JP5400801B2 - Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component - Google Patents

Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component Download PDF

Info

Publication number
JP5400801B2
JP5400801B2 JP2010544097A JP2010544097A JP5400801B2 JP 5400801 B2 JP5400801 B2 JP 5400801B2 JP 2010544097 A JP2010544097 A JP 2010544097A JP 2010544097 A JP2010544097 A JP 2010544097A JP 5400801 B2 JP5400801 B2 JP 5400801B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
conductive paste
electronic component
multilayer ceramic
external electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010544097A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2010074119A1 (en
Inventor
仙一 五十嵐
浩樹 丸山
幸司 佐々木
博雅 菅田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namics Corp
Original Assignee
Namics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namics Corp filed Critical Namics Corp
Priority to JP2010544097A priority Critical patent/JP5400801B2/en
Publication of JPWO2010074119A1 publication Critical patent/JPWO2010074119A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5400801B2 publication Critical patent/JP5400801B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C1/00Details
    • H01C1/14Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
    • H01C1/148Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors the terminals embracing or surrounding the resistive element
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/18Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material comprising a plurality of layers stacked between terminals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/228Terminals
    • H01G4/232Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • H01G4/2325Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor characterised by the material of the terminals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/29Terminals; Tapping arrangements for signal inductances
    • H01F27/292Surface mounted devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Description

本発明は、外部電極用導電性ペースト、及びそれを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品に関する。   The present invention relates to a conductive paste for external electrodes and a multilayer ceramic electronic component having external electrodes formed using the same.

従来の積層セラミック電子部品について、図1に示す積層セラミックコンデンサを例にとって説明する。積層セラミックコンデンサ1は、セラミック誘電体2と内部電極3とを交互に積層したセラミック複合体の内部電極取り出し面に外部電極4を備えた構造を有する。   A conventional multilayer ceramic electronic component will be described by taking the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 1 as an example. The multilayer ceramic capacitor 1 has a structure in which an external electrode 4 is provided on an internal electrode extraction surface of a ceramic composite in which ceramic dielectrics 2 and internal electrodes 3 are alternately stacked.

外部電極4の形成にあたっては、高温での焼成が不要なことから、熱硬化型導電性ペーストが多用されている。典型的には、熱硬化型導電性ペーストを用いて形成された外部電極4の表面には、基板等へはんだ付けする際の接着強度を高めるため、メッキ処理層5が施されている。   In forming the external electrode 4, a thermosetting conductive paste is frequently used because firing at a high temperature is not required. Typically, the surface of the external electrode 4 formed using a thermosetting conductive paste is provided with a plating layer 5 in order to increase the adhesive strength when soldering to a substrate or the like.

近年、積層セラミック電子部品の電気特性(静電容量、tanδ)を改善すべく、高融点の金属粒子と、それよりも低い融点の金属粒子とを組み合わせた熱硬化型導電性ペーストにより、内部電極との接合性に優れた外部電極を形成する技術が提案されている(特許文献1〜3参照)。しかしながら、最近のコンデンサ等の積層セラミック電子部品に対する高周波対応等の高性能化の要求に応えるべく、外部電極としたときに、いっそう良好な電気特性(静電容量、tanδ)をもたらす、外部電極用導電性ペーストが求められている。   In recent years, in order to improve the electrical characteristics (capacitance, tan δ) of multilayer ceramic electronic components, a thermosetting conductive paste in which high melting point metal particles and lower melting point metal particles are combined is used as an internal electrode. There has been proposed a technique for forming an external electrode excellent in bondability with each other (see Patent Documents 1 to 3). However, in order to meet the recent demand for higher performance such as high frequency response for multilayer ceramic electronic parts such as capacitors, when used as an external electrode, it provides even better electrical characteristics (capacitance, tan δ). There is a need for conductive pastes.

特開2000−182883号公報JP 2000-182883 A 国際公開第2004/053901号パンフレットInternational Publication No. 2004/053901 Pamphlet 国際公開第2007/072894号パンフレットInternational Publication No. 2007/072894 Pamphlet

本発明は、積層セラミック電子部品の外部電極としたときに、良好な電気特性(静電容量、tanδ)をもたらす、外部電極用導電性ペースト、及びそれを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品を提供することを目的とする。   The present invention relates to a conductive paste for an external electrode that provides good electrical characteristics (capacitance, tan δ) when used as an external electrode of a multilayer ceramic electronic component, and a multilayer ceramic having the external electrode formed using the conductive paste The purpose is to provide electronic components.

本発明は、(A)平均粒子径が0.2〜30μmである、融点が700℃以上の金属粒子と、(B)平均粒子径が0.2〜18μmである、融点が200℃以上700℃未満の金属粒子と、(C)硝酸銅、シアン化銅、オクタン酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートからなる群より選択される銅含有化合物;アミノ化合物;並びに場合により有機溶媒を混合してなるペーストと、(D)熱硬化性樹脂とを含有する、外部電極用導電性ペーストに関する。   The present invention includes (A) metal particles having an average particle diameter of 0.2 to 30 μm and a melting point of 700 ° C. or more, and (B) an average particle diameter of 0.2 to 18 μm, and a melting point of 200 to 700 ° C. A copper-containing compound selected from the group consisting of metal particles of less than ° C. and (C) copper nitrate, copper cyanide, copper octoate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate; The present invention relates to a conductive paste for an external electrode, comprising an amino compound; and optionally a paste obtained by mixing an organic solvent, and (D) a thermosetting resin.

また、本発明は、上記外部電極用導電性ペーストを用いて形成された外部電極を有する積層セラミック電子部品に関する。   The present invention also relates to a multilayer ceramic electronic component having an external electrode formed using the conductive paste for external electrodes.

本発明の外部電極用導電性ペーストを硬化させることにより、良好な電気特性(静電容量、tanδ)を有する積層セラミック電子部品の外部電極が提供される。本発明においては、特定の銅含有化合物を、アミノ化合物及び場合により有機溶媒と混合してなるペーストとして配合することにより、外部電極の形成に際して、導電性ペースト中の金属粒子間及び導電性ペースト中の金属粒子と内部電極間の拡散及び合金化が進行すると推測され、その結果、良好な電気特性が得られると考えられる。   By curing the conductive paste for external electrodes of the present invention, an external electrode of a multilayer ceramic electronic component having good electrical properties (capacitance, tan δ) is provided. In the present invention, a specific copper-containing compound is blended as a paste formed by mixing an amino compound and, optionally, an organic solvent, thereby forming the external electrode between the metal particles in the conductive paste and in the conductive paste. It is presumed that diffusion and alloying between the metal particles and the internal electrode proceed, and as a result, good electrical characteristics are considered to be obtained.

また、本発明によれば、上記外部電極が形成された良好な電気特性(静電容量、tanδ)を有する積層セラミック電子部品が提供される。   In addition, according to the present invention, a multilayer ceramic electronic component having good electrical characteristics (capacitance, tan δ) on which the external electrode is formed is provided.

積層セラミック電子部品の一例である、積層セラミックコンデンサについての、従来の構造の模式図である。It is a schematic diagram of the conventional structure about the multilayer ceramic capacitor which is an example of a multilayer ceramic electronic component.

本発明の外部電極用導電性ペーストは、(A)平均粒子径が0.2〜30μmである、融点が700℃以上の金属粒子と、(B)平均粒子径が0.2〜18μmである、融点が200℃以上700℃未満の金属粒子と、(C)硝酸銅、シアン化銅、オクタン酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートからなる群より選択される銅含有化合物;アミノ化合物;並びに場合により有機溶媒を混合してなるペーストと、(D)熱硬化性樹脂とを含有することを特徴とする。   The conductive paste for external electrodes of the present invention has (A) an average particle diameter of 0.2 to 30 μm, a metal particle having a melting point of 700 ° C. or more, and (B) an average particle diameter of 0.2 to 18 μm. From the group consisting of metal particles having a melting point of 200 ° C. or higher and lower than 700 ° C., and (C) copper nitrate, copper cyanide, copper octoate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate The paste contains a selected copper-containing compound; an amino compound; and optionally an organic solvent, and (D) a thermosetting resin.

(A)は、外部電極に導電性を付与するための成分であり、平均粒子径が0.2〜30μmである、融点が700℃以上の金属粒子ならば、特に限定されない。(A)の融点は、好ましくは800℃以上である。融点の上限は、特に限定されないが、通常、1800℃以下であり、1600℃以下が好ましい。(A)は、単独で、又は2種以上を併用することができる。   (A) is a component for imparting conductivity to the external electrode, and is not particularly limited as long as it is a metal particle having an average particle diameter of 0.2 to 30 μm and a melting point of 700 ° C. or higher. The melting point of (A) is preferably 800 ° C. or higher. Although the upper limit of melting | fusing point is not specifically limited, Usually, it is 1800 degrees C or less, and 1600 degrees C or less is preferable. (A) can be used alone or in combination of two or more.

(A)としては、Ag、Cu、Ni、Pd、Au及びPtの金属粒子が挙げられる。優れた導電性が比較的容易に得られることから、Agの粒子が好ましい。   Examples of (A) include Ag, Cu, Ni, Pd, Au, and Pt metal particles. Ag particles are preferable because excellent conductivity can be obtained relatively easily.

また、Ag、Cu、Ni、Pd、Au及びPtの合金であって、融点が700℃以上の粒子が挙げられる。優れた導電性が比較的容易に得られることから、Ag合金の粒子が好ましい。   Moreover, it is an alloy of Ag, Cu, Ni, Pd, Au and Pt and has a melting point of 700 ° C. or higher. Since excellent conductivity can be obtained relatively easily, particles of Ag alloy are preferable.

合金の粒子としては、Ag、Cu、Ni、Pd、Au及びPtからなる群より選ばれる2種以上の元素で構成される合金の粒子が挙げられ、2元系のAg合金としては、AgCu合金、AgAu合金、AgPd合金、AgNi合金等が挙げられ、3元系のAg合金としては、AgPdCu合金、AgCuNi合金等が挙げられる。   The alloy particles include alloy particles composed of two or more elements selected from the group consisting of Ag, Cu, Ni, Pd, Au, and Pt. The binary Ag alloy includes an AgCu alloy. , AgAu alloy, AgPd alloy, AgNi alloy and the like, and the ternary Ag alloy includes AgPdCu alloy, AgCuNi alloy and the like.

