the pressure applied to one sphere becomes constant when the sphere is polished. For this reason, all the spheres to be polished are subjected to the same pressure. For this reason, the dispersion | variation in the grinding | polishing state of a sphere becomes smaller.

〔3〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。  According to the spherical polishing apparatus of [3], the following effects can be obtained.
球体が研磨溝に投入される前に研磨屑が除去されるため、研磨により球体が傷つくことが抑制される。  Since the polishing debris is removed before the sphere is put into the polishing groove, the sphere is prevented from being damaged by polishing.

〔4〕の球体研磨装置によれば、以下の効果が得られる。  According to the spherical polishing apparatus of [4], the following effects can be obtained.
球体が排出口から投入口に輸送されるときの摩擦抵抗が小さいため、球体がスムーズに輸送される。また、連絡通路内において球体が傷つきにくくなる。  Since the frictional resistance when the sphere is transported from the outlet to the inlet is small, the sphere is transported smoothly. In addition, the sphere is less likely to be damaged in the communication passage.

本発明によれば、上記従来に比して、一層球体間の研磨ばらつきを抑制することができる球体研磨装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a sphere polishing apparatus that can suppress polishing variation between spheres in a single layer as compared with the above-described conventional one.

実施形態の球体研磨装置の斜視図。The perspective view of the spherical body polisher of an embodiment. 実施形態の同時投入装置の斜視図。The perspective view of the simultaneous injection | throwing-in apparatus of embodiment. 図2のA−A線の断面図。Sectional drawing of the AA line of FIG. 変形例のシュートの断面図。Sectional drawing of the chute | shoot of a modification. 実施例1の検査結果であって、相互差および直径不同を示すグラフ。It is a test result of Example 1, and shows a mutual difference and a diameter difference. 比較例1の検査結果であって、相互差および直径不同を示すグラフ。It is a test result of the comparative example 1, Comprising: A graph which shows a mutual difference and diameter disparity. (a)従来の球体研磨装置の斜視図。(b)固定盤の固定研磨面を示す平面(A) The perspective view of the conventional spherical polishing apparatus. (B) Plane showing the fixed polishing surface of the fixed platen 図。(c)回転盤の回転研磨面を示す平面図。Figure. (C) The top view which shows the rotation grinding | polishing surface of a turntable. 従来の球体研磨装置の平面図。The top view of the conventional spherical body polisher. 従来の投入シュートの斜視図。The perspective view of the conventional throwing chute.

以下、本発明を具体化した球体研磨装置の一実施形態を図1〜図4にしたがって説明する。
この球体研磨装置は、図1に示すように、固定研磨面10を備える固定盤1および回転研磨面20を備える回転盤2を備えている。固定研磨面10には断面が半円形であるとともに全体として略円形の固定溝11が複数同心円状に配設されており、一方回転研磨面20には固定溝11と同型の複数の回転溝が、固定溝11とそれぞれ対向するように配設されている。これら複数の固定溝11と複数の回転溝とが互いに対向しているため、両者により複数の研磨溝が形成されている。固定盤1には切り欠きが設けられているため固定溝11も一部が途切れている。そのため研磨溝も一部が開放されており、その開放部分の一方の端部に球体を投入する投入口I1〜I7を設け、他方の端部に球体を排出する排出口O1〜O7を設けている。
An embodiment of a spherical polishing apparatus embodying the present invention will be described below with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1, the spherical polishing apparatus includes a stationary platen 1 having a fixed polishing surface 10 and a rotating plate 2 having a rotating polishing surface 20. The fixed polishing surface 10 has a semicircular cross section and a plurality of substantially circular fixed grooves 11 arranged concentrically as a whole, while the rotating polishing surface 20 has a plurality of rotating grooves of the same type as the fixed grooves 11. The fixing grooves 11 are arranged to face each other. Since the plurality of fixed grooves 11 and the plurality of rotating grooves face each other, a plurality of polishing grooves are formed by both of them. Since the fixed platen 1 is provided with a notch, the fixed groove 11 is also partially cut off. Therefore, a part of the polishing groove is also opened, and the inlets I1 to I7 for introducing the sphere are provided at one end of the open part, and the outlets O1 to O7 for discharging the sphere are provided at the other end. Yes.

回転盤2を回転させた状態で投入口I1〜I7から球体を投入すると、球体は、研磨溝内に保持された状態で、研磨溝の内壁面、即ち、固定溝11および回転溝の内壁面と球体とが摩擦することにより球体が研磨される。回転盤2の回転に伴い、研磨されつつ球体が排出口O1〜O7へと移動し、やがて排出口O1〜O7から排出される。   When the sphere is introduced from the inlets I1 to I7 while the turntable 2 is rotated, the sphere is held in the polishing groove, and the inner wall surface of the polishing groove, that is, the fixed groove 11 and the inner wall surface of the rotation groove. The sphere is polished by friction between the sphere and the sphere. As the turntable 2 rotates, the sphere moves to the discharge ports O1 to O7 while being polished, and is eventually discharged from the discharge ports O1 to O7.

更に、この球体研磨装置は、複数の研磨溝のうちの1の溝から排出口O1〜O7を介して排出された球体が、投入口I1〜I7を介して複数の研磨溝の他の溝に投入されるように排出口O1〜O7と投入口I1〜I7を連絡する複数の連絡通路3を更に備えている。また、複数の連絡通路3は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されていることを特徴とする。 Further, in this sphere polishing apparatus, the sphere discharged from one of the plurality of polishing grooves through the discharge ports O1 to O7 is transferred to the other grooves of the plurality of polishing grooves through the input ports I1 to I7. A plurality of communication passages 3 for connecting the discharge ports O1 to O7 and the input ports I1 to I7 so as to be charged are further provided . The plurality of communication passages 3 are characterized in that the spheres are arranged so as to pass through all of the plurality of polishing grooves in order.

より具体的には、固定盤1の切欠き部の1方端に設けられた排出口O1〜O7の各々から搬送管31を延設する。この搬送管31内はオイルで満たされているため、搬送管31内で球体同士がぶつかり合うことにより傷つくことが抑制されている。また、この搬送管31の内部はフッ素コーティングされているため、摩擦抵抗が小さく、球体が管壁との摩擦により傷つくことをも防止されている。この搬送管31はエレベータ32にそれぞれ接続されており、搬送された球体は各々所定の高さまで、上昇させられる。なお、研磨溝内部に供給され、球体とともに搬送管31内部に流入した切削液はこのエレベータ32により球体が上昇させられる過程において自然落下するが、エレベータ32の上昇経路上に圧搾空気を球体に吹き付けることができる空気吹付装置34が備えられており、空気を吹き付けることにより研磨屑を球体から剥離させる。即ち、この空気吹付装置34が、研磨屑剥離装置として機能する。   More specifically, the transport pipe 31 is extended from each of the discharge ports O1 to O7 provided at one end of the notch portion of the fixed platen 1. Since the inside of this conveyance pipe 31 is filled with oil, it is suppressed that a spherical body collides in the conveyance pipe 31 and is damaged. Further, since the inside of the conveying pipe 31 is coated with fluorine, the frictional resistance is small, and the spherical body is prevented from being damaged by friction with the pipe wall. The transport pipes 31 are connected to the elevators 32, and the transported spheres are raised to a predetermined height. The cutting fluid supplied into the polishing groove and flowing into the conveying pipe 31 together with the sphere naturally falls in the process of raising the sphere by the elevator 32, but the compressed air is blown onto the sphere on the rising path of the elevator 32. An air blowing device 34 that can perform the above operation is provided, and the abrasive debris is separated from the sphere by blowing air. That is, the air blowing device 34 functions as a polishing dust peeling device.

エレベータ32の上部からは各々の球体を投入口I1〜I7へ供給する供給管33が、投入口I1〜I7に向って各々延設されており、投入口I1〜I7では、各々の供給管33は同時投入装置を介して各々研磨溝に接続されている。この供給管33内もオイルで満たされているため、供給管33内で球体同士がぶつかり合うことにより傷つくことも抑制されている。また、供給管33の内周面もフッ素コーティングされている。このように、上述の連絡通路3は搬送管31、エレベータ32および供給管33から構成されている。   From the upper part of the elevator 32, supply pipes 33 for supplying the respective spheres to the input ports I1 to I7 are respectively extended toward the input ports I1 to I7. Are connected to each polishing groove via a simultaneous charging device. Since the inside of the supply pipe 33 is also filled with oil, it is suppressed that the spherical bodies collide with each other in the supply pipe 33 and are damaged. The inner peripheral surface of the supply pipe 33 is also coated with fluorine. As described above, the communication passage 3 includes the transport pipe 31, the elevator 32, and the supply pipe 33.

同時投入装置50は複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための装置であって、より具体的には、図2に示すように、一方の端部を各々の研磨溝に、他方の端部を各々の供給管33に接続された複数の溝51を備えるシュート5とローラー52とを備えている。このローラー52は、図3に示すように、複数の溝51に各々供給された球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7から投入する。このローラー52は溝51の幅方向に1列に並んだ球体を同時に各々の研磨溝に投入するため、球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にすることができる。従って投入時に球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる瑕の発生を抑制することができる。また、ローラー52は少なくとも外周部がウレタンで形成されているため、ローラー52の外周部が球体に接触することにより球体が傷つくことも防止される。またこのローラー52はローラー制御装置53によりその回転を制御されているため、複数の研磨溝に保持される球体の数を容易に制御することができる。つまりこのローラー52とローラー制御装置53とによって、複数の研磨溝に保持された前記球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構が構成されている。   The simultaneous charging device 50 is a device for simultaneously charging a sphere into each of a plurality of polishing grooves, and more specifically, as shown in FIG. Are provided with a chute 5 having a plurality of grooves 51 connected to each supply pipe 33 and a roller 52. As illustrated in FIG. 3, the roller 52 rotates the spheres supplied to the plurality of grooves 51 with their outer peripheral portions in contact with each other, thereby inserting the spheres from the inlets I1 to I7. Since this roller 52 puts the spheres arranged in a line in the width direction of the groove 51 into each polishing groove at the same time, the pressure applied to each sphere when the sphere is thrown can be minimized. Therefore, the generation | occurrence | production of the soot which arises when an excessive pressure is applied to a spherical body at the time of injection | throwing-in can be suppressed. Further, since at least the outer peripheral portion of the roller 52 is made of urethane, it is possible to prevent the spherical body from being damaged by the outer peripheral portion of the roller 52 coming into contact with the spherical body. Since the rotation of the roller 52 is controlled by the roller control device 53, the number of spheres held in the plurality of polishing grooves can be easily controlled. That is, the roller 52 and the roller control device 53 constitute a sphere number control mechanism that controls the number of the spheres held in the plurality of polishing grooves to a desired constant.