さらに、合金の粒子としては、Ag、Cu、Ni、Pd、Au及びPtから選ばれる1種以上の元素と他の1種以上の元素で構成される合金の粒子であって、合金としての融点が700℃以上の粒子が挙げられる。他の元素としては、Zn、Al、Snが挙げられ、SnとAgとの2元系の合金の場合、SnとAgの重量比が、25.5:74.5よりもAgの比率が多いAgSn合金を使用することができる。   Further, the alloy particles are alloy particles composed of one or more elements selected from Ag, Cu, Ni, Pd, Au and Pt and one or more other elements, and have a melting point as the alloy. May be particles having a temperature of 700 ° C. or higher. Other elements include Zn, Al, and Sn. In the case of a binary alloy of Sn and Ag, the weight ratio of Sn to Ag is higher than that of 25.5: 74.5. An AgSn alloy can be used.

(A)の形状は、球状、フレーク状、りん片状、針状等、どのような形状のものであってもよい。これらの平均粒子径は、印刷又は塗布の後の表面状態が良好で、また、形成した外部電極に優れた導電性を付与できることから、0.2〜20μmが好ましく、より好ましくは0.2〜15μmである。なお、本明細書において、平均粒子径とは、球状の場合は粒子径、フレーク状の場合は最長部の径、りん片状の場合は粒子薄片の長径、針状の場合は長さのそれぞれ平均をいう。また、特段の記載がない限り、金属粒子の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察して画像解析により求めた値とする。   The shape of (A) may be any shape such as a spherical shape, a flake shape, a flake shape, and a needle shape. These average particle diameters are preferably 0.2 to 20 μm, more preferably 0.2 to 20 μm because the surface state after printing or coating is good and excellent electrical conductivity can be imparted to the formed external electrode. 15 μm. In the present specification, the average particle diameter is the particle diameter in the case of a sphere, the diameter of the longest part in the case of flakes, the long diameter of the particle flakes in the case of flakes, and the length in the case of needles, respectively. Mean means. Unless otherwise specified, the average particle diameter of the metal particles is a value obtained by image analysis through observation with a scanning electron microscope (SEM).

(A)は、導電性の点から、Ag粒子が好ましく、平均粒子径0.2〜5μmの球状のAg粒子と、平均粒子径5〜30μmのフレーク状のAg粒子を、99:1〜75:25の重量比で含むことが特に好ましい。   (A) is preferably an Ag particle from the viewpoint of conductivity, and spherical Ag particles having an average particle diameter of 0.2 to 5 μm and flaky Ag particles having an average particle diameter of 5 to 30 μm are 99: 1 to 75. : It is particularly preferable to include it in a weight ratio of 25.

(B)は、外部電極に導電性を付与するための成分であるとともに、セラミック複合体の内部電極との接合性を向上するのに寄与する成分であり、平均粒子径が0.2〜18μmである、融点が200℃以上700℃未満の金属粒子であるならば、特に限定されない。(B)の融点は、内部電極との接合性が比較的容易に得られることから、好ましくは300〜500℃である。(B)は、単独で、又は2種以上を併用することができる。(B)が、内部電極との良好な接合性をもたらす理由は明確に判明していないが、外部電極を形成する際の加熱により、(B)が外部電極の層中に拡散していくことが一因と考えられる。なお、熱硬化樹脂が硬化する加熱温度であれば、(B)の融点を下回る温度であっても拡散が生じ、内部電極との接合性の向上が期待できる。   (B) is a component for imparting conductivity to the external electrode, and a component that contributes to improving the bondability of the ceramic composite with the internal electrode, and has an average particle size of 0.2 to 18 μm. If it is a metal particle whose melting | fusing point is 200 degreeC or more and less than 700 degreeC, it will not specifically limit. The melting point of (B) is preferably 300 to 500 ° C., since the bondability with the internal electrode can be obtained relatively easily. (B) can be used alone or in combination of two or more. The reason why (B) brings about good bondability with the internal electrode is not clearly understood, but (B) diffuses into the layer of the external electrode by heating when forming the external electrode. Is considered to be a cause. In addition, if it is the heating temperature which a thermosetting resin hardens | cures, even if it is the temperature lower than melting | fusing point of (B), a spreading | diffusion will arise and it can anticipate the improvement of adhesiveness with an internal electrode.

(B)としては、Sn、In、Zn及びBiの金属粒子が挙げられる。(B)は、非Pbであることが好ましい。   Examples of (B) include Sn, In, Zn, and Bi metal particles. (B) is preferably non-Pb.

また、Sn、In及びBiの合金であって、200℃以上700℃未満の粒子が挙げられる。優れた導電性が比較的容易に得られることから、Sn合金が好ましい。合金の粒子としては、Sn、In及びBiからなる群より選ばれる2種以上の元素で構成される合金の粒子が挙げられ、2元系の合金としては、SnIn合金が挙げられる。   Moreover, it is an alloy of Sn, In, and Bi, and includes particles having a temperature of 200 ° C. or higher and lower than 700 ° C. An Sn alloy is preferable because excellent conductivity can be obtained relatively easily. Examples of alloy particles include alloy particles composed of two or more elements selected from the group consisting of Sn, In, and Bi. Examples of binary alloys include SnIn alloys.

さらに、合金の粒子としては、Sn、In及びBiから選ばれる1種以上の元素と他の1種以上の元素で構成される合金の粒子であって、合金としての融点が200℃以上700℃未満の粒子が挙げられる。他の元素としては、例えばAg、Cu、Ni、Zn、Al、Pd、Au及びPtが挙げられ、Sn、In及びBiから選ばれる1種以上の元素と、Ag、Cu、Ni、Zn、Al、Pd、Au及びPtから選ばれる1種以上の元素とで構成される合金が挙げられる。具体的には、SnZn合金、SnAg合金、SnCu合金、SnAl合金、InAg合金、InZn合金、BiAg合金、BiNi合金、BiZn合金又はBiPb合金等の2元系合金で、融点が200℃以上700℃未満の粒子が挙げられ、3元系の合金としては、SnAgCu合金、InAgCu合金又はBiAgCu合金等の3元系の合金で、融点が200℃以上700℃未満の粒子が挙げられる。   Further, the alloy particles are alloy particles composed of one or more elements selected from Sn, In and Bi and one or more other elements, and the melting point of the alloy is 200 ° C. or higher and 700 ° C. Less than particles. Examples of other elements include Ag, Cu, Ni, Zn, Al, Pd, Au, and Pt. One or more elements selected from Sn, In, and Bi, and Ag, Cu, Ni, Zn, Al , Pd, Au, and an alloy composed of one or more elements selected from Pt. Specifically, a binary alloy such as SnZn alloy, SnAg alloy, SnCu alloy, SnAl alloy, InAg alloy, InZg alloy, BiAg alloy, BiNi alloy, BiZn alloy, or BiPb alloy has a melting point of 200 ° C. or higher and lower than 700 ° C. Examples of the ternary alloy include ternary alloys such as SnAgCu alloy, InAgCu alloy, and BiAgCu alloy, and particles having a melting point of 200 ° C. or higher and lower than 700 ° C.

SnとAgとの2元系の合金の場合、SnとAgの重量比が25.5:74.5よりもSnの比率が多い合金を使用することができる。特に、重量比が50:50〜89:11のSnAg合金が好ましい。   In the case of a binary alloy of Sn and Ag, an alloy having a Sn / Ag weight ratio greater than 25.5: 74.5 can be used. In particular, a SnAg alloy having a weight ratio of 50:50 to 89:11 is preferable.

(B)の形状は、球状、フレーク状、りん片状、針状等、どのような形状のものであってもよい。これらの平均粒子径は、印刷又は塗布の後の表面状態が良好で、また、形成した外部電極に導電性を付与できる点、また酸化防止の点から、2〜16μmが好ましく、7〜14μmがより好ましい。   The shape of (B) may be any shape such as a spherical shape, a flake shape, a flake shape, and a needle shape. These average particle diameters are preferably 2 to 16 μm, preferably 7 to 14 μm from the viewpoint that the surface state after printing or coating is good, the conductivity can be imparted to the formed external electrode, and oxidation prevention. More preferred.

(C)は、硝酸銅、シアン化銅、オクタン酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートからなる群より選択される銅含有化合物;アミノ化合物;及び場合により有機溶媒を混合してなるペーストである。   (C) is a copper-containing compound selected from the group consisting of copper nitrate, copper cyanide, copper octoate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate; an amino compound; Is a paste formed by mixing an organic solvent.

上記の銅含有化合物は、硝酸銅、シアン化銅、オクタン酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートからなる群より選択され、単独で、又は2種以上を併用することができる。ここで、上記の各銅含有化合物は、無水物及び水和物を包含することとする。例えば、ギ酸銅は、ギ酸銅(無水物)、ギ酸銅(二水和物)及びギ酸銅(四水和物)を包含し、酢酸銅は、酢酸銅(無水物)及び酢酸銅(一水和物)を包含し、硝酸銅には、硝酸銅(無水物)及び硝酸銅(三水和物)を包含する。シアン化銅、オクタン酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートは、通常、無水物である。   The copper-containing compound is selected from the group consisting of copper nitrate, copper cyanide, copper octoate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate, alone or in combination of two or more. Can be used in combination. Here, each said copper containing compound shall include an anhydride and a hydrate. For example, copper formate includes copper formate (anhydrous), copper formate (dihydrate) and copper formate (tetrahydrate), and copper acetate includes copper acetate (anhydride) and copper acetate (monohydrate). And copper nitrate includes copper nitrate (anhydride) and copper nitrate (trihydrate). Copper cyanide, copper octoate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate are usually anhydrous.

上記の銅含有化合物としては、アミノ化合物への可溶化の点から、ギ酸銅(無水物)、ギ酸銅(二水和物)、ギ酸銅(四水和物)、酢酸銅又は酢酸銅(一水和物)が好ましい。特に、ギ酸銅(四水和物)、酢酸銅(無水物)が好ましい。   As said copper containing compound, from the point of solubilization to an amino compound, copper formate (anhydride), copper formate (dihydrate), copper formate (tetrahydrate), copper acetate or copper acetate (one Hydrates) are preferred. In particular, copper formate (tetrahydrate) and copper acetate (anhydride) are preferable.

アミノ化合物は、置換又は非置換のアミノ基を1個以上含有する化合物であって、上記の銅含有化合物を可溶化する成分である。置換アミノ基の置換基としては、アルキル基等が挙げられる。アミノ化合物は、単独で、又は2種以上を併用することができる。アミノ化合物としては、鎖状アミノ化合物が挙げられ、中でも炭素数2〜10の鎖状アミノ化合物が好ましい。また、脂環式環含有アミノ化合物も使用することができ、例えば、シクロアルカン環含有アミノ化合物が挙げられ、好ましくは1,2−ジアミノシクロヘキサンのような炭素数5〜8のシクロアルカン環含有アミノ化合物が挙げられる。   An amino compound is a compound that contains one or more substituted or unsubstituted amino groups, and is a component that solubilizes the copper-containing compound. Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group. Amino compounds can be used alone or in combination of two or more. Examples of the amino compound include a chain amino compound, and a chain amino compound having 2 to 10 carbon atoms is preferable. An alicyclic ring-containing amino compound can also be used, for example, a cycloalkane ring-containing amino compound, preferably a cycloalkane ring-containing amino acid having 5 to 8 carbon atoms such as 1,2-diaminocyclohexane. Compounds.