上述のように、搬送管31、エレベータ32、供給管33によって、複数の連絡通路3が形成されている。この複数の連絡通路3は研磨溝と同数設けられる。そして、複数の研磨溝の1の溝から排出口O1〜O7を介して排出された球体が、投入口I1〜I7を介して複数の研磨溝の他の溝に投入されるように排出口O1〜O7と投入口I1〜I7とを連絡している。更に、複数の連絡通路3は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されている。具体的に説明する。例えば、研磨溝が7本ある場合、外周側から順にL1〜L7とする。同様にL1〜L7に対応する投入口を、図1に示すように、各々I1〜I7、排出口をO1〜O7とする。ここで、一端(搬送管31側)を排出口O1に接続された1の連絡通路3は、他端(供給管33側)をシュート5を介して投入口I
2に接続されている。同様に、一端(搬送管31側)を排出口O2に接続された1の連絡
通路3は、他端(供給管33側)をシュート5を介して投入口I3に接続されている。以後、他の連絡通路3も同様に接続されており、一端(搬送管31側)を排出口O7に接続されたの連絡通路3は他端(供給管33側)をシュート5を介して投入口I1に接続さ
れている。このように、球体が複数の研磨溝の全てを順に通過するように、複数の連絡通路3は、それぞれ配設されている。
As described above, the plurality of communication passages 3 are formed by the transport pipe 31, the elevator 32, and the supply pipe 33. The plurality of communication passages 3 are provided in the same number as the polishing grooves. Then, the discharge port O1 so that the sphere discharged from one groove of the plurality of polishing grooves through the discharge ports O1 to O7 is input to the other grooves of the plurality of polishing grooves through the input ports I1 to I7. -O7 and the inlets I1-I7 are connected. Further, the plurality of communication passages 3 are arranged so that the sphere passes through all of the plurality of polishing grooves in order. This will be specifically described. For example, when there are seven polishing grooves, L1 to L7 are set in order from the outer peripheral side. Similarly, as shown in FIG. 1, the inlets corresponding to L1 to L7 are I1 to I7 and the outlets are O1 to O7, respectively. Here, one communication passage 3 having one end (conveying pipe 31 side) connected to the discharge port O1 is connected to the other end (supply pipe 33 side) through the chute 5 through the inlet I.
2 is connected. Similarly, one communication path 3 having one end (conveying pipe 31 side) connected to the discharge port O2 has the other end (supply pipe 33 side) connected to the input port I3 via the chute 5. Thereafter, is connected the other communication passage 3 likewise, one communication passage 3 is connected to the discharge port O7 (the transport pipe 31 side) 1 via a chute 5 to the other end (side supply pipe 33) It is connected to the inlet I1. In this way, the plurality of communication passages 3 are respectively disposed so that the sphere passes through all of the plurality of polishing grooves in order.

ここで、研磨溝は上述のように固定盤1に設けられた固定溝11と回転盤2に設けられた回転溝とによって形成されているため、固定溝11および回転溝が同心円状に配設されている関係上、外周側から内周側に向うにつれて、即ちL1からL7に向うにつれて、短くなる。従来においては、各球体がいずれの研磨溝を通過するかについては偶然に任されていたため、長い研磨溝を通過した球体は研磨の程度が大きく、短い研磨溝を通過した球体は研磨の程度が小さい結果であった。研磨を繰り返すことによって平均値としては、一定の研磨程度の球体が得られるとしても、全体としてばらつきが大きくなっていた。本実施形態においては、研磨する全ての球体が研磨溝の全てを順に通過するため、研磨程度のばらつきを小さくすることが可能となる。また、研磨溝の長さの長短以外のばらつきがあった場合においても同様の効果が得られる。   Here, since the polishing groove is formed by the fixed groove 11 provided in the fixed platen 1 and the rotary groove provided in the rotary plate 2 as described above, the fixed groove 11 and the rotary groove are arranged concentrically. In view of this, the length decreases from the outer peripheral side toward the inner peripheral side, that is, from L1 to L7. In the past, since each sphere passed through which polishing groove by chance, the sphere that passed through the long polishing groove had a high degree of polishing, and the sphere that passed through the short polishing groove had a high degree of polishing. It was a small result. Even if spheres having a certain degree of polishing were obtained by repeating polishing, the variation was large as a whole. In this embodiment, since all the spheres to be polished pass through all of the polishing grooves in order, it is possible to reduce the variation in the degree of polishing. The same effect can be obtained even when there are variations other than the length of the polishing groove.