アミノ化合物としては、具体的には、式(i):
NR123 (i)
(式中、R1は、水酸基、メトキシ基、エトキシ基又はアミノ基で一置換されている炭素数2〜4のアルキル基を表し、R2及びR3は、それぞれ独立して、水素であるか、又は水酸基もしくはアミノ基で置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基を表す)で示されるアミノ化合物が好ましく、R2及びR3の少なくとも一方が水素である、式(i)のアミノ化合物がより好ましい。
Specifically, as the amino compound, the formula (i):
NR 1 R 2 R 3 (i)
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms that is monosubstituted by a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or an amino group, and R 2 and R 3 are each independently hydrogen. Or an amino compound having a carbon number of 1 to 3 which may be substituted with a hydroxyl group or an amino group), and at least one of R 2 and R 3 is hydrogen. The amino compound is more preferable.

可溶化の点から、式(i)のアミノ化合物としては、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、1−アミノ−2−プロパノール、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノエタノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、N−メチル−1,3−ジアミノプロパン、3,3'−ジアミノジプロピルアミン、2−メトキシエチルアミン、1,3−ジアミノプロパン、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール等の第1級アミノ基を含有する化合物、N−メチルエタノールアミン、2,2’−イミノジエタノール等の第2級アミノ基を含有する化合物、又は2−ジメチルアミノエタノール等の第3級アミノ基を含有する化合物を用いることが好ましく、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールが特に好ましい。   From the viewpoint of solubilization, the amino compounds of formula (i) include 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, 1-amino-2-propanol, 3-amino-1-propanol, 2-aminoethanol, 2 -Amino-2-methyl-1-propanol, N-methyl-1,3-diaminopropane, 3,3'-diaminodipropylamine, 2-methoxyethylamine, 1,3-diaminopropane, 2- (2-amino A compound containing a primary amino group such as ethylamino) ethanol, a compound containing a secondary amino group such as N-methylethanolamine or 2,2′-iminodiethanol, or a compound such as 2-dimethylaminoethanol. It is preferable to use a compound containing a tertiary amino group, and 2-amino-2-methyl-1-propanol is particularly preferable.

作業性等の点から、場合により、アルコール類、ケトン類、エーテル類、芳香族炭化水素類等の有機溶媒を添加して、粘度を調整することができる。   From the viewpoint of workability and the like, the viscosity can be adjusted by adding an organic solvent such as alcohols, ketones, ethers, and aromatic hydrocarbons depending on circumstances.

上記アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンチルアルコール、ターピネオール、ジヒドロターピネオール等が挙げられる。   Examples of the alcohols include methanol, ethanol, propanol, butanol, pentyl alcohol, terpineol, dihydroterpineol and the like.

上記ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン等が挙げられる。   Examples of the ketones include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, and 3-pentanone.

上記エーテル類としては、例えば、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。   Examples of the ethers include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether and the like.

上記芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbons include toluene and xylene.

上記の銅含有化合物1モルに対して、アミノ化合物(例えば、式(i)のアミノ化合物)は、0.5〜10モルであることが好ましく、より好ましくは1〜6モルである。   It is preferable that an amino compound (for example, amino compound of a formula (i)) is 0.5-10 mol with respect to 1 mol of said copper containing compounds, More preferably, it is 1-6 mol.

ギ酸銅(四水和物)と2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールを組み合わせて用いるときには、ギ酸銅(四水和物)1モルに対して、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールが2〜6モルが好ましく、より好ましくは3.5〜4.5モルである。酢酸銅(無水物)と3−メトキシプロピルアミンを組み合わせて用いるときには、酢酸銅(無水物)1モルに対して、3−メトキシプロピルアミンが1〜6モルが好ましく、より好ましくは2〜4モルである。   When copper formate (tetrahydrate) and 2-amino-2-methyl-1-propanol are used in combination, 2-amino-2-methyl-1-based on 1 mol of copper formate (tetrahydrate). 2-6 mol of propanol is preferable, More preferably, it is 3.5-4.5 mol. When copper acetate (anhydride) and 3-methoxypropylamine are used in combination, 1 to 6 moles of 3-methoxypropylamine are preferred, more preferably 2 to 4 moles per mole of copper acetate (anhydride). It is.

(C)は、特定の銅含有化合物、アミノ化合物及び場合により有機溶媒を配合し、混合することにより調製することができる。混合は、好ましくは20〜65℃、より好ましくは20〜50℃で、発熱反応が終了するまで攪拌する。   (C) can be prepared by blending and mixing a specific copper-containing compound, an amino compound and optionally an organic solvent. The mixing is preferably performed at 20 to 65 ° C, more preferably 20 to 50 ° C, and stirring is performed until the exothermic reaction is completed.

(D)は、バインダとして機能するものであり、熱硬化性樹脂であれば、特に限定されない。具体的には、尿素樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂のようなアミノ樹脂;ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、フェノールノボラック型、ベンゼン環を多数有した多官能型であるテトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型又はトリス(ヒドロキシフェニル)メタン型、脂環式等のエポキシ樹脂;オキセタン樹脂;レゾール型、アルキルレゾール型、ノボラック型、アルキルノボラック型、アラルキルノボラック型のようなフェノール樹脂;シリコーンエポキシ、シリコーンポリエステルのようなシリコーン変性有機樹脂、ビスマレイミド、ポリイミド樹脂等が挙げられる。また、例えば、BTレジンも使用することができる。中でも、硬化時の体積収縮による外部電極用導電性ペーストの導電性向上、外部電極用導電性ペーストと積層セラミック電子部品との密着性向上の観点から、エポキシ樹脂が好ましく、2官能以上のエポキシ樹脂がより好ましく、以下の一般式(1):   (D) functions as a binder and is not particularly limited as long as it is a thermosetting resin. Specifically, amino resins such as urea resin, melamine resin, and guanamine resin; bisphenol A type, bisphenol F type, phenol novolac type, tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type that is a polyfunctional type having many benzene rings or Tris (hydroxyphenyl) methane type, cycloaliphatic epoxy resin; Oxetane resin; Resol type, alkylresole type, novolak type, alkyl novolak type, aralkyl novolak type phenolic resin; silicone epoxy, silicone polyester, etc. Examples include silicone-modified organic resins, bismaleimides, and polyimide resins. For example, BT resin can also be used. Among these, an epoxy resin is preferable from the viewpoint of improving the conductivity of the conductive paste for external electrodes due to volume shrinkage at the time of curing, and improving the adhesion between the conductive paste for external electrodes and the multilayer ceramic electronic component. Is more preferable, and the following general formula (1):

Figure 0005400801
(式中、Xは(CH)pを示し、pは0〜3の整数である)で示されるエポキシ樹脂がさらに好ましく、式(1)においてpが0である一般式(2):
Figure 0005400801
(Wherein X represents (CH 2 ) p, p is an integer of 0 to 3), and an epoxy resin represented by general formula (2) in which p is 0 in formula (1):

Figure 0005400801
で示される1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型エポキシ樹脂が、特に好ましい。これらの樹脂は、単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
Figure 0005400801
A 1,1,2,2-tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type epoxy resin represented by the formula is particularly preferred. These resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂として、常温で液状である樹脂を用いると、希釈剤としての有機溶剤の使用量を低減することができるため好ましい。このような液状樹脂としては、液状エポキシ樹脂、液状フェノール樹脂等が例示される。また、これらの液状樹脂に相溶性があり、かつ常温で固体ないし超高粘性を呈する樹脂を、混合系が流動性を示す範囲内でさらに添加混合してもよい。そのような樹脂として、高分子量のビスフェノールA型エポキシ樹脂、ジグリシジルビフェニル、ノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂のようなエポキシ樹脂;レゾール型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、アラルキルノボラック型フェノール樹脂等が例示される。   It is preferable to use a resin that is liquid at room temperature because the amount of the organic solvent used as a diluent can be reduced. Examples of such a liquid resin include a liquid epoxy resin and a liquid phenol resin. Further, a resin that is compatible with these liquid resins and that exhibits a solid or ultra-high viscosity at room temperature may be further added and mixed within a range in which the mixed system exhibits fluidity. Examples of such resins include high molecular weight bisphenol A type epoxy resins, diglycidyl biphenyl, novolac type epoxy resins, tetrabromobisphenol A type epoxy resins; resol type phenol resins, novolac type phenol resins, aralkyl novolac types A phenol resin etc. are illustrated.

エポキシ樹脂を用いる場合、硬化機構としては、自己硬化性樹脂を用いても、アミン類、イミダゾール類、酸無水物又はオニウム塩のような硬化剤や硬化触媒を用いてもよく、アミノ樹脂やフェノール樹脂を、エポキシ樹脂の硬化剤として機能させてもよい。保存安定性の観点から、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールが、特に好ましい。   When using an epoxy resin, the curing mechanism may be a self-curing resin, a curing agent or a curing catalyst such as amines, imidazoles, acid anhydrides or onium salts, amino resin or phenol The resin may function as a curing agent for the epoxy resin. From the viewpoint of storage stability, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole is particularly preferable.

中でも、フェノール樹脂によって硬化するエポキシ樹脂が好ましい。フェノール樹脂としては、エポキシ樹脂の硬化剤として通常用いられるフェノール樹脂初期縮合物であればよく、レゾール型でもノボラック型でもよいが、優れた耐ヒートサイクル性を得るためには、その50重量%以上がアルキルレゾール型、アルキルノボラック型、アラルキルノボラック型のフェノール樹脂、キシレン樹脂又はアリルフェノール樹脂であることが好ましい。以下の一般式(3):   Among these, an epoxy resin that is cured by a phenol resin is preferable. The phenol resin may be a phenol resin initial condensate that is usually used as a curing agent for epoxy resins, and may be a resol type or a novolac type, but in order to obtain excellent heat cycle resistance, 50% by weight or more thereof. Is preferably an alkyl resol type, alkyl novolak type, aralkyl novolak type phenol resin, xylene resin or allyl phenol resin. The following general formula (3):

Figure 0005400801
(式中、nは0〜300である。)で示されるフェノール・p−キシリレングリコールジメチルエーテル重縮合物であるアラルキルノボラック型フェノール樹脂も、好ましい。また、アルキルレゾール型フェノール樹脂の場合、優れた印刷適性を得るためには、平均分子量が2,000以上であることが好ましい。これらのアルキルレゾール型又はアルキルノボラック型フェノール樹脂において、アルキル基としては、炭素数1〜18のものを用いることができ、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシルのような炭素数2〜10のものが好ましい。
Figure 0005400801
An aralkyl novolak type phenol resin which is a phenol / p-xylylene glycol dimethyl ether polycondensate represented by the formula (wherein n is 0 to 300) is also preferred. In the case of an alkyl resole type phenol resin, the average molecular weight is preferably 2,000 or more in order to obtain excellent printability. In these alkylresole type or alkyl novolac type phenol resins, alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms can be used, and carbons such as ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl, nonyl, and decyl can be used. The thing of several 2-10 is preferable.

これらのうち、優れた接着性が得られ、また耐熱性も優れていることから、テトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型エポキシ樹脂とアラルキルノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、キシレン樹脂又はアリルフェノール樹脂との組合せが好ましく、1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型エポキシ樹脂とアラルキルノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、キシレン樹脂又はアリルフェノール樹脂との組み合わせが特に好ましい。テトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型エポキシ樹脂とアラルキルノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、キシレン樹脂又はアリルフェノール樹脂との組み合わせを用いる場合、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の重量比が、4:1〜1:4の範囲が好ましく、4:1〜1:2がさらに好ましい。また、ポリイミド樹脂なども耐熱性の観点から有効である。   Among these, since excellent adhesiveness is obtained and heat resistance is excellent, tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type epoxy resin and aralkyl novolac type phenol resin, resol type phenol resin, xylene resin or allyl phenol resin A combination of 1,1,2,2-tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type epoxy resin and aralkyl novolac type phenol resin, resol type phenol resin, xylene resin or allyl phenol resin is particularly preferable. When a combination of tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type epoxy resin and aralkyl novolac type phenol resin, resol type phenol resin, xylene resin or allylphenol resin is used, the weight ratio of epoxy resin to phenol resin is 4: 1 to 1: The range of 4 is preferable, and 4: 1 to 1: 2 is more preferable. In addition, polyimide resin is also effective from the viewpoint of heat resistance.

本発明の効果を損なわない範囲で、熱硬化性樹脂と併せて熱可塑性樹脂を使用してもよい。熱可塑性樹脂としては、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、マレイミド樹脂等が好ましい。   A thermoplastic resin may be used in combination with the thermosetting resin as long as the effects of the present invention are not impaired. As the thermoplastic resin, polysulfone, polyethersulfone, maleimide resin and the like are preferable.

本発明の外部電極用導電性ペーストには、電気特性の一層の改善を図るため、(E)平均粒子径が15〜150nmである、融点700℃以上の金属微粒子をさらに配合することができる。(E)の形状としては、球状が好ましい。   In order to further improve the electrical characteristics, the conductive paste for external electrodes of the present invention may further contain (E) metal fine particles having an average particle diameter of 15 to 150 nm and a melting point of 700 ° C. or higher. The shape of (E) is preferably spherical.

(E)を形成する金属又は合金としては、(A)で挙げた金属又は合金が挙げられる。SnとAgとの2元系の合金の場合、SnとAgの重量比が25.5:74.5よりもSnの比率が多い合金を使用することができる。特に、重量比が50:50〜89:11のSnAg合金が好ましい。(E)は、5重量%以下のCu、In、Bi、Ni等を含む3成分以上の系であってもよい。   Examples of the metal or alloy forming (E) include the metals or alloys listed in (A). In the case of a binary alloy of Sn and Ag, an alloy having a Sn / Ag weight ratio greater than 25.5: 74.5 can be used. In particular, a SnAg alloy having a weight ratio of 50:50 to 89:11 is preferable. (E) may be a system of three or more components containing 5% by weight or less of Cu, In, Bi, Ni and the like.

また、(B)と相俟って、良好な内部電極との接合をもたらすことから、(E)は、(a)1次粒子の平均粒子径が15〜150nmが好ましく、より好ましくは40〜150nm、さらに好ましくは50〜150nmであり、(b)結晶子径が好ましくは15〜50nm、より好ましくは20〜50nmであり、かつ(c)結晶子径に対する平均粒子径の比が好ましくは1〜10、より好ましくは1〜7.5である、Ag微粒子である。なお、本願明細書において、結晶子径とは、CuのKα線を線源とした粉末X線回折法による測定から、面指数(1,1,1)面ピークの半値幅を求め、Scherrerの式より計算した結果をいう。   In addition, (E), in combination with (B), results in good bonding with the internal electrode, and (a) the average particle diameter of (a) primary particles is preferably 15 to 150 nm, more preferably 40 to 150 nm, more preferably 50 to 150 nm, (b) the crystallite diameter is preferably 15 to 50 nm, more preferably 20 to 50 nm, and (c) the ratio of the average particle diameter to the crystallite diameter is preferably 1 10 to 10 and more preferably 1 to 7.5. In the present specification, the crystallite diameter is obtained by measuring the half-value width of the plane index (1,1,1) plane peak from the measurement by the powder X-ray diffraction method using Cu Kα ray as the radiation source. The result calculated from the formula.

上記(a)〜(c)を満たすAg微粒子の製造方法について説明する。Ag微粒子は、有機溶媒の存在又は非存在下に、カルボン酸の銀塩と脂肪族第一級アミンを混合し、次いで還元剤を添加して、反応温度20〜80℃で反応させて、Ag微粒子を析出させることにより得られる。   A method for producing Ag fine particles satisfying the above (a) to (c) will be described. Ag fine particles are prepared by mixing a silver salt of a carboxylic acid and an aliphatic primary amine in the presence or absence of an organic solvent, adding a reducing agent, and reacting at a reaction temperature of 20 to 80 ° C. It is obtained by precipitating fine particles.

なお、カルボン酸の銀塩は、特に制限されないが、好ましくは脂肪族モノカルボン酸の銀塩であり、より好ましくは酢酸銀、プロピオン酸銀又は酪酸銀である。これらは、単独で、又は2種以上を併用することができる。   The silver salt of carboxylic acid is not particularly limited, but is preferably a silver salt of an aliphatic monocarboxylic acid, and more preferably silver acetate, silver propionate or silver butyrate. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族第一級アミンは、特に制限されないが、鎖状脂肪族第一級アミンであっても、環状脂肪族第一級アミンであってもよい。好ましくは3−メトキシプロピルアミン、3−アミノプロパノール又は1,2−ジアミノシクロヘキサンである。これらは、単独で、又は2種以上を併用することができる。   The aliphatic primary amine is not particularly limited, but may be a chain aliphatic primary amine or a cyclic aliphatic primary amine. 3-methoxypropylamine, 3-aminopropanol or 1,2-diaminocyclohexane is preferred. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族第一級アミンの使用量は、カルボン酸の銀塩1当量に対して、1当量以上であることが好ましく、過剰な脂肪族第一級アミンの環境等への影響を考慮すると、1.0〜3.0当量であることが好ましく、より好ましくは1.0〜2.0当量、特に好ましくは1.3〜1.7当量である。   The amount of the aliphatic primary amine used is preferably 1 equivalent or more with respect to 1 equivalent of the silver salt of the carboxylic acid. Considering the influence of excess aliphatic primary amine on the environment, etc., 1 It is preferable that it is 0.0-3.0 equivalent, More preferably, it is 1.0-2.0 equivalent, Especially preferably, it is 1.3-1.7 equivalent.

カルボン酸の銀塩と脂肪族第一級アミンとの混合は、有機溶媒の非存在下又は存在下に行うことができ、有機溶媒としては、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、プロピレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、トルエン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらは、単独で、又は2種以上を併用することができる。有機溶媒の使用量は、混合の利便性、後続の工程でのAg微粒子の生産性の点から、任意の量とすることができる。   The silver salt of carboxylic acid and the aliphatic primary amine can be mixed in the absence or presence of an organic solvent. Examples of the organic solvent include alcohols such as ethanol, propanol, and butanol, and propylene glycol diester. Examples thereof include ethers such as butyl ether and aromatic hydrocarbons such as toluene. These can be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic solvent used can be set to an arbitrary amount from the viewpoint of the convenience of mixing and the productivity of Ag fine particles in the subsequent steps.

カルボン酸塩の銀塩と脂肪族第一級アミンとの混合は、温度を、20〜80℃に維持して行うことが好ましく、より好ましくは、20〜60℃である。   The mixing of the silver salt of the carboxylate and the aliphatic primary amine is preferably carried out while maintaining the temperature at 20 to 80 ° C, more preferably 20 to 60 ° C.

還元剤としては、反応の制御の点から、ギ酸、ホルムアルデヒド、アスコルビン酸又はヒドラジンが好ましく、より好ましくは、ギ酸である。これらは単独で、又は2種以上を併用することができる。   As the reducing agent, formic acid, formaldehyde, ascorbic acid or hydrazine is preferable from the viewpoint of controlling the reaction, and formic acid is more preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

還元剤の使用量は、通常、カルボン酸の銀塩に対して酸化還元当量以上であり、酸化還元当量が、0.5〜5倍であることが好ましく、より好ましくは1〜3倍である。カルボン酸の銀塩がモノカルボン酸の銀塩であり、還元剤としてギ酸を使用する場合、ギ酸のモル換算での使用量は、カルボン酸の銀塩1モルに対して、0.5〜1.5モルであることが好ましく、より好ましくは0.5〜1.0モル、さらに好ましくは0.5〜0.75モルである。   The amount of the reducing agent used is usually at least a redox equivalent with respect to the silver salt of the carboxylic acid, and the redox equivalent is preferably 0.5 to 5 times, more preferably 1 to 3 times. . When the silver salt of carboxylic acid is a silver salt of monocarboxylic acid and formic acid is used as the reducing agent, the amount of formic acid used in terms of mole is 0.5 to 1 with respect to 1 mole of silver salt of carboxylic acid. 0.5 mol is preferable, more preferably 0.5 to 1.0 mol, and still more preferably 0.5 to 0.75 mol.

還元剤の添加及びその後の反応においては、温度を20℃〜80℃に維持することとし、好ましくは20〜70℃、より好ましくは20〜60℃に維持する。   In the addition of the reducing agent and the subsequent reaction, the temperature is maintained at 20 ° C. to 80 ° C., preferably 20 to 70 ° C., more preferably 20 to 60 ° C.