上記実施形態の球体研磨装置によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)上記実施形態では、複数の研磨溝のうちの1の溝(例えば、研磨溝L1)から排出口(例えば、排出口O1)を介して排出された球体が、投入口(例えば、投入口I2)を介して複数の研磨溝の他の溝(例えば、研磨溝L2)に投入されるように排出口と投入口を連絡する複数の連絡通路3を備える。従って、ある研磨溝(例えば、研磨溝L1)から出た球体は、確実に他の研磨溝(例えば、研磨溝L2)に投入され、同一の研磨溝(例えば、研磨溝L1)に繰り返し投入され、研磨されることはない。また、複数の連絡通路3は、球体が、複数の研磨溝の全てを順に通過するようにそれぞれ配されているため、どの球体も、全部の研磨溝L1〜L7に略同一回数保持されることにより研磨される。そのため、各々の研磨溝の研磨特性にばらつきがあった場合においても、研磨回数を増やすことにより全ての球体を平均的な研磨状態とすることができる。また、球体が、複数の研磨溝L1〜L7の全てを順に通過するようにそれぞれ配されているため、球体の投入回数、即ち、研磨回数も完全に制御することができるので、球体の研磨状態のばらつきを一層小さくすることが可能となる。
According to the spherical polishing apparatus of the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) In the above-described embodiment, the sphere discharged from one of the plurality of polishing grooves (for example, the polishing groove L1) through the discharge port (for example, the discharge port O1) There are provided a plurality of communication passages 3 that connect the discharge port and the input port so as to be input into another groove (for example, the polishing groove L2) of the plurality of polishing grooves via the opening I2). Accordingly, a sphere that has exited from a certain polishing groove (for example, the polishing groove L1) is reliably put into another polishing groove (for example, the polishing groove L2), and repeatedly put into the same polishing groove (for example, the polishing groove L1). Will not be polished. Further, since the plurality of communication passages 3 are arranged so that the spheres pass through all of the plurality of polishing grooves in order, all the spheres are held in all the polishing grooves L1 to L7 approximately the same number of times. It is polished by. Therefore, even when there are variations in the polishing characteristics of the respective polishing grooves, all the spheres can be brought into an average polishing state by increasing the number of polishing times. In addition, since the spheres are arranged so as to pass through all of the plurality of polishing grooves L1 to L7 in order, the number of times the spheres are charged, that is, the number of polishing times can be completely controlled. It is possible to further reduce the variation of the.

(2)上記実施形態では、投入口I1〜I7には複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための同時投入装置50が設けられているため、球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にすることができる。従って投入時に球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる瑕の発生を抑制することができる。   (2) In the above-described embodiment, the introduction ports I1 to I7 are provided with the simultaneous introduction device 50 for simultaneously introducing the spheres into the grooves of the plurality of polishing grooves. Pressure can be minimized. Therefore, the generation | occurrence | production of the soot which arises when an excessive pressure is applied to a spherical body at the time of injection | throwing-in can be suppressed.

(3)上記実施形態では、複数の研磨溝に保持された球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構を備えるため、研磨溝に保持された球体の数を研磨時に一定数に保つことができる。従って、固定盤1と回転盤2とに一定圧力をかけた場合において、球体1つあたりに掛かる圧力が研磨時において同一となる。その結果、研磨される全ての球体が常に同一圧力を受けつつ研磨されるため、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となる。   (3) In the above embodiment, since the sphere number control mechanism for controlling the number of spheres held in the plurality of polishing grooves to a desired constant is provided, the number of spheres held in the polishing grooves is set to a constant number during polishing. Can keep. Accordingly, when a fixed pressure is applied to the fixed platen 1 and the rotary platen 2, the pressure applied to one sphere is the same during polishing. As a result, since all the spheres to be polished are polished while always receiving the same pressure, it is possible to further reduce the variation in the polishing state of the spheres.

(4)上記実施形態では、球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7から投入するローラー52を備えるため、ローラー52の回転により容易に球体を同時投入できる。またローラー52の回転数を制御することにより、複数の研磨溝に保持された球体の数を容易に所望の一定数に制御できる。 (4) In the above-described embodiment, since the roller 52 for feeding the sphere from the inlets I <b> 1 to I <b> 7 is provided by rotating the sphere while bringing the outer peripheral portion into contact with the sphere, the sphere can be easily fed simultaneously by the rotation of the roller 52. Further, by controlling the number of rotations of the roller 52, the number of spheres held in the plurality of polishing grooves can be easily controlled to a desired constant.

(5)上記実施形態では、同時投入装置50は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7から投入するローラー52とローラー52の回転数を制御するローラー制御装置53とを備える。そのため、ローラー制御装置53によりローラー52の回転数を制御することにより、複数の研磨溝L1〜L7に保持された球体の数を容易に所望の一定数に制御できる。 (5) In the above embodiment, the simultaneous throwing device 50 rotates the sphere while the outer peripheral portion is in contact with the sphere, and the roller 52 that feeds the sphere from the charging ports I1 to I7 and the roller control device 53 that controls the rotation speed of the roller 52. With. Therefore, by controlling the rotation speed of the roller 52 by the roller control device 53, the number of spheres held in the plurality of polishing grooves L1 to L7 can be easily controlled to a desired constant.

(6)上記実施形態では、連絡通路3中のエレベータ32には球体に付着した研磨屑を当該球体より剥離させる研磨屑剥離装置として機能する空気吹付装置34が設けられているため、エレベータ32を通過した球体は、研磨屑が除かれた状態で再び研磨されるため、研磨屑により球体が傷つくことを防止できる。   (6) In the above embodiment, the elevator 32 in the communication passage 3 is provided with the air blowing device 34 that functions as a polishing dust peeling device that peels the polishing dust attached to the sphere from the sphere. Since the passed sphere is polished again with the polishing debris removed, it is possible to prevent the sphere from being damaged by the polishing debris.

(7)上記実施形態では、連絡通路3を構成する搬送管31および供給管33の球体と接触する部分はフッ素コーティングされているため、球体を排出口O1〜O7から投入口I1〜I7へ輸送する際の摩擦抵抗が小さくなり、輸送がスムーズとなる。また、連絡通路3内において球体が傷つくことを防止できる。 (7) In the above embodiment, since the spheres and portions contacting the carrier tube 31 and the supply pipe 33 constituting the communication passage 3 is fluorine coated, transport spheres from the discharge port O1~O7 to inlet I1~I7 The frictional resistance at the time of carrying out becomes small, and transportation becomes smooth. Further, the spherical body can be prevented from being damaged in the communication passage 3.

なお、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態においては、連絡通路のうち、搬送管31および供給管33の内周面、即ち球体と接触する部分がフッ素コーティングされているが、他の構成であっても良い。要は、鋼球の傷が防止できれば良いのであるから、他の潤滑方法を採っても良いし、一方のみコーティングしても良い。また連絡通路内において球体に傷がつくことが問題とならなければ、コーティングを割愛し、コストダウンを図っても良い。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, the inner peripheral surfaces of the conveyance pipe 31 and the supply pipe 33 in the communication passage 3 , that is, the portions that come into contact with the spheres are coated with fluorine, but other configurations may be used. In short, since it is only necessary to prevent damage to the steel balls, other lubrication methods may be used, or only one of them may be coated. If it is not a problem that the spherical body is damaged in the communication passage 3 , the coating may be omitted to reduce the cost.

・上記実施形態においては、研磨により発生し、前記球体に付着した研磨屑を球体より剥離させる研磨屑剥離装置としての空気吹付装置34がエレベータ32に設けられているが、他の構成であっても良い。例えば、設置上問題が生じなければ、エレベータ32でなくとも連絡通路3上のどこに設けても良い。また、研磨屑を球体より剥離させれば良いのであるから、空気吹付装置34に換えて、洗油等による洗浄装置等を設けても良い。   In the above embodiment, the air blowing device 34 is provided in the elevator 32 as a polishing dust peeling device that peels polishing dust generated by polishing and adhered to the sphere from the sphere. Also good. For example, if there is no problem in installation, it may be provided anywhere on the communication path 3, not the elevator 32. Moreover, since it is only necessary to peel off the polishing debris from the sphere, a cleaning device using oil cleaning or the like may be provided instead of the air blowing device 34.

・上記実施形態においては、同時投入装置50は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7から投入するローラー52を備えているが、他の構成であっても良い。要は球体を同時投入できれば良いのであるから、例えば、シュート5上に、閉状態において球体の通行を妨げる開閉自在な邪魔板を設け、係る邪魔板の開閉により、球体を同時投入しても良い。 In the above-described embodiment, the simultaneous charging device 50 includes the roller 52 that loads the sphere from the loading ports I1 to I7 by rotating the sphere with the outer peripheral portion in contact with the sphere, but may have other configurations. . In short, since it is only necessary to simultaneously insert the spheres, for example, an openable / closable baffle plate that prevents passage of the sphere in the closed state may be provided on the chute 5, and the spheres may be simultaneously inserted by opening / closing the baffle plate. .

・上記実施形態においては、ローラー52が球体に接する部分において、溝51がローラー52の形状に対応して湾曲しているが、例えば図4に示すように、係る湾曲はなくても良い。ローラー52が外周部を球体に接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7に投入することができれば、形状が特に限定されることはない。 In the above embodiment, the groove 51 is curved corresponding to the shape of the roller 52 at the portion where the roller 52 is in contact with the sphere. However, as shown in FIG. The shape of the roller 52 is not particularly limited as long as the sphere can be inserted into the insertion ports I1 to I7 by rotating the roller 52 with the outer peripheral portion in contact with the sphere.

・上記実施形態においては、ローラー52はウレタンでできているが他の構成であっても良い。球体に傷をつけなければ良いのであるから、ゴム等の他の軟質材を使用しても良い。
・上記実施形態においては、同時投入装置50は球体に外周部を接触させて回転することにより球体を投入口I1〜I7から投入するローラー52と同ローラーの回転数を制御するローラー制御装置53とを備え、ローラー制御装置53によりローラー回転数を制御することにより、複数の研磨溝に保持された球体の数を制御しているが、他の構成であっても良い。複数の研磨溝に保持された球体の数を制御できるのであれば良いので、例えば、投入口I1〜I7と排出口O1〜O7とにセンサーおよびカウンターをつけての研磨溝に保持された球体の数を算出し、算出結果に基づいて球体の投入数を直接制御しても良い。
In the above embodiment, the roller 52 is made of urethane, but may have other configurations. Since it is sufficient that the sphere is not damaged, other soft materials such as rubber may be used.
In the above-described embodiment, the simultaneous charging device 50 rotates with the outer periphery contacting the sphere, and the roller 52 that loads the sphere from the loading ports I1 to I7 and the roller control device 53 that controls the rotation speed of the roller. The number of spheres held in the plurality of polishing grooves is controlled by controlling the number of rotations of the roller by the roller control device 53. However, other configurations may be used. Since it is only necessary to be able to control the number of spheres held in a plurality of polishing grooves, for example, the spheres held in the polishing grooves with sensors and counters attached to the inlets I1 to I7 and the outlets O1 to O7. The number of spheres may be directly controlled based on the calculation result.