反応により析出したAg微粒子は沈降させて、デカンテーション等により上澄みを除去するか、又はメタノール、エタノール、テレピネオール等のアルコール等の溶媒を添加して分取することができる。また、Ag微粒子を含む層をそのまま、ペーストに使用してもよい。   Ag fine particles precipitated by the reaction are allowed to settle and the supernatant is removed by decantation or the like, or a solvent such as alcohol such as methanol, ethanol or terpineol can be added and fractionated. Further, the layer containing Ag fine particles may be used as it is for the paste.

本発明においては、(A)と(B)と(C)の銅換算量との合計、すなわち金属成分合計100重量部に対して、(A)が55〜85重量部であり、(B)が10〜45重量部であり、(C)の銅換算量が0.05〜5重量部であり、(D)が5〜20重量部であることが好ましい。これにより、外部電極用導電性ペーストの印刷適正、得られる外部電極の導電性、内外電極の接合性が図られる。   In this invention, (A) is 55-85 weight part with respect to the sum total of the copper conversion amount of (A), (B), and (C), ie, a metal component total 100 weight part, (B) Is 10 to 45 parts by weight, the copper equivalent of (C) is 0.05 to 5 parts by weight, and (D) is preferably 5 to 20 parts by weight. Thereby, the printing appropriateness of the electroconductive paste for external electrodes, the electroconductivity of the external electrode obtained, and the joining property of the internal and external electrodes are achieved.

本発明においては、(A)と(B)と(C)の銅換算量との合計100重量部に対して、(A)はより好ましくは60〜80重量部であり、特に好ましくは、65〜75重量部であり、(B)は、より好ましくは15〜40重量部であり、特に好ましくは、20〜35重量部であり、(C)は、銅換算量でより好ましくは0.1〜2重量部であり、特に好ましくは、0.2〜1重量部であり、(D)より好ましくは7〜18重量部であり、特に好ましくは、10〜16重量部である。   In the present invention, (A) is more preferably 60 to 80 parts by weight, particularly preferably 65 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A), (B) and (C) in terms of copper. -75 parts by weight, (B) is more preferably 15-40 parts by weight, particularly preferably 20-35 parts by weight, and (C) is more preferably 0.1 in terms of copper. It is -2 weight part, Especially preferably, it is 0.2-1 weight part, More preferably, it is 7-18 weight part from (D), Most preferably, it is 10-16 weight part.

さらに、本発明に、(E)を配合する場合、(A)と(B)と(C)の銅換算量と(E)との合計100重量部に対して、(E)は、5〜25重量部であることが好ましい。これにより、電気特性の一層の改善を効果的に図ることができる。(A)と(B)と(C)の銅換算量と(E)との合計100重量部に対して、(E)は、より好ましくは5〜20重量部であり、特に好ましくは、7〜15重量部である。   Furthermore, when (E) is blended in the present invention, (E) is 5 to 5 parts in total with respect to 100 parts by weight of the (A), (B), and (C) copper equivalents and (E). It is preferably 25 parts by weight. Thereby, the further improvement of an electrical property can be aimed at effectively. (E) is more preferably 5 to 20 parts by weight with respect to the total of 100 parts by weight of (A), (B) and (C) in terms of copper and (E), and particularly preferably 7 parts by weight. ~ 15 parts by weight.

本発明の外部電極用導電性ペーストは、(A)、(B)、(C)、(D)及び場合により(E)を配合し、また必要に応じて希釈剤を添加して、所望の電子部品のセラミック複合体に印刷又は塗布する方法に応じて、適切な粘度に調整することができる。例えば、スクリーン印刷に用いられる場合、常温における導電ペーストの見掛粘度は、10〜500Pa・sが好ましく、15〜300Pa・sがより好ましい。   The conductive paste for external electrodes of the present invention is formulated with (A), (B), (C), (D) and optionally (E), and if necessary, a diluent is added to obtain a desired paste. The viscosity can be adjusted to an appropriate value depending on the method of printing or applying to the ceramic composite of the electronic component. For example, when used for screen printing, the apparent viscosity of the conductive paste at room temperature is preferably 10 to 500 Pa · s, and more preferably 15 to 300 Pa · s.

希釈剤に用いられる有機溶剤としては、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリンのような芳香族炭化水素類;テトラヒドロフランのようなエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロンのようなケトン類;2−ピロリドン、1−メチル−2−ピロリドンのようなラクトン類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、更にこれらに対応するプロピレングリコール誘導体のようなエーテルアルコール類;それらに対応する酢酸エステルのようなエステル類;並びにマロン酸、コハク酸等のジカルボン酸のメチルエステル、エチルエステルのようなジエステル類が例示される。有機溶剤の使用量は、(A)、(B)、(C)、(D)及び場合により(E)の種類・量、並びにペーストを印刷又は塗布する方法等により、任意に選択される。   Organic solvents used for the diluent include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene and tetralin; ethers such as tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and isophorone; Lactones such as pyrrolidone and 1-methyl-2-pyrrolidone; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, and corresponding propylene Ether alcohols such as glycol derivatives; their corresponding esters such as acetate; and malonic acid Methyl esters of dicarboxylic acids such as succinic acid, diesters, such as ethyl esters are exemplified. The amount of the organic solvent used is arbitrarily selected depending on the type and amount of (A), (B), (C), (D) and optionally (E), the method of printing or applying the paste, and the like.

外部電極用導電性ペーストには、このほか、必要に応じて、分散助剤として、ジイソプロポキシ(エチルアセトアセタト)アルミニウムのようなアルミニウムキレート化合物;イソプロピルトリイソステアロイルチタナートのようなチタン酸エステル;脂肪族多価カルボン酸エステル;不飽和脂肪酸アミン塩;ソルビタンモノオレエートのような界面活性剤;又はポリエステルアミン塩、ポリアミドのような高分子化合物等を用いてもよい。また、無機及び有機顔料、シランカップリング剤、レベリング剤、チキソトロピック剤、消泡剤等を配合してもよい。   In addition to the conductive paste for external electrodes, if necessary, an aluminum chelate compound such as diisopropoxy (ethylacetoacetate) aluminum; titanic acid such as isopropyl triisostearoyl titanate as a dispersion aid Esters; aliphatic polycarboxylic acid esters; unsaturated fatty acid amine salts; surfactants such as sorbitan monooleate; or polymer compounds such as polyesteramine salts and polyamides may be used. Moreover, you may mix | blend an inorganic and organic pigment, a silane coupling agent, a leveling agent, a thixotropic agent, an antifoamer, etc.

外部電極用導電性ペーストは、配合成分を、ライカイ機、プロペラ撹拌機、ニーダー、ロール、ポットミル等のような混合手段により、均一に混合して調製することができる。調製温度は、特に限定されないが、例えば常温で、具体的には20〜30℃で調製することができる。   The conductive paste for an external electrode can be prepared by uniformly mixing the compounding components by a mixing means such as a reika machine, a propeller stirrer, a kneader, a roll, and a pot mill. Although preparation temperature is not specifically limited, For example, it can prepare at normal temperature, specifically 20-30 degreeC.

このようにして得られた外部電極用導電性ペーストを用いて、外部電極を有する積層セラミック電子部品を公知の方法に従って形成することができる。例えば外部電極用導電性ペーストを、積層セラミックコンデンサのセラミック複合体の内部電極取り出し面に、スクリーン印刷、転写、浸漬塗布等、任意の方法で印刷又は塗布する。硬化後の外部電極の厚さが、好ましくは1〜300μm、より好ましくは20〜100μmになるように印刷又は塗布する。有機溶剤を用いる場合は、印刷又は塗布の後、常温で、又は加熱によって、乾燥させる。次いで、外部電極を得るために、例えば80〜450℃で、具体的には200〜350℃で硬化をさせることができる。また、80〜160℃で乾燥させた後、200〜350℃で硬化させることもできる。なお、(B)、(C)の配合の効果を十分に発揮させるためには、硬化温度は250〜350℃であることが好ましい。本発明の外部電極用導電性ペーストは、硬化の際に、特に不活性ガス雰囲気下に置く必要がないため、簡便である。   Using the thus obtained conductive paste for external electrodes, a multilayer ceramic electronic component having external electrodes can be formed according to a known method. For example, the conductive paste for external electrodes is printed or applied to the internal electrode take-out surface of the ceramic composite of the multilayer ceramic capacitor by an arbitrary method such as screen printing, transfer, or dip coating. It prints or apply | coats so that the thickness of the external electrode after hardening becomes like this. Preferably it is 1-300 micrometers, More preferably, it is 20-100 micrometers. In the case of using an organic solvent, it is dried at room temperature or by heating after printing or coating. Subsequently, in order to obtain an external electrode, it can harden | cure at 80-450 degreeC, for example, specifically 200-350 degreeC, for example. Moreover, after making it dry at 80-160 degreeC, it can also be hardened at 200-350 degreeC. In addition, in order to fully exhibit the effect of the blending of (B) and (C), the curing temperature is preferably 250 to 350 ° C. The conductive paste for external electrodes of the present invention is simple because it does not need to be placed in an inert gas atmosphere during curing.

硬化時間は、硬化温度等により変化させることができるが、作業性の点から1〜60分が好ましい。ただし、250℃以下で硬化させる場合は、10〜60分とすることが、内部電極との接合性の点から好ましい。例えばペースト中の樹脂がフェノール樹脂を硬化剤として用いるエポキシ樹脂の場合、200〜350℃で、10〜60分の硬化を行い、外部電極を得ることができる。ペースト中の揮発成分が一気に気化し、塗膜にふくれやクラックが発生することを防止するためには、急激な加熱(例えば300℃以上に急激に加熱する)を避けることがのぞましい。セラミックス複合体の温度は、幅20mm、長さ20mm、厚さ1mmのアルミナ基板上に、Kタイプ熱電対をポリイミドテープで固定し、リフロー炉内に入れて測定したときの、アルミナ基板の温度とした。また、保持時間は、このアルミナ基板の温度が保持温度に到達してからの時間とした。   Although hardening time can be changed with hardening temperature etc., 1 to 60 minutes are preferable from the point of workability | operativity. However, when hardening at 250 degrees C or less, it is preferable to set it as 10 to 60 minutes from the point of bondability with an internal electrode. For example, when the resin in the paste is an epoxy resin using a phenol resin as a curing agent, curing can be performed at 200 to 350 ° C. for 10 to 60 minutes to obtain an external electrode. In order to prevent the volatile components in the paste from vaporizing at a stretch and generating blisters and cracks in the coating film, it is desirable to avoid rapid heating (for example, rapid heating to 300 ° C. or higher). The temperature of the ceramic composite is the same as the temperature of the alumina substrate when a K-type thermocouple is fixed with a polyimide tape on an alumina substrate having a width of 20 mm, a length of 20 mm, and a thickness of 1 mm, and placed in a reflow furnace. did. The holding time was the time after the temperature of the alumina substrate reached the holding temperature.

本発明で用いられる積層セラミック電子部品のセラミック複合体は、いずれか公知の方法で作製されるものであってよい。なお本発明においてセラミック複合体とは、セラミック層と内部電極層を交互に積層した積層体を焼結したものや、樹脂・セラミックハイブリッド材料と内部電極を交互に積層した積層体をいう。セラミック層又は樹脂・セラミックハイブリッド材料は、その所望の電子部品に適した性質、例えばコンデンサであれば誘電性を有するもので、いずれか公知の方法で得られるものであってよい。また内部電極層も特に限定されるものではないが、安価で入手の容易な卑金属、例えばニッケル、銅等を内部電極として使用しているものが好ましい。特に、セラミック複合体の内部電極の表面がニッケルを含む場合、AgよりもCuはNiとの間に合金を形成しやすいため、接合性の向上や電気特性(静電容量、tanδ)の向上が期待できる。なかでも、(A)がAg粒子又はAg合金粒子であり、(B)がSnAg合金粒子との組み合わせが、Cu−Ni−Sn−Ag合金の形成が期待できるため好ましい。セラミック複合体は、内部電極がニッケルであるセラミック複合体が好ましい。本発明の積層セラミック電子部品は、例えばコンデンサ、コンデンサアレイ、サーミスタ、バリスター、インダクタ並びにLC、CR、LR及びLCR複合部品等であってよい。   The ceramic composite of the multilayer ceramic electronic component used in the present invention may be produced by any known method. In the present invention, the ceramic composite refers to a sintered body in which ceramic layers and internal electrode layers are alternately laminated, or a laminated body in which resin / ceramic hybrid materials and internal electrodes are alternately laminated. The ceramic layer or the resin / ceramic hybrid material has properties suitable for the desired electronic component, for example, a capacitor having dielectric properties, and may be obtained by any known method. Also, the internal electrode layer is not particularly limited, but a base metal that is inexpensive and easily available, such as nickel or copper, is preferably used as the internal electrode. In particular, when the surface of the internal electrode of the ceramic composite contains nickel, Cu is more likely to form an alloy with Ni than Ag, which improves the bondability and electrical characteristics (capacitance, tan δ). I can expect. Among these, (A) is Ag particles or Ag alloy particles, and (B) is preferable in combination with SnAg alloy particles because formation of a Cu—Ni—Sn—Ag alloy can be expected. The ceramic composite is preferably a ceramic composite in which the internal electrode is nickel. The multilayer ceramic electronic component of the present invention may be, for example, a capacitor, a capacitor array, a thermistor, a varistor, an inductor, and an LC, CR, LR and LCR composite component.

得られた積層セラミック電子部品は、基板等へはんだ付け実装する際の接着強度をさらに高めるため、必要に応じて電極層表面にメッキが施される。メッキ処理は公知の方法に従って行なわれるが、環境への配慮から鉛フリーメッキが施されるのが好ましい。例えば外部電極の表面に、ワット浴等の電解メッキ又は無電解メッキによりニッケルメッキが施され、その後さらに、電解メッキ又は無電解メッキによりはんだメッキやスズメッキが施される。   The obtained multilayer ceramic electronic component is plated on the electrode layer surface as necessary in order to further increase the adhesive strength when soldered and mounted on a substrate or the like. The plating process is performed according to a known method, but it is preferable to perform lead-free plating in consideration of the environment. For example, the surface of the external electrode is subjected to nickel plating by electrolytic plating such as a Watt bath or electroless plating, and then further subjected to solder plating or tin plating by electrolytic plating or electroless plating.

このようにして得られた本発明の外部電極用導電性ペーストで形成された外部電極の表面にメッキを施した積層セラミック電子部品は、電気特性に優れ、回路基板等への実装に適した有用なものである。   The multilayer ceramic electronic component obtained by plating the surface of the external electrode formed with the conductive paste for external electrode of the present invention thus obtained has excellent electrical characteristics and is useful for mounting on a circuit board or the like. It is a thing.

以下、実施例及び比較例によって、本発明をさらに詳細に説明する。本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited by these examples.

〔ペーストの調製〕
下記表1の組成で各成分を混合し、実施例及び比較例の各ペーストを調製した(表中の数字は、断りのない限り重量部である)。
(Preparation of paste)
Each component was mixed with the composition of the following Table 1, and each paste of an Example and a comparative example was prepared (the number in a table | surface is a weight part unless there is a notice).

Figure 0005400801
1)平均粒子径0.3μm、純度99.5%以上
2)平均粒子径12μm、純度99%以上
3)球状、平均粒子径2.5μm、純度99%以上、融点410℃
4)球状、平均粒子径2.5μm、純度99%以上、融点590℃
5)平均粒子径3.0μm、純度99%以上、融点420℃
6)銅換算量
7)銅換算量
8)銀換算量
9)銅換算量
10)1,1,2,2−テトラキス(ヒドロキシフェニル)エタン型固形エポキシ樹脂、エポキシ当量:200(g/eq)
11)アラルキルノボラック型フェノール樹脂(フェノール・p−キシリレングリコールジメチルエーテル重縮合物)、OH当量169
12)2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール
13)粘度が約20Pa・Sになるように適量添加(粘度は、ブルックフィールドDV−1型粘度系で10rpmにて室温で測定した)。
Figure 0005400801
1) Average particle diameter 0.3 μm, purity 99.5% or more 2) Average particle diameter 12 μm, purity 99% or more 3) Spherical, average particle diameter 2.5 μm, purity 99% or more, melting point 410 ° C.
4) Spherical shape, average particle size 2.5 μm, purity 99% or more, melting point 590 ° C.
5) Average particle size 3.0 μm, purity 99% or more, melting point 420 ° C.
6) Copper equivalent 7) Copper equivalent 8) Silver equivalent 9) Copper equivalent 10) 1,1,2,2-tetrakis (hydroxyphenyl) ethane type solid epoxy resin, epoxy equivalent: 200 (g / eq)
11) Aralkyl novolac type phenolic resin (phenol / p-xylylene glycol dimethyl ether polycondensate), OH equivalent 169
12) 2-Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole 13) Appropriate amount added so that the viscosity is about 20 Pa · S (viscosity was measured at room temperature at 10 rpm in a Brookfield DV-1 type viscosity system) .

表1における(C)は次のとおり。
Cu含有ペースト1:500cm3容フラスコに、ギ酸銅(四水和物)(日本化学産業(株)製)を0.3モル、2−アミノ−2−メチル−プロパノールを1.2モル投入し、室温で5時間撹拌して、ギ酸銅(四水和物)が可溶化したペーストを調製した。
Cu含有ペースト2:500cm3容フラスコに、酢酸銅(無水物)を0.3モル、3−メトキシプロピルアミンを1.2モル投入し、室温で5時間撹拌して、酢酸銅(無水物)が可溶化したペーストを調製した。
(C) in Table 1 is as follows.
Cu-containing paste 1: 0.3 mol of copper formate (tetrahydrate) (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) and 1.2 mol of 2-amino-2-methyl-propanol were charged into a 500 cm 3 volume flask. The mixture was stirred at room temperature for 5 hours to prepare a paste in which copper formate (tetrahydrate) was solubilized.
Cu-containing paste 2: 0.3 mol of copper acetate (anhydride) and 1.2 mol of 3-methoxypropylamine were charged into a 500 cm 3 volume flask and stirred at room temperature for 5 hours to obtain copper acetate (anhydride). A solubilized paste was prepared.

表1におけるAg微粒子含有ペースト及びCu微粒子含有ペーストは次のとおり。
Ag微粒子含有ペースト:10Lのガラス製反応容器に3−メトキシプロピルアミン4.0kg(45.0モル)を入れた。撹拌しながら、反応温度を45℃以下に保持しつつ、酢酸銀5.0kg(30.0モル)を添加した。添加直後は、透明な溶液となり溶解していくが、添加が進むにつれ溶液が次第に濁り、全量を添加すると灰茶濁色の粘調溶液となった。そこへ95重量%のギ酸0.73kg(15.0モル)をゆっくり滴下した。滴下直後から激しい発熱が認められたが、その間、反応温度を30〜45℃に保持した。当初、灰濁色の粘調溶液が、茶色から黒色へ変化した。全量を滴下した後反応を終了させた。反応混合物を40℃で静置すると二層に分かれた。上層は黄色の透明な液であり、下層には黒色のAg微粒子が沈降した。上層の液には、Ag成分が含まれていなかった。上層の液をデカンテーションで除去し、メタノールを使用して層分離させてAg含有率89重量%の真球状のAg微粒子を得た。
得られたAg微粒子は次のとおり。平均粒子径130nm、結晶子径40nm、平均粒子径/結晶子径=3.25。ここで、平均粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察して画像解析により求めたヘイウッド径の平均値であり、結晶子径は、マックサイエンス社製X線回折測定装置(M18XHF22)による測定によって、CuのKα線を線源とした面指数(1,1,1)面ピークの半値幅を求め、Scherrerの式より計算した値である。
The Ag fine particle-containing paste and Cu fine particle-containing paste in Table 1 are as follows.
Ag fine particle-containing paste: 4.0 kg (45.0 mol) of 3-methoxypropylamine was placed in a 10 L glass reaction vessel. While stirring, the reaction temperature was maintained at 45 ° C. or lower, and 5.0 kg (30.0 mol) of silver acetate was added. Immediately after the addition, the solution became a transparent solution and dissolved, but as the addition proceeded, the solution gradually became turbid, and when the entire amount was added, it became an ash brown cloudy viscous solution. Thereto was slowly added dropwise 0.73 kg (15.0 mol) of 95% by weight formic acid. Vigorous exotherm was observed immediately after the addition, while the reaction temperature was maintained at 30 to 45 ° C. Initially, the turbid viscous solution changed from brown to black. The reaction was terminated after the entire amount was added dropwise. The reaction mixture was allowed to stand at 40 ° C. and separated into two layers. The upper layer is a yellow transparent liquid, and black Ag fine particles settled in the lower layer. The upper layer liquid did not contain an Ag component. The liquid in the upper layer was removed by decantation, and the layers were separated using methanol to obtain true spherical Ag fine particles having an Ag content of 89% by weight.
The obtained Ag fine particles are as follows. Average particle diameter 130 nm, crystallite diameter 40 nm, average particle diameter / crystallite diameter = 3.25. Here, the average particle diameter is an average value of Haywood diameters obtained by image analysis by observing with a scanning electron microscope (SEM), and the crystallite diameter is measured by an X-ray diffraction measuring apparatus (M18XHF22) manufactured by Mac Science. The half-value width of the plane index (1, 1, 1) plane peak using Cu Kα ray as a radiation source is obtained by measurement, and is a value calculated from the Scherrer equation.