記構成によると、複数の研磨溝に保持された球体の数を所望の一定数に制御する球体数制御機構を備えるため、研磨溝に保持された球体の数を研磨時に一定数に保つことができる。従って、固定盤と回転盤とに一定圧力をかけた場合において、球体1つあたりに掛かる圧力が研磨時において同一となる。その結果、研磨される全ての球体が常に同一圧力を受けつつ研磨されるため、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となる。要は、研磨される球体1個当たりが常に同一圧力を受けつつ研磨されれば、球体の研磨状態のばらつきをより一層小さくすることが可能となるのであるから、他の構成であっても良い。例えば、研磨溝に保持された球体の数に対応して、固定盤1と回転盤2とにかける圧力を変動させる構成であっても良い。 According to the above Symbol structure, comprising a spherical number control mechanism for controlling the number of spheres held in a plurality of polishing grooves to a desired predetermined number, it is kept constant number at the time of polishing a number of spheres held on the polishing groove Can do. Accordingly, when a fixed pressure is applied to the fixed platen 1 and the rotary platen 2 , the pressure applied to one sphere is the same during polishing. As a result, since all the spheres to be polished are polished while always receiving the same pressure, it is possible to further reduce the variation in the polishing state of the spheres. The point is that if each sphere to be polished is polished while always receiving the same pressure, the variation in the polished state of the sphere can be further reduced, so other configurations may be used. . For example, the pressure applied to the fixed platen 1 and the rotary platen 2 may be changed in accordance with the number of spheres held in the polishing groove.

・上記実施形態においては、投入口I1〜I7には複数の研磨溝の各溝に同時に球体を投入するための同時投入装置50が設けられているが、他の構成であっても良い。球体の投入時に各々の球体に掛る圧力を最小にし、球体に過剰な圧力が掛ることによって生じる傷の発生を抑制することが目的であるため、かかる傷の発生を抑制できるのであれば他の方法を採っても良い。また、投入時の傷発生が問題とならないのであれば、同時投入装置50を割愛し、コストダウンを図っても良い。 In the above-described embodiment, the charging ports I1 to I7 are provided with the simultaneous charging device 50 for simultaneously loading the spheres into the grooves of the plurality of polishing grooves, but other configurations may be used. The purpose is to minimize the pressure applied to each sphere when the sphere is inserted and to suppress the generation of scratches caused by excessive pressure applied to the spheres. May be taken. In addition, if the occurrence of scratches at the time of charging does not become a problem, the simultaneous charging device 50 may be omitted to reduce the cost.

上記実施形態において述べた球体研磨装置を用いた球体研磨の実施例を以下に示す。
〔球体研磨装置と研磨方法〕
鋳鉄製の固定盤、砥石材料で形成した回転盤を使用し、それぞれ同心円状に7本の研磨溝を形成した。複数の連絡通路は、球体が、複数の研磨溝の全てを外周側から順に通過するようにそれぞれ配設した。係る球体研磨装置に、研磨する球体として直径が3/8inchより大きい鋼球を7列同時に投入し、同時に研磨溝内に保持される球体数が一定となるように投入速度を調整した。固定盤と回転盤は一定圧で加圧したため、球体1個当たりに掛かる圧力も一定の状態で研磨された。また回転盤の回転数も研磨工程全般にわたり一定に保たれた。この球体研磨装置によって鋼球の平均直径が基準となる大きさまで研磨された。この過程において1時間ごとに20個の球体を各列からサンプリングし、以下の測定・算出をした。
Examples of spherical polishing using the spherical polishing apparatus described in the above embodiment are shown below.
[Sphere polishing apparatus and polishing method]
Using a fixed plate made of cast iron and a rotating plate made of a grindstone material, seven polishing grooves were formed concentrically. The plurality of communication passages were respectively arranged so that the spheres passed through all of the plurality of polishing grooves in order from the outer peripheral side. Seven rows of steel balls having a diameter larger than 3/8 inch were simultaneously introduced into the sphere polishing apparatus as the sphere to be polished, and the charging speed was adjusted so that the number of spheres held in the polishing groove was constant at the same time. Since the stationary platen and the rotating plate were pressurized at a constant pressure, the pressure applied to each sphere was polished in a constant state. In addition, the rotation speed of the rotating disk was kept constant throughout the polishing process. With this sphere polishing apparatus, the steel balls were polished to a standard size based on the average diameter of the steel balls. In this process, 20 spheres were sampled from each row every hour, and the following measurements / calculations were made.

〔直径の測定〕
各球体をマイクロメータでランダムに5箇所測定する。
〔最大値〕
上記5箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした20個の球体のうち、平均直径が最も大きい値を最大値とする。
[Diameter measurement]
Each sphere is measured randomly at five locations with a micrometer.
〔Maximum value〕
Let the average value of the measurement result of said 5 places be an average diameter of a sphere. Of the 20 spheres sampled at the same time, the largest average diameter is taken as the maximum value.

〔最小値〕
上記5箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした20個の球体のうち、平均直径が最も小さい値を最小値とする。
〔minimum value〕
Let the average value of the measurement result of said 5 places be an average diameter of a sphere. Of the 20 spheres sampled at the same time, the value with the smallest average diameter is taken as the minimum value.

〔平均値〕
上記5箇所の測定結果の平均値を球体の平均直径とする。同時にサンプリングした20個の球体の平均直径の平均を求め、平均値とする。
〔Average value〕
Let the average value of the measurement result of said 5 places be an average diameter of a sphere. The average of the average diameters of 20 spheres sampled at the same time is obtained and set as the average value.