Cu微粒子含有ペースト:メタノール中の分散物(Cu微粒子54重量%)。Cu微粒子の平均粒子径30nm。   Cu fine particle-containing paste: Dispersion in methanol (Cu fine particle 54 wt%). Average particle diameter of Cu fine particles is 30 nm.

[積層セラミックコンデンサ試料の作成]
表1に示した各ペーストを、チップ積層コンデンサのセラミック複合体(3216タイプ、B特性、ニッケル内部電極、理論容量10μF)の内部電極取り出し面に、硬化後の厚さが20μm程度になるようにesi社製パロマ印刷機(型番:MODEL2001)で均一に浸漬塗布し、150℃で30分間乾燥した後、リフロー炉で大気中、300℃、40分間硬化を行い外部電極を形成した。続いてワット浴でニッケルメッキを行い、次いで電解メッキによりスズメッキを行い、チップ積層コンデンサを得た。
[Preparation of multilayer ceramic capacitor sample]
Each paste shown in Table 1 is applied to the internal electrode take-out surface of the ceramic composite (3216 type, B characteristics, nickel internal electrode, theoretical capacity 10 μF) of the chip multilayer capacitor so that the thickness after curing is about 20 μm. After dip-coating with an esi Paloma printing machine (model number: MODEL 2001) and drying at 150 ° C. for 30 minutes, curing was performed in the air at 300 ° C. for 40 minutes to form an external electrode. Subsequently, nickel plating was performed in a watt bath, and then tin plating was performed by electrolytic plating to obtain a chip multilayer capacitor.

[比抵抗の測定]
幅20mm、長さ20mm、厚さ1mmのアルミナ基板上に、250メッシュのステンレス製スクリーンを用い、長さ71mm、幅1mm、厚さ20μmのジグザグパターン印刷を行い、150℃で10分乾燥後、大気中で300℃、40分間硬化させ、外部電極を形成した。ジグザグパターンの厚さは、東京精密製表面粗さ形状測定機(製品名:サーフコム1400)にて、パターンと交差するように測定した6点の数値の平均より求めた。硬化後に、LCRメーターを用い、4端子法で比抵抗を測定した。結果を表2に示す。実施例1〜13は、0.3〜2.7×10-4Ω・cmであった。比較例7は、3.7×10-4Ω・cmであった。
[Measurement of resistivity]
Using a 250-mesh stainless steel screen on an alumina substrate having a width of 20 mm, a length of 20 mm, and a thickness of 1 mm, zigzag pattern printing of a length of 71 mm, a width of 1 mm, and a thickness of 20 μm was performed, and after drying at 150 ° C. for 10 minutes, Curing was performed at 300 ° C. for 40 minutes in the air to form an external electrode. The thickness of the zigzag pattern was determined from the average of 6 numerical values measured so as to intersect the pattern with a surface roughness shape measuring instrument (product name: Surfcom 1400) manufactured by Tokyo Seimitsu. After curing, the specific resistance was measured by the 4-terminal method using an LCR meter. The results are shown in Table 2. Examples 1 to 13 were 0.3 to 2.7 × 10 −4 Ω · cm. Comparative Example 7 was 3.7 × 10 −4 Ω · cm.

[静電容量、誘電正接の測定]
上記で得られたチップ積層コンデンサ素子の初期の静電容量、誘電正接(tanδ)をAgilent製4278Aを用い、室温にて周波数1kHzで測定した。次に、−55℃で30分、耐ヒートサイクル試験(−55℃/125℃(30分/30分);750サイクル)、及び耐湿性試験(プレッシャークッカーテスト:2気圧で121℃(20時間))後の電気特性を初期の特性と同様に測定した。
[Measurement of capacitance and dissipation factor]
The initial capacitance and dielectric loss tangent (tan δ) of the chip multilayer capacitor element obtained above were measured at a frequency of 1 kHz at room temperature using Agilent 4278A. Next, at -55 ° C for 30 minutes, heat cycle resistance test (-55 ° C / 125 ° C (30 minutes / 30 minutes); 750 cycles), and moisture resistance test (pressure cooker test: 121 ° C at 2 atm (20 hours) )) The subsequent electrical characteristics were measured in the same manner as the initial characteristics.

チップ積層コンデンサ素子の外部電極の形成に実施例1〜8のペーストを用いた場合、(C)を含有しない比較例1のペーストを用いた場合に比べて、良好な比抵抗、静電容量、tanδがもたらされた。また、実施例3及び6は、銅換算量にして同量のCu微粒子を含有する比較例2のペーストを用いた場合に比べて、静電容量及びtanδが顕著に改善された。また、実施例5に示されるように、Ag微粒子を併用した場合、比抵抗、静電容量、tanδが、とりわけバランスよく優れていた。   When the pastes of Examples 1 to 8 are used to form the external electrodes of the chip multilayer capacitor element, compared to the case of using the paste of Comparative Example 1 that does not contain (C), the specific resistance, capacitance, tan δ was produced. Further, in Examples 3 and 6, the capacitance and tan δ were remarkably improved as compared with the case where the paste of Comparative Example 2 containing the same amount of Cu fine particles in terms of copper was used. Further, as shown in Example 5, when Ag fine particles were used in combination, the specific resistance, capacitance, and tan δ were particularly excellent in a balanced manner.

本発明の外部電極用導電性ペーストは、積層セラミック電子部品の外部電極としたときに、良好な電気特性(静電容量、tanδ)をもたらすことができ、コンデンサ、コンデンサアレイ、サーミスタ、バリスター、インダクタ並びにLC、CR、LR及びLCR複合部品等の積層電子部品の外部電極の形成に有用である。   The conductive paste for external electrodes of the present invention can provide good electrical characteristics (capacitance, tan δ) when used as an external electrode of a multilayer ceramic electronic component. Capacitors, capacitor arrays, thermistors, varistors, This is useful for forming inductors and external electrodes of multilayer electronic components such as LC, CR, LR and LCR composite components.

1 積層セラミックコンデンサ
2 セラミック誘電体
3 内部電極
4 外部電極
5 メッキ処理層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer ceramic capacitor 2 Ceramic dielectric 3 Internal electrode 4 External electrode 5 Plating process layer

Claims (16)

(A)平均粒子径が0.2〜30μmである、融点が700℃以上のAg粒子及び/又はAg合金の粒子と、
(B)平均粒子径が0.2〜18μmである、融点が200℃以上700℃未満のSnAg合金の粒子と、
(C)硝酸銅、シアン化銅、オクタン酸銅、ギ酸銅、酢酸銅、シュウ酸銅、安息香酸銅及び銅アセチルアセトナートからなる群より選択される銅含有化合物;アミノ化合物;並びに場合により有機溶媒を混合してなるペーストと、
(D)熱硬化性樹脂と
を含有する、
ニッケルを内部電極に主成分として含むセラミック電子部品の、外部電極用導電性ペースト。
(A) Ag particles and / or Ag alloy particles having an average particle diameter of 0.2 to 30 μm and a melting point of 700 ° C. or higher;
(B) SnAg alloy particles having an average particle diameter of 0.2 to 18 μm and a melting point of 200 ° C. or higher and lower than 700 ° C .;
(C) a copper-containing compound selected from the group consisting of copper nitrate, copper cyanide, copper octoate, copper formate, copper acetate, copper oxalate, copper benzoate and copper acetylacetonate; amino compounds; and optionally organic A paste formed by mixing a solvent;
(D) containing a thermosetting resin,
A conductive paste for external electrodes of ceramic electronic components containing nickel as a main component in internal electrodes .
(C)における銅含有化合物が、ギ酸銅(無水物)、ギ酸銅(二水和物)、ギ酸銅(四水和物)、酢酸銅(無水物)及び酢酸銅(一水和物)からなる群より選択される1種以上である、請求項1記載の外部電極用導電性ペースト。   The copper-containing compound in (C) is from copper formate (anhydride), copper formate (dihydrate), copper formate (tetrahydrate), copper acetate (anhydride) and copper acetate (monohydrate). The conductive paste for external electrodes according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of: (C)におけるアミノ化合物が、式(i):NR123(i)
式中、R1は、水酸基、メトキシ基、エトキシ基又はアミノ基で一置換されている炭素数2〜4のアルキル基を表し、R2及びR3は、それぞれ独立して、水素であるか、又は水酸基もしくはアミノ基で置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基を表す
で示されるアミノ化合物の1種以上である、請求項1又は2記載の外部電極用導電性ペースト。
The amino compound in (C) has the formula (i): NR 1 R 2 R 3 (i)
In the formula, R 1 represents a C 2-4 alkyl group monosubstituted by a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or an amino group, and are R 2 and R 3 each independently hydrogen? The conductive paste for external electrodes according to claim 1 or 2, which is at least one of amino compounds represented by the formula (1) or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms which may be substituted with a hydroxyl group or an amino group.
(C)における式(i)のアミノ化合物が、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン、1−アミノ−2−プロパノール、3−アミノ−1−プロパノール、2−アミノエタノール、N−メチルエタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、N−メチル−1,3−ジアミノプロパン、3,3’−ジアミノジプロピルアミン、2−メトキシエチルアミン、1,3−ジアミノプロパン、2,2’−イミノジエタノール、2−ジメチルアミノエタノール及び2−(2−アミノエチルアミノ)エタノールからなる群より選択される1種以上である、請求項3記載の外部電極用導電性ペースト。   The amino compound of formula (i) in (C) is 3-methoxypropylamine, 3-ethoxypropylamine, 1-amino-2-propanol, 3-amino-1-propanol, 2-aminoethanol, N-methylethanol Amine, 2-amino-2-methyl-1-propanol, N-methyl-1,3-diaminopropane, 3,3′-diaminodipropylamine, 2-methoxyethylamine, 1,3-diaminopropane, 2,2 The electrically conductive paste for external electrodes according to claim 3, which is at least one selected from the group consisting of '-iminodiethanol, 2-dimethylaminoethanol and 2- (2-aminoethylamino) ethanol. (A)と(B)と(C)の銅換算量との合計100重量部に対して、(A)が55〜85重量部であり、(B)が10〜40重量部であり、(C)の銅換算量が0.05〜5重量部であり、(D)が5〜20重量部である、請求項1〜4のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペースト。 (A) is 55 to 85 parts by weight, (B) is 10 to 40 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the (A), (B), and (C) copper equivalents, The conductive paste for external electrodes according to any one of claims 1 to 4, wherein the copper equivalent of C) is 0.05 to 5 parts by weight and (D) is 5 to 20 parts by weight. (A)が、(A1)平均粒子径0.2〜5μmの球状のAg粒子及び(A2)平均粒子径5〜30μmのフレーク状のAg粒子からなり、(A1)と(A2)の重量比が99:1〜75:25である、請求項1〜5のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペースト。   (A) is composed of (A1) spherical Ag particles having an average particle diameter of 0.2 to 5 μm and (A2) flaky Ag particles having an average particle diameter of 5 to 30 μm, and the weight ratio of (A1) and (A2) The conductive paste for external electrodes according to any one of claims 1 to 5, wherein is 99: 1 to 75:25. (B)が、SnとAgの重量比が、89:11〜25.5:74.5であるSnAg合金の粒子である、請求項1〜6のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペースト。   The external electrode conductivity according to any one of claims 1 to 6, wherein (B) is a SnAg alloy particle having a Sn to Ag weight ratio of 89:11 to 25.5: 74.5. paste. (D)が、エポキシ樹脂を含む、請求項1〜7のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペースト。   The conductive paste for external electrodes according to any one of claims 1 to 7, wherein (D) contains an epoxy resin. エポキシ樹脂が、式(1):
Figure 0005400801