〔相互差〕
上記最大値と上記最小値との差を相互差とする。この算出結果を図5に示す。
〔直径不同〕
一つの球体の上記5箇所の直径の測定値のうち、最大直径と最小直径の差分を直径不同とする。更に、同時にサンプリングした20個の球体の直径不同の平均を求め、平均直径不同とする。この算出結果を図5に示す。
[Mutual difference]
A difference between the maximum value and the minimum value is defined as a mutual difference. The calculation result is shown in FIG.
[Diameter unmatched]
Among the measured values of the diameters of the five locations of one sphere, the difference between the maximum diameter and the minimum diameter is assumed to be the same. Further, the average of the diameters of the 20 spheres sampled at the same time is obtained, and the average diameter is determined to be the same. The calculation result is shown in FIG.

(比較例1)
複数の連絡通路の代わりに従来使用されているコンベアによって移動させることにより、投入口から延設された投入シュートを介して球体を再び投入口に供給する球体供給装置を用いた以外は同構造の球体研磨装置を用いて、球体を研磨した。このときの投入速度は実施例1と同様になるように調整した。また、同時に研磨溝内に保持される球体数も実施例1と同様になるように調整した。固定盤と回転盤は一定圧で加圧したため、球体1個当たりに掛かる圧力も一定の状態で研磨された。また回転盤の回転数も研磨工程全般にわたり一定に保たれた。この球体研磨装置によって鋼球の平均直径が基準となる大きさまで研磨された。この過程において1時間ごとに20個の球体を各列からサンプリングし、実施例1と同様に〔直径の測定〕、〔最大値〕、〔最小値〕、〔平均値〕、〔相互差〕、〔直径不同〕を測定ないしは算出した。〔相互差〕および〔直径不同〕算出結果を図6に示す。
(Comparative Example 1)
It has the same structure except that it uses a sphere supply device that recirculates the sphere to the input port via an input chute that is extended from the input port by moving it using a conventional conveyor instead of a plurality of communication passages. The spheres were polished using a sphere polishing apparatus. The charging speed at this time was adjusted to be the same as in Example 1. At the same time, the number of spheres held in the polishing groove was adjusted to be the same as in Example 1. Since the stationary platen and the rotating plate were pressurized at a constant pressure, the pressure applied to each sphere was polished in a constant state. In addition, the rotation speed of the rotating disk was kept constant throughout the polishing process. With this sphere polishing apparatus, the steel balls were polished to a standard size based on the average diameter of the steel balls. In this process, 20 spheres were sampled from each row every hour, and [Diameter measurement], [Maximum value], [Minimum value], [Average value], [Mutual difference], [Any diameter] was measured or calculated. FIG. 6 shows the calculation results of [mutual difference] and [diameter difference].

(比較結果)
図5と図6とを比較すると、相互差、直径不同はいずれも実施例1の方が好転している。特に相互差は比較例1に対して1/2以下となっており、球体同士のばらつきが大きく減少したことがわかる。また、相互差、直径不同のいずれにおいても顕著であった経時的なばらつき(グラフの波うち)も減少している。従って、実施例1と比較例1との比較より、本実施例において比較例に比して、球体間の研磨ばらつきを抑制することができたと言える。
(Comparison result)
When FIG. 5 and FIG. 6 are compared, both the difference and the difference in diameter are better in Example 1. In particular, the mutual difference is 1/2 or less that of Comparative Example 1, and it can be seen that the variation between the spheres is greatly reduced. In addition, the time-dependent variation (out of the wave in the graph) that was remarkable in both the mutual difference and the diameter difference is also reduced. Therefore, it can be said from the comparison between Example 1 and Comparative Example 1 that the variation in polishing between the spheres in this example could be suppressed as compared with the comparative example.

本発明は、球体供給装置に特徴を有する球体研磨装置に関するものであるので、ベアリング等に使用する球体作成用の球体研磨装置として広く利用することが可能である。   Since the present invention relates to a sphere polishing apparatus characterized by a sphere supply apparatus, it can be widely used as a sphere polishing apparatus for creating a sphere used for a bearing or the like.

1・・・固定盤、2・・・回転盤、3・・・連絡通路、5・・・シュート、10・・・固定研磨面、11・・・固定溝、20・・・回転研磨面、31・・・搬送管、32・・・エレベータ、33・・・供給管、34・・・空気吹付装置、50・・・同時投入装置、51・・・溝、52・・・ローラー、53・・・ローラー制御装置、101・・・固定盤、102・・・回転盤、103・・・球体供給装置、104・・・排出シュート、105・・・投入シュート、110・・・固定研磨面、111・・・固定溝、120・・・回転研磨面、121・・・回転溝、131・・・コンベア、141・・・凹部、I1〜I7・・・投入口、O1〜O7・・・排出口。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Fixed disk, 2 ... Rotating disk, 3 ... Communication path, 5 ... Chute, 10 ... Fixed grinding | polishing surface, 11 ... Fixed groove | channel, 20 ... Rotation grinding | polishing surface, 31 ... Conveying pipe, 32 ... Elevator, 33 ... Supply pipe, 34 ... Air spraying device, 50 ... Simultaneous injection device, 51 ... Groove, 52 ... Roller, 53 ..Roller control device, 101... Fixed plate, 102... Rotating plate, 103... Sphere supply device, 104... Discharge chute, 105. DESCRIPTION OF SYMBOLS 111 ... Fixed groove | channel, 120 ... Rotary grinding | polishing surface, 121 ... Rotation groove | channel, 131 ... Conveyor, 141 ... Recessed part, I1-I7 ... Input port, O1-O7 ... Discharge Exit.

Claims (4)

球体を研磨する球体研磨装置であって、  A sphere polishing apparatus for polishing a sphere,
前記球体研磨装置は、固定盤、回転盤、複数の投入口、複数の排出口、複数の連絡通路、および、同時投入装置を有し、  The spherical polishing apparatus has a stationary platen, a rotating plate, a plurality of input ports, a plurality of discharge ports, a plurality of communication passages, and a simultaneous input device,
前記固定盤は、固定研磨面および複数の固定溝を有し、  The fixed platen has a fixed polishing surface and a plurality of fixed grooves,
前記固定溝は、前記固定研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記固定研磨面上における形状が略円形であり、  The fixed groove is formed in the fixed polishing surface, the cross-sectional shape is semicircular, the shape on the fixed polishing surface is substantially circular,
前記複数の固定溝は、同心円状に形成され、  The plurality of fixing grooves are formed concentrically,
前記回転盤は、回転研磨面および複数の回転溝を有し、前記固定盤に対して回転し、  The rotating disk has a rotating polishing surface and a plurality of rotating grooves, and rotates with respect to the fixed disk.
前記回転溝は、前記回転研磨面に形成され、断面形状が半円形であり、前記回転研磨面上における形状が略円形であり、  The rotary groove is formed on the rotary polishing surface, the cross-sectional shape is semicircular, the shape on the rotary polishing surface is substantially circular,
前記複数の回転溝は、同心円状に形成され、  The plurality of rotating grooves are formed concentrically,
前記固定盤および前記回転盤は、前記固定研磨面および前記回転研磨面が互いに対向しているとき、互いに対向する前記固定溝および前記回転溝のそれぞれにより複数の研磨溝を形成し、  When the fixed polishing surface and the rotating polishing surface are opposed to each other, the fixed plate and the rotating plate form a plurality of polishing grooves by the fixed groove and the rotating groove facing each other,
前記複数の投入口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する1の研磨溝に球体を投入し、  Each of the plurality of inlets throws a sphere into a corresponding one of the plurality of polishing grooves,
前記複数の排出口のそれぞれは、前記複数の研磨溝のうちの対応する1の研磨溝から前記球体を排出し、  Each of the plurality of discharge ports discharges the sphere from a corresponding one of the plurality of polishing grooves,
前記複数の連絡通路は、隣り合う2つの研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記隣り合う2つの研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、前記複数の研磨溝のうちの最も外周の研磨溝および最も内周の研磨溝の一方から前記球体を排出する前記排出口と、前記複数の研磨溝のうちの前記最も外周の研磨溝および前記最も内周の研磨溝の他方に前記球体を投入する前記投入口とを互いに接続し、これらの接続構造により、1の前記研磨溝から排出された前記球体を排出された順に次の前記研磨溝に投入し、前記複数の研磨溝の全部を順に通過させ、  The plurality of communication passages connect the discharge port for discharging the sphere from one of the two adjacent polishing grooves and the input port for supplying the sphere to the other of the two adjacent polishing grooves, The discharge port for discharging the sphere from one of the outermost polishing groove and the innermost polishing groove among the plurality of polishing grooves, the outermost polishing groove and the most outermost of the plurality of polishing grooves The other inlet of the polishing groove on the inner circumference is connected to the inlet for introducing the sphere, and by these connection structures, the sphere discharged from one of the polishing grooves is transferred to the next polishing groove in the order of discharge. And pass through all of the plurality of polishing grooves in order,
前記同時投入装置は、ローラーおよびローラー制御装置を有し、前記複数の投入口に同時に前記球体を投入し、  The simultaneous throwing device has a roller and a roller control device, and simultaneously throws the sphere into the plurality of throwing ports,
前記ローラーは、軟質材により形成され、前記ローラーの外周部を前記球体に接触させて回転することにより、前記球体を前記投入口に投入し、  The roller is formed of a soft material, and rotates the outer peripheral portion of the roller in contact with the sphere, thereby throwing the sphere into the inlet.
前記ローラー制御装置は、前記ローラーの回転数を制御することにより、前記複数の研磨溝に保持される前記球体の数を制御する  The roller control device controls the number of the spheres held in the plurality of polishing grooves by controlling the number of rotations of the roller.
球体研磨装置。  Sphere polishing equipment.
前記複数の連絡通路のそれぞれは、少なくとも一部に搬送管を有し、  Each of the plurality of communication passages has a conveyance pipe at least in part,
前記搬送管は、内部がオイルにより満たされている  The inside of the transport pipe is filled with oil
請求項1に記載の球体研磨装置。  The sphere polishing apparatus according to claim 1.
前記球体研磨装置は、研磨屑剥離装置を有し、  The sphere polishing device has a polishing dust peeling device,
前記研磨屑剥離装置は、前記球体に付着した研磨屑を前記球体から剥離させる  The polishing debris peeling device peels the polishing debris adhering to the sphere from the sphere.
請求項1または2に記載の球体研磨装置。  The sphere polishing apparatus according to claim 1 or 2.
前記連絡通路は、前記球体との接触部分がフッ素コーティングされている  In the communication passage, the contact portion with the sphere is coated with fluorine.
請求項1〜3のいずれか一項に記載の球体研磨装置。  The spherical body polisher as described in any one of Claims 1-3.
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