(式中、Xは(CHpを示し、pは0〜3の整数である)で示される、請求項8記載の外部電極用導電性ペースト。
The epoxy resin has the formula (1):
Figure 0005400801

(Wherein, X is (CH 2) shows the p, p is an integer of 0 to 3) represented by the claim 8 of the conductive paste for external electrodes.
(E)平均粒子径が15〜150nmである、融点が700℃以上の金属粒子をさらに含む、請求項1〜9のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペースト。   (E) The electrically conductive paste for external electrodes of any one of Claims 1-9 which further contains the metal particle whose melting | fusing point is 700 degreeC or more whose average particle diameter is 15-150 nm. セラミック複合体上に、請求項1〜10のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペーストを用いて形成した外部電極を有する積層セラミック電子部品。   A multilayer ceramic electronic component having an external electrode formed using the conductive paste for external electrodes according to any one of claims 1 to 10 on a ceramic composite. セラミック複合体の内部電極がNiを主成分とする、請求項11記載の積層セラミック電子部品。   The multilayer ceramic electronic component according to claim 11, wherein the internal electrode of the ceramic composite is mainly composed of Ni. 外部電極の表面に、更にニッケルメッキ層を形成し、次いでスズメッキ層を形成した、請求項11又は12に記載の積層セラミック電子部品。   The multilayer ceramic electronic component according to claim 11 or 12, wherein a nickel plating layer is further formed on the surface of the external electrode, and then a tin plating layer is formed. 積層セラミック電子部品が、コンデンサ、コンデンサアレイ、サーミスタ、バリスター、インダクタ並びにLC、CR、LR及びLCR複合部品のいずれかである、請求項11〜13のいずれか1項記載の積層セラミック電子部品。   The multilayer ceramic electronic component according to any one of claims 11 to 13, wherein the multilayer ceramic electronic component is any one of a capacitor, a capacitor array, a thermistor, a varistor, an inductor, and an LC, CR, LR, and LCR composite component. (1)請求項1〜10のいずれか1項記載の外部電極用導電性ペーストと、外部電極を設けようとするセラミック複合体を準備する工程;(1) A step of preparing a conductive paste for an external electrode according to any one of claims 1 to 10 and a ceramic composite to be provided with the external electrode;
(2)セラミック複合体の内部電極がニッケルを主成分とし、セラミック複合体の内部電極取り出し面に、外部電極用導電性ペーストを印刷又は塗布し、乾燥させる工程;そして(2) a step in which the internal electrode of the ceramic composite is mainly composed of nickel, and a conductive paste for external electrodes is printed or applied on the internal electrode take-out surface of the ceramic composite and dried; and
(3)(2)で得られたセラミック複合体を、250〜350℃で、10〜60分間保持し、外部電極を形成する工程(3) A process of forming the external electrode by holding the ceramic composite obtained in (2) at 250 to 350 ° C. for 10 to 60 minutes.
を含む、積層セラミック電子部品の製造方法。A method for producing a multilayer ceramic electronic component, comprising:
(4)外部電極の表面に、更にニッケルメッキ層を形成し、次いでスズメッキ層を形成する、ことにより得られる、請求項15記載の積層セラミック電子部品の製造方法。(4) The method for producing a multilayer ceramic electronic component according to claim 15, which is obtained by further forming a nickel plating layer on the surface of the external electrode and then forming a tin plating layer.
JP2010544097A 2008-12-25 2009-12-24 Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component Active JP5400801B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010544097A JP5400801B2 (en) 2008-12-25 2009-12-24 Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008330454 2008-12-25
JP2008330454 2008-12-25
JP2010544097A JP5400801B2 (en) 2008-12-25 2009-12-24 Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component
PCT/JP2009/071391 WO2010074119A1 (en) 2008-12-25 2009-12-24 Conductive paste for external electrode, and multilayer ceramic electronic component comprising external electrode which is formed using same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2010074119A1 JPWO2010074119A1 (en) 2012-06-21
JP5400801B2 true JP5400801B2 (en) 2014-01-29

Family

ID=42287726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010544097A Active JP5400801B2 (en) 2008-12-25 2009-12-24 Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5400801B2 (en)
WO (1) WO2010074119A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11315733B2 (en) 2019-09-20 2022-04-26 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic parts with conductive resin

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012126815A (en) * 2010-12-15 2012-07-05 Tosoh Corp Conductive ink composition, and method for producing the same
JP2012126814A (en) * 2010-12-15 2012-07-05 Tosoh Corp Conductive ink composition, and method for producing electrically conductive site
JP2012131894A (en) * 2010-12-21 2012-07-12 Tosoh Corp Electrically conductive ink composition and electric conduction part produced using the same
JP5769340B2 (en) * 2011-09-14 2015-08-26 ナミックス株式会社 Conductive composition and conductive film
US9490055B2 (en) * 2011-10-31 2016-11-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Ceramic electronic component and manufacturing method thereof
US8988855B2 (en) * 2011-10-31 2015-03-24 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of manufacturing ceramic electronic component including heating an electrode layer to form a conductive layer including an alloy particle
US9202640B2 (en) * 2011-10-31 2015-12-01 Murata Manufacturing Co., Ltd. Ceramic electronic component and manufacturing method thereof
KR20150080739A (en) * 2014-01-02 2015-07-10 삼성전기주식회사 Conductive paste for the external electrode, chip-type electronic part and method of the same
JP2016066615A (en) * 2014-09-18 2016-04-28 積水化学工業株式会社 Conductive paste, connection structure and method for producing connection structure
JP2016066614A (en) * 2014-09-18 2016-04-28 積水化学工業株式会社 Conductive paste, connection structure and method for producing connection structure
JP2019169371A (en) * 2018-03-23 2019-10-03 株式会社タムラ製作所 Conductive composition and method of manufacturing electronic substrate
CN112750551B (en) * 2019-10-31 2022-10-18 东莞华科电子有限公司 Electrode paste, electrode, ceramic electronic component including the same, and method of manufacturing the component
KR20210074610A (en) * 2019-12-12 2021-06-22 삼성전기주식회사 Multi-layer ceramic electronic component and manufacturing method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0912677A (en) * 1995-06-27 1997-01-14 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for use in printed wiring board
JP2002329419A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Namics Corp Metal element containing organic compound paste, its manufacturing method and its use
WO2007072894A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Namics Corporation Thermosetting conductive paste and multilayer ceramic component having external electrode which is formed by using such thermosetting conductive paste

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10154417A (en) * 1996-11-26 1998-06-09 Toyobo Co Ltd Conductivity paste
JP4437946B2 (en) * 2004-08-23 2010-03-24 タツタ システム・エレクトロニクス株式会社 Conductive paste

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0912677A (en) * 1995-06-27 1997-01-14 Hitachi Chem Co Ltd Epoxy resin composition for use in printed wiring board
JP2002329419A (en) * 2001-04-27 2002-11-15 Namics Corp Metal element containing organic compound paste, its manufacturing method and its use
WO2007072894A1 (en) * 2005-12-22 2007-06-28 Namics Corporation Thermosetting conductive paste and multilayer ceramic component having external electrode which is formed by using such thermosetting conductive paste

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11315733B2 (en) 2019-09-20 2022-04-26 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic parts with conductive resin
US11721485B2 (en) 2019-09-20 2023-08-08 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic parts

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010074119A1 (en) 2010-07-01
JPWO2010074119A1 (en) 2012-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5400801B2 (en) Conductive paste for external electrode, multilayer ceramic electronic component having external electrode formed using the same, and method for manufacturing multilayer ceramic electronic component
JP5180588B2 (en) Thermosetting conductive paste and multilayer ceramic component having external electrodes formed using the same
JP5390408B2 (en) Thermosetting conductive paste and multilayer ceramic electronic component having external electrodes formed using the same
JP4852272B2 (en) Metal paste
TWI284328B (en) Conductive paste
JP6174106B2 (en) Conductive paste and method for producing conductive film
JP5204623B2 (en) Conductive paste for external electrode and multilayer ceramic electronic component provided with external electrode formed using the same
CN110462752B (en) Resin composition for forming electrode, chip-type electronic component, and method for producing same
JPWO2004053901A1 (en) Electronic components with external electrodes
JP2004063445A (en) Conductive paste
JP4235888B2 (en) Conductive paste
KR101960983B1 (en) Conductive composition and external electrode using same
JP5134352B2 (en) Conductive paste
JP2011129335A (en) Heating curing type silver paste and conductive film formed using the same
JP3917037B2 (en) External electrode and electronic component including the same
JP6852846B2 (en) Electrode paste and laminated ceramic electronic components
TWI336085B (en) Composition of polymer thick film resistor and manufacturing method thereof
WO2016104232A1 (en) Conductive paste
JP4482873B2 (en) Conductive paste, circuit board, solar cell, and chip-type ceramic electronic component
JP5764824B2 (en) Conductive adhesive composition and electronic device using the same
JP2021143227A (en) Metal paste and electrode paste for forming end face
JP2021143226A (en) Metal paste and electrode paste for forming end face
JP2019206615A (en) Metallic paste and end surface forming electrode paste
JP2004047419A (en) Conductive paste

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121023

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130723

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130911

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131008

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131025

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5400801

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